WO2025062997A1 - Analysis device and analysis method - Google Patents
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Classifications
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N31/00—Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods
- G01N31/12—Investigating or analysing non-biological materials by the use of the chemical methods specified in the subgroup; Apparatus specially adapted for such methods using combustion
Definitions
- the present invention relates to an analysis device and an analysis method.
- Patent Document 1 As an example of a conventional analytical device, as shown in Patent Document 1, there is one that analyzes the elements contained in a sample by heating a sample contained in a crucible while introducing a carrier gas, extracting the sample gas generated during the process together with the carrier gas, and detecting the elements contained in the sample gas with a detector.
- carrier gas needs to be continuously flowed to transport the sample gas to the detector, so a large amount of carrier gas needs to be used, resulting in high running costs.
- the present invention was made in consideration of the above-mentioned problems, and its main objective is to eliminate the need for a carrier gas to flow the sample gas in an analytical device that detects elements contained in the sample gas generated when the sample is heated and analyzes the elements contained in the sample.
- the analytical device is characterized by comprising an impulse heating furnace or high-frequency heating furnace that heats a sample and generates a sample gas containing the elements that constitute the sample, an aspiration flow path that draws in the sample gas generated in the impulse heating furnace or high-frequency heating furnace using an aspiration unit, and an element detection unit that is provided in the aspiration flow path and detects the elements contained in the sample gas.
- the suction section draws in the sample gas, causing it to flow through the suction flow path, making it unnecessary to use carrier gas to carry the sample gas. As a result, it is possible to reduce the running costs associated with using carrier gas.
- the analytical device preferably further comprises a valve provided in the suction flow path and a valve control unit that controls the valve, the suction unit being provided downstream of the valve in the suction flow path, the valve control unit closing the valve when the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is heating the sample, and opening the valve when the pressure of the sample gas reaches or exceeds a predetermined value, and the suction unit sucking in the sample gas when the valve is opened.
- valve control unit opens the valve when the pressure of the sample gas reaches a predetermined level or higher, the time during which the element detection unit detects the elements contained in the sample gas can be adjusted, and the element detection unit can accurately detect the elements contained in the sample gas for both high-concentration samples and low-concentration samples.
- valve control unit examples include a valve that opens the valve when the pressure of the sample gas inside the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is equal to or greater than a predetermined value, or when the difference between the pressure upstream and downstream of the valve is equal to or greater than a predetermined value.
- valve control unit is one that further includes a predetermined value receiving unit that receives a predetermined value for the pressure of the sample gas set by the user.
- the valve control unit may further include a sample type reception unit that receives the type of sample input by a user, a sample gas amount storage unit that associates and stores the type of sample with the amount of sample gas generated from the sample, and a predetermined value setting unit that, when the sample type reception unit receives the type of sample, obtains the amount of sample gas associated with the type of sample from the storage unit and sets a predetermined value of the sample gas based on the amount of sample gas obtained from the storage unit.
- a sample type reception unit that receives the type of sample input by a user
- a sample gas amount storage unit that associates and stores the type of sample with the amount of sample gas generated from the sample
- a predetermined value setting unit that, when the sample type reception unit receives the type of sample, obtains the amount of sample gas associated with the type of sample from the storage unit and sets a predetermined value of the sample gas based on the amount of sample gas obtained from the storage unit.
- the valve control unit may control the opening of the valve based on the pressure of the sample gas.
- the suction unit is provided downstream of the element detection unit in the suction flow path, so that exhaust gas discharged from the suction unit does not flow into the element detection unit, and as a result, the element detection unit can detect elements contained in the sample gas with high accuracy. Moreover, by adjusting the output of the pump, the amount of sample gas sucked into the suction passage can be adjusted.
- the analytical device 100 analyzes the elements contained in a sample by heating the sample contained in a crucible R and detecting the elements contained in a sample gas that contains the elements that make up the sample.
- the crucible R is a graphite crucible.
- the impulse heating furnace 1 is used to place a crucible R containing a sample, and to generate a sample gas by heating the sample in the crucible R.
- the impulse heating furnace 1 heats the crucible R before the sample is placed in the crucible R, which generates exhaust gas from the crucible R.
- a hopper (not shown) is provided at the top of the impulse heating furnace 1 to introduce the sample into the crucible R.
- the suction flow path L has an outlet suction flow path L1 through which the gas generated in the impulse heating furnace 1 is drawn out, a sample gas suction flow path L2 through which sample gas from the gas generated in the impulse heating furnace 1 flows, and an exhaust gas suction flow path L3 through which exhaust gas from the gas generated in the impulse heating furnace 1 flows.
- the dust filter 2 filters out soot and other particles contained in the gas discharged from the impulse heating furnace 1, removing dust.
- the valve 3 opens and closes the suction flow passage L.
- the valve 3 has an upstream valve 31 provided upstream of the outlet suction flow passage L1 from the dust filter 2, and a downstream valve 32 provided downstream of the outlet suction flow passage L1 from the dust filter 2.
- the upstream valve 31 opens and closes the outlet suction flow passage L1.
- the downstream valve 32 is a so-called three-way valve, and opens and closes the sample gas suction flow passage L2 and the exhaust gas suction flow passage L3.
- valve 3 is controlled by the valve control unit C.
- the valve control unit C is a so-called computer equipped with a CPU, memory, A/D converter, etc., and controls the valve 3 by the CPU and peripheral devices working together in accordance with a program stored in a specified area of the memory.
- the sample gas suction flow path L2 is provided with an oxidizer 4 that oxidizes the sample gas, an element detection unit 5 that detects elements contained in the sample gas, a removal unit 6 that removes components contained in the sample gas, and a flow measurement unit 7 that measures the flow rate of the sample gas.
- an oxidizer 4 that oxidizes the sample gas
- an element detection unit 5 that detects elements contained in the sample gas
- a removal unit 6 that removes components contained in the sample gas
- a flow measurement unit 7 that measures the flow rate of the sample gas.
- the oxidizer 4 is provided downstream of the sample gas suction flow path L2 from a CO detector 51 (described later) and oxidizes CO contained in the sample gas to CO2 .
- the oxidation catalyst constituting the oxidizer 4 is, for example, a platinum catalyst, which is heated to about 700° C.
- the platinum catalyst can be heated by a heating resistor, for example.
- the element detection unit 5 is composed of a CO detection unit 51, a CO2 detection unit 52, an H2O detection unit 53, and an N2 detection unit 54.
- the CO detection unit 51, the CO2 detection unit 52, the H2O detection unit 53, and the N2 detection unit 54 are provided in this order from the upstream side of the sample gas suction flow path L2.
- the CO detection unit 51 detects CO (carbon monoxide) contained in the mixed gas that has passed through the dust filter 2 and measures its concentration.
- the CO detection unit 51 is an NDIR (non-dispersive infrared gas analyzer). Due to its measurement accuracy, this CO detection unit 51 operates effectively when the oxygen contained inside the sample is at a high concentration. Specifically, it is preferable for the CO detection unit 51 to measure CO of 150 ppm or more.
- the CO2 detector 52 detects CO2 (carbon dioxide) in the sample gas that has passed through the oxidation device 4 and measures its concentration.
- the CO2 detector 52 is an NDIR. From the viewpoint of measurement accuracy, the CO2 detector 52 operates effectively when the oxygen contained in the sample is at a low concentration (for example, less than 150 ppm).
- the H2O detector 53 detects H2O (water vapor) in the sample gas that has passed through the CO2 detector 52 and measures its concentration.
- the H2O detector 53 is an NDIR.
- the sample gas suction flow path L2 from the oxidizer 4 to the H2O detector 53 is configured to keep the temperature of the sample gas at 100°C or higher and to keep H2O in a water vapor state. In this way, measurement errors due to condensation are prevented from occurring in the H2O detector 53.
- the N2 detector 54 detects N2 (nitrogen) in the sample gas that has passed through the H2O detector 53 and the remover 6 described below, and measures the concentration of N2.
- the N2 detector 54 is a thermal conductivity detector (TCD).
