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WO2024219417A1 - 反射防止部材、並びに、前記反射防止部材を用いた偏光板、パネル、画像表示装置及び反射防止性物品、並びに、反射防止部材の選定方法 - Google Patents

反射防止部材、並びに、前記反射防止部材を用いた偏光板、パネル、画像表示装置及び反射防止性物品、並びに、反射防止部材の選定方法 Download PDF

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Publication number
WO2024219417A1
WO2024219417A1 PCT/JP2024/015240 JP2024015240W WO2024219417A1 WO 2024219417 A1 WO2024219417 A1 WO 2024219417A1 JP 2024015240 W JP2024015240 W JP 2024015240W WO 2024219417 A1 WO2024219417 A1 WO 2024219417A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
particles
less
refractive index
mass
index layer
Prior art date
Application number
PCT/JP2024/015240
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
和也 本田
純 佐藤
佳奈 堀井
研一 小野寺
宏人 高瀬
朝香 岡野
Original Assignee
大日本印刷株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大日本印刷株式会社 filed Critical 大日本印刷株式会社
Publication of WO2024219417A1 publication Critical patent/WO2024219417A1/ja

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements

Definitions

  • This disclosure relates to an anti-reflection member, a polarizing plate, a panel, an image display device, and an anti-reflection article that use the anti-reflection member, and a method for selecting an anti-reflection member.
  • anti-reflective materials may be provided on the surface to improve visibility.
  • Anti-reflection members have been proposed that have a low refractive index layer on a substrate.
  • the low refractive index layer contains, for example, hollow particles for lowering the refractive index and a binder component for holding the hollow particles.
  • Patent Documents 1 and 2 have been proposed as anti-reflection members that contain hollow particles in the low refractive index layer.
  • the low refractive index layer in Patent Document 1 also contains solid particles.
  • the antireflection member is used by being disposed on the surface of a member such as an image display device. For this reason, the surface of the antireflection member is scratched when operating the touch panel, wiping off dirt, etc. Therefore, the antireflection member is required to have excellent scratch resistance. Furthermore, in recent years, the number of foldable image display devices has increased. Similarly, these foldable image display devices are required to have excellent scratch resistance. Furthermore, in recent years, image display devices have become ultra-high definition, so scratches on the antireflection member are easily noticeable. For this reason, the antireflection member is required to have a scratch resistance higher than before. However, conventional antireflection members such as those disclosed in Patent Documents 1 and 2 have insufficient scratch resistance.
  • a polarizing plate having a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, wherein one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the antireflection member described in ⁇ 1>, and the antireflection member is arranged so that a surface facing the low refractive index layer faces the opposite side to the polarizer.
  • An image display panel having a display element and an optical film arranged on a light exit surface side of the display element, the optical film including the antireflection member according to ⁇ 1>, the antireflection member being arranged such that a surface of the antireflection member on the low refractive index layer side faces an opposite side to the display element, and the antireflection member being arranged as an outermost surface.
  • An image display device comprising the panel according to ⁇ 3>, and having the antireflection member disposed on an outermost surface thereof.
  • An antireflective article comprising the antireflective member according to ⁇ 1> arranged on a member such that a surface of the antireflective member on the low refractive index layer side faces a side opposite to the member, and the antireflective member is arranged as an outermost surface.
  • a method for selecting an antireflection member comprising: A method for selecting an antireflection member, comprising determining whether or not the following (1) to (4) are satisfied, and selecting an antireflection member that satisfies the following (1) to (4). (1) It is an antireflection member having a low refractive index layer on a substrate. (2) The low refractive index layer contains a binder component, hollow particles, and solid particles.
  • the solid particles include solid particles ⁇ having a particle diameter exceeding the average particle diameter of the hollow particles.
  • the average number of the solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer is 0.7 or more and 8.0 or less.
  • the anti-reflection member of the present disclosure and the polarizing plate, image display device, and anti-reflection article using the same, can have good scratch resistance.
  • the method for selecting an anti-reflection member of the present disclosure can efficiently select an anti-reflection member with good scratch resistance.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an antireflection member according to the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of one embodiment of a panel of the present disclosure.
  • the antireflection member of the present disclosure is an antireflection member having a low refractive index layer on a substrate, the low refractive index layer contains a binder component, hollow particles and solid particles, The solid particles include solid particles ⁇ having a particle diameter exceeding the average particle diameter of the hollow particles, In an image of a vertical cross section of the antireflection member taken with a scanning transmission electron microscope, the average number of the solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer is 0.7 or more and 8.0 or less.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the cross-sectional shape of an anti-reflection member 100 of the present disclosure.
  • the antireflection member 100 in Fig. 1 has a low refractive index layer 30 on a substrate 10.
  • the antireflection member 100 in Fig. 1 has a hard coat layer 20 between the substrate 10 and the low refractive index layer 30.
  • Fig. 1 is a schematic cross-sectional view. That is, the scale of each layer and each material constituting the antireflection member 100 is schematic for ease of illustration and differs from the actual scale, etc. The same is true for Fig. 2.
  • the term "width direction of the low refractive index layer” means “a direction perpendicular to the thickness direction of the low refractive index layer.”
  • the Z direction in Fig. 1 corresponds to the thickness direction of the low refractive index layer.
  • “the average number of solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer” may be abbreviated as “the average number of solid particles ⁇ ”.
  • the antireflection member of the present disclosure is not limited to the laminated structure of Fig. 1.
  • the antireflection member of the present disclosure may have a low refractive index layer directly on the substrate.
  • the antireflection member of the present disclosure may have other layers not shown in Fig. 1.
  • Preferred embodiments of the layered structure of the antireflection member of the present disclosure include a "layered structure having a hard coat layer and a low refractive index layer, in this order, on a substrate" and a "layered structure having a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, in this order, on a substrate.”
  • the substrate is preferably one having optical transparency, smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength.
  • substrates include plastic films such as polyester, triacetyl cellulose (TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetal, polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyurethane, and amorphous olefin (Cyclo-Olefin-Polymer: COP).
  • the substrate may be one in which two or more plastic films are laminated together.
  • polyester films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred.
  • polyester films stretched films are preferred, and biaxially stretched films are more preferred.
  • TAC and acrylic are preferred from the viewpoint of light transmission and optical isotropy.
  • COP and polyester are preferred from the viewpoint of excellent weather resistance.
  • the thickness of the substrate is preferably 5 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and even more preferably 30 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less.
  • the upper limit of the thickness of the substrate is preferably 80 ⁇ m or less, and more preferably 70 ⁇ m or less.
  • the thickness of the substrate is measured using a contact-type film thickness gauge.
  • An example of a contact-type film thickness gauge is MDC-25SX manufactured by Mitutoyo Corporation. In this specification, the thickness of the substrate refers to the average value of measurements taken at 10 points.
  • Examples of preferred ranges for the thickness of the substrate include 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, 5 ⁇ m to 120 ⁇ m, 5 ⁇ m to 80 ⁇ m, 5 ⁇ m to 70 ⁇ m, 5 ⁇ m to 20 ⁇ m, 20 ⁇ m to 300 ⁇ m, 20 ⁇ m to 200 ⁇ m, 20 ⁇ m to 120 ⁇ m, 20 ⁇ m to 80 ⁇ m, 20 ⁇ m to 70 ⁇ m, 30 ⁇ m to 300 ⁇ m, 30 ⁇ m to 200 ⁇ m, 30 ⁇ m to 120 ⁇ m, 30 ⁇ m to 80 ⁇ m, and 30 ⁇ m to 70 ⁇ m.
  • the surface of the substrate may be subjected to a physical treatment such as corona discharge treatment or a chemical treatment, or an easy-adhesion layer may be formed.
  • the substrate preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 of 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more.
  • the low refractive index layer is preferably located on the surface of the antireflection member.
  • the low refractive index layer is required to contain a binder component, hollow particles and solid particles.
  • the low refractive index layer contains, as the solid particles, solid particles ⁇ whose particle diameter exceeds the average particle diameter of the hollow particles, and in an image of a vertical cross section of the antireflection member captured with a scanning transmission electron microscope, the average number of the solid particles ⁇ per ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer is required to be 0.7 or more and 8.0 or less.
  • the average number of solid particles ⁇ is measured by the following steps 1 to 3.
  • Step 1 An image of a vertical cross section of the anti-reflective material is taken using a scanning transmission electron microscope.
  • the term "vertical cross section of an antireflection member” refers to a cross section perpendicular to the XY plane when the surface of the antireflection member is assumed to be the XY plane.
  • the acceleration voltage of the scanning transmission electron microscope (STEM) is adjusted to be in the range of 0.5 kV to 30 kV, and the emission current is adjusted to be in the range of 1 uA to 20 uA.
  • step 1 an image of the vertical cross section of the anti-reflection member is taken by preparing a slice sample in which the vertical cross section of the anti-reflection member is exposed, and using the sample.
  • Step 2 Count the number of solid particles whose particle diameter exceeds the average particle diameter of the hollow particles from the image captured in step 1. Divide the number of counted particles by 2.54 ⁇ m, which is the width of the image, to calculate the number of solid particles ⁇ per ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer. In the image captured in step 1, solid particles are observed to be entirely filled with a dark, blackish color. That is, in the image captured in step 1, particles filled with a dark color correspond to solid particles.
  • step 2 the number of solid particles whose particle diameter exceeds the average particle diameter of the hollow particles is counted.
  • step 2 the number of solid particles whose particle diameter is equal to or smaller than the average particle diameter of the hollow particles is not counted. For this reason, it is necessary to calculate the average particle diameter of the hollow particles before step 2. The method for calculating the average particle diameter of the hollow particles will be described later.
  • the particle size of each solid particle means the maximum size of each solid particle.
  • the maximum particle diameter of each solid particle means the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the solid particle is sandwiched between the two lines. The maximum particle diameter of each solid particle is calculated based on the image captured in step 1.
  • Step 3 Using steps 1 and 2, calculate the "number of solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer" in one arbitrary measurement area of the anti-reflection member. Furthermore, perform steps 1 and 2 in another 9 locations on the anti-reflection member to calculate the number at a total of 10 locations. Then, of the 10 numbers, the average of the numbers at 8 locations excluding the maximum and minimum values is defined as the "average number of solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer" of this disclosure.
  • the 10 measurement locations are randomly selected from locations that are visually free of abnormalities such as dust or scratches.
  • the solid particles ⁇ are solid particles whose particle diameter exceeds the average particle diameter of the hollow particles.
  • the particle diameter of the solid particles is usually set to be equal to or smaller than the average particle diameter of the hollow particles in order to lower the refractive index of the low refractive index layer.
  • hollow particles are weaker in strength than solid particles. And solid particles with small particle diameters cannot fully compensate for the lack of strength of the hollow particles. Therefore, in the present disclosure, solid particles ⁇ whose particle diameter exceeds the average particle diameter of the hollow particles are added as solid particles to the low refractive index layer.
  • the inventors have found through their investigations that the scratch resistance of the antireflection member cannot be improved simply by adding solid particles ⁇ to the low refractive index layer.
  • the surface unevenness of the low refractive index layer becomes large, or the binding ability of particles such as solid particles and hollow particles to the binder component decreases. If the surface unevenness of the low refractive index layer becomes large, when the surface of the low refractive index layer is rubbed with a rubbing object such as a cloth, the rubbing object is likely to be caught by the unevenness, so that the vicinity of the unevenness is likely to be loaded. As a result, defects and scratches are likely to occur near the unevenness.
  • the binding ability of the particles to the binder component decreases, the particles are likely to fall off, so that defects and scratches are likely to occur due to rubbing. Therefore, if the average number of solid particles ⁇ is too large, the scratch resistance cannot be improved. In addition, if the average number of solid particles ⁇ is too large, the bending resistance decreases, making it difficult to apply to a foldable image display device. Next, if the average number of solid particles ⁇ is too small, the load on the hollow particles with weak strength cannot be suppressed, and the scratch resistance cannot be improved. If the average number of solid particles ⁇ is too small, the scratch resistance, especially against soft objects such as fingers and cloth, tends to be poor. In addition, the foldable image display device has a hinge at the folding part.
  • the hinge may be arranged such that all or a part of it is exposed on the surface of the foldable image display device.
  • the hinge contacts the antireflection member in a state close to point contact (while the finger and cloth contact the antireflection member in surface contact). For this reason, in order to suppress scratches on the antireflection member against the hinge, it is preferable to include a predetermined number or more of solid particles ⁇ in a narrow width of 1 ⁇ m.
  • the present inventors have found that scratch resistance can be improved by setting the average number of solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer to 0.7 or more and 8.0 or less.
  • the lower limit of the average number of solid particles ⁇ is preferably 0.8 or more, more preferably 1.0 or more, and the upper limit is preferably 7.0 or less, more preferably 5.0 or less.
  • Preferred embodiments of the average range of the number of solid particles ⁇ include 0.7 to 8.0, 0.7 to 7.0, 0.7 to 5.0, 0.8 to 8.0, 0.8 to 7.0, 0.8 to 5.0, 1.0 to 8.0, 1.0 to 7.0, and 1.0 to 5.0.
  • the average number of the solid particles ⁇ can be adjusted by the content ratio of the solid particles ⁇ and the dispersion of the solid particles ⁇ .
  • the standard deviation ⁇ of the number of the solid particles ⁇ is preferably 0.31 or more and 0.80 or less, more preferably 0.35 or more and 0.60 or less, and even more preferably 0.40 or more and 0.55 or less.
  • the standard deviation ⁇ means a value calculated from the numbers at 8 locations excluding the maximum and minimum values among the numbers at 10 locations in the steps 1 to 4. The smaller the standard deviation ⁇ , the smaller the variation in the number of solid particles ⁇ at each measurement location.
  • measurements of the average number of solid particles ⁇ , as well as other measurements such as surface roughness and haze, are taken at a temperature of 23 ⁇ 5°C and a relative humidity of 40% to 65%. Before starting each measurement, the target sample is exposed to the above atmosphere for 30 minutes to 60 minutes before the measurement is performed.
  • Hollow particles The low refractive index layer of the present disclosure is required to contain hollow particles.
  • a hollow particle is a particle having an outer shell layer, a cavity surrounded by the outer shell layer, and air contained within the cavity.
  • a hollow particle is a particle whose refractive index decreases in proportion to the porosity.
  • the material of the outer shell layer of the hollow particles may be either an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride, or an organic compound, but silica is preferred from the viewpoint of low refractive index and strength.
  • the low refractive index layer preferably contains hollow silica particles as the hollow particles.
  • the average particle size of the hollow particles is preferably 40 nm or more, more preferably 45 nm or more, and even more preferably 50 nm or more, in order to easily lower the refractive index of the low refractive index layer.
  • the average particle size of the hollow particles is preferably 100 nm or less, more preferably 90 nm or less, and even more preferably 80 nm or less, in order to easily improve the scratch resistance.
  • Preferred embodiments of the average particle diameter of the hollow particles include 40 nm or more and 100 nm or less, 40 nm or more and 90 nm or less, 40 nm or more and 80 nm or less, 45 nm or more and 100 nm or less, 45 nm or more and 90 nm or less, 45 nm or more and 80 nm or less, 50 nm or more and 100 nm or less, 50 nm or more and 90 nm or less, and 50 nm or more and 80 nm or less.
  • the average particle size of the hollow particles is calculated by the following steps B1 to B3.
  • B1 In the ten measurement regions in steps 1 to 3, five hollow particles are extracted from each measurement region, thereby extracting a total of 50 hollow particles.
  • the hollow particles In the image captured in step 1, the hollow particles are observed with only the outer shell of the particle being a dark black color, and the inside being a lighter color than the outer shell. Therefore, particles in which the outer shell observed in a dark black color covers the entire periphery of the lighter colored inside are extracted as hollow particles. In this work, only particles whose entire image is captured are subject to extraction.
  • B2 Calculate the particle diameter of each hollow particle from the image.
  • the particle diameter of each hollow particle is defined as the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the hollow particle is sandwiched between the two lines.
  • B3 The average particle size of 50 hollow particles is defined as the average particle size of the hollow particles of the present disclosure.
  • the lower limit of the porosity of the hollow particles is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 20% or more, from the viewpoint of reducing the refractive index, and the upper limit is preferably 80% or less, more preferably 70% or less, and even more preferably 60% or less, from the viewpoint of strength.
  • the porosity of the hollow particles is calculated according to the following C1 to C3.
  • C1 The cross section of a hollow particle is examined by SEM to measure the diameter and the thickness of the outer shell excluding the void portion.
  • C2 Assuming that the hollow particles are spheres, the volume of the void portion of the hollow particles and the volume of the hollow particles when there is no void portion are calculated.
  • C3 The porosity is calculated from ⁇ (volume of void portion of hollow particle)/(volume of hollow particle without void portion) ⁇ x 100. The average of the porosities of 50 hollow particles is defined as the porosity of the hollow particle in this specification.
