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WO2022039014A1 - バリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置、並びに、バリアフィルムの選定方法 - Google Patents

バリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置、並びに、バリアフィルムの選定方法 Download PDF

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WO2022039014A1
WO2022039014A1 PCT/JP2021/028684 JP2021028684W WO2022039014A1 WO 2022039014 A1 WO2022039014 A1 WO 2022039014A1 JP 2021028684 W JP2021028684 W JP 2021028684W WO 2022039014 A1 WO2022039014 A1 WO 2022039014A1
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WO
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barrier film
inorganic oxide
layer
light
oxide layer
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/028684
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English (en)
French (fr)
Inventor
武士 坂本
龍太郎 原田
修一 田村
暁人 春木
祥多 山西
優子 藤岡
Original Assignee
大日本印刷株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大日本印刷株式会社 filed Critical 大日本印刷株式会社
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Priority to CN202180069616.2A priority patent/CN116324267B/zh
Priority to EP21858162.7A priority patent/EP4202505A4/en
Priority to JP2022543356A priority patent/JPWO2022039014A1/ja
Priority to US18/041,652 priority patent/US12019332B2/en
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Definitions

  • the present disclosure relates to a barrier film, a wavelength conversion sheet using the barrier film, a backlight and a liquid crystal display device, and a method for selecting a barrier film.
  • Such a liquid crystal display device generally consists of a color filter, a liquid crystal cell, and a backlight.
  • a liquid crystal display device generally controls the intensity of light by the shutter function of the liquid crystal layer in the liquid crystal cell, and displays the color of each pixel by dividing it into the three primary colors of R, G, and B by a color filter. , Displays an image.
  • a cold cathode fluorescent lamp was used as a light source for the backlight of a liquid crystal display device.
  • the light source of the backlight is switched from the cold cathode fluorescent lamp to the LED.
  • the LED used as a light source of a normal backlight what is called a white LED formed by combining a blue LED and a YAG-based yellow phosphor is used.
  • Such a white LED has a broad spectral distribution of emission wavelength and is called pseudo-white.
  • Quantum dots are nanometer-sized fine particles of semiconductors.
  • the basic configuration of a backlight using quantum dots is a combination of a light source that produces primary light (such as a blue LED that emits blue light) and quantum dots.
  • Quantum dots are, for example, nano-sized compound semiconductor fine particles composed of semiconductor fine particles composed of a core which is CdSe and a shell which is ZnS, and a ligand which covers the periphery of the shell. Since the particle size of the quantum dot is smaller than the Bohr radius of the exciton of the compound semiconductor, the quantum confinement effect appears. Therefore, the luminous efficiency of the quantum dots is higher than that of the conventionally used phosphors using rare earth ions as an activator, and a high luminous efficiency of 90% or more can be realized. Further, since the emission wavelength of the quantum dots is determined by the bandgap energy of the compound semiconductor fine particles quantized in this way, an arbitrary emission spectrum can be obtained by changing the particle size of the quantum dots. A backlight that combines these quantum dots with a blue LED or the like is capable of achieving high luminous efficiency and high color purity (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
  • Patent Documents 3 and 4 propose a wavelength conversion sheet in which a quantum dot-containing layer is protected by a barrier film having a base material, an inorganic oxide layer and an organic coating layer.
  • the liquid crystal display device using the wavelength conversion sheets of Patent Documents 3 and 4 has a different color from the initial color while being used continuously, despite the low water vapor transmission rate of the wavelength conversion sheet. There were some cases where the image of was visually recognized. That is, in the liquid crystal display device using the wavelength conversion sheets of Patent Documents 3 and 4, when the initial time point and the arbitrary time point were compared, there were some cases where the color taste was significantly different. Quantum dots are characterized by increasing color purity. Therefore, the instability of the color of the liquid crystal display device using the quantum dots is an extremely important problem in terms of quality because the characteristics of the liquid crystal display device are impaired.
  • a barrier film capable of suppressing a change in color when applied to a wavelength conversion sheet.
  • Another object of the present disclosure is to provide a wavelength conversion sheet, a backlight, and a liquid crystal display device using the barrier film. It is also an object of the present disclosure to provide a method for selecting a barrier film.
  • the present inventors have swelled the organic coating layer of the barrier film when the wavelength conversion sheet to which the barrier film is applied is exposed to a high humidity environment, and the spectrum of the barrier film is dispersed. It was found that the tint was changed by changing the waveform of the transmission spectrum. As a result of further diligent research, the present inventors have considered the central wavelength of the primary light of the backlight so that the spectral transmission spectrum of the barrier film shows a peak or a bottom in a predetermined wavelength range, thereby making the barrier. It has been found that the change in color of a wavelength conversion sheet or the like to which a film is applied can be suppressed.
  • a barrier film comprising at least one or more inorganic oxide layers and at least one or more organic coating layers on one surface of a light-transmitting substrate.
  • the value of water vapor transmission rate according to JIS K7129-2: 2019 is 0.20 g / m 2 ⁇ day or less, and
  • the spectral transmittance of the barrier film is measured with the surface having the inorganic oxide layer and the organic coating layer as the light incident surface, the spectral transmittance changes from decreasing to increasing in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It has a bottom of transmittance or a peak of spectral transmittance in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease.
  • the barrier film according to [1] which has a spectral transmittance peak in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease in the range of 450 nm ⁇ 7 nm.
  • the barrier film according to [1] which has a bottom of the spectral transmittance at which the spectral transmittance changes from decreasing to increasing at 443 nm or more and 450 nm or less.
  • the inorganic oxide layer A as the inorganic oxide layer, the organic coating layer B as the organic coating layer, and the inorganic oxide layer as the inorganic oxide layer are formed on one surface of the light-transmitting substrate.
  • the inorganic oxide layer A as the inorganic oxide layer, the organic coating layer B as the organic coating layer, and the inorganic oxide layer as the inorganic oxide layer are formed on one surface of the light-transmitting substrate.
  • a barrier film having at least one or more inorganic oxide layers and at least one organic coating layer on one surface of a light-transmitting substrate the following criteria 1 and 2 are applied.
  • ⁇ Criteria 1> The value of the water vapor transmission rate of the barrier film according to JIS K7129-2: 2019 is 0.20 g / m 2 ⁇ day or less.
  • the barrier film of the present disclosure and the wavelength conversion sheet, backlight, and liquid crystal display device using the barrier film can suppress the change in color. Further, in the method for selecting the barrier film of the present disclosure, it is possible to easily select a barrier film capable of suppressing a change in color.
  • AA-BB means that it is AA or more and BB or less.
  • the refractive index of each layer means the refractive index at a wavelength of 632.8 nm.
  • the refractive index of each layer can be calculated, for example, by fitting a reflection spectrum measured by a reflected photometer and a reflection spectrum calculated from an optical model of a multilayer thin film using a Fresnel coefficient.
  • the refractive indexes of the light-transmitting substrate, the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C, and the organic coating layer D are set to n 0 , n A , and n B , respectively. , N C , and n D.
  • the thicknesses of the light-transmitting substrate, the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C, and the organic coating layer D are set to t 0 , t A , and t B , respectively. It is referred to as t C and t D.
  • the barrier film of the present disclosure is A barrier film comprising at least one inorganic oxide layer and at least one organic coating layer on one surface of a light-transmitting substrate.
  • the value of water vapor transmission rate according to JIS K7129-2: 2019 is 0.20 g / m 2 ⁇ day or less, and
  • the spectral transmittance of the barrier film is measured with the surface having the inorganic oxide layer and the organic coating layer as the light incident surface, the spectral transmittance changes from decreasing to increasing in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It has a bottom of transmittance or a peak of spectral transmittance in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease. It is used for wavelength conversion sheets.
  • FIGS. 1 to 3 are cross-sectional views showing an embodiment of the barrier film (100) of the present disclosure.
  • the barrier film (100) of FIGS. 1 to 3 has an inorganic oxide layer A (21), an organic coating layer B (31), and an inorganic oxide layer C (22) on a light-transmitting substrate (10).
  • the barrier film (100) of FIG. 1 has an organic coating layer D (32) on the opposite side of the inorganic oxide layer C (22) from the organic coating layer B (31).
  • the barrier film (100) of FIG. 2 has an organic coating layer D (32) and a primer layer E (40) on the opposite side of the inorganic oxide layer C (22) from the organic coating layer B (31). is doing.
  • the barrier film (100) of FIG. 3 has a primer layer E (40) on the opposite side of the inorganic oxide layer C (22) from the organic coating layer B (31).
  • the barrier film is required to have a value of water vapor transmission rate according to JIS K7129-2: 2019 of 0.20 g / m 2 ⁇ day or less.
  • the barrier film cannot suppress the deterioration of the quantum dots, so that the barrier film has a peak or bottom of spectral transmittance at 450 nm ⁇ 7 nm.
  • the change in color cannot be suppressed.
  • the water vapor transmission rate is preferably 0.17 g / m 2 ⁇ day or less, more preferably 0.15 g / m 2 ⁇ day or less, and further preferably 0.13 g / m 2 ⁇ day or less. preferable.
  • the lower limit of the water vapor transmission rate is not particularly limited, but is usually about 0.05 g / m 2 ⁇ day in consideration of ease of manufacture and cost.
  • the temperature and humidity conditions for measuring the water vapor transmission rate are 40 ° C. and 90% relative humidity. Further, before measuring the water vapor transmission rate, the sample for measurement shall be exposed to an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less for 30 minutes or more.
  • the water vapor transmission rate can be measured by, for example, a water vapor transmission rate measuring device (trade name: PERMATRAN) manufactured by MOCON.
  • the water vapor transmission rate can be easily set in the above range by forming at least one of the inorganic oxide layer and the organic coating layer in two or more layers. Further, the water vapor transmission rate can be easily set in the above range by increasing the thickness of the inorganic oxide layer or the organic coating layer.
  • the barrier film of the present disclosure has a spectral transmittance in the range of 450 nm ⁇ 7 nm when the spectral transmittance of the barrier film is measured with the surface having the inorganic oxide layer and the organic coating layer as the light incident surface. Is required to have a bottom of spectral transmittance that changes from decrease to increase, or a peak of spectral transmittance that changes from increase to decrease.
  • the surface of the barrier film on the side having the inorganic oxide layer and the organic coating layer means the surface on the side having the inorganic oxide layer and the organic coating layer with reference to the light-transmitting substrate.
  • the upper surface of FIGS. 1 to 3 is the light incident surface.
  • the barrier films (100a, 100b) are arranged on both sides of the quantum dot-containing layer (50) and are used as constituent members of the wavelength conversion sheet (200).
  • the light emitted from the primary light source of the backlight (generally, blue light having a wavelength of 450 nm as the center) is the barrier film (100b) on the lower side of the wavelength conversion sheet (200). ) Is incident on the light-transmitting substrate (10).
  • the light of the primary light source When the light of the primary light source is incident on the light transmissive substrate (10) of the barrier film (100b) on the lower side of the wavelength conversion sheet (200) of FIGS. 4 to 6, most of the light is on the lower barrier. It penetrates the film (100b) and reaches the quantum dot-containing layer (50). Then, among the light of the primary light source that has reached the quantum dot-containing layer (50), the light that collides with the quantum dots is converted into light having a wavelength different from that of the primary light source (hereinafter, it collides with the quantum dots and is converted.
  • the light is referred to as L2), and is incident on the upper barrier film (100a). Examples of L2 include green light and red light.
  • the light that does not collide with the quantum dots is incident on the upper barrier film (100a) as the light of the wavelength of the primary light source.
  • the light that does not collide with the quantum dots and is not converted is referred to as L1.
  • Examples of L1 include blue light.
  • Most of the light (L1 and L2) incident on the upper barrier film (100a) passes through the upper barrier film (100a) and is arranged closer to the viewer than the wavelength conversion sheet (200).
  • Toward a member for example, a brightness improving sheet such as a prism sheet).
  • the color of the liquid crystal display device to which the wavelength conversion sheet including the barrier film is applied is established by the balance between L1 and L2. Therefore, it is considered that the reason why the color of the liquid crystal display device to which the wavelength conversion sheet is applied changes with time is that the balance between L1 and L2 changes.
  • the present inventors have diligently studied the cause of the change in the balance between L1 and L2. First, it is considered that the amount of light of L2 gradually decreases as the quantum dots deteriorate. However, since the deterioration of the quantum dots is suppressed by the presence of the barrier film or the like, the change in color cannot be explained only by the deterioration of the quantum dots. Further, when the primary light source is deteriorated, not only L1 but also L2 is relatively reduced, so that it is unlikely that the deterioration of the primary light source is the cause.
  • the present inventors have found that the change in the transmittance of L1 of the upper barrier film 100a ( ⁇ the change in the amount of light of L1 emitted from the upper barrier film) and the amount of light of L2 due to the deterioration of the quantum dots. It was found that the color of the liquid crystal display device to which the wavelength conversion sheet containing the barrier film was applied was changed by the synergistic action of the change. Then, the present inventors mainly cause the transmittance of L1 of the upper barrier film 100a ( ⁇ the amount of light of L1 emitted from the upper barrier film 100a) to change with time due to the swelling of the organic coating layer due to humidity. I found that there is.
  • the spectral transmittance of the barrier film has a peak or bottom in the range of 450 nm ⁇ 7 nm indicates that the waveform of the spectral transmittance spectrum of the light transmitted through the barrier film has a peak or bottom in the vicinity of 450 nm. ing.
  • the waveform of the spectral transmission spectrum of the barrier film having a peak or a bottom in the vicinity of 450 nm, it is possible to suppress the suppression of the change in color when exposed to a high humidity environment.
  • the reason for producing such an effect is considered as follows. First, when the barrier film is exposed to a high humidity environment, the organic coating layer of the barrier film swells.
  • the thickness of the organic coating layer increases, so that the waveform of the spectral transmittance of the barrier film shifts (mainly shifts to the long wavelength side).
  • the spectral transmittance of the barrier film tends to change little in the vicinity of the peak or the bottom, but increases in the region outside the peak or the bottom. Therefore, by setting the transmittance of the barrier film at a wavelength of 450 nm near the peak or near the bottom, it is possible to suppress a change in the transmittance at 450 nm when the organic coating layer swells and the waveform of the spectral transmission spectrum shifts. it is conceivable that.
  • the central wavelength of the primary light of the backlight using the quantum dots is approximately 450 nm, suppressing the change in the transmittance of the barrier film at 450 nm is the result of the light of the primary light source reaching the quantum dot-containing layer (50).
  • the change in the transmittance of the light (L1) that did not collide with the quantum dots can be suppressed, and the change in the tint of the backlight using the quantum dots can be suppressed.
  • the wavelength region of L2 green and red
  • the wavelength region of L2 has a longer period of the waveform of the spectral transmission spectrum than that of L1 (blue), it is not easily affected by the swelling of the organic coating layer.
  • the position of the peak or bottom of the spectral transmittance of the barrier film in the range of 450 nm ⁇ 7 nm, it is possible to suppress the change in color when the barrier film is applied to the wavelength conversion sheet. It is thought that it can be done.
  • the position of the peak or the bottom is more preferably in the range of 450 nm ⁇ 5 nm, further preferably in the range of 450 nm ⁇ 3 nm, and even more preferably in the range of 450 nm ⁇ 1 nm.
  • the spectral transmittance is preferably measured with the measurement wavelength interval set to 1 nm.
  • Examples of the device for measuring the spectral transmittance include an ultraviolet-visible spectrophotometer (model number: V-670) manufactured by JASCO Corporation.
  • temperature when measuring various parameters such as spectral transmittance, total light transmittance, tint (x value and y value of Yxy color system), thickness of each layer, etc., unless otherwise specified, temperature is used.
  • the measurement shall be performed in an atmosphere of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less.
  • the sample shall be exposed to the atmosphere for at least 30 minutes before measuring various parameters.
  • Adjustment method of peak or bottom position a method for adjusting the position of the peak or the bottom will be described.
  • the reason why the value of the spectral transmittance differs depending on the wavelength is mainly due to the thin film interference of the laminated body.
  • a method for adjusting the position of the peak or the bottom by thin film interference will be described using the wavelength conversion sheet of FIG. 4 as an example.
  • L1 light of the primary light source that has reached the quantum dot-containing layer (50) and does not collide with the quantum dots
  • the six interfaces are the interface between the quantum dot-containing layer and the organic coating layer D (interface 1), the interface between the organic coating layer D and the inorganic oxide layer C (interface 2), the inorganic oxide layer C and the organic coating layer B.
  • Interface (interface 3) interface between organic coating layer B and inorganic oxide layer A (interface 4), interface between inorganic oxide layer A and light-transmitting substrate (interface 5), light-transmitting substrate
  • the refractive index n Z of the quantum dot-containing layer is usually smaller than the refractive index n D of the organic coating layer D. Therefore, the reflection at interface 1 is usually a fixed end reflection.
  • the transmittance (%) of L1 is generally "100 (%) -reflectance (%)". Then, the reflectance of L1 needs to consider the interference between the reflection of the interface 1 and the reflection of another interface. Specifically, when the reflection of the interface 1 is reduced by the interference with the reflection of another interface, the transmittance of L1 becomes high, and conversely, the reflection of the interface 1 is reduced by the interference with the reflection of the other interface. When it increases, the transmittance of L1 decreases.
  • the refractive index n A of the inorganic oxide layer A and the refractive index n C of the inorganic oxide layer C are the refractive index n B of the organic coating layer B and the refractive index n of the organic coating layer D.
  • the reflection at the interface 2 is the fixed end reflection
  • the reflection at the interface 3 is the free end reflection
  • the reflection at the interface 4 is the fixed end reflection.
  • the barrier property tends to be good even if the thickness of the inorganic oxide layer is thin, so that the thickness of the inorganic oxide layer is usually thin. design. Therefore, the optical distance in the fixed end reflection of the interface 2 and the optical distance in the free end reflection of the interface 3 can be regarded as substantially the same. Further, since usually n A ⁇ n C and n B ⁇ n D , the reflectances of the interface 2 and the interface 3 are substantially the same. Therefore, it can be considered that the fixed-end reflection of the interface 2 and the free-end reflection of the interface 3 cancel each other out and do not affect the fixed-end reflection of the interface 1.
  • the refractive index nA of the inorganic oxide layer A is higher than the refractive index n0 of the light transmissive substrate.
  • the reflection at the interface 5 is a free end reflection.
  • the optical distance in the fixed end reflection of the interface 4 and the freedom of the interface 5 are usually designed to reduce the thickness of the inorganic oxide layer. It can be regarded as substantially the same as the optical distance in the edge reflection.
  • the reflectance of the interface 4 and the reflectance of the interface 5 are compared, and the reflection of the interface having the higher reflectance affects the fixed-end reflection of the interface 1.
  • the reflectance of the interface (interface 4) between the inorganic oxide layer A and the organic coating layer B is larger than the reflectance of the interface (interface 5) between the light-transmitting substrate and the inorganic oxide layer A.
  • the interface 5 is not considered as the reflection that affects the fixed-end reflection of the interface 1, but the interface 4 is considered.
  • the reflection of the interface 6 is examined.
  • the thickness of the light-transmitting substrate is designed to be sufficiently thicker than the wavelength of light.
  • the reflection at the interface 6 is a reflection that can be ignored as so-called thin film interference.
  • the reflection that should be considered as the reflection that interferes with the reflection of the interface 1 is the fixed end reflection of the interface 4.
  • reflections other than the interface 4 also have a slight effect on the reflection of the interface 1.
  • only the reflection of the interface 4 affects the reflection of the interface 1.
  • the reflection of the interface 4 is the reflection of the interface 1 when the relationship of the following formula m-1 is satisfied for the light having the wavelength ⁇ . And the reflectance is reduced. And, the decrease of the reflectance means that the transmittance increases. Therefore, assuming that the reflections at the interface 1 and the interface 4 are both fixed-end reflections, the light having a wavelength ⁇ emitted from the quantum dot-containing layer is transmitted when the relationship of the following equation m-1 is satisfied. The rate is the highest. In the above example, it is assumed that the thicknesses of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are thin enough not to affect the interference.
  • Equation m-1 can be transformed into the following equation m-2.
  • n B x t B + n D x t D ⁇ / 4 (Equation m-2)
  • “D 1 ” in the following formula m-3 indicates how many times “n B ⁇ t B + n D ⁇ t D ” is “112.5 nm”.
  • d 1 n B ⁇ t B / 112.5 nm + n D ⁇ t D / 112.5 nm (Equation m-3) Then, assuming that the reflections of the interface 1 and the interface 4 are both fixed-end reflections, when d 1 of the equation m-3 is 2x + 1 (x is an integer of 0 or more), light having a wavelength of 450 nm is obtained.
  • the spectral transmittance has a peak or bottom in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It can be easily adjusted. Further, in the above example, when d 1 of the equation m-3 is near an odd integer, the peak or the bottom becomes a peak in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease. Further, in the above example, when d 1 of the equation m-3 is near an even integer, the peak or the bottom becomes the bottom where the spectral transmittance changes from decreasing to increasing.
  • D 1 of the formula m-3 does not have to be an integer, and if it is an integer of about ⁇ 0.10, the position of the peak or the bottom can be easily adjusted in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. Further, in the case of the above example, when d 1 of the equation m-3 is in the range of an integer to an integer + 0.10, the peak position can be easily adjusted to 450 nm or more and 457 nm or less, and the integer is ⁇ 0.10 to an integer. In the case of the range of, it is easy to adjust the position of the bottom to 443 nm or more and 450 nm or less. As described above, in reality, reflections other than the interface 4 also have a slight effect on the reflections at the interface 1. Therefore, in the above case, it is preferable to carry out the basic design by the above method and make minor corrections by the simulation of the reflection spectrum. For the simulation of the reflection spectrum, general-purpose simulation software can be used.
  • the reflection of the interface 1 is usually a fixed end reflection, but when the reflection of the interface 1 is a free end reflection, it may be considered as follows.
  • the reflection to be considered as the reflection that interferes with the reflection of the interface 1 which is the free end reflection is still the fixed end reflection of the interface 4.
  • d 1 of the formula m-3 is 2x + 1 (x is an integer of 0 or more)
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm is the lowest
  • d 1 of the formula m-3 is 2x (x is 1).
  • the above integer the transmittance at a wavelength of 450 nm is the highest.
  • the barrier film has the primer layer E on the opposite side of the organic coating layer D from the inorganic oxide layer C will be examined.
  • L1 light of the primary light source that reached the quantum dot-containing layer (50) and did not collide with the quantum dots
  • L1 light of the primary light source that reached the quantum dot-containing layer (50) and did not collide with the quantum dots
  • the seven interfaces are the interface between the quantum dot-containing layer and the primer layer E (interface 1-1), the interface between the primer layer E and the organic coating layer D (interface 1-2), the organic coating layer D and the inorganic oxide layer.