- the removal unit 6 adsorbs and removes CO2 and H2O from the sample gas.
- the removal unit 6 has a CO2 removal unit 61 that removes CO2 from the sample gas, and an H2O removal unit 62 that removes H2O from the sample gas.
- the CO2 removal unit 61 and the H2O removal unit 62 are made of an adsorbent, and the material of the adsorbent is, for example, a zeolite molecular sieve, silica gel, activated carbon, or ascarite.
- the flow rate measuring unit 7 is a flow rate sensor that measures the flow rate of the sample gas that has passed through the N 2 detection unit 54 .
- the suction unit 8 sucks in the sample gas generated in the impulse heating furnace 1 and directs the sample gas into the sample gas suction flow path L2. In this embodiment, the suction unit 8 also sucks in the exhaust gas generated in the impulse heating furnace 1 and directs the exhaust gas into the exhaust gas suction flow path L3.
- the suction unit 8 is provided downstream of the element detection unit 5 in the sample gas suction flow path L2, and in this embodiment, the suction unit 8 is provided downstream of the flow rate measurement unit 7 in the sample gas suction flow path L2. Also, in this embodiment, the suction unit 8 is a pump. Specifically, the suction unit 8, which is a pump, sucks in the sample gas or exhaust gas and exhausts the sucked sample gas or exhaust gas outside the analysis device 100.
- the user places a crucible R inside the impulse heating furnace 1.
- the user also places a sample in a hopper provided at the top of the impulse heating furnace 1 and seals the top of the impulse heating furnace 1.
- the specified value receiving unit C1 then receives, through input from the user, the specified value of the pressure of the sample gas when the valve control unit C opens the upstream valve 31.
- the upstream valve 31 is opened by the opening/closing control unit C3.
- the opening/closing control unit C3 also causes the downstream valve 32 to open the exhaust gas suction passage L3 and close the sample gas suction passage L2.
- the suction unit 8 is then started and the impulse heating furnace 1 heats the crucible R.
- exhaust gas from the crucible R is exhausted from the impulse heating furnace 1 through the outlet suction passage L1 and the exhaust gas suction passage L3.
- the suction by the suction unit 8 creates a vacuum in the impulse heating furnace 1, outlet suction passage L1, sample gas suction passage L2, and exhaust gas suction passage L3.
- the opening/closing control unit C3 closes the upstream valve 31, sealing the impulse heating furnace 1.
- the sample is then loaded from the hopper into the crucible R.
- the impulse heating furnace 1 heats the sample.
- sample gas is generated from the sample, and the pressure inside the impulse heating furnace 1 increases.
- the suction unit 8 draws suction into the sample gas suction passage L2 and the exhaust gas suction passage L3, creating a vacuum state.
- the opening/closing control unit C3 opens the upstream valve 31.
- the opening/closing control unit C3 also causes the downstream valve 32 to close the exhaust gas suction flow path L3 and open the sample gas suction flow path L2.
- the pressure increases due to the generation of sample gas, and since the sample gas suction flow path L2 is in a vacuum state, a pressure difference occurs between the upstream and downstream sides of the upstream valve 31.
- the sample gas generated in the impulse heating furnace 1 flows from the outlet suction flow path L1 to the sample gas suction flow path L2 due to this pressure difference and suction by the suction unit 8.
- the element detection unit 5 detects elements contained in the sample gas, and the removal unit 6 removes CO2 and H2O from the sample gas.
- the upstream valve 31 is closed by the valve control unit C.
- the impulse heating furnace 1 is then opened, the crucible R is discarded, and the inside of the impulse heating furnace 1 is cleaned. Note that while the impulse heating furnace 1 is open, the suction unit 8 is sucking the sample gas suction flow path L2 and the exhaust gas suction flow path L3, and the sample gas suction flow path L2 and the exhaust gas suction flow path L3 remain in a vacuum state.
- the sample gas flows through the suction flow path L by the suction unit 8 sucking in the sample gas, making it possible to eliminate the need for a carrier gas for flowing the sample gas. Furthermore, since the carrier gas is no longer required, the carrier gas flow path, which is a flow path for flowing the carrier gas, can also be eliminated. As a result, it is possible to reduce the running costs associated with using the carrier gas.
- the suction unit 8 is provided downstream of the element detection unit 5 in the sample gas suction flow path L2, exhaust gas discharged from the suction unit 8 does not flow into the element detection unit 5.
- the element detection unit 5 can accurately detect elements contained in the sample gas.
- the output of the pump which is the suction unit 8 the amount of sample gas sucked into the suction flow path L can be adjusted.
- sample gas is generated in the impulse heating furnace 1, which creates a pressure difference between the upstream and downstream sides of the upstream valve 31. Therefore, compared to a configuration without valve 3, after the upstream valve 31 is opened, the sample gas can be passed through the element detection unit 5 all at once, improving the detection accuracy, particularly for sample gas generated from low-concentration samples.
- valve control unit C opens the upstream valve 31 when the pressure of the sample gas reaches a predetermined level or higher, the time during which the element detection unit 5 detects the elements contained in the sample gas can be adjusted, and the element detection unit 5 can accurately detect the elements contained in the sample gas for both high-concentration samples and low-concentration samples. Specifically, since a large amount of sample gas is generated from a high-concentration sample, the pressure of the sample gas flowing through the sample gas suction flow path L2 is reduced by setting a low sample gas pressure at which the valve control unit C opens the upstream valve 31.
- the components of the second embodiment that differ from the first embodiment are that the crucible R is a ceramic crucible, that the high-frequency heating furnace 1 is used instead of the impulse heating furnace 1, that the element detection unit 5 detects C (carbon) and S (sulfur) contained in the sample gas, and that the removal unit 6 is provided upstream of the sample gas suction flow path L2 from the element detection unit 5 and removes H 2 O from the sample gas.
- the other components of the second embodiment are the same as those of the first embodiment. Note that the sample gas suction flow path L2 is suctioned by the suction unit 8 to a vacuum state, and the sample gas may not condense, so the analysis device 100 may not be provided with the removal unit 6.
- the opening/closing control unit C3 opens the upstream valve 31, and the downstream valve 32 opens the sample gas suction passage L2 and the exhaust gas suction passage L3.
- the suction unit 8 draws the high-frequency heating furnace 1, the outlet suction passage L1, the sample gas suction passage L2, and the exhaust gas suction passage L3 into a vacuum state.
- the opening/closing control unit C3 closes the upstream valve 31, sealing the high-frequency heating furnace 1. Then, the user puts the sample from the hopper into the crucible R. After the sample is put into the crucible R, the high-frequency heating furnace 1 heats the sample. In the high-frequency heating furnace 1, sample gas is generated from the sample and the pressure inside the high-frequency heating furnace 1 increases. In the second embodiment, the sample gas contains C (carbon) and S (sulfur). When the high-frequency heating furnace 1 is heating the sample, the suction unit 8 suctions the sample gas suction passage L2 and the exhaust gas suction passage L3 into a vacuum state.
- the opening/closing control unit C3 opens the upstream valve 31.
- the opening/closing control unit C3 also causes the downstream valve 32 to close the exhaust gas suction flow path L3 and open the sample gas suction flow path L2.
- the pressure rises due to the generation of sample gas, and since the sample gas suction flow path L2 is in a vacuum state, a pressure difference occurs between the upstream and downstream sides of the upstream valve 31.
- the sample gas generated in the high-frequency heating furnace 1 flows from the outlet suction flow path L1 to the sample gas suction flow path L2 due to this pressure difference and suction by the suction unit 8.
- the element detection unit 5 detects elements contained in the sample gas, and the removal unit 6 removes H 2 O from the sample gas.
- the upstream valve 31 is closed by the valve control unit C. After that, the top of the high-frequency heating furnace 1 is opened, the crucible R is discarded, and the inside of the high-frequency heating furnace 1 is cleaned. Note that while the top of the high-frequency heating furnace 1 is open, the suction unit 8 is sucking the sample gas suction flow path L2 and the exhaust gas suction flow path L3, and the sample gas suction flow path L2 and the exhaust gas suction flow path L3 continue to be in a vacuum state.