  • Preferred embodiments of the porosity range of the hollow particles include 5% or more and 80% or less, 5% or more and 70% or less, 5% or more and 60% or less, 10% or more and 80% or less, 10% or more and 70% or less, 10% or more and 60% or less, 20% or more and 80% or less, 20% or more and 70% or less, and 20% or more and 60% or less.
  • the content of hollow particles is preferably 3% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 4% by mass or more and 30% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or more and 20% by mass or less, relative to the total solid content of the low refractive index layer.
  • hollow particle content relative to the total solid content of the low refractive index layer include 3% by mass or more and 30% by mass or less, 3% by mass or more and 20% by mass or less, 4% by mass or more and 40% by mass or less, 4% by mass or more and 20% by mass or less, 5% by mass or more and 40% by mass or less, and 5% by mass or more and 30% by mass or less.
  • the surfaces of the hollow particles, solid particles ⁇ , solid particles ⁇ , and the like are preferably coated with a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent is preferably one having a (meth)acryloyl group or an epoxy group, and more preferably one having a methacryloyl group.
  • the low refractive index layer is required to contain solid particles ⁇ whose particle size exceeds the average particle size of the hollow particles.
  • the material of the solid particles ⁇ is preferably an inorganic compound such as silica or magnesium fluoride, and more preferably silica, i.e., the solid particles ⁇ are preferably solid silica particles.
  • the solid particles ⁇ have an average particle size of preferably 50 nm or more, more preferably 55 nm or more, and even more preferably 60 nm or more in order to improve scratch resistance.
  • the solid particles ⁇ have an average particle size of preferably 150 nm or less, more preferably 130 nm or less, and even more preferably 110 nm or less in order to easily lower the refractive index of the low refractive index layer and to easily improve scratch resistance.
  • Preferred embodiments of the average particle size of the solid particles ⁇ include 50 nm or more and 150 nm or less, 50 nm or more and 130 nm or less, 50 nm or more and 110 nm or less, 55 nm or more and 150 nm or less, 55 nm or more and 130 nm or less, 55 nm or more and 110 nm or less, 60 nm or more and 150 nm or less, 60 nm or more and 130 nm or less, and 60 nm or more and 110 nm or less.
  • the average particle size of the solid particles ⁇ means the average particle size of the particles extracted as the solid particles ⁇ in the above steps 1 to 3. When calculating the average particle size of the solid particles ⁇ , only particles that are entirely captured are extracted. Particles that are partially cut off at the edge of the image, particles that are not entirely captured because they overlap, etc. are excluded from the extraction targets.
  • D2/D1 is preferably more than 1.0 and not more than 3.8, more preferably 1.1 or more and not more than 3.2, and even more preferably 1.2 or more and not more than 2.5.
  • D2/D1 is preferably more than 1.0 and less than 3.2, greater than 1.0 and less than 2.5, 1.1 or more and less than 3.8, 1.1 or more and less than 2.5, 1.2 or more and less than 3.8, and 1.2 or more and less than 3.2.
  • the content of the solid particles ⁇ is preferably 10.0% by mass or more, more preferably 15.0% by mass or more, and even more preferably 20.0% by mass or more, based on the total solid content of the low refractive index layer.
  • the content of the solid particles ⁇ is preferably 50.0 mass % or less, more preferably 45.5 mass % or less, and even more preferably 40.0 mass % or less, based on the total solid content of the low refractive index layer.
  • Preferred embodiments of the content ratio of the solid particles ⁇ relative to the total solid content of the low refractive index layer include 10.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, 10.0 mass% or more and 45.5 mass% or less, 10.0 mass% or more and 40.0 mass% or less, 15.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, 15.0 mass% or more and 45.5 mass% or less, 15.0 mass% or more and 40.0 mass% or less, 20.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, 20.0 mass% or more and 45.5 mass% or less, and 20.0 mass% or more and 40.0 mass% or less.
  • the low refractive index layer preferably further contains, as the solid particles, solid particles ⁇ having a particle size equal to or smaller than the average particle size of the hollow particles.
  • the solid particles ⁇ are preferably one or more types of solid particles selected from solid silica particles, solid alumina particles, solid titania particles, and solid zirconia particles. Among these, it is preferable to include solid silica particles, and it is preferable to include solid silica particles and solid alumina particles.
  • the average particle size of the solid particles ⁇ is preferably 5 nm or more, more preferably 7 nm or more, and even more preferably 10 nm or more in order to facilitate better scratch resistance.
  • the average particle size of the solid particles ⁇ is preferably 50 nm or less, more preferably 45 nm or less, and even more preferably 40 nm or less in order to facilitate lowering the refractive index of the low refractive index layer.
  • Preferred embodiments of the average particle diameter of the solid particles ⁇ include 5 nm or more and 50 nm or less, 5 nm or more and 45 nm or less, 5 nm or more and 40 nm or less, 7 nm or more and 50 nm or less, 7 nm or more and 45 nm or less, 7 nm or more and 40 nm or less, 10 nm or more and 50 nm or less, 10 nm or more and 45 nm or less, and 10 nm or more and 40 nm or less.
  • the average particle size of the solid particles ⁇ is calculated by the following steps D1 to D3.
  • D1 The cross section of the antireflection member is photographed with a SEM. The acceleration voltage of the SEM is adjusted to be in the range of 10 kV to 30 kV, and the magnification is adjusted to be in the range of 50,000 times to 300,000 times.
  • D2 Extract 10 arbitrary solid particles ⁇ from the observed image, and calculate the particle diameter of each solid particle ⁇ . The particle diameter is measured as the distance between two arbitrary parallel lines that maximize the distance between the two lines when the cross section of the solid particle ⁇ is sandwiched between the two lines. In this work, only particles that are entirely captured are extracted.
  • the content of the solid particles ⁇ is preferably 5.0 mass% or more and 40.0 mass% or less, more preferably 10.0 mass% or more and 30.0 mass% or less, and even more preferably 15.0 mass% or more and 20.0 mass% or less, relative to the total solid content of the low refractive index layer.
  • Other preferred ranges of the content ratio of the solid particles ⁇ relative to the total solid content of the low refractive index layer include 5.0% by mass or more and 30.0% by mass or less, 5.0% by mass or more and 20.0% by mass or less, 10.0% by mass or more and 40.0% by mass or less, 10.0% by mass or more and 20.0% by mass or less, 15.0% by mass or more and 40.0% by mass or less, and 15.0% by mass or more and 30.0% by mass or less.
  • the lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 or more, more preferably 1.20 or more, more preferably 1.26 or more, more preferably 1.28 or more, and more preferably 1.30 or more, and the upper limit is preferably 1.48 or less, more preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less, more preferably 1.38 or less, and more preferably 1.35 or less.
  • the refractive indexes of the low refractive index layer and the high refractive index layer refer to values at a wavelength of 589.3 nm.
  • Preferred embodiments of the refractive index of the low refractive index layer include 1.10 to 1.48, 1.10 to 1.45, 1.10 to 1.40, 1.10 to 1.38, 1.10 to 1.35, 1.20 to 1.48, 1.20 to 1.45, 1.20 to 1.40, 1.20 to 1.38, 1.20 to 1.35, 1.26 to 1.48, 1.26 to 1.45
  • Examples of the lower limit include 1.26 or more and 1.40 or less, 1.26 or more and 1.38 or less, 1.26 or more and 1.35 or less, 1.28 or more and 1.48 or less, 1.28 or more and 1.45 or less, 1.28 or more and 1.40 or less, 1.28 or more and 1.38 or less, 1.28 or more and 1.35 or less, 1.30 or more and 1.48 or less, 1.30 or more and 1.45 or less, 1.30 or more and 1.40 or less, 1.30 or more and 1.38 or less, and 1.30 or more and 1.35 or less.
  • the binder component is a component that enables the low refractive index layer to be formed as a layer, and also plays a role as a binding agent that holds the hollow particles together.
  • the low refractive index layer preferably contains a cured product of a curable resin composition as a binder component.
  • the curable resin composition is a composition containing a curable compound such as a thermosetting resin or an ionizing radiation curable compound.
  • the ratio of the cured product of the curable resin composition to the total binder components in the low refractive index layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and most preferably 100% by mass.
  • the curable resin composition of the low refractive index layer may be a heat curable resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and the ionizing radiation curable resin composition is preferred. That is, the low refractive index layer preferably contains a cured product of the ionizing radiation curable resin composition as a binder component.
  • the thermosetting resin composition is a composition that contains at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating.
  • the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin, etc.
  • a curing agent is added to the curable resin as required.
  • the ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter also referred to as "ionizing radiation curable compound").
  • Ionizing radiation means electromagnetic waves or charged particle beams having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually ultraviolet rays (UV) or electron beams (EB) are used.
  • UV ultraviolet rays
  • EB electron beams
  • electromagnetic waves such as X-rays and ⁇ -rays
  • charged particle beams such as ⁇ -rays and ion beams can also be used.
  • the ionizing radiation curable functional group examples include ethylenically unsaturated bond groups such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and aryl groups, as well as epoxy groups, oxetanyl groups, and the like. It is preferable that the ionizing radiation curable compound has two or more ionizing radiation curable functional groups.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferred.
  • a (meth)acrylate-based compound having a (meth)acryloyl group is more preferred.
  • the (meth)acrylate-based compound either a monomer or an oligomer can be used.
  • a polyfunctional (meth)acrylate-based compound is preferred.
  • a polyfunctional (meth)acrylate-based compound means a compound having two or more (meth)acryloyl groups.
  • the "polysilsesquioxane substituted with one or more reactive groups" described later is to be distinguished from the "(meth)acrylate-based compound".
  • the "(meth)acrylate-based compound” is a concept that does not include the "polysilsesquioxane substituted with one or more reactive groups”.
  • the ionizing radiation curable compound preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate compound.
  • the low refractive index layer preferably contains a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate compound as a binder component.
  • the polyfunctional (meth)acrylate compound may be either a monomer or an oligomer, but preferably contains a monomer, because a monomer is more likely to uniformly arrange particles such as the solid particles ⁇ than an oligomer.
  • polyfunctional (meth)acrylate monomers include pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol di(meth)acrylate.
  • the ionizing radiation curable compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the coating liquid for the low refractive index layer preferably contains additives such as a photopolymerization initiator and a photopolymerization accelerator.
  • the photopolymerization initiator may be one or more selected from acetophenone, benzophenone, ⁇ -hydroxyalkylphenone, Michler's ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, ⁇ -acyloxime ester, ⁇ -aminoalkylphenone, thioxanthones, and the like.
  • the photopolymerization accelerator can reduce polymerization inhibition caused by air during curing and increase the curing speed, and examples thereof include one or more types selected from p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and the like.
  • the low refractive index layer preferably contains a cured product of polysilsesquioxane as a binder component.
  • the scratch resistance of the low refractive index layer can be improved.
  • the cured product of polysilsesquioxane is likely to improve the toughness of not only the surface of the layer but also the entire layer, so it is considered that the scratch resistance of the low refractive index layer can be improved.
  • the cured product of polysilsesquioxane has good adhesion to silica, so it is considered that the scratch resistance of the low refractive index layer can be improved.
  • the binder component contains a cured product of a polyfunctional (meth)acrylate compound and a cured product of polysilsesquioxane.
  • the mass ratio of the polyfunctional (meth)acrylate compound to the polysilsesquioxane is preferably 50:50 to 10:90, more preferably 40:60 to 15:85, and even more preferably 35:65 to 20:80.
  • Polysilsesquioxane is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1).
  • R represents an organic group. Examples of the organic group include an organic group having a reactive group, which will be described later.
  • the number of the following structural units is preferably 4 or more and 30 or less. [RSiO 1.5 ] (1)
  • Polysilsesquioxane structures include random structures, ladder structures, and cage structures. Among these, the cage structure is preferred.
  • polysilsesquioxane it is preferable that at least one or more silicon atoms in the structural unit are substituted with a reactive group.
  • Polysilsesquioxane substituted with one or more reactive groups is more likely to react with the leveling agent described below, making it easier to fix the leveling agent in the low refractive index layer. For this reason, polysilsesquioxane substituted with one or more reactive groups can easily maintain good scratch resistance and the like for a long period of time.
  • polysilsesquioxane substituted with one or more reactive groups can easily reduce the proportion of siloxane bonds exposed on the surface side of the low refractive index layer, making it easier to improve chemical resistance.
  • Examples of the reactive group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and an epoxy group. Among these, a (meth)acryloyl group is preferred. More specific examples of the reactive group include (meth)acrylate, alkyl (meth)acrylate having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl epoxide having 3 to 20 carbon atoms, and alkyl cycloalkane epoxide having 1 to 10 carbon atoms.
  • the functional group equivalent (g/eq) of the reactive group of the polysilsesquioxane is preferably 50 to 1000, more preferably 100 to 500.
  • polysilsesquioxane at least one of the silicon atoms of the structural unit is substituted with a reactive group, and at least one of the silicon atoms of the structural unit may be substituted with a non-reactive group.Such polysilsesquioxane can easily reduce the proportion of siloxane bonds exposed on the surface side of the low refractive index layer, so that chemical resistance can be easily improved.In addition, polysilsesquioxane substituted with a non-reactive group can easily suppress polymerization shrinkage of the low refractive index layer.
  • non-reactive group examples include a linear or branched alkyl group having from 1 to 20 carbon atoms, a cyclohexyl group having from 6 to 20 carbon atoms, and an aryl group having from 6 to 20 carbon atoms.
  • the weight average molecular weight of the polysilsesquioxane is preferably 5,000 or less, more preferably 4,000 or less, and even more preferably 3,000 or less, in order to improve the dispersibility of particles such as hollow particles and solid particles ⁇ .
  • the weight average molecular weight of the polysilsesquioxane is preferably 800 or more, more preferably 900 or more, and even more preferably 1,000 or more, in order to increase the binding strength and storage modulus.
  • the low refractive index layer preferably contains a leveling agent.
  • the leveling agent is preferably a leveling agent having a reactive group in order to easily exert the above-mentioned action.
  • the reactive group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and an epoxy group. Among these, a (meth)acryloyl group is preferable.
  • Leveling agents include silicone-based leveling agents and fluorine-based leveling agents. Silicone-based leveling agents may contain a small amount of fluorine atoms. Fluorine-based leveling agents may contain a small amount of silicon atoms.
  • the leveling agent can improve the slipperiness of the low refractive index layer surface, but if the content ratio is too large, the coating strength may decrease and the scratch resistance may decrease.
  • the content ratio of the leveling agent is preferably 5.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, more preferably 10.0 mass% or more and 40.0 mass% or less, and even more preferably 15.0 mass% or more and 30.0 mass% or less, based on the total solid content of the low refractive index layer.
  • Other preferred ranges of the content ratio of the leveling agent relative to the total solid content of the low refractive index layer include 5.0 mass% or more and 40.0 mass% or less, 5.0 mass% or more and 30.0 mass% or less, 10.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, 10.0 mass% or more and 30.0 mass% or less, 15.0 mass% or more and 50.0 mass% or less, and 15.0 mass% or more and 40.0 mass% or less.
  • the low refractive index layer may further contain additives such as antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants, light stabilizers, and ultraviolet absorbers.
  • the lower limit of the thickness T of the low refractive index layer is preferably 60 nm or more, more preferably 75 nm or more, and more preferably 90 nm or more, and the upper limit is preferably 150 nm or less, more preferably 115 nm or less, and more preferably 105 nm or less.
  • Preferred embodiments of the thickness T of the low refractive index layer include 60 nm or more and 150 nm or less, 60 nm or more and 115 nm or less, 60 nm or more and 105 nm or less, 75 nm or more and 150 nm or less, 75 nm or more and 115 nm or less, 75 nm or more and 105 nm or less, 90 nm or more and 150 nm or less, 90 nm or more and 115 nm or less, and 90 nm or more and 105 nm or less.
  • the thicknesses of the low refractive index layer, the high refractive index layer and the hard coat layer are calculated by averaging the thicknesses at any 20 points selected from a cross-sectional image of the antireflection member taken by a scanning transmission electron microscope.
  • D1/T is preferably 0.2 or more and 1.7 or less, more preferably 0.4 or more and 1.2 or less, and even more preferably 0.5 or more and 0.9 or less.
  • D1/T is preferably 0.2 or more and 1.2 or less, 0.2 or more and 0.9 or less, 0.4 or more and 1.7 or less, 0.4 or more and 0.9 or less, 0.5 or more and 1.7 or less, and 0.5 or more and 1.2 or less.
  • D2/T is preferably 0.3 or more and 2.5 or less, more preferably 0.5 or more and 1.7 or less, and even more preferably 0.6 or more and 1.2 or less.
