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WO2004029060A1 - 新規除草剤、その使用方法、新規チエノピリミジン誘導体及びその中間体並びにその製造方法 - Google Patents

新規除草剤、その使用方法、新規チエノピリミジン誘導体及びその中間体並びにその製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2004029060A1
WO2004029060A1 PCT/JP2003/012356 JP0312356W WO2004029060A1 WO 2004029060 A1 WO2004029060 A1 WO 2004029060A1 JP 0312356 W JP0312356 W JP 0312356W WO 2004029060 A1 WO2004029060 A1 WO 2004029060A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
alkyl
halo
alkoxy
same
Prior art date
Application number
PCT/JP2003/012356
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Chikako Ota
Shuji Kumata
Shinji Kawaguchi
Original Assignee
Nihon Nohyaku Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Nohyaku Co., Ltd. filed Critical Nihon Nohyaku Co., Ltd.
Priority to EP03753959A priority Critical patent/EP1544202A4/en
Priority to AU2003272898A priority patent/AU2003272898B2/en
Priority to US10/529,474 priority patent/US20070010402A1/en
Priority to CA002500207A priority patent/CA2500207A1/en
Publication of WO2004029060A1 publication Critical patent/WO2004029060A1/ja

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D495/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D495/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D495/04—Ortho-condensed systems
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/90—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having two or more relevant hetero rings, condensed among themselves or with a common carbocyclic ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/01—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C255/32—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring
    • C07C255/40—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to acyclic carbon atoms having cyano groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton containing at least one six-membered aromatic ring the carbon skeleton being further substituted by doubly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/84—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/92—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of monocyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of a six-membered aromatic ring with etherified hydroxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
    • C07D333/36—Nitrogen atoms

Definitions

  • the present invention relates to a novel herbicide, a method for using the same, a novel chenobilimidine derivative and an intermediate thereof, and a method for producing the same.
  • the present invention relates to a herbicide containing a substituted chenobilimidine derivative as an active ingredient, a method for using the same, a novel compound useful as the herbicide, a method for producing the compound, and an intermediate thereof.
  • a stable supply of important crops is indispensable to address the food crisis associated with the world population growth expected in the near future.
  • Stable crop supply requires the control of weeds that hinder cultivation and harvesting due to economic and efficiency problems.
  • Agent development is becoming increasingly important.
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have found that chenobilimidines having a specific substituent have herbicidal activity, and have completed the present invention.
  • R 1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an optionally substituted alkyl group.
  • Q 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group or ⁇ 1 ! ⁇ 3 (wherein X 1 is a single bond, —O—, —SOn— (where n is 0 to 2 . that of an integer), in -OSO n-(wherein, n is as defined above), single CO-, one C0 2 -. one OC0 2 - indicates or _OC (O) mono-,
  • R 3 is an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an alkynyl group which may be substituted, an amino group which may be substituted, a aryl group which may be substituted or It represents a heterocyclic group which may be substituted. ),
  • Q 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or —X 2 R 4 (wherein X 2 is a single bond, one O—, —SOn— (where n is the same as above), and one OS On— (Wherein, n is the same as above.),
  • X 2 is a single bond, one O—, —SOn— (where n is the same as above), and one OS On— (Wherein, n is the same as above.)
  • R 4 is an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an alkynyl group which may be substituted, an amino group which may be substituted, a aryl group which may be substituted or It may be substituted! /, Indicating a heterocyclic group. ).
  • a herbicide comprising, as an active ingredient, a substituted chenopyrimidine derivative represented by the formula: (2) General formula (I)
  • R 1 represents a hydrogen atom, ((to ( 6 ) alkyl group or halo (Ci Cj alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a (Ci Ce) alkyl group or a halo (Ci Ce) alkyl group.) Represents a group.
  • a 2 represents a hydrogen atom, ((to ( 6 ) alkyl group or halo (Ci Cj alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a (Ci Ce) alkyl group or a halo (Ci Ce) alkyl group.
  • Q 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group or —XiR 3 (wherein X 1 is a single bond, —O—, -SOn- (where n is an integer of 0 to 2) .), in -OSO n-(wherein, n is as defined above), single CO-, one C0 2 -., shows a _OC0 2 _ or one OC (O) mono-,
  • R 3 is a (Ci Cio) alkyl group, a halo (( ⁇ ⁇ . ⁇ .) Alkyl group, a cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, a halocyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, a (.-. ⁇ Alkoxy
  • alkyl group halo (Ci Cj alkoxy (C CJ alkyl group, ((: ⁇ alkyl (C 3 -C 6 ) cycloalkyl group, cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl (-) alkyl group, ( C ⁇ C alkoxycarbonyl Interview le ( ⁇ ) alkyl group, (Amino) human Dorokishi (C 2 -C 6) alkyl group, (C a - C 4) alkylthio ( ⁇ ) alkyl le group, (C ⁇ CJ alkylsulfinyl ( C ⁇ CJ alkyl group, ( ⁇ ) Al alkylsulfonyl ( ⁇ ⁇ Ji alkyl group, (C 2 ⁇ C 6) alkenyl group, a halo (C 2 ⁇ C ⁇ C
  • alkylsulfonyl group mono ((: to ( 6 ) alkylamino group or di (CiCj alkylamino group having at least one substituent selected from alkylamino groups which may be the same or different) Substituted phenylamino group, aryl group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, (C ⁇ Cs) alkyl group, nitro (CiC alkyl) group, Sik b (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, Nono Roshikuro (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, (C 2
  • Alkylamino cyano group or identical Wakashi Ku is different good di (Ci ⁇ C 6) substitution ⁇ having one or more substituents selected from Arukiruami amino group Re Alkyl group, aryl (Ci Ce) alkyl group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, (C Ce) alkyl group, halo ⁇ alkyl, cycloalkyl (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, Haroshiku b (C 3 ⁇ C 6) alkyl, (C 2 ⁇ C 6) alkenyl group, halo (C 2 ⁇ C 6) alkenyl, (C 2 to C 6 ) alkyl group, halo (C 2 to C 6 ) alkyl group, (Ci to C 6 ) alkoxy group, nodro (Ci to C 6 ) alkoxy group, cyclo (C 3 to C 6) )
  • alkylsulfonyl group mono (( ⁇ to. ⁇ Alkylamino group or a substituted aryl having at least one substituent selected from the same or different di (CiCj alkylamino group) on the ring ( Alkyl groups, heterocyclic groups (heterocycles are oxosilane, oxetane, tetrahydrofuran, furan, thiophene, pyrrole, pyrrolidine, oxazole, oxazoline, oxazolidin, thiazole, thiazoline, thiazolidine, imidazole, imidazoline, imidazoline, triazole).
  • heterocyclic groups heterocyclic groups (heterocycles are oxosilane, oxetane, tetrahydrofuran, furan, thiophene, pyrrole, pyrrolidine, oxazole, oxazoline, oxazolid
  • the alkyl group (the heterocyclic ring may be the same as described above) or the same or different; a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a (Ci-C 6 ) alkyl group, a halo (C Ce) alkyl group, a cyclo (C 3
  • Q 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or —X 2 R 4 (wherein X 2 is a single bond, one O—, -SOn- (where n is the same as above), -OSOn- (formula Wherein n is the same as above.), One CO—, one co 2 _, one oco 2 — or one OC (O) —
  • R 4 is (Ci C o) alkyl group, halo (. ⁇ ..) Alkyl, cyclo (C 3 - C 6) alkyl groups, halo (C 3 -C 6) cycloalkyl group, (Ci Cj alkoxy
  • Alkylamino group phenylamino group, which may be the same or different, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, and nitrogen group, hydroxyl group, amino group, SH group, (Ci Ce) alkyl group, halo (Ci ⁇ C 6) alkyl group, cyclo (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, Nono Roshikuro (C 3 -C 6 ) Alkyl group,
  • alkylsulfonyl groups mono (Ci ⁇ C 6) alkylamino cyano group or the Ichiwaka substituted ⁇ Li properly is having one or more substituents selected from a good different di ( ⁇ ⁇ Ji ⁇ alkylamino cyano group Alkyl group, aryl group (Ci Cj alkyl group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, (dialkyl group, nitro group) alkyl group, consequent b (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, Nono b consequent b (C 3 ⁇ (: 6) alkyl, (C 2 ⁇ C 6) Aruke - group, halo (C 2 ⁇ C 6) Alkenyl group, (C 2 -C 6 ) alkynyl group, halo (C 2 -C 6 ) alkynyl group, (j-j ⁇ alk
  • a heterocyclic ring (Ci Cj alkyl group (the heterocyclic ring is the same as described above)) or may be the same or different, and may be a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a (Ci Ce) alkyl group, Halo 6) alkyl group, a cycloalkyl (C 3 -C 6) Arukinore group, Nono Roshikuro (C 3 ⁇
  • a herbicide comprising a substituted chenopyrimidine derivative as an active ingredient.
  • Q 1 is —OR 3 ⁇ wherein, R 3 is a (( ⁇ to (:) alkyl group, a halo (C i C) alkyl group, a cyclo (C 3 to C 6 ) alkyl group, ⁇ Alkoxy 6 ) alkyl group, halo (Ci Cj alkoxy (Ci Cj alkyl group, (( ⁇ ⁇ .) Alkyl group (C 3- C 6 ) alkyl group, cyclo (C 3- C 6 ) alkyl (C ⁇ CJ alkyl group, (C ⁇ CJ alkoxycarbonyl ( ⁇ ) alkyl group, (Amino) human Dorokishi (c 2 to c 6) alkyl group, (c ⁇ cj alkylthio (Ji ⁇ .
  • alkyl group (( ⁇ ⁇ Ji alkylsulfinyl ( ( ⁇ ⁇ Ji ⁇ alkyl group, (c 1 to c 4) alkyl Rusuruhoniru (c to c 4) alkyl group, (c 2 to c 6) alkenyl, halo (c 2 to c 6) alkenyl group, human Dorokishi (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group, human Dorokishiha port (c 2 ⁇ c 6) alkenyl, phenyl (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group, (c 2 to c 6 ) alkynyl group, halo (c 2 -c 6 ) alkyl group, amino group, mono (C CJ alkylamino group, monohalo (Ci Cj alkylamino group, same or different) .
  • alkylamino group the same or different and may dihalo (Ci ⁇ c 6) alkylamino group, Fueniruamino group, which may be identical or different, halo gen atom, Shiano group, a nitro group, a hydroxyl group, an amino group, SH group, (Ji-Ji ⁇ alkyl group, Nono b (Ji ⁇ .
  • alkylthio group halo (di-. Alkylthio group, (di-. ⁇ Alkylsulfinyl group, nodro (c 1 -c 6 ) alkylsulfuryl group, (Ci Cj alkylsulfol group, Substituted ring having at least one substituent selected from a halo (C 6 -C 6 ) alkylsulfonyl group, a mono (C 1 -C 6 alkylamino group) and a di (C i Cj alkylamino group which may be the same or different).