  • Interface with C interface 2
  • interface between inorganic oxide layer C and organic coating layer B interface 3
  • interface between organic coating layer B and inorganic oxide layer A interface 4
  • inorganic oxide layer A The interface between the light-transmitting base material and the light-transmitting base material (interface 5), and the interface between the light-transmitting base material and air (interface 6).
  • the refractive index n Z of the quantum dot-containing layer is usually smaller than the refractive index n E of the primer layer E. Therefore, the reflection at interface 1-1 is usually a fixed end reflection. In examining the interference between the reflection of interface 1-1 (usually fixed-end reflection) and the reflection of interface 1-2, 2 to 6, it is necessary to examine the nature of the reflection of interface 1-2, 2 to 6.
  • the reflection at the interface 1-2 is considered to be a fixed end reflection or a free end reflection.
  • the refractive index n E of the primer layer E and the refractive index n D of the organic coating layer D are designed so that the difference in refractive index is small. To. Therefore, the reflection at the interface 1-2 having a low reflectance can be ignored. It can be considered that the reflection of the interface 2 and the reflection of the interface 3 cancel each other out and do not affect the fixed end reflection of the interface 1-1 as in the case of not having the primer layer E.
  • the relationship between the reflection at the interface 4 and the reflection at the interface 5 will be examined assuming that the interface 4 has a higher reflectance, as in the above case.
  • the reflection of the interface 5 is not considered, but the reflection of the interface 4 is considered.
  • the reflection at the interface 6 is a reflection that can be ignored as so-called thin film interference. Therefore, the reflection that should be considered as the reflection that interferes with the reflection of the interface 1-1 (usually the fixed end reflection) is the fixed end reflection of the interface 4.
  • the optical distance ( nE ⁇ tE ) of the primer layer is the optical distance of the fixed end reflection of the interface 4. (In the above case as well, in reality, reflections other than interface 4 also have a slight effect on the reflection of interface 1-1. However, here, for the sake of brevity, only the reflection of interface 4 is interface 1-. It is explained as affecting the reflection of 1.)
  • the reflection of the interface 4 is the interface 1 when the relationship of the following equation n-1 is satisfied for the light having the wavelength ⁇ . It weakens the reflection of -1 and reduces the reflectance. And, the decrease of the reflectance means that the transmittance increases. Therefore, assuming that the reflections at the interface 1-1 and the interface 4 are both fixed-end reflections, the light having a wavelength ⁇ emitted from the quantum dot-containing layer satisfies the relationship of the following equation n-1. , The transmittance is the highest. In the above example, it is assumed that the thickness of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C is thin enough not to affect the interference.
  • Equation n-1 can be transformed into the following equation n-2.
  • n B x t B + n D x t D + n E x t E ⁇ / 4 (Equation n-2)
  • n B ⁇ t B + n D ⁇ t D the transmittance of the wavelength ⁇ is the highest even when "+ n E x t E " is an odd multiple of " ⁇ / 4”. Then, how many times "n B ⁇ t B + n D ⁇ t D + n E ⁇ t E " is multiplied by " ⁇ / 4" can be calculated by dividing the left side of the equation n-2 by the right side.
  • the central wavelength of the primary light of the backlight using quantum dots is approximately 450 nm.
  • ⁇ is 450 nm
  • “ ⁇ / 4” in the formula n-2 is “112.5 nm”.
  • “ ⁇ / 4" of the formula n-2 is "112.5 nm”
  • dividing the left side of the formula n-2 by the right side gives the following formula n-3.
  • “D 2 ” in the following equation n-3 indicates how many times “n B ⁇ t B + n D ⁇ t D + n E ⁇ t E ” is “112.5 nm”.
  • d 2 n B ⁇ t B / 112.5 nm + n D ⁇ t D / 112.5 nm + n E ⁇ t E / 112.5 nm (Equation n-3)
  • d 2 of the equation n-3 2y + 1 (y is an integer of 0 or more)
  • the wavelength is 450 nm.
  • d 2 of the formula n-3 2y (y is an integer of 1 or more)
  • the transmittance of light having a wavelength of 450 nm is the lowest.
  • Light having a wavelength of 450 nm can be regarded as L1 described above.
  • the spectral transmittance peak or bottom is provided in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It can be easily adjusted. Further, in the above example, when d 2 of the equation n-3 is near an odd integer, the peak or the bottom becomes a peak in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease. Further, in the above example, when d 2 of the equation n-3 is near an even integer, the peak or the bottom becomes the bottom where the spectral transmittance changes from decreasing to increasing.
  • D 2 of the formula n-3 does not have to be an integer, and if it is an integer of about ⁇ 0.10, the position of the peak or the bottom can be easily adjusted in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. Further, in the case of the above example, when d 2 of the formula m-3 is in the range of an integer to an integer + 0.10, the peak position can be easily adjusted to 450 nm or more and 457 nm or less, and the integer is ⁇ 0.10 to an integer. In the case of the range of, it is easy to adjust the position of the bottom to 443 nm or more and 450 nm or less.
  • the reflection of the interface 1-1 is usually a fixed end reflection, but when the reflection of the interface 1-1 is a free end reflection, it may be considered as follows. In this case, the reflection to be considered as the reflection that interferes with the reflection of the interface 1-1, which is the free end reflection, is still the fixed end reflection of the interface 4.
  • d 2 of the formula n-3 is 2y + 1 (y is an integer of 0 or more)
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm is the lowest
  • d 2 of the formula n-3 is 2y (y is 1). The above integer)
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm is the highest.
  • the position of the peak or bottom of the spectral transmittance of the barrier film can be adjusted by considering the action of thin film interference based on the refractive index and thickness of each layer.
  • a polyethylene terephthalate film generally used as a light-transmitting substrate was used, and an inorganic oxide layer having a low refractive index and a thick thickness was used.
  • the interface between the inorganic oxide layer and the light-transmitting substrate usually exhibits the highest reflectance.
  • the reflection that interferes with the reflection at the interface between the quantum dot-containing layer and the barrier film may mainly consider the reflection at the interface between the inorganic oxide layer and the light-transmitting substrate.
  • the peak or bottom is preferably a peak in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease.
  • the central wavelength of the primary light source of the backlight using the quantum dots is approximately 450 nm. Therefore, the peak or bottom in the range of 450 nm ⁇ 7 nm is the peak at which the spectral transmittance changes from increasing to decreasing, so that the light of the primary light source that has reached the quantum dot-containing layer does not collide with the quantum dots ( It is preferable in that the transmittance of L1) can be increased.
  • the inorganic oxide layer is a layer containing silicon oxide, the L * a * b * color system b * value of the barrier film tends to increase.
  • the peak or bottom in the range of 450 nm ⁇ 7 nm is the peak at which the spectral transmittance changes from increase to decrease, so that even if the inorganic oxide layer is a layer containing silicon oxide, the yellowish color of the barrier film can be obtained. It is preferable because it is easy to suppress.
  • the peak or the bottom is a peak in which the spectral transmittance changes from an increase to a decrease
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm decreases when the organic coating layer swells and the waveform of the spectral reflectance of the barrier film shifts to the long wavelength side. .. That is, in the barrier film having a peak at a position of 450 nm or more and 457 nm or less, the transmittance of L1 decreases when the organic coating layer swells.
  • the amount of light (L2) converted by the quantum dots gradually decreases due to the deterioration of the quantum dots. Therefore, in the barrier film having a peak at a position of 450 nm or more and 457 nm or less, the amount of light of L2 decreases due to the deterioration of the quantum dots, and the transmittance of L1 also decreases, so that the balance between L1 and L2 is less likely to be lost, and the color It is preferable in that the change in taste can be further suppressed.
  • the peak or bottom is a bottom in which the spectral transmittance changes from a decrease to an increase, and it is also preferable to have a bottom with a spectral transmittance of 443 nm or more and 450 nm or less.
  • the transmittance at a wavelength of 450 nm decreases when the organic coating layer swells and the waveform of the spectral reflectance of the barrier film shifts to the long wavelength side. .. That is, in the barrier film having the bottom at a position of 443 nm or more and 450 nm or less, the transmittance of L1 decreases when the organic coating layer swells.
  • the amount of light (L2) converted by the quantum dots gradually decreases due to the deterioration of the quantum dots. Therefore, in the barrier film having the bottom at a position of 443 nm or more and 450 nm or less, the amount of light of L2 decreases due to the deterioration of the quantum dots, and the transmittance of L1 also decreases, so that the balance between L1 and L2 is less likely to be lost, and the color It is preferable in that the change in taste can be further suppressed.
  • the barrier film of the present disclosure has at least one inorganic oxide layer and at least one organic coating layer on one surface of a light-transmitting substrate, and has the above-mentioned water vapor permeability and spectral transmittance.
  • the layer structure is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions.
  • the barrier film preferably has a laminated structure having two or more inorganic oxide layers and at least one organic coating layer on one surface of a light-transmitting base material. Further, the barrier film has two or more inorganic oxide layers and at least one organic coating layer on one surface of the light-transmitting substrate from the viewpoint of barrier property and adhesion to the quantum dot-containing layer. , It is more preferable to have a laminated structure having a primer layer. As in these preferred embodiments, when the number of layers of the inorganic oxide layer and the organic coating layer arranged on the light-transmitting substrate increases and the thickness increases, the period of the spectral transmittance waveform becomes shorter. Therefore, it is possible to easily exert the effect by setting the peak or bottom to the vicinity of 450 nm.
  • Examples of the layer structure of the barrier film of the present disclosure include the following structures (1) to (3).
  • "/" means the interface of the layer.
  • the following configurations (1) to (3) are preferable in that they have excellent barrier properties. Above all, the following configurations (2) to (3) are preferable in that they have excellent adhesion to the quantum dot-containing layer. Further, in the following configurations (1) to (3), the number of layers of the light-transmitting base material is small (for example, one layer of an inorganic oxide layer and one layer of organic matter are placed on the light-transmitting base material.
  • the layer structure of (1) to (3) may have other functional layers such as a light diffusion layer on the surface of the light transmissive substrate opposite to the inorganic oxide layer A.
  • the barrier film may have a layer other than the above as long as the effect of the present disclosure is not impaired.
  • the barrier film of the present disclosure also includes the configurations of (4) and (5) below.
  • the laminated structure of the following (4) and (5) is disadvantageous in terms of optical characteristics because the number of interfaces is larger than that of the above (2) and (3), and the total thickness also increases. .. Therefore, the laminated structure of the above (1) to (3) is preferable.
  • the inorganic oxide layer A as the inorganic oxide layer, the organic coating layer B as the organic coating layer, and the inorganic as the inorganic oxide layer are obtained on one surface of the light-transmitting base material. It has an oxide layer C and an organic coating layer D as the organic coating layer in this order.
  • the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C and the organic coating layer D are in contact with each other. Further, it is preferable that the light-transmitting substrate and the inorganic oxide layer A are in contact with each other.
  • the above (2) has a configuration in which the primer layer E is further provided on the organic coating layer D of the above (1). In the above (2), it is preferable that the organic coating layer D and the primer layer E are in contact with each other.
  • the inorganic oxide layer A as the inorganic oxide layer, the organic coating layer B as the organic coating layer, and the inorganic as the inorganic oxide layer are obtained on one surface of the light-transmitting base material. It has an oxide layer C and a primer layer E in this order.
  • the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C and the primer layer E are in contact with each other. Further, it is preferable that the light-transmitting substrate and the inorganic oxide layer A are in contact with each other.
  • the total thickness of the inorganic oxide layer and the organic coating layer is preferably 150 nm or more and 1500 nm or less, more preferably 200 nm or more and 800 nm or less, and further preferably 300 nm or more and 650 nm or less.
  • the barrier property can be easily improved.
  • the total thickness is possible to suppress the period of the spectral transmittance waveform from becoming too short, and to exert the effect of having the peak or bottom of the spectral transmittance in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It can be done easily.
  • the total thickness of the inorganic oxide layer, the organic coating layer and the primer layer is preferably 300 nm or more and 1700 nm or less, more preferably 400 nm or more and 900 nm or less, further preferably 450 nm or more and 800 nm or less, and further preferably 500 nm or more. It is more preferably 750 nm or less.
  • the barrier property can be easily improved.
  • the total thickness it is possible to suppress the period of the spectral transmittance waveform from becoming too short, and to exert the effect of having the peak or bottom of the spectral transmittance in the range of 450 nm ⁇ 7 nm. It can be done easily.
  • the light-transmitting substrate is not particularly limited as long as it is a resin film that does not impair the function of the wavelength conversion sheet when applied to the wavelength conversion sheet.
  • Examples of the light-transmitting substrate include polyester, triacetyl cellulose (TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyamide, polyimide, polyether sulphon, polysulphon, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, and polyvinyl acetal.
  • Examples thereof include a resin film formed of one or more resins selected from polyether ketone, acrylic, polycarbonate, polyurethane, amorphous olefin (Cyclo-Olfin-Polymer: COP) and the like.
  • a stretched polyester film particularly a biaxially stretched polyester film, is preferable from the viewpoint of mechanical strength, dimensional stability and heat resistance.
  • the polyester film include polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film.
  • the light-transmitting substrate may be a single layer of a resin film or may have a plurality of resin films. When having a plurality of resin films, each resin film may be directly bonded or may be bonded via an adhesive layer.
  • the thickness t 0 of the light-transmitting substrate is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 8 ⁇ m or more, and further preferably 10 ⁇ m or more.
  • the thickness of the light-transmitting substrate is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 8 ⁇ m or more, and further preferably 10 ⁇ m or more.
  • the thickness t 0 of the light-transmitting substrate is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 150 ⁇ m or less, from the viewpoint of thinning and facilitating the suppression of invasion of water vapor and oxygen from the end portion. It is more preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less, and even more preferably 25 ⁇ m or less.
  • the thickness of each layer constituting the barrier film such as the thickness t 0 of the light transmissive substrate and the thickness of the quantum dot-containing layer are photographed by using, for example, a scanning transmission electron microscope (STEM). It can be calculated from the average value of the values at 20 points by measuring the thickness at 20 points from the image of the cross section.
  • STEM scanning transmission electron microscope
  • a numerical range For example, in the case of the thickness t 0 of the light transmissive substrate, embodiments in a numerical range such as 5 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, 5 ⁇ m or more and 25 ⁇ m or less, 8 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or more and 25 ⁇ m or less can be mentioned. ..
  • the thickness of the first resin film on the side where the inorganic oxide layer or the like is formed is preferably 5 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, and 8 ⁇ m or more and 25 ⁇ m or less. It is more preferably 10 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less.
  • the first resin film has the above thickness, the production efficiency of the inorganic oxide layer can be easily improved and the handleability can be easily improved.
  • the thickness of the second resin film on the side far from the inorganic oxide layer or the like is preferably 5 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less, more preferably 8 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, and further preferably 10 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • the second resin film has the above thickness, it is possible to easily improve the balance between the handleability and the rigidity of the barrier film.
  • the light-transmitting base material is composed of two resin films, the two resin films may be bonded to each other via an adhesive layer, and then an inorganic oxide layer or the like may be formed, or the first resin film may be formed.
  • the second resin film may be attached to the surface of the first resin film opposite to the inorganic oxide layer or the like via the adhesive layer.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 3 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, and further preferably 4 ⁇ m or more and 8 ⁇ m or less. If the thickness of the adhesive layer is too thin, coating defects may occur, and if the thickness is too thick, curing may be insufficient.
  • the light transmittance of JIS K7361-1: 1997 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 87% or more.
  • the surface of the light-transmitting base material on the side where the inorganic oxide layer or the like is provided may be previously subjected to a desired surface treatment in order to improve adhesion or the like.
  • a desired surface treatment examples include corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals and the like.
  • the barrier film of the present disclosure has an inorganic oxide layer on a light-transmitting substrate.
  • the inorganic oxide layer mainly has an action of improving the barrier property.
  • the inorganic oxide layer on the light-transmitting substrate may be only one layer, but it is preferable to have two layers. Although the inorganic oxide layer may have three or more layers, two layers are preferable from the viewpoint of cost effectiveness. In the present specification, the two inorganic oxide layers on the light-transmitting substrate are referred to as an inorganic oxide layer A and an inorganic oxide layer C.
  • the barrier property of the barrier film against oxygen and water vapor can be improved, and the deterioration of the quantum dots can be easily suppressed.
  • the thickness of the inorganic oxide layer becomes thick and cracks are likely to occur in the inorganic oxide layer, so that the barrier property is good over a long period of time. It becomes difficult to do.
  • a predetermined barrier property can be imparted as a laminated body as long as the positions of the cracks and pinholes do not match in the plane direction. That is, it is preferable to use two inorganic oxide layers because it is easy to impart a predetermined barrier property even when cracks or pinholes occur in the inorganic oxide layer.
  • the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C can exemplify a layer made of one selected from aluminum oxide, magnesium oxide, indium tin oxide (ITO), and silicon oxide, or a mixture thereof.
  • the composition and various physical properties of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C may be the same or different. Considering the balance of the physical properties of the barrier film, it is preferable that at least a part of the composition and various physical properties of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are substantially the same.
  • the refractive index n A of the inorganic oxide layer A and the refractive index n C of the inorganic oxide layer C are substantially the same.
  • the fact that n A and n C are substantially the same means that n A / n C is 0.98 or more and 1.02 or less, preferably 0.99 or more and 1.01 or less, and more preferably. It is 1.00.
  • the thickness t A of the inorganic oxide layer A and the thickness t C of the inorganic oxide layer C are substantially the same.
  • the fact that t A and t C are substantially the same means that t A / t C is 0.95 or more and 1.05 or less, preferably 0.97 or more and 1.03 or less, and more preferably. It is 0.99 or more and 1.01 or less.
  • Inorganic oxide layers with a high refractive index tend to have good barrier properties.
  • aluminum oxide has a high refractive index and a good barrier property. Therefore, by using aluminum oxide as the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C, it becomes easy to impart a predetermined barrier property even if the thickness of the inorganic oxide layer is reduced, so that the spectral transmission of the barrier film is possible.
  • the inorganic oxide layer can be easily thinned to a level that has almost no effect on the waveform of the spectrum, and the transparency can be improved.
  • the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are preferably layers containing aluminum oxide or silicon oxide from the viewpoint of transparency and productivity. Further, at least one of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C is preferably a layer containing aluminum oxide from the viewpoint of sufficient barrier property, transparency, productivity and the like, and the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are preferable. It is more preferable that both of the inorganic oxide layers C are layers containing aluminum oxide.
  • the content ratio of aluminum oxide or silicon oxide in the inorganic oxide layer A or the inorganic oxide layer C is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 95% by mass or more on a mass basis. Is more preferable.
  • Examples of the embodiment of the combination of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C include the following (1) to (4).
  • the inorganic oxide layer A is a layer containing silicon oxide.
  • the embodiment in which the inorganic oxide layer C is a layer containing aluminum oxide.
  • the thickness t A of the inorganic oxide layer A and the thickness t C of the inorganic oxide layer C are used as the material of the inorganic oxide layer so as to have a good balance between barrier properties, scratch suppression, and crack suppression. It is preferable to set the range appropriately. Although t A and t C may be different from each other, it is preferable that t A and t C are substantially the same as described above.
  • t A and t C each have a lower limit of 6 nm or more, and more preferably 7 nm or more. preferable.
  • the upper limit of t A and t C is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, still more preferably 12 nm or less, and more preferably 10 nm or less. Is more preferable.
  • the thickness of the inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C is preferably 12 nm or less, more preferably 10 nm or less).
  • t A and t C each have a lower limit of 20 nm.
  • the above is preferable, 25 nm or more is more preferable, and 27 nm or more is more preferable.
  • the barrier property can be easily improved.
  • the upper limit of t A and t C is preferably 100 nm or less, more preferably 75 nm or less, further preferably 60 nm or less, still more preferably 50 nm or less.
  • a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method, a thermochemical vapor deposition method, and a photochemical vapor deposition method can be used. It can be formed by a chemical vapor deposition method or the like. Among these, the vacuum vapor deposition method having a high vapor deposition rate and good productivity is preferable.
  • the barrier film of the present disclosure has an organic coating layer.
  • the barrier property of the barrier film can be improved and the deterioration of the quantum dots can be easily suppressed.
  • the organic coating layer has better flexibility than the inorganic oxide layer, the organic coating layer can easily suppress the generation of scratches and cracks in the inorganic oxide layer.
  • the organic coating layer is preferably formed in contact with the inorganic oxide layer.
  • the organic coating layer on the light-transmitting substrate may be only one layer, but preferably has two layers.
  • the organic coating layer may have three or more layers, but one layer or two layers is preferable from the viewpoint of cost effectiveness.
  • the organic coating layer B when a light-transmitting substrate has one organic coating layer, the organic coating layer is referred to as an organic coating layer B.
  • the organic coating layer B when two organic coating layers are provided on the light-transmitting base material, the organic coating layer on the side closer to the light-transmitting base material is referred to as the organic coating layer B, and the organic coating on the side farther from the light-transmitting base material.
  • the layer is referred to as an organic coating layer D.
  • the organic coating layer preferably contains at least one selected from a water-soluble polymer and a metal alkoxide-based compound. Further, the organic coating layer more preferably contains at least one selected from the water-soluble polymer among the water-soluble polymer and the metal alkoxide-based compound, and one or more selected from the water-soluble polymer and the metal alkoxide. It is more preferable to include one or more selected from the system compounds.
  • the water-soluble polymer examples include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer.
  • polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable, from the viewpoint of barrier property. That is, the organic coating layer preferably contains one or more selected from polyvinyl alcohol and an ethylene-vinyl alcohol copolymer, and more preferably contains polyvinyl alcohol.
  • the content of the water-soluble polymer is 5 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the metal alkoxide compound. Is more preferable, and it is more preferably 7 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, and further preferably 8 parts by mass or more and 50 parts by mass or less.
  • metal alkoxide compound examples include metal alkoxide, metal alkoxide hydrolyzate and metal alkoxide polymer.
  • the metal alkoxide is a compound represented by the general formula of M (OR) n .
  • M represents a metal such as Si, Ti, Al and Zr
  • R represents an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group.
  • Specific examples of the metal alkoxide include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, isopropoxyaluminum and the like.
  • the organic coating layer can be formed, for example, by applying a coating liquid containing components constituting the organic coating layer on the inorganic oxide layer and drying it.
  • the coating liquid may contain additives such as a silane coupling agent, a curing agent and a dispersant.
  • the composition and various physical properties of the organic coating layer B and the organic coating layer D may be the same or different. Considering the balance of the physical properties of the barrier film, it is preferable that at least a part of the organic coating layer B and the organic coating layer D have substantially the same composition and various physical properties.
  • the refractive index n B of the organic coating layer B and the refractive index n D of the organic coating layer D are substantially the same.
  • the fact that n B and n D are substantially the same means that n B / n D is 0.98 or more and 1.02 or less, preferably 0.99 or more and 1.01 or less, and more preferably. It is 1.00.
  • the thickness t B of the organic coating layer B and the thickness t D of the organic coating layer D are substantially the same.