  • Other preferred ranges of D2/T include 0.3 or more and 1.7 or less, 0.3 or more and 1.2 or less, 0.5 or more and 2.5 or less, 0.5 or more and 1.2 or less, 0.6 or more and 2.5 or less, and 0.6 or more and 1.7 or less.
  • the low refractive index layer can be formed by applying a coating liquid for the low refractive index layer, which contains the components constituting the low refractive index layer and a solvent, drying it, and curing it by irradiating it with ionizing radiation as necessary.
  • solvent examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, etc.; ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, etc.; aliphatic hydrocarbons such as hexane, etc.; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, etc.; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, etc.; halogenated carbons such as dichloromethane and dichloroethane, etc.; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.; alcohols such as isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, glycol ethers such as propylene glycol monomethyl
  • the antireflection member of the present disclosure preferably has one or more functional layers between the substrate and the low refractive index layer.
  • the functional layer include a hard coat layer, a high refractive index layer, a conductive layer, and an antistatic layer.
  • the antireflection member of the present disclosure preferably has a hard coat layer between the substrate and the low refractive index layer.
  • the antireflection member can easily have good scratch resistance.
  • the functional layer has a substrate, a hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order.
  • the hard coat layer preferably contains, as a main component, a cured product of a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and more preferably contains, as a main component, a cured product of an ionizing radiation curable resin composition.
  • the main component means that the resin component constituting the hard coat layer accounts for 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more.
  • the curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, include the same ones as those exemplified for the low refractive index layer.
  • the ionizing radiation curable compound used in the hard coat layer preferably contains a polyfunctional (meth)acrylate compound.
  • the thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 1 ⁇ m or more, and is preferably 30 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, in terms of the upper limit.
  • Preferred embodiments of the thickness of the hard coat layer include 0.5 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, 0.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, and 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the hard coat layer may further contain additives such as a leveling agent, an antistatic agent, an antioxidant, a surfactant, a dispersant, a light stabilizer, and an ultraviolet absorber.
  • additives such as a leveling agent, an antistatic agent, an antioxidant, a surfactant, a dispersant, a light stabilizer, and an ultraviolet absorber.
  • the high refractive index layer can be formed from a coating liquid for the high refractive index layer containing, for example, a binder resin composition and high refractive index particles. That is, the high refractive index layer preferably contains a binder component and high refractive index particles.
  • the binder component of the high refractive index layer preferably contains a cured product of a curable resin composition.
  • the ratio of the cured product of the curable resin composition to the total binder components of the high refractive index layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and most preferably 100% by mass.
  • the curable resin composition of the high refractive index layer includes a heat curable resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and the ionizing radiation curable resin composition is preferred.
  • the curable resin composition such as a heat curable resin composition or an ionizing radiation curable resin composition may be the same as those exemplified for the low refractive index layer.
  • the ionizing radiation curable compound used in the high refractive index layer preferably includes a polyfunctional (meth)acrylate compound.
  • High refractive index particles include antimony pentoxide, zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, yttrium oxide, and zirconium oxide.
  • the average particle size of the high refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 10 nm or more. From the viewpoints of whitening suppression and transparency, the average particle size of the high refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and even more preferably 30 nm or less.
  • Preferred embodiments of the average particle size of the high refractive index particles include 2 nm or more and 200 nm or less, 2 nm or more and 100 nm or less, 2 nm or more and 80 nm or less, 2 nm or more and 60 nm or less, 2 nm or more and 30 nm or less, 5 nm or more and 200 nm or less, 5 nm or more and 100 nm or less, 5 nm or more and 80 nm or less, 5 nm or more and 60 nm or less, 5 nm or more and 30 nm or less, 10 nm or more and 200 nm or less, 10 nm or more and 100 nm or less, 10 nm or more and 80 nm or less, 10 nm or more and 60 nm or less, and 10 nm or more and 30 nm or less.
  • the average particle size of the highly refractive particles is calculated by the following steps E1 to E3.
  • E1 The cross section of the antireflection member is photographed with a SEM. The acceleration voltage of the SEM is adjusted to be in the range of 10 kV to 30 kV, and the magnification is adjusted to be in the range of 50,000 times to 300,000 times.
  • E2 10 highly refractive particles are randomly selected from the observed image, and the particle diameter of each highly refractive particle is calculated. The particle diameter is measured as the distance between two parallel lines that is the maximum distance between the two lines when the cross section of the highly refractive particle is sandwiched between the two parallel lines.
  • E3 The same procedure is carried out five times on a separate observation image of the same sample, and the value obtained from the number average of the particle diameters of a total of 50 particles is regarded as the average particle diameter of the highly refractive particles.
  • the content of the high refractive index particles, relative to 100 parts by mass of the binder component is preferably 100 parts by mass or more, more preferably 150 parts by mass or more, and even more preferably 250 parts by mass or more, and is preferably 500 parts by mass or less, more preferably 400 parts by mass or less, and even more preferably 350 parts by mass or less, with respect to the upper limit.
  • Preferred embodiments of the content of high refractive index particles per 100 parts by mass of the binder component include 100 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, 100 parts by mass or more and 400 parts by mass or less, 100 parts by mass or more and 350 parts by mass or less, 150 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, 150 parts by mass or more and 400 parts by mass or less, 150 parts by mass or more and 350 parts by mass or less, 250 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, 250 parts by mass or more and 400 parts by mass or less, and 250 parts by mass or more and 350 parts by mass or less.
  • the lower limit of the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, more preferably 1.55 or more, and more preferably 1.56 or more, and the upper limit is preferably 1.85 or less, more preferably 1.80 or less, more preferably 1.78 or less, and more preferably 1.77 or less.
  • Preferred embodiments of the refractive index of the high refractive index layer include 1.53 or more and 1.85 or less, 1.53 or more and 1.80 or less, 1.53 or more and 1.78 or less, 1.53 or more and 1.77 or less, 1.54 or more and 1.85 or less, 1.54 or more and 1.80 or less, 1.54 or more and 1.78 or less, 1.54 or more and 1.77 or less, 1.55 or more and 1.85 or less, 1.55 or more and 1.80 or less, 1.55 or more and 1.78 or less, 1.55 or more and 1.77 or less, 1.56 or more and 1.85 or less, 1.56 or more and 1.80 or less, 1.56 or more and 1.78 or less, and 1.56 or more and 1.77 or less.
  • the upper limit of the thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 185 nm or less, and even more preferably 175 nm or less, and the lower limit is preferably 50 nm or more, and more preferably 70 nm or more.
  • Preferred embodiments of the thickness range of the high refractive index layer include 50 nm or more and 200 nm or less, 50 nm or more and 185 nm or less, 50 nm or more and 175 nm or less, 70 nm or more and 200 nm or less, 70 nm or more and 185 nm or less, and 70 nm or more and 175 nm or less.
  • the high refractive index layer may further contain additives such as a leveling agent, an antistatic agent, an antioxidant, a surfactant, a dispersant, a light stabilizer, and an ultraviolet absorber.
  • additives such as a leveling agent, an antistatic agent, an antioxidant, a surfactant, a dispersant, a light stabilizer, and an ultraviolet absorber.
  • the surface of the antireflection member on the low refractive index layer side preferably has an arithmetic mean roughness Ra of 2.0 nm or more and 15.0 nm or less, more preferably 3.5 nm or more and 14.5 nm or less, and even more preferably 5.0 nm or more and 14.0 nm or less.
  • Ra is less than 2.0 nm, the average number of solid particles ⁇ may be too small, whereas when Ra exceeds 15.0 nm, the average number of solid particles ⁇ may be too large.
  • Ra means an average value of measurements at 10 points. In this specification, Ra is measured in accordance with JIS B0601:2013.
  • the antireflection member preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 of 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 85% or more.
  • the light incident surface when measuring the total light transmittance and the haze described later is the surface opposite to the low refractive index layer side.
  • the total light transmittance, haze and luminous reflectance Y value refer to the average values of measurements taken at 10 points.
  • the antireflection member preferably has a haze of 1.5% or less, more preferably 1.3% or less, and even more preferably 1.0% or less according to JIS K7136:2000. By making the haze 1.5% or less, it is easy to improve the resolution of the image.
  • the lower limit of the haze is not particularly limited, but is usually 0.1% or more. Preferred embodiments of the haze range of the antireflection member include 0.1% to 1.5%, 0.1% to 1.3%, and 0.1% to 1.0%.
  • the antireflection member of the present disclosure preferably has a luminous reflectance Y value measured at a light incidence angle of 5 degrees from the low refractive index layer side of 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, still more preferably 2.0% or less, and still more preferably 1.5% or less.
  • the luminous reflectance Y value is measured by preparing a sample by bonding a black plate to the substrate side surface of the antireflection member via a transparent adhesive layer, and irradiating light from the low refractive index layer side of the sample at an incident angle of 5°.
  • the light source condition for calculating the reflectance is D65 light source.
  • the refractive index difference between the member in contact with the transparent adhesive layer of the sample and the transparent adhesive layer is within 0.15.
  • the refractive index difference is preferably within 0.10, more preferably within 0.05.
  • the member in contact with the transparent adhesive layer of the sample is, for example, a substrate.
  • the black plate has a total light transmittance of 1% or less according to JIS K7361-1:1997.
  • the total light transmittance of the black plate is preferably 0%.
  • the refractive index difference between the resin constituting the black plate and the transparent adhesive layer is within 0.15.
  • the refractive index difference is preferably within 0.10, more preferably within 0.05.
  • the sample is also used in the SCE measurement described below.
  • the antireflection member of the present disclosure has a reflectance measured by the SCE method from the low refractive index layer side of preferably 0.50% or less, more preferably 0.40% or less, more preferably 0.30% or less, and still more preferably 0.25% or less.
  • SCE is an abbreviation for Specular Component Exclude, and refers to reflected light from which components that are specular reflections from a sample are excluded from the reflected light received.
  • the SCE is measured with the low refractive index layer side of the sample as the light incident surface.
  • the SCE measurement device is configured in accordance with geometric condition c of JIS Z8722:2009.
  • ⁇ JIS Z8722:2009 Geometric Condition c> The sample is illuminated evenly from all directions, and the reflected light is received in a direction that makes an angle of 10° or less with the normal to the sample surface. In this case, the received light beam must not contain any light rays that are inclined at 5° or more with respect to the center line.
  • the light trap used to remove the specular reflection component removes at least 95% of the specular reflection from a smooth mirror surface.
  • the antireflection member may be in the form of a sheet cut to a predetermined size, or in the form of a roll obtained by winding a long sheet into a roll.
  • the size of the sheet is not particularly limited, but the maximum diameter is about 2 inches to 500 inches.
  • the "maximum diameter” means the maximum length when any two points on the antireflection member are connected.
  • the antireflection member is rectangular, the diagonal line of the rectangle is the maximum diameter.
  • the antireflection member is circular, the diameter of the circle is the maximum diameter.
  • the width and length of the roll are not particularly limited, but generally, the width is about 500 mm to 3000 mm, and the length is about 50 m to 5000 m.
  • the antireflection member in the form of a roll can be cut into sheets according to the size of an image display device or the like. When cutting, it is preferable to remove the ends of the roll, which have unstable physical properties.
  • the shape of the sheet is not particularly limited, and may be, for example, a polygon such as a triangle, a rectangle, or a pentagon, a circle, or a random, indefinite shape. More specifically, when the anti-reflection member is rectangular, the aspect ratio is not particularly limited as long as it does not cause any problems as a display screen. For example, the aspect ratio may be 1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1, etc.
  • the polarizing plate of the present disclosure has a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, wherein either the first transparent protective plate or the second transparent protective plate is the anti-reflection member of the present disclosure described above, and the anti-reflection member is arranged so that the surface facing the low refractive index layer faces the opposite side to the polarizer.
  • the polarizing plate is used, for example, in combination with a ⁇ /4 retardation plate to impart anti-reflection properties.
  • the ⁇ /4 retardation plate is disposed on a display element of an image display device, and the polarizing plate is disposed closer to the viewer than the ⁇ /4 retardation plate.
  • the polarizing plate is used to provide a liquid crystal shutter function.
  • the liquid crystal display device is arranged in the order of the lower polarizing plate, the liquid crystal display element, and the upper polarizing plate from the backlight side, and the absorption axis of the polarizer of the lower polarizing plate and the absorption axis of the polarizer of the upper polarizing plate are arranged perpendicular to each other.
  • the polarizing plate of the present disclosure can be used as the upper polarizing plate and the lower polarizing plate, and it is preferable to use the polarizing plate of the present disclosure as the upper polarizing plate.
  • the antireflection member of the present disclosure it is preferable to use the antireflection member of the present disclosure as the transparent protective plate on the light exit surface side of the polarizer.
  • the antireflection member of the present disclosure it is preferable to use the antireflection member of the present disclosure as the transparent protective plate on the light entrance surface side of the polarizer.
  • the polarizing plate of the present disclosure includes the above-mentioned antireflection member of the present disclosure as at least one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate.
  • both the first transparent protective plate and the second transparent protective plate include the above-mentioned antireflection member of the present disclosure.
  • the other transparent protective plate is preferably an optically isotropic transparent protective plate.
  • optical isotropy refers to an in-plane retardation of 20 nm or less, preferably 10 nm or less, and more preferably 5 nm or less.
  • Acrylic films and triacetyl cellulose (TAC) films are easily imparted with optical isotropy.
  • TAC triacetyl cellulose
  • the polarizer examples include sheet-type polarizers such as polyvinyl alcohol films, polyvinyl formal films, polyvinyl acetal films, and saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films that are dyed with iodine or the like and stretched; wire-grid-type polarizers made of a large number of metal wires arranged in parallel; coating-type polarizers coated with lyotropic liquid crystal or a dichroic guest-host material; multilayer thin-film-type polarizers; etc.
  • These polarizers may be reflective polarizers that have the function of reflecting polarized components that are not transmitted.
  • the panel of the present disclosure is a panel having a display element and an optical film arranged on the light output surface side of the display element, the optical film including the anti-reflection member of the present disclosure described above, the surface of the anti-reflection member on the low refractive index layer side facing away from the display element, and the anti-reflection member being arranged as the outermost surface (see FIG. 2 ).
  • the display element examples include a liquid crystal display element, an EL display element such as an organic EL display element or an inorganic EL display element, a plasma display element, etc., and further includes an LED display element such as a micro LED display element. These display elements may have a touch panel function inside the display element.
  • the liquid crystal display system of the liquid crystal display element include the IPS system, VA system, multi-domain system, OCB system, STN system, and TSTN system.
  • the panel of the present disclosure may be a panel with a touch panel having a touch panel between the display element and the anti-reflection member.
  • the anti-reflection member is disposed on the outermost surface of the image display panel with a touch panel, and the surface of the anti-reflection member facing the low refractive index layer faces away from the display element.
  • the size of the panel is not particularly limited, but the maximum diameter is approximately 2 inches to 500 inches.
  • the maximum diameter refers to the maximum length when connecting any two points on the surface of the image display panel.
  • the image display device of the present disclosure includes the panel of the present disclosure described above, and has the anti-reflection member disposed on the outermost surface.
  • the image display device further includes a drive control unit electrically connected to the panel, and a housing that houses the panel, the drive control unit, and the like.
  • the display element is a liquid crystal display element
  • the image display device of the present disclosure requires a backlight, which is disposed on the side opposite to the light exit surface of the liquid crystal display element.
  • the size of the image display device is not particularly limited, but the maximum diameter of the effective display area is about 2 inches to 500 inches.
  • the effective display area of an image display device is an area in which an image can be displayed. For example, when the image display device has a housing that surrounds a display element, the effective display area is the area inside the housing.
  • the maximum diameter of the effective display area is the maximum length between any two points in the effective display area. For example, if the effective display area is rectangular, the maximum diameter is the diagonal of the rectangle. If the effective display area is circular, the maximum diameter is the diameter of the circle.
  • the antireflective article of the present disclosure is prepared by placing the above-described antireflective member of the present disclosure on a member so that the surface of the low refractive index layer faces away from the member, and by placing the antireflective member on the outermost surface.
  • the member and the antireflection member are preferably laminated via an adhesive layer.
  • Components include instrument panels, clocks, showcases, show windows and windows.
  • the components may be transparent or opaque, and there are no particular limitations on the color tone.
  • the method for selecting an antireflection member includes: It is determined whether the following (1) to (4) are satisfied, and those that satisfy the following (1) to (4) are selected.
  • the low refractive index layer contains a binder component, hollow particles, and solid particles.
  • the solid particles include solid particles ⁇ having a particle diameter exceeding the average particle diameter of the hollow particles.
  • the average number of the solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer is 0.7 or more and 8.0 or less.
  • the method of selecting an anti-reflective member disclosed herein allows for efficient selection of an anti-reflective member with good scratch resistance by selecting an anti-reflective member that satisfies the above (1) to (4).
