明 細 書
日焼け止め化粧料
技術分野
[0001] [第 1及び第 2の発明]
本発明は日焼け止め化粧料に関するものである。 さらに詳しくは、 衣服へ の 2次付着による染着を防止する日焼け止め化粧料に関する。
背景技術
[0002] [第 1及び第 2の発明]
日焼け止め化粧料による重要な紫外線吸収波長領域は、 UV— A領域 (3 20〜400 nm) と UV— B領域 (290〜320 nm) である。 そして 、 UV_ A領域の紫外線は皮膚を黒化させるが、 UV_B領域の紫外線のよ うにサンバーンを起こし、 皮膚の老化を促進させるものではないと考えられ ていた。
[0003] ところが近年になって、 UV_B領域の紫外線が比較的、 皮膚の表面部分 にとどまるのに対して、 UV— A領域の紫外線が、 皮膚の深部にまで達し、 皮膚の老化はもとより皮膚癌を誘発する原因となることが分かってきた。 こ のように、 日焼け止め化粧料には特に U V _ A領域の紫外線吸収への要求が 高まっている。
[0004] 日焼け止め化粧料に配合される紫外線吸収剤には多くの種類が存在するが 、 UV_ A領域の紫外線吸収剤の一つとして、 4_ (1, 1 _ジメチルェチ ル) -4' —メトキシジベンゾィルメタンが使用されている。
[0005] 一方、 日焼け止め化粧料の紫外線遮蔽効果を高めるために、 紫外線吸収剤 と共に無機粉体からなる紫外線遮蔽剤を配合する場合がある。 しかしながら 、 4- (1, 1—ジメチルェチル) 一4' —メトキシジベンゾィルメタンと 無機粉体とを同時に配合すると、 基剤中にて変色が生じるという致命的な問 題点がある。 特許文献 1では、 無機粉体表面積 1 00 m2当たり 1. 25 - 1 0-3mo I以上のシリコン原子を含有するようにシリコーン化合物で表面処理
することにより、 この問題を解決している。
[0006] また、 特許文献 2では、 2_メチルベンゾィルメタン、 4—メチルジベン ゾィルメタン、 4 _イソプロピルジベンゾィルメタン、 4—tert—プチルジ ベンゾィルメタン、 2, 4—ジメチルジベンゾィルメタン、 2, 5_ジメチ ルジベンゾィルメタン、 4, 4 '—ジイソプロピルジベンゾィルメタン、 4_ メ トキシ— 4'—tert—プチルジベンゾィルメタン、 2—メチル—5—イソプ 口ピル _ 4 '—メ トキシジベンゾィルメタン、 2 _メチル _ 5—tert—ブチル _4 '—メ トキシジベンゾィルメタン、 2, 4—ジメチル _4 '—メ トキシジ ベンゾィルメタン、 2, 6—ジメチル一 4— tert—ブチル一4'—メ トキシジ ベンゾィルメタンからなる群よリ選択されるジベンゾィルメタン誘導体の基 剤中での黄変を、 シラン及び Z又はシリコーンによリ処理した少なくとも一 の無機酸化チタンナノビグメントを配合することにより、 変色防止を試みて いる。
[0007] 一方、 特許文献 3には、 UV— B領域の紫外線吸収剤である ρ—メ トキシ ゲイ皮酸 _ 2 _ェチルへキシルを配合した皮膚外用剤に、 一般式 ( I) で示 されるベンゾトリアゾール誘導体を配合すると、 UV_ A領域においても優 れた紫外線吸収を有し、 かつ p—メ トキシケィ皮酸 _ 2 _ェチルへキシルの 変色を防ぎながら紫外線吸収効果の持続性を向上させた皮膚外用剤が記載さ れている。
[0008] 特許文献 1 :特開平 10— 265357号公報
特許文献 2:特開平 9一 2929号公報
特許文献 3:特開 2005— 206473号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] [第 1の発明]
本発明者らは、 様々な紫外線吸収剤の特性について鋭意研究を重ねた結果 、 特定構造のベンゾ卜リアゾール誘導体と金属酸化物粉体とを日焼け止め化 粧料に配合すると、 衣服に 2次付着して染着する問題を生じるが、 金属酸化
物粉体をアルキルアルコキシシランで表面処理すると、 その染着性が著しく 改善することを見出し本発明を完成するに至った。
[0010] 本発明の目的は、 特定構造のベンゾトリアゾール誘導体からなる紫外線吸 収剤と無機粉体とを配合する日焼け止め化粧料にて、 衣服に対する染着性を 低減することである。
[0011] [第 2の発明]
本発明者らは、 UV_ A領域を効率的に吸収する日焼け止め化粧料につい て鋭意研究を重ねた結果、 UV— A領域に吸収特性を有する紫外線吸収剤と 金属酸化物粉体とを日焼け止め化粧料に配合すると、 衣服に 2次付着して染 着する問題を生じるが、 金属酸化物粉体をアルキルアルコキシシランで表面 処理すると、 その染着性が著しく改善することを見出し本発明を完成するに 至った。
[0012] 本発明の目的は、 UV_A領域の紫外線吸収剤と無機粉体とを配合する曰 焼け止め化粧料にて、 衣服に対する染着性を低減することである。