  • the fact that t B and t D are substantially the same means that t B / t D is 0.95 or more and 1.05 or less, preferably 0.97 or more and 1.03 or less, and more preferably. It is 0.99 or more and 1.01 or less.
  • the lower limit of the refractive index n B of the organic coating layer B and the refractive index n D of the organic coating layer D are preferably 1.45 or more, more preferably 1.50 or more, and 1.52 or more, respectively. Is more preferable. Further, the upper limits of n B and n D are preferably 1.64 or less, more preferably 1.60 or less, and further preferably 1.57 or less, respectively. Even when the organic coating layer is one layer, the refractive index is preferably in the above range.
  • the lower limit of the thickness t B of the organic coating layer B and the thickness t D of the organic coating layer D is preferably 70 nm or more, more preferably 85 nm or more, still more preferably 100 nm or more. ..
  • the upper limit of t B and t D is preferably 480 nm or less, more preferably 400 nm or less, and further preferably 300 nm or less.
  • t B and t D are too thick, the stress generated when the organic coating layer is applied and dried becomes large, and the stress may cause cracks in the inorganic oxide layer and reduce the barrier property. Therefore, by setting t B and t D to 480 nm or less, the initial barrier property can be easily improved. Even when the organic coating layer is one layer, the thickness is preferably in the above range.
  • the barrier film may have a primer layer (primer layer E) in addition to the inorganic oxide and the organic coating layer.
  • the primer layer is preferably arranged on the outermost layer of the barrier film.
  • the refractive index n E of the primer layer E is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1.47 or more, more preferably 1.52 or more, and further preferably 1.55 or more. Further, the upper limit of n E is preferably 1.66 or less, more preferably 1.62 or less, and further preferably 1.60 or less.
  • the thickness t E of the primer layer E is preferably 70 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 100 nm or more and 500 nm or less, and further preferably 120 nm or more and 300 nm or less.
  • the primer layer E preferably contains a resin component such as a polyurethane-based resin composition.
  • the polyurethane resin easily improves the adhesion to the quantum dot-containing layer, and alleviates the stress generated when the quantum dot-containing layer is ionizing and radiation-cured or thermosetting, and the stress is applied to the inorganic oxide layer and the organic coating. It plays a role in making it difficult to convey to the layers. Further, the polyurethane resin can easily suppress the occurrence of cracks in the layer constituting the barrier film such as the inorganic oxide layer by improving the elongation degree of the primer layer E.
  • Examples of the polyurethane-based resin composition include a one-component or two-component polyurethane-based resin composition obtained by reacting a polyfunctional isocyanate with a hydroxyl group-containing compound. Only one kind of the polyfunctional isocyanate and the hydroxyl group-containing compound may be used, or a plurality of kinds may be used.
  • examples of the polyfunctional isocyanate include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and polymethylene polyphenylene polyisocyanate, and aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate.
  • hydroxyl group-containing compound examples include polyether polyols, polyester polyols, polyester polyurethane polyols, and polyacrylate polyols.
  • a polyester polyurethane polyol is particularly preferable from the viewpoint of adhesion to the quantum dot-containing layer and durability.
  • the polyester polyurethane polyol can be produced, for example, by the methods described in JP-A-2001-288408 and JP-A-2003-26996.
  • the content of the polyurethane resin composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, based on the total amount of the primer layer E.
  • the primer layer E may further contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent By containing the silane coupling agent, the adhesion between the primer layer E and the organic coating layer D can be easily improved.
  • a silane coupling agent a functional group at one end of the molecule, usually a chloro, alkoxy, or acetoxy group, is hydrolyzed to form a silanol group (Si-OH).
  • Si-OH silanol group
  • the resin composition of the primer layer E is modified by a covalent bond or the like to form a strong bond.
  • primer layer E and the organic coating layer D, and the primer layer E and the quantum dot-containing layer are made of an organic functional group such as vinyl, methacryloxy, amino-based, epoxy-based, or mercapto at the other end of the silane coupling agent. It is possible to easily improve the adhesion with.
  • silane coupling agent examples include ⁇ -chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris ( ⁇ -methoxyethoxy) silane, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, and ⁇ - (3).
  • the content of the silane coupling agent is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, based on the total amount of the primer layer E.
  • the content of the silane coupling agent is within the above range, the adhesion between the primer layer E and the organic coating layer D and the primer layer E and the quantum dot-containing layer can be further improved.
  • the content of the silane coupling agent shall be 30% by mass or less based on the total amount of the primer layer E. Is preferable, and 20% by mass or less is more preferable.
  • the primer layer E may further contain a filler.
  • the filler has a role of adjusting the viscosity of the coating liquid for forming the primer layer and improving the coating suitability and the like.
  • the filler for example, calcium carbonate, barium sulfate, alumina white, silica, talc, glass frit, resin powder and the like can be used.
  • the primer layer may further contain additives such as stabilizers, cross-linking agents, lubricants, ultraviolet absorbers, and the like, if necessary.
  • the barrier film preferably has a value of oxygen permeability according to JIS K7126-2: 2006 of 0.5 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less.
  • the temperature and humidity conditions for measuring the oxygen permeability are 23 ° C. and 90% relative humidity. Further, before measuring the oxygen permeability, the sample for measurement shall be exposed to an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative temperature of 40% or more and 65% or less for 30 minutes or more.
  • the oxygen permeability can be measured by, for example, an oxygen permeability measuring device (trade name: OX-TRAN) manufactured by MOCON (Mokon method).
  • the barrier film preferably has an L * a * b * color system b * value of -1.3 or more and 1.0 or less, more preferably -1.5 or more and 0.8 or less, and-. It is more preferably 1.0 or more and 0.5 or less.
  • the b * value is a transparent b * value.
  • the light incident surface when measuring the b * value is the surface opposite to the light transmissive substrate.
  • the L * a * b * color system is based on the L * a * b * color system standardized by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976, and was adopted in JIS Z8781-4: 2013. ing.
  • the barrier film preferably has a total light transmittance of JIS K7361-1: 1997 of 80% or more, more preferably 85% or more, and further preferably 87% or more.
  • the light incident surface when measuring the total light transmittance is the surface opposite to the light transmissive substrate.
  • the barrier film can be produced, for example, by forming an inorganic oxide layer and an organic coating layer on a light-transmitting substrate.
  • a primer layer may be further formed.
  • the inorganic oxide layer can be formed by a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a chemical vapor deposition method such as a plasma chemical vapor deposition method, or the like.
  • the organic coating layer and the primer layer E can be formed by applying and drying a coating liquid in which the composition constituting each layer is dissolved or dispersed, and curing as necessary.
  • the barrier film for the wavelength conversion sheet of the present disclosure can be used, for example, as a barrier film for the wavelength conversion sheet of a surface light source.
  • the surface light source include a backlight source of a liquid crystal display device, a backlight source of an inspection device, and the like. That is, the barrier film for the wavelength conversion sheet of the present disclosure includes "barrier film for the wavelength conversion sheet of the backlight light source of the liquid crystal display device", "barrier film for the wavelength conversion sheet of the backlight light source of the inspection device” and the like. Can be used. Further, the barrier film for the wavelength conversion sheet of the present disclosure can also be used as a "barrier film for a wavelength conversion sheet for horticulture".
  • Examples of the wavelength conversion sheet for horticulture include a sheet having a function of converting ultraviolet rays into a wavelength suitable for plant growth.
  • Examples of wavelengths suitable for plant growth include wavelengths suitable for photosynthesis.
  • the wavelength conversion sheet for horticulture can be installed, for example, on the ceiling of a greenhouse or a horticultural facility in a glass room.
  • the wavelength conversion sheet of the present disclosure is a wavelength conversion sheet having a quantum dot-containing layer containing quantum dots and a barrier film laminated on both sides of the quantum dot-containing layer, and the above-mentioned disclosure as the barrier film.
  • the barrier film is laminated so that the surface opposite to the light-transmitting base material faces the quantum dot-containing layer side.
  • the wavelength conversion sheet (200) of FIGS. 4 to 6 are cross-sectional views showing an embodiment of the wavelength conversion sheet (200) of the present disclosure.
  • the wavelength conversion sheet (200) of FIGS. 4 to 6 has a quantum dot-containing layer (50) containing quantum dots and barrier films (100a, 100b) laminated on both sides of the quantum dot-containing layer. There is. Further, in the wavelength conversion sheets (200) of FIGS. 4 to 6, the surface of the barrier film (100a, 100b) opposite to the light transmissive substrate (10) faces the quantum dot-containing layer (50) side. It is laminated like this.
  • the wavelength conversion sheet preferably has a vertically symmetrical structure centered on the quantum dot-containing layer.
  • a barrier film having the same configuration as the barrier film laminated on both sides of the quantum dot-containing layer.
  • the quantum dot-containing layer contains quantum dots and a binder resin.
  • Quantum dots are semiconductor nanometer-sized fine particles that are uniquely optically and electrically due to the quantum confinement effect (quantum size effect) in which electrons and exciters are confined in a small nanometer-sized crystal. It exhibits properties and is also called a semiconductor nanoparticle or a semiconductor nanocrystal. Quantum dots are nanometer-sized fine particles of semiconductors, and are not particularly limited as long as they are materials that produce a quantum confinement effect (quantum size effect). Examples of the quantum dots include semiconductor fine particles whose emission color is regulated by their own particle size and semiconductor fine particles having a dopant.
  • Quantum dots have different emission colors depending on their particle size.
  • the particle sizes are 2.3 nm, 3.0 nm, 3.8 nm, and 4
  • the peak wavelengths of the fluorescence spectrum at 1.6 nm are 528 nm, 570 nm, 592 nm, and 637 nm. That is, the particle size of the quantum dots that emit secondary light with a peak wavelength of 637 nm is 4.6 nm, and the particle size of the quantum dots that emit secondary light with a peak wavelength of 528 nm is 2.3 nm.
  • the quantum dot preferably includes at least one selected from a quantum dot that emits a secondary light having a wavelength corresponding to red and a quantum dot that emits a secondary light having a wavelength corresponding to green, and corresponds to red. It is more preferable to include quantum dots that emit secondary light having a wavelength and quantum dots that emit secondary light having a wavelength corresponding to green.
  • the quantum dots may contain quantum dots other than the quantum dots that emit secondary light having a wavelength corresponding to red and the quantum dots that emit secondary light having a wavelength corresponding to green.
  • the quantum dot content is appropriately adjusted according to the thickness of the quantum dot-containing layer, the light recycling rate in the backlight, the target color, and the like. If the thickness of the quantum dot-containing layer is within the range described later, the content of the quantum dots is about 0.01 part by mass or more and 1.0 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin of the quantum dot-containing layer. ..
  • Examples of semiconductor crystals containing semiconductor compounds or semiconductors such as group V semiconductor compounds, group IV semiconductors such as Si, Ge and Pb can be exemplified. Further, a semiconductor crystal containing a semiconductor compound containing three or more elements such as InGaP can also be used. Further, as the quantum dot composed of semiconductor fine particles having a dopant, a semiconductor crystal formed by doping the above semiconductor compound with a cation of a rare earth metal such as Eu 3+ , Tb 3+ , Ag + , or Cu + or a cation of a transition metal. It can also be used.
  • Semiconductor crystals such as CdS, CdSe, CdTe, InP, and InGaP are used as the core material of quantum dots from the viewpoints of ease of fabrication, controllability of particle size that can obtain light emission in the visible range, and fluorescence quantum yield. Is preferable.
  • the quantum dots may be made of one kind of semiconductor compound or two or more kinds of semiconductor compounds.
  • the semiconductor that constitutes the shell uses a material with a bandgap higher than that of the semiconductor compound that forms the core so that excitons are confined in the core. Can be enhanced.
  • Examples of the core-shell structure (core / shell) having such a bandgap magnitude relationship include CdSe / ZnS, CdSe / ZnSe, CdSe / CdS, CdTe / CdS, InP / ZnS, Gap / ZnS, and Si / ZnS.
  • InN / GaN, InP / CdSSe, InP / ZnSeTe, InGaP / ZnSe, InGaP / ZnS, Si / AlP, InP / ZnSTe, InGaP / ZnSTe, InGaP / ZnSSe and the like can be mentioned.
  • the size of the quantum dots may be appropriately controlled by the material constituting the quantum dots so that light having a desired wavelength can be obtained.
  • the particle size of the quantum dot decreases, the energy band gap increases. That is, as the crystal size becomes smaller, the emission of the quantum dots shifts to the blue side, that is, to the high energy side. Therefore, by changing the size of the quantum dot, the emission wavelength can be adjusted over the entire wavelength of the spectrum in the ultraviolet region, the visible region, and the infrared region.
  • the particle size (diameter) of the quantum dots is preferably in the range of 0.5 nm or more and 20 nm or less, and particularly preferably in the range of 1 nm or more and 10 nm or less.
  • the shape of the quantum dot is not particularly limited, and may be, for example, a spherical shape, a rod shape, a disk shape, or any other shape.
  • the particle size of the quantum dots can be a true spherical value having the same volume.
  • the quantum dots may be coated with a resin.
  • binder resin of the quantum dot-containing layer examples include a thermoplastic resin, a cured product of a thermosetting resin composition, and a cured product of an ionizing radiation curable resin composition.
  • a thermoplastic resin a cured product of a thermosetting resin composition
  • a cured product of an ionizing radiation curable resin composition are preferable, and a cured product of an ionizing radiation curable resin composition is more preferable.
  • the thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating.
  • the thermosetting resin composition preferably contains a thiol compound described later, more preferably a polyfunctional thiol compound, in addition to the thermosetting resin.
  • the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, silicone resin and the like.
  • a curing agent is added to these curable resins as needed.
  • the ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter, also referred to as "ionizing radiation curable compound").
  • the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a thiol compound described later, more preferably a polyfunctional thiol compound, in addition to the ionizing radiation curable compound.
  • the ionizing radiation curable functional group examples include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group and an allyl group, an epoxy group and an oxetanyl group, and among them, an ethylenically unsaturated group is preferable. .. Further, among the ethylenically unsaturated bond groups, a (meth) acrylate group is preferable.
  • the ionizing radiation curable compound having a (meth) acryloyl group is referred to as a (meth) acrylate compound.
  • the binder resin preferably contains a cured product of a composition containing a (meth) acrylate compound.
  • (meth) acrylate refers to methacrylate and acrylate.
  • ionized radiation means an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually, ultraviolet rays or electron beams are used, but other than that. Electromagnetic waves such as X-rays and ⁇ -rays, and charged particle beams such as ⁇ -rays and ion-rays can also be used.
  • the ionizing radiation curable compound may be a monofunctional ionizing radiation curable compound having only one functional group, or may be a polyfunctional ionizing radiation curable compound having two or more functional groups. , These may be a mixture thereof.
  • a polyfunctional ionizing radiation curable compound is preferable, and a polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups is more preferable.
  • the binder resin preferably contains a cured product of a polyfunctional ionizing radiation curable compound, and more preferably contains a cured product of a polyfunctional (meth) acrylate compound.
  • the binder resin preferably contains a cured product of a composition containing a polyfunctional ionizing radiation curable compound and a thiol compound, and a cured product of a composition containing a polyfunctional (meth) acrylate compound and a thiol compound. It is more preferable to include it.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound may have an alkyleneoxy group.
  • the alkyleneoxy group for example, an alkyleneoxy group having 2 or more and 4 or less carbon atoms is preferable, an alkyleneoxy group having 2 or 3 carbon atoms is more preferable, and an alkyleneoxy group having 2 carbon atoms is further preferable.
  • the polyfunctional (meth) acrylate-based compound having an alkyleneoxy group may be a polyfunctional (meth) acrylate-based compound having a polyalkyleneoxy group containing a plurality of alkyleneoxy groups.
  • the number of alkyleneoxy groups in one molecule is preferably 2 or more and 30 or less, and more preferably 2 or more and 20 or less. It is preferable that the number is 3 or more and 10 or less, and even more preferably 3 or more and 5 or less.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound When the polyfunctional (meth) acrylate compound has an alkyleneoxy group, it preferably has a bisphenol structure. This tends to improve the heat resistance of the cured product.
  • the bisphenol structure include a bisphenol A structure and a bisphenol F structure, and among them, the bisphenol A structure is preferable.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound having an alkyleneoxy group include ethoxylated bisphenol A type di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A type di (meth) acrylate and propoxylated ethoxylated bisphenol A type di (meth).
  • Acrylate is preferable, and ethoxylated bisphenol A type di (meth) acrylate is more preferable.
  • the ionizing radiation curable compound may be a monomer, an oligomer, a low molecular weight polymer, or a mixture thereof.
  • thermosetting resin composition and the ionizing radiation curable resin composition preferably contain a thiol compound.
  • a thiol compound is a compound having one or more units represented by R-SH (R is an organic group).
  • R-SH is an organic group
  • a compound having one unit represented by R-SH is referred to as a monofunctional thiol compound
  • a compound having two or more units represented by R-SH is referred to as a polyfunctional thiol compound.
  • the thiol compound may be a monofunctional thiol compound, but a polyfunctional thiol compound is preferable from the viewpoint of improving the strength of the quantum dot-containing layer. Further, among the polyfunctional thiol compounds, a trifunctional thiol compound or a tetrafunctional thiol compound is more preferable.
  • the thiol compound causes a thiol-ene reaction of the following formula with a compound having a radically polymerizable functional group in the presence of a radical polymerization initiator. Since the thiol-ene reaction can suppress the polymerization shrinkage, it is preferable in that the stress generated at the time of curing the quantum dot-containing layer is relaxed, and as a result, the interlayer adhesion of the wavelength conversion sheet is easily improved. Further, the cured product obtained by the thiol-ene reaction is preferable in that the heat resistance is easily improved.
  • the degree of freedom in adjusting the refractive index of the quantum dot-containing layer is increased. Can be enhanced.
  • the following reaction is an example of a reaction between a monofunctional thiol compound and a compound having one radically polymerizable functional group. It is considered that the reaction product of the polyfunctional thiol compound and the compound having two or more radically polymerizable functional groups easily forms a dendrimer structure. When the dendrimer structure is formed, it is considered that the flexibility of the quantum dot-containing layer is increased, and the quantum dot-containing layer itself is likely to exhibit excellent stress relaxation properties.
  • the radically polymerizable functional group include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allyl group.
  • R 1 and R 2 are organic groups.
  • the monofunctional thiol compound examples include hexanethiol, 1-heptanethiol, 1-octanethiol, 1-nonanthiol, 1-decanethiol, 3-mercaptopropionic acid, methyl mercaptopropionate, methoxybutyl mercaptopropionate, and the like.
  • Examples thereof include octyl mercaptopropionate, tridecyl mercaptopropionate, 2-ethylhexyl-3-mercaptopropionate, n-octyl-3-mercaptopropionate and the like.
  • polyfunctional thiol compound examples include ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), 1,2-.
  • the mass ratio of the ionizing radiation curable compound (or thermosetting resin) to the thiol compound is 80:20 to 35:65. It is preferably 70:30 to 40:60, and more preferably 70:30 to 40:60.
  • the ionizing radiation curable compound is an ultraviolet curable compound
  • the ionizing radiation curable composition preferably contains an additive such as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator.
  • the quantum dot-containing layer may contain internally diffused particles.
  • the internal diffusion particles either organic particles or inorganic particles can be used.
  • the organic particles include particles composed of polymethylmethacrylate, acrylic-styrene copolymer, melamine resin, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, benzoguanamine-melamine-formaldehyde condensate, silicone resin, fluororesin, polyester and the like. ..
  • the inorganic fine particles include fine particles made of silica, alumina, zirconia, titania and the like.
  • the shape of the internally diffused particles include a spherical shape, a disk shape, a rugby ball shape, and an amorphous shape.
  • the internal diffusion particles may be any of hollow particles, porous particles and solid particles.
  • the content of the internally diffused particles is preferably 1 part by mass or more and 40 parts by mass or less, and more preferably 3 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
  • the average particle size of the internally diffused particles is preferably 1 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less, and more preferably 1 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less.
  • the thickness of the quantum dot-containing layer is preferably 10 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, more preferably 20 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less, and further preferably 30 ⁇ m or more and 130 ⁇ m or less.
  • the refractive index nZ of the quantum dot-containing layer is preferably 1.40 or more and 1.55 or less, more preferably 1.43 or more and 1.52 or less, and 1.46 or more and 1.50 or less. Is even more preferable.
  • the interface between the quantum dot-containing layer and the barrier film tends to have fixed-end reflection.
  • the refractive index nZ of the quantum dot-containing layer is largely controlled by the refractive index of the binder resin. This is because the quantum dot-containing layer has a low quantum dot content, and even if an internal diffuser is contained, the internal diffuser has a particle size larger than the wavelength of light and does not affect the refractive index of the layer. be.
  • the backlight of the present disclosure includes at least one light source that emits primary light, an optical plate that is arranged adjacent to the light source and for guiding or diffusing, and a wavelength that is arranged on the light emitting side of the optical plate.
  • the wavelength conversion sheet is the wavelength conversion sheet of the present disclosure described above.
  • Examples of the backlight 300 of the present disclosure include an edge light type backlight 301 as shown in FIG. 7 and a direct type backlight 302 as shown in FIG.
  • the optical plate 220 used in the edge light type backlight 301 of FIG. 7 is an optical member for guiding the primary light emitted by the light source 210, and is a so-called light guide plate 221.
  • the light guide plate 221 has, for example, a substantially flat plate shape formed so that at least one surface is a light incident surface and one surface substantially orthogonal to the light incident surface is a light emitting surface.
  • the light guide plate is mainly made of a matrix resin selected from highly transparent resins such as polymethylmethacrylate. If necessary, the light guide plate may be added with resin particles having a refractive index different from that of the matrix resin. Each surface of the light guide plate may have a complicated surface shape instead of a uniform flat surface, and may be provided with a dot pattern or the like.
  • the optical plate 220 used for the direct type backlight 302 of FIG. 8 is an optical member (light diffusing plate 222) having a light diffusing property for making the pattern of the light source 210 difficult to see.
  • Examples of the light diffusion plate 222 include a milky white resin plate having a thickness of 1 mm or more and 3 mm or less.
  • the edge light type and direct type backlights include a reflector, a light diffusing film, a prism sheet, a luminance increasing film (BEF), and a reflective polarized light, depending on the purpose. It may include one or more members selected from a film (DBEF) and the like.
  • the reflector is arranged on the side opposite to the light emitting surface side of the optical plate.
  • the light diffusing film, the prism sheet, the luminance increasing film and the reflective polarizing film are arranged on the light emitting surface side of the optical plate.
  • a backlight having an excellent balance of front brightness, viewing angle, etc. shall be provided by having one or more members selected from a reflector, a light diffusing film, a prism sheet, a brightness increasing film, a reflective polarizing film, and the like. Can be done.
  • the light source 210 is a light emitting body that emits primary light, and it is preferable to use a light emitting body that emits primary light having a wavelength corresponding to blue.
  • the primary light having a wavelength corresponding to blue preferably has a peak wavelength in the range of 380 nm or more and 480 nm or less.