  • the preferred embodiments of (1) to (4) above correspond to the preferred embodiments of the antireflection member of the present disclosure described above.
  • an antireflection member having a substrate, a hard coat layer, and a low refractive index layer in this order is preferable.
  • the above (2) for example, it is preferable to contain a cured product of polysilsesquioxane as the binder component.
  • the solid particles ⁇ are preferably solid silica particles.
  • the average number of the solid particles ⁇ is preferably 0.8 or more and 7.0 or less.
  • the method for selecting an anti-reflective member of the present disclosure preferably further includes additional criteria.
  • the additional criteria may be one or more selected from the preferred embodiments exemplified for the anti-reflective member of the present disclosure described above.
  • the additional judgment conditions include the following (5) to (7). That is, the selection method for an antireflection member according to the present disclosure preferably has one or more judgment conditions selected from the following (5) to (7).
  • the preferred embodiments of the following (5) to (7) are based on the preferred embodiments of the antireflection member according to the present disclosure described above.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the antireflection member on the side of the low refractive index layer is 2.0 nm or more and 15.0 nm or less.
  • the luminous reflectance Y value measured at a light incident angle of 5 degrees from the low refractive index layer side is 3.0% or less.
  • the SCE measured from the low refractive index layer side is 0.50% or less.
  • the present disclosure includes the following ⁇ 1> to ⁇ 18>.
  • ⁇ 3> The antireflection member according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the average particle size of the solid particles ⁇ is 50 nm or more and 150 nm or less.
  • ⁇ 4> The antireflection member according to any one of ⁇ 1] to ⁇ 3>, wherein, when a thickness of the low refractive index layer is defined as T and an average particle diameter of the hollow particles is defined as D1, D1/T is 0.2 or more and 1.7 or less.
  • ⁇ 5> The antireflection member according to any one of ⁇ 1] to ⁇ 4>, wherein, when a thickness of the low refractive index layer is defined as T and an average particle diameter of the solid particles ⁇ is defined as D2, D2/T is 0.3 or more and 2.5 or less.
  • D2/T is 0.3 or more and 2.5 or less.
  • D2> The antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein, when an average particle diameter of the hollow particles is defined as D1 and an average particle diameter of the solid particles ⁇ is defined as D2, D2/D1 is greater than 1.0 and not greater than 3.8.
  • ⁇ 7> The antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the hollow particles are hollow silica particles.
  • the solid particles ⁇ are solid silica particles.
  • the solid particles further include solid particles ⁇ having a particle diameter equal to or smaller than an average particle diameter of the hollow particles.
  • the solid particles ⁇ include one or more types of solid particles selected from solid silica particles, solid alumina particles, solid titania particles, and solid zirconia particles.
  • ⁇ 11> The antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, comprising a cured product of polysilsesquioxane as the binder component.
  • ⁇ 12> The antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, further comprising one or more functional layers between the substrate and the low refractive index layer.
  • ⁇ 13> The antireflection member according to ⁇ 12>, further comprising a hard coat layer as the functional layer.
  • a polarizing plate having a polarizer, a first transparent protective plate arranged on one side of the polarizer, and a second transparent protective plate arranged on the other side of the polarizer, wherein one of the first transparent protective plate and the second transparent protective plate is the antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, and the antireflection member is arranged so that a surface of the antireflection member facing the low refractive index layer faces a side opposite to the polarizer.
  • An image display panel having a display element and an optical film arranged on a light exit surface side of the display element, the optical film including the antireflection member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, the antireflection member being arranged such that a surface of the antireflection member on the low refractive index layer side faces a side opposite to the display element, and the antireflection member being arranged on an outermost surface.
  • An image display device comprising the panel according to ⁇ 15>, and having the antireflection member disposed on an outermost surface.
  • An antireflective article comprising the antireflective member according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13> arranged on a member such that a surface of the antireflective member on the low refractive index layer side faces a side opposite to the member, and the antireflective member is arranged as an outermost surface.
  • a method for selecting an antireflection member comprising the steps of: A method for selecting an antireflection member, comprising determining whether or not the following (1) to (4) are satisfied, and selecting an antireflection member that satisfies the following (1) to (4).
  • the low refractive index layer contains a binder component, hollow particles, and solid particles.
  • the solid particles include solid particles ⁇ having a particle diameter exceeding the average particle diameter of the hollow particles.
  • the average number of the solid particles ⁇ per 1 ⁇ m in the width direction of the low refractive index layer is 0.7 or more and 8.0 or less.
  • the antireflection members of the examples and comparative examples were measured and evaluated as follows. Unless otherwise specified, the atmosphere during each measurement and evaluation was a temperature of 23 ⁇ 5° C. and a relative humidity of 40% to 65%. Before starting each measurement and evaluation, the target sample was exposed to the above atmosphere for 30 minutes to 60 minutes, and then the measurement and evaluation were performed. The samples used for each measurement and evaluation were prepared by cutting the antireflection members of the Examples and Comparative Examples. The cutting locations were selected randomly after visually checking for any abnormalities such as dust or scratches.
  • step 1 Average number of solid particles ⁇
  • the average number of solid particles ⁇ was measured for the antireflection members of the examples and comparative examples. The measurements were performed in steps 1 to 3 of the specification.
  • the scanning transmission electron microscope used in step 1 was an SU-9000 (trade name) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • the mode was "BFSTEM”
  • the acceleration voltage was 30 kV
  • the emission current was 20 uA.
  • the image was adjusted so that the area not including the scale bar was 2.54 ⁇ m horizontal x 1.91 ⁇ m vertical.
  • step 1 a slice sample with an exposed vertical cross section of the anti-reflective material was prepared according to the following steps (A1) to (A2).
  • the antireflection member was cut to a desired size to prepare a cut sample, and then the cut sample was embedded in a resin to prepare an embedded sample.
  • the cut sample was a rectangular shape measuring 10 mm in length and 3 mm in width.
  • An epoxy resin was used as the embedding resin.
  • the embedded sample was obtained by placing the cut sample in a silicon embedding plate, pouring in embedding resin, leaving it at room temperature for 12 hours to harden the embedding resin, and then removing the cut sample and the embedding resin from the silicon embedding plate.
  • the embedded sample was in the shape of a block.
  • the epoxy resin used for embedding was a mixture of Struers' product name "Epofix” and the product name "Epofix Hardener” made by the same company in a ratio of 10:1.2.
  • the silicon embedding plate used was a silicon embedding plate made by Dosaka EM Co., Ltd.
  • the block-shaped embedded sample was cut vertically to prepare a slice sample in which the cross section of the antireflection member was exposed.
  • the embedded sample was cut with a microtome using a glass knife and a diamond knife.
  • the microtome used was a Leica Microsystems product name "Ultramicrotome EM UC7".
  • When cutting a block-shaped embedded sample with this device it was first roughly cut with a glass knife to create a surface of about 100um length x 20um width including the cross section of the coated surface (rough trimming). Finally, this surface was cut with a diamond knife under the conditions of "SPEED: 1.40mm/s" and "FEED: 80nm", and the sections floating on the water were collected with a mesh.
  • the mesh used was a collodion film-attached mesh (Cat No. 651) made by Nissin EM.
  • the antireflection members of the examples and comparative examples were cut to a size of 5 cm x 5 cm.
  • a sample was prepared by bonding the substrate side of the cut antireflection member to a black plate (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name: COMOGLAS DFA2CG 502K (black) series, thickness 2 mm) measuring 5 cm x 5 cm with an optically transparent adhesive sheet (Panac Corporation, product name: Panaclean PD-S1) interposed therebetween.
  • the measurement device used was a spectral reflectance measuring device (Shimadzu Corporation, product name: UV-2600).
  • the measurement device measures the reflectance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm at 0.5 nm intervals, and then performs conversion using software that converts the reflectance into the brightness perceived by the human eye.
  • the software is built into the measurement device. The software calculates the reflectance under the conditions that the light source is D65 and the viewing angle is 2 degrees.
  • the reflectance of the sample prepared in 1-2 was measured by the SCE method from the low refractive index layer side.
  • the light source of the integrating sphere spectrophotometer was D65
  • the position of the receiver was +8 degrees with respect to the normal line of the sample
  • the aperture angle of the receiver was 10 degrees
  • the position of the light trap was -8 degrees with respect to the normal line of the sample
  • the viewing angle was 2 degrees.
  • the measured reflectance means the initial reflectance.
  • Total light transmittance (Tt) and haze (Hz) The antireflection members of the examples and comparative examples were cut to 10 cm x 10 cm to prepare samples for measurement. Using a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory), the total light transmittance of each sample according to JIS K7361-1:1997 and the haze according to JIS K7136:2000 were measured under the following conditions. The measured total light transmittance and haze refer to the initial total light transmittance and haze.
  • the power switch of the device was turned on in advance, and after 15 minutes or more had passed, calibration was performed without setting anything at the entrance opening, which is the location where the measurement sample is placed. After that, the measurement sample was set at the entrance opening, and the total light transmittance and haze were measured. The light incident surface during measurement was the substrate side.
  • Scratch resistance 1 (eraser resistance) (1) Change in luminous reflectance Y value The surface of the low refractive index layer side of the sample prepared in 1-2 was rubbed with an eraser under the following conditions. Then, the luminous reflectance Y value after rubbing with the eraser was The difference between the initial luminous reflectance Y value and the luminous reflectance Y value after rubbing with an eraser was calculated as ⁇ Y. A ⁇ Y value of 1.0% or less is considered acceptable. . ⁇ Conditions for rubbing with eraser> A pencil with an eraser (product name: "Office Pencil 9852 (with eraser)" manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) was cut in the middle.
  • the cut pencil with an eraser was placed in a jig with a hole of 6 mm diameter from the side opposite the eraser. The eraser was inserted so that it was completely exposed.
  • the jig with the eraser-attached pencil was attached to a Gakushin-type abrasion fastness tester (product name "AB-301", manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), and the load was 1000 g, the rubbing speed was 100 rpm, and the eraser was inserted so that it was completely exposed.
  • the surface of the low refractive index layer of the sample was rubbed back and forth 3,000 times at 30.0 mm/sec with a travel distance of 30 mm per reciprocation.
  • the eraser resistance was evaluated according to the following criteria.
  • Good eraser resistance means good resistance to scratches caused by fingers and soft objects such as cloth. It can be said that the above is favorable.
  • D Both ⁇ Y and pure water contact angle are unacceptable. In other words, ⁇ Y exceeds 1.0% and the pure water contact angle after rubbing with an eraser is less than 90 degrees.
  • Scratch resistance 2 (steel wool resistance) ⁇ Break-in>
  • a polyethylene terephthalate film (thickness 100 ⁇ m) was attached to the measurement stage of a measurement device (product name "AB-301", manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.).
  • steel wool #0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., product name "Bonstar B-204" was set. The steel wool was brought into contact with the surface of the polyethylene terephthalate film, and was moved back and forth 300 times under the conditions of a load of 500 g, a moving speed of 50 mm/sec, and a moving distance of 80 mm per round trip.
  • the contact area between the steel wool and the polyethylene terephthalate film was 4 cm2 .
  • the antireflection members of the examples and comparative examples were cut into samples of 3 cm x 25 cm. The cut locations were selected randomly after visually checking for the absence of any abnormalities such as dirt or scratches.
  • the sample was placed on the measurement stage of the measuring device with the low refractive index layer side facing up.
  • the steel wool was brought into contact with the surface of the low refractive index layer, and the steel wool was moved back and forth 1000 times under the conditions of a load of 1500 g, a moving speed of 4000 mm/min, and a moving distance of 80 mm per round trip.
  • the contact area between the steel wool and the sample was set to 4 cm2.
  • the number of scratches with a length of 1 cm or more was visually confirmed and ranked according to the following criteria.
  • scratches with a length of less than 1 cm were not counted as scratches.
  • the moving speed of the steel wool was not uniform in the region 10 mm from each end of the moving distance of 80 mm. Therefore, scratches were not counted in the region 10 mm from each end of the moving distance of 80 mm of the steel wool.
  • the number of scratches is 5 or more and less than 15
  • the number of scratches is 15 or more Or, even if the number of scratches is less than 15, peeling has occurred in the low refractive index layer.
  • Coating Liquids The following coating liquids were prepared as a coating liquid for a hard coat layer, a coating liquid for a low refractive index layer, and a coating liquid for a high refractive index layer.
  • MIBK and MEK in the coating liquids mean "methyl isobutyl ketone” and “methyl ethyl ketone", respectively.
  • Example 1 After coating the hard coat layer coating solution 1 on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 ⁇ m, the film was dried at 70° C. for 1 minute to volatilize the solvent. Then, in a nitrogen atmosphere having an oxygen concentration of 200 ppm or less, the film was irradiated with ultraviolet light at an integrated light quantity of 50 mJ/cm 2 to form a hard coat layer having a dry thickness of 6 ⁇ m. Next, the coating solution 1 for low refractive index layer was applied onto the hard coat layer, and the solvent was evaporated by drying at 70° C. for 60 seconds.
  • Example 1 Next, in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less, a low refractive index layer having a dry thickness of 95 nm was formed by irradiating ultraviolet light at an integrated light amount of 400 mJ/ cm2 . Thus, the antireflection member of Example 1 was obtained.
  • Example 2 Except for forming a high refractive index layer between the hard coat layer and the low refractive index layer, an antireflection member of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1.
  • the high refractive index layer of Example 2 was formed as follows. After coating the coating solution 1 for the high refractive index layer on the hard coat layer, the coating solution was dried at 70° C. for 1 minute to volatilize the solvent. Then, in a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less, the coating solution was irradiated with ultraviolet light at an integrated light amount of 50 mJ/cm 2 to form a high refractive index layer having a dry thickness of 100 nm.
  • Examples 3, 4, 6 to 11 Antireflection members of Examples 3, 4, and 6 to 11 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating liquids having the numbers shown in Table 1 were used as the coating liquids for the low refractive index layer and the thicknesses of the low refractive index layers were set to the thicknesses shown in Table 1.
  • Example 5 An antireflection member of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 2, except that a coating liquid having a number shown in Table 1 was used as the coating liquid for the low refractive index layer.
  • Comparative Examples 1 to 6 Antireflection members of Comparative Examples 1 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating liquids having the numbers shown in Table 1 were used as the coating liquids for the low refractive index layer.
  • the content ratio of *1 means the content ratio of solid particles ⁇ relative to the total solid content of the low refractive index layer
  • the content ratio of *2 means the content ratio of hollow particles relative to the total solid content of the low refractive index layer.