  • Nylamino group aryl group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, (d Cj alkyl group, halo (c cj alkyl group, (c 2 to c 6 ) Alkenyl group, nodro (c 2 -c 6 ) alkenyl group, (C 2 -C 6 ) alkyl group, halo (C 2 -C 6 ) alkynyl group, (C i Cj alkoxy group, halo (C CJ Alkoxy group, (C Cj alk Ruthio group, Ci Ce) alkylthio group, C Ce) alkylsulfinyl group, peroxy (.-alkylsulfinyl group, ⁇ alkynolesulfonyl group, halanolokesulfoninole group, mono (.- alkylamino group or the same) A substituted C
  • (Ci-Ce) an alkyl group, which may be the same or different, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an amino group, an SH group, a ( ⁇ ⁇ (: 6 ) alkyl group, a halo
  • Alkylamino group or di (C Ce) which may be the same or different Substituted aryl having one or more substituents selected from alkylamino groups on the ring (Ci Cj alkyl group, heterocyclic group (heterocyclic is oxysilane, oxetane, tetrahydrofuran, furan, thiocyanphen, pyrrole, pyrrolidine) , Oxazole, Oxazoline, O Xazolidine, thiazole, thiazoline, thiazolidine, imidazole, imidazoline, imidazolidine, triazole, triazolidine, isoxazole, isoxazoline, isotiazole, isotiziazolidine, virazole, vilazoline, virazolidine, pyridrazine, pyridrazine, pyridrazine shows Ji Omoruhorin, piperidines Rajin, piperidine or Okisajin
  • Q 2 is a (C Cio) alkyl group, a cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group,
  • alkylthio group cyclo (C 3 -C 6 ) alkylthio group, (Ci Ce) alkylsulfyl group, cyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfyl group, ( ⁇ - ⁇ alkyls Ruphonyl group, cyclo (c 3 -c 6 ) alkylsulfonyl group, heterocyclic group Thiazolidine, imidazonole, imidazoline, imidazolidin, triazole, triazolidine, isoxazole, isoxazoline, isothiazole, isothiazolidine, virazole, pyrazoline, pyrazolidine, tetrazole, tetrahydropyran, pyrididine, pyrimidine, pyrimidine, pyrimidine, pyridine Azine, piperidine or oxazine), which may be the same or different, and include a fluorinated (Ci Ce) alkyl
  • (C 1 -C 6 ) alkylsulfinyl group Noguchi (C ⁇ CJ alkylsnolebuininole group, cyclo (C 3 -C 6 ) anorekylsulfinyl group, nodrocyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfinyl group , (Ci-C 6 ) alkylsulfonyl, halo (C 1 -C 6 ) alkylsulfonyl, cyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfonyl, or halocyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfonyl
  • the herbicide according to any one of (1) to (3), which may have one or more substituents.
  • Q 1 is a hydrogen atom, a halogen thickener, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group, a (Ci-C 10 ) alkyl group, a halo (Ci-C 6 ) alkyl group, a (Ci-C 6 ) alkoxy (Ci-C 6 ) Alkyl group, halo (Ci Cj alkoxy (Ci Cj alkyl group, (Ji-Ji ⁇ .) Ryo alkoxy group, halo (Ji-Ji alkoxy, cyclo (c 3 to c 6) alkoxy group, Nono Roshikuro (C 3 - C 6 ) alkoxy group, (C ⁇ CJ alkoxy (c ⁇ cj alkoxy group, halo (C ⁇ Ce) alkoxy (C ⁇ CJ alkoxy group, ( ⁇ ) alkoxycarbonyl (C ⁇ Cs) alkoxy group, (amino)
  • alkoxy group the same or different and may di (Ci Cj alkylamino (C ⁇ c 3) alkoxy groups, (c 2 ⁇ c 6) alkenyl, halo (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group (C 2 -C 6 ) alkenyl group, (C 2 -C 6 ) alkyl Keniruokishi group, halo (C 2 ⁇ C 6) Arukeniruokishi group, (C 2 ⁇ C 6) Arukiniruokishi group, an amino group, a mono (C ⁇ .
  • Alkylamino group the same or different and may di (Ci Cj alkyl amino group, the same or different and may be 1 or more halo (Ci C alkyl-substituted substituted phenyl group with a group, pyrrolyl group, imidazolyl group, the same or different and may one or more (Ci to c 3) alkyl substituted substitution imidazolyl group group, may pyrazolyl group, the same or different dates, is selected from 3) alkyl or halo (Ci ⁇ C 3) alkyl group
  • alkylsulfonyl O alkoxy group phenylpropyl sulfonyl O alkoxy group
  • Q 2 is a halogen atom, a hydroxyl group, (Ci C alkyl group, a halo (Ci Cj alkyl group, cyclo (C 3 -C 6) alkyl group, Haroshikuro (C 3 -C 6) alkyl group, (. ⁇ .
  • a method for using a herbicide which comprises subjecting an effective amount of the herbicide according to any one of (1) to (5) to soil treatment, foliage treatment or flooding treatment.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a (Ci Cs) alkyl group or a halo (Ci Cj alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a (Ci-C 6 ) alkyl group or a halo (Ci Cj alkyl) Represents a group.
  • Q 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group or —— 1 ! ⁇ 3 (formula In the formula, X 1 is a single bond, —O—, —SOn— (wherein n is an integer of 0 to 2), —OSO n— (where n is the same as above), and one CO— , One C0 2 _, one OC0 2 — or one OC (O)
  • R 3 is a (Ci Cio) alkyl group, a halo (CCo) alkyl group, a cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, a halocyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, (. ⁇ ⁇ Alkoxy
  • alkyl group halo (Ci Ce) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, halocycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, (C 2 -C 6) alkenyl group, halo (Ci Ce) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, halocycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, (C 2 -C 6) alkenyl group, halo (Ci Ce) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, halocycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, (C 2 -C 6) alkenyl group, halo (Ci Ce) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group, halocycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl group,
  • 3- to 6- substituted alkylsulfonyl groups mono (di- to di- 6 ) alkylamino groups or di (CiCj alkylamino groups) which may be the same or different, having at least one substituent on the ring
  • Alkylamino cyano group or identical Wakashi Ku is substituted ⁇ rie having 1 or more substituents selected from differently good di (Ci ⁇ C 6) alkylamino cyano group Alkyl group, aryl (CiC alkyl group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, (CiCj alkyl group, nodro (CiCj alkyl group, cyclo (C 3 ⁇ C e) alkyl group, halo consequent b (C 3 ⁇ (6) alkyl group, (C 2 -C 6) alkenyl group, Nono b (C 2
  • ⁇ . ⁇ Alkylcarbonyl One or more substituents selected from an alkoxy group, a (Ci Cj alkoxy group, a halo (. To ⁇ ⁇ alkoxy group, a cyclo (C 3 -C 6 ) alkoxy group or a halocyclo (C 3 -C 6 ) alkoxy group)
  • Q 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or —X 2 R 4 (wherein X 2 is a single bond, one O—, -SOn- (where n is the same as above), -OSOn- (formula Where n is the same as above.), One CO—, _co 2 _, _oco 2 — or one OC (O) —
  • R 4 is ⁇ ) alkyl group, halo (( ⁇ - Ji) alkyl, cyclo (C 3 -C 6) alkyl group, halo (C 3 -C 6) cycloalkyl group, (C Cj alkoxy ( ⁇ . 6) alkyl group, ⁇ b ( ⁇ ) alkoxy (C ⁇ C alkyl group, ( ⁇ Ji Arukirushiku port (C 3 -C 6) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl (C ⁇ CJ-alkyl group, (( ⁇ ⁇ (: Alkoxycarbonyl alkyl group, (C ⁇ CJ alkylthio (C ⁇ CJ alkyl group, (C! ⁇ C 4 ) alkylsulfiel (Ci ⁇ C
  • alkyl group (c 1 to c 4) alkylsulfonyl ( ⁇ ) alkyl group, (c 2 to c beta) alkenyl, halo (c 2 to c 6) alkenyl group, human Dorokishi (c 2 to c 6) an alkenyl group, human Dorokishiha port (c 2 ⁇ c 6) alkenyl, phenyl (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group, (c 2 ⁇ c 6) alkynyl, halo (c 2 ⁇ c 6) alkynyl group, Ami amino group, mono (Ci ⁇ C 6) alkylamino amino group, monohalo (Ci ⁇ C 6) alkylamino group, the same or different and may di (Ci ⁇ C 6) alkylamino group, the same or different and may dihalo ( Ci Cj alkylamino group, phenylamino group, which may be the same or different, halogen atom, cyan
  • alkyl Sulfonyl group cyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfonyl group, nodrocyclo (c 3 -c 6 ) alkylsulfonyl group, mono (Ci Cj alkylamino group or di (Ci-C 6 6 ) a substituted phenylamino group having at least one substituent selected from an alkylamino group on the ring, an aryl group, which may be the same or different, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an amino group, an SH group, (Ci Cj A Kill group, halo (C ⁇ CJ alkyl group, consequent b (C 3 -C 6) alkyl group, Nono Roshiku b (c 3 to c 6) alkyl group, (c 2 to c 6) Aruke - Honoré groups, halo ( c 2 to c 6) alken
  • alkyl sulfide El group a halo (Ci Ce) ⁇ Roh gravel Rusuru sulfinyl group, consequent Russia (C 3 to C 6 ) alkylsulfuryl groups, chlorocyclo (C 3 to C 6 ) alkynolenorefinyl groups, E - group, Nono b (c 1 ⁇ c 6) ⁇ Honoré keno less Honoré E group, cyclo (c 3 ⁇ c 6) ⁇ Rukirusuruho - group, Haroshikuro (c 3 ⁇ c 6) alkylsulfonyl group, model No (Ci Cj alkylamino group or diamine which may be the same or different
  • a substituted aryl having at least one substituent selected from an alkylamino group on the ring (the same as above).
  • An alkyl group, a heterocyclic group (the heterocyclic ring is the same as described above), and may be the same or different.
  • halogen atom Shiano group, a nitro group, (Ci Cj alkyl group, halo (C ⁇ Arukinore group, cyclo (C 3 ⁇ C 6) alkyl group, Haroshikuro (C 3 ⁇ C 6) Al kill group, ⁇ alkylcarbonyl O
  • a substituted heterocyclic ring having one or more substituents selected from an alkoxy group on the ring (Ci Cj alkyl group (the heterocyclic ring is the same as described above)); .
  • A is A1
  • Q 1 is —OR 3 (where R 3 is the same as (7))
  • Q 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or _X 2 R 4 (wherein X 2 is the same as in (7), and R 4 is (C to J.) alkyl, halo (Ci-CJ alkyl, cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl, (C ⁇ CJ alkoxy (Ci Cj alkyl) groups, halo (Ci ⁇ C 6) an alkoxy 6) alkyl group, (Ci Cj alkyl cyclo (C 3 -C 6) alkyl, cycloalkyl (C 3 -C 6) alkyl (Ci Cj alkyl group, (Ci C alkoxy Cal Boniru (Ci C alkyl group, (Ci Cj alkylthio (Ci Cj alkyl group, ⁇ Ji alkyl sul
  • a substituted phenylamino group which may be the same or different, and having a fluorine-containing (C CJ alkyl group, a fluorine-containing (( ⁇ to ( 6 ) alkoxy group or a fluorine-containing (Ci Cj alkylthio group selected from one or more substituents) substituent Ariru group having a group, multi heterocyclic group (heterocyclic ring is as defined (7).), which may be identical or different, a halogen atom, Shiano group, a nitro group, (Ci ⁇ C 6) alkyl group, Nono b (Ci ⁇ C 6) alkyl group, (Ci ⁇ C 6) ⁇ Alkylcarbonyl group, (C Ce) alkoxy group or halo (a substituted heterocyclic group having one or more substituents selected from ( ⁇ -dialkoxy groups (heterocycles are the same as described above).) ,
  • R 4 represents an amino group, a mono (Ci Cj alkylamino group or a monohalo (Ci Cj alkylamino group is excluded).
  • R 4 excludes an alkyl group of (( ⁇ to j)).
  • A is A 1 and Q 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group or one X 1 ! ⁇ 3 (wherein, X 1 is a single bond, -SOn- (wherein , n is an integer of 0 to 2), in -OS On- (wherein, n is as defined above), -CO-, one C0 2 -.., one OC0 2 - or one OC (O) - and R 3 is the same as (7).)
  • Q 2 may be the same or different, and is a substituted aryl group having at least one substituent selected from a fluorinated (Ci Cj alkyl group, a fluorinated (Ci-Ce) alkoxy group or a fluorinated (di-to-alkylthio group)
  • Q 1 is a (C ⁇ CJ alkyl group (X 1 is a single bond and R 3 is (C i C j alkyl group))
  • Q 2 is substituted by at least one fluorine-containing alkyl group. Excluding substituted aryloxy groups.