- the sample gas flows through the suction flow path L by the suction unit 8 suctioning the sample gas, so that the carrier gas for flowing the sample gas is not required. Furthermore, since the carrier gas is not required, the carrier gas flow path, which is a flow path for flowing the carrier gas, is also not required. As a result, the running costs associated with using the carrier gas can be reduced.
- the suction unit 8 suctions the sample gas and exhaust gas, but it is sufficient that the suction unit 8 suctions at least the sample gas. Also, in order for the suction unit 8 to suction at least the sample gas, the suction flow path L may be configured not to include the exhaust gas suction flow path L3.
- the suction unit 8 is provided downstream of the suction flow path L from the element detection unit 5, but the suction unit 8 may be provided upstream of the suction flow path L from the element detection unit 5.
- the suction unit 8 is a pump, but this is not limited to this.
- the suction unit 8 may be, for example, a vacuum chamber.
- the downstream side of the suction flow path L may be opened to outer space, making the suction unit 8 unnecessary.
- valve control unit C is configured to include a predetermined value receiving unit C1 that receives the predetermined value of the pressure of the sample gas input by the user, but the predetermined value receiving unit C1 may not be included. Specifically, as shown in FIG.
- the valve control unit C may include a sample type receiving unit C4 that receives the type of sample input by the user, a sample gas amount storage unit C5 that associates and stores the type of sample with the amount of sample gas generated from the sample, and a predetermined value setting unit C6 that, when the sample type receiving unit C4 receives the type of sample, obtains the amount of sample gas associated with the type of sample from the sample gas amount storage unit C5 and sets the predetermined value of the sample gas based on the amount of sample gas obtained from the sample gas amount storage unit C5.
- the valve control unit C controls the opening and closing of the upstream valve 31 and the downstream valve 32, but it may also control the opening of the upstream valve 31 or the downstream valve 32.
- the pressure of the sample gas flowing through the sample gas suction flow path L2 can be changed by controlling the opening of the valve 3.
- changing the pressure of the sample gas can prevent a decrease in detection accuracy caused by the signal detected by the element detection unit 5 becoming extremely large or small.
- valve 3 in the case of a high concentration sample gas, the opening of valve 3 is controlled to be small when valve 3 is opened, thereby lowering the pressure of the sample gas flowing through the sample gas suction flow path.
- the signal detected by element detection unit 5 can be blunted, preventing the signal detected by element detection unit 5 from becoming saturated, and the element detection unit 5 can accurately detect elements contained in the sample gas generated from a high concentration specimen.
- valve 3 in the case of low-concentration sample gas, the opening of valve 3 is controlled to be large when valve 3 is opened, thereby increasing the pressure of the sample gas flowing through sample gas suction flow path L2.
- element detection unit 5 can detect a signal with a clear peak, so element detection unit 5 can accurately detect elements contained in the sample gas generated from a low-concentration specimen.
- the valve control unit C may control the upstream valve 31 and the downstream valve 32 based on the rotation speed of the pump.
- the valve control unit C may further include a rotation speed acquisition unit that acquires the rotation speed of the pump.
- the element detection unit 5 can accurately detect the elements contained in the sample gas.
- the element detection unit 5 can accurately detect the elements contained in the sample gas.
- the suction unit 8 uses a common pump to suck in the sample gas and exhaust gas, but separate pumps for sucking in the sample gas and exhaust gas may be provided.
- the sample gas suction flow path L2 is provided with devices such as the oxidizer 4, element detection unit 5, and removal unit 6, and the pressure loss of the sample gas is large, so a pump with a large suction force only needs to be provided in the sample gas suction flow path L2, and a pump with a smaller suction force than the pump provided in the sample gas suction flow path L2 can be provided in the exhaust gas suction flow path L3.
- valve 3 is provided upstream of the element detection unit 5 in the suction flow path L, but the valve 3 may be provided downstream of the element detection unit 5 in the suction flow path L.
- the valve 3 has an upstream valve 31 and a downstream valve 32, but the valve 3 does not have to have two valves, the upstream valve 31 and the downstream valve 32.
- the valve 3 In order to create a pressure difference between the upstream and downstream sides of the valve 3 and make it easier to suck in the sample gas by the suction unit 8, the valve 3 only needs to have at least the upstream valve 31, and does not have to have the downstream valve 32.
- the element detection unit 5 was an NDIR or TCD, but when detecting elements contained in a sample gas with an NDIR, in order to eliminate the need for a carrier gas that was previously essential for element detection with an NDIR, it is sufficient that at least one of the element detection units 5 is composed of an NDIR, and the other element detection units 5 may be detectors other than NDIR.
- the analysis device 100 may further include an inert gas introduction path P that introduces an inert gas such as nitrogen into the impulse heating furnace or high-frequency heating furnace 1, as shown in FIG. 4.
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Abstract
Description
本発明は、分析装置及び分析方法に関するものである。 The present invention relates to an analysis device and an analysis method.
従来の分析装置としては、例えば特許文献1に示すように、キャリアガスを導入しながら、るつぼに収容された試料を加熱して、その際に発生するサンプルガスをキャリアガスと共に導出させて、サンプルガスに含まれる元素を検出器により検出することによって、試料に含まれる元素を分析するものがある。
As an example of a conventional analytical device, as shown in
ここで、上記の分析装置では、サンプルガスを検出器まで流すためにキャリアガスを流し続ける必要があるので、キャリアガスを多量に使用する必要があり、これによるランニングコストが発生している。 In the above analytical equipment, carrier gas needs to be continuously flowed to transport the sample gas to the detector, so a large amount of carrier gas needs to be used, resulting in high running costs.
そこで、本発明は上述したような問題に鑑みてなされたものであり、試料を加熱した際に発生するサンプルガスに含まれる元素を検出して、試料に含まれる元素を分析する分析装置において、サンプルガスを流すためのキャリアガスを不要にすることをその主たる課題とするものである。 The present invention was made in consideration of the above-mentioned problems, and its main objective is to eliminate the need for a carrier gas to flow the sample gas in an analytical device that detects elements contained in the sample gas generated when the sample is heated and analyzes the elements contained in the sample.
すなわち、本発明に係る分析装置は、試料を加熱して、前記試料を構成する元素を含むサンプルガスを発生するインパルス加熱炉又は高周波加熱炉と、前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉で発生した前記サンプルガスを吸引部により吸引する吸引流路と、前記吸引流路に設けられ、前記サンプルガスに含まれる前記元素を検出する元素検出部とを備えることを特徴とする。 In other words, the analytical device according to the present invention is characterized by comprising an impulse heating furnace or high-frequency heating furnace that heats a sample and generates a sample gas containing the elements that constitute the sample, an aspiration flow path that draws in the sample gas generated in the impulse heating furnace or high-frequency heating furnace using an aspiration unit, and an element detection unit that is provided in the aspiration flow path and detects the elements contained in the sample gas.
このような分析装置であれば、吸引部がサンプルガスを吸引することによってサンプルガスは吸引流路を流れるので、サンプルガスを流すためのキャリアガスを不要にすることができる。その結果、キャリアガスを使用することによるランニングコストを削減することができる。 In such an analytical device, the suction section draws in the sample gas, causing it to flow through the suction flow path, making it unnecessary to use carrier gas to carry the sample gas. As a result, it is possible to reduce the running costs associated with using carrier gas.
前記分析装置は、前記吸引流路に設けられたバルブと、前記バルブを制御するバルブ制御部とをさらに備え、前記吸引部は、前記バルブよりも前記吸引流路の下流側に設けられており、前記バルブ制御部は、前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉が前記試料を加熱する状態において前記バルブを閉止するとともに、前記サンプルガスの圧力が所定以上になった場合に前記バルブを開放し、前記吸引部は、前記バルブが開放されると前記サンプルガスを吸引するものが好ましい。 The analytical device preferably further comprises a valve provided in the suction flow path and a valve control unit that controls the valve, the suction unit being provided downstream of the valve in the suction flow path, the valve control unit closing the valve when the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is heating the sample, and opening the valve when the pressure of the sample gas reaches or exceeds a predetermined value, and the suction unit sucking in the sample gas when the valve is opened.