  • Substrate 20 Hard coat layer 30: Low refractive index layer 100: Anti-reflection member 110: Display element 120: Image display panel

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Abstract

耐擦傷性が良好な反射防止部材を提供する。基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であって、前記低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含み、前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下である、反射防止部材。

Description

反射防止部材、並びに、前記反射防止部材を用いた偏光板、パネル、画像表示装置及び反射防止性物品、並びに、反射防止部材の選定方法
　本開示は、反射防止部材、並びに、前記反射防止部材を用いた偏光板、パネル、画像表示装置及び反射防止性物品、並びに、反射防止部材の選定方法に関する。
　液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等の表示装置、ショーケース等では、視認性を良好にするために、表面に反射防止部材を設ける場合がある。
　反射防止部材としては、基材上に低屈折率層を有するものが提案されている。低屈折率層は、例えば、屈折率を低くするための中空粒子と、前記中空粒子を保持するためのバインダー成分とを含んでいる。低屈折率層に中空粒子を含む反射防止部材としては、例えば、特許文献１～２が提案されている。特許文献１の低屈折率層は中実粒子も含んでいる。
特開２０２０－３０３６３号公報 特開２０２２－１５０９０６号公報
　反射防止部材は、画像表示装置等の部材の表面に配置して使用される。このため、タッチパネルの操作、汚れの拭き取り等の際に反射防止部材の表面は擦過される。したがって、反射防止部材には優れた耐擦傷性が求められる。また、近年、フォルダブルの画像表示装置が増加している。これらフォルダブルの画像表示装置でも、同様に優れた耐擦傷性が求められる。さらに、近年、画像表示装置は超高精細化しているため、反射防止部材に生じた傷が目立ちやすくなっている。このため、反射防止部材には従来以上の耐擦傷性が求められるようになっている。
　しかし、特許文献１及び２の反射防止部材等の従来の反射防止部材は、耐擦傷性が不十分であった。
　本開示は、耐擦傷性が良好な反射防止部材、並びに、これを用いた偏光板、パネル、画像表示装置及び反射防止性物品を提供すること課題とする。また、本開示は、耐擦傷性が良好である反射防止部材を効率よく選定する方法を提供することを課題とする。
　本開示は、以下の＜１＞～＜６＞を提供する。
＜１＞　基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であって、
　前記低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含み、
　前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、
　前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下である、反射防止部材。
＜２＞　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置されてなる第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の何れか一方が、＜１＞に記載の反射防止部材であり、かつ、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなる、偏光板。
＜３＞　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして＜１＞に記載の反射防止部材を含み、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示パネル。
＜４＞　＜３＞に記載のパネルを含み、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示装置。
＜５＞　部材上に、＜１＞に記載の反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる反射防止性物品。
＜６＞　反射防止部材の選定方法であって、
　下記（１）～（４）を満たすか否かを判定し、下記（１）～（４）を満たすものを選定する、反射防止部材の選定方法。
（１）基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であること。
（２）前記低屈折率層が、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含むこと。
（３）前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含むこと。
（４）前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下であること。
　本開示の反射防止部材、並びに、これを用いた偏光板、画像表示装置及び反射防止性物品は、耐擦傷性を良好にすることができる。本開示の反射防止部材の選定方法は、耐擦傷性が良好である反射防止部材を、効率よく選定することができる。
本開示の反射防止部材の一実施形態を示す概略断面図である。 本開示のパネルの一実施形態を示す断面図である。
　以下、本開示の実施形態を説明する。
［反射防止部材］
　本開示の反射防止部材は、基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であって、
　前記低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含み、
　前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、
　前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下である、ものである。
　図１は、本開示の反射防止部材１００の断面形状の概略断面図である。
　図１の反射防止部材１００は、基材１０上に低屈折率層３０を有している。図１の反射防止部材１００は、基材１０と低屈折率層３０との間にハードコート層２０を有している。
　図１は模式的な断面図である。すなわち、反射防止部材１００を構成する各層の縮尺及び各材料の縮尺等は、図示しやすくするために模式化したものであり、実際の縮尺等とは相違している。図２も同様である。
　本明細書において、「低屈折率層の幅方向」とは、「低屈折率層の厚み方向と直交する方向」を意味する。図１のＺ方向が低屈折率層の厚み方向に相当する。
　本明細書において、「低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの中実粒子αの個数の平均」のことを、「中実粒子αの個数の平均」と略称する場合がある。
　本開示の反射防止部材は、図１の積層構成に限定されない。例えば、本開示の反射防止部材は、基材上に直接低屈折率層を有していてもよい。また、本開示の反射防止部材は、図１に記載されていないその他の層を有していてもよい。
　本開示の反射防止部材の積層構成の好ましい実施形態としては、「基材上に、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する積層構成」、および、「基材上に、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有する積層構成」が挙げられる。
＜基材＞
　基材は、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
　上記の中でも、機械的強度及び寸法安定性の観点からは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムの中でも、延伸加工されたフィルムが好ましく、二軸延伸加工されたフィルムがより好ましい。ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。
　基材の厚みは、５μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上１２０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　反射防止部材を薄膜化したい場合は、基材の厚さの好ましい上限は８０μｍ以下であり、より好ましい上限は７０μｍ以下である。
　基材の厚みは、接触式の膜厚測定器で測定する。接触式の膜厚測定器としては、ミツトヨ社、品番「ＭＤＣ－２５ＳＸ」が挙げられる。本明細書において、基材の厚みは、１０箇所の測定値の平均値を意味する。
　基材の厚みの好ましい範囲の実施形態は、５μｍ以上３００μｍ以下、５μｍ以上２００μｍ以下、５μｍ以上１２０μｍ以下、５μｍ以上８０μｍ以下、５μｍ以上７０μｍ以下、５μｍ以上２０μｍ以下、２０μｍ以上３００μｍ以下、２０μｍ以上２００μｍ以下、２０μｍ以上１２０μｍ以下、２０μｍ以上８０μｍ以下、２０μｍ以上７０μｍ以下、３０μｍ以上３００μｍ以下、３０μｍ以上２００μｍ以下、３０μｍ以上１２０μｍ以下、３０μｍ以上８０μｍ以下、３０μｍ以上７０μｍ以下が挙げられる。
　基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理等の物理的な処理や化学的な処理を施したり、易接着層を形成したりしてもよい。
　基材は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
＜低屈折率層＞
　低屈折率層は、反射防止部材の表面に位置することが好ましい。
　低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含むことを要する。
　さらに、低屈折率層は、前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下であることを要する。
《中実粒子αの個数の平均》
　以下、中実粒子αの個数の平均の測定方法を説明するとともに、中実粒子αの個数の技術的意義を説明する。
―中実粒子αの個数の平均の測定方法―
　中実粒子αの個数の平均は、下記の工程１～工程３の手順で測定する。
工程１：反射防止部材の垂直断面の画像を、走査型透過電子顕微鏡により撮像する。
　本明細書において、「反射防止部材の垂直断面」とは、反射防止部材の表面をＸＹ平面と仮定した際に、ＸＹ平面に垂直な断面を意味する。
　工程１において、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）の加速電圧は０．５ｋＶ以上３０ｋＶ以下、エミッション電流は１ｕＡ以上２０ｕＡ以下の範囲で調整する。
　工程１において、反射防止部材の垂直断面の画像は、反射防止部材の垂直断面が露出した切片サンプルを作製し、前記サンプルを用いて撮像する。
　工程２：工程１で撮像した画像から、粒子径が中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子の数をカウントする。カウントした粒子の数を画像の幅である２．５４μｍで除すことにより、低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの中実粒子αの個数を算出する。
　工程１で撮像される画像において、中実粒子は全体が黒色味を帯びた濃色で塗りつぶされた状態で観察される。すなわち、工程１で撮像される画像において、濃色で塗りつぶされた粒子は中実粒子に相当する。
　工程２では、粒子径が中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子の数をカウントする。工程２では、中実粒子の中でも、粒子径が中空粒子の平均粒子径以下の中実粒子の数はカウントしない。このため、工程２の前に、中空粒子の平均粒子径を算出することが必要である。中空粒子の平均粒子径の算出手法は後述する。
　工程２において、個々の中実粒子の粒子径は、個々の中実粒子の最大径を意味する。
　工程２において、個々の中実粒子の粒子径の最大径とは、中実粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、前記２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離を意味する。個々の中実粒子の粒子径の最大径は、工程１で撮像した画像に基づいて算出する。
　工程３：工程１～２により、反射防止部材の任意の１か所の測定領域において、「低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの中実粒子αの個数」を算出する。さらに、反射防止部材の別の９か所において、工程１～２を実施し、合計１０箇所の前記個数を算出する。そして、１０箇所の前記個数のうち、最大値及び最小値を除いた８か所の個数の平均を、本開示の「低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの中実粒子αの個数の平均」とする。１０の測定箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない箇所から、ランダムに選択する。
―中実粒子αの個数の技術的意義―
　中実粒子αは、粒子径が中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子である。従来の反射防止部材では、低屈折率層の屈折率を低くするため、中実粒子の粒子径は、中空粒子の平均粒子径以下の大きさとすることが通常であった。しかし、中空粒子は中実粒子よりも強度が劣る。そして、粒子径が小さい中実粒子では、中空粒子の強度不足を十分に補うことができなかった。そこで、本開示では、低屈折率層中に、中実粒子として、粒子径が中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを添加している。
　しかし、本発明者らの検討により、単に低屈折率層に中実粒子αを添加するだけでは、反射防止部材の耐擦傷性を良好にできないことが分かった。
　まず、中実粒子αの個数の平均が多すぎる場合、低屈折率層の表面の凹凸が大きくなったり、中実粒子及び中空粒子等の粒子のバインダー成分に対する結着性が低下したりする。低屈折率層の表面の凹凸が大きくなると、低屈折率層の表面を布等の摩擦物で擦過した際に、摩擦物が凹凸に引っ掛かりやすくなるため、凹凸近傍に負荷がかかりやすくなる。その結果、凹凸近傍に欠陥及び傷が生じやすくなる。粒子のバインダー成分に対する結着性が低下すると、粒子が脱落しやすくなるため、擦過により欠陥及び傷が生じやすくなる。このため、中実粒子αの個数の平均が多すぎる場合、耐擦傷性を良好にすることができない。また、中実粒子αの個数の平均が多すぎる場合、耐屈曲性が低下するため、フォルダブルの画像表示装置に適用しにくくなる。
　次に、中実粒子αの個数の平均が少なすぎる場合、強度の弱い中空粒子にかかる負荷を抑制できないため、耐擦傷性を良好にすることができない。中実粒子αの個数の平均が少なすぎる場合、特に、指及び布等の柔らかい物に対する耐擦過性が劣る傾向がある。また、フォルダブルの画像表示装置は、折り畳み部分にヒンジを備える。ヒンジは、全部または一部がフォルダブルの画像表示装置の表面に露出して配置される場合がある。そして、ヒンジは、点接触に近い状態で反射防止部材に接触する（一方、指及び布は面接触で反射防止部材に接触する。）。このため、ヒンジに対して反射防止部材の傷付きを抑制するためには、１μｍという狭い幅において、所定の数以上の中実粒子αを含むことが好ましい。
　本発明者らは、鋭意研究した結果、低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの中実粒子αの個数の平均を、０．７個以上８．０個以下とすることにより、耐擦傷性を良好にし得ることを見出した。
　中実粒子αの個数の平均は、下限は０．８個以上であることが好ましく、１．０個以上であることがより好ましく、上限は７．０個以下であることが好ましく、５．０個以下であることがより好ましい。
　中実粒子αの個数の平均の好ましい範囲の実施形態は、０．７個以上８．０個以下、０．７個以上７．０個以下、０．７個以上５．０個以下、０．８個以上８．０個以下、０．８個以上７．０個以下、０．８個以上５．０個以下、１．０個以上８．０個以下、１．０個以上７．０個以下、１．０個以上５．０個以下が挙げられる。
　中実粒子αの個数の平均は、中実粒子αの含有割合、中実粒子αの分散により調整できる。
　中実粒子αによる効果を発揮しやすくするため、中実粒子αの個数の標準偏差σは、０．３１個以上０．８０個以下であることが好ましく、０．３５個以上０．６０個以下であることがより好ましく、０．４０個以上０．５５個以下であることがさらに好ましい。
　前記標準偏差σは、前記工程１～４の１０箇所の個数のうち、最大値及び最小値を除いた８か所の個数から算出した値を意味する。標準偏差σが小さいほど、測定箇所ごとの中実粒子αの個数にバラツキが少ないことを意味する。
　本明細書において、中実粒子αの個数の平均の測定、並びに、表面粗さ、ヘイズ等のその他の測定は、特に断りのない限り、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下で測定したものとする。各測定の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定を行うものとする。
《中空粒子》
　本開示の低屈折率層は、中空粒子を含むことを要する。
　中空粒子とは、外殻層を有し、前記外殻層に囲まれた粒子内部が空洞であり、前記空洞内部に空気を含む粒子をいう。中空粒子は、空隙率に比例して屈折率が低下する粒子である。
　中空粒子の外殻層の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度の観点からシリカが好ましい。すなわち、低屈折率層は、中空粒子として、中空シリカ粒子を含むことが好ましい。
　中空粒子の平均粒子径は、低屈折率層の屈折率を低くしやすくするため、４０ｎｍ以上であることが好ましく、４５ｎｍ以上であることがより好ましく、５０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。中空粒子の平均粒子径は、耐擦傷性を良好にしやすくするため、１００ｎｍ以下であることが好ましく、９０ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　中空粒子の平均粒子径の好ましい範囲の実施形態は、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、４０ｎｍ以上９０ｎｍ以下、４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、４５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、４５ｎｍ以上９０ｎｍ以下、４５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、５０ｎｍ以上９０ｎｍ以下、５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下が挙げられる。
　中空粒子の平均粒子径は、以下のＢ１～Ｂ３の作業により算出する。
Ｂ１：前記工程１～３の１０か所の測定領域において、それぞれの測定領域から５個の中空粒子を抽出することにより、合計５０個の中空粒子を抽出する。工程１で撮像される画像において、中空粒子は、粒子の外殻部分のみ黒色味を帯びた濃色となり、内部は外殻部分よりも色が薄い状態で観察される。したがって、黒色味を帯びた濃色で観察される外殻部分が、より色が薄い内部の周縁全体を覆っている粒子を、中空粒子として抽出する。本作業では、全体が撮像されている粒子のみを抽出対象とする。上述したように濃色の外殻部分及び色が薄い内部が観察される粒子であっても、画像の端部において一部が見切れている粒子や、粒子同士が重なるために全体が撮像されていない粒子などは、抽出対象から除外する。
Ｂ２：画像から個々の中空粒子の粒子径を算出する。個々の粒子径は、中空粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、前記２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離とする。
Ｂ３：５０個の中空粒子の粒子径の平均を、本開示の中空粒子の平均粒子径とする。
　中空粒子の空隙率は、下限は、屈折率を低くする観点から、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上、さらに好ましくは２０％以上であり、上限は強度の観点から、好ましくは８０％以下、より好ましくは７０％以下、さらに好ましくは６０％以下である。
　中空粒子の空隙率は、下記Ｃ１～Ｃ３により算出する。
Ｃ１：中空粒子の断面をＳＥＭにより、直径及び空隙部分を除いた外殻部分の厚みを測定する。
Ｃ２：中空粒子が球体であるとして、中空粒子の空隙部分の体積、及び、空隙部分がないとしたときの中空粒子の体積を算出する。
Ｃ３：｛（中空粒子の空隙部分の体積）／（空隙部分がないとしたときの中空粒子の体積）｝×１００より、空隙率を算出する。５０個の中空粒子の空隙率の平均を、本明細書の中空粒子の空隙率とする。
　中空粒子の空隙率の好ましい範囲の実施形態は、５％以上８０％以下、５％以上７０％以下、５％以上６０％以下、１０％以上８０％以下、１０％以上７０％以下、１０％以上６０％以下、２０％以上８０％以下、２０％以上７０％以下、２０％以上６０％以下が挙げられる。
　中空粒子の含有割合が多くなるほど、低屈折率層の屈折率が低下する。一方で、中空粒子の含有割合が多すぎると、耐擦傷性が低下しやすくなる。
　このため、中空粒子の含有割合は、低屈折率層の全固形分に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることがさらに好ましい。
　低屈折率層の全固形分に対する中空粒子の含有割合の好ましい範囲の他の実施形態は、３質量％以上３０質量％以下、３質量％以上２０質量％以下、４質量％以上４０質量％以下、４質量％以上２０質量％以下、５質量％以上４０質量％以下、５質量％以上３０質量％以下が挙げられる。
　中空粒子、中実粒子α及び中実粒子β等の粒子は、表面がシランカップリング剤で被覆されていることが好ましい。シランカップリング剤は、（メタ）アクリロイル基又はエポキシ基を有するものが好ましく、メタクリロイル基を有するものがより好ましい。
　粒子にシランカップリング剤による表面処理を施すことにより、粒子とバインダー成分との親和性が向上し、粒子の過度な凝集を抑制しやすくできる。このため、中実粒子αにシランカップリング剤による表面処理を施すことにより、中実粒子αの個数の平均を上記範囲にしやすくできる。
《中実粒子α》
　低屈折率層は、粒子径が中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含むことを要する。
　中実粒子αの材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物が好ましく、シリカがより好ましい。すなわち、中実粒子αは、中実シリカ粒子であることが好ましい。
　中実粒子αの平均粒子径は、耐擦傷性を良好にするため、５０ｎｍ以上であることが好ましく、５５ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。中実粒子αの平均粒子径は、低屈折率層の屈折率を低くしやすく、かつ、耐擦傷性を良好にしやすくするため、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　中実粒子αの平均粒子径の好ましい範囲の実施形態は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、５０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下、５０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下、５５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、５５ｎｍ以上１３０ｎｍ以下、５５ｎｍ以上１１０ｎｍ以下、６０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、６０ｎｍ以上１３０ｎｍ以下、６０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下が挙げられる。