  • A is A 1
  • Q 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxy group, a (Ci C ⁇ ) alkyl group, a halo (Ci-C 6 ) alkyl group, a (Ci-C 6) ⁇ alkoxy (Ji-Ji alkyl group, halo (Ji ⁇ Ji ⁇ alkoxy (Ji-Ji ⁇ Al kill group, (Ci ⁇ C 10) alkoxy group, halo (Ci ⁇ C 6) alkoxy, cyclo (C 3 -C 6) alkoxy group, Haroshikuro (C 3 -C 6) alkoxy groups, (Ci ⁇ C 6) an alkoxy (C ⁇ ) alkoxy groups, halo ( ⁇ Ji alkoxy ( ⁇ ) an alkoxy group, (Ci Ca) alkoxycarbonyl (C ⁇ CJ alkoxy group, (Amino) hydrate proxy
  • alkylthio ( ⁇ ) an alkoxy group (Ci ⁇ C 6) alkyl sulphates enyl ( (Ci-C 6 ) alkoxy group, (Ci-C 6 ) alkylsulfonyl (Ci C alkoxy group, same or different Obviously better di (Ci ⁇ C 3) be Arukiruamino (Ci ⁇ C 3) alkoxy groups, (C 2 ⁇ C 6) alkenyl group, halo (C 2 ⁇ C 6) alkenyl group, human Dorokishiha port (C 2 -C 6 ) alkenyl group, (C 2 -C 6 ) alkoxy group, halo (C 2 -C 6 ) alkenyloxy group, (C 2 -C 6 ) alkynyloxy group, amino group, mono (di- Dialkylamino group, which may be the same or different di (CiCj alkylamino group, one or more halo which may be
  • alkylsulfonyl group which may be the same or different, halogen atom, cyano group, (Ci-C 3 ) alkyl group, halo (Ci Cj alkyl group, ((:-Alkoxy group, halo (C CJ alkoxy group or halo (C-substituted phenyl group having one or more substituents selected from alkylthio groups, which may be the same or different, A substituted pyrazolyl group having at least one substituent selected from a halogen atom, a (Ci Ca) alkyl group or a halo (Ci Cj alkyl group), a furyl group, and one or more (di-to-alkyl groups) which may be the same or different; A substituted phenyl group, which may be the same or different, a substituted pyridyl group, which may be substituted with one or more halogen atoms, or a same or different,
  • A is A2
  • Q 1 is -OR 3 (where R 3 is the same as in (7))
  • Q 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or _X 2 R 4 (wherein X 2 Is a single bond, —O—, —SOn— (where n is an integer of 0 to 2), —OSOn— (where n is the same as above), one C 0 2 _, one OC0 2 _ or one OC (O) represents one, and R 4 represents a (.
  • alkyl group a halo (d ⁇ Co) alkyl group, a cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, or a (Ci Cj alkoxy) (To) alkyl group, haloalkoxy (C ⁇ CJ alkynole group, (.-dialkylcyclo (C 3 -C 6 ) alkyl group, cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl (C ⁇ CJ alkyl group, ( C ⁇ CJ alkoxycarbonyl ( ⁇ ) alkyl group, (C CJ alkylthio (C CJ alkyl group, (C Cj alkynolenorrebinol (Ci-C 4 ) alkyl group, ( ⁇ ) alkylsulfol (Ci-C 4) alkyl group, (c 2 to c 6) alkenyl, halo (c 2 to c 6) Aruke - group, human de proxy
  • alkynyl group amino group, mono (Ci Ce) alkylamino group, mono (CiC alkylamino group, di- or di-halo which may be the same or different) (CiC alkylamino group, phenylamino group, which may be the same or different, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, amino group, SH group, alkyl group, halo ( ⁇ Cj alkyl group, cyclo ( C 3 -C 6) alkyl group, Haroshikuro (C 3 ⁇ C 6) alkyl groups, (C 2 ⁇ C 6) alkenyl group, Nono b (C 2 ⁇ C 6) an alkenyl group, (C 2 ⁇ C 6) Alkynyl group, halo (C 2 -C 6 ) alkyl group, (Ci-C 6 ) alkoxy group, halo (Ci Cj alkoxy group, (C ⁇ C ⁇ C ⁇
  • alkylamino Bruno A substituted phenylamino group, an aryl group having one or more substituents selected from the group on the ring, or the same or different; a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an amino group, SH group, (Ci Ce) alkyl group, Nono port (( ⁇ -.
  • ⁇ Alkynylamino) or di (dCe) alkylamino which may be the same or different
  • R 4 represents an amino group, a mono (Ci Cj alkylamino group, a monohalo (dC alkylamino group, Or a di (C Ce) alkylamino group, which may be the same or different, a dihalo (Ci-C 6 ) alkylamino group, a phenylamino group, which may be the same or different, a halogen atom, a cyano group, a nitro group , Hydroxyl Group, amino group, SH group, (Ci-C 6 ) alkyl group, halo (di-di ⁇ alkyl group, (C 2 -C 6 ) alkenyl group, mouth (C 2 -C 6 ) alkenyl group, (C 2 to C
  • A is A 2
  • Q 1 is a halogen atom, a cyano group, a carboxy group or —X 1 R 3 (wherein X 1 is a single bond, —SOn_ (where n is an integer of 0 to 2) . which are shown), in one OSO n-(wherein the same as n in the) one CO-, one C0 2 -. one OC0 2 _ or show an OC (O) one, R 3 is (7) The same as above.)
  • Q 2 may be the same or different, and a substituted aryl group having at least one substituent selected from a fluorinated (Ci to C 6 ) alkyl group, a fluorinated (Ci Cj alkoxy group or a fluorinated 6 ) alkylthio group, Fluorine-containing (d Cj alkyl group, fluorine-containing (Ci Cj alkoxy group or fluorine-containing (( ⁇ ⁇ .
  • A is A2 and Q 1 is a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, a (Ci-C 10 ) alkyl group, a halo (Ci Ce) alkyl group, a (C CJ alkoxy (Ci-C 6 ) Alkyl group, halo (C CJ alkoxy (d Cs) alkyl group, (C ⁇ Cio) anorecoxy group, halo (Ci Cj alkoxy group, cyclo (C 3 -C 6 ) anorecoxy group, halocyclo (C 3 -C 6 ) Alkoxy group, (.-dialkoxy (.-.
  • alkylamino group the same or different and may be 1 or more halo (Ci C Al killed substituted substitution phenyl group with a group, pyrrolyl group, imidazolyl group, the same or may one or more even different dates (-.
  • Q2 is a halogen atom, a hydroxyl group, (Ci Cj alkyl group, halo (Ji ⁇ . Alkyl group, a cycloalkyl (c 3 to c 6) alkyl group, Haroshikuro (c 3 to c 6) alkyl group, (( ⁇ -. ⁇ Alkoxy Group, haloalkoxy group, (( ⁇ ⁇ alkylthio group,
  • alkylsulfide el group (Ji-Ji ⁇ alkylsulfonyl group, the same or different connexion is good, a halogen atom, Shiano group, (Ci ⁇ C 3) Arukinore groups, halo (Ci ⁇ C 3) alkyl group, (Ci C alkoxy group, halo (C 1 -C 3) alkoxy or halo (C A substituted or unsubstituted group having at least one substituent selected from an alkylthio group: a halogen atom, a cyano group, a (C i C alkyl group, a halo (d C alkyl group)
  • the substituted chenobilimidine derivative according to (7) which is a substituted phenoxy group having one or more substituents selected from:
  • R 1 represents a hydrogen atom, (( ⁇ to (alkyl group or halo 6 ) alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, (Ci Cj alkyl group or halo (Ci C alkyl group. )
  • a 2
  • Y represents a halogen atom
  • Q 2a may be the same or different and is at least one substituent selected from a fluorine-containing (Ci-Cj alkyl group, a fluorine-containing (Ci-C 6 ) alkoxy group and a fluorine-containing (Ci-C 6 ) alkylthio group Having one or more substituents selected from the group consisting of a fluorine-containing (di- to ⁇ alkyl group, a fluorine-containing (CiCe) alkoxy group and a fluorine-containing (CiCalkylthio group) which may be the same or different.
  • R 3 represents a (Ci Cio) alkyl group, a halo (C ⁇ Co) alkyl group, or a cyclo (c 3 -c 6 ) alkyl groups, halo (c 3 to c 6) a cycloalkyl group, (C CJ alkoxy (Ci Cj alkyl group, halo 6) alkoxy (C ⁇ CJ-alkyl group, ( ⁇ ) Arukirushiku port (C 3 -C 6) Al kill Group, cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl (C CJ alkyl group, (-( 3 ) alkoxycarbonyl (Ci-Ca) alkyl group, (di) alkylthio-) alkyl group, (-!) Alkylsulfinyl ⁇ ) Alkyl group, (Ci-C 4 ) alkylsulfon
  • alkenyl group human Dorokishi (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group, human Dorokishiha port (c 2 ⁇ c 6) alkenyl, phenyl (c 2 ⁇ c 6) alkenyl group, (c 2 ⁇ c 6) alkynyl group, halo (C 2 -C 6) alkynyl group, an amino group, a mono (Ci Ce) Al Kiruami amino group, monohalo (( ⁇ -. ⁇ alkylamino amino group, the same or different dates be good di (Ci Cj alkyl Amino group, dihalo which may be the same or different
  • Alkyl Snorefiel group cyclo (C 3 -C 6 ) alkyl Snorefinyl group, halocyclo (C 3 -C 6 ) alkylsulfinyl group, (j-j ⁇ alkylsulfonyl group, halo (.
  • R 1 represents a hydrogen atom, (C CJ alkyl group or halo (CiC alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom, halogen atom, (Ci Cj alkyl group or halo ((-. Alkyl group. Y may be the same or different, and 2, 4 one Jiharogenochieno [2, 3-d] pyrimidine derivative represented by a halogen atom.), the formula (IV)
  • Q 2a may be the same or different, and is a fluorinated (Ci Ce) alkyl group, a fluorinated (one or more selected from a ( ⁇ to ( 6 ) alkoxy group or a fluorinated (Ci Ce) alkylthio group)
  • L represents _B (OH) 2.
  • the compound represented by the formula (1-3) is subjected to a coupling reaction.
  • R 1 represents a hydrogen atom, a (C Ce) alkyl group or a halo (Ci C alkyl group)
  • R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, (Ci Cj alkyl group or halo (d Cj alkyl group
  • R 6 represents a fluorine-containing (Ci Cj alkyl group, a fluorine-containing (Ci Cj alkoxy group or a fluorine-containing (d Ce ) Represents an alkylthio group.
  • 2-amino-3- (substituted benzoyl) thiophene derivative represented by the formula:
  • R 1 represents a hydrogen atom, (Ci Cj alkyl group or halo (Ci Cj alkyl group
  • R 2 represents a hydrogen atom, halogen atom, (C CJ alkyl group or halo (Ci Cj alkyl group. or different same or or or Ariru group, a halogen atom, Shiano group, a nitro group, (C CJ alkyl, halo 6) alkyl group, (C x
  • R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, (Ci Cj alkyl group or halo (Ci Cj alkyl group
  • R 6 represents a fluorine-containing (Ci Cj alkyl group, a fluorine-containing (d Ce) alkoxy group or a fluorine-containing
  • the substituted chenobilimidine derivative useful as a herbicide in the present invention is represented by the general formula (I), and has found use as a novel herbicide.
  • R 1 in the general formula (I) is a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group.
  • the substituent of the alkyl group is not particularly limited as long as the compound exhibits the herbicidal activity, and examples thereof include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • the alkyl group which may be substituted preferably has 1 to 6 carbon atoms, and more preferably has 1 to 4 carbon atoms.
  • alkyl group which may be substituted include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isoptyl group and the like.
  • R 2 is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; or an alkyl group which may be substituted.
  • a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom
  • an alkyl group which may be substituted examples include the same groups as those for R 1 above.
  • R 2 is preferably a hydrogen atom or a halogen atom.
  • Q 1 represents a hydrogen atom; or a group represented by one chi 1 ⁇ 3; Shiano group; a hydroxyl group; a carboxyl group! Fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a halogen atom such as iodine atom.
  • X 1 is a single bond, one O—, —SOn— (where n represents an integer of 0 to 2), and one OSOn— (Wherein n is as defined above), one CO—, one co 2 —, one oco 2 — or one OC (O) one, preferably a single bond, _o_, one S— or one so 2 — And particularly preferably 1 O—.