  • the peak wavelength is more preferably in the range of 450 nm ⁇ 7 nm, more preferably in the range of 450 nm ⁇ 5 nm, more preferably in the range of 450 nm ⁇ 3 nm, and more preferably in the range of 450 nm ⁇ 1 nm. preferable.
  • the light source 210 is preferably an LED light source, and more preferably a blue monochromatic LED light source, from the viewpoint that the device in which the backlight is installed can be simplified and miniaturized.
  • the number of light sources 210 is at least one, and it is preferable that there are a plurality of light sources 210 from the viewpoint of emitting sufficient primary light.
  • the backlight including the wavelength conversion sheet has the following x value difference ( ⁇ x) and y value difference ( ⁇ y) before and after the high temperature and high humidity test for the Yxy color system of the International Commission on Illumination (CIE). It is preferably 0.020 or less, and more preferably 0.010 or less. By setting ⁇ x and ⁇ y to 0.020 or less, the change in color can be suppressed.
  • High temperature and high humidity test A test in which the product is exposed to an atmosphere of 60 ° C. and 90% relative humidity for 1000 hours. In addition, the measurement shall be performed in an atmosphere with a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less.
  • the liquid crystal display device of the present disclosure is a liquid crystal display device including a backlight and a liquid crystal panel, and the backlight is the backlight of the present disclosure described above.
  • the liquid crystal panel is not particularly limited, and a general-purpose liquid crystal panel can be used as the liquid crystal panel of the liquid crystal display device.
  • a liquid crystal panel having a general structure in which the upper and lower sides of the liquid crystal layer are sandwiched between glass plates specifically, display methods such as TN, STN, VA, IPS, and OCB can be used.
  • the liquid crystal display device further includes a polarizing plate, a color filter, and the like.
  • polarizing plate a polarizing plate
  • color filter a color filter
  • General-purpose polarizing plates and color filters can be used.
  • the display image of the liquid crystal display device is displayed in color by the white light emitted from the backlight passing through the color filter.
  • the liquid crystal display device can realize a display that is excellent in brightness and efficiency and produces very clear colors.
  • the method for selecting a barrier film for a wavelength conversion sheet of the present disclosure comprises at least one inorganic oxide layer and at least one organic coating layer on one surface of a light-transmitting substrate. Barrier films that meet the following criteria 1 and 2 are selected.
  • ⁇ Criteria 1> The value of the water vapor transmission rate of the barrier film according to JIS K7129-2: 2019 is 0.20 g / m 2 ⁇ day or less.
  • the spectral transmittance of the barrier film was measured by measuring the surface having the inorganic oxide layer and the organic coating layer as a light incident surface, and the spectral transmittance decreased within the range of 450 nm ⁇ 7 nm. Having a bottom of the spectral transmittance that changes from increasing to increasing, or a peak of the spectral transmittance that changes from increasing to decreasing.
  • Criteria 1 and Criteria 2 are based on the preferred embodiments of the barrier film of the present disclosure described above.
  • the value of the water vapor transmission rate is preferably 0.17 g / m 2 ⁇ day or less, more preferably 0.15 g / m 2 ⁇ day or less, and 0.13 g / m 2 or less.
  • -It is more preferably less than or equal to day.
  • the position of the peak or the bottom is more preferably in the range of 450 nm ⁇ 5 nm, further preferably in the range of 450 nm ⁇ 3 nm, and further preferably in the range of 450 nm ⁇ 1 nm. ..
  • the barrier film selection method of the present disclosure further has additional determination conditions. Additional determination conditions include embodiments exemplified as suitable embodiments in the barrier film of the present disclosure described above.
  • the additional determination conditions include, for example, the following. That is, the barrier film selection method of the present disclosure preferably has one or more selected from the following additional determination conditions.
  • ⁇ Additional judgment condition 3> The peak or bottom is a bottom at which the spectral transmittance changes from a decrease to an increase, and has a spectral transmittance bottom at 443 nm or more and 450 nm or less.
  • ⁇ Additional judgment condition 4> The value of oxygen permeability according to JIS K7126-2: 2006 of the barrier film shall be 0.5 cc / m 2 ⁇ day ⁇ atm or less.
  • ⁇ Additional judgment condition 5> The L * a * b * color system b * value of the barrier film shall be -1.3 or more and 1.0 or less.
  • ⁇ Additional judgment condition 6> The total light transmittance of JIS K7361-1: 1997 of the barrier film is 80% or more.
  • Moisture vapor transmission rate For the barrier films of Examples and Comparative Examples, the value of water vapor transmission rate according to JIS K7129-2: 2019 was measured. As the measuring device, the trade name "PERMATRAN” manufactured by MOCON was used. The temperature and humidity conditions for measuring the water vapor transmission rate were 40 ° C. and 90% relative humidity. Further, before the measurement of the water vapor transmission rate, the sample for measurement was exposed to an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less for 30 minutes or more. The water vapor transmission rate measured in this way means the water vapor transmission rate in the initial stage. Those with a water vapor transmission rate of 0.20 g / m 2 ⁇ day or less are acceptable levels.
  • Total light transmittance The total light transmittance was measured for the barrier films of Examples and Comparative Examples. The light incident surface was the surface opposite to the light transmissive substrate. A haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Technology Laboratory) was used as the measuring device. Those with a total light transmittance of 85% or more are acceptable levels. The total light transmittance was measured in an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less. In addition, the sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more before the measurement. The total light transmittance measured in this way means the total light transmittance in the initial stage.
  • HM-150 manufactured by Murakami Color Technology Laboratory
  • b * value With respect to the barrier films of Examples and Comparative Examples, the b * value (transmission b * value) of the L * a * b * color system was measured. The light incident surface was the surface opposite to the light transmissive substrate. A spectrophotometer (trade name: V670) manufactured by JASCO Corporation was used as the measuring device. b * A pass level is one with a value of 1.0 or less. The b * value was measured in an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less. In addition, the sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more before the measurement. The b * value measured in this way means the b * value in the initial stage.
  • Spectral Transmittance With respect to the barrier films of Examples and Comparative Examples, the spectral transmittance of a wavelength of 380 nm or more and 780 nm or less was measured with the surface opposite to the light transmissive substrate as the light incident surface (measurement wavelength interval; 1 nm).
  • a spectrophotometer (trade name: V670) manufactured by JASCO Corporation was used as the measuring device, and the following units were used as accessory units and the like.
  • -Attached unit Integrating sphere unit (manufactured by JASCO Corporation, product number: ISN-723)
  • -Light source Deuterium lamp (190 nm or more and 350 nm or less), halogen lamp (330 nm or more and 2700 nm or less)
  • -Measurement spot diameter 2 mm or more and 20 mm or less
  • the positions of the peaks closest to 450 nm are also shown in Table 1 or 2.
  • the spectral transmittance of the barrier film of Example 1 is shown in FIG. 9, and the spectral transmittance of the barrier film of Comparative Example 1 is shown in FIG.
  • the horizontal axis is the wavelength (unit is “nm”), and the vertical axis is the transmittance (“%”).
  • the spectral transmittance was measured in an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less. In addition, the sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more before the measurement. The spectral transmittance measured in this way means the spectral transmittance in the initial stage.
  • ⁇ x, ⁇ y ⁇ Preparation of direct backlight for measurement> A commercially available LCD TV (PQ65-F1 manufactured by VIZIO) equipped with a direct-type backlight was disassembled, and the direct-type backlight was taken out.
  • the direct-type backlight is equipped with a direct-type blue LED having a emission center wavelength of 450 nm and a full width at half maximum of 20 nm as a light source. Further, on the light emitting side of the light source, a light diffusing plate, a wavelength conversion sheet including a quantum dot-containing layer, a prism sheet and a reflective polarizing plate (luminance improving film, manufactured by 3M, DBEF (registered trademark)) are arranged in this order.
  • the wavelength conversion sheet in the direct-type backlight was changed to the wavelength conversion sheet of Examples and Comparative Examples to obtain a "direct-type backlight for measuring x-value and y-value in the initial stage".
  • the wavelength conversion sheets of Examples and Comparative Examples were exposed to an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less for 30 minutes or more before being incorporated into the direct backlight.
  • the wavelength conversion sheet in the direct-type backlight was changed to a wavelength conversion sheet of an example and a comparative example in which a high temperature and high humidity test (a test of exposing to an atmosphere of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 1000 hours) was performed.
  • a high temperature and high humidity test a test of exposing to an atmosphere of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 1000 hours
  • "Direct type backlight for measuring x-value and y-value after high-temperature and high-humidity test” was obtained.
  • the work of incorporating the wavelength conversion sheets of the examples and comparative examples in which the high temperature and high humidity test was carried out into the direct backlight was carried out promptly in an atmosphere having a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less.
  • the direct type backlight for the above measurement was measured under the following measurement environment.
  • ⁇ Initial stage x and y values> The x-value and y-value of the Yxy color system of the International Commission on Illumination (CIE) are measured from the front direction 500 mm away in a dark room environment by turning on the direct-type backlight for measuring the x-value and y-value in the initial stage. It was measured.
  • the measurement atmosphere was a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less.
  • the sample was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more before the measurement.
  • a spectroradiometer (trade name: SR-3AR) manufactured by Topcon Technohouse Co., Ltd.
  • ⁇ X value and y value after high temperature and high humidity test The x value and y value of the Yxy color system of the International Commission on Illumination (CIE) and the x value of the Yxy color system of the International Commission on Illumination (CIE) are turned on from the front direction 500 mm away in a dark room environment by turning on the direct type backlight for measuring the x value and y value after the high temperature and high humidity test. The y value was measured. The measurement atmosphere was a temperature of 23 ° C. ⁇ 5 ° C. and a relative humidity of 40% or more and 65% or less. A spectroradiometer (trade name: SR-3AR) manufactured by Topcon Technohouse Co., Ltd.
  • ⁇ x, ⁇ y> The difference ( ⁇ x) between the x value in the initial stage and the x value after the high temperature and high humidity test, and the difference ( ⁇ y) between the y value in the initial stage and the y value after the high temperature and high humidity test were calculated.
  • the pass level is when both ⁇ x and ⁇ y are 0.020 or less.
  • Example 1 Aluminum oxide is vapor-deposited on one surface of a biaxially stretched PET film (refractive index n 0 : 1.636, thickness t 0 : 12 ⁇ m) by a vacuum vapor deposition method, and an inorganic oxide layer A (refractive index n A : 1) is deposited. .77, thickness t A : 8 nm) was formed. Next, the following coating liquid for forming an organic coating layer is applied onto the inorganic oxide layer A by gravure printing, and heat-treated at 180 ° C. for 60 seconds to obtain an organic coating layer B (refractive index n B : 1.55, thickness). t B : 251 nm) was formed.
  • Solution A was prepared by mixing tetraethoxysilane with a mixed solution of water, isopropyl alcohol and 0.5N hydrochloric acid (pH 2.2) while cooling to 10 ° C.
  • a solution B in which polyvinyl alcohol and isopropyl alcohol having a saponification value of 99% or more were mixed was prepared.
  • Solution A and solution B were mixed to prepare a coating liquid for forming an organic coating layer (solid content: 5% by mass).
  • the mass ratio of tetraethoxysilane to polyvinyl alcohol in the coating liquid for forming an organic coating layer is 29: 4.
  • ⁇ Coating liquid for forming a primer layer 50 parts by mass of polyester polyurethane polyol (hydroxyl value: 62 mgKOH / g, solid content 20% by mass) ⁇ Silane coupling agent 1 part by mass (3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane) ⁇ Silica filler 1 part by mass (average particle size 5 ⁇ m) 1 part by mass of curing agent (1,6-hexamethylene diisocyanate, solid content 35%) ⁇ Solvent 50 parts by mass (methyl ethyl ketone)
  • a quantum dot-containing layer coating solution of the following formulation is applied and dried on the surface of one of the two barrier films prepared above on the primer layer side to form a quantum dot-containing layer that has not been irradiated with ionizing radiation.
  • a laminated body A was obtained.