　本明細書において、中実粒子αの平均粒子径は、上記工程１～３において、中実粒子αとして抽出した粒子の粒子径の平均値を意味する。中実粒子αの平均粒子径の算出に当たっては、全体が撮像されている粒子のみを抽出対象とする。画像の端部において一部が見切れている粒子や、粒子同士が重なるために全体が撮像されていない粒子などは、抽出対象から除外する。
　中空粒子の平均粒子径をＤ１、中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｄ１は１．０超３．８以下であることが好ましく、１．１以上３．２以下であることがより好ましく、１．２以上２．５以下であることがさらに好ましい。Ｄ２／Ｄ１を前記範囲とすることにより、耐擦傷性をより良好にしやすくできる。
　Ｄ２／Ｄ１の好ましい範囲の他の実施形態は、１．０超３．２以下、１．０超２．５以下、１．１以上３．８以下、１．１以上２．５以下、１．２以上３．８以下、１．２以上３．２以下が挙げられる。
　中実粒子αの含有割合を大きくすると耐擦傷性を良好にしやすくできる。このため、中実粒子αの含有割合は、低屈折率層の全固形分に対して１０．０質量％以上であることが好ましく、１５．０質量％以上であることがより好ましく、２０．０質量％以上であることがさらに好ましい。
　一方、中実粒子αの含有割合が大きすぎると、低屈折率層の屈折率を低くしにくく、かつ、耐擦傷性を良好にしにくくなる。このため、中実粒子αの含有割合は、低屈折率層の全固形分に対して５０．０質量％以下であることが好ましく、４５．５質量％以下であることがより好ましく、４０．０質量％以下であることがさらに好ましい。
　低屈折率層の全固形分に対する中実粒子αの含有割合の好ましい範囲の実施形態は、１０．０質量％以上５０．０質量％以下、１０．０質量％以上４５．５質量％以下、１０．０質量％以上４０．０質量％以下、１５．０質量％以上５０．０質量％以下、１５．０質量％以上４５．５質量％以下、１５．０質量％以上４０．０質量％以下、２０．０質量％以上５０．０質量％以下、２０．０質量％以上４５．５質量％以下、２０．０質量％以上４０．０質量％以下が挙げられる。
《中実粒子β》
　低屈折率層は、中実粒子として、さらに、粒子径が中空粒子の平均粒子径以下である中実粒子βを含むことが好ましい。中実粒子βを含むことにより、耐擦傷性をより良好にしやすくできる。
　中実粒子βは、中実シリカ粒子、中実アルミナ粒子、中実チタニア粒子及び中実ジルコニア粒子から選ばれる１種以上の中実粒子であることが好ましい。これらの中でも中実シリカ粒子を含むことが好ましく、中実シリカ粒子及び中実アルミナ粒子を含むことが好ましい。
　中実粒子βの平均粒子径は、耐擦傷性をより良好にしやすくするため、５ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。中実粒子βの平均粒子径は、低屈折率層の屈折率を低くしやすくするため、５０ｎｍ以下であることが好ましく、４５ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　中実粒子βの平均粒子径の好ましい範囲の実施形態は、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、５ｎｍ以上４５ｎｍ以下、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下、７ｎｍ以上５０ｎｍ以下、７ｎｍ以上４５ｎｍ以下、７ｎｍ以上４０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上４５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下が挙げられる。
　中実粒子βの平均粒子径は、以下のＤ１～Ｄ３の作業により算出する。
Ｄ１：反射防止部材の断面をＳＥＭで撮像する。ＳＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、倍率は５万倍以上３０万倍以下の範囲で調整する。
Ｄ２：観察画像から任意の１０個の中実粒子βを抽出し、個々の中実粒子βの粒子径を算出する。粒子径は、中実粒子βの断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、前記２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。本作業では、全体が撮像されている粒子のみを抽出対象とする。画像の端部において一部が見切れている粒子や、粒子同士が重なるために全体が撮像されていない粒子などは、抽出対象から除外する。
Ｄ３：同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を、中実粒子βの平均粒子径とする。
　中実粒子βの含有割合を大きくすると耐擦傷性を良好にしやすくできる。一方、中実粒子βの含有割合が大きすぎると、低屈折率層の屈折率を低くしにくくなるとともに、中実粒子αの個数を増やしにくくなる。
　このため、中実粒子βの含有割合は、低屈折率層の全固形分に対して５．０質量％以上４０．０質量％以下であることが好ましく、１０．０質量％以上３０．０質量％以下であることがより好ましく、１５．０質量％以上２０．０質量％以下であることがさらに好ましい。
　低屈折率層の全固形分に対する中実粒子βの含有割合の好ましい範囲の他の実施形態は、５．０質量％以上３０．０質量％以下、５．０質量％以上２０．０質量％以下、１０．０質量％以上４０．０質量％以下、１０．０質量％以上２０．０質量％以下、１５．０質量％以上４０．０質量％以下、１５．０質量％以上３０．０質量％以下が挙げられる。
　低屈折率層の屈折率は、下限は、１．１０以上が好ましく、１．２０以上がより好ましく、１．２６以上がより好ましく、１．２８以上がより好ましく、１．３０以上がより好ましく、上限は、１．４８以下が好ましく、１．４５以下がより好ましく、１．４０以下がより好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３５以下がより好ましい。
　本明細書において、低屈折率層及び高屈折率層の屈折率は、波長５８９．３ｎｍにおける値を意味するものとする。
　低屈折率層の屈折率の好ましい範囲の実施形態は、１．１０以上１．４８以下、１．１０以上１．４５以下、１．１０以上１．４０以下、１．１０以上１．３８以下、１．１０以上１．３５以下、１．２０以上１．４８以下、１．２０以上１．４５以下、１．２０以上１．４０以下、１．２０以上１．３８以下、１．２０以上１．３５以下、１．２６以上１．４８以下、１．２６以上１．４５以下、１．２６以上１．４０以下、１．２６以上１．３８以下、１．２６以上１．３５以下、１．２８以上１．４８以下、１．２８以上１．４５以下、１．２８以上１．４０以下、１．２８以上１．３８以下、１．２８以上１．３５以下、１．３０以上１．４８以下、１．３０以上１．４５以下、１．３０以上１．４０以下、１．３０以上１．３８以下、１．３０以上１．３５以下が挙げられる。
《バインダー成分》
　バインダー成分は、低屈折率層が層として形成できるための成分であるとともに、中空粒子を保持する結合剤としての役割を果たす。
　低屈折率層は、バインダー成分として硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物等の硬化性化合物を含む組成物である。
　低屈折率層の全バインダー成分に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
　低屈折率層の硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。すなわち、低屈折率層は、バインダー成分として、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。
　熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
　熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
　電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリール基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物は、電離放射線硬化性官能基を２つ以上有することが好ましい。
　電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。中でも、（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物がより好ましい。（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。（メタ）アクリレート系化合物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物であることが好ましい。本明細書において、多官能（メタ）アクリレート系化合物とは、（メタ）アクリロイル基を２以上有する化合物を意味する。
　本明細書において、後述する「反応性基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン」は、「（メタ）アクリレート系化合物」と区別するものとする。すなわち、本明細書において、「（メタ）アクリレート系化合物」は、「反応性基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン」を含まない概念とする。
　電離放射線硬化性化合物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。言い換えると、低屈折率層は、バインダー成分として、多官能（メタ）アクリレート系化合物の硬化物を含むことが好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート系化合物は、モノマー及びオリゴマーのいずれであってもよいが、モノマーを含むことが好ましい。モノマーはオリゴマーに比べて、中実粒子α等の粒子を均一に配列しやすいためである。
　多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　電離放射線硬化性化合物は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、低屈折率層用塗布液は、光重合開始剤及び光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、α－アミノアルキルフェノン、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
　好ましい硬化性化合物として、さらに、ポリシルセスキオキサンが挙げられる。すなわち、低屈折率層は、バインダー成分として、ポリシルセスキオキサンの硬化物を含むことが好ましい。
　バインダー成分として、ポリシルセスキオキサンの硬化物を含むことにより、低屈折率層の耐擦傷性を良好にしやすくできる。ポリシルセスキオキサンの硬化物は、層の表面だけではなく、層全体の強靭性を向上しやすいため、低屈折率層の耐擦傷性を良好にしやすいと考えられる。また、ポリシルセスキオキサンの硬化物は、シリカとの密着性が良好なため、低屈折率層の耐擦傷性を良好にしやすいと考えられる。
　ポリシルセスキオキサンの含有量が多すぎると、反射防止部材の耐屈曲性が低下する場合がある。このため、ポリシルセスキオキサンは、多官能（メタ）アクリレート系化合物と併用することが好ましい。すなわち、バインダー成分は、多官能（メタ）アクリレート系化合物の硬化物と、ポリシルセスキオキサンの硬化物とを含むことが好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート系化合物とポリシルセスキオキサンとの質量比は、５０：５０～１０：９０であることが好ましく、４０：６０～１５：８５であることがより好ましく、３５：６５～２０：８０であることがさらに好ましい。前述した範囲とすることにより、耐屈曲性の低下を抑制しつつ耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　ポリシルセスキオキサンは、下記一般式（１）で表される構成単位を有するポリマーである。式（１）中、Ｒは有機基を示す。有機基としては、後述する反応性基を有する有機基等が挙げられる。下記の構成単位の数は、４以上３０以下であることが好ましい。
　［ＲＳｉＯ１．５］　（１）
　ポリシルセスキオキサンの構造としては、ランダム構造、ラダー構造及びケージ構造が挙げられる。これらの中でもケージ構造が好ましい。
　ポリシルセスキオキサンは、構成単位のケイ素の少なくとも１つ以上に、反応性基が置換されていることが好ましい。反応性基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、後述するレベリング剤と反応しやすくなるため、低屈折率層中にレベリング剤を固定しやすくできる。このため、反応性基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、耐擦傷性等を長期に渡って良好にしやすくできる。また、反応性基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、低屈折率層の表面側にシロキサン結合が露出する割合を少なくしやすくできるため、耐薬品性を向上しやすくできる。
　反応性基は、（メタ）アクリロイル基、ビニル基及びエポキシ基等が挙げられる。これらの中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　反応性基のより具体的な例としては、（メタ）アクリレート、炭素数１以上２０以下のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数３以上２０以下のシクロアルキルエポキシド、炭素数１以上１０以下のアルキルシクロアルカンエポキシド等が挙げられる。
　ポリシルセスキオキサンの反応性基の官能基当量（ｇ／ｅｑ）は、５０以上１０００以下が好ましく、１００以上５００以下がより好ましい。官能基当量を前述した範囲とすることにより、低屈折率層の重合収縮を抑制するとともに、低屈折率層中にレベリング剤を固定しやすくできる。
　ポリシルセスキオキサンは、構成単位のケイ素の少なくとも１つ以上に反応性基が置換され、さらに、構成単位のケイ素の少なくとも１つ以上に、さらに、非反応性基が置換されていてもよい。このようなポリシルセスキオキサンは、低屈折率層の表面側に、シロキサン結合が露出する割合を少なくしやすくできるため、耐薬品性を向上しやすくできる。また、非反応性基が置換されたポリシルセスキオキサンは、低屈折率層の重合収縮を抑制しやすくできる。
　非反応性基としては、炭素数１以上２０以下の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数６以上２０以下のシクロヘキシル基、及び炭素数６以上２０以下のアリール基等が挙げられる。
　ポリシルセスキオキサンの重量平均分子量は、中空粒子及び中実粒子α等の粒子の分散性を良好にするため、５０００以下であることが好ましく、４０００以下であることがより好ましく、３０００以下であることがさらに好ましい。ポリシルセスキオキサンの重量平均分子量は、結合力及び貯蔵弾性率を高めるため、８００以上であることが好ましく、９００以上であることがより好ましく、１０００以上であることがさらに好ましい。
《レベリング剤》
　低屈折率層は、レベリング剤を含むことが好ましい。低屈折率層がレベリング剤を含むことにより、表面の滑り性が良好になるため、耐擦傷性を良好にしやすくできる。レベリング剤は、前述した作用を発揮しやすくするため、反応性基を有するレベリング剤が好ましい。反応性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基及びエポキシ基等が挙げられる。これらの中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　レベリング剤としては、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤が挙げられる。シリコーン系レベリング剤は、少量のフッ素原子を含有していてもよい。フッ素系レベリング剤は、少量のケイ素原子を含有していてもよい。
　レベリング剤は、上述したように、低屈折率層表面の滑り性を良好にできるが、含有割合が大きくなりすぎると塗膜強度が低下して耐擦傷性が低下する場合がある。このため、レベリング剤の含有割合は、低屈折率層の全固形分に対して、５．０質量％以上５０．０質量％以下であることが好ましく、１０．０質量％以上４０．０質量％以下であることがより好ましく、１５．０質量％以上３０．０質量％以下であることがさらに好ましい。
　低屈折率層の全固形分に対するレベリング剤の含有割合の好ましい範囲の他の実施形態は、５．０質量％以上４０．０質量％以下、５．０質量％以上３０．０質量％以下、１０．０質量％以上５０．０質量％以下、１０．０質量％以上３０．０質量％以下、１５．０質量％以上５０．０質量％以下、１５．０質量％以上４０．０質量％以下が挙げられる。
　低屈折率層は、更に、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、光安定剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
　低屈折率層の厚みＴは、下限は、６０ｎｍ以上が好ましく、７５ｎｍ以上がより好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、上限は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１１５ｎｍ以下がより好ましく、１０５ｎｍ以下がより好ましい。
　低屈折率層の厚みＴの好ましい範囲の実施形態は、６０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、６０ｎｍ以上１１５ｎｍ以下、６０ｎｍ以上１０５ｎｍ以下、７５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、７５ｎｍ以上１１５ｎｍ以下、７５ｎｍ以上１０５ｎｍ以下、９０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、９０ｎｍ以上１１５ｎｍ以下、９０ｎｍ以上１０５ｎｍ以下が挙げられる。
　本明細書において、低屈折率層、高屈折率層、ハードコート層の厚みは、走査型透過電子顕微鏡による反射防止部材の断面画像の任意の２０箇所を選び、２０箇所の厚みの平均値により算出する。
　低屈折率層の厚みをＴ、中空粒子の平均粒子径をＤ１と定義した際に、Ｄ１／Ｔは、０．２以上１．７以下であることが好ましく、０．４以上１．２以下であることがより好ましく、０．５以上０．９以下であることがさらに好ましい。
　Ｄ１／Ｔを０．２以上とすることにより、低屈折率層の屈折率を低くしやすくできる。Ｄ１／Ｔを１．７以下とすることにより、耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　Ｄ１／Ｔの好ましい範囲の他の実施形態は、０．２以上１．２以下、０．２以上０．９以下、０．４以上１．７以下、０．４以上０．９以下、０．５以上１．７以下、０．５以上１．２以下が挙げられる。
　低屈折率層の厚みをＴ、中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｔは、０．３以上２．５以下であることが好ましく、０．５以上１．７以下であることがより好ましく、０．６以上１．２以下であることがさらに好ましい。
　Ｄ２／Ｔの好ましい範囲の他の実施形態は、０．３以上１．７以下、０．３以上１．２以下、０．５以上２．５以下、０．５以上１．２以下、０．６以上２．５以下、０．６以上１．７以下が挙げられる。
　低屈折率層は、低屈折率層を構成する成分及び溶剤を含む低屈折率層用塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。
《溶剤》
　溶剤は、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等のグリコールエーテル類；セロソルブアセテート類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
＜機能層＞
　本開示の反射防止部材は、基材と低屈折率層との間に、１以上の機能層を有することが好ましい。機能層としては、ハードコート層、高屈折率層、導電層、帯電防止層等が挙げられる。
《ハードコート層》
　本開示の反射防止部材は、基材と低屈折率層との間に、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層を有することにより、反射防止部材の耐擦傷性を良好にしやすくできる。
　機能層として、さらに高屈折率層を有する場合、基材、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に有することが好ましい。
　ハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むものが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことがより好ましい。主成分とは、ハードコート層を構成する樹脂成分の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。
　熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物は、低屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。ハードコート層に用いる電離放射線硬化性化合物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。
　ハードコート層の厚みは、下限は、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、上限は３０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。ハードコート層の厚みを上記範囲とすることにより、耐擦傷性を良好にしつつ、裁断等の加工時のクラックの発生を抑制しやすくできる。
　ハードコート層の厚みの好ましい範囲の実施形態は、０．５μｍ以上３０μｍ以下、０．５μｍ以上１０μｍ以下、１μｍ以上３０μｍ以下、１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。
　ハードコート層には、更に、レベリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、光安定剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
《高屈折率層》
　高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層用塗布液から形成することができる。すなわち、高屈折率層は、バインダー成分及び高屈折率粒子を含むことが好ましい。
　高屈折率層のバインダー成分は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。高屈折率層の全バインダー成分に対する硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
　高屈折率層の硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物は、低屈折率層で例示したものと同様のものが挙げられる。高屈折率層に用いる電離放射線硬化性化合物は、多官能（メタ）アクリレート系化合物を含むことが好ましい。
　高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、スズドープ酸化インジウ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化イットリウム及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。