  • R 3 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, or an optionally substituted Good amino group, optionally substituted aryl group or substituted It is a good heterocyclic group.
  • the heterocyclic ring of the heterocyclic group include a 5- or 6-membered heterocyclic ring having one or more heteroatoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom. Examples thereof include oxysilane, oxetane, tetrahydrofuran, and furan.
  • the substituent of the above-mentioned alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, amino group, aryl group and heterocyclic group is not particularly limited as long as the compound exhibits herbicidal activity.
  • the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group preferably have 1 to 10 carbon atoms, more preferably have 1 to 6 carbon atoms, and have the amino group, aryl group and heterocyclic group.
  • the ring group preferably has 15 or less carbon atoms, more preferably 12 or less carbon atoms, and particularly preferably 10 or less carbon atoms.
  • R 3 is preferably a halogen atom, an alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, an alkyl group which may be substituted, an aryl group which may be substituted. Or a substituted or hetero-substituted group.
  • R 3 examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a bispentyl group, a hexyl group, (C i C) alkyl groups such as isohexyl, heptyl, octyl, nonyl, and decyl;
  • Cycle (C 3 -C 6 ) alkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl;
  • (2,2,2-Trifluoroethoxy) methyl group 2- (2,2,2-Trifluoroenoethoxy) ethyl group, 3- (2,2,2-Trifluoroethoxy) propyl group, 4 — (2,2,2-Trifluoroethoxy) butyl group, 5- (2,2,2-Trifluoroethoxy) pentinole group, 6- (2,2,2-Triethoxynorethoxy) hexyl group, 1-methyl-2- (2,2,2-trifluoroethoxy) ethyl group, (trifluoromethyl) ethyl group,
  • Cyclo (C 3) such as cyclopropylmethyl, 2_ (cyclopropyl) ethyl, 3- (cyclopropyl) propyl, 4- (cyclopropyl) butyl, cyclobutylmethyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, etc. ⁇ C 6 ) alkyl
  • Methylthiomethyl group ethylthiomethyl group, propylthiomethyl group, butylthiomethyl group, 1- (methylthio) ethyl group, 2- (methylthio) ethyl group, 3- (methinorethio) propyl group, 4- (methylthio) butyl group, etc. (Ci Cj alkylthio (Ci-C 4 ) alkyl group;
  • Methylsulfinylmethyl group ethinolesulfinylmethyl group, propylsulfinylmethyl group, butylsulfinylmethynole group, 1- (methylsulfenyl) ethyl group, 2- (methylsulfinyl) ethyl group, 31- (methylsulfinyl) propyl group, Four- (C ⁇ cj alkylsulfoninole (-) alkyl group such as (methylsulfinyl) butyl group;
  • C 2- (: 6 ) alkenyl groups such as 2-methyl_2-butenyl group, 3-methyl_2-butenyl group, 4-pentenyl group, and 5-hexeninole group;
  • C- (C 2 -C 6 ) alkenyl groups such as 2-chloroaryl group, 3_chloroaryl group, 4-chloro-2-1-2puturyl group;
  • (C 2 -C e ) alkynyl groups such as ethynyl group, propargyl group, monomethylpropargyl group, 2-pentynyl group, 3-pentyl group, 4-pentyl group and 5-hexyl group;
  • Halo (C 2 -C 6 ) alkynyl groups such as 3-chloroprononoregyl group, 4 mono-l-butininole group, 5_chloro-3_pentynyl group;
  • Phenyl group 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group,
  • Amino group methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, getylamino group, methylethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, butylamino group, phenylamino group, 2-methylphenylamino group, 3-methylphenyl Amino, 4-methylphenylamino, 2-fluorophenylamino, 3-fluorophenylamino, 4-fluorophenylamino, 2- (trifluoromethyl) phenylamino, 3- ( Trifluoroamino) phenylamino, 4- (trifluoromethyl) phenylamino, 2 _ (trifluoromethoxy) phenylamino, 3- (Fluorometoxy) phenylinamino, 4- (trifluoromethyl) phenylamino, 2-chlorophenylamino, 3-chlorophenylamino, 4-chloropheny
  • Q 1 is preferably a case where Q 1 is a group represented by OR 3 , and preferred specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a tert-butoxy group, (C Ce) alkoxy groups such as pentyloxy and hexyloxy groups;
  • Cyclo (C 3 -C 6 ) alkoxy groups such as cyclopropoxy, cycloptoxy, cyclopentynoleoxy, cyclohexyloxy;
  • Halo (C 2 -C 4 ) alkenyloxy groups such as 2-chloroallyloxy group, 3_chloroallyloxy group, and 4-chloro-2-hydroxyl group;
  • (C 2 -C 4 ) alkynyloxy groups such as ethynyloxy group, propargyloxy group, ⁇ -methylpropargyloxy group, 2-butynyloxy group and 3-butyl-loxy group;
  • Halo such as 3-cyclopropargyloxy group and 4-chloro-2-pentynyloxy group
  • a heterocyclic oxy group such as an oxy group, an 11-imidazolyloxy group, and a phenoxy group or a benzyloxy group (the heterocyclic oxy group, the phenoxy group, and the benzyloxy group are a halogen atom, a Ci to C 3 alkyl group, a C 3 to C 6 cycloalkyl group, C ⁇ C 2 haloalkyl groups and C ⁇ C 3 alkoxy substituents selected from the group consisting of groups may be substituted.), and the like, more preferably (C Cs) alkoxy Or a haloalkoxy group.
  • Q 2 is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; a hydroxyl group; or a group represented by X 2 R 4 .
  • X 2 includes the same group as X 1 described above, and R 4 includes the same group as R 3 described above.
  • Q 2 is preferably
  • Alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio, isoptylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, pentylthio, isopentylthio, hexylthio, etc., and methylsulfinyl Group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, isobutylsulfinyl group, sec-butylsulfinyl group, tert -Alkylsulfinyl group such as butylsulfonyl group, pentylsulfininole group, isopentylsulfininole group, hexylsulfinyl group or methylsulfonyl group,
  • 1,2-methyl-1,2,2,2-trifluoroethyl, 2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl, 1,1-methyl-1,2,3 Fluorine-containing alkyl groups such as, 3,3-pentafluoropropyl group, fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2-fluoroethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2 2_Trifluoroethoxy, 3-fluoropropoxy, 3,3,3-Trifluoropropoxy, 2,2,3,3-Tetrafluoropropoxy, 2,2,3 1,3,3-pentafluoropropoxy group, 1-methyl-1,2,2,2-trifluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoro-11- (trifluoromethyl) ethoxy group, 1-methyl-2 Fluorine-containing alkoxy groups such as 2,2,3,3,3-pentafluoropropoxy group Difluoromethylthio, tri
  • a heterocyclic group or a heterocyclic oxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a fluorinated alkyl group, a fluorinated alkoxy group and a fluorinated alkylthio group as described above.
  • Heterocycle, an oxygen atom exemplified above Q 1 is a 5 or 6-membered heterocyclic ring having 1 or more heteroatoms selected from oxygen, sulfur or nitrogen atoms.
  • the fluorine alkylthio group is preferably C Ce, and more preferably ⁇ C 4 .
  • Preferred specific examples of arylsulfonyl groups include 2- (fluoromethyl) phenyl, 2- (fluoromethoxy) phenyl, 2- (fluoromethylthio) phenyl, and 3- (fluoromethyl) phenyl Group, 3- (fluoromethoxy) phenyl, 3- (fluoromethylthio) phenyl, 4- (fluoromethyl) phenyl, 4- (fluoromethoxy) phenyl, 4- (fluoromethylthio) phenyl Group, 2- (difluoromethyl) phenyl group,
  • a 3- (fluoromethyl) phenyl group a 3- (fluoromethoxy) phenyl group, a 3- (phenylolemethinoretio) phenyl group, a 3- (difluoromethinole) phenyl group, and a 3- (difluoromethyl) phenyl group are preferred.
  • Toxi phenyl group, 3- (difluoromethylthio) phenyl group, 3- (trinorolemethinole) phenyl group, 3- (trifluoronoreomethoxy) phenyl group, 3- (trifluoromethylthio) ) Phenyl, 3- (2-fluoroethyl) phenyl, 3- (2-fluoroethoxy) phenyl, 3- (2-fluoroethylthio) phenyl, 3- (2,2-difluoroethyl) phenyl, 3- (2,
  • heterocyclic group or heterocyclic oxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of the above-mentioned fluorinated alkyl group, fluorinated alkoxy group and fluorinated alkylthio group is preferably substituted with these substituents. And a nitrogen-containing 5- or 6-membered ring.
  • heterocyclic group or heterocyclic oxy group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of a fluorinated alkyl group, a fluorinated alkoxy group and a fluorinated alkylthio group include:
  • the compounds represented by the general formula (I) used as the herbicide of the present invention are novel compounds, and are more preferable as herbicides.
  • the compounds described below are novel compounds, and are more preferable as herbicides.
  • R 1 and R 2 are the same as above, and when Q 1 is one OR 3 (R 3 is the same as above), Q 2 is a hydrogen atom; a fluorine atom, a chlorine atom A halogen atom such as an atom or a bromine atom; a hydroxyl group or 1 X 2 R 4 (wherein X 2 and R 4 are the same as described above).
  • R 4 represents an amino group, mono (Ci Cj alkylamino group and monohalo (excluding Ci Cj alkylamino group, and when X 2 is 10—, R 4 represents (C alkyl Excluding group.
  • A is A 1, R 1 and R 2 are the same as above, and Q 1 is a hydrogen atom; a fluorine atom, A halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a hydroxyl group or — ⁇ 1 ! ⁇ 3 , X 1 is a single bond, -SOn- (where n is the same as above), -OSOn- (where n wherein the same), one CO-, _co 2 _, one OC0 2 -. or _OC (O) -.
  • Q 2 is a fluorine-containing alkyl group, fluorine-containing alkoxy group and containing An aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an arylsulfinyl group or an arylsulfonyl group, which is at least one substituted with a substituent selected from the group consisting of a fluorine alkylthio group.
  • Q 1 represents a (C i C j alkyl group (wherein is a single bond and represents a C i C j alkyl group)
  • Q 2 is at least one-substituted by a fluorine-containing alkyl group. Excluding substituted aryloxy groups.
  • A is A2
  • R 1 and R 2 are the same as above, and when Q 1 is -OR 3 , Q 2 is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom
  • Q 2 is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom
  • X 2 is a single bond, —SOn— (where n is the same as above), —OSOn— (where n is the same as above), one CO_, _C0 2 -, - OC0 2 - or _OC (O) Ri Ah
  • R 4 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, it may also be substituted, an alkynyl group, which may be substituted A good amino group or an aryl group which may be substituted.
  • R 4 excludes an optionally substituted amino group and an optionally substituted alkyl group.
  • A is A 2
  • R 1 and R 2 are the same as above, and Q 1 is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom; a hydroxyl group or —X 1 ! ⁇ 3 ; 1 is a single bond, 1 SOn—
  • Q 2 is at least one substituted with a substituent selected from the group consisting of a fluorine-containing alkyl group, a fluorine-containing alkoxy group, and a fluorine-containing alkylthio group, and is preferably an aryl group, an aryloxy group, A thiol group, a phenylsulfenyl group or an arylsulfonyl group.
  • Q 2 represents an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an arylsulfinyl group, which is at least one substituted with a substituent selected from the group consisting of a fluorine-containing alkyl group, a fluorine-containing alkoxy group and a fluorine-containing alkylthio group.
  • a substituent selected from the group consisting of a fluorine-containing alkyl group, a fluorine-containing alkoxy group and a fluorine-containing alkylthio group.
  • an arylsulfonyl group is preferred.
  • a compound in which A is A 1 and Q 1 is a halogen atom or a hydroxyl group itself has herbicidal activity, but is an intermediate in synthesizing another compound used as a herbicide of the present invention. Is also useful.