課題を解決するための手段
[0013] [第 1の発明:請求項"!〜 5]
すなわち、 本発明は、 下記一般式 ( I ) で示されるベンゾトリアゾール誘 導体とアルキルアルコキシシランで表面処理された金属酸化物粉体とを含有 することを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
一般式 ( I )
[化 1-1]
(式中、 R' =C 1〜C 6の直鎖のアルキル基、 R" =C 1〜C3の直鎖の アルキル基である。 )
また、 本発明は、 前記べンゾトリアゾール誘導体が、 2_ [4- (2—ェ
チルへキシルォキシ) _ 2—ヒドロキシフエニル] _ 2 H—ベンゾトリァゾ ール、 2 _ ( 2—ヒドロキシ一 4 _イソブトキシフエニル) 一2 H—ベンゾ 卜リアゾールから選ばれる 1種または 2種以上であることを特徴とする上記 の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0015] さらに、 本発明は、 前記アルキルアルコキシシランが、 ォクチルトリエト キシシラン、 ォクチルトリメトキシシランから選ばれる一種または二種以上 であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0016] また、 本発明は、 前記金属酸化物粉体が、 酸化チタン、 酸化亜鉛、 酸化鉄 、 酸化セリウムからなる群から選択される一種または二種以上であることを 特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0017] さらに、 本発明は、 前記金属酸化物粉体の配合量が日焼け止め化粧料全量 に対して 1〜 5 0質量%であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を 提供するものである。
[0018] [第 2の発明:請求項 6〜 1 0 ]
すなわち、 本発明は、 U V— A領域に吸収を有する紫外線吸収剤とアルキ ルアルコキシシランで表面処理された金属酸化物粉体とを含有することを特 徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0019] また、 本発明は、 前記 U V— A領域に吸収を有する紫外線吸収剤が、 2, 4 _ビス { [ 4 - ( 2—ェチルへキシルォキシ) _ 2—ヒドロキシ] —フエ ニル } - 6 - ( 4—メトキシフエ二ル) _ 1, 3, 5—卜リアジン、 2—シ ァノ _ 3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル、 ジェチルアミノヒド ロキシベンゾィル安息香酸へキシル、 フエ二レン一 1, 4 _ビス (2—ベン ズイミダジル) _ 3, 3 ' _ 5, 5 '—テトラスルホン酸及びその塩からなる 群から選択される一種または二種以上の紫外線吸収剤であることを特徴とす る上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0020] さらに、 本発明は、 前記アルキルアルコキシシランが、 ォクチルトリエト キシシラン、 ォクチルトリメトキシシランから選ばれる一種または二種以上 であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0021 ] また、 本発明は、 前記金属酸化物粉体が、 酸化チタン、 酸化亜鉛、 酸化鉄 、 酸化セリウムからなる群から選択される一種または二種以上であることを 特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
[0022] さらに、 本発明は、 前記金属酸化物粉体の配合量が日焼け止め化粧料全量 に対して 1〜 5 0質量%であることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を 提供するものである。
発明の効果
[0023] [第 1及び第 2の発明]
( 1 ) 本発明の日焼け止め化粧料は衣服に対する染着性を低減する。 したが つて、 日焼け止め化粧料に紫外線吸収剤及び無機粉体を高配合することが可 能となる。
( 2 ) 本発明の日焼け止め化粧料は、 U V— A領域にて優れた紫外線吸収効 果を有し、 無機粉体により優れた紫外線遮蔽効果を有する。
図面の簡単な説明
[0024] [図 1 ]染着性の測定方法の説明図である。
[図 1-2]染着性の測定結果を示す図である。
[図 2-2]染着性の測定結果を示す図である。
[図 2-3]染着性の測定結果を示す図である。
発明を実施するための最良の形態