  • the laminated body A is laminated so that the surface on the quantum dot-containing layer side not irradiated with ionizing radiation and the surface on the primer layer side of the other barrier film face each other, and then irradiated with ultraviolet rays to form the quantum dot-containing layer.
  • the curing of the ionizing radiation curable resin composition of Example 1 was allowed to proceed, and the wavelength conversion sheet of Example 1 was obtained.
  • the thickness of the quantum dot-containing layer is 100 ⁇ m, and the refractive index is 1.48.
  • Examples 2 to 8 Barrier films and wavelength conversion sheets of Examples 2 to 8 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thicknesses of the organic coating layer B and the organic coating layer D were changed to the values shown in Table 1.
  • Example 9 A barrier film and a wavelength conversion sheet of Example 9 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the primer layer E was not formed on the organic coating layer D.
  • Example 10 The inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are changed to a thin-film silicon oxide film (refractive index: 1.457), and the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C and the organic coating layer D are changed.
  • the barrier film and the wavelength conversion sheet of Example 10 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of was changed to the value shown in Table 1.
  • Comparative Examples 1 to 3 and 5 are the same as in Example 1 except that the thicknesses of the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C and the organic coating layer D are changed to the values in Table 2. A barrier film and a wavelength conversion sheet were obtained.
  • Comparative Example 6 The inorganic oxide layer A and the inorganic oxide layer C are changed to a thin-film silicon oxide film (refractive index: 1.457), and the inorganic oxide layer A, the organic coating layer B, the inorganic oxide layer C and the organic coating layer D are changed.
  • a barrier film and a wavelength conversion sheet of Comparative Example 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of was changed to the value shown in Table 2.
  • the barrier film of the example can suppress the change in color when applied to the wavelength conversion sheet.
  • those of Examples 1, 5 to 7, 9, and 10 having a peak at 450 nm or more and 457 nm or less can extremely suppress the change in color.
  • the one of Example 8 having a bottom of 443 nm or more and 450 nm or less can extremely suppress the change in color.
  • the barrier film of the comparative example cannot suppress the change in color when applied to the wavelength conversion sheet.
  • the peak or bottom positions were largely deviated from 450 nm, so that the change in color could not be suppressed.
  • the barrier films of Comparative Examples 2 to 4 had peak or bottom positions in the vicinity of 450 nm, but their initial water vapor barrier properties were inferior, so that changes in color could not be suppressed.
  • the reason why the barrier film of Comparative Example 2 is inferior in the initial water vapor barrier property is considered to be that the thickness of the organic coating layer is thin.
  • the reason why the barrier film of Comparative Example 3 is inferior in the initial water vapor barrier property is that the thickness of the organic coating layer is too thick and the inorganic oxide layer is cracked by the stress generated in the process of forming the organic coating layer. Conceivable. It is considered that the reason why the barrier film of Comparative Example 4 is inferior in the initial barrier property is that the inorganic oxide layer is only one layer and the thickness of the inorganic oxide layer is thin.

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Abstract

波長変換シートに適用した際に、色味の変化を抑制し得るバリアフィルムを提供する。　光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムであって、ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、かつ、前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として前記バリアフィルムの分光透過率を測定した際に、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、波長変換シート用のバリアフィルム。

Description

バリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置、並びに、バリアフィルムの選定方法
　本開示は、バリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置、並びにバリアフィルムの選定方法に関する。
　携帯用パーソナルコンピューター等のパーソナルコンピューターの発達に伴って、液晶表示装置の需要が増加している。また、最近においては家庭用の液晶テレビの普及率も高まっており、さらには、スマートフォン、タブレット端末も広く普及しつつある。このため、液晶表示装置の市場はさらに拡大する状況にある。
　このような液晶表示装置は、一般的に、カラーフィルタ、液晶セル及びバックライトを有する構成からなる。また、液晶表示装置は、一般的に、液晶セル内の液晶層のシャッター機能により光の強弱をコントロールし、カラーフィルタにより各画素の色をＲ、Ｇ、Ｂの三原色に分けて表示することにより、画像を表示するものである。
　液晶表示装置のバックライトの光源としては、従前は、冷陰極管が用いられてきた。しかし、低消費電力及び少スペースの観点から、バックライトの光源は、冷陰極管からＬＥＤに切り替えられている。
　通常のバックライトの光源として使用されるＬＥＤは、青色ＬＥＤと、ＹＡＧ系黄色蛍光体とを組み合わせてなる白色ＬＥＤとよばれるものを用いている。かかる白色ＬＥＤは、発光波長のスペクトル分布がブロードであり、疑似白色とよばれている。
　一方、近年では、量子ドットの技術を用いたバックライトの開発も進められている。量子ドットとは、半導体のナノメートルサイズの微粒子をいう。
　量子ドットを用いたバックライトの基本構成は、一次光を生じる光源（青色光を放出する青色ＬＥＤ等）と、量子ドットとを組み合わせたものである。
　量子ドットは、例えば、ＣｄＳｅであるコアとＺｎＳであるシェルにより構成される半導体微粒子と、シェルの周辺を覆うリガンドにより構成されるナノサイズの化合物半導体微粒子である。量子ドットは、その粒子径が化合物半導体の励起子のボーア半径よりも小さいため、量子閉じ込め効果が現れる。そのため、量子ドットの発光効率は、従来用いられている希土類イオンを賦活剤とする蛍光体よりも高く、９０％以上の高発光効率を実現することができる。
　また、量子ドットの発光波長は、このように量子化された化合物半導体微粒子のバンドギャップエネルギーにより決まるため、量子ドットの粒径を変化させることで、任意の発光スペクトルを得ることができる。これらの量子ドットと青色ＬＥＤ等とを組み合わせたバックライトは、高発光効率で高い色純度を実現することが可能とされている（例えば、特許文献１～２参照）。
　量子ドットは上記の優れた特徴を備える一方で、水分、酸素等影響により劣化しやすいという問題がある。このため、量子ドット含有層の両側の面はバリアフィルムにより保護することが好ましい。
　特許文献３及び４には、基材、無機酸化物層及び有機被覆層を有するバリアフィルムによって量子ドット含有層を保護してなる波長変換シートが提案されている。
国際公開第２０１２／１３２２３９号 特開２０１５－１８１３１号公報 特開２０１９－１２６９２４号公報 特開２０２０－１９１４１号公報
　しかし、特許文献３及び４の波長変換シートを用いた液晶表示装置は、波長変換シートの水蒸気透過度が低いにも関わらず、継続して使用している間に、初期とは異なった色味の画像が視認されるケースが散見された。すなわち、特許文献３及び４の波長変換シートを用いた液晶表示装置は、初期の時点と任意の時点とを比較した際に、色味が大きく異なるケースが散見された。量子ドットは、色純度を高めることを特徴とするものである。このため、量子ドットを用いた液晶表示装置の色味が安定しないことは、液晶表示装置の特徴が損なわれ、品質上極めて重要な問題であった。
　本開示は、上記問題に鑑み、波長変換シートに適用した際に、色味の変化を抑制し得るバリアフィルムを提供することを目的とする。また、本開示は、前記バリアフィルムを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置を提供することを目的とする。また、本開示は、バリアフィルムの選定方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、バリアフィルムを適用した波長変換シートが高湿環境下に晒された際に、バリアフィルムの有機被覆層が膨潤し、バリアフィルムの分光透過スペクトルの波形が変化することによって、色味が変化していることを見出した。
　そして、本発明者らはさらに鋭意研究した結果、バックライトの一次光の中心波長を考慮して、バリアフィルムの分光透過スペクトルが所定の波長域にピーク又はボトムを示すようにすることにより、バリアフィルムを適用した波長変換シート等の色味の変化を抑制できることを見出した。
　本開示は、以下の［１］～［１１］を提供する。
［１］光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムであって、
　ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、かつ、
　前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として前記バリアフィルムの分光透過率を測定した際に、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、
　波長変換シート用のバリアフィルム。
［２］４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、［１］に記載のバリアフィルム。
［３］４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、［２］に記載のバリアフィルム。
［４］４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトムを有してなる、［１］に記載のバリアフィルム。
［５］光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及び前記有機被覆層としての有機被覆層Ｄをこの順に有してなる、［１］～［４］の何れかに記載のバリアフィルム。
［６］前記有機被覆層Ｄ上に、さらにプライマー層Ｅを有してなる、［５］に記載のバリアフィルム。
［７］光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及びプライマー層Ｅをこの順に有してなる、［１］～［４］の何れかに記載のバリアフィルム。
［８］量子ドットを含む量子ドット含有層と、前記量子ドット含有層の両側に積層されてなるバリアフィルムを有する波長変換シートであって、前記バリアフィルムとして、［１］～［７］の何れかに記載のバリアフィルムの光透過性基材とは反対側の面が前記量子ドット含有層側を向くように積層してなる、波長変換シート。
［９］一次光を放出する少なくとも１つの光源と、前記光源に隣接して配置され、導光又は拡散のための光学板と、前記光学板の光出射側に配置された波長変換シートとを備えたバックライトにおいて、前記波長変換シートが［８］に記載の波長変換シートであるバックライト。
［１０］バックライト及び液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、前記バックライトが［９］に記載のバックライトである液晶表示装置。
［１１］光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムに関して、下記の判定基準１及び２を満たすものを選定する、波長変換シート用のバリアフィルムの選定方法。
＜判定基準１＞
　前記バリアフィルムのＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であること。
＜判定基準２＞
　前記バリアフィルムの分光透過率を、前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として測定し、測定した分光透過率が４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有すること。
　本開示のバリアフィルム、並びに、これを用いた波長変換シート、バックライト及び液晶表示装置は、色味の変化を抑制することができる。また、本開示のバリアフィルムの選定方法は、色味の変化を抑制することができるバリアフィルムを簡易に選定することができる。
本開示のバリアフィルムの一実施形態を示す断面図である。 本開示のバリアフィルムの他の実施形態を示す断面図である。 本開示のバリアフィルムの他の実施形態を示す断面図である。 本開示の波長変換シートの一実施形態を示す断面図である。 本開示の波長変換シートの他の実施形態を示す断面図である。 本開示の波長変換シートの他の実施形態を示す断面図である。 本開示のバックライトの一実施形態を示す断面図である。 本開示のバックライトの他の実施形態を示す断面図である。 実施例１のバリアフィルムの分光透過率を示す図である。 比較例１のバリアフィルムの分光透過率を示す図である。
　以下、本開示の実施形態を説明する。
　なお、本明細書において、「ＡＡ～ＢＢ」との表記は、ＡＡ以上ＢＢ以下であることを意味する。
　また、本明細書において、各層の屈折率は、波長６３２．８ｎｍにおける屈折率を意味するものとする。各層の屈折率は、例えば、反射光度計により測定した反射スペクトルと、フレネル係数を用いた多層薄膜の光学モデルから算出した反射スペクトルとのフィッティングにより算出することができる。
　また、本明細書において、光透過性基材、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ、及び有機被覆層Ｄの屈折率を、それぞれ、ｎ０、ｎＡ、ｎＢ、ｎＣ、及びｎＤと称する。また、本明細書において、光透過性基材、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ、及び有機被覆層Ｄの厚みを、それぞれ、ｔ０、ｔＡ、ｔＢ、ｔＣ、及びｔＤと称する。
　また、本明細書において、任意の２つの層の界面の反射率Ｒは、一方の層の屈折率をｎ１、他方の層の屈折率をｎ２と定義した際に、下記の式ｉで表されるものである。
　Ｒ（％）＝１００×（ｎ１－ｎ２）２／（ｎ１＋ｎ２）２　　（式ｉ）
［バリアフィルム］
　本開示のバリアフィルムは、
　光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムであって、
　ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、かつ、
　前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として前記バリアフィルムの分光透過率を測定した際に、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなり、
　波長変換シートに用いられるものである。
　図１～図３は、本開示のバリアフィルム（１００）の実施形態を示す断面図である。図１～図３のバリアフィルム（１００）は、光透過性基材（１０）上に、無機酸化物層Ａ（２１）、有機被覆層Ｂ（３１）、及び無機酸化物層Ｃ（２２）をこの順に有している。また、図１のバリアフィルム（１００）は、無機酸化物層Ｃ（２２）の有機被覆層Ｂ（３１）とは反対側に有機被覆層Ｄ（３２）を有している。また、図２のバリアフィルム（１００）は、無機酸化物層Ｃ（２２）の有機被覆層Ｂ（３１）とは反対側に、有機被覆層Ｄ（３２）及びプライマー層Ｅ（４０）を有している。また、図３のバリアフィルム（１００）は、無機酸化物層Ｃ（２２）の有機被覆層Ｂ（３１）とは反対側にプライマー層Ｅ（４０）を有している。
＜水蒸気透過度＞
　バリアフィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを要する。バリアフィルムの水蒸気透過度が０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙを超える場合、バリアフィルムが量子ドットの劣化を抑制できないため、バリアフィルムが４５０ｎｍ±７ｎｍに分光透過率のピーク又はボトムを有していたとしても色味の変化を抑制することができない。
　水蒸気透過度は、０．１７ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．１５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．１３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。水蒸気透過度の下限は特に限定されないが、製造のしやすさ、コスト面を考慮して通常、０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙ程度である。
　水蒸気透過度を測定する際の温度及び湿度の条件は、４０℃、相対湿度９０％とする。また、水蒸気透過度の測定前に、測定用のサンプルを温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気に３０分以上晒すものとする。
　水蒸気透過度は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の水蒸気透過度測定装置（商品名：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）にて測定できる。
　水蒸気透過度は、無機酸化物層及び有機被覆層の少なくとも一方を２層以上形成することにより、上記範囲にしやすくできる。また、水蒸気透過度は、無機酸化物層又は有機被覆層の厚みを増すことにより、上記範囲にしやすくできる。
＜分光透過率のピーク又はボトム＞
　本開示のバリアフィルムは、前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として前記バリアフィルムの分光透過率を測定した際に、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなることを要する。
　バリアフィルムの無機酸化物層及び有機被覆層を有する側の面とは、光透過性基材を基準として、無機酸化物層及び有機被覆層を有する側の面のことをいう。図１～図３のバリアフィルムにおいては、図１～図３の上側の面が光入射面である。
　以下、分光透過率のピーク又はボトムの位置を４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲とする技術的意義を説明する。
　まず、本発明者らが、分光透過率のピーク又はボトムに着目するに至った背景を説明する。
　図４～図６に示すように、バリアフィルム（１００ａ、１００ｂ）は、量子ドット含有層（５０）の両側に配置され、波長変換シート（２００）の構成部材として用いられる。そして、波長変換シートを含むバックライトにおいて、バックライトの一次光源から射出する光（一般的に、波長４５０ｎｍを中心とする青色光）は、波長変換シート（２００）の下側のバリアフィルム（１００ｂ）の光透過性基材（１０）に入射する。
　図４～図６の波長変換シート（２００）の下側のバリアフィルム（１００ｂ）の光透過性基材（１０）に一次光源の光が入射した場合、光の大部分は、下側のバリアフィルム（１００ｂ）を透過して、量子ドット含有層（５０）に到達する。
　そして、量子ドット含有層（５０）に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突した光は、一次光源とは別の波長の光に変換され（以下、量子ドットに衝突して変換された光のことをＬ２と称する。）、上側のバリアフィルム（１００ａ）に入射する。Ｌ２は、例えば、緑色光及び赤色光が挙げられる。一方、量子ドット含有層（５０）に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突しなかった光は、一次光源の波長の光のまま上側のバリアフィルム（１００ａ）に入射する。以下、量子ドットに衝突せず変換されなかった光のことをＬ１と称する。Ｌ１は、例えば、青色光が挙げられる。
　そして、上側のバリアフィルム（１００ａ）に入射した光（Ｌ１及びＬ２）の大部分は、上側のバリアフィルム（１００ａ）を透過して、波長変換シート（２００）よりも視認者側に配置される部材（例えば、プリズムシート等の輝度向上シート）に向かう。
　バリアフィルムを含む波長変換シートを適用した液晶表示装置の色味は、Ｌ１とＬ２とのバランスにより成立している。よって、波長変換シートを適用した液晶表示装置の色味が経時的に変化する理由は、Ｌ１とＬ２とのバランスが変化するためであると考えられる。
　本発明者らは、Ｌ１とＬ２とのバランスが変化する原因について鋭意研究した。まず、Ｌ２の光量は、量子ドットの劣化に伴い、徐々に低下すると考えられる。しかし、バリアフィルム等の存在により量子ドットの劣化は抑制されているため、量子ドットの劣化のみでは色味の変化を説明することができない。また、一次光源が劣化した場合、Ｌ１だけではなくＬ２も相対的に減少するため、一次光源の劣化を原因とすることも考えにくい。
　本発明者らは、さらに鋭意研究した結果、上側のバリアフィルム１００ａのＬ１の透過率の変化（≒上側のバリアフィルムから出射するＬ１の光量の変化）と、量子ドットの劣化によるＬ２の光量の変化の相乗作用により、バリアフィルムを含む波長変換シートを適用した液晶表示装置の色味が変化していることを見出した。
　そして、本発明者らは、上側のバリアフィルム１００ａのＬ１の透過率（≒上側のバリアフィルム１００ａから出射するＬ１の光量）が経時的に変化する主たる原因が、湿度による有機被覆層の膨潤であることを見出した。
　バリアフィルムの分光透過率が４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲にピーク又はボトムを有するということは、バリアフィルムを透過した光の分光透過スペクトルの波形が、４５０ｎｍ近傍にピーク又はボトムを有するものであることを示している。
　このように、バリアフィルムの分光透過スペクトルの波形が４５０ｎｍ近傍にピーク又はボトムを有することにより、高湿環境下に晒された際の色味の変化の抑制を抑制することができる。かかる効果を生じる理由は以下のように考えられる。
　まず、バリアフィルムが高湿環境下に晒されると、バリアフィルムの有機被覆層が膨潤する。そして、有機被覆層が膨潤すると、有機被膜層の厚みが増すため、バリアフィルムの分光透過率の波形がシフト（主として長波長側にシフト）する。そして、バリアフィルムの分光透過率は、ピーク又はボトム近傍では変化が小さいものの、ピーク又はボトムを外れた領域では変化が大きくなる傾向がある。よって、バリアフィルムの波長４５０ｎｍの透過率をピーク近傍又はボトム近傍とすることにより有機被覆層が膨潤して分光透過スペクトルの波形がシフトした際の、４５０ｎｍの透過率の変化を抑制することができると考えられる。量子ドットを用いたバックライトの一次光の中心波長は概ね４５０ｎｍであるから、バリアフィルムの４５０ｎｍの透過率の変化を抑制することは、量子ドット含有層（５０）に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突しなかった光（Ｌ１）の透過率の変化を抑制し、量子ドットを用いたバックライトの色味の変化を抑制できることになると考えられる。
　なお、Ｌ２（緑及び赤）の波長領域は、Ｌ１（青）に比べて分光透過スペクトルの波形の周期が長くなるため、有機被覆層の膨潤による影響は受けにくい。
　以上のことから、バリアフィルムの分光透過率のピーク又はボトムの位置を４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲とすることにより、バリアフィルムを波長変換シートに適用した際に、色味の変化を抑制し得ることができると考えられる。
　前記ピーク又はボトムの位置は、４５０ｎｍ±５ｎｍの範囲であることがより好ましく、４５０ｎｍ±３ｎｍの範囲であることがさらに好ましく、４５０ｎｍ±１ｎｍの範囲であることがよりさらに好ましい。
　分光透過率は、測定波長間隔を１ｎｍとして測定することが好ましい。分光透過率の測定装置としては、例えば、日本分光株式会社製の紫外可視分光光度計（型番：Ｖ－６７０）が挙げられる。
　本明細書において、分光透過率、全光線透過率、色味（Ｙｘｙ表色系のｘ値及びｙ値）、各層の厚み等の各種のパラメータを測定する際は、特に断りのない限り、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で測定するものとする。さらに、各種のパラメータを測定する前に、サンプルを前記雰囲気に３０分以上晒すものとする。
《ピーク又はボトムの位置の調整手法》
　次に、ピーク又はボトムの位置の調整手法について説明する。
　まず、バリアフィルム等の積層体の分光透過率を測定した際に、波長によって分光透過率の値が異なる理由は、主として積層体の薄膜干渉によるものである。
　以下、図４の波長変換シートを例にして、薄膜干渉による、ピーク又はボトムの位置の調整手法を説明する。
　図４の波長変換シート（２００）においては、Ｌ１（量子ドット含有層（５０）に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突しなかった光）は、上側のバリアフィルム１００ａを透過するまでに６つの界面を通過する。６つの界面は、量子ドット含有層と有機被覆層Ｄとの界面（界面１）、有機被覆層Ｄと無機酸化物層Ｃとの界面（界面２）、無機酸化物層Ｃと有機被覆層Ｂとの界面（界面３）、有機被覆層Ｂと無機酸化物層Ａとの界面（界面４）、無機酸化物層Ａと光透過性基材との界面（界面５）、光透過性基材と空気との界面（界面６）である。
　量子ドット含有層の屈折率ｎＺは、通常は有機被覆層Ｄの屈折率ｎＤよりも小さい。したがって、界面１の反射は、通常は固定端反射である。Ｌ１の透過率（％）は、概ね、「１００（％）－反射率（％）」である。そして、Ｌ１の反射率は、界面１の反射と、他の界面の反射との干渉を考慮する必要がある。具体的には、界面１の反射が他の界面の反射との干渉によって減少する場合には、Ｌ１の透過率は高くなり、逆に、界面１の反射が他の界面の反射との干渉によって増加する場合には、Ｌ１の透過率は低くなる。
　界面１の反射（通常は固定端反射）と、界面２～６の反射との干渉を検討するにあたり、界面２～６の反射の性質を検討する必要がある。
　まず、説明を簡略化するため、無機酸化物層Ａの屈折率ｎＡ及び無機酸化物層Ｃの屈折率ｎＣが、有機被覆層Ｂの屈折率ｎＢ及び有機被覆層Ｄの屈折率ｎＤよりも大きいケースで考える。このケースでは、界面２の反射は固定端反射、界面３の反射は自由端反射、界面４の反射は固定端反射である。また、ｎＡ及びｎＣがｎＢ及びｎＤよりも大きい場合、無機酸化物層の厚みが薄くてもバリア性が良好になる傾向があるため、通常は、無機酸化物層の厚みを薄く設計する。このため、界面２の固定端反射における光学距離と、界面３の自由端反射における光学距離とは略同一とみなすことができる。さらに、通常は、ｎＡ≒ｎＣかつｎＢ≒ｎＤであるため、界面２及び界面３の反射率は略同一である。よって、界面２の固定端反射と、界面３の自由端反射とは互いに打ち消し合い、界面１の固定端反射に影響を与えないとみなすことができる。
　また、ガスバリア性を高くするためには、通常は、光透過性基材の屈折率ｎ０より、無機酸化物層Ａの屈折率ｎＡの方を高くする設計を採用する。かかる設計の場合、界面５の反射は自由端反射である。上述したように、ｎＡ及びｎＣがｎＢ及びｎＤよりも大きい場合、通常、無機酸化物層の厚みを薄く設計するため、界面４の固定端反射における光学距離と、界面５の自由端反射における光学距離とは略同一とみなすことができる。よって、界面４の反射率と界面５との反射率とを比較し、反射率の高い方の界面の反射が、界面１の固定端反射に影響を与えることになる。以下では、無機酸化物層Ａと有機被覆層Ｂとの界面（界面４）の反射率が、光透過性基材と無機酸化物層Ａとの界面（界面５）の反射率よりも大きい場合について説明する。すなわち、以下の説明では、界面１の固定端反射に影響を与える反射としては、界面５は考慮せず、界面４を考慮している。