このような構成であれば、バルブが閉じた状態で試料が加熱されると、サンプルガスがインパルス加熱炉又は高周波加熱炉で発生することにより、バルブの上流側及び下流側で圧力差が生じるので、バルブを備えない構成と比較して、バルブが開放された後、サンプルガスを元素検出部に一挙に通過させることができ、特に低濃度の試料から発生するサンプルガスに対する検出精度を向上させることができる。
また、サンプルガスの圧力が所定以上になった場合にバルブ制御部がバルブを開放するので、元素検出部がサンプルガスに含まれる元素を検出する時間を調整することができ、高濃度の試料及び低濃度の試料の何れの試料に対しても、元素検出部が精度よくサンプルガスに含まれる元素を検出することができる。
In this configuration, when the sample is heated with the valve closed, sample gas is generated in the impulse heating furnace or high-frequency heating furnace, creating a pressure difference between the upstream and downstream sides of the valve. Compared to a configuration without a valve, after the valve is opened, the sample gas can be passed through the element detection section all at once, thereby improving the detection accuracy, especially for sample gas generated from low-concentration samples.
In addition, since the valve control unit opens the valve when the pressure of the sample gas reaches a predetermined level or higher, the time during which the element detection unit detects the elements contained in the sample gas can be adjusted, and the element detection unit can accurately detect the elements contained in the sample gas for both high-concentration samples and low-concentration samples.
前記バルブ制御部の具体的な態様としては、前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉の内部におけるサンプルガスの圧力が所定以上又は前記バルブの上流側の圧力と下流側の圧力との差が所定以上である場合に、前記バルブを開放するものが挙げられる。 Specific examples of the valve control unit include a valve that opens the valve when the pressure of the sample gas inside the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is equal to or greater than a predetermined value, or when the difference between the pressure upstream and downstream of the valve is equal to or greater than a predetermined value.
前記バルブ制御部の具体的な態様としては、ユーザにより設定される前記サンプルガスの圧力の所定値を受け付ける所定値受付部をさらに備えるものが挙げられる。 A specific embodiment of the valve control unit is one that further includes a predetermined value receiving unit that receives a predetermined value for the pressure of the sample gas set by the user.
前記バルブ制御部は、ユーザにより入力される前記試料の種類を受け付ける試料種類受付部と、前記試料の種類と前記試料から発生する前記サンプルガスの量とを紐づけて格納するサンプルガス量格納部と、前記試料種類受付部が前記試料の種類を受け付けた場合に、前記試料の種類に紐づいた前記サンプルガスの量を前記格納部より取得して、前記格納部より取得した前記サンプルガスの量に基づいて、前記サンプルガスの所定値を設定する所定値設定部とをさらに備えるものが挙げられる。 The valve control unit may further include a sample type reception unit that receives the type of sample input by a user, a sample gas amount storage unit that associates and stores the type of sample with the amount of sample gas generated from the sample, and a predetermined value setting unit that, when the sample type reception unit receives the type of sample, obtains the amount of sample gas associated with the type of sample from the storage unit and sets a predetermined value of the sample gas based on the amount of sample gas obtained from the storage unit.
このような構成であれば、例えばユーザの力量によってはサンプルガスの所定値を設定することができない場合であっても、ユーザは試料の種類を入力するだけでよく、ユーザの力量によらずともサンプルガスの所定値を設定することができる。 With this configuration, even if a user is not able to set a specific value for the sample gas due to their level of skill, the user only needs to input the type of sample, and can set the specific value for the sample gas regardless of their level of skill.
前記バルブ制御部は、前記サンプルガスの圧力に基づいて、前記バルブの開度を制御するものが挙げられる。 The valve control unit may control the opening of the valve based on the pressure of the sample gas.
このような構成であれば、バルブの開度を制御することによって、吸引流路を流れるサンプルガスの圧力を変えることができる。特に高濃度のサンプルガス又は低濃度のサンプルガスにおいて、サンプルガスの圧力を変えることにより、元素検出部で検出される信号が極端に大きくなったり又は小さくなったりすることによる検出精度の低下を防ぐことができる。 With this configuration, the pressure of the sample gas flowing through the suction flow path can be changed by controlling the opening of the valve. By changing the pressure of the sample gas, particularly in high-concentration or low-concentration sample gas, it is possible to prevent a decrease in detection accuracy caused by the signal detected by the element detection unit becoming extremely large or small.
前記吸引部がポンプであり、前記分析装置は、前記ポンプの回転数を取得する回転数取得部をさらに備え、前記バルブ制御部は、前記回転数取得部により取得された前記ポンプの回転数に基づいて、前記バルブを制御するものが挙げられる。 The suction unit is a pump, the analysis device further includes a rotation speed acquisition unit that acquires the rotation speed of the pump, and the valve control unit controls the valve based on the rotation speed of the pump acquired by the rotation speed acquisition unit.
このような構成であれば、吸引流路の真空状態に基づいて、例えばバルブの開度を制御することにより、高濃度の試料及び低濃度の試料の何れの試料に対しても、元素検出部がサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。 With this configuration, for example, by controlling the valve opening based on the vacuum state of the suction flow path, the element detection unit can accurately detect elements contained in the sample gas for both high-concentration and low-concentration samples.
前記バルブは、前記元素検出部よりも前記吸引流路の上流側に設けられるものが望ましい。 The valve is preferably provided upstream of the suction flow path from the element detection unit.
このような構成であれば、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉で発生したサンプルガスは、バルブの開放により元素検出部に流れるので、加熱炉で発生したサンプルガスが元素検出部に直接流れる構成と比較して、元素検出部がサンプルガスに含まれる元素を検出することが容易になる。 In this configuration, the sample gas generated in the impulse heating furnace or high-frequency heating furnace flows into the element detection section when the valve is opened, making it easier for the element detection section to detect elements contained in the sample gas compared to a configuration in which the sample gas generated in the heating furnace flows directly into the element detection section.
前記吸引部の具体的な態様としては、前記元素検出部よりも前記吸引流路の下流側に設けられたポンプであるものが挙げられる。 A specific example of the suction unit is a pump that is provided downstream of the suction flow path from the element detection unit.
このような構成であれば、吸引部は元素検出部よりも吸引流路の下流側に設けられているので、吸引部から排出されるガスである排ガスが元素検出部に流れない。その結果、元素検出部は、サンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
また、ポンプの出力を調整することによって、吸引流路に吸引されるサンプルガスの量を調整することができる。
In this configuration, the suction unit is provided downstream of the element detection unit in the suction flow path, so that exhaust gas discharged from the suction unit does not flow into the element detection unit, and as a result, the element detection unit can detect elements contained in the sample gas with high accuracy.
Moreover, by adjusting the output of the pump, the amount of sample gas sucked into the suction passage can be adjusted.
従来の非分散型赤外線ガス分析計(以下、NDIRという)では、サンプルガスをまで流すためにキャリアガスを流し続ける必要があるところ、本発明の前記元素検出部の少なくとも一つは、非分散型赤外線ガス分析計であることが好ましい。 In conventional non-dispersive infrared gas analyzers (hereinafter referred to as NDIR), it is necessary to keep the carrier gas flowing in order to flow the sample gas, but it is preferable that at least one of the element detection units of the present invention is a non-dispersive infrared gas analyzer.
このような構成であれば、NDIRでサンプルガスに含まれる元素を検出する場合に、従来はNDIRによる元素検出で必須であったキャリアガスを不要にすることができる。 With this configuration, when detecting elements contained in a sample gas using NDIR, it is possible to eliminate the need for a carrier gas, which was previously essential for element detection using NDIR.
また、分析方法は、試料を加熱して、前記試料を構成する元素を含むサンプルガスをインパルス加熱炉又は高周波加熱炉で発生させ、前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉で発生した前記サンプルガスを吸引部により吸引し、前記吸引流路に設けられ、前記サンプルガスに含まれる前記元素を検出することを特徴とする。 The analysis method is also characterized in that a sample is heated to generate a sample gas containing elements constituting the sample in an impulse heating furnace or a high-frequency heating furnace, the sample gas generated in the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is sucked in by an suction unit provided in the suction flow path, and the elements contained in the sample gas are detected.