  • the compound represented by the general formula (I) may be a known method, a method based thereon, or The compound can be arbitrarily prepared by combining these methods, and particularly, the novel compound is preferably prepared by the following methods 1 to 8. Manufacturing method 1
  • R 7 represents a methyl group, an ethyl group or a propyl group
  • R 8 represents an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group. Represents a group, an acyl group, or an optionally substituted canolebamoyl group
  • ha 1 represents a halogen atom.
  • Step 11 is a step of reacting an ester derivative represented by the general formula (VIII) with acetonitrile to produce an acylacytonitrile derivative represented by the general formula (IX).
  • 3-((trifluoromethoxy) ethyl benzoate is a novel compound, and among the acylacetonitrile derivatives represented by the general formula (IX), the following general formula (VII)
  • R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an optionally substituted alkyl group
  • R 6 represents a fluorinated alkyl group, a fluorinated alkoxy group or a fluorinated alkylthio group, provided that R 6 is In the case of a fluorine-containing alkyl group, R 5 is not a hydrogen atom.
  • the substituted benzoylacetonitrile derivative represented by the formula is a novel compound.
  • the reaction in this step is preferably performed in the presence of a base from the viewpoint of yield.
  • a base examples include sodium hydride, potassium hydrogen hydride, lithium amide, sodium amide, and lithium diamide.
  • Alkali metal bases such as isopropylamide (LDA), n-butyllithium, sec-butyllithium, butyllithium, lithiumhexamethyldisilazide, and potassium-t-butoxide can be used.
  • LDA isopropylamide
  • n-butyllithium, sec-butyllithium, butyllithium, lithiumhexamethyldisilazide, and potassium-t-butoxide can be used.
  • the target product can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base relative to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include nitrile solvents such as acetonitrile; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, disopropyl, and the like.
  • Ether-based solvents such as ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), and 1,4-dioxane; liquid ammonia; or solvents that do not harm the reaction, such as mixed solvents, must be used.
  • THF tetrahydrofuran
  • DME dimethoxyethane
  • 1,4-dioxane liquid ammonia
  • solvents that do not harm the reaction such as mixed solvents, must be used.
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of -78 to the solvent reflux temperature to obtain the desired product in good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step_2 is a reaction of an acylacetonitrinole derivative represented by the general formula (IX), a compound represented by the general formula (X) and sulfur, and a 2-aminothiophene represented by the general formula (XI) This is a step of producing a derivative.
  • the 2-aminothiophene derivatives represented by the general formula (IX) the following general formula (V)
  • the 2-amino-3- (substituted benzoyl) thiophene derivative represented by is a novel compound.
  • This step can be performed according to the method described in J. Med. Chera. 1973, Vol. 16, page 214, and is preferably performed in the presence of a base from the viewpoint of yield.
  • bases include triethylamine, diisopropylethylamine, triptylamine, N-methylmorpholine, N, N-dimethinoreadiline (DMA), N, N-getylalanine, 4-t-butylethyl N, N— Dimethylylaniline, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine (DMAP), picoline, norethidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] indene 5-Dene (DBU), 1,4- Organic bases such as diazabicyclo [2.2.2] octane (DAB CO) and imidazole, sodium hydride, potassium hydride, lithium amide, sodium amide, lithium isopropyl amide (LDA), butyllithium, t-butyllith
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include amide solvents such as N, N-dimethinoleformamide (DMF), N, N-dimethylacetoamide (DMAC), and N-methinolepyrrolidone (NMP): benzene, toluene, xylene, and benzene Aromatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, octane, etc .; Getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxetane (DME), 1,4-dioxane, etc.
  • Ether solvents such as dimethylsulfoxide (DMSO), methanol, ethanol, isopropanol (IPA) and the like; or solvents that do not harm the reaction such as a mixed solvent thereof can be used. .
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of from 0 to the solvent reflux temperature to obtain the desired product with good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • step 3 the 2-aminothiophene derivative represented by the general formula (XI) is reacted with a urea to form a 2-hydroxythieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XII). This is the manufacturing process.
  • This step can be performed according to the method described in Chem. Pharm. Bull., 1980, Vol. 28, page 3172.
  • Solvents include amide solvents such as ⁇ , ⁇ -dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP); acetonitrile, propionitrile Acetonitrile solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, and the like.
  • amide solvents such as ⁇ , ⁇ -dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP); acetonitrile, propionitrile Acetonitrile solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene
  • aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane,
  • Ether solvents such as tetrahydrofuran (THF), dimethoxetane (DME) and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO), methanol, ethanol Any solvent that does not harm the reaction can be used, such as alcoholic solvents such as toluene and isopropanol (IPA); or mixed solvents thereof.
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of room temperature to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step_4 comprises halogenating the hydroxy group of the 2-hydroxythieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XII) using a halogenating agent, and formulating the compound represented by the general formula (1-4). This is a step of producing a thieno [2,3_d] pyrimidine derivative to be used.
  • This step can also be performed according to the method described in Chem. Pharm. Bull., 1980, Vol. 28, p. That is, as the halogenating agent used in this step, it is possible to use a halogenating agent such as sulfuryl chloride, thioyrc chloride, oxychloride phosphorus, phosgene, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus tribromide and the like. it can.
  • a halogenating agent such as sulfuryl chloride, thioyrc chloride, oxychloride phosphorus, phosgene, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus tribromide and the like. it can.
  • alkylamines such as triethylamine, disopropylethylamine, and triptylamine, ⁇ , ⁇ -dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylaniline, N, N—
  • DMF ⁇ , ⁇ -dimethylformamide
  • the amount used is about 0.1 to 2 equivalents to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • a solvent water; aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene and the like; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, tetrachlorocarbon and the like; or mixed solvents thereof can be used. .
  • the target product can be obtained in good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 120 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step-1 is represented by a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-4) and a general formula (II) (wherein, R 3 and X 1 are the same as described above).
  • This is a step of producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (I-15) by reacting with a compound represented by the general formula (I-15).
  • the reaction in this step is preferably performed in the presence of a base from the viewpoint of yield.
  • bases include sodium hydrogen sodium, potassium hydride, lithium amide, sodium amide, lithium diisopropylamide (LDA), n-butyl lithium, sec-butyl lithium, butyl lithium, and trimethinoresilinorelithium.
  • Lithium hexamethyldisilazide sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, alkali metal bases such as potassium t-butoxide, triethylamine, disopropyl Ethiluamine, triptyluamine, N-methylmorpholine, N, N-dimethinorea diline (DMA), N, N_ dimethylylurine, 4-t-butyl-N, N-dimethylaniline, pyridine, 4- (dimethylamino ) Pyridine (DMAP), picoline, lutidine, 1, 5 Jiazabishikuro [5.4.0] Undeku 5- E emissions (DBU) ⁇ 1, 4- Jiazabishikuro [2.2.2] octane (DABCO), it can be used organic bases such as imidazole.
  • the target compound can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base relative to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and N_methylpyrrolidone (NMP); acetonitrile, propionitrile Solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, and tert.
  • amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and N_methylpyrrolidone (NMP)
  • acetonitrile, propionitrile Solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene
  • Ether solvents such as trahydrofuran (THF), dimethoxetane (DME) and 1,4-dioxane; alcohol solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), methanol, ethanol and isopropanol (IPA); or these Any solvent which does not harm the reaction, such as a mixed solvent of the above, can be used.
  • THF trahydrofuran
  • DME dimethoxetane
  • IPA isopropanol
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of -78 ° C to the reflux temperature of the solvent to obtain the desired product in good yield.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step _6 comprises thieno [2,3-d] pyrimidine derivatives represented by the general formula (1-5), wherein X 1 is a compound represented by -S-, and the compound represented by the general formula (1-5) This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by 6).
  • This step can be carried out by using an oxidizing agent.
  • the oxidizing agent to be used include oxidizing agents such as m-mouth perbenzoic acid, aqueous hydrogen peroxide and peracetic acid.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; aromatic hydrocarbon solvents such as tonolen, benzene, and dichlorobenzene; halogenated hydrocarbon solvents such as chlorophonolem, dichloromethane, and carbon tetrachloride; acetic acid; and a mixed solvent thereof.
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of ⁇ 20 ° C. to the solvent reflux temperature to obtain the desired product in good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation.
  • step 17 the 2-hydroxythieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula ( ⁇ ) is reacted with the compound represented by the general formula (XIII), and the compound represented by the general formula (1—
  • the reaction in this step is preferably performed in the presence of a base or a trialkylammonium chloride such as trimethylamine hydrochloride.
  • Bases include triethylamine, diisopropylethylamine, triptylamine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylylaniline (DMA), N, N_Jetylaniline, 4-t-butylethyl N, N-dimethyoleaniline, pyridine , 4- (dimethylamino) pyridine (DMAP), picoline, lutidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] indene 5-ene (DBU), 1,4 diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), An organic base such as imidazole can be used.
  • the base or trialkylammonium chloride is used in an amount of 0.1 to 2.0 equivalents to the substrate, so that the desired product can be obtained in good yield.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and N_methylpyrrolidone (NMP); and solvents such as acetonitrile and propionitrile.
  • Nitrile solvents aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydro
  • solvents such as furan (THF), dimethoxetane (DME), ether solvents such as 1,4-dioxane; dimethylsulfoxide (DMSO); be able to.
  • the target product can be obtained in good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of -78 ° C to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • After completion of the reaction it can be isolated by a conventional method, and if necessary, can be purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or the like. Manufacturing method 1 2
  • step 8 the acylacetonitrile derivative represented by the general formula (IX) is reacted with 2,5-dihydroxy-1,4-dithiane represented by the formula (XIV) to obtain a compound represented by the general formula (XV)
  • step 8 This is a process for producing a 2-aminothiophene derivative represented by the following formula.
  • Bases include: triethylamine, diisopropylethylamine, triptylamine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylaniline (DMA), N, N_Jetylaniline, 4-t-butyl-N, N— Dimethylaniline, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine (DMAP), picoline, noretidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] pentadec-5-ene (DBU), 1,4 diazabicyclo [2.
  • octane DABCO
  • organic bases such as imidazole, sodium hydride, potassium hydride, lithium amide, sodium muamide, lithium diisopropylamide (LDA), butyllithium, t-butyllithium, trimethylinoresili Norelithium, lithium hexamethyldisilazide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-oxide, etc.
  • the alkali metal base or the like can and Mochiiruko.
  • the target can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base relative to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and N-methylpyrrolidone (NMP); acetonitrile, propio-tolyl Solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, and Ether solvents such as trahydrofuran (THF), dimethoxetane (DME), and 1,4-dioxane: dimethyl sulfoxide (DMSO); methanol, ethanol, iso- An alcohol solvent such as propanol (IPA); or a solvent that does not harm the reaction such as a mixed solvent thereof can
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of from 0 to the solvent reflux temperature to obtain the desired product with good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • X 3 represents a single bond, 10- or 1S—
  • R 9 represents an optionally substituted amino group, Represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted aryl group.
  • step 9 the aminothiophene derivative represented by the general formula (XI) and the haloacetonitrile represented by the general formula (XVI) are reacted in the presence of a Lewis acid such as aluminum salt to form a compound represented by the general formula (1—
  • a Lewis acid such as aluminum salt
  • This step can be performed according to the method described in J. Med. Chem., 1996, Vol. 39, No. 16, page 5176.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • a solvent water; an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene and dichlorobenzene; a hydrogenated solvent such as chloroform, dichloromethane and carbon tetrachloride; and a mixed solvent thereof.
  • an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene and dichlorobenzene
  • a hydrogenated solvent such as chloroform, dichloromethane and carbon tetrachloride
  • a mixed solvent thereof can be.
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of from 0 to the solvent reflux temperature to obtain the desired product with good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount. It can be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step-10 is a reaction of the thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-8) with the compound represented by the general formula (XVII) in the same manner as in the step 15 described above.
  • Step 1-11 comprises reacting an aminothiophene derivative represented by the general formula (XI) with glyoxylic acid and ammonium acetate to form a thieno [2] represented by the general formula (1-10) , 3-d] pyrimidinecarboxylic acid derivative.