[0025] 以下、 本発明について詳述する。
[0026] [第 1の発明]
「一般式 ( I ) で示されるベンゾトリアゾール誘導体」
一般式 ( I ) のべンゾトリアゾール誘導体は公知の化合物であり、 以下の ようにして合成する。 すなわち、 o _二トロア二リンを亜硝酸ソーダ等でジァ ゾニゥム塩とし、 フエノールとカツプリングしてモノァゾ化合物を合成した 後、 還元してベンゾトリアゾールとする方法が一般的である。
( A法)
第 2工程
第 4工程
[化 1—5]
(式中、 2, 3— DCNは 2, 3—ジクロ口 _ 1, 4_ナフトキノンを表 第 5工程
(式中、 R = Hもしくは CH3、 R' =C 1〜C 6の直鎖のアルキル基、 R =C 1〜C3の直鎖のアルキル基である。 )
(B法)
第 1工程
第 2工程
第 3工程
第 4工程
[化 1-10]
第 5工程
(式中、 R' =C 1〜C 6の直鎖のアルキル基、 R" =C 1〜C3の直鎖の アルキル基である。 なお、 2, 3— DCNは 2, 3—ジクロ口 _ 1, 4—ナ フトキノンを表す。 )
また、 対応するべンゾトリアゾールと、 ハロゲン化アルキルとをメチルイ
ソブチルケトンとジメチルホルムアミドとの混合溶媒中にて還流すると、 特 に高い収率で一般式 ( I ) の化合物が製造できる。
より具体的に説明すれば、 6_ (2 H—ベンゾトリアゾール _ 2 _ィル) レゾルシノールを、 温度計と還流冷却器を備えた四つ口フラスコに入れ、 メ チルイソプチルケトンとジメチルホルムアミドとを加えて撹拌する。 この中 に炭酸ソーダと 2 _ェチルへキシルプロマイドとを加えて撹拌しながら還流 温度まで加熱する。 還流温度を保持しながら所定時間撹拌した後、 メチルイ ソプチルケトンを常圧で回収して残留したオイルを水洗にて過剰の炭酸ソー ダと生成した無機物を除去し、 液状の 2_ [4- ( 2 _ェチルへキシルォキ シ) _2—ヒドロキシフエニル] _ 2 H—ベンゾトリアゾールが高い収率で 得られる。
[0028] 一般式 ( I ) で示されるベンゾトリアゾール誘導体の配合量は、 目的の製 品に応じて適宜決定されるが、 日焼け止め化粧料全量に対して 0. 5〜1 0 質量%が好ましく、 1〜5質量%がさらに好ましい。
[0029] [第 2の発明]
Γ U V— A領域に吸収を有する紫外線吸収剤」
本発明において、 U V _ A領域に吸収を有する紫外線吸収剤とは U V _ A 領域の紫外線吸収剤として化粧料に通常配合されるものである。 好ましくは 、 2, 4_ビス { [4- (2—ェチルへキシルォキシ) _2—ヒドロキシ] —フエニル } -6- (4—メ トキシフエ二ル) _ 1, 3, 5—卜リアジン、 2_シァノ _3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル、 ジェチルアミ ノヒドロキシベンゾィル安息香酸へキシル、 フエ二レン一 1, 4_ビス (2 —ベンズイミダジル) _3, 3' _5, 5 '—テトラスルホン酸及びその塩か らなる群から選択される一種または二種以上の紫外線吸収剤である。 下記に その構造式を示す。 これらは市販品を好適に使用できる。
「2, 4_ビス { [4- (2—ェチルへキシルォキシ) _2—ヒドロキシ] —フエニル } -6- (4—メ トキシフエ二ル) _ 1, 3, 5—卜リアジン」
[化 2-1]
Γ 2—シァノー 3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル J
[化 2-2]
Γジェチルァミノヒドロキシベンゾィル安息香酸へキシル」
[化 2-3]
「フエ二レン一 1, 4—ビス (2—ベンズイミダジル) 一3, 3'— 5, 5' ーテトラスルホン酸ビス一ナトリウム塩」 (フエ二レン _ 1, 4_ビス (2 一べンズイミダジル) 一3, 3' _5, 5 '—テトラスルホン酸と苛性ソーダ を日焼け止め化粧料に配合することにより下記構造のナトリウム塩になる) [化 2-4]
上記紫外線吸収剤の配合量は、 目的の製品に応じて適宜決定されるが、 日 焼け止め化粧料全量に対して 0. 5〜 1 5質量0 /0が好ましく、 1〜 3質量%
がさらに好ましい。 特に 2質量%以上の高配合の場合に本発明の意義が大き い。
[0031] [第 1及び第 2の発明]
「アルキルアルコキシシランで表面処理された金属酸化物粉体」
本発明に用いる金属酸化物粉体は、 上記紫外線吸収剤と併用した場合に衣 服に対する染着が発生する限り特に限定されないが、 酸化チタン、 酸化亜鉛 、 酸化鉄、 酸化セリウムの粉体が好ましい。 特に好ましくは酸化チタン又は 酸化亜鉛の微粒子粉体である。 さらに、 平均粒子径が 0. 1 5 m以下の微 粒子粉体を用いると、 化粧塗布時に白浮きせず、 透明感のある自然な仕上り が得られるために好ましい。