このような構成であれば、上記の分析装置と同様の作用効果を得ることができる。 With this configuration, it is possible to obtain the same effects as the above-mentioned analysis device.
このように構成した本発明によれば、試料を加熱した際に発生するサンプルガスに含まれる元素を検出して、試料に含まれる元素を分析する分析装置において、キャリアガスを不要にすることができる。 The present invention, configured in this way, can eliminate the need for a carrier gas in an analytical device that detects elements contained in a sample gas generated when a sample is heated and analyzes the elements contained in the sample.
<第1実施形態>
以下に、本発明の第1実施形態に係る分析装置100について、図面を参照して説明する。なお、以下に示す何れの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている場合がある。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
First Embodiment
The following describes an
本実施形態に係る分析装置100は、図1に示すように、るつぼR内に収容された試料を加熱して、試料を構成する元素を含むサンプルガスに含まれる元素を検出することによって、当該試料に含まれている元素を分析するものである。なお、本実施形態において、るつぼRは、黒鉛るつぼである。
As shown in FIG. 1, the
具体的に分析装置100は、図1に示すように、試料を加熱するインパルス加熱炉1と、インパルス加熱炉1で発生したガスを吸引部8により吸引する吸引流路Lと、ダストフィルタ2と、バルブ3とを備える。以下、各部について説明する。
Specifically, as shown in FIG. 1, the
インパルス加熱炉1は、試料が収容されたるつぼRを設置し、るつぼR内の試料を加熱してサンプルガスを生成するものである。また、本実施形態において、インパルス加熱炉1が、試料がるつぼRに収容される前にるつぼRを加熱することにより、るつぼR由来の排気ガスが発生する。なお、本実施形態においてインパルス加熱炉1の上部には、試料をるつぼRへと導入するホッパ(不図示)が設けられる。
The
吸引流路Lは、インパルス加熱炉1で発生したガスが導出される導出吸引流路L1と、インパルス加熱炉1で発生したガスのうちサンプルガスが流れるサンプルガス吸引流路L2と、インパルス加熱炉1で発生したガスのうち、排気ガスが流れる排気ガス吸引流路L3とを有する。
The suction flow path L has an outlet suction flow path L1 through which the gas generated in the
ダストフィルタ2は、インパルス加熱炉1から導出されるガスに含まれているすすなどを濾し取り、除塵するものである。
The
バルブ3は、吸引流路Lを開閉するものである。具体的にバルブ3は、ダストフィルタ2よりも導出吸引流路L1の上流側に設けられた上流側バルブ31と、ダストフィルタ2よりも導出吸引流路L1の下流側に設けられた下流側バルブ32とを有する。本実施形態において、上流側バルブ31は、導出吸引流路L1を開閉するものである。また、下流側バルブ32は、いわゆる三方弁であり、サンプルガス吸引流路L2を開閉するとともに、排気ガス吸引流路L3を開閉するものである。
The
本実施形態において、バルブ3は、バルブ制御部Cにより制御される。ここでバルブ制御部Cは、CPU、メモリ、A/Dコンバータ等を備えた所謂コンピュータであり、前記メモリの所定領域に格納されたプログラムに従ってCPUや周辺機器が協働することにより、バルブ3を制御する。
In this embodiment, the
具体的にバルブ制御部Cは、ユーザにより入力されたサンプルガスの所定値を受け付ける所定値受付部C1と、上流側バルブ31よりも上流側に設けられた圧力センサ(不図示)により測定されたガスの圧力を取得する測定圧力取得部C2と、サンプルガスの所定値及び圧力センサにより測定されたガスの圧力に基づいて上流側バルブ31及び下流側バルブ32の開閉を制御する開閉制御部C3とを備える。なお、インパルス加熱炉1内部の圧力を測定するためには、上流側バルブ31よりも上流側に設けられた圧力センサに限られず、上流側バルブ31の上流側及び下流側の圧力差を測定する差圧計であってもよい。
Specifically, the valve control unit C includes a predetermined value receiving unit C1 that receives a predetermined value of the sample gas input by the user, a measured pressure acquiring unit C2 that acquires the gas pressure measured by a pressure sensor (not shown) provided upstream of the
そして、サンプルガス吸引流路L2には、サンプルガスを酸化する酸化器4と、サンプルガスに含まれる元素を検出する元素検出部5と、サンプルガスに含まれる成分を除去する除去部6と、サンプルガスの流量を測定する流量測定部7とが設けられる。以下、サンプルガス吸引流路L2に設けられる各部の構成について説明する。
The sample gas suction flow path L2 is provided with an
酸化器4は、後述するCO検出部51よりもサンプルガス吸引流路L2の下流側に設けられ、サンプルガスに含まれるCOをCO2に酸化するものである。なお、酸化器4を構成する酸化触媒は例えば白金触媒であり、白金触媒は、約700℃程度に加熱されている。この白金触媒の加熱方法は、発熱抵抗体により加熱する方法等が考えられる。
The
元素検出部5は、CO検出部51、CO2検出部52、H2O検出部53及びN2検出部54により構成される。CO検出部51、CO2検出部52、H2O検出部53及びN2検出部54は、サンプルガス吸引流路L2の上流側からこの順で設けられる。
The
CO検出部51は、ダストフィルタ2を通過した混合ガスに含まれるCO(一酸化炭素)を検出し、その濃度を測定するものである。本実施形態において、CO検出部51は、NDIR(非分散型赤外線ガス分析計)である。このCO検出部51は、その測定精度から試料内部に含まれている酸素が高濃度の場合に有効に動作する。具体的にCO検出部51は、150ppm以上のCOを測定対象とするのが好ましい。
The
CO2検出部52は、酸化器4を通過したサンプルガス中のCO2(二酸化炭素)を検出して、その濃度を測定するものである。本実施形態において、CO2検出部52は、NDIRである。このCO2検出部52は、測定精度の観点から試料に含まれる酸素が低濃度(例えば150ppm未満)の場合に有効に動作する。
The CO2
H2O検出部53は、CO2検出部52を通過したサンプルガス中のH2O(水蒸気)を検出して、その濃度を測定するものである。本実施形態において、H2O検出部53は、NDIRである。なお、酸化器4からH2O検出部53に至るまでのサンプルガス吸引流路L2は、サンプルガスの温度が100℃以上に保たれており、H2Oが水蒸気の状態を保つように構成されている。このようにして、結露による測定誤差がH2O検出部53で発生しないようにしている。
The H2O
N2検出部54は、H2O検出部53及び後述する除去部6を通過したサンプルガス中のN2(窒素)を検出して、その濃度を測定するものである。本実施形態において、N2検出部54は、熱伝導検出器(TCD)である。
The N2
除去部6は、サンプルガス中のCO2及びH2Oを吸着して除去するものである。本実施形態において、除去部6は、サンプルガス中のCO2を除去するCO2除去部61と、サンプルガス中のH2Oを除去するH2O除去部62とを有する。これらCO2除去部61及びH2O除去部62は、吸着材により構成されており、その吸着材の材料は、例えばゼオライト系モレキュラーシーブ、シリカゲル、活性炭又はアスカライト等である。
The
流量測定部7は、N2検出部54を通過したサンプルガスの流量を測定する流量センサである。
The flow
しかして、吸引部8は、インパルス加熱炉1で発生したサンプルガスを吸引して、サンプルガスをサンプルガス吸引流路L2に流すものである。なお、本実施形態において、吸引部8は、インパルス加熱炉1で発生した排気ガスをも吸引して、排気ガスを排気ガス吸引流路L3に流す。
The
具体的に吸引部8は、元素検出部5よりもサンプルガス吸引流路L2の下流側に設けられており、本実施形態において、吸引部8は、流量測定部7よりもサンプルガス吸引流路L2の下流側に設けられる。また、本実施形態において、吸引部8はポンプである。具体的には、ポンプである吸引部8は、サンプルガス又は排気ガスを吸引して、その吸引したサンプルガス又は排気ガスを分析装置100外へと排気する。
Specifically, the
<分析方法>
以下、本実施形態における分析装置100を用いた分析方法について説明する。
<Analysis method>
An analysis method using the
ユーザは、インパルス加熱炉1の内部にるつぼRを置く。また、ユーザは、インパルス加熱炉1の上部に設けられたホッパに試料を置いて、インパルス加熱炉1の上部を密閉する。そして、所定値受付部C1は、ユーザからの入力によって、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放する際におけるサンプルガスの圧力の所定値を受け付ける。
The user places a crucible R inside the
次に、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が開放される。また、開閉制御部C3により、下流側バルブ32が排気ガス吸引流路L3を開放するとともに、サンプルガス吸引流路L2を閉止する。そして、吸引部8が起動されるとともに、インパルス加熱炉1がるつぼRを加熱する。これにより、るつぼR由来の排気ガスは、インパルス加熱炉1から導出吸引流路L1及び排気ガス吸引流路L3を通過して排気される。所定の時間が経過すると、吸引部8の吸引により、インパルス加熱炉1、導出吸引流路L1、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3が真空状態となる。
Next, the
次に、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が閉止されて、インパルス加熱炉1が密閉される。そして、試料はホッパからるつぼRへと投入される。試料がるつぼRに投入された後、インパルス加熱炉1は試料を加熱する。インパルス加熱炉1では、試料からサンプルガスが発生するとともに、インパルス加熱炉1内部の圧力が上昇する。インパルス加熱炉1が試料を加熱している状態において、吸引部8の吸引により、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3は真空状態となる。
Next, the opening/closing control unit C3 closes the
上流側バルブ31よりも上流側に設けられた圧力センサにより測定された圧力が所定以上になると、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が開放される。また、開閉制御部C3により、下流側バルブ32が排気ガス吸引流路L3を閉止するとともに、サンプルガス吸引流路L2を開放する。インパルス加熱炉1ではサンプルガスの発生により圧力が上昇し、サンプルガス吸引流路L2は真空状態であるので、上流側バルブ31の上流側及び下流側で圧力差が生じる。その結果、インパルス加熱炉1で発生したサンプルガスは、この圧力差及び吸引部8による吸引によって、導出吸引流路L1からサンプルガス吸引流路L2に流れる。