　高屈折率粒子の平均粒子径は、２ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましい。
　高屈折率粒子の平均粒子径の好ましい範囲の実施形態は、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下、２ｎｍ以上８０ｎｍ以下、２ｎｍ以上６０ｎｍ以下、２ｎｍ以上３０ｎｍ以下、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、５ｎｍ以上６０ｎｍ以下、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下が挙げられる。
　高屈折粒子の平均粒子径は、以下のＥ１～Ｅ３の作業により算出する。
Ｅ１：反射防止部材の断面をＳＥＭで撮像する。ＳＥＭの加速電圧は１０ｋＶ以上３０ｋＶ以下、倍率は５万倍以上３０万倍以下の範囲で調整する。
Ｅ２：観察画像から任意の１０個の高屈折粒子を抽出し、個々の高屈折粒子の粒子径を算出する。粒子径は、高屈折粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、前記２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
Ｅ３：同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を、高屈折粒子の平均粒子径とする。
　高屈折率粒子の含有量は、バインダー成分１００質量部に対して、下限は、１００質量部以上であることが好ましく、１５０質量部以上であることがより好ましく、２５０質量部以上であることがさらに好ましく、上限は、５００質量部以下であることが好ましく、４００質量部以下であることがより好ましく、３５０質量部以下であることがさらに好ましい。
　バインダー成分１００質量部に対する高屈折率粒子の含有量の好ましい範囲の実施形態は、１００質量部以上５００質量部以下、１００質量部以上４００質量部以下、１００質量部以上３５０質量部以下、１５０質量部以上５００質量部以下、１５０質量部以上４００質量部以下、１５０質量部以上３５０質量部以下、２５０質量部以上５００質量部以下、２５０質量部以上４００質量部以下、２５０質量部以上３５０質量部以下が挙げられる。
　高屈折率層の屈折率は、下限は、１．５３以上が好ましく、１．５４以上がより好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．５６以上がより好ましく、上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７８以下がより好ましく、１．７７以下がより好ましい。
　高屈折率層の屈折率の好ましい範囲の実施形態は、１．５３以上１．８５以下、１．５３以上１．８０以下、１．５３以上１．７８以下、１．５３以上１．７７以下、１．５４以上１．８５以下、１．５４以上１．８０以下、１．５４以上１．７８以下、１．５４以上１．７７以下、１．５５以上１．８５以下、１．５５以上１．８０以下、１．５５以上１．７８以下、１．５５以上１．７７以下、１．５６以上１．８５以下、１．５６以上１．８０以下、１．５６以上１．７８以下、１．５６以上１．７７以下が挙げられる。
　高屈折率層の厚みは、上限は、２００ｎｍ以下が好ましく、１８５ｎｍ以下がより好ましく、１７５ｎｍ以下がさらに好ましく、下限は、５０ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより好ましい。
　高屈折率層の厚みの好ましい範囲の実施形態は、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、５０ｎｍ以上１８５ｎｍ以下、５０ｎｍ以上１７５ｎｍ以下、７０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、７０ｎｍ以上１８５ｎｍ以下、７０ｎｍ以上１７５ｎｍ以下が挙げられる。
　高屈折率層中には、更に、レベリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤、光安定剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。
＜表面形状＞
　反射防止部材の低屈折率層側の表面は、算術平均粗さＲａが、２．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下であることが好ましく、３．５ｎｍ以上１４．５ｎｍ以下であることがより好ましく、５．０ｎｍ以上１４．０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　Ｒａが２．０ｎｍ未満の場合、中実粒子αの個数の平均が少なくなりすぎる場合がある。Ｒａが１５．０ｎｍを超える場合、中実粒子αの個数の平均が多くなりすぎる場合がある。
　Ｒａの好ましい範囲の実施形態は、２．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下、２．０ｎｍ以上１４．５ｎｍ以下、２．０ｎｍ以上１４．０ｎｍ以下、３．５ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下、３．５ｎｍ以上１４．５ｎｍ以下、３．５ｎｍ以上１４．０ｎｍ以下、５．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下、５．０ｎｍ以上１４．５ｎｍ以下、５．０ｎｍ以上１４．０ｎｍ以下が挙げられる。
　本明細書において、Ｒａは、１０箇所の測定値の平均値を意味する。本明細書において、Ｒａは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３に準拠して測定するものとする。
＜光学特性＞
　反射防止部材は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
　全光線透過率、及び、後述するヘイズを測定する際の光入射面は、低屈折率層側の表面とは反対側とする。
　本明細書において、全光線透過率、ヘイズ及び視感反射率Ｙ値は、１０箇所の測定値の平均値を意味する。
　反射防止部材は、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１．５％以下であることが好ましく、１．３％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。ヘイズを１．５％以下とすることにより、映像の解像度を良好にしやすくできる。ヘイズの下限値は特に制限されないが、通常０．１％以上である。
　反射防止部材のヘイズの好ましい範囲の実施形態は、０．１％以上１．５％以下、０．１％以上１．３％以下、０．１％以上１．０％以下が挙げられる。
＜視感反射率Ｙ値＞
　本開示の反射防止部材は、低屈折率層側から光入射角５度で測定した視感反射率Ｙ値が３．０％以下であることが好ましく、２．５％以下であることがより好ましく、２．０％以下であることがより好ましく、１．５％以下であることがより好ましい。
　本開示において、視感反射率Ｙ値は、反射防止部材の基材側の面に透明粘着剤層を介して黒色板を貼り合わせたサンプルを作製し、前記サンプルの低屈折率層側から入射角５°で光を入射させることにより測定するものとする。反射率を算出する際の光源の条件はＤ６５光源とする。
　サンプルの透明粘着剤層と接する部材と、透明粘着剤層との屈折率差は０．１５以内とする。前記屈折率差は０．１０以内とすることが好ましく、０．０５以内とすることがより好ましい。サンプルの透明粘着剤層と接する部材は、例えば、基材である。黒色板は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が１％以下のものとする。黒色板の全高専透過率は０％が好ましい。黒色板を構成する樹脂の屈折率と、透明粘着剤層との屈折率差は０．１５以内とする。前記屈折率差は０．１０以内とすることが好ましく、０．０５以内とすることがより好ましい。
　前記サンプルは、後述するＳＣＥの測定でも用いる。
＜ＳＣＥ＞
　本開示の反射防止部材は、低屈折率層側からＳＣＥ方式により測定した反射率が０．５０％以下であることが好ましく、０．４０％以下であることがより好ましく、０．３０％以下であることがより好ましく、０．２５％以下であることがより好ましい。ＳＣＥは、Specular　Component　Excludeの略称であり、受光する反射光に試料からの鏡面反射となる成分を除いた反射光である。
　ＳＣＥは、前記サンプルの低屈折率層側を光入射面として測定する。
　ＳＣＥの測定装置は、ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃに準拠した構成である。
＜ＪＩＳ　Ｚ８７２２：２００９の幾何条件ｃ＞
　試料をあらゆる方向から均等に照射し、試料面の法線とのなす角度が１０°以下の方向の反射光を受光する。この場合、受光光線束には、その中心線に対し５°以上の傾きをもつ光線が含まれてはならない。鏡面反射となる成分を除く場合に用いる光トラップは、平滑な鏡面からの正反射光を少なくとも９５％は除く。
＜大きさ、形状等＞
　反射防止部材は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態でもよいし、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態であってもよい。枚葉の大きさは特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。「最大径」とは、反射防止部材の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。反射防止部材が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。反射防止部材が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
　ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は５００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下、長さは５０ｍ以上５０００ｍ以下程度である。ロール状の形態の反射防止部材は、画像表示装置等の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。
　枚葉の形状も特に限定されず、例えば、三角形、長方形及び五角形等の多角形であってもよいし、円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。より具体的には、反射防止部材が長方形である場合には、縦横比は表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、横：縦＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。
［偏光板］
　本開示の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置されてなる第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の何れか一方が、上述した本開示の反射防止部材であり、かつ、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなるものである。
　偏光板は、例えば、λ／４位相差板との組み合わせにより反射防止性を付与するために使用される。この場合、画像表示装置の表示素子上にλ／４位相差板を配置し、λ／４位相差板よりも視認者側に偏光板が配置される。
　液晶表示装置用においては、偏光板は、液晶シャッターの機能を付与するために使用される。この場合、液晶表示装置は、バックライト側から、下側偏光板、液晶表示素子、上側偏光板の順に配置され、下側偏光板の偏光子の吸収軸と上側偏光板の偏光子の吸収軸とが直交して配置される。液晶表示装置の構成では、上側偏光板及び下側偏光板として本開示の偏光板を用いることができ、上側偏光板として本開示の偏光板を用いることが好ましい。上側偏光板においては、偏光子の光出射面側の透明保護板として、本開示の反射防止部材を用いることが好ましい。下側偏光板においては、偏光子の光入射面側の透明保護板として、本開示の反射防止部材を用いることが好ましい。
＜透明保護板＞
　本開示の偏光板は、第１の透明保護板及び第２の透明保護板の少なくとも一方として上述した本開示の反射防止部材を含む。好ましい実施形態は、第１の透明保護板及び第２の透明保護板の両方が上述した本開示の反射防止部材を含むことである。
　第１の透明保護板及び第２の透明保護板の一方が上述した本開示の反射防止部材を含む場合、他方の透明保護板は、光学的等方性の透明保護板が好ましい。
　本明細書において、光学的等方性とは、面内位相差が２０ｎｍ以下のものを指し、好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下である。アクリルフィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムは、光学的等方性を付与しやすい。
　第１の透明保護板及び第２の透明保護板の一方が上述した本開示の反射防止部材を含む場合、光出射側の透明保護板が上述した本開示の反射防止部材を含むことが好ましい。
＜偏光子＞
　偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸した、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子；平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子；リオトロピック液晶又は二色性ゲスト－ホスト材料を塗布した塗布型偏光子；多層薄膜型偏光子；等が挙げられる。これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
［パネル］
　本開示のパネルは、表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有するパネルであって、前記光学フィルムとして上述した本開示の反射防止部材を含み、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなるものである（図２参照）。
　表示素子としては、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子及び無機ＥＬ表示素子等のＥＬ表示素子、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロＬＥＤ表示素子等のＬＥＤ表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
　液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる
　本開示のパネルは、表示素子と反射防止部材との間にタッチパネルを有するタッチパネル付きのパネルであってもよい。この場合、タッチパネル付きの画像表示パネルの最表面に反防止部材を配置し、かつ、反射防止部材の低屈折率層側の面が表示素子とは反対側を向くように配置すればよい。
　パネルの大きさ特に限定されないが、最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。最大径とは、画像表示パネルの面内の任意の２点を結んだ際の最大長さを意味する。
［画像表示装置］
　本開示の画像表示装置は、上述した本開示のパネルを含み、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなるものである。
　本開示の画像表示装置は、さらに、前記パネルに電気的に接続された駆動制御部と、前記パネル及び前記駆動制御部等を収容する筐体とを備えることが好ましい。
　表示素子が液晶表示素子である場合、本開示の画像表示装置にはバックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の光出射面側とは反対側に配置される。
　画像表示装置の大きさ特に限定されないが、有効表示領域の最大径が２インチ以上５００インチ以下程度である。
　画像表示装置の有効表示領域とは、画像を表示し得る領域である。例えば、画像表示装置が表示素子を囲う筐体を有する場合、筐体の内側の領域が有効表示領域となる。
　有効表示領域の最大径とは、有効表示領域内の任意の２点を結んだ際の最大長さをいうものとする。例えば、有効表示領域が長方形の場合は、長方形の対角線が最大径となる。有効表示領域が円形の場合は、円の直径が最大径となる。
［反射防止性物品］
　本開示の反射防止性物品は、部材上に上述した本開示の反射防止部材の低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなるものである。
　部材と反射防止部材とは、接着剤層を介して積層されることが好ましい。
　部材としては、インストルメントパネル、時計、ショーケース、ショーウィンドウ及び窓が挙げられる。部材は、透明でも不透明でもよく、色調も特に限定されない。
［反射防止部材の選定方法］
　本開示の反射防止部材の選定方法は、
　下記（１）～（４）を満たすか否かを判定し、下記（１）～（４）を満たすものを選定するものである。
（１）基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であること。
（２）前記低屈折率層が、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含むこと。
（３）前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含むこと。
（４）前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下であること。
　本開示の反射防止部材の選定方法は、上記（１）～（４）を満たす反射防止部材を選定することにより、耐擦傷性が良好な反射防止部材を効率よく選定することができる。
　上記（１）～（４）の好適な実施形態は、上述した本開示の反射防止部材の好適な実施形態に準じる。
　上記（１）に関しては、例えば、「基材、ハードコート層及び低屈折率層をこの順に有する反射防止部材」が好ましい。
　上記（２）に関しては、例えば、バインダー成分として、ポリシルセスキオキサンの硬化物を含むことが好ましい。
　上記（３）に関しては、例えば、中実粒子αが中実シリカ粒子であることが好ましい。
　上記（４）に関しては、例えば、中実粒子αの個数の平均が、０．８個以上７．０個以下であることが好ましい。
　本開示の反射防止部材の選定方法は、さらに、追加の判定条件を有することが好ましい。追加の判定条件としては、上述した本開示の反射防止部材において例示した好適な実施形態から選ばれる１以上が挙げられる。
　追加の判定条件の具体例としては、例えば、下記（５）～（７）が挙げられる。すなわち、本開示の反射防止部材の選定方法は、下記（５）～（７）の判定条件から選ばれる１以上を有することが好ましい。下記（５）～（７）の好適な実施形態は、上述した本開示の反射防止部材の好適な実施形態に準じる。
（５）前記反射防止部材の前記低屈折率層側の表面の算術平均粗さＲａが、２．０ｎｍ以上１５．０ｎｍ以下であるであること。
（６）低屈折率層側から光入射角５度で測定した視感反射率Ｙ値が３．０％以下であること。
（７）低屈折率層側から測定したＳＣＥが０．５０％以下であること。
　本開示は、以下の＜１＞～＜１８＞を含む。
＜１＞　基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であって、
　前記低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含み、
　前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、
　前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下である、反射防止部材。
＜２＞　前記中空粒子の平均粒子径が４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、＜１＞に記載の反射防止部材。
＜３＞　前記中実粒子αの平均粒子径が５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の反射防止部材。
＜４＞　前記低屈折率層の厚みをＴ、前記中空粒子の平均粒子径をＤ１と定義した際に、Ｄ１／Ｔが０．２以上１．７以下である、＜１］～＜３＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜５＞　前記低屈折率層の厚みをＴ、前記中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｔが０．３以上２．５以下である、＜１］～＜４＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜６＞　前記中空粒子の平均粒子径をＤ１、前記中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｄ１が１．０超３．８以下である、＜１＞～＜５＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜７＞　前記中空粒子が中空シリカ粒子である、＜１＞～＜６＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜８＞　前記中実粒子αが中実シリカ粒子である、＜１＞～＜７＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜９＞　前記中実粒子として、さらに、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径以下である中実粒子βを含む、＜１］～＜８＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜１０＞　前記中実粒子βとして、中実シリカ粒子、中実アルミナ粒子、中実チタニア粒子及び中実ジルコニア粒子から選ばれる１種以上の中実粒子を含む、＜９＞に記載の反射防止部材。
＜１１＞　前記バインダー成分として、ポリシルセスキオキサンの硬化物を含む、＜１＞～＜１０＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜１２＞　前記基材と前記低屈折率層との間に、１以上の機能層を有する、＜１＞～＜１１＞の何れかに記載の反射防止部材。
＜１３＞　前記機能層としてハードコート層を有する、＜１２＞に記載の反射防止部材。
＜１４＞　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置されてなる第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の何れか一方が、＜１＞～＜１３＞の何れかに記載の反射防止部材であり、かつ、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなる、偏光板。
＜１５＞　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有するパネルであって、前記光学フィルムとして＜１＞～＜１３＞の何れかに記載の反射防止部材を含み、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示パネル。
＜１６＞　＜１５＞に記載のパネルを含み、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示装置。
＜１７＞　部材上に、＜１＞～＜１３＞の何れかに記載の反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる反射防止性物品。
＜１８＞　反射防止部材の選定方法であって、
　下記（１）～（４）を満たすか否かを判定し、下記（１）～（４）を満たすものを選定する、反射防止部材の選定方法。
（１）基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であること。
（２）前記低屈折率層が、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含むこと。
（３）前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含むこと。