  • This step can be performed according to the method described in Tetrahedron, 1993, Vol. 49, No. 31, p. 6899.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC) and N-methylpyrrolidone (NMP); nitriles such as acetonitrile and propionitrile Alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, and isopropanol; ether solvents such as getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxetane (DME), and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO); or any solvent which does not harm the reaction, such as a mixed solvent thereof, can be used.
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step — 12 is to produce an acid chloride from a thieno [2,3-d] pyrimidinecarboxylic acid derivative (1-10) using thioyrc-mouth chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentachloride, oxalyl chloride, etc.
  • This is a step of producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-11) by reacting with a compound represented by the general formula (XVII).
  • the step of producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-1-1) using an acid halide as a raw material is preferably performed in the presence of a base.
  • Bases include triethylamine, disopropylethylamine, triptylamine, N-methylinoleforin, N, N-dimethylaniline (DMA), N, N-Jetylaniline, 41 t Chinole _N, N-Dimethyl ⁇ / aniline, pyridine, 4- (dimethinoleamino) pyridine (DMAP), picoline, noretidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] pentane 5-ene
  • Organic bases such as (DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) and imidazole can be used.
  • the target product can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base with respect to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC) and N-methylpyrrolidone (Picture P); and amide solvents such as acetonitrile and propionitrile.
  • Tolyl solvents aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, tetra Use ether solvents such as hydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO); or a mixture of these solvents as long as they do not harm the reaction. be able to.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene
  • aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane
  • Use ether solvents such as hydrofuran (THF), dimethoxyethan
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of the solvent reflux temperature from -78 to give the desired product in good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • Step-13 is a thieno [2,3-d represented by the general formula (1-4)
  • a pyrimidine derivative is reacted with a tin hydride compound represented by the general formula (XVIII) to produce a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative (1-12).
  • the solvent examples include water; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), methoxetane (DME), and 1,4-dioxane; Halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride and the like; or solvents such as a mixed solvent thereof which do not harm the reaction can be used.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene
  • ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), methoxetane (DME), and 1,4-dioxane
  • Halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride and the like
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. Manufacturing method 5
  • Step-14 is a step of decarboxylating the thieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-10) to obtain the thieno [2,3-d] represented by the general formula (1-13) This is a step of producing a pyrimidine derivative.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC) and N-methylpyrrolidone (NMP); and solvents such as acetonitrile and propionitrile.
  • Nitrile solvents aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydro Ether solvents such as furan (THF), dimethoxyethane (DME), and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO): or a solvent that does not hinder the reaction, such as a mixed solvent of these solvents can do.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene
  • aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane
  • getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydro Ether solvents such as furan (THF), dimethoxye
  • the reaction is carried out at a temperature appropriately selected from the range of room temperature to the reflux temperature of the solvent to obtain a yield.
  • the desired product can be obtained efficiently.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • step 15 the thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-13) is reacted with an oxidizing agent to oxidize the 1- and Z- or 3-position nitrogen atoms.
  • This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-14) by reacting rilocyanide.
  • This step can be performed according to the method described in Synthesis, 1984, page 681.
  • the oxidizing agent used in this step include m-chloroperbenzoic acid and peracetic acid.
  • the amount of the acid reagent can be appropriately selected and used within the range of equimolar to 5 times mol.
  • This oxidation reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • a solvent water; an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, benzene, and dichlorobenzene; a halogenated hydrocarbon solvent such as chloroform, dichloromethane, and carbon tetrachloride; or a mixed solvent thereof can be used. It can.
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • Bases include triethylamine, disopropylethylamine, triptylamine, N-methyloremorpholine, N, N-dimethylaniline (DMA), N, N-getinoleadiline, 4-t-butyl-1N, N —Dimethylaniline, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC) and N_methylpyrrolidone (NMP); nitriles such as acetonitrile and propionitrile Aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and black benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, disopropyl ether, Ether solvents such as trahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO); or a solvent that does not harm the reaction, such as a mixed solvent thereof If you can use it.
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • R 11 represents an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted Ariru group
  • R 12 Represents an alkynole group.
  • Step 16 is a step of acylating the aminothiophene derivative represented by the general formula (XIX) using an acid halide represented by the general formula (XX) to obtain a thiophene derivative represented by the general formula (XXI). This is the manufacturing process.
  • Bases include triethylamine, diisopropylethylamine, tryptinoleamine, N-methylmorpholine,, N-dimethylaniline (DMA), N, N-getylaniline, 4-t-butylethyl N, N-dimethyl Tylaniline, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine (DMAP), picoline, lutidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] indene-5-ene (DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.2. 2]
  • Organic bases such as octane (DABCO) and imidazole can be used.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amides such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), and N-methylpyrrolidone (NMP) -Tolyl solvents such as acetonitrile and propionitrile; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; Ether solvents such as getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO); ethers such as ethyl acetate and methyl acetate Solvents: halogenated hydrocarbon solvents such as
  • the target product can be obtained in good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of -78 ° C to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step 17 is a step of producing a 4-hydroxythieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXII) by cyclizing a thiophene derivative represented by the general formula (XXI). It is.
  • This step is preferably performed in the presence of a base.
  • the base include alkali metal bases such as sodium hydride, sodium hydride, sodium hydroxide, sodium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium-t-butoxide, triethylamine, diisopropylethylamine. , Triptyluamine, N-methylmorpholine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0] indene 5-Dene (DBU), 1,4-diazabicik mouth [2.2.2] octane (DABCO), imidazole Etc. can be used.
  • the target compound can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base relative to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC) and N-methylpyrrolidone (NMP); nitriles such as acetonitrile and propionitrile Aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, disopropyl ether, Ether solvents such as trahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME) and 1,4-dioxane; dimethyl sulfoxide (DMSO); alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol (IPA); Or for the reaction of these mixed solvents Any solvent that does not cause harm can be
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step — 18 is carried out by halogenating a 4-hydroxythieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXII) in the same manner as in Step 14, to obtain a compound represented by the general formula (I-11)
  • This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by 5).
  • Step 19 is carried out by reacting a thieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-15) with a mercaptan represented by the general formula (XXIII), followed by oxidation.
  • This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-16).
  • the reaction in the reaction with the mercaptans represented by the general formula (XXIII), the reaction can proceed with good yield by using a base.
  • the base include alkali metal bases such as sodium hydride, hydrogenation power, sodium hydroxide, hydroxylation power, sodium carbonate, potassium carbonate, and organic bases such as triethylamine, diisopropylethylamine, and triptylamine.
  • the target compound can be obtained in good yield by using 0.1 to 2.0 equivalents of the base with respect to the substrate.
  • the target product can be obtained in good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • an oxidizing agent such as m-chloroperbenzoic acid and peracetic acid can be used.
  • the amount of the oxidizing agent to be used can be appropriately selected and used within a range of equimolar to 5 times mol.
  • This acid reaction can also be carried out in a solvent, and any solvent which does not harm the reaction can be used.
  • a solvent water; an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, benzene, and dichlorobenzene; a halogenated hydrocarbon solvent such as chloroform, dichloromethane, and carbon tetrachloride; or a mixed solvent thereof can be used.
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • the reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, etc. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • step 20 the thieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-16) is reacted with the compound represented by the general formula (XXIV), and represented by the general formula (1_1 7) This is a process for producing a cheno [2,3-d] pyrimidine derivative.
  • This step is preferably performed in the presence of a base.
  • the base include sodium hydride, hydrogenation power, sodium carbonate, carbonation power, sodium hydroxide, hydroxylation power, sodium methoxide, sodium methoxide, potassium tert-oxide and the like.
  • Metal base triethylamine, diisopropylethylamine, triptylamine, N-methylmorpholine, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine (DMAP), picoline, noretidine, 1,5-diazabicyclo [5.4.0]
  • Organic bases such as dendec-5-ene (DBU), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) and imidazole can be used.
  • the target compound can be obtained in good yield by using the base in an amount of from 0 :! to 2.0 equivalents to the substrate.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetoamide (DMAC) and N-methylpyrrolidone (NMP); nitriles such as acetonitrile and propionitrile Aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF ), Dimethoxetane (DME), 1,4-dioxane, etc .; ether solvents; dimethyl sulfoxide (DMSO), methanol, ethanol, isopropanol (IPA), etc .; Any solvent that does not harm the reaction can be used
  • the reaction can be carried out at a temperature appropriately selected from the range of from 0 to the solvent reflux temperature to obtain the desired product with good yield.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. Manufacturing method 1 7
  • Step 21 is a step of reacting an aminothiophene derivative represented by the general formula (XXV) with potassium cyanate or sodium cyanate to produce a ureidothiophene derivative represented by the general formula (XXVI). .
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; amide solvents such as, -dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetoamide (DMAC), and N-methylpyrrolidone (NMP); nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile Solvents; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and benzene; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and octane; getyl ether, diisopropyl ether, and tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), 1,4-dioxane, etc .; ether solvents; dimethyl sulfoxide (DMSO); acetic acid; alcohol solvents, such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA);
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. It can also be used for the next reaction without isolation.
  • Step-22 is carried out from the ureidothiophene derivative represented by the general formula (XXVI) by the same operation as in the above-mentioned step 117, to give the 2,4-dihydroxythieno represented by the general formula (XXVII) [2,3- d]
  • This is a step of producing a pyrimidine derivative.
  • step 23 the 2,4-dihydroxythieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXVII) is halogenated by the same operation as in step 14 to obtain a compound represented by the general formula (III) For producing 2,4-dihalogenothieno [2,3-d] pyrimidine derivatives represented by It is.
  • Step-24 and step-26 are carried out from the halogeno thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (III) or (1-18) by the same operation as in the above-mentioned step 119 by the general formula
  • This is a process for producing a thieno [2,3_d] pyrimidine derivative represented by (XXVIII) or (1-19).
  • Step-1 25 and step-27 are carried out from the thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXVIII) or (1-19) by the same operation as in the above-mentioned step-20, by the same method as in the above-mentioned step-20.
  • This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by I-18) or (1-20).
  • Step-28 comprises a coupling reaction of a 4-halogenothieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXIX) with a boronic acid represented by the general formula (XXX), This is a process for producing a thieno [2,3-d] pyrimidine derivative represented by the formula (1-21).
  • Tetrahedron Lett., 19 "years, 40th Certificates, fifth No.1, can be carried out according to the method described in pages 9005.
  • This step can be carried out in the presence of a catalyst such as triphenylphenylphosphine palladium with a good yield, and the amount of the palladium catalyst used is 4-halogenothieno [2,3-d] represented by the general formula (XXIX).
  • a catalyst such as triphenylphenylphosphine palladium with a good yield
  • the amount of the palladium catalyst used is 4-halogenothieno [2,3-d] represented by the general formula (XXIX).
  • the pyrimidine derivative may be appropriately selected and used in the range of 0.0001 to 0.1 times the mole of the pyrimidine derivative.
  • alkali metal bases such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, triptylamine, N-methylmonorephorin, N, N-dimethylaniline (DMA), N, N-dimethylethylamine, 4-t Butynole N, N-Dimethinoreayurin, Pyridine, 4- (Dimethylamino) pyridin (DMAP), Picoline, Lutidine, 1,5-Diazabicyclo [5.4.0] Pendene 5-Dene (DBU), 1, Organic bases such as 4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DAB CO) and imidazole can be used.
  • the base is 0.1 to 2.0 relative to the substrate. By using an equivalent amount, the desired product can be obtained in good yield.
  • This reaction can be carried out in a solvent, and any solvent that does not harm the reaction can be used.
  • the solvent include water; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene; getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF), dimethoxyethane (DME), Ether solvents such as 4-dioxane; halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform; and solvents such as a mixed solvent thereof which do not hinder the reaction can be used.
  • the target product can be obtained with good yield by performing the reaction at a temperature appropriately selected from the range of 0 ° C. to the solvent reflux temperature.
  • each reactant may be used in an equimolar amount, but any one of them may be used in excess.