金属酸化物粉体の 1種又は 2種以上がアルキルアルコキシシランで表面処 理されて日焼け止め化粧料に配合される。
[0032] 本発明において染着防止剤として機能するアルキルアルコキシシランは、 ォクチルトリエトキシシラン又はォクチルトリメトキシシランが好ましい。 表面処理方法は特に限定されないが、 例えば、 ヘンシ Iルミキサー、 スーパ 一ミキサー等の高速攪拌機を用いて、 アルキルアルコキシシランと金属酸化 物粉体とを混合する等の乾式処理や、 アルキルアルコキシシランを金属酸化 物粉体のスラリー中に添加し、 攪拌■混合する等の湿式処理を用いることが できる。
[0033] アルキルアルコキシシランの被覆量は、 金属酸化物粉体に対して 1〜 1 0 質量%の範囲が好ましく、 3〜 8質量%の範囲が特に好ましい。 1質量%未 満であると、 本発明の効果が効果的に発揮されず、 また 1 0質量%を超える と、 金属酸化物単位量当たりの紫外線防御効果が低くなる場合がある。
[0034] アルキルアルコキシシラン表面処理金属酸化物粉体の配合量は、 特に限定 されず目的の製品に応じて適宜決定されるが、 日焼け止め化粧料全量に対し て、 1〜5 0質量%が好ましく、 5〜3 0質量%がさらに好ましく、 さらに 1 0〜2 0質量%が好適である。 5 0質量%を超えると、 塗布時にきしみ感 が生じ、 また塗布色が白くなつてしまい自然さが失われる場合がある。 また
1質量%未満であると、 有効な染着防止効果が望めない。
[0035] 本発明の日焼け止め化粧料は、 上記必須成分以外に、 通常化粧料に用いら れる成分、 例えば、 美白剤、 保湿剤、 酸化防止剤、 油性成分、 その他の紫外 線吸収剤、 界面活性剤、 増粘剤、 アルコール類、 粉末成分、 色剤、 水性成分 、 水、 各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造するこ とができる。 具体的には次のような配合成分が挙げられる。
[0036] アボカド油、 マカデミアナッツ油、 トウモロコシ油、 ォリーブ油、 ナタネ 油、 月見草油、 ヒマシ油、 ヒマヮリ油、 茶実油、 コメヌ力油、 ホホバ油、 力 カオ脂、 ヤシ油、 スクワレン、 牛脂、 モクロウ、 ミツロウ、 キャンデリラロ ゥ、 カルナバロウ、 鯨ロウ、 ラノリン、 流動パラフィン、 ポリオキシェチレ ン (8モル) ォレイルアルコールエーテル、 モノォレイン酸グリセリル、 シ クロメチコン、 ジメチルポリシロキサン、 ジフエ二ルポリシロキサンなどの 油分。
力プリルアルコール、 ラウリルアルコール、 ミリスチルアルコール、 セチ ルアルコール、 コレステロール、 フィ トステロールなどの高級アルコール。 力プリン酸、 ラウリン酸、 ミリスチン酸、 パルミチン酸、 ステアリン酸、 ベへニン酸、 ラノリン脂肪酸、 リノール酸、 リノレン酸などの高級脂肪酸。 ポリエチレングリコール、 グリセリン、 ソルビ! ^一ル、 キシリ I ^一ル、 マ ルチトール、 ムコ多糖、 ヒアルロン酸、 コンドロイチン硫酸、 キトサンなど の保湿剤。
メチルセルロース、 ェチルセルロース、 アラビアガム、 ポリビニルアルコ ールなどの増粘剤。
エタノール、 1, 3—ブチレングリコールなどの有機溶剤。
プチルヒドロキシトルエン、 トコフエロール、 フィチン酸などの酸化防止 剤。
安息香酸、 サリチル酸、 ソルビン酸、 パラォキシ安息香酸エステル (ェチ ルパラベン、 ブチルパラベンなど) 、 へキサクロ口フェンなどの抗菌防腐剤
グリシン、 ァラニン、 バリン、 ロイシン、 セリン、 卜レオニン、 フエニル ァラニン、 チロシン、 ァスパラギン酸、 ァスパラギン、 グルタミン、 タウリ ン、 アルギニン、 ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
ァシルサルコシン酸 (例えばラウロイルザルコシンナトリウム) 、 グルタ チオン、 クェン酸、 リンゴ酸、 酒石酸、 乳酸などの有機酸。
ビタミン A及びその誘導体、 ビタミン B 6塩酸塩、 ビタミン B 6 トリパル ミテート、 ビタミン B 6ジォクタノエ一卜、 ビタミン B 2及びその誘導体、 ビタミン B 1 2、 ビタミン B 1 5及びその誘導体などのビタミン B類、 ァス コルビン酸、 ァスコルビン酸リン酸エステル (塩) 、 ァスコルビン酸ジパル ミテートなどのビタミン C類、 ひ一 トコフエロール、 ^—トコフエロール、 一トコフエロール、 ビタミン Eアセテート、 ビタミン Eニコチネートなど のビタミン E類、 ビタミン D類、 ビタミン H、 パントテン酸、 パンテチンな どのビタミン類。