　最後に、界面６の反射を検討する。通常、光透過性基材の厚みは光の波長よりも十分に厚く設計される。よって、界面６の反射は、いわゆる薄膜干渉として無視できる反射である。
　上記の事例においては、界面１の反射（通常は固定端反射）に干渉する反射として考慮すべき反射は、界面４の固定端反射ということになる。（上記事例においても、実際には、界面４以外の反射も界面１の反射に若干の影響を与える。しかし、ここでは説明を簡略化するために、界面４の反射のみが界面１の反射に影響を与えることとして説明している。）
　界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とすれば、波長λの光に関しては、下記式ｍ－１の関係を満たす際に、界面４の反射が界面１の反射を弱め、反射率が減少する。そして、反射率が減少することは、透過率が増加することを意味する。よって、界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とすれば、量子ドット含有層から出射する波長λの光は、下記式ｍ－１の関係を満たす際に、透過率が最も高くなる。なお、上記の事例においては、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの厚みは、干渉に影響しない程度に薄いことを前提としているため、下記式ｍ－１では、無機酸化物層の厚みを考慮していない。
　２×ｎＢ×ｔＢ＋２×ｎＤ×ｔＤ＝λ／２　（式ｍ－１）
　式ｍ－１は、下記式ｍ－２に変形できる。
　ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＝λ／４　（式ｍ－２）
　式ｍ－２より、界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ」＝「λ／４」を満たす際に、波長λの透過率が最も高くなるといえる。また、分光透過率には周期性があるため、界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ」が「λ／４」の奇数倍の時にも、波長λの透過率が最も高くなるといえる。そして、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ」が「λ／４」の何倍となるかは、式ｍ－２の左辺を右辺で割ることにより算出できる。
　量子ドットを用いたバックライトの一次光の中心波長は概ね４５０ｎｍである。λを４５０ｎｍとすると、式ｍ－２の「λ／４」は「１１２．５ｎｍ」である。式ｍ－２の「λ／４」が「１１２．５ｎｍ」の時に、式ｍ－２の左辺を右辺で割ると、下記式ｍ－３となる。下記式ｍ－３の「ｄ１」は、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ」が「１１２．５ｎｍ」の何倍であるかを示している。
　ｄ１＝ｎＢ×ｔＢ／１１２．５ｎｍ＋ｎＤ×ｔＤ／１１２．５ｎｍ　（式ｍ－３）
　そして、界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、式ｍ－３のｄ１が２ｘ＋１の場合（ｘは０以上の整数）、波長４５０ｎｍの光の透過率が最も高くなり、式ｍ－３のｄ１が２ｘの場合（ｘは１以上の整数）、波長４５０ｎｍの光の透過率が最も低くなる。言い換えると、界面１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、式ｍ－３のｄ１が奇数の場合、波長４５０ｎｍの光の透過率がピークを示し、式ｍ－３のｄ１が偶数の場合、波長４５０ｎｍの光の透過率がボトムを示す。波長４５０ｎｍの光は、上述したＬ１とみなすことができる。
　以上のことから、上記事例の場合には、式ｍ－３のｄ１を、奇数の整数近傍又は偶数の整数近傍とすることにより、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に分光透過率のピーク又はボトムを有するように調整しやすくできる。また、上記事例において、式ｍ－３のｄ１が奇数の整数近傍の場合には、ピーク又はボトムは、分光透過率が増加から減少に転じるピークとなる。また、上記事例において、式ｍ－３のｄ１が偶数の整数近傍の場合には、ピーク又はボトムは、分光透過率が減少から増加に転じるボトムとなる。
　式ｍ－３のｄ１は、整数丁度である必要はなく、整数±０．１０程度であれば、ピーク又はボトムの位置を４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に調整しやすい。
　また、上記事例の場合、式ｍ－３のｄ１が、整数～整数＋０．１０の範囲である場合には、ピークの位置を４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に調整しやすく、整数－０．１０～整数の範囲である場合には、ボトムの位置を４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に調整しやすい。
　なお、上述したように、実際には、界面４以外の反射も界面１の反射に若干の影響を与える。このため、上記事例においては、上記手法で基本設計を実施しつつ、反射スペクトルのシミュレーションで微修正することが好ましい、反射スペクトルのシミュレーションは、汎用のシミュレーションソフトを用いることができる。
　界面１の反射は通常は固定端反射であるが、界面１の反射が自由端反射である場合は以下のように考えればよい。
　上記の事例において、自由端反射である界面１の反射に干渉する反射として考慮すべき反射は、界面４の固定端反射であることには変わりがない。そして、この場合、式ｍ－３のｄ１が２ｘ＋１の場合（ｘは０以上の整数）、波長４５０ｎｍの透過率が最も低くなり、式ｍ－３のｄ１が２ｘの場合（ｘは１以上の整数）、波長４５０ｎｍの透過率が最も高くなる。
　次に、バリアフィルムが、有機被覆層Ｄの無機酸化物層Ｃとは反対側にプライマー層Ｅを有する場合について検討してみる。バリアフィルムを用いた波長変換シートにおいて、Ｌ１（量子ドット含有層（５０）に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突しなかった光）は、上側のバリアフィルム１００ａを透過するまでに７つの界面を通過する（図５参照）。７つの界面は、量子ドット含有層とプライマー層Ｅとの界面（界面１－１）、プライマー層Ｅと有機被覆層Ｄとの界面（界面１－２）、有機被覆層Ｄと無機酸化物層Ｃとの界面（界面２）、無機酸化物層Ｃと有機被覆層Ｂとの界面（界面３）、有機被覆層Ｂと無機酸化物層Ａとの界面（界面４）、無機酸化物層Ａと光透過性基材との界面（界面５）、光透過性基材と空気との界面（界面６）である。
　量子ドット含有層の屈折率ｎＺは、通常はプライマー層Ｅの屈折率ｎＥよりも小さい。したがって、界面１－１の反射は、通常は固定端反射である。
　界面１－１の反射（通常は固定端反射）と、界面１－２、２～６の反射との干渉を検討するにあたり、界面１－２、２～６の反射の性質を検討する必要がある。
　界面１－２の反射は、固定端反射の場合と自由端反射の場合とが考えられる。ここで、通常、界面１－２の反射率を低くするために、プライマー層Ｅの屈折率ｎＥと、有機被覆層Ｄの屈折率ｎＤとは、屈折率差が小さくなるように設計される。よって、反射率の低い界面１－２の反射は無視することができる。
　界面２の反射と、界面３の反射とは、プライマー層Ｅを有さない場合と同様に、互いに打ち消し合い、界面１－１の固定端反射に影響を与えないとみなすことができる。
　界面４の反射と、界面５の反射との関係は、上記の事例と同様に、界面４の方が反射率が高いものとして検討する。よって、ここでは、界面５の反射は考慮せず、界面４の反射を考慮する。界面６の反射は、いわゆる薄膜干渉として無視できる反射である。
　よって、界面１－１の反射（通常は固定端反射）に干渉する反射として考慮すべき反射は、界面４の固定端反射ということになる。そして、界面４の固定端反射の光学距離としては、プライマー層の光学距離（ｎＥ×ｔＥ）を考慮する必要がある。（上記事例においても、実際には、界面４以外の反射も界面１－１の反射に若干の影響を与える。しかし、ここでは説明を簡略化するために、界面４の反射のみが界面１－１の反射に影響を与えることとして説明している。）
　界面１－１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とすれば、波長λの光に関しては、下記式ｎ－１の関係を満たす際に、界面４の反射が界面１－１の反射を弱め、反射率が減少する。そして、反射率が減少することは、透過率が増加することを意味する。よって、界面１－１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とすれば、量子ドット含有層から出射する波長λの光は、下記式ｎ－１の関係を満たす際に、透過率が最も高くなる。なお、上記の事例においては、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの厚みは、干渉に影響しない程度に薄いことを前提としているため、下記式ｎ－１では、無機酸化物層の厚みを考慮していない。
　２×ｎＢ×ｔＢ＋２×ｎＤ×ｔＤ＋２×ｎＥ×ｔＥ＝λ／２　（式ｎ－１）
　式ｎ－１は、下記式ｎ－２に変形できる。
　ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＋ｎＥ×ｔＥ＝λ／４　（式ｎ－２）
　式ｎ－２より、界面１－１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＋ｎＥ×ｔＥ」＝「λ／４」を満たす際に、波長λの透過率が最も高くなるといえる。また、分光透過率には周期性があるため、界面１－１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＋ｎＥ×ｔＥ」が「λ／４」の奇数倍の時にも、波長λの透過率が最も高くなるといえる。そして、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＋ｎＥ×ｔＥ」が「λ／４」の何倍となるかは、式ｎ－２の左辺を右辺で割ることにより算出できる。
　量子ドットを用いたバックライトの一次光の中心波長は概ね４５０ｎｍである。λを４５０ｎｍとすると、式ｎ－２の「λ／４」は「１１２．５ｎｍ」である。式ｎ－２の「λ／４」が「１１２．５ｎｍ」の時に、式ｎ－２の左辺を右辺で割ると、下記式ｎ－３となる。下記式ｎ－３の「ｄ２」は、「ｎＢ×ｔＢ＋ｎＤ×ｔＤ＋ｎＥ×ｔＥ」が「１１２．５ｎｍ」の何倍であるかを示している。
　ｄ２＝ｎＢ×ｔＢ／１１２．５ｎｍ＋ｎＤ×ｔＤ／１１２．５ｎｍ＋ｎＥ×ｔＥ／１１２．５ｎｍ　（式ｎ－３）
　そして、界面１－１及び界面４の反射が何れも固定端反射であることを前提とした場合には、式ｎ－３のｄ２が２ｙ＋１の場合（ｙは０以上の整数）、波長４５０ｎｍの光の透過率が最も高くなり、式ｎ－３のｄ２が２ｙの場合（ｙは１以上の整数）、波長４５０ｎｍの光の透過率が最も低くなる。波長４５０ｎｍの光は、上述したＬ１とみなすことができる。
　以上のことから、上記事例の場合には、式ｎ－３のｄ２を、奇数の整数近傍又は偶数の整数近傍とすることにより、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に分光透過率のピーク又はボトムを有するように調整しやすくできる。また、上記事例において、式ｎ－３のｄ２が奇数の整数近傍の場合には、ピーク又はボトムは、分光透過率が増加から減少に転じるピークとなる。また、上記事例において、式ｎ－３のｄ２が偶数の整数近傍の場合には、ピーク又はボトムは、分光透過率が減少から増加に転じるボトムとなる。
　式ｎ－３のｄ２は、整数丁度である必要はなく、整数±０．１０程度であれば、ピーク又はボトムの位置を４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に調整しやすい。
　また、上記事例の場合、式ｍ－３のｄ２が、整数～整数＋０．１０の範囲である場合には、ピークの位置を４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に調整しやすく、整数－０．１０～整数の範囲である場合には、ボトムの位置を４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に調整しやすい。
　界面１－１の反射は通常は固定端反射であるが、界面１－１の反射が自由端反射である場合は以下のように考えればよい。
　この場合、自由端反射である界面１－１の反射に干渉する反射として考慮すべき反射は、界面４の固定端反射であることには変わりがない。そして、この場合、式ｎ－３のｄ２が２ｙ＋１の場合（ｙは０以上の整数）、波長４５０ｎｍの透過率が最も低くなり、式ｎ－３のｄ２が２ｙの場合（ｙは１以上の整数）、波長４５０ｎｍの透過率が最も高くなる。
　なお、上述したように、実際には、界面４以外の反射も界面１－１の反射に若干の影響を与える。このため、上記事例においては、上記手法で基本設計を実施しつつ、反射スペクトルのシミュレーションで微修正することが好ましい、反射スペクトルのシミュレーションは、汎用のシミュレーションソフトを用いることができる。
　上記の事例と異なる場合であっても、各層の屈折率及び厚みに基づいて薄膜干渉の作用を考慮すれば、バリアフィルムの分光透過率のピーク又はボトムの位置を調整することができる。
　例えば、図４の層構成の波長変換シートにおいて、光透過性基材として汎用的に用いられているポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、かつ、無機酸化物層として屈折率が低く厚みが厚いものを用いた場合には、Ｌ１が通過する界面の中で、通常は、無機酸化物層と光透過性基材との界面が最も高い反射率を示す。この場合、量子ドット含有層とバリアフィルムとの界面の反射に干渉する反射は、主として、無機酸化物層と光透過性基材との界面の反射を考慮すればよい。
　前記ピーク又はボトムは、分光透過率が増加から減少に転じるピークであることが好ましい。また、量子ドットを用いたバックライトの一次光源の中心波長は概ね４５０ｎｍである。よって、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲のピーク又はボトムが、分光透過率が増加から減少に転じるピークであることにより、量子ドット含有層に到達した一次光源の光のうち量子ドットに衝突しなかった光（Ｌ１）の透過率を高くできる点で好ましい。
　なお、無機酸化物層が酸化ケイ素を含む層である場合、バリアフィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が増加する傾向がある。ｂ＊値が高く黄色味を感じるフィルムは、画像表示装置の視認性の観点から敬遠される場合がある。このため、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲のピーク又はボトムが、分光透過率が増加から減少に転じるピークであることにより、無機酸化物層が酸化ケイ素を含む層であっても、バリアフィルムの黄色味を抑制しやすい点で好ましい。
　前記ピーク又はボトムが分光透過率が増加から減少に転じるピークである場合には、４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に分光透過率のピークを有してなることが好ましい。
　ピークを４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、有機被覆層が膨潤してバリアフィルムの分光反射率の波形が長波長側にシフトした際に、波長４５０ｎｍの透過率は低下することになる。すなわち、ピークを４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、有機被覆層が膨潤すると、Ｌ１の透過率が減少する。
　一方、量子ドットで変換される光（Ｌ２）は、量子ドットの劣化により徐々に光量が低下する。
　よって、ピークを４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、量子ドットの劣化によってＬ２の光量が低下し、かつ、Ｌ１の透過率も減少するため、Ｌ１及びＬ２のバランスが崩れにくくなり、色味の変化をより抑制できる点で好ましい。
　前記ピーク又はボトムは、分光透過率が減少から増加に転じるボトムであり、かつ、４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に分光透過率のボトムを有してなることも好ましい。
　ボトムを４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、有機被覆層が膨潤してバリアフィルムの分光反射率の波形が長波長側にシフトした際に、波長４５０ｎｍの透過率は低下することになる。すなわち、ボトムを４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、有機被覆層が膨潤すると、Ｌ１の透過率が減少する。
　一方、量子ドットで変換される光（Ｌ２）は、量子ドットの劣化により徐々に光量が低下する。
　よって、ボトムを４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の位置に有するバリアフィルムは、量子ドットの劣化によってＬ２の光量が低下し、かつ、Ｌ１の透過率も減少するため、Ｌ１及びＬ２のバランスが崩れにくくなり、色味の変化をより抑制できる点で好ましい。
＜層構成＞
　本開示のバリアフィルムは、光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有し、水蒸気透過度及び分光透過率が上述した条件を満たすものであれば、層構成は特に限定されない。
　バリア性の観点から、バリアフィルムは、光透過性基材の一方の面上に、２以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有する積層構成であることが好ましい。また、バリアフィルムは、バリア性及び量子ドット含有層との密着性の観点から、光透過性基材の一方の面上に、２以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層と、プライマー層とを有する積層構成であることがより好ましい。なお、これらの好ましい実施形態のように、光透過性基材上に配置される無機酸化物層及び有機被覆層の積層数が増加して厚みが増すと、分光透過率の波形の周期が短くなりやすくなるため、ピーク又はボトムを４５０ｎｍ近傍にすることによる効果を発揮しやすくできる。
　本開示のバリアフィルムの層構成としては、例えば、下記（１）～（３）の構成が挙げられる。下記（１）～（３）において、「／」は層の界面を意味する。下記（１）～（３）の構成は、バリア性に優れる点で好ましい。中でも、下記（２）～（３）の構成は、量子ドット含有層との密着性に優れる点で好ましい。また、下記（１）～（３）の構成は、光透過性基材の層の数が少ないもの（例えば、光透過性基材上に、１層の無機酸化物層と、１層の有機被覆層とを有するもの）に比べて、分光透過率の波形の周期が短くなりやすくなるため、ピーク又はボトムを４５０ｎｍ近傍にすることによる効果を発揮しやすくできる。
　なお、（１）～（３）の層構成は、光透過性基材の無機酸化物層Ａとは反対側の面に、光拡散層等のその他の機能層を有していてもよい。
（１）光透過性基材／無機酸化物層Ａ／有機被覆層Ｂ／無機酸化物層Ｃ／有機被覆層Ｄ
（２）光透過性基材／無機酸化物層Ａ／有機被覆層Ｂ／無機酸化物層Ｃ／有機被覆層Ｄ／プライマー層Ｅ
（３）光透過性基材／無機酸化物層Ａ／有機被覆層Ｂ／無機酸化物層Ｃ／プライマー層Ｅ
　本開示の効果を阻害しない範囲で、バリアフィルムは、上記以外の層を有していてもよい。
　本開示のバリアフィルムは、下記（４）及び（５）の構成も挙げられる。しかし、下記（４）及び（５）の積層構成は、上記（２）及び（３）に比べて界面の数が多いため光学特性の点で不利であり、また、総厚も増加してしまう。このため、上記（１）～（３）の積層構成が好ましい。
（４）第一の光透過性基材／無機酸化物層Ａ／有機被覆層Ｂ／無機酸化物層Ｃ／有機被覆層Ｄ／第二の光透過性基材／プライマー層
（５）第一の光透過性基材／無機酸化物層Ａ／有機被覆層Ｂ／無機酸化物層Ｃ／第二の光透過性基材／プライマー層
　上記（１）は、光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及び前記有機被覆層としての有機被覆層Ｄをこの順に有してなる構成である。
　上記（１）の構成では、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ及び有機被覆層Ｄは、それぞれ接していることが好ましい。また、光透過性基材と無機酸化物層Ａとは接していることが好ましい。
　上記（２）は、上記（１）の有機被覆層Ｄ上に、さらにプライマー層Ｅを有してなる構成である。上記（２）において、有機被覆層Ｄとプライマー層Ｅとは接していることが好ましい。
　上記（３）は、光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及びプライマー層Ｅをこの順に有してなる構成である。
　上記（３）の構成では、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ及びプライマー層Ｅは、それぞれ接していることが好ましい。また、光透過性基材と無機酸化物層Ａとは接していることが好ましい。
＜厚み＞
　無機酸化物層及び有機被覆層の合計厚みは、１５０ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以上８００ｎｍ以下であることがより好ましく、３００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。前記合計厚みを１５０ｎｍ以上とすることにより、バリア性を良好にしやすくできる。また、前記合計厚みを１５００ｎｍ以下とすることにより、分光透過率の波形の周期が短くなりすぎることを抑制し、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に分光透過率のピーク又はボトムを有することによる効果を発揮しやすくできる。
　無機酸化物層、有機被覆層及びプライマー層の合計厚みは、３００ｎｍ以上１７００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以上９００ｎｍ以下であることがより好ましく、４５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。前記合計厚みを３００ｎｍ以上とすることにより、バリア性を良好にしやすくできる。また、前記合計厚みを１７００ｎｍ以下とすることにより、分光透過率の波形の周期が短くなりすぎることを抑制し、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に分光透過率のピーク又はボトムを有することによる効果を発揮しやすくできる。
＜光透過性基材＞
　光透過性基材としては、波長変換シートに適用した際に波長変換シートの機能を害することのない樹脂フィルムであれば、特に制限されない。
　光透過性基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、アクリル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ－Ｏｌｅｆｉｎ－Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等から選ばれる１種以上の樹脂から形成されてなる樹脂フィルムが挙げられる。
　これらの樹脂フィルムの中でも、機械的強度、寸法安定性及び耐熱性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。
　光透過性基材は、樹脂フィルムの単層であっても良く、複数の樹脂フィルムを有するものであってもよい。複数の樹脂フィルムを有する場合、各樹脂フィルムは直接接着したものであっても良いし、接着層を介して接着したものであってもよい。
　光透過性基材の厚みｔ０は、５μｍ以上であることが好ましく、８μｍ以上であることがより好ましく、１０μｍ以上であることがさらに好ましい。光透過性基材の厚みを５μｍ以上とすることにより、バリアフィルムの強度を良好にしやすくできる。また、光透過性基材の厚みを５μｍ以上とすることにより、光透過性基材の光路長が可視光線の波長よりも十分に大きくなるため、光透過性基材がバリアフィルムの分光透過スペクトルの波形に及ぼす影響を無視しやすくできる。
　また、光透過性基材の厚みｔ０は、薄膜化及び端部からの水蒸気及び酸素の侵入を抑制しやすくする観点から、２００μｍ以下であることが好ましく、１５０μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましい。
　本明細書において、光透過性基材の厚みｔ０等のバリアフィルムを構成する各層の厚み、並びに、量子ドット含有層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。
　なお、本明細書で示す構成要件において、数値の上限の選択肢及び下限の選択肢がそれぞれ複数示されている場合には、上限の選択肢から選ばれる一つと、下限の選択肢から選ばれる一つとを組み合わせ、数値範囲の実施形態とすることができる。例えば、上記の光透過性基材の厚みｔ０の場合、５μｍ以上２００μｍ以下、５μｍ以上２５μｍ以下、８μｍ以上５０μｍ以下、１０μｍ以上５０μｍ以下、１０μｍ以上２５μｍ以下などの数値範囲の実施形態が挙げられる。
　２枚の樹脂フィルムで光透過性基材を構成する場合、無機酸化物層等を形成する側の第１の樹脂フィルムの厚みは、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上２５μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上２０μｍ以下であることがさらに好ましい。第１の樹脂フィルムが前記厚みであると、無機酸化物層の製造効率を良好にしやすくできるとともに、ハンドリング性を良好にしやすくできる。
　また、無機酸化物層等から遠い側の第２の樹脂フィルムの厚みは、５μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましい。第２の樹脂フィルムが前記厚みであると、バリアフィルムのハンドリング性及び剛性のバランスを良好にしやすくできる。
　２枚の樹脂フィルムで光透過性基材を構成する場合、２枚の樹脂フィルムを接着層を介して貼り合わせてから、無機酸化物層等を形成してもよいし、第１の樹脂フィルム上に無機酸化物層等を形成した後、第１の樹脂フィルムの無機酸化物層等とは反対側の面に接着層を介して第２の樹脂フィルムを貼り合わせてもよい。接着層の厚みは３μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、４μｍ以上８μｍ以下が更に好ましい。接着層は、厚みが薄すぎると塗工不良が発生する場合があり、厚みが厚すぎると硬化不足となる場合がある。
　光透過性基材は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、８７％以上であることがさらに好ましい。
　光透過性基材の無機酸化物層等が設けられる側の表面には、密着性等を向上させるために、予め所望の表面処理が施されていても良い。表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理などが挙げられる。
＜無機酸化物層＞
　本開示のバリアフィルムは、光透過性基材上に無機酸化物層を有する。無機酸化物層は、主としてバリア性を良好にする作用を有する。
　光透過性基材上の無機酸化物層は、１層のみでもよいが、２層有することが好ましい。なお、無機酸化物層は３層以上有していてもよいが、費用対効果の観点から２層が好ましい。本明細書において、光透過性基材上の２層の無機酸化物層のことを、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃと称する。
　光透過性基材上に２層の無機酸化物層を有することにより、バリアフィルムの酸素及び水蒸気に対するバリア性を良好にして、量子ドットの劣化を抑制しやすくできる。また、１層の無機酸化物層でバリア性を良好にしようとすると、無機酸化物層の厚みが厚くなり、無機酸化物層にクラックが生じやすくなるため、バリア性を長期に渡って良好にすることが難しくなる。しかし、２層の無機酸化物層とすることにより、それぞれの無機酸化物層の厚みが厚くなることを抑制し、クラックを生じにくくし、バリア性を長期に渡って良好にしやすくできる。
　なお、無機酸化物層の厚みを薄くしてもクラックやピンホールが生じる場合はある。しかし、２層の無機酸化物層のそれぞれにクラックやピンホールが生じたとしても、クラックやピンホールの位置が面方向で一致しない限り、積層体として所定のバリア性を付与することができる。すなわち、２層の無機酸化物層とすることにより、無機酸化物層にクラックやピンホールが生じた場合であっても所定のバリア性を付与しやすい点で好ましい。
　無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃは、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、及び酸化ケイ素から選ばれる１種又はこれらの混合物からなる層を例示することができる。
　無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの組成及び諸物性等は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。なお、バリアフィルムの物理特性等のバランスを考慮すると、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃは、組成及び諸物性等の少なくとも一部を略同一にすることが好ましい。
　例えば、無機酸化物層Ａの屈折率ｎＡと、無機酸化物層Ｃとの屈折率ｎＣとは、略同一とすることが好ましい。ｎＡとｎＣとが略同一とは、ｎＡ／ｎＣが、０．９８以上１．０２以下であることを意味し、好ましくは０．９９以上１．０１以下であり、より好ましくは１．００である。また、無機酸化物層Ａの厚みｔＡと、無機酸化物層Ｃの厚みｔＣとは、略同一であることが好ましい。ｔＡとｔＣとが略同一とは、ｔＡ／ｔＣが、０．９５以上１．０５以下であることを意味し、好ましくは０．９７以上１．０３以下であり、より好ましくは０．９９以上１．０１以下である。
　屈折率の大きい無機酸化物層は、バリア性が良好な傾向がある。中でも、酸化アルミニウムは、屈折率が高くバリア性が良好である。このため、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃとして、酸化アルミニウムを用いることにより、無機酸化物層の厚みを薄くしても所定のバリア性を付与しやすくなるため、バリアフィルムの分光透過スペクトルの波形にほとんど影響を及ぼさないレベルまで無機酸化物層を薄膜化しやすくでき、さらに透明性も良好にすることができる。
　無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃは、透明性及び生産性などの観点から、酸化アルミニウム又は酸化ケイ素を含む層であることが好ましい。
　また、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの少なくとも一方は、十分なバリア性、透明性及び生産性などの観点から、酸化アルミニウムを含む層であることが好ましく、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの両方が酸化アルミニウムを含む層であることがより好ましい。
　無機酸化物層Ａ又は無機酸化物層Ｃにおける酸化アルミニウム又は酸化ケイ素の含有割合は、質量基準で８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましい。
　無機酸化物層Ａと無機酸化物層Ｃとの組み合わせの実施形態は、例えば、下記（１）～（４）が挙げられる。
（１）無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの何れもが酸化アルミニウムを含む層である実施形態
（２）無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの何れもが酸化ケイ素を含む層である実施形態
（３）無機酸化物層Ａが酸化アルミニウムを含む層であり、無機酸化物層Ｃが酸化ケイ素を含む層である実施形態
（４）無機酸化物層Ａが酸化ケイ素を含む層であり、無機酸化物層Ｃが酸化アルミニウムを含む層である実施形態