  • reaction product After completion of the reaction, the reaction product can be isolated by a conventional method and, if necessary, purified by recrystallization, silica gel column chromatography, or another operation. Manufacturing method— 9
  • Step-29 the aminothiophene derivative represented by the general formula (XI) is reacted with potassium cyanate or sodium cyanate. This is a step of producing a ureidothiophene derivative represented by the following formula: Where the general formula (VI)
  • R 1 and R 2 are the same as above, and W represents an aryl group which may be substituted.
  • the peridothiophene derivative represented by the formula is a novel compound.
  • step 30 the ureidothiophene derivative represented by the general formula (XXXI) Step-1
  • This is a step of producing a 2-hydroxythieno [2: 3-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XII) by the same operation as in Step 17.
  • step _31 the aminothiophene derivative represented by the general formula (XXXII) is reacted with potassium cyanate or sodium cyanate, and the same operation as in the above-mentioned step 1-21 is carried out.
  • This is a step of producing a ureidothiophene derivative represented by
  • Step-1 32 is carried out from the ureidothiophene derivative represented by the general formula (XXXIII) by the same operation as in the above-mentioned step 17 to 2,4-dihydroxythieno represented by the general formula (XXXIV) [3, 2-d] This is a step of producing a pyrimidine derivative.
  • step 1-3 the 2,4-dihydroxythieno [3,2-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (XXXIV) is halogenated by the same operation as in the step 1-4 to give the general formula (XXXV)
  • Step 34 the 2,4-dihalogenothieno [3,2-d] pyrimidine derivative (XXXV) is subjected to the same operation as in Step 28 described above, to give the 2-halogeno thieno represented by the general formula (1-22). 3, 2—d] This is a step of producing a pyrimidine derivative.
  • step-15 the 2-halogenothieno [3,2-d] pyrimidine derivative represented by the general formula (1-22) is converted into the compound represented by the general formula (1-23) by the same operation as in the step-15.
  • This is the process for producing the thieno [3,2-d] pyrimidine derivative represented. 4.
  • the compound represented by the above general formula (I) may be applied as it is, but usually, an appropriate scavenger is used, and a wettable powder, a granule, or Used in the form of preparations such as L and flowables.
  • the content of the compound represented by the above general formula (I) in the preparation varies depending on the form of the preparation, but is generally, for example, 1 to 90% by weight for a wettable powder. 0.1-30% by weight for granules, 1-50% by weight for emulsions, and 5-50% by weight for flowables are appropriate.
  • the preparation containing the compound represented by the above general formula (I) is applied as it is, or diluted with water, depending on its form.
  • scavenger used in the preparation of the preparation examples include solid carriers such as dextrin, bentonite, ternolec, diatomaceous earth, white carbon, and starch; water, alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, butanol, and ethylene glycol). ), Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone, etc.), ethers
  • a preparation containing the compound represented by the above general formula (I) When a preparation containing the compound represented by the above general formula (I) is diluted with water and applied, it is spread in a spray liquid in order to improve adhesion and spreadability, and to enhance the herbicidal effect.
  • An auxiliary agent such as an agent may be added.
  • Surfactants the above-mentioned nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, amphoteric surfactants IJ), paraffins, Examples include polyacetate bur, polyacrylate, ethylene glycol, polyethylene glycol, cup oil (mineral oil, animal and vegetable oil, etc.), and liquid fertilizer. If necessary, two or more of these scavengers may be used simultaneously.
  • the amount of adjuvant used depends on the type, but usually 0.01 to 5% by weight is added to the spray liquid. It is appropriate to add. In addition, depending on the type of scavenger, it is possible to preliminarily add soy sauce as a component in the preparation.
  • the application rate of the compound represented by the above general formula (I) varies depending on conditions such as the structure of the compound, the target weed, the treatment time, the treatment method, and the properties of the soil.
  • the effective component amount per hectare is as follows. A range of 2 to 2000 grams, preferably 5 to 1000 grams is appropriate.
  • weeds to which the herbicide of the present invention is applied in the field, for example, Shiroza, Akaza, Inutade, Hartade, Inubu, Aobu, Hakobe, Hotokenoza, Ichibi, Onamimi, Manorebaasagao, Kosenasaagao, Seiyokarashina
  • broadleaf varieties such as millet, oroshagiku and kosendangusa
  • narrowleaf weeds such as mehishiba, ohishiba, chinubi and enokorogosa.
  • broadleaf weeds such as Kikasigusa, Azena, Konagi, Apnome, Mizohakobe, Heramodaka, Taishimodaka, and Perica
  • narrow-leaf weeds such as Tainubie, Tamagayari, Firefly, and Mizugayari are listed.
  • the herbicide of the present invention can control the above-mentioned weeds in upland fields and paddy fields by any of soil treatment, foliage treatment and flooding treatment. Further, the herbicide of the present invention has little effect on cultivated crops such as corn, wheat, rye, rice, soybean and the like in both soil treatment and foliage treatment. It can be used as an agent.
  • the herbicide of the present invention can be applied in combination with other pesticides such as insecticides, fungicides, plant growth regulators, and fertilizers used in the same field. In addition, it can be mixed with other herbicides to stabilize the herbicidal effect.
  • pesticides such as insecticides, fungicides, plant growth regulators, and fertilizers used in the same field.
  • it can be mixed with other herbicides to stabilize the herbicidal effect.
  • each of the two preparations may be mixed at the time of application, but the preparation should be applied as a preparation containing both in advance. Is also good.
  • Examples of herbicides that can be suitably mixed and applied with the compound represented by the general formula (I) include the following.
  • Etinole 0 [5— [2-Chloro-41- (trifluoromethyl) phenoxy] —2-nitrobenzyl] —DL—ratate
  • Etinole 2 _ (4-black mouth _ 6-methoxypyrimidine-1 2_.
  • Methynole 2- (4,6-dimethoxypyrimidine-1-ylcarbamoylsulfamoylmethinolate) benzoate,
  • Methynole 2 [4-ethoxy 6— (methinoleamino) -1-1,3,5-triazine-1—2-inolecanoleva Moinoresnorefamoinole] benzoate
  • Triazine herbicides are Triazine herbicides:
  • Ammonia gas was blown into a four-necked eggplant flask cooled in a dry ice-aceton bath, and liquid ammonia (87 g) was taken.
  • Sodium amide (8.26 g , 0.212 mol) was added to the flask, and then acetonitrile ( 8 .69 g, 0.212 mol) in toluene (lOraL) and 4-fluoro-3- (trifluoromethyl) ethyl benzoate (25.0 g, 0.106raol) in toluene (lOmL), and added at -70 °
  • the mixture was stirred at C for 1 hour. While returning the reaction solution to room temperature, ammonia gas was released out of the system.
  • Acetonitrile (4.02 g, 97.8 t) was added to a suspension of sodium hydride (3.91 g, 97.8 t) in THF (50 raL), and the mixture was heated at 70 ° C for 1 minute.
  • the reaction solution was returned to room temperature, and a 3 ⁇ 4 ⁇ (20111) solution of methyl 3- (trifluoromethyl) benzoate (10.0 g, 48.9%) was added dropwise, followed by heating and stirring at 60 ° C for 6 hours.
  • the solvent was distilled off, the residue was poured into water, and this was extracted with ethyl acetate. The obtained extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • the residue was purified using a silica gel column (Kieselgel60, 30% AcOEt-Hex, manufactured by MERCK), and 2- (isopropyl (Noresnoreffoninoleoxy) -6-methinole-4- [3- (trifluoromethyl) phenyl] cheno [2,3-d] pyrimidine (60.4 mg, 15%) was obtained.
  • Methylmercaptan sodium salt (0.64 g, 9.13 mraol) is suspended in THF (20 mL), and 2-chloro-6-methyl-4- [4- (trifluoromethyl) phenyl] thieno [2,3-d]
  • THF 20 mL
  • 2-chloro-6-methyl-4- [4- (trifluoromethyl) phenyl] thieno [2,3-d] A solution of pyrimidine (1.5 g, 4.57 mmol) in THF (5 mL) was added dropwise at room temperature, and the mixture was refluxed for 7 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into aqueous sodium bicarbonate, extracted with ethyl acetate, the extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • the residue was purified with a silica gel column (Kieselgel60, manufactured by MERCK, 20% AcOEt-Hex to Ac0Et only), and 6-methyl-2- (methyls Rufonyl) -1-4- [4- (Trifluoromethyl) phenyl] thieno [2,3-d] pyrimidine (0.70 g, 64%) and 6-methynole-2-methylsulfinyl-4-1- [4- ( Trifluoromethyl) phenyl] thieno [2,3-d] pyrimidine (0.20 g, 19%) was obtained.
  • 6-Methynolee 2_ [4- (Trinoleolomethynole) phenyl] —4- [3-L) phenyl] Thieno [2,3-d] pyrimidine (Compound No.6-18)
  • reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • the residue was purified by silica gel column (Kieselgel60 N 10% Ac0Et-Hex manufactured by MERCK) to give 6-methinole-2- [4- (trifluoromethyl) phenyl] -4- [3- (trifluoromethyl) phenyl.
  • Thieno [2,3-d] pyrimidine (0.22 g, 54%).
  • 6-Methinole 4- [3- (Trifnoroleolomethinole) phenyl] Thieno [2,3-d] pyrimidine-2-carboxylic acid (0.40 g, 1.18 t ol) and thiol chloride (2 mL) ) was added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled off, and half of the obtained residue was added dropwise to a cooled mixed solution of ethanol (lOraL) and triethylamine (0.5raL).
  • reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • the residue was purified by silica gel (Kieselgel60, 10% AcOEt-Hex manufactured by MERCK), and 6-methyl-4- [3- (trifluoromethyl) phenyl] thieno [2,3-d] pyrimidine- 2-Ethyl carboxylate (41.2 mg) was obtained.
  • ol (ol) 3- (trifluoromethyl) phenol (0.27 g, 1.68 benzyl) and stirred at room temperature for 1.5 hours.
  • the reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and saturated saline, and then the solvent was distilled off.
  • reaction solution was poured into water, extracted with ethyl acetate, the extract was washed with water and saturated saline, and the solvent was distilled off.
  • the residue was purified by silica gel column (Kieselgel60, 10% Ac0Et-Hex, MERCK), and 2-chloro-6-methyl-4- [3- (trifluoromethyl) phenyl] thieno [3,2-d] pyrimidine (1.33 g, 89%).
  • Trim (0.10 g, 2.50 g ol) was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 0.5 hour. The mixture was cooled with ice water, and the mixture was cooled with 6-methyl 4- [3- (trifnoroleolomethyl) phenyl] -2. A solution of -chlorocheno [3,2-d] pyrimidine (0.40 g, 1.22 mmol) in THF (5 mL) was added dropwise. After returning the reaction solution to room temperature, it was heated and stirred at 60 ° C. for 2 hours. After the completion of the reaction, the solvent was distilled off, and the obtained residue was dissolved in ethyl acetate.
  • Residue is purified by silica gel column (MERCK Purified by Kieselgel 60, 20-40% AcOEt-Hex) to obtain a total of 5-methyl-2-[(4,4,4-trifluorobutyryl) amino] thiophene-3-carboxamide (6.58 g, 37%) Was.
  • 6-Methinoles 4- 4-Methinoles-noleshoninole _2- (3,3,3-Trifluoropropyl) thieno [2,3-d] pyrimidine
  • 6-Methinole-4 Metalethio-2- (3,3,3_Triphnoreo-propinole) thieno [2,3-d] pyrimidine (l. 60 g , 5.4 ⁇ ol) salt methylene (20raL)
  • m-chloroperbenzoic acid (2.83 g, 16.4 orl ol) was added and stirred at room temperature for 1 day.
  • the precipitated crystals were separated by filtration, the filtrate was poured into water, extracted with ethyl acetate, and the extract was washed with water and saturated saline. Then the solvent was distilled off. The residue was purified by silica gel column (MERCK Co.
  • Is a hexyl group “Ph” is a phenyl group, “P y” is a pyridyl group, “Ac” is an acetyl group, “Ts” is a paratoluenesulfonyl group, “n ⁇ ” is normal, “i-” represents iso, “t-” represents tertiary, and “c-” represents an alicyclic hydrocarbon group. Also during the six tables X 1 column, "one” represents a single bond.