ニコチン酸アミド、 ニコチン酸ベンジル、 一オリザノール、 アラントィ ン、 グリチルリチン酸 (塩) 、 グリチルレチン酸及びその誘導体、 ヒノキチ オール、 ムシジン、 ビサボロール、 ユーカリプトール、 チモール、 イノシト ール、 サポニン類 (サイコサポニン、 ニンジンサポニン、 へチマサポニン、 ムクロジサポニンなど) 、 パントテニルェチルエーテル、 ェチニルエストラ ジオール、 トラネキサム酸、 セファランチン、 ブラセンタエキスなどの各種 薬剤。
ギシギシ、 クララ、 コゥホネ、 オレンジ、 セージ、 タイム、 ノコギリソゥ 、 ゼニァオイ、 センキユウ、 センプリ、 トウキ、 トウヒ、 パーチ、 スギナ、 へチマ、 マロニエ、 ユキノシタ、 アル二力、 ユリ、 ョモギ、 シャクャク、 ァ ロェ、 クチナシ、 サワラなどの有機溶剤、 アルコール、 多価アルコール、 水 、 水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニゥムクロライド、 塩化ベンザルコニゥム、 ラウリルアミンオキサイドなどのカチォン界面活性剤。
ェデト酸ニナトリウム、 ェデト酸三ナトリウム、 クェン酸ナトリウム、 ポ
リリン酸ナ卜リゥム、 メタリン酸ナ卜リゥム、 ダルコン酸等の金属封鎖剤。 香料、 スクラブ剤、 精製水など。
[0037] 本発明の日焼け止め化粧料の特に好ましい基剤は、 デカメチルシクロペン タシロキサン、 イソノナン酸イソノニル、 ジメチルポリシロキサン、 ヘプタ メチルォクチルトリシロキサン、 トリメチルシロキシケィ酸、 流動パラフィ ン、 スクヮラン、 イソオクタン酸セチル、 イソオクタン酸卜リグリセライド
、 コハク酸ジ 2 _ェチルへキシルの油分である。 本発明は特にデカメチルシ クロペンタシロキサンを主成分基剤とする日焼け止め化粧料に好ましく利用 される。
[0038] 本発明の日焼け止め化粧料は、 例えば、 軟膏、 クリーム、 乳液、 ローショ ン等の製品形態が挙げられる。 またその剤型も特に問わない。
実施例
[0039] 以下に実施例により本発明を具体的に説明する。 本発明はこれらの実施例 に限定されない。
[0040] [第 1の発明]
<一般式 ( I ) で示されるベンゾトリアゾール誘導体の合成例 >
「合成例 1— 1 : 2_ [4- (2—ェチルへキシルォキシ) _ 2—ヒドロキ シフエ二ル] _ 2 H—ベンゾトリアゾールの合成」
常法により合成した 6_ (2H—ベンゾトリアゾール _2_ィル) レゾル シノール 45. 4 g (0. 20モル) を温度計、 還流冷却器を備えた 500 m I四つ口フラスコに入れ、 メチルイソプチルケトン 5 Omし ジメチルホ ルムアミド 4. O gを加えて撹拌した。 この中に炭酸ソーダ 25. 4 g (0 . 24モル) 、 および 2 _ェチルへキシルブロマイド 77. 2 g (0. 40 モル) を加えて撹拌しながら還流温度まで加熱した。 還流温度を保持しなが ら 1 5時間撹拌した後、 メチルイソプチルケトンを常圧で回収して残留した オイルを水洗にて、 過剰の炭酸ソーダと生成した無機物を除去した。 このォ ィルから減圧蒸留して 220〜225°CZ0. 2〜0. 3mmH gの黄色透 明の留分 52. 1 gを得た。 この化合物は、 常温域で液状であり、 収率は、
7 6. 7%、 H P L C純度 99. 0%であった。
[0041] 「合成例 1 — 2 : 2 - (2—ヒドロキシ一 4 _イソブトキシフエニル) _ 2
H—ベンゾトリアゾールの合成」
2 _ェチルへキシルプロマイドの替わりに臭化イソブチルを同モル量使用 して合成例 1と同様に行った。 微黄灰白色の粉末状結晶を収率 7 2. 5%で 得た。 m. p. 1 20. 0から 1 20. 8°C、 Ama x = 345. 6 n m、 ε = 2 1 7 50であった。
[0042] 「アルキルアルコキシシラン表面処理金属酸化物粉体」
酸化チタン粉体 (平均粒子径 0. 01 5 X 0. 06 M m) 2 k gを水性ス ラリーにし、 20%硫酸で p Hを 3として、 ォクチルトリエトキシシラン 1
O O gを添加し、 30分攪拌後、 水酸化ナ卜リゥムで p H 1 0として、 1時 間熟成した。 これを中和■濾過■洗浄,乾燥し、 ジェットミルを用いて粉砕 して、 ォクチルトリエトキシシラン表面処理酸化チタン粉体を得た。
なお、 酸化チタン粉体を、 酸化亜鉛、 酸化鉄、 酸化セリウムの各粉体に代 えることにより、 ォクチルトリエトキシシランで表面処理された酸化亜鉛、 酸化鉄、 酸化セリウムの各粉体が得られる。
また、 同様にして、 ォクチルトリメ トキシシランで表面処理した各金属酸 化物粉体が得られる。
[0043] 「表 1— 1」 に示す WZOサンスクリーンを常法により製造し、 2次付着 による染着性を調べた。
[0044]