　無機酸化物層は、厚みが薄すぎるとバリア性が低下する傾向があり、厚みが厚すぎると傷及びクラックが生じやすくなる傾向がある。無機酸化物層Ａの厚みｔＡ、及び、無機酸化物層Ｃの厚みｔＣは、バリア性、傷の抑制、及びクラックの抑制のバランスが良好になるように、無機酸化物層の材質に応じて適切な範囲とすることが好ましい。
　ｔＡ及びｔＣは、それぞれ異なっていてもよいが、上述したように、略同一とすることが好ましい。
　例えば、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃが、酸化アルミニウムを含む層である場合、ｔＡ及びｔＣは、それぞれ、下限が６ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることがより好ましい。ｔＡ及びｔＣを６ｎｍ以上とすることにより、バリア性を良好にしやすくできる。
　また、ｔＡ及びｔＣは、それぞれ、上限が２５ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１２ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。ｔＡ及びｔＣを２５ｎｍ以下とすることにより、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃに傷及びクラックが発生することを抑制しやすくできる。また、ｔＡ及びｔＣを薄くするほど、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃがバリアフィルムの分光透過スペクトルの波形に及ぼす影響を無視できるレベルまで軽減しやすくできる（分光透過スペクトルの波形の観点からは、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃの厚みは、好ましくは１２ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以下である。）。
　また、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃが酸化ケイ素、酸化マグネシウム及び酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の何れか１以上を含む層である場合、ｔＡ及びｔＣは、それぞれ、下限が２０ｎｍ以上であることが好ましく、２５ｎｍ以上であることがより好ましく、２７ｎｍ以上であることがより好ましい。ｔＡ及びｔＣを２０ｎｍ以上とすることにより、バリア性を良好にしやすくできる。
　また、ｔＡ及びｔＣは、それぞれ、上限が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７５ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５０ｎｍ以下であることがよりさらに好ましい。ｔＡ及びｔＣを１００ｎｍ以下とすることにより、無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃに傷及びクラックが発生することを抑制しやすくできる。
　無機酸化物層は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法等の物理気相成長法、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、及び光化学気相成長法等の化学気相成長法等により形成することができる。これらの中でも、蒸着速度が速く生産性が良好な真空蒸着法が好ましい。
＜有機被覆層＞
　本開示のバリアフィルムは有機被覆層を有する。無機酸化物層と併用して有機被覆層を有することにより、バリアフィルムのバリア性を良好にして、量子ドットの劣化を抑制しやすくできる。また、有機被覆層は無機酸化物層に比べて可撓性が良好であるため、有機被覆層により、無機酸化物層に傷及びクラックが発生することを抑制しやすくできる。
　有機被覆層は、無機酸化物層と接して形成することが好ましい。
　光透過性基材上の有機被覆層は、１層のみでもよいが、２層有することが好ましい。なお、有機被覆層は３層以上有していてもよいが、費用対効果の観点から１層又は２層が好ましい。
　本明細書において、光透過性基材上に１層の有機被覆層を有する場合、前記有機被覆層のことを有機被覆層Ｂと称する。また、光透過性基材上に２層の有機被覆層を有する場合、光透過性基材に近い側の有機被覆層のことを有機被覆層Ｂ、光透過性基材に遠い側の有機被覆層のことを有機被覆層Ｄと称する。
　有機被覆層は、水溶性高分子及び金属アルコキシド系化合物から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。また、有機被覆層は、水溶性高分子及び金属アルコキシド系化合物のうち、水溶性高分子から選ばれる１種以上を含むことがより好ましく、水溶性高分子から選ばれる１種以上と、金属アルコキシド系化合物から選ばれる１種以上とを含むことがさらに好ましい。
　水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びエチレン－ビニルアルコール共重合体等が挙げられる。これらの中でもバリア性の観点から、ポリビニルアルコール及びエチレン－ビニルアルコール共重合体が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。すなわち、有機被覆層は、ポリビニルアルコール及びエチレン－ビニルアルコール共重合体から選ばれる１種以上を含むことが好ましく、ポリビニルアルコールを含むことがより好ましい。
　有機被覆層が、水溶性高分子及び金属アルコキシド系化合物を含有する場合、金属アルコキシド系化合物の合計量１００質量部に対する水溶性高分子の含有量は、５質量部以上５００質量部以下であることが好ましく、７質量部以上１００質量部以下であることがより好ましく、８質量部以上５０質量部以下であることがさらに好ましい。
　金属アルコキシド系化合物としては、金属アルコキシド、金属アルコキシド加水分解物及び金属アルコキシド重合物が挙げられる。
　金属アルコキシドは、Ｍ（ＯＲ）ｎの一般式で表される化合物である。式中、Ｍは、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ及びＺｒ等の金属を示し、Ｒは、メチル基及びエチル基等のアルキル基を示す。金属アルコキシドの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン及びイソプロポキシアルミニウム等が挙げられる。
　有機被覆層は、例えば、有機被覆層を構成する成分を含む塗布液を、無機酸化物層上に塗布、乾燥することにより形成することができる。前記塗布液中には、シランカップリング剤、硬化剤及び分散剤等の添加剤を含有してもよい。
　有機被覆層Ｂ及び有機被覆層Ｄの組成及び諸物性等は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。なお、バリアフィルムの物理特性等のバランスを考慮すると、有機被覆層Ｂ及び有機被覆層Ｄは、組成及び諸物性等の少なくとも一部を略同一にすることが好ましい。
　例えば、有機被覆層Ｂの屈折率ｎＢと、有機被覆層Ｄの屈折率ｎＤとは、略同一とすることが好ましい。ｎＢとｎＤとが略同一とは、ｎＢ／ｎＤが、０．９８以上１．０２以下であることを意味し、好ましくは０．９９以上１．０１以下であり、より好ましくは１．００である。また、有機被覆層Ｂの厚みｔＢと、有機被覆層Ｄの厚みｔＤとは、略同一であることが好ましい。ｔＢとｔＤとが略同一とは、ｔＢ／ｔＤが、０．９５以上１．０５以下であることを意味し、好ましくは０．９７以上１．０３以下であり、より好ましくは０．９９以上１．０１以下である。
　有機被覆層Ｂの屈折率ｎＢ及び有機被覆層Ｄの屈折率ｎＤは、それぞれ、下限が１．４５以上であることが好ましく、１．５０以上であることがより好ましく、１．５２以上であることがさらに好ましい。また、ｎＢ及びｎＤの上限は、それぞれ、１．６４以下であることが好ましく、１．６０以下であることがより好ましく、１．５７以下であることがさらに好ましい。有機被覆層が１層の場合も、屈折率は前記範囲であることが好ましい。
　有機被覆層Ｂの厚みｔＢ、及び、有機被覆層Ｄの厚みｔＤは、それぞれ、下限が７０ｎｍ以上であることが好ましく、８５ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。ｔＢ及びｔＤを７０ｎｍ以上とすることにより、バリア性を良好にしやすくできる。
　また、ｔＢ及びｔＤは、それぞれ、上限が４８０ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることがより好ましく、３００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。ｔＢ及びｔＤを４８０ｎｍ以下とすることにより、バリアフィルムを薄膜化することができるとともに、有機被覆層Ｂ及び有機被覆層Ｄの過度な膨潤を抑制し、色味の変化を抑制しやすくできる。また、ｔＢ及びｔＤが厚すぎると、有機被覆層を塗布し、乾燥する際に生じる応力が大きくなり、前記応力によって無機酸化物層にクラックが生じ、バリア性が低下ことがある。このため、ｔＢ及びｔＤを４８０ｎｍ以下とすることにより、初期のバリア性を良好にしやすくできる。
　有機被覆層が１層の場合も、厚みは前記範囲であることが好ましい。
＜プライマー層＞
　バリアフィルムは、無機酸化物及び有機被覆層に加えてプライマー層（プライマー層Ｅ）を有していてもよい。
　プライマー層は、バリアフィルムの最外層に配置することが好ましい。プライマー層を有することにより、バリアフィルムと量子ドット含有層との密着性が良好となり、バリアフィルムのバリア性を長期に渡って維持しやすくなるため、経時的な色味の変化を抑制することができる。
　また、無機酸化物層に接してプライマー層を配置する構成においては、プライマー層によって、無機酸化物層に傷及びクラックが発生しにくくなることも期待できる。
　プライマー層Ｅの屈折率ｎＥは、特に限定されないが、下限が１．４７以上であることが好ましく、１．５２以上であることがより好ましく、１．５５以上であることがさらに好ましい。また、ｎＥの上限は、１．６６以下であることが好ましく、１．６２以下であることがより好ましく、１．６０以下であることがさらに好ましい。
　プライマー層Ｅの厚みｔＥは、７０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
《組成》
　プライマー層Ｅは、ポリウレタン系樹脂組成物等の樹脂成分を含むことが好ましい。ポリウレタン系樹脂は、量子ドット含有層との密着性を良好にしやすく、かつ、量子ドット含有層を電離放射線硬化あるいは熱硬化させる際に生じる応力を緩和し、前記応力が無機酸化物層及び有機被覆層に伝わりにくくする役割を果たす。さらに、ポリウレタン系樹脂は、プライマー層Ｅの伸長度を向上することにより、無機酸化物層等のバリアフィルムを構成する層にクラックが生じることを抑制しやすくできる。
　ポリウレタン系樹脂組成物としては、多官能イソシアネートとヒドロキシル基含有化合物との反応によって得られる、一液ないし二液型ポリウレタン系樹脂組成物が挙げられる。多官能イソシアネート及びヒドロキシル基含有化合物はそれぞれ、１種のみ用いられていても良いし、複数種が用いられていても良い。
　具体的に、多官能イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネ－ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート等が挙げられる。
　また、ヒドロキシル基含有化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオール、ポリアクリレートポリオールなどが挙げられる。本開示においては、量子ドット含有層との密着性、及び、耐久性の観点から、ポリエステルポリウレタンポリオールが特に好ましい。ポリエステルポリウレタンポリオールは、例えば特開２００１－２８８４０８号公報、特開２００３－２６９９６号公報に記載の方法により製造することができる。
　ポリウレタン系樹脂組成物の含有量は、プライマー層Ｅの全量基準で、４０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
　プライマー層Ｅは、シランカップリング剤を更に含有していても良い。シランカップリング剤を含むことにより、プライマー層Ｅと有機被覆層Ｄとの密着性を向上しやすくできる。シランカップリング剤は、その分子の一端にある官能基、通常、クロロ、アルコキシ、又は、アセトキシ基等が加水分解してシラノ－ル基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成する。これにより、プライマー層Ｅの樹脂組成物が共有結合等で修飾され、強固な結合を形成する。また、シランカップリング剤の他端にあるビニル、メタクリロキシ、アミノ系、エポキシ系、あるいは、メルカプト等の有機官能基により、プライマー層Ｅと有機被覆層Ｄ、及び、プライマー層Ｅと量子ドット含有層、との密着性を良好にしやすくできる。
　シランカップリング剤としては、例えば、γ－クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル－トリス（β－メトキシエトキシ）シラン、γ－メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β－（３、４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β－ヒドロキシエチル）－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、及びγ－アミノプロピルシリコ－ン等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を使用することができる。
　シランカップリング剤の含有量は、プライマー層Ｅの全量基準で、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましい。シランカップリング剤の含有量が上記範囲であると、プライマー層Ｅと有機被覆層Ｄ、及び、プライマー層Ｅと量子ドット含有層、との密着性をさらに向上しやすくできる。
　なお、プライマー層Ｅの伸長性を良好とするとともに、プライマー層Ｅのクラック発生を抑制するために、シランカップリング剤の含有量は、プライマー層Ｅの全量基準で、３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましい。
　プライマー層Ｅは、充填剤を更に含んでいても良い。充填剤は、プライマー層を形成するための塗布液の粘度等を調整し、コーティング適性等を高める役割を有する。充填材としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、シリカ、タルク、ガラスフリット、樹脂粉末などを使用することができる。
　プライマー層は、更に、必要に応じて、安定剤、架橋剤、滑剤、紫外線吸収剤、その他等の添加剤を含んでいても良い。
＜物性＞
《酸素透過度》
　バリアフィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７１２６－２：２００６による酸素透過度の値が、０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましい。なお、酸素透過度を測定する際の温度及び湿度の条件は、２３℃、相対湿度９０％とする。また、酸素透過度の測定前に、測定用のサンプルを温度２３℃±５℃、相対４０％以上６５％以下の雰囲気に３０分以上晒すものとする。
　酸素透過度は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製の酸素透過度測定装置（商品名：ＯＸ－ＴＲＡＮ）にて測定できる（モコン法）。
《ｂ*値》
　バリアフィルムは、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が－１．３以上１．０以下であることが好ましく、－１．５以上０．８以下であることがより好ましく、－１．０以上０．５以下であることがさらに好ましい。なお、ｂ＊値は透過のｂ＊値である。また、ｂ＊値を測定する際の光入射面は光透過性基材とは反対側の面とする。
　Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、１９７６年に国際照明委員会（ＣＩＥ）により規格化されたＬ＊ａ＊ｂ＊表色系に基づくものであり、ＪＩＳ　Ｚ８７８１－４：２０１３において採用されている。
《全光線透過率》
　バリアフィルムは、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、８７％以上であることがさらに好ましい。なお、全光線透過率を測定する際の光入射面は光透過性基材とは反対側の面とする。
＜製造方法＞
　バリアフィルムは、例えば、光透過性基材上に、無機酸化物層及び有機被覆層を形成することにより、製造することができる。バリアフィルムがプライマー層を有する場合、さらにプライマー層を形成すればよい。
　無機酸化物層は、上述したように、真空蒸着法等の物理気相成長法、あるいは、プラズマ化学気相成長法等の化学気相成長法等により形成することができる。
　有機被覆層及びプライマー層Ｅは、各層を構成する組成物を溶解ないしは分散させた塗布液を塗布、乾燥し、必要に応じて硬化することにより形成することができる。
＜用途＞
　本開示の波長変換シート用のバリアフィルムは、例えば、面光源の波長変換シート用のバリアフィルムに用いることができる。面光源としては、液晶表示装置のバックライト光源、検査機器のバックライト光源等が挙げられる。すなわち、本開示の波長変換シート用のバリアフィルムは、「液晶表示装置のバックライト光源の波長変換シート用のバリアフィルム」、「検査機器のバックライト光源の波長変換シート用のバリアフィルム」等に用いることができる。
　さらに、本開示の波長変換シート用のバリアフィルムは、「園芸の波長変換シート用のバリアフィルム」にも用いることができる。園芸の波長変換シートとしては、例えば、紫外線を植物の成長に適した波長に変換する機能を備えたシートが挙げられる。植物の成長に適した波長としては、光合成に適した波長が挙げられる。園芸の波長変換シートは、例えば、ビニールハウス及びガラス室の園芸施設の天井等に設置することができる。
［波長変換シート］
　本開示の波長変換シートは、量子ドットを含む量子ドット含有層と、前記量子ドット含有層の両側に積層されてなるバリアフィルムを有する波長変換シートであって、前記バリアフィルムとして、上述した本開示のバリアフィルムの光透過性基材とは反対側の面が前記量子ドット含有層側を向くように積層してなるものである。
　図４～図６は、本開示の波長変換シート（２００）の実施形態を示す断面図である。図４～図６の波長変換シート（２００）は、量子ドットを含む量子ドット含有層（５０）と、量子ドット含有層の両側に積層されてなるバリアフィルム（１００ａ、１００ｂ）とを有している。また、図４～図６の波長変換シート（２００）は、バリアフィルム（１００ａ、１００ｂ）の光透過性基材（１０）とは反対側の面が、量子ドット含有層（５０）側を向くように積層されている。
　波長変換シートは、図４～図６のように、量子ドット含有層を中心として、上下対称の構成を有することが好ましい。言い換えると、量子ドット含有層の両側に積層されてなるバリアフィルムは、同一構成のバリアフィルムを用いることが好ましい。前述した構成を有することにより、歪みが均等に分散され、波長変換シートの平面性を良好にしやすくできるとともに、波長変換シートの各界面の密着性を良好にしやすくできる。
＜量子ドット含有層＞
　量子ドット含有層は、量子ドット及びバインダー樹脂を含む。
　量子ドット（Quantum　dot）は、半導体のナノメートルサイズの微粒子で、電子や励起子がナノメートルサイズの小さな結晶内に閉じ込められる量子閉じ込め効果（量子サイズ効果）により、特異的な光学的、電気的性質を示し、半導体ナノ粒子とか、半導体ナノ結晶とも呼ばれるものである。
　量子ドットは、半導体のナノメートルサイズの微粒子であり、量子閉じ込め効果（量子サイズ効果）を生じる材料であれば特に限定されない。量子ドットとしては、自らの粒径によって発光色が規制される半導体微粒子及びドーパントを有する半導体微粒子が挙げられる。
　量子ドットは、その粒径により発光色を異にするものであり、例えば、ＣｄＳｅからなるコアのみから構成される量子ドットの場合、粒径が２．３ｎｍ、３．０ｎｍ、３．８ｎｍ、４．６ｎｍの時の蛍光スペクトルのピーク波長は、５２８ｎｍ、５７０ｎｍ、５９２ｎｍ、６３７ｎｍである。つまり、ピーク波長６３７ｎｍの二次光を放出する量子ドットの粒径は４．６ｎｍであり、ピーク波長５２８ｎｍの二次光を放出する量子ドットの粒径は２．３ｎｍである。
　量子ドットは、赤に相当する波長の二次光を放出する量子ドット、及び緑に相当する波長の二次光を放出する量子ドットから選ばれる１種以上を含むことが好ましく、赤に相当する波長の二次光を放出する量子ドット、及び、緑に相当する波長の二次光を放出する量子ドットを含むことがより好ましい。
　量子ドットは、赤に相当する波長の二次光を放出する量子ドット、及び緑に相当する波長の二次光を放出する量子ドット以外の量子ドットを含有してもよい。
　量子ドットの含有量は、量子ドット含有層の厚み、バックライトにおける光のリサイクル率、目的とする色味等に応じて適宜調整する。量子ドット含有層の厚みが後述する範囲であれば、量子ドット含有層のバインダー樹脂１００質量部に対して、量子ドットの含有量は、０．０１質量部以上１．０質量部以下程度である。
　量子ドットのコアとなる材料として具体的には、ＭｇＳ、ＭｇＳｅ、ＭｇＴｅ、ＣａＳ、ＣａＳｅ、ＣａＴｅ、ＳｒＳ、ＳｒＳｅ、ＳｒＴｅ、ＢａＳ、ＢａＳｅ、ＢａＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ及びＨｇＴｅのようなＩＩ－ＶＩ族半導体化合物、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＮ、ＧａＳｂ、ＩｎＮ、ＩｎＡｓ、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＴｉＮ、ＴｉＰ、ＴｉＡｓ及びＴｉＳｂのようなＩＩＩ－Ｖ族半導体化合物、Ｓｉ、Ｇｅ及びＰｂのようなＩＶ族半導体、等の半導体化合物又は半導体を含有する半導体結晶を例示できる。また、ＩｎＧａＰのような３元素以上を含んだ半導体化合物を含む半導体結晶を用いることもできる。
　さらに、ドーパントを有する半導体微粒子からなる量子ドットとしては、上記半導体化合物に、Ｅｕ３＋、Ｔｂ３＋、Ａｇ＋、Ｃｕ＋のような希土類金属のカチオン又は遷移金属のカチオンをドープしてなる半導体結晶を用いることもできる。
　量子ドットのコアとなる材料としては、作製の容易性、可視域での発光を得られる粒径の制御性、蛍光量子収率の観点から、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＧａＰ等の半導体結晶が好適である。
　量子ドットは、１種の半導体化合物からなるものであっても、２種以上の半導体化合物からなるものであってもよく、例えば、半導体化合物からなるコアと、前記コアと異なる半導体化合物からなるシェルとを有するコアシェル型構造を有していてもよい。
　コアシェル型の量子ドットを用いる場合にシェルを構成する半導体としては、励起子がコアに閉じ込められるように、コアを形成する半導体化合物よりもバンドギャップの高い材料を用いることで、量子ドットの発光効率を高めることができる。
　このようなバンドギャップの大小関係を有するコアシェル構造（コア／シェル）としては、例えば、ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、ＣｄＳｅ／ＺｎＳｅ、ＣｄＳｅ／ＣｄＳ、ＣｄＴｅ／ＣｄＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳ、Ｇａｐ／ＺｎＳ、Ｓｉ／ＺｎＳ、ＩｎＮ／ＧａＮ、ＩｎＰ／ＣｄＳＳｅ、ＩｎＰ／ＺｎＳｅＴｅ、ＩｎＧａＰ／ＺｎＳｅ、ＩｎＧａＰ／ＺｎＳ、Ｓｉ／ＡｌＰ、ＩｎＰ／ＺｎＳＴｅ、ＩｎＧａＰ／ＺｎＳＴｅ、ＩｎＧａＰ／ＺｎＳＳｅ等が挙げられる。
　量子ドットのサイズは、所望の波長の光が得られるように、量子ドットを構成する材料によって適宜制御すればよい。量子ドットは粒径が小さくなるに従い、エネルギーバンドギャップが大きくなる。すなわち、結晶サイズが小さくなるにつれて、量子ドットの発光は青色側へ、つまり、高エネルギー側へとシフトする。そのため、量子ドットのサイズを変化させることにより、紫外領域、可視領域、赤外領域のスペクトルの波長全域にわたって、その発光波長を調節することができる。
　一般的には、量子ドットの粒径（直径）は０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、特に１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。なお、量子ドットのサイズ分布が狭いほど、より鮮明な発光色を得ることができる。
　量子ドットの形状は特に限定されず、例えば、球状、棒状、円盤状、その他の形状であってもよい。量子ドットの粒径は、粒子ドットが球状でない場合、同体積を有する真球状の値とすることができる。
　量子ドットは、樹脂で被覆されているものであってもよい。
　量子ドット含有層のバインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられる。これらの中でも、耐久性の観点から、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物がより好ましい。
　熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂の他に、後述するチオール化合物を含むことが好ましく、多官能チオール化合物を含むことがより好ましい。
　熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
　電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性化合物の他に、後述するチオール化合物を含むことが好ましく、多官能チオール化合物を含むことがより好ましい。
　電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられ、その中でもエチレン性不飽和結合基が好ましい。また、エチレン性不飽和結合基の中でも（メタ）アクリレート基が好ましい。以下、（メタ）アクリロイル基を有する電離放射線硬化性化合物を（メタ）アクリレート系化合物と称する。すなわち、バインダー樹脂は、（メタ）アクリレート系化合物を含む組成物の硬化物を含むことが好ましい。
　なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。また、本明細書において、「電離放射線」は、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線又は電子線が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
　電離放射線硬化性化合物は、上記官能基を１つのみ有する単官能の電離放射線硬化性化合物であってもよく、上記官能基を２つ以上有する多官能の電離放射線硬化性化合物であってもよく、これらの混合物であってもよい。これらの中でも、多官能の電離放射線硬化性化合物が好ましく、２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有してなる多官能の（メタ）アクリレート系化合物がより好ましい。すなわち、バインダー樹脂は、多官能の電離放射線硬化性化合物の硬化物を含むことが好ましく、多官能（メタ）アクリレート系化合物の硬化物を含むことがより好ましい。さらには、バインダー樹脂は、多官能の電離放射線硬化性化合物及びチオール化合物を含む組成物の硬化物を含むことが好ましく、多官能（メタ）アクリレート系化合物及びチオール化合物を含む組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート系化合物は、アルキレンオキシ基を有するものであってもよい。
　　アルキレンオキシ基としては、例えば、炭素数が２以上４以下のアルキレンオキシ基が好ましく、炭素数が２又は３のアルキレンオキシ基がより好ましく、炭素数が２のアルキレンオキシ基がさらに好ましい。
　アルキレンオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート系化合物は、複数個のアルキレンオキシ基を含むポリアルキレンオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート系化合物であってもよい。
　　多官能（メタ）アクリレート系化合物がアルキレンオキシ基を有する場合、一分子中のアルキレンオキシ基の数は、２個以上３０個以下であることが好ましく、２個以上２０個以下であることがより好ましく、３個以上１０個以下であることがさらに好ましく、３個以上５個以下であることがよりさらに好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート系化合物がアルキレンオキシ基を有する場合、ビスフェノール構造を有することが好ましい。これにより、硬化物の耐熱性が向上する傾向にある。ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ構造及びビスフェノールＦ構造が挙げられ、中でも、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
　アルキレンオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物としては、中でも、エトキシ化ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート及びプロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートが好ましく、エトキシ化ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートがより好ましい。
　また、電離放射線硬化性化合物は、モノマーであってもよく、オリゴマーであってもよく、低分子量のポリマーであってもよく、これらの混合物であってもよい。
　上述したように、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物は、好ましくはチオール化合物を含む。
　チオール化合物は、Ｒ－ＳＨで表される単位（Ｒは有機基）を一つ以上有する化合物である。本明細書において、Ｒ－ＳＨで表される単位を一つ有する化合物を単官能チオール化合物、Ｒ－ＳＨで表される単位を二つ以上有する化合物を多官能チオール化合物と称する。
　チオール化合物は、単官能チオール化合物でもよいが、量子ドット含有層の強度を良好にする観点から、多官能チオール化合物が好ましい。また、多官能チオール化合物の中でも、３官能チオール化合物又は４官能チオール化合物がより好ましい。
　チオール化合物は、ラジカル重合開始剤の存在下で、ラジカル重合性官能基を有する化合物と、下記式のチオール－エン反応を起こす。チオール－エン反応は重合収縮を抑制できるため、量子ドット含有層の硬化時に生じる応力を緩和し、その結果、波長変換シートの層間密着性をより向上しやすい点で好ましい。また、チオール－エン反応により得られた硬化物は、耐熱性を良好にしやすい点で好ましい。さらに、チオール化合物の屈折率（約１．５３）は、多官能（メタ）アクリレート系化合物の屈折率（約１．４５）よりも高いため、量子ドット含有層の屈折率の調整の自由度を高めることができる。
　なお、下記の反応は単官能チオール化合物と、一つのラジカル重合性官能基を有する化合物との反応例である。多官能チオール化合物と、二以上のラジカル重合性官能基を有する化合物との反応物はデンドリマー構造を形成しやすいと考えられる。そして、デンドリマー構造を形成した場合、量子ドット含有層の柔軟性が増し、量子ドット含有層自体が優れた応力緩和性を発揮しやすくなると考えられる。ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合含有基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
［式中、Ｒ１及びＲ２は有機基である。］
　単官能チオール化合物の具体例としては、ヘキサンチオール、１－ヘプタンチオール、１－オクタンチオール、１－ノナンチオール、１－デカンチオール、３－メルカプトプロピオン酸、メルカプトプロピオン酸メチル、メルカプトプロピオン酸メトキシブチル、メルカプトプロピオン酸オクチル、メルカプトプロピオン酸トリデシル、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート等が挙げられる。