When the pressure measured by the pressure sensor installed upstream of the
サンプルガスがサンプルガス吸引流路L2を流れる際に、元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素を検出するとともに、除去部6がサンプルガス中のCO2及びH2Oを除去する。
When the sample gas flows through the sample gas suction flow path L2, the
元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素の検出を終了すると、バルブ制御部Cにより上流側バルブ31が閉止される。その後、インパルス加熱炉1を開放して、るつぼRを捨てるとともに、インパルス加熱炉1の内部を清掃する。なお、インパルス加熱炉1が開放された状態において、吸引部8はサンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3を吸引しており、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3の真空状態は継続する。
When the
<第1実施形態の効果>
第1実施形態に係る分析装置100であれば、吸引部8がサンプルガスを吸引することによってサンプルガスは吸引流路Lを流れるので、サンプルガスを流すためのキャリアガスを不要にすることができる。さらに、キャリアガスが不要になるので、キャリアガスを流すための流路であるキャリアガス流路も不要にすることができる。その結果、キャリアガスを使用することによるランニングコストを削減することができる。
Effects of the First Embodiment
In the
また、吸引部8は元素検出部5よりもサンプルガス吸引流路L2の下流側に設けられているので、吸引部8から排出されるガスである排ガスが元素検出部5に流れない。その結果、元素検出部5は、サンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
その上、吸引部8であるポンプの出力を調整することによって、吸引流路Lに吸引されるサンプルガスの量を調整することができる。
In addition, since the
Moreover, by adjusting the output of the pump which is the
さらに、上流側バルブ31が閉じた状態で試料が加熱されると、サンプルガスがインパルス加熱炉1で発生することにより、上流側バルブ31の上流側及び下流側で圧力差が生じるので、バルブ3を備えない構成と比較して、上流側バルブ31が開放された後、サンプルガスを元素検出部5に一挙に通過させることができ、特に低濃度の試料から発生するサンプルガスに対する検出精度を向上させることができる。
Furthermore, when the sample is heated with the
また、サンプルガスの圧力が所定以上になった場合にバルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放するので、元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素を検出する時間を調整することができ、高濃度の試料及び低濃度の試料の何れの試料に対しても、元素検出部5が精度よくサンプルガスに含まれる元素を検出することができる。
具体的には、高濃度の試料では多量のサンプルガスが発生するので、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放するサンプルガスの圧力を低く設定することにより、サンプルガス吸引流路L2に流れるサンプルガスの圧力が低くなる。その結果、元素検出部5により検出される信号をなまらせることができるので、元素検出部5により検出される信号が飽和することを防ぐことができ、元素検出部5は、高濃度の試料から発生するサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
一方、低濃度の試料では少量のサンプルガスが発生するので、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放するサンプルガスの圧力を高く設定することにより、上流側バルブ31が開放されると、サンプルガスはサンプルガス吸引流路L2を一挙に流れるとともに、サンプルガス吸引流路L2に流れるサンプルガスの圧力が高くなる。その結果、元素検出部5は明瞭なピークを有する信号を検出することができるので、元素検出部5は、低濃度の試料から発生するサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
In addition, since the valve control unit C opens the
Specifically, since a large amount of sample gas is generated from a high-concentration sample, the pressure of the sample gas flowing through the sample gas suction flow path L2 is reduced by setting a low sample gas pressure at which the valve control unit C opens the
On the other hand, since a small amount of sample gas is generated from a low-concentration sample, the valve control unit C sets the sample gas pressure at which the
<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態に係る分析装置100について、図2を参照して説明する。なお、以下に示す何れの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている場合がある。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
Second Embodiment
Next, an
第1実施形態と異なる第2実施形態の構成要素は、るつぼRはセラミックるつぼであること、インパルス加熱炉1ではなく高周波加熱炉1であること、元素検出部5は、サンプルガスに含まれるC(炭素)及びS(硫黄)を検出すること、除去部6は、元素検出部5よりもサンプルガス吸引流路L2の上流側に設けられるとともに、サンプルガス中のH2Oを除去することである。その他の第2実施形態の構成要素は、第1実施形態と同様である。なお、サンプルガス吸引流路L2は、吸引部8により吸引されて真空状態になり、サンプルガスが結露しない場合があるので、分析装置100は、除去部6を備えない構成としてもよい。
The components of the second embodiment that differ from the first embodiment are that the crucible R is a ceramic crucible, that the high-
第2実施形態における分析装置100を用いた分析方法について説明する。
The analysis method using the
ユーザは、高周波加熱炉1の内部にるつぼRを置く。また、ユーザは、高周波加熱炉1の上部に設けられたホッパに試料を置いて、高周波加熱炉1の上部を密閉する。そして、所定値受付部C1は、ユーザからの入力によって、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放する際におけるサンプルガスの圧力の所定値を受け付ける。
The user places a crucible R inside the high-
次に、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が開放されるとともに、下流側バルブ32がサンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3を開放する。所定の時間が経過すると、吸引部8の吸引により、高周波加熱炉1、導出吸引流路L1、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3が真空状態となる。
Next, the opening/closing control unit C3 opens the
次に、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が閉止されて、高周波加熱炉1が密閉される。そして、ユーザは、試料をホッパからるつぼRへと投入する。試料がるつぼRに投入された後、高周波加熱炉1は試料を加熱する。高周波加熱炉1では、試料からサンプルガスが発生するとともに、高周波加熱炉1内部の圧力が上昇する。第2実施形態では、サンプルガスには、C(炭素)及びS(硫黄)が含まれる。高周波加熱炉1が試料を加熱している状態において、吸引部8の吸引により、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3は真空状態となる。
Next, the opening/closing control unit C3 closes the
上流側バルブ31よりも上流側に設けられた圧力センサにより測定された圧力が所定以上になると、開閉制御部C3により、上流側バルブ31が開放される。また、開閉制御部C3により、下流側バルブ32が排気ガス吸引流路L3を閉止するとともに、サンプルガス吸引流路L2を開放する。高周波加熱炉1ではサンプルガスの発生により圧力が上昇し、サンプルガス吸引流路L2は真空状態であるので、上流側バルブ31の上流側及び下流側で圧力差が生じる。その結果、高周波加熱炉1で発生したサンプルガスは、この圧力差及び吸引部8による吸引によって、導出吸引流路L1からサンプルガス吸引流路L2に流れる。
When the pressure measured by the pressure sensor installed upstream of the
サンプルガスがサンプルガス吸引流路L2を流れる際に、元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素を検出するとともに、除去部6がサンプルガス中のH2Oを除去する。
When the sample gas flows through the sample gas suction flow path L2, the
元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素の検出を終了すると、バルブ制御部Cにより上流側バルブ31が閉止される。その後、高周波加熱炉1の上部を開放して、るつぼRを捨てるとともに、高周波加熱炉1の内部を清掃する。なお、高周波加熱炉1の上部が開放された状態において、吸引部8はサンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3を吸引しており、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3の真空状態は継続する。
When the
<第2実施形態の効果>
第2実施形態に係る分析装置100によれば、セラミックるつぼに収容された試料を加熱して発生するサンプルガスに含まれるC及びSを検出する分析装置100においても、第1実施形態と同様に、吸引部8がサンプルガスを吸引することによってサンプルガスは吸引流路Lを流れるので、サンプルガスを流すためのキャリアガスを不要にすることができる。さらに、キャリアガスが不要になるので、キャリアガスを流すための流路であるキャリアガス流路も不要にすることができる。その結果、キャリアガスを使用することによるランニングコストを削減することができる。
Effects of the Second Embodiment
According to the
<その他の実施形態>
なお、本発明は、前記実施形態に限られるものではない。
<Other embodiments>
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment.