[表 1-1]
[0045] 「染着性の測定方法」
図 1に示すように、 サンプルを腕に厚めに塗布し、 ブロード綿の中央に転 写し (転写量約 0 . 0 6 g ) 、 一日室内に放置した後、 通常の衣類用洗剤を 使用して洗濯し、 分光測色計 (ミノルタ (株) :現コ二力ミノルタセンシン グ (株) 製 CM-2002) で、 厶巳及び 丫 Iを測定した。 結果を図 1—2に示す
[0046] 図 1 _ 2から、 実施例 1では、 金属酸化物粉体を配合しない場合の比較例
1やアルキルアルコキシシラン以外の疎水化表面処理剤で処理した場合の比 較例 2に比べ、 その染着性が顕著に低減することが分かる。
[0047] 以下に本願発明の日焼け止め化粧料の処方例を挙げる。 いずれも、 衣服に 対する染着性が低減し、 U V— A領域にて優れた紫外線吸収能を発揮する曰 焼け止め化粧料である。
[0048] 「実施例 1 _ 2 : 日焼け止め化粧料 WZO乳液」
質量%
1. ジメチルポリシロキサン 1
2. デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3. トリメチルシロキシケィ酸 5
4. ラウリル PEG— 9ポリジメチルシロキシェチルジメチコン 1
5. イソノナン酸イソノニル 5
6. ブチルェチルプロパンジオール 0. 5
7. パラメ トキシ桂皮酸 2 _ェチルへキシル 7. 5
8. 合成例 2のべンゾトリアゾール誘導体 5
9. 2_シァノ _3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル 5
1 0. ジメチルジステアリルアンモニゥムヘクトライト 0. 5
1 1. 球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
1 2. ォクチルトリエトキシシラン表面処理酸化亜鉛 1 5
1 3. ジプロピレングリコール 5
1 4. フエノキシエタノール 0. 5
1 5. エタノール 2
1 6. 精製水 残余 製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、 攪拌機を用いて乳化粒子が均一に なるように調製する。
「実施例 1 _3 : 日焼け止め化粧料 OZW乳液」
1. ポリオキシエチレン硬化ひまし油 1
2. ジメチコンコポリオール 0. 5
3. デカメチルシクロペンタシロキサン 1 5
4. イソステアリン酸 0. 5
5. フエニルトリメチコン 1
6. ォクチルトリメ トキシシラン表面処理酸化チタン 5
7. 合成例 1のべンゾトリアゾール誘導体 5
8. パラメ トキシ桂皮酸 2 _ェチルへキシル 5
9. クェン酸 0. 01
1 0. クェン酸ナトリウム 0. 09
1 1. フエノキシエタノール 0. 5
1 2. エタノール 5
1 3. ダイナマイトグリセリン 1
1 4. サクシノグルカン 0. 2
1 5. セルロースガム 1
1 6. イオン交換水 残余 製造方法
9〜1 6の水相を調製後、 1〜8の油相に徐々に添加し、 最後にホモミキ サーを用いて攪拌する。
「実施例 1 _4 :セルフタンニング化粧料」
A部
I . 1, 3—ブチレングリコール 5
2. グリセリン 2
3. ジヒドロキシァセトン 5
4. ェデト酸ニナトリウム 0. 05
5. ハラヘン 適至
6. イオン交換水 残余 B部
7. ステアリン酸グリセリル 4
8. ベへニルアルコール 3
9. ステアリルアルコール 2
1 0. シリコーン油 6
I I . パーム硬化油 2
1 2. 流動パラフィン 2
1 3. ォクチルトリメ トキシシラン表面処理酸化亜鉛 3
1 4. 合成例 2のべンゾトリアゾール誘導体 2
1 5. 2_シァノ _3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル
5
1 6. 香料 適量 製造方法
A部のイオン交換水にェデト酸ニナトリウム、 ジヒドロキシアセトン、 グ リセリン、 1, 3—ブチレングリコールに加熱溶解したパラベンを添加し溶 解する。 B部の各成分を十分に溶解し加熱し、 A部に添加して乳化する。 こ れを冷却してセルフタンニングクリームを得る。
[0051] [第 2の発明]
「アルキルアルコキシシラン表面処理金属酸化物粉体」
酸化チタン粉体 (平均粒子径 0. 01 5 X 0. 06 M m) 2 k gを水性ス ラリーにし、 20%硫酸で p Hを 3として、 ォクチルトリエトキシシラン 1 O O gを添加し、 30分攪拌後、 水酸化ナ卜リゥムで p H 1 0として、 1時 間熟成した。 これを中和■濾過■洗浄,乾燥し、 ジェットミルを用いて粉砕 して、 ォクチルトリエトキシシラン表面処理酸化チタン粉体を得た。