（４）前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下であること。
　次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
１．測定及び評価
　以下のように、実施例及び比較例の反射防止部材の測定及び評価を行った。
　各測定及び評価時の雰囲気は、特記しない限り、温度２３±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。各測定及び評価の開始前に、対象サンプルを前記雰囲気に３０分以上６０分以下晒してから測定及び評価を行った。
　各測定及び評価に用いるサンプルは、実施例及び比較例の反射防止部材を切断して作製する。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がない事を確認の上、ランダムな部位から選択した。
１－１．中実粒子αの個数の平均
　実施例及び比較例の反射防止部材について、中実粒子αの個数の平均を測定した。測定は、明細書本文の工程１～３で実施した。工程１で使用する走査型透過電子顕微鏡としては、日立ハイテクノロジーズ社の商品名ＳＵ－９０００を用いた。工程１において、モードは「ＢＦＳＴＥＭ」、加速電圧は30kV、エミッション電流は20uAとした。画像は、スケールバーを含まない領域が、横2.54μｍ×縦1.91μｍになるように調整した。前記領域は、DataSize=1280x960、PixelSize=1.984375nmから計算した。
　工程１において、反射防止部材の垂直断面が露出した切片サンプルは、下記（Ａ１）～（Ａ２）の手順で作製した。
（Ａ１）反射防止部材を任意の大きさに切断したカットサンプルを作製した後、前記カットサンプルを樹脂で包埋した包埋サンプルを作製した。カットサンプルの大きさは、縦１０ｍｍ×横３ｍｍの短冊状とした。包埋用の樹脂には、エポキシ樹脂を用いた。
　包埋サンプルは、シリコン包埋板内にカットサンプルを配置した後に包埋用の樹脂を流し込み、さらに、常温で１２時間放置して包埋用の樹脂を硬化させた後、シリコン包埋板から、カットサンプル及びこれを包む包埋用の樹脂を取り出すことにより得た。包埋サンプルの形状はブロック状とした。
　包埋用のエポキシ樹脂には、ストルアス社製の商品名「エポフィックス」と、同社製の商品名「エポフィックス用硬化剤」とを１０：１．２で混合したものを用いた。シリコン包埋板には、堂阪イーエム社製のシリコン包埋板を用いた。
（Ａ２）ブロック状の包埋サンプルを垂直に切削し、反射防止部材の断面が露出した切片サンプルを作製した。包埋サンプルはガラスナイフとダイヤモンドナイフを用いてミクロトームで切削した。
　ミクロトームとしては、ライカマイクロシステムズ社製の商品名「ウルトラミクロトーム　ＥＭ　ＵＣ７」を用いた。前記装置でブロック状の包埋サンプルを切削する際は、最初はガラスナイフで大まかに切削し、塗工面の断面を含む縦100um×横20um程度の面を作製した（粗トリミング）。最終的には、この面をダイヤモンドナイフで「SPEED：1.40mm/s」、「FEED：80nm」の条件で切削し、水上に浮かべた切片をメッシュで採取した。メッシュは日新EM製コロジオン膜貼付メッシュ(CatNo；651)を使用した。
１－２．視感反射率Ｙ値
　実施例及び比較例の反射防止部材を５ｃｍ×５ｃｍに切断した。切断した反射防止部材の基材側と、縦５ｃｍ×横５ｃｍの大きさの黒色板（クラレ社製、商品名：コモグラス　ＤＦＡ２ＣＧ　５０２Ｋ（黒）系、厚み２ｍｍ）とを、光学透明粘着シート（パナック社、商品名：パナクリーンPD-S1）を介して貼り合わせたサンプルを作製した。
　サンプルの低屈折率層側の表面に対して垂直方向を０度とした際に、５度の方向からサンプルに光を入射し、入射光の正反射光に基づいて、サンプルの視感反射率Ｙ値を測定した。測定した視感反射率Ｙ値は、初期の視感反射率Ｙ値を意味する。
　測定装置は、分光反射率測定器（島津製作所社製、商品名：ＵＶ－２６００）を用いた。前記測定装置は、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲を０．５ｎｍ間隔で反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度に換算するソフトにより、換算を実施するものである。前記ソフトは、前記測定装置に内蔵されているソフトである。前記ソフトでは、光源がＤ６５、視野角が２度であることを条件として反射率を算出している。
１－３．ＳＣＥ
　積分球分光光度計（コニカミノルタ株式会社製、商品名：ＣＭ－６００ｄ）を用い、１－２で作製したサンプルの低屈折率層側から、ＳＣＥ方式により反射率を測定した。積分球分光光度計の光源はＤ６５、受光器の位置はサンプルの法線に対して＋８度であり、受光器の開口角は１０度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して－８度であり、視野角は２度、の条件で測定した。測定した反射率は、初期の反射率を意味する。
１－４．全光線透過率（Ｔｔ）及びヘイズ（Ｈｚ）
　実施例及び比較例の反射防止部材を１０ｃｍ×１０ｃｍに切断して、測定用のサンプルを作製した。ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、下記の条件で各サンプルのＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率、及びＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００のヘイズを測定した。測定した全光線透過率及びヘイズは、初期の全光線透過率及びヘイズを意味する。
＜条件＞
　光源を安定させるために、事前に装置の電源スイッチをＯＮにしてから１５分以上経過した後、測定サンプルを設置する箇所である入口開口に何もセットせずに校正を行った。その後に入口開口に測定サンプルをセットして、全光線透過率及びヘイズを測定した。測定時の光入射面は基材側とした。
１－５．耐擦傷性１（耐消しゴム性）
（１）視感反射率Ｙ値の変化
　１－２で作製したサンプルの低屈折率層側の表面を、下記の条件により消しゴムで擦過した。そして、消しゴムで擦過した後の視感反射率Ｙ値を測定した。初期の視感反射率Ｙ値と、消しゴムで擦過した後の視感反射率Ｙ値との差を、ΔＹとして算出した。ΔＹが１．０％以下のものが合格である。
＜消しゴム擦過の条件＞
　消しゴム付き鉛筆（製品名「事務用鉛筆９８５２（消しゴム付）」、三菱鉛筆社製）を途中から切断した。切断した消しゴム付き鉛筆を消しゴム側とは反対側から直径６ｍｍの穴を有する治具に消しゴムが完全に露出するように挿入した。消しゴム付き鉛筆を有する治具を学振型磨耗堅牢度試験機（製品名「ＡＢ－３０１」、テスター産業社製）に取り付けて、荷重１０００ｇ、擦り速度３０．０ｍｍ／秒、１往復での移動距離３０ｍｍで、サンプルの低屈折率層側の表面を３０００往復擦った。
（２）純水接触角
　上記（１）の消しゴムで擦過した後の純水接触角測定用のサンプルとした。前記サンプルの低屈折率層側の表面の純水接触角を測定した。具体的には、ＪＩＳ　　Ｒ３２５７：１９９９に記載の静滴法に従って、顕微鏡式接触角計（製品名「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ３００」、協和界面科学社製）を用いて測定した。純水接触角は５点の平均値とした。滴下する純水の量は２μＬとした。消しゴム擦過後の純水接触角が９０度以上のものが合格である。
　なお、実施例及び比較例の反射防止部材の消しゴム擦過前の純水接触角はいずれも１１０度以上である。
（３）評価
　上記（１）及び（２）の結果をもとに、下記の基準で耐消しゴム性を評価した。耐消しゴム性が良好であると、指及び布等の柔らかい物に対する耐擦傷性が良好であるといえる。
Ａ：ΔＹ及び純水接触角がいずれも合格であるもの。言い換えると、ΔＹが１．０％以下であり、かつ、消しゴム擦過後の純水接触角が９０度以上のもの。
Ｃ：ΔＹ及び純水接触角の一方は合格であるが、他方が不合格であるもの。
Ｄ：ΔＹ及び純水接触角がいずれも不合格であるもの。言い換えると、ΔＹが１．０％を超え、かつ、消しゴム擦過後の純水接触角が９０度未満のもの。
１－６．耐擦傷性２（耐スチールウール性）
＜ならし運転＞
　測定装置（製品名「ＡＢ－３０１」、テスター産業社製）の計測ステージに、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み１００μｍ）を貼り合わせた。次いで、スチールウール（＃００００、日本スチールウール（株）製、商品名「ボンスター　Ｂ－２０４」）をセットした。ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面にスチールウールを接触させ、荷重５００ｇ、移動速度５０ｍｍ／秒、１往復での移動距離８０ｍｍの条件で、スチールウールを３００回往復させた。スチールウールとポリエチレンテレフタレートフィルムとの接触面積は４ｃｍ２とした。
＜本測定＞
　実施例及び比較例の反射防止部材を３ｃｍ×２５ｃｍに切断したサンプルを作製した。切断箇所は、目視でゴミや傷などの異常点がないことを確認の上、ランダムな部位から選択した。
　前記サンプルを、低屈折率層側を上面にして、前記測定装置の計測ステージに設置した。低屈折率層の表面に前記スチールウールを接触させ、荷重１５００ｇ、移動速度４０００ｍｍ／分、１往復での移動距離８０ｍｍの条件で、前記スチールウールを１０００回往復させた。スチールウールとサンプルとの接触面積は４ｃｍ２とした
　次いで、５００Ｌｕｘ以上１５００Ｌｕｘ以下の明室環境下において、１ｃｍ以上の長さの傷の数を目視で確認し、下記の基準でランク分けした。ただし、前述したように、長さが１ｃｍ未満の傷は傷としてカウントしなかった　。また、スチールウールの移動距離８０ｍｍのうち、各端部から１０ｍｍの領域は移動速度が等速ではない。このため、スチールウールの移動距離８０ｍｍのうち、各端部から１０ｍｍの領域については、傷をカウントしなかった。　
　Ａ：傷の数が５個未満
　Ｂ：傷の数が５個以上１５個未満
　Ｃ：傷の数が１５個以上のもの。あるいは、傷の数が１５個未満であっても低屈折率層に剥がれが生じたもの。
２．塗布液の調製
　ハードコート層用塗布液、低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液として下記の塗布液を調製した。塗布液中の「ＭＩＢＫ」及び「ＭＥＫ」は、それぞれ「メチルイソブチルケトン」及び「メチルエチルケトン」を意味する。
＜ハードコート層用塗布液１＞
・ウレタンアクリレート　１７質量部
（トクシキ社、商品名「AU-3110」）
・ポリプロピレングリコールアクリレート　３質量部
（新中村化学社、商品名「APG-200」）
・光重合開始剤　１．２質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・シリカ粒子　４０質量部
（固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均一次粒子径：20nm）
・レベリング剤　０．０３質量部
（ＢＹＫ社、商品名「BYK-331」）
・ＭＩＢＫ　６０質量部
＜低屈折率層用塗布液１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　１５質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　２２質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　１５質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：75nm）
・中実粒子α　２２質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　２８質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　１４質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　６質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　２７質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　１５質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　４４質量部
（中実シリカ粒子、固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：100nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液６＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　３７質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　１１質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液７＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　１５質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子β　２２質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液８＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　１５質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子β　２９質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：45nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液９＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　４２質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　７質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液１０＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　４２質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：75nm）
・中実粒子α　７質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液１１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中空シリカ粒子　５２質量部
（固形分20質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：60nm）
・中実粒子α　４質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜低屈折率層用塗布液１２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート　２質量部
（ダイセル・オルネクス社、商品名「PETIA」」
・メタクリロイル基を有するポリシルセスキオキサン　６質量部
（コンストゥルーケミカル社、商品名「Mehtacryl　polysilsesquioxane　cage　mixture」）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・中実粒子α　５０質量部
（中実シリカ粒子、固形分40質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：80nm）
・中実粒子β　１０質量部
（中実シリカ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：12nm）
・中実粒子β　８質量部
（中実アルミナ粒子、固形分30質量％、溶剤：ＭＩＢＫ、平均粒子径：30nm）
・レベリング剤　３０質量部
（信越化学社、商品名「KY-1211」、固形分20質量％、溶剤：ＭＥＫ）
・ＭＩＢＫ　７３０質量部
＜高屈折率層用塗布液１＞
・ウレタンアクリレート　４質量部
（共栄社化学株式会社、商品名「UA-306H」」
・酸化ジルコニウム粒子　７０質量部
（固形分70質量%、溶剤：ＭＥＫ、平均粒子径：11nm）
・光重合開始剤　１質量部
（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）
・レベリング剤　０．０４質量部
（ＢＹＫ社、商品名「BYK-331」）
・ＭＩＢＫ　５４０質量部
３．反射防止部材の作製
［実施例１］
　厚み５０μｍのポリエチレンテレフタラートフィルム上に、ハードコート層用塗布液１を塗布した後、７０℃×１分で乾燥し溶剤を揮発させた。続いて、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気において、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射することにより、ドライ厚み６μｍのハードコート層を形成した。
　次いで、ハードコート層上に低屈折率層用塗布液１を塗布した後、７０℃×６０秒で乾燥することにより、溶剤を揮発させた。続いて、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気において、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射することにより、ドライ厚み９５ｎｍの低屈折率層を形成し、実施例１の反射防止部材を得た。
［実施例２］
　ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして実施例２の反射防止部材を得た。実施例２の高屈折率層は、以下のように形成した。
　ハードコート層上に高屈折率層用塗布液１を塗布した後、７０℃×１分で乾燥し溶剤を揮発させた。続いて、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気において、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射することにより、ドライ厚み１００ｎｍの高屈折率層を形成した。
［実施例３、４、６～１１］
　低屈折率層用塗布液として表１に記載の番号の塗布液を用い、低屈折率層の厚みを表１の厚みとした以外は、実施例１と同様にして、実施例３、４、６～１１の反射防止部材を得た。
［実施例５］
　低屈折率層用塗布液として表１に記載の番号の塗布液を用いた以外は、実施例２と同様にして、実施例５の反射防止部材を得た。
［比較例１～６］
　低屈折率層用塗布液として表１に記載の番号の塗布液を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例１～６の反射防止部材を得た。
　表１において、＊１の含有割合は、低屈折率層の全固形分に対する中実粒子αの含有割合を意味し、＊２の含有割合は、低屈折率層の全固形分に対する中空粒子の含有割合を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表１及び２の結果から、実施例の反射防止部材は、耐擦傷性を良好にし得ることが確認できる。
　１０：基材
　２０：ハードコート層
　３０：低屈折率層
１００：反射防止部材
１１０：表示素子
１２０：画像表示パネル

 

Claims (18)

  1. 　基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であって、
    　前記低屈折率層は、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含み、
    　前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含み、
    　前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下である、反射防止部材。
  2. 　前記中空粒子の平均粒子径が４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項１に記載の反射防止部材。
  3. 　前記中実粒子αの平均粒子径が５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である、請求項１に記載の反射防止部材。
  4. 　前記低屈折率層の厚みをＴ、前記中空粒子の平均粒子径をＤ１と定義した際に、Ｄ１／Ｔが０．２以上１．７以下である、請求項１に記載の反射防止部材。
  5. 　前記低屈折率層の厚みをＴ、前記中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｔが０．３以上２．５以下である、請求項１に記載の反射防止部材。
  6. 　前記中空粒子の平均粒子径をＤ１、前記中実粒子αの平均粒子径をＤ２と定義した際に、Ｄ２／Ｄ１が１．０超３．８以下である、請求項１に記載の反射防止部材。
  7. 　前記中空粒子が中空シリカ粒子である、請求項１に記載の反射防止部材。
  8. 　前記中実粒子αが中実シリカ粒子である、請求項１に記載の反射防止部材。
  9. 　前記中実粒子として、さらに、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径以下である中実粒子βを含む、請求項１に記載の反射防止部材。
  10. 　前記中実粒子βとして、中実シリカ粒子、中実アルミナ粒子、中実チタニア粒子及び中実ジルコニア粒子から選ばれる１種以上の中実粒子を含む、請求項９に記載の反射防止部材。
  11. 　前記バインダー成分として、ポリシルセスキオキサンの硬化物を含む、請求項１に記載の反射防止部材。
  12. 　前記基材と前記低屈折率層との間に、１以上の機能層を有する、請求項１に記載の反射防止部材。
  13. 　前記機能層としてハードコート層を有する、請求項１２に記載の反射防止部材。
  14. 　偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる第１の透明保護板と、前記偏光子の他方の側に配置されてなる第２の透明保護板とを有する偏光板であって、前記第１の透明保護板及び前記第２の透明保護板の何れか一方が、請求項１～１３の何れかに記載の反射防止部材であり、かつ、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記偏光子とは反対側を向くように配置してなる、偏光板。
  15. 　表示素子と、前記表示素子の光出射面側に配置された光学フィルムとを有する画像表示パネルであって、前記光学フィルムとして請求項１～１３の何れかに記載の反射防止部材を含み、前記反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記表示素子とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示パネル。
  16. 　請求項１５に記載の画像表示パネルを含み、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる、画像表示装置。
  17. 　部材上に、請求項１～１３の何れかに記載の反射防止部材の前記低屈折率層側の面が前記部材とは反対側を向くように配置し、かつ前記反射防止部材を最表面に配置してなる反射防止性物品。
  18. 　反射防止部材の選定方法であって、
    　下記（１）～（４）を満たすか否かを判定し、下記（１）～（４）を満たすものを選定する、反射防止部材の選定方法。
    （１）基材上に低屈折率層を有する反射防止部材であること。
    （２）前記低屈折率層が、バインダー成分、中空粒子及び中実粒子を含むこと。
    （３）前記中実粒子として、粒子径が前記中空粒子の平均粒子径を超える中実粒子αを含むこと。
    （４）前記反射防止部材の垂直断面を走査型透過電子顕微鏡で撮像した画像において、前記低屈折率層の幅方向の１μｍあたりの前記中実粒子αの個数の平均が、０．７個以上８．０個以下であること。

     
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