前記実施形態において、吸引部8は、サンプルガス及び排気ガスを吸引するものであったが、吸引部8は少なくともサンプルガスを吸引すればよい。また、吸引部8が少なくともサンプルガスを吸引するためには、吸引流路Lは、排気ガス吸引流路L3を備えない構成であってもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、吸引部8は、元素検出部5よりも吸引流路Lの下流側に設けられるものであったが、吸引部8は、元素検出部5よりも吸引流路Lの上流側に設けられるものであってもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、吸引部8はポンプであったが、これに限られない。吸引部8は、例えば真空チャンバであってもよい。また、上記の分析装置100を宇宙空間で使用する場合には、吸引流路Lの下流側を宇宙空間に開放して、吸引部8を不要としてもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、バルブ制御部Cは、ユーザにより入力される前記サンプルガスの圧力の所定値を受け付ける所定値受付部C1を備える構成であったが、所定値受付部C1を備えなくてもよい。具体的には、図3に示すように、バルブ制御部Cが、ユーザにより入力される試料の種類を受け付ける試料種類受付部C4と、試料の種類と当該試料から発生するサンプルガスの量とを紐づけて格納するサンプルガス量格納部C5と、試料種類受付部C4が試料の種類を受け付けた場合に、試料の種類に紐づいたサンプルガスの量をサンプルガス量格納部C5より取得して、サンプルガス量格納部C5より取得したサンプルガスの量に基づいて、サンプルガスの所定値を設定する所定値設定部C6とを備えるものであってもよい。このような構成であれば、例えばユーザの力量によってはサンプルガスの所定値を設定することができない場合であっても、ユーザは試料の種類を入力するだけでよく、ユーザの力量によらずともサンプルガスの所定値を設定することができる。 In the above embodiment, the valve control unit C is configured to include a predetermined value receiving unit C1 that receives the predetermined value of the pressure of the sample gas input by the user, but the predetermined value receiving unit C1 may not be included. Specifically, as shown in FIG. 3, the valve control unit C may include a sample type receiving unit C4 that receives the type of sample input by the user, a sample gas amount storage unit C5 that associates and stores the type of sample with the amount of sample gas generated from the sample, and a predetermined value setting unit C6 that, when the sample type receiving unit C4 receives the type of sample, obtains the amount of sample gas associated with the type of sample from the sample gas amount storage unit C5 and sets the predetermined value of the sample gas based on the amount of sample gas obtained from the sample gas amount storage unit C5. With this configuration, even if the user is unable to set the predetermined value of the sample gas depending on his/her ability, the user only needs to input the type of sample, and the predetermined value of the sample gas can be set regardless of the user's ability.
前記実施形態において、バルブ制御部Cは、上流側バルブ31及び下流側バルブ32の開閉を制御するものであったが、上流側バルブ31又は下流側バルブ32の開度を制御するものであってもよい。このような構成であれば、バルブ3の開度を制御することによって、サンプルガス吸引流路L2を流れるサンプルガスの圧力を変えることができる。特に高濃度のサンプルガス又は低濃度のサンプルガスにおいて、サンプルガスの圧力を変えることにより、元素検出部5で検出される信号が極端に大きくなったり又は小さくなったりすることによる検出精度の低下を防ぐことができる。
In the above embodiment, the valve control unit C controls the opening and closing of the
具体的には、高濃度のサンプルガスにおいて、バルブ3が開放される際にバルブ3の開度を小さく制御することにより、サンプルガス吸引流路に流れるサンプルガスの圧力が低くなる。その結果、元素検出部5により検出される信号をなまらせることができるので、元素検出部5により検出される信号が飽和することを防ぐことができ、元素検出部5は、高濃度の試料から発生するサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
Specifically, in the case of a high concentration sample gas, the opening of
一方、低濃度のサンプルガスにおいて、バルブ3が開放される際にバルブ3の開度を大きく制御することにより、サンプルガス吸引流路L2に流れるサンプルガスの圧力が高くなる。その結果、元素検出部5は明瞭なピークを有する信号を検出することができるので、元素検出部5は、低濃度の試料から発生するサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
On the other hand, in the case of low-concentration sample gas, the opening of
前記実施形態において、吸引部8がポンプである場合、バルブ制御部Cは、ポンプの回転数に基づいて、上流側バルブ31及び下流側バルブ32を制御するものであってもよい。具体的には、バルブ制御部Cがポンプの回転数を取得する回転数取得部をさらに備えるものであってもよい。このような構成であれば、サンプルガス吸引流路L2の真空状態に基づいて、例えばバルブ3の開度を制御することにより、高濃度の試料及び低濃度の試料の何れの試料に対しても、元素検出部5がサンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
In the above embodiment, when the
具体的には、ポンプの回転数が小さい場合、ポンプの回転数が大きい場合と比較して、サンプルガス吸引流路L2は真空状態ではないので、バルブ3の上流側と下流側との圧力差が小さくなる。従って、特に低濃度の試料において、バルブ3を開放する際にバルブ3の開度を大きく制御することにより、元素検出部5は、サンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
Specifically, when the pump rotation speed is low, the sample gas suction flow path L2 is not in a vacuum state compared to when the pump rotation speed is high, so the pressure difference between the upstream and downstream sides of the
一方、ポンプの回転数が大きい場合、ポンプの回転数が小さい場合と比較して、サンプルガス吸引流路L2は真空状態であるので、バルブ3の上流側と下流側との圧力差が大きくなる。従って、特に高濃度の試料において、バルブ3を開放する際にバルブ3の開度を小さく制御することにより、元素検出部5は、サンプルガスに含まれる元素を精度よく検出することができる。
On the other hand, when the pump rotation speed is high, the sample gas suction flow path L2 is in a vacuum state, and the pressure difference between the upstream and downstream sides of the
前記実施形態において、吸引部8は、サンプルガス及び排ガスを共通のポンプにより吸引するものであったが、サンプルガス及び排ガスを吸引するポンプを別々に設けられてもよい。このような構成であれば、サンプルガス吸引流路L2では、酸化器4、元素検出部5及び除去部6といった機器が設けられおり、サンプルガスの圧損が大きいので、吸引力が大きいポンプは、サンプルガス吸引流路L2にのみ設けられれば良く、排気ガス吸引流路L3には、サンプルガス吸引流路L2に設けられたポンプよりも吸引力が小さいポンプを設けることができる。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、バルブ3は、元素検出部5よりも吸引流路Lの上流側に設けられるものであったが、バルブ3は、元素検出部5よりも吸引流路Lの下流側に設けられるものであってもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、バルブ3は、上流側バルブ31及び下流側バルブ32を有するものであったが、バルブ3は上流側バルブ31及び下流側バルブ32の2つのバルブを備えなくてもよい。バルブ3の上流側及び下流側で圧力差を生じさせて、吸引部8によりサンプルガスを吸引しやすくするためには、バルブ3は、少なくとも上流側バルブ31を有していればよく、下流側バルブ32を備えなくともよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、分析装置100は、バルブ3及びバルブ制御部Cを備える構成であったが、分析装置100は、バルブ3及びバルブ制御部Cを備えない構成としてもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態において、元素検出部5は、NDIR又はTCDであったが、NDIRでサンプルガスに含まれる元素を検出する場合に、従来はNDIRによる元素検出で必須であったキャリアガスを不要にするためには、元素検出部5は少なくとも一つがNDIRで構成されていればよく、その他の元素検出部5は、NDIR以外の検出器であってもよい。
In the above embodiment, the