なお、 酸化チタン粉体を、 酸化亜鉛、 酸化鉄、 酸化セリウムの各粉体に代 えることにより、 ォクチルトリエトキシシランで表面処理された酸化亜鉛、 酸化鉄、 酸化セリウムの各粉体が得られる。
また、 同様にして、 ォクチルトリメ トキシシランで表面処理した各金属酸 化物粉体が得られる。
[0052] 「表 2_ 1」 及び 「表 2— 2」 に示す WZOサンスクリーンを常法により 製造し、 2次付着による染着性を調べた。
[0053]
比較例 1比較例 2実施例 1 デカメチルシクロペンタシロキサン 21.0 21.0 21.0 ジメチルポリシロキサン 2.0 2.0 2.0
(ビニルジメチコン Zメチコンシルセスキォキサン) クロス
5.0 5.0 5.0 ポリマー
ラウリル P EG— 9ポリジメチルシロキシェチルジメチコン 1.5 1.5 1.5 卜リメチルシロキシケィ酸 5.0 5.0 5.0 イソオクタン酸トリグリセライド 5.0 5.0 5.0 イソオクタン酸セチル 5.0 5.0 5.0 イソノナン酸イソノニル 5.0 5.0 5.0 パラメ トキシ桂皮酸 2—ェチルへキシル 7.5 7.5 7.5
2, 4-ビス { [4- (2-ェチルへキシルォキシ) -2-ヒドロキシ] -フ
2.0 2.0 2.0 ェニル }-6-(4-メ トキシフエ二ル)- 1,3,5-トリアジン
ステアりン酸処理酸化チタン 0.0 12.0 0.0 ォクチルトリエトキシシラン処理酸化チタン 0.0 0.0 12.0 ジメチルジステアリルアンモニゥムへクトライト 0.2 0.2 0.2 精製水 30.45 18.45 18.45 ェデト酸三ナトリウム 0.05 0.05 0.05 ジプロピレングリコール 5.0 5.0 5.0 グリセリン 2.0 2.0 2.0 エタノール 3.0 3.0 3.0 フエノキシエタノール 0.3 0.3 0.3 合計 100.0 100.0 100.0
比較例比較例比較例実施例実施例実施例
3 4 5 2 3 4 デカメチルシクロペンタシロキサン 23.0 23.0 23.0 23.0 23.0 23.0 ジメチルポリシロキサン 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0
(ビニルジメチコンノメチコンシルセスキォキサ
3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 ン) クロスポリマー
ラウリル P EG— 9ポリジメチルシロキシェチル
1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 1.5 ジメチコン
トリメチルシロキシケィ酸 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 イソオクタン酸トリグリセライド 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 イソオクタン酸セチル 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 イソノナン酸イソノニル 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 パラメ トキシ桂皮酸 2—ェチルへキシル 7.5 7.5 7.5 7.5 7.5 7.5
2—シァノ一3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチ
5.0 ― ― 5.0 ― ― ルへキシル
ジェチルアミノヒドロキシベンゾィル安息香酸へ ― 2.0 ― ― 2.0 ― キシル
フエ二レン一 1. 4一ビス (2—べンズイミダジ ― ― 3.0 ― ― 3.0 ル) 一 3, 3' -5, 5' —亍トラスルホン酸
ォクチルトリエトキシシラン処理酸化チタン ― ― ― 12.0 12.0 12.0 ジメチルジステアリルアンモニゥムへクトライト 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 精製水 27.45 30.45 29.15 15.45 18.45 17.15 ェデト酸三ナトリウム 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 水酸化ナトリウム ― ― 0.3 ― ― 0.3 ジプロピレングリコール 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 グリセリン 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 エタノール 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 3.0 フエノキシエタノール 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 合計 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0 100.0