　多官能チオール化合物の具体例としては、エチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，２－プロピレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ブタンジオールビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，４－ブタンジオールビス（３－メルカプトブチレート）、１，８－オクタンジオールビス（３－メルカプトプロピオネート）、１，８－オクタンジオールビス（３－メルカプトブチレート）、ヘキサンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパントリス（２－メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリス－［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）－エチル］－イソシアヌレート、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトイソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２－メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（２－メルカプトイソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ジペンタエリスリトールヘキサキスチオグリコレート等が挙げられる。
　電離放射線硬化性樹脂組成物（又は熱硬化性樹脂樹脂組成物）中において、電離放射線硬化性化合物（又は熱硬化性樹脂）と、チオール化合物との質量比は、８０：２０～３５：６５であることが好ましく、７０：３０～４０：６０であることがより好ましい。
　電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
　量子ドット含有層中には、内部拡散粒子を含んでいてもよい。
　内部拡散粒子は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル－スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂及びポリエステル等からなる粒子が挙げられる。無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。
　内部拡散粒子の形状は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられる。また、内部拡散粒子は、中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子の何れであってもよい。
　内部拡散粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上４０質量部以下であることが好ましく、３質量部以上３０質量部以下であることがより好ましい。
　内部拡散粒子の平均粒子径は、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。
　量子ドット含有層の厚みは、１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上１５０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上１３０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　量子ドット含有層の屈折率ｎＺは、１．４０以上１．５５以下であることが好ましく、１．４３以上１．５２以下であることがより好ましく、１．４６以上１．５０以下であることがさらに好ましい。量子ドット含有層の屈折率ｎＺが上記範囲の場合には、量子ドット含有層とバリアフィルムとの界面は固定端反射となりやすい。（本開示のバリアフィルムの分光透過率の測定は、空気とバリアフィルムとの界面の反射は固定端反射である。ゆえに、量子ドット含有層とバリアフィルムとの界面は固定端反射であることが好ましい。）
　量子ドット含有層の屈折率ｎＺは、概ねバインダー樹脂の屈折率に支配される。量子ドット含有層は、量子ドットの含有量は少なく、また、内部拡散剤が入っていたとしても、内部拡散剤は粒子径が光の波長よりも大きく、層の屈折率には影響しないためである。
［バックライト］
　本開示のバックライトは、一次光を放出する少なくとも１つの光源と、前記光源に隣接して配置され、導光又は拡散のための光学板と、前記光学板の光出射側に配置された波長変換シートとを備えたバックライトにおいて、前記波長変換シートが上述した本開示の波長変換シートであるものである。
　本開示のバックライト３００としては、一例として、図７に示すようなエッジライト型のバックライト３０１、あるいは、図８に示すような直下型のバックライト３０２が挙げられる。
　図７のエッジライト型のバックライト３０１に用いられる光学板２２０は、光源２１０で放出された一次光を導光するための光学部材であり、いわゆる導光板２２１である。導光板２２１は、例えば、少なくとも一つの面を光入射面とし、これと略直交する一方の面を光出射面とするように成形された略平板状の形状からなる。
　導光板は、主としてポリメチルメタクリレート等の高透明な樹脂から選ばれるマトリックス樹脂からなる。導光板は、必要に応じてマトリックス樹脂と屈折率の異なる樹脂粒子が添加されていてもよい。導光板の各面は、一様な平面ではなく複雑な表面形状をしているものであってもよく、ドットパターン等が設けられていてもよい。
　図８の直下型のバックライト３０２に用いられる光学板２２０は、光源２１０のパターンを見えにくくするための光拡散性を有する光学部材（光拡散板２２２）である。光拡散板２２２としては、例えば、厚み１ｍｍ以上３ｍｍ以下程度の乳白色の樹脂板が挙げられる。
　エッジライト型及び直下型のバックライトには、上述した光源、光学板及びバリアフィルムの他に、目的に応じて、反射板、光拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）及び反射型偏光フィルム（ＤＢＥＦ）等から選ばれる一種以上の部材を備えていてもよい。
　反射板は、光学板の光出射面側と反対側に配置される。光拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルム及び反射型偏光フィルムは、光学板の光出射面側に配置される。反射板、光拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルム及び反射型偏光フィルム等から選ばれる一種以上の部材を備える構成とすることで、正面輝度、視野角等のバランスに優れたバックライトとすることができる。
　エッジライト型及び直下型のバックライトにおいて、光源２１０は、一次光を放出する発光体であり、青に相当する波長の一次光を放出する発光体を用いることが好ましい。青に相当する波長の一次光は、ピーク波長が３８０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。ピーク波長は、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲であることがより好ましく、４５０ｎｍ±５ｎｍの範囲であることがより好ましく、４５０ｎｍ±３ｎｍの範囲であることがより好ましく、４５０ｎｍ±１ｎｍの範囲であることがより好ましい。
　光源２１０としては、バックライトを設置する装置が単純化及び小型化できるという観点から、ＬＥＤ光源であることが好ましく、青色単色のＬＥＤ光源であることがより好ましい。光源２１０は、少なくとも１つであり、十分な一次光を放出するという観点から、複数個であることが好ましい。
　波長変換シートを含むバックライトは、国際照明委員会（ＣＩＥ）のＹｘｙ表色系に関して、下記の高温高湿試験前後のｘ値の差（Δｘ）及びｙ値の差（Δｙ）が、何れも０．０２０以下であることが好ましく、何れも０．０１０以下であることがより好ましい。Δｘ及びΔｙを０．０２０以下とすることにより、色味の変化を抑制することができる。
　高温高湿試験：６０℃、相対湿度９０％の雰囲気に１０００時間晒す試験
　なお、高温高湿試験後のｘ値及びｙ値は、高温高湿試験の環境から測定用サンプルを取り出した後、速やかに、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で測定するものとする。
［液晶表示装置］
　本開示の液晶表示装置は、バックライト及び液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、前記バックライトが上述した本開示のバックライトであるものである。
　液晶パネルは、特に限定されず、液晶表示装置の液晶パネルとして汎用のものを用いることができる。例えば、液晶層の上下をガラス板で挟んだ一般的な構造を有する液晶パネル、具体的には、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ及びＯＣＢ等の表示方式のものを用いることができる。
　液晶表示装置は、さらに、偏光板及びカラーフィルタ等を備える。偏光板及びカラーフィルタは汎用のものを用いることができる。
　液晶表示装置の表示画像は、バックライトから照射された白色光がカラーフィルタを透過することでカラー表示される。液晶表示装置は、量子ドットによるバックライトのスペクトルと適合するカラーフィルタを用いることで、明るさと効率に優れ、非常に鮮明な色を生成するディスプレイを実現することができる。
［バリアフィルムの選定方法］
　本開示の波長変換シート用のバリアフィルムの選定方法は、光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムに関して、下記の判定基準１及び２を満たすものを選定するものである。
＜判定基準１＞
　前記バリアフィルムのＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であること。
＜判定基準２＞
　前記バリアフィルムの分光透過率を、前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として測定し、測定した分光透過率が４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有すること。
　判定基準１及び２を満たすバリアフィルムを選定することにより、色味の変化を抑制し得る波長変換シート用のバリアフィルムを効率よく選定することができる。
　判定基準１及び判定基準２の好適な実施形態は、上述した本開示のバリアフィルムの好適な実施形態に準じる。
　例えば、判定基準１では、水蒸気透過度の値が０．１７ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．１５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．１３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。
　また、判定基準２では、ピーク又はボトムの位置は、４５０ｎｍ±５ｎｍの範囲であることがより好ましく、４５０ｎｍ±３ｎｍの範囲であることがさらに好ましく、４５０ｎｍ±１ｎｍの範囲であることがよりさらに好ましい。
　また、本開示のバリアフィルムの選定方法は、さらに、追加の判定条件を有することが好ましい。追加の判定条件としては、上述した本開示のバリアフィルムにおいて好適な実施形態として例示した実施形態が挙げられる。
　追加の判定条件の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられる。すなわち、本開示のバリアフィルムの選定方法は、下記の追加の判定条件から選ばれる１以上を有することが好ましい。
＜追加の判定条件１＞
　前記ピーク又はボトムが、分光透過率が増加から減少に転じるピークであること。
＜追加の判定条件２＞
　前記ピーク又はボトムが、分光透過率が増加から減少に転じるピークであり、かつ、４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に分光透過率のピークを有してなること。
＜追加の判定条件３＞
　前記ピーク又はボトムが、分光透過率が減少から増加に転じるボトムであり、かつ、４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に分光透過率のボトムを有してなること。
＜追加の判定条件４＞
　バリアフィルムのＪＩＳ　Ｋ７１２６－２：２００６による酸素透過度の値が、０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であること。
＜追加の判定条件５＞
　バリアフィルムの、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が－１．３以上１．０以下であること。
＜追加の判定条件６＞
　バリアフィルムのＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であること。
　次に、本開示を実施例により更に詳細に説明するが、本開示はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
１．測定及び評価
　実施例及び比較例のバリアフィルム又は波長変換シートに関して、下記の測定及び評価を行った。結果を表１又は２に示す。
１－１．水蒸気透過度
　実施例及び比較例のバリアフィルムに関して、ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値を測定した。測定装置は、ＭＯＣＯＮ社製の商品名「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ」を用いた。水蒸気透過度を測定する際の温度及び湿度の条件は、４０℃、相対湿度９０％とした。また、水蒸気透過度の測定前に、測定用のサンプルを温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気に３０分以上晒した。このようにして測定された水蒸気透過度は、初期段階の水蒸気透過度を意味する。水蒸気透過度が０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるものが合格レベルである。
１－２．全光線透過率
　実施例及び比較例のバリアフィルムに関して、全光線透過率を測定した。光入射面は、光透過性基材とは反対側の面とした。測定装置は、ヘイズメーター（ＨＭ－１５０、村上色彩技術研究所製）を用いた。全光線透過率が８５％以上のものが合格レベルである。
　なお、全光線透過率は、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で測定した。また、測定前にサンプルを前記雰囲気に３０分以上晒した。このようにして測定された全光線透過率は、初期段階の全光線透過率を意味する。
１－３．ｂ＊値
　実施例及び比較例のバリアフィルムに関して、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値（透過のｂ＊値）を測定した。光入射面は、光透過性基材とは反対側の面とした。測定装置は日本分光社製の分光光度計（商品名：Ｖ６７０）を用いた。ｂ＊値が１．０以下のものが合格レベルである。
　なお、ｂ＊値は、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で測定した。また、測定前にサンプルを前記雰囲気に３０分以上晒した。このようにして測定されたｂ＊値は、初期段階のｂ＊値を意味する。
１－４．分光透過率
　実施例及び比較例のバリアフィルムに関して、光透過性基材とは反対側の面を光入射面として、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の分光透過率を測定した（測定波長間隔；１ｎｍ）。測定装置は日本分光社製の分光光度計（商品名：Ｖ６７０）を用い、付属ユニット等として下記のものを用いた。
・付属ユニット；積分球ユニット（日本分光株式会社製、品番：ＩＳＮ－７２３）
・光源；重水素ランプ（１９０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下）、ハロゲンランプ（３３０ｎｍ以上２７００ｎｍ以下）
・測定スポット径：２ｍｍ以上２０ｍｍ以下
　測定結果に基づいて、実施例及び比較例のバリアフィルムの分光透過率に関して、４５０ｎｍに最も近いピーク又はボトムの位置を算出した。結果を表１又は２に示す。また、併せて、ピーク又はボトムが、ピーク及びボトムの何れであるかを表１又は２に示す。なお、４５０ｎｍに最も近いピーク又はボトムがボトムであるものについては、４５０ｎｍに最も近いピークの位置を併せて表１又は２に示した。
　また、実施例１のバリアフィルムの分光透過率を図９、比較例１のバリアフィルムの分光透過率を図１０に示す。なお、図９～図１０は、横軸が波長（単位は「ｎｍ」）、縦軸が透過率（「％」）である。
　分光透過率は、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で測定した。また、測定前にサンプルを前記雰囲気に３０分以上晒した。このようにして測定された分光透過率は、初期段階の分光透過率を意味する。
１－５．Δｘ、Δｙ
＜測定用の直下型バックライトの準備＞
　直下型バックライトを備える市販の液晶テレビ（ＶＩＺＩＯ社製、ＰＱ６５－Ｆ１）を分解し、直下型バックライトを取り出した。前記直下型バックライトには、光源として発光中心波長が４５０ｎｍ、半値全幅が２０ｎｍの直下型の青色ＬＥＤが搭載されている。また、前記光源の光出射側には、光拡散板、量子ドット含有層を含む波長変換シート、プリズムシート及び反射偏光板（輝度向上フィルム、スリーエム社製、ＤＢＥＦ（登録商標））が、この順に配置されている。また、光源の光出射側と反対側には、反射シートが備えられている。
　前記直下型バックライト中の波長変換シートを、実施例及び比較例の波長変換シートに変更し、「初期段階のｘ値及びｙ値測定用の直下型バックライト」を得た。なお、実施例及び比較例の波長変換シートは、直下型バックライトに組み込む前に、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気に３０分以上晒した。
　また、前記直下型バックライト中の波長変換シートを、高温高湿試験（６０℃、相対湿度９０％の雰囲気に１０００時間晒す試験）を実施した実施例及び比較例の波長変換シートに変更し、「高温高湿試験後のｘ値及びｙ値測定用の直下型バックライト」を得た。高温高湿試験を実施した実施例及び比較例の波長変換シートを直下型バックライトに組み込む作業は、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気において速やかに行った。
　そして、前記の測定用の直下型バックライトに関して、以下の測定環境下で測定を実施した。
＜初期段階のｘ値及びｙ値＞
　初期段階のｘ値及びｙ値測定用の直下型バックライトを点灯し、暗室環境下において、５００ｍｍ離れた正面方向から、国際照明委員会（ＣＩＥ）のＹｘｙ表色系のｘ値及びｙ値を測定した。測定雰囲気は、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。また、測定前にサンプルを前記雰囲気に３０分以上晒した。測定装置はトプコンテクノハウス社製の分光放射計（商品名：ＳＲ－３ＡＲ）を用いた。
＜高温高湿試験後のｘ値及びｙ値＞
　高温高湿試験後のｘ値及びｙ値測定用の直下型バックライトを点灯し、暗室環境下において、５００ｍｍ離れた正面方向から、国際照明委員会（ＣＩＥ）のＹｘｙ表色系のｘ値及びｙ値を測定した。測定雰囲気は温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下とした。測定装置はトプコンテクノハウス社製の分光放射計（商品名：ＳＲ－３ＡＲ）を用いた。
＜Δｘ、Δｙ＞
　初期段階のｘ値と高温高湿試験後のｘ値との差（Δｘ）、及び、初期段階のｙ値と高温高湿試験後のｙ値との差（Δｙ）を算出した。Δｘ及びΔｙが何れも０．０２０以下であるものが合格レベルである。
２．量子ドット分散液の作製
　酸素濃度が３００ｐｐｍ以下となるように窒素パージしたグローブボックス内において、量子ドット及びアミノ変性シリコーンを下記に示す組成比で混合し、９０℃で湯煎しながら、マグネチックスターラーにて４時間攪拌した。その後、孔径０．２μｍのポリプロピレン性フィルタでろ過して、CdSe/ZnSコアシェル型量子ドット分散液を得た。
・量子ドット　０．９質量部
（発光ピーク：５４０ｎｍ、製造番号：748056、シグマアルドリッチ社製）
・量子ドット　０．９質量部
（発光ピーク：６３０ｎｍ、製造番号：790206、シグマアルドリッチ社製）
・アミノ変性シリコーン　９９質量部
（Genesee社製、品番：GP-344、粘度：６７０ｍＰａ・ｓ）　
３．バリアフィルムの作製、及び波長変換シートの作製
［実施例１］
　二軸延伸ＰＥＴフィルム（屈折率ｎ０：１．６３６、厚みｔ０：１２μｍ）の一方の面上に、真空蒸着法により酸化アルミニウムを蒸着し、無機酸化物層Ａ（屈折率ｎＡ：１．７７、厚みｔＡ：８ｎｍ）を形成した。
　次いで、無機酸化物層Ａ上に、下記の有機被覆層形成用塗布液をグラビア印刷により塗布し、１８０℃で６０秒間加熱処理し、有機被覆層Ｂ（屈折率ｎＢ：１．５５、厚みｔＢ：２５１ｎｍ）を形成した。
　次いで、有機被覆層Ｂ上に、真空蒸着法により酸化アルミニウムを蒸着し、無機酸化物層Ｃ（屈折率ｎＣ：１．７７、厚みｔＣ：８ｎｍ）を形成した。
　次いで、無機酸化物層Ｃ上に、下記の有機被覆層形成用塗布液をグラビア印刷により塗布し、１８０℃で６０秒間加熱処理し、有機被覆層Ｄ（屈折率ｎＤ：１．５５、厚みｔＤ：２５１ｎｍ）を形成した。
　次いで、有機被覆層Ｄ上に、下記のプライマー層形成用塗布液をグラビア印刷により塗布し、８０℃で６０秒間加熱処理し、プライマー層Ｅ（屈折率ｎＥ：１．５７５、厚みｔＥ：１４３ｎｍ）を形成し、実施例１のバリアフィルムを得た。なお、同一構成のバリアフィルムを２つ作製した。
＜有機被覆層形成用塗布液の調製＞
　水、イソプロピルアルコ―ル及び０．５Ｎ塩酸を混合した溶液（ｐＨ２．２）に、テトラエトキシシランを１０℃になるように冷却しながら混合させて、溶液Ａを調整した。別途、ケン化価９９％以上のポリビニルアルコール、イソプロピルアルコールを混合した溶液Ｂを調整した。溶液Ａと溶液Ｂとを混合し、有機被覆層形成用塗布液（固形分：５質量％）を調整した。有機被覆層形成用塗布液中において、テトラエトキシシランとポリビニルアルコールとの質量比は２９：４である。
＜プライマー層形成用塗布液＞
・ポリエステルポリウレタンポリオール　５０質量部
（水酸基価：６２ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分２０質量％）
・シランカップリング剤　１質量部
（３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン）
・シリカフィラー　１質量部
（平均粒径５μｍ）
・硬化剤　１質量部
（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、固形分３５％）
・溶剤　５０質量部
（メチルエチルケトン）
　上記で作製した２つのバリアフィルムのうちの一方のバリアフィルムのプライマー層側の面に、下記処方の量子ドット含有層塗布液を塗布、乾燥し、電離放射線未照射の量子ドット含有層を形成してなる積層体Ａを得た。
　次いで、積層体Ａの電離放射線未照射の量子ドット含有層側の面と、他方のバリアフィルムのプライマー層側の面とが対向するように積層した後、紫外線を照射して、量子ドット含有層の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化を進行させ、実施例１の波長変換シートを得た。量子ドット含有層の厚みは１００μｍ、屈折率は１．４８である。
＜量子ドット含有層塗布液＞
・多官能アクリレート系化合物　５８．１１質量部
（エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート；新中村化学工業社の商品名「ＡＢＥ－３００」）
・多官能チオール化合物　３８．７４質量部
（ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）；ＳＣ有機化学社の商品名「ＰＥＭＰ」）
・光重合開始剤　０．５質量部
（IGM　Resins　B.V.社の商品名「Omnirad　TPO　H」）
・上記「２」で作製した量子ドット分散液　１．６１質量部
・酢酸　０．７９質量部
・酸化チタン　０．２５質量部
（Ｃｈｅｍｏｕｒｓ社の商品名「タイピュア　　Ｒ－７０６」；粒子径０．３６μｍ）
［実施例２～８］
　有機被覆層Ｂ及び有機被覆層Ｄの厚みを表１の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～８のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
［実施例９］
　有機被覆層Ｄ上にプライマー層Ｅを形成しなかった以外は、実施例１と同様にして、実施例９のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
［実施例１０］
　無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃを酸化ケイ素の蒸着膜（屈折率：１．４５７）に変更し、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ及び有機被覆層Ｄの厚みを表１の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例１０のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
［比較例１～３、５］
　無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ及び有機被覆層Ｄの厚みを表２の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１～３、５のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
［比較例４］
　有機被覆層Ｂの厚みを表２の値に変更し、有機被覆層Ｂ上にプライマー層Ｅを形成し、無機酸化物層Ｃ及び有機被覆層Ｄを形成しなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例４のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
［比較例６］
　無機酸化物層Ａ及び無機酸化物層Ｃを酸化ケイ素の蒸着膜（屈折率：１．４５７）に変更し、無機酸化物層Ａ、有機被覆層Ｂ、無機酸化物層Ｃ及び有機被覆層Ｄの厚みを表２の値に変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例６のバリアフィルム及び波長変換シートを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表１の結果から、実施例のバリアフィルムは、波長変換シートに適用した際に、色味の変化を抑制し得ることが確認できる。特に、４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下にピークを有する実施例１、５～７、９、１０のものは、色味の変化を極めて抑制し得ることが確認できる。同様に、４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下にボトムを有する実施例８のものは、色味の変化を極めて抑制し得ることが確認できる。
　一方、表２の結果から、比較例のバリアフィルムは、波長変換シートに適用した際に、色味の変化を抑制できないことが確認できる。比較例１、５及び６のバリアフィルムは、ピーク又はボトムの位置が４５０ｎｍから大きくずれているため、色味の変化を抑制できないものであった。比較例２～４のバリアフィルムは、ピーク又はボトムの位置が４５０ｎｍ近傍であるものの、初期の水蒸気バリア性が劣るものであるため、色味の変化を抑制できないものであった。比較例２のバリアフィルムが初期の水蒸気バリア性が劣る理由は、有機被覆層の厚みが薄いためと考えられる。また、比較例３のバリアフィルムが初期の水蒸気バリア性が劣る理由は、有機被覆層の厚みが厚すぎて、有機被覆層を形成する過程に生じる応力で無機酸化物層にクラックが生じたためと考えられる。比較例４のバリアフィルムが初期のバリア性が劣る原因は、無機酸化物層が１層のみであり、かつ無機酸化物層の厚みが薄いためと考えられる。
１０：光透過性基材
２１：無機酸化物層Ａ
２２：無機酸化物層Ｃ
３１：有機被覆層Ｂ
３２：有機被覆層Ｄ
４０：プライマー層
５０：量子ドット含有層
１００：バリアフィルム
１００ａ：バリアフィルム
１００ｂ：バリアフィルム
２００：波長変換シート
２１０：光源
２２０：光学板
２２１：導光板
２２２：拡散板
２３０：反射板
２４０：プリズムシート
３００：バックライト
３０１：エッジライト型バックライト
３０２：直下型バックライト

 

Claims (11)

  1. 　光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムであって、
    　ＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、かつ、
    　前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として前記バリアフィルムの分光透過率を測定した際に、４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、
    　波長変換シート用のバリアフィルム。
  2. 　４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、請求項１に記載のバリアフィルム。
  3. 　４５０ｎｍ以上４５７ｎｍ以下に、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有してなる、請求項２に記載のバリアフィルム。
  4. 　４４３ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトムを有してなる、請求項１に記載のバリアフィルム。
  5. 　光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及び前記有機被覆層としての有機被覆層Ｄをこの順に有してなる、請求項１～４の何れかに記載のバリアフィルム。
  6. 　前記有機被覆層Ｄ上に、さらにプライマー層Ｅを有してなる、請求項５に記載のバリアフィルム。
  7. 　光透過性基材の一方の面上に、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ａ、前記有機被覆層としての有機被覆層Ｂ、前記無機酸化物層としての無機酸化物層Ｃ、及びプライマー層Ｅをこの順に有してなる、請求項１～４の何れかに記載のバリアフィルム。
  8. 　量子ドットを含む量子ドット含有層と、前記量子ドット含有層の両側に積層されてなるバリアフィルムを有する波長変換シートであって、前記バリアフィルムとして、請求項１～７の何れかに記載のバリアフィルムの光透過性基材とは反対側の面が前記量子ドット含有層側を向くように積層してなる、波長変換シート。
  9. 　一次光を放出する少なくとも１つの光源と、前記光源に隣接して配置され、導光又は拡散のための光学板と、前記光学板の光出射側に配置された波長変換シートとを備えたバックライトにおいて、前記波長変換シートが請求項８に記載の波長変換シートであるバックライト。
  10. 　バックライト及び液晶パネルを備えた液晶表示装置であって、前記バックライトが請求項９に記載のバックライトである液晶表示装置。
  11. 　光透過性基材の一方の面上に、少なくとも１以上の無機酸化物層と、少なくとも１以上の有機被覆層とを有してなるバリアフィルムに関して、下記の判定基準１及び２を満たすものを選定する、波長変換シート用のバリアフィルムの選定方法。
    ＜判定基準１＞
    　前記バリアフィルムのＪＩＳ　Ｋ７１２９－２：２０１９による水蒸気透過度の値が、０．２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であること。
    ＜判定基準２＞
    　前記バリアフィルムの分光透過率を、前記無機酸化物層及び前記有機被覆層を有する側の面を光入射面として測定し、測定した分光透過率が４５０ｎｍ±７ｎｍの範囲に、分光透過率が減少から増加に転じる分光透過率のボトム、又は、分光透過率が増加から減少に転じる分光透過率のピークを有すること。

     
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