前記実施形態では、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1が密閉される前にインパルス加熱炉又は高周波加熱炉1は大気開放されているので、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内に例えば酸素又は二酸化炭素が残存している。そして、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内に例えば酸素又は二酸化炭素が残存している状態でサンプルガスが発生して、当該サンプルガスが元素検出部5に流れると、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内に残存していた例えば酸素又は二酸化炭素も元素検出部5で検出されてしまい、正確な測定ができない可能性がある。そこで、サンプルガスが発生する際にインパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内で例えば酸素又は二酸化炭素が残存していない状態とするには、図4に示すように、分析装置100が、例えば窒素といった不活性ガスをインパルス加熱炉又は高周波加熱炉1に導入する不活性ガス導入路Pをさらに備えるものであってもよい。
In the above embodiment, the impulse heating furnace or high-
具体的には、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1が密閉されて試料がるつぼRに投入される前に、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を閉止するとともに、不活性ガスが不活性ガス導入路Pを介してインパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内に導入される。そして、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1内が不活性ガスで満たされると、吸引部8が起動されるとともに、バルブ制御部Cが上流側バルブ31を開放する。所定の時間が経過すると、吸引部8が不活性ガスを吸引することにより、インパルス加熱炉又は高周波加熱炉1、導出吸引流路L1、サンプルガス吸引流路L2及び排気ガス吸引流路L3が真空状態となる。なお、不活性ガスの導入及び吸引は、複数回行われてもよい。また、不活性ガスの導入は、サンプルガスが発生する前に停止されるので、ここで言う不活性ガスは、サンプルガスを流すためのキャリアガスではない。
Specifically, before the impulse heating furnace or high-
その他、本発明の趣旨に反しない限りにおいて様々な実施形態の変形や組み合わせを行っても構わない。 Other variations and combinations of the embodiments may be made without going against the spirit of the present invention.
本発明によれば、試料を加熱した際に発生するサンプルガスに含まれる元素を検出して、試料に含まれる元素を分析する分析装置において、サンプルガスを流すためのキャリアガスを不要にすることができる。 The present invention makes it possible to eliminate the need for a carrier gas to flow the sample gas in an analytical device that detects elements contained in a sample gas generated when the sample is heated and analyzes the elements contained in the sample.
100・・・分析装置
1 ・・・インパルス加熱炉又は高周波加熱炉
2 ・・・ダストフィルタ
3 ・・・バルブ
31 ・・・上流側バルブ
32 ・・・下流側バルブ
4 ・・・酸化器
5 ・・・元素検出部
6 ・・・除去部
7 ・・・流量測定部
8 ・・・吸引部
L ・・・吸引流路
L1 ・・・導出吸引流路
L2 ・・・サンプルガス吸引流路
L3 ・・・排気ガス吸引流路
R ・・・るつぼ
REFERENCE SIGNS LIST 100: Analytical apparatus 1: Impulse heating furnace or high-frequency heating furnace 2: Dust filter 3: Valve 31: Upstream valve 32: Downstream valve 4: Oxidizer 5: Element detection section 6: Removal section 7: Flow rate measurement section 8: Suction section L: Suction flow path L1: Output suction flow path L2: Sample gas suction flow path L3: Exhaust gas suction flow path R: Crucible
Claims (11)
前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉で発生した前記サンプルガスを吸引部により吸引する吸引流路と、
前記吸引流路に設けられ、前記サンプルガスに含まれる前記元素を検出する元素検出部とを備える、分析装置。 an impulse heating furnace or a high-frequency heating furnace for heating a sample to generate a sample gas containing elements constituting the sample;
a suction flow path for suctioning the sample gas generated in the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace by a suction part;
an element detection unit provided in the suction flow path for detecting the element contained in the sample gas.
前記バルブを制御するバルブ制御部とをさらに備え、
前記吸引部は、前記バルブよりも前記吸引流路の下流側に設けられており、
前記バルブ制御部は、前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉が前記試料を加熱する状態において前記バルブを閉止するとともに、前記サンプルガスの圧力が所定以上になった場合に前記バルブを開放し、
前記吸引部は、前記バルブが開放されると前記サンプルガスを吸引する、請求項1に記載の分析装置。 A valve provided in the suction flow path;
A valve control unit for controlling the valve is further provided.
the suction unit is provided downstream of the suction flow path relative to the valve,
the valve control unit closes the valve when the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is heating the sample, and opens the valve when the pressure of the sample gas becomes equal to or higher than a predetermined pressure;
The analytical device according to claim 1 , wherein the suction unit suctions the sample gas when the valve is opened.
ユーザにより入力される前記試料の種類を受け付ける試料種類受付部と、
前記試料の種類と前記試料から発生する前記サンプルガスの量とを紐づけて格納するサンプルガス量格納部と、
前記試料種類受付部が前記試料の種類を受け付けた場合に、前記試料の種類に紐づいた前記サンプルガスの量を前記格納部より取得して、前記格納部より取得した前記サンプルガスの量に基づいて、前記サンプルガスの所定値を設定する所定値設定部とをさらに備える、請求項2又は3に記載の分析装置。 The valve control unit is
a sample type receiving unit that receives the sample type input by a user;
a sample gas amount storage unit that stores the type of the sample and the amount of the sample gas generated from the sample in association with each other;
The analytical apparatus of claim 2 or 3, further comprising a predetermined value setting unit that, when the sample type receiving unit receives the type of sample, obtains from the storage unit an amount of the sample gas associated with the type of sample, and sets a predetermined value of the sample gas based on the amount of the sample gas obtained from the storage unit.
前記分析装置は、前記ポンプの回転数を取得する回転数取得部をさらに備え、
前記バルブ制御部は、前記回転数取得部により取得された前記ポンプの回転数に基づいて、前記バルブを制御する、請求項2乃至6の何れか一項に記載の分析装置。 The suction unit is a pump,
The analysis device further includes a rotation speed acquisition unit that acquires a rotation speed of the pump,
The analyzer according to claim 2 , wherein the valve control unit controls the valve based on the rotation speed of the pump acquired by the rotation speed acquisition unit.
前記インパルス加熱炉又は前記高周波加熱炉で発生した前記サンプルガスを吸引部により吸引し、
前記吸引流路に設けられ、前記サンプルガスに含まれる前記元素を検出する、分析方法。 A sample is heated to generate a sample gas containing elements constituting the sample in an impulse heating furnace or a high-frequency heating furnace;
The sample gas generated in the impulse heating furnace or the high-frequency heating furnace is sucked in by a suction part,
The analysis method further comprises: providing a device in the suction flow path to detect the element contained in the sample gas.
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