[0055] 「染着性の測定方法」
図 1に示すように、 サンプルを腕に厚めに塗布し、 ブロード綿の中央に転 写し (転写量約 0. 06 g) 、 一日室内に放置した後、 通常の衣類用洗剤を 使用して洗濯し、 分光測色計 (ミノルタ (株) :現コ二力ミノルタセンシン グ (株) 製 CM-2002) で、 厶巳及び 丫 Iを測定した。 結果を図 2— 2及び図 2— 3に示す。
[0056] 図 2_2及び図 2_3から、 実施例 1〜4は、 金属酸化物粉体を配合しな い場合の比較例 1やアルキルアルコキシシラン以外の疎水化表面処理剤で処 理した場合の比較例 2〜 5に比べ、 その染着性が顕著に低減することが分か
以下に本願発明の日焼け止め化粧料の処方例を挙げる。 いずれも、 衣服に 対する染着性が低減し、 U V— A領域にて優れた紫外線吸収能を発揮する曰 焼け止め化粧料である。
「実施例 2 _5 : 日焼け止め化粧料 WZO乳液」
質量%
1. ジメチルポリシロキサン 1
2. デカメチルシクロペンタシロキサン 25
3. トリメチルシロキシケィ酸 5
4. ラウリル PEG— 9ポリジメチルシロキシェチルジメチコン 1
5. イソノナン酸イソノニル 5
6. パラメ トキシ桂皮酸 2 _ェチルへキシル 7. 5
7. ブチルェチルプロパンジオール 0. 5
8. ジェチルアミノヒドロキシベンゾィル安息香酸へキシル 2
9. 2_シァノ _3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル 5
1 0. ジメチルジステアリルアンモニゥムヘクトライト 0. 5
1 1. 球状ポリアクリル酸アルキル粉体 5
1 2. ォクチルトリエトキシシラン表面処理酸化亜鉛 1 5
1 3. ジプロピレングリコール 5
1 4. フエノキシエタノール 0. 5
1 5. エタノール 2
1 6. フエ二レン _ 1, 4 _ビス (2—ベンズイミダジル)
-3, 3' _5, 5 '—テトラスルホン酸 2
1 7. トリエタノールァミン 1
1 8. 精製水 残余 製造方法
油相に水相を徐々に添加し添加終了後、 攪拌機を用いて乳化粒子が均一に なるように調製した。
「実施例 2 _6 : 日焼け止め化粧料 OZW乳液」
質量%
1. ポリォキシェチレン硬化ひまし油 1
2. ジメチコンコポリオール 0. 5
3. デカメチルシクロペンタシロキサン 1 5
4. イソステアリン酸 0. 5
5. フエニルトリメチコン 1
6. ォクチルトリメ トキシシラン表面処理酸化チタン 5
7. 2, 4_ビス { [4— (2—ェチルへキシルォキシ) - 2 - ヒドロキシ] —フエ二ル} -6- (4—メ トキシフエ二ル)
- 1 , 3, 5_卜リアジン
2 _シァノ _ 3, 3—ジフエ二ルァクリル酸ェチルへキシル
9. パラメ トキシ桂皮酸 2 _ェチルへキシル 5
1 0. クェン酸 0. 01
1 1. クェン酸ナトリウム 0. 09
1 2. フエノキシエタノール 0. 5
1 3. エタノール 5
1 4. ダイナマイトグリセリン 1
1 5. サクシノグルカン 0. 2
1 6. セルロースガム 1
1 7. イオン交換水 残余 製造方法
1 0〜1 7の水相を調製後、 1〜9の油相に徐々に添加し、 最後にホモミ キサーを用いて攪拌した。
「実施例 2_7 :セルフタンニング化粧料」
議
A部
1. 1, 3—ブチレングリコール 5
2. グリセリン 2
3. ジヒドロキシァセトン 5
4. ェデト酸ニナトリウム 0. 05
5. パラベン 適至
6. イオン交換水 残余 B部
7. ステアリン酸グリセリル 4
8. ベへニルアルコール 3
9. ステアリルアルコール 2
1 0. シリコーン油 6
1 1. パーム硬化油 2
1 2. 流動パラフィン 2
1 3. ォクチルトリメ トキシシラン表面処理酸化亜鉛 3
1 4. ジェチルアミノヒドロキシベンゾィル安息香酸へキシル 2
1 5. 2_シァノ _3, 3—ジフエニルアクリル酸ェチルへキシル
5
1 6. 香料 適量 製造方法
A部のイオン交換水にェデト酸ニナトリウム、 ジヒドロキシアセトン、 グ リセリン、 1, 3—ブチレングリコールに加熱溶解したパラベンを添加し溶 解する。 B部の各成分を十分に溶解し加熱し、 A部に添加して乳化する。 こ れを冷却してセルフタンニングクリームを得た。
産業上の利用可能性
[第 1及び第 2の発明]
本発明によれば、 衣服に対する染着性が低減し、 UV— A領域の紫外線吸 収特性に優れた日焼け止め化粧料を提供できる。