  • a mixed solution consisting of 10 parts of the compounds described in Tables 1 to 6 was composed of 40 parts of an aromatic hydrocarbon solvent, Solvesso 200 (trade name, Exxon Chemical Co., Ltd.) and 40 parts of N, N-dimethylacetamide. After dissolving in a solvent, 10 parts of a polyoxyethylene surfactant (Solpol 3 ⁇ (trade name, Toho Chemical Co.)) was added and dissolved to obtain an emulsion containing 10% of the active ingredient.
  • Solvesso 200 trade name, Exxon Chemical Co., Ltd.
  • N, N-dimethylacetamide N, N-dimethylacetamide
  • Weeding rate (%) (11) X 00 The weeding rate was calculated from the above-ground live weight of weeds in the untreated plot, and expressed as the weeding efficiency coefficient according to the following criteria. Weeding efficiency coefficient Weeding rate (%)
  • Paddy soil of alluvial clay loam was filled into a resin vat with an area of 20 O cm 2 , and after fertilization, soybean sprouts, kikasigusa and fireflies were sown, and the soil was uniformly covered to a depth of 3 cm. After that, the cultivation management was continued in the greenhouse, and when the growing leaf age of the test weed reached the cotyledon stage to the first leaf stage, the wettable powder obtained in Formulation Example 1 was diluted with water to adjust the amount of the active ingredient. A predetermined amount was uniformly dropped using a pipette so that the amount was 10 g per 1 are. After that, the cultivation management was continued in the greenhouse, and the herbicidal effect was investigated on the 28th day after the chemical treatment. The results are shown in Table 9 (the compound numbers in Table 9 correspond to the compound numbers in Tables 1 to 6).

Landscapes

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Description

明細書 新規除草剤、 その使用方法、 新規チェノビリミジン誘導体及びその中間体並びにその 製造方法 技術分野
本発明は、 置換チェノビリミジン誘導体を有効成分とする除草剤、 その使用方法、 該除草剤として有用な新規化合物及び該化合物の製造方法並びにその中間体に関す る。 背景技術
近い将来予想される世界人口増加に伴う食糧危機の解消には、 重要作物の安定供給 が必要不可欠である。 安定した作物の供給には、 その栽培及ぴ収穫時に障害となる雑 草の経済的かつ効率のよ 、枯殺ある ヽは防除が必要であり、 その解決策となる新しい 除草剤や植物成長調節剤の開発がますます重要となっている。
一方、 置換チェノビリミジン類に関する報告例としては、 そのほとんどが医薬にお ける生理活性に関する報告であり、除草剤に関する記載は一切ない。 （例えば、国際公 開第 9 8 5 0 0 3 7号パンフレツト、国際公開第 9 6 / 1 4 3 1 9号パンフレツト、 欧州特許出願公開第 1 5 0 4 6 9号明細書、 独国特許出願公開第
2 3 2 3 1 4 9号明細書、 国際公開第 0 2ノ5 5 5 2 4号パンフレツト参照。） 発明の開示
本発明は、 このような社会の要請に答えるべく、 作物に対する高い安全性と雑草に 対する優れた殺草活性を併せ持つ新規な除草剤を提供することを課題とするものであ る。
本発明者等は上記の課題を解決すベく鋭意検討した結果、 ある特定の置換基を有す るチェノビリミジン類が、 除草活性を有することを見い出し、 本発明を完成させるに 至った。
すなわち本発明は以下の（1)- (20)に関する。 (1) 一般式 （ I )
Figure imgf000003_0001
{式中、 Aは Al
Figure imgf000004_0001
(式中、 R1は水素原子又は置換されていてもよいアルキル基を示し、 R 2は水素原子、 ハ口ゲン原子又は置換されていてもよいアルキル基を示す。 ) 又は A 2
Figure imgf000004_0002
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。
Q1は、 水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、水酸基、 カルボキシ基又は一 Χ1!^3 (式 中、 X1は単結合、 —O—、 — SOn— （式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 C02—、 一 OC02—又は _OC (O) 一を示し、
R3は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換さ れていてもよいアルキニル基、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ ぃァリール基又は置換されていてもよい複素環基を示す。） を示し、
Q2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は— X2R4 (式中、 X2は、 単結合、 一 O—、 -SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一OS On— (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO_、 一 co2—、 一 oco2—又は一 OC (O) 一を示し、
R 4は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換さ れていてもよいアルキニル基、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ ぃァリール基又は置換されていてもよ!/、複素環基を示す。） を示す。 }
で表される置換チェノピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。 (2) 般式 （I)
Figure imgf000005_0001
(式中、 Aは Al
Figure imgf000005_0002
(式中、 R1は水素原子、 （( 〜( 6) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 （Ci Ce) アルキル基又はハロ （Ci Ce) アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000005_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。
Q1は水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基又は— XiR3 (式 中、 X1は単結合、 — O—、 -SOn- (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 一CO—、 一C02—、 _OC02_又は一 OC (O) 一を示し、
R3は （Ci Cio) アルキル基、ハロ （(^〜。丄。） アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （。 〜。^ アルコキシ
6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （C CJ アルキル基、 （(： 〜じ^ アルキル (C3〜C6) シクロアルキル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル ( 〜 ) アルキル基、 (C^C アルコキシカルボュル ( 〜 ) アルキル基、 (ァミノ) ヒ ドロキシ (C2〜C6) アルキル基、 (Ca~C4) アルキルチオ ( 〜 ) アルキ ル基、 (C^CJ アルキルスルフィニル (C^CJ アルキル基、 ( 〜 ) アル キルスルホニル （^〜じ アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C
6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （c2〜c6)アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C 2〜c6) アルケニル基、 フエ-ル （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル基、 アミノ基、 モノ （。 〜じ アルキル アミ ノ基、 モノハロ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても 良いジ （Ci〜C6) アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （〇丄 〜c6)アルキルァミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ノヽ ロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci〜C 6) アルキル基、 ハロ （Ci Ce) アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル 基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C
2〜c6)アルケニル基、 （c2〜c6)アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキ- ル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ノヽロ （Ci Cj アルコキシ基、 シク ロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （(^〜(：^ アルキルチオ基、 ノヽロ （C Ce) アルキルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （(^〜じ^ アルキル スノレフィエル基、 ハ口 ( 〜 ) アルキルスルフィニル基、 シク ロ (C3 ~C6) アルキノレスノレフィ ニル基、 ハロシクロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレフ ィ ニル基、 （（^〜。 ァノレキルスルホニル基、 ハロ （(： 〜じ^ アルキル スルホ二ノレ基、 シク ロ （C3〜C6) ァノレキノレスノレホニノレ基、 ハロシク ロ (C
3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （(： 〜( 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一 又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 ァ ミ ノ基、 S H基、 （C^^Cs) アルキル基、 ノヽロ （Ci C アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2
~c6) アルケニル基、 ノヽロ （c2〜c6)アルケニル基、 （c2〜c6)アルキニ ル基、 ハロ （c2〜c6) アルキ-ル基、 （。 〜 ^ アルコキシ基、 ノヽロ （C ェ〜 ) アルコキシ基、 シク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ハロシクロ (C 3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Cj アルキ ルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) ァ ルキルチオ基、 （じ 〜じ^ アルキルスルフィニル基、 ハロ （じ 〜じ^ 了 ノレキノレスノレブイ 二ノレ基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルスルフィ ニル基、 ハ ロシク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィ ニル基、 (C^Ce) ァノレキノレスノレ ホニル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （C3~C6) 了 ノレキノレスノレホニノレ基、 ノヽロシク ロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレホニノレ基、 モ ノ （じ 〜。 アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci〜 C6) アルキルァミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （Ci Ce) アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲ ン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （C Ce) ァ ルキル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2 〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキ-ル基、 ハロ （C2~C6) アルキ- ル基、 （Ci~C6) アルコキシ基、 ノヽロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C 3~C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C CJ アルキルチオ基、 ノヽロ (C^CJ アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Ce) アルキル スルフィニル基、 ノヽロ （。 〜。^ アルキルスルブイ二ル基、 シクロ （C3
~c6) ァノレキノレスルフィ二ル基、 ノヽロシクロ (c3〜ce) ァノレキノレスノレフ ィニル基、 （じ 〜じ^ ァノレキルスルホニル基、 ノヽロ （(： 〜じ^ アルキル スルホニル基、 シクロ （c3~c6)アルキルスルホ-ル基、 ノヽロシクロ （C
3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （(^〜。^ アルキルアミ ノ基又は同 一若しくは異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （じ 〜。 アルキル基、 複素環 基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリア ゾール、 トリァゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 イソチアゾール、 イソ チアゾリジン、 ビラゾール、 ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒド 口ピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺ ラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原 子、 シァノ基、 ニトロ基、 （じ 〜。 アルキル基、 ハロ 6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3~C6) アルキル基、 （C1〜C6) アルキルカルボニルォキシ基、 6) アルコキシ基、 ハロ （C1~C6) アルコ キシ基、 シクロ （C3〜( 6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基 から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素 環（C Ce) アルキル基（複素環は前記に同じ。）又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci~C6) アルキル基、 ハロ （C Ce) 了 ルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3~C6) アルキル基、 (C ェ〜。^ アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ハロ （。 〜じ^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci C アルキ ル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） を示す。 Q 2は水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は— X2R4 (式中、 X 2は単結合、 一 O—、 -SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 co2_、 一 oco2—又は一 OC (O) —を示し、
R4は （Ci C o) アルキル基、 ハロ （。 〜。 。） アルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、 ハロ （C3〜C6) シクロアルキル基、 （Ci Cj アルコキシ
6) アルキル基、 ハロ （Ci Cs) アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 （Ci〜C4) アルキルシク口 (C3〜C6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル ( 〜 ,) アルキル基、 (Ci Cjアルコキシカルボニル（Ci C アルキル基、 ( 〜じ アルキルチオ (C^CJ アルキル基、 ((： じ アルキルスルフィニル （Ci〜C 4) アルキル基、 (C^CJ アルキルスルホニル （Ci〜C4) アルキル基、 （c2〜c
6) アルケニル基、 ハロ （c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （c2~c6) アル ケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （c2〜c6) アルケニル基、 フエニル （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6) アルキニル基、 アミ ノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 モノハロ （Ci〜C6) アルキル アミ ノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci〜(： 6) アルキルアミ ノ基、 同 一又は異なって良いジハロ （。 〜。^ アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ 基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸 基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキ ル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) アルキル基、
(c2〜c6) アルケニル基、 ノヽロ （c2~c6)アルケニル基、 (c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ノヽロ
(じ 〜じ^ ァノレコキシ基、 シクロ （C3〜C6) ァノレコキシ基、 ノヽロシク ロ
(C3〜C6) アルコキシ基、 （C CJ アルキルチオ基、 ハロ （ 〜じ^ ァ ルキルチオ基、 シクロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 ((： 〜じ アルキルスルフィ ニル基、 ハロ （c1〜c6) ァノレキノレスノレブ イ ニル基、 シクロ （c3〜c6) ァノレキルスノレブ イ 二ノレ基、 ハロンク ロ (C3〜C6) アルキルスルブイニル基、 (C ) ァノレキノレス ルホニル基、 ノヽロ （( 〜 アルキルスルホ-ル基、 シクロ （C3〜C6) ァノレキノレスノレホニノレ基、 ハロ シク ロ （c3〜c6) アルキノレスノレホニノレ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン 原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （Ci Cj アル キル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽ ロシクロ (C3〜C6) アルキル基、 (C2〜C6) アルケニル基、 ハロ (C2〜C 6) ァルケ-ル基、 （c2〜c6)アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル基、 (じ丄〜。^ アルコキシ基、 ハロ （c1〜c6) アルコキシ基、 シク ロ （c3〜
C6) アルコキシ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C Cs) ァ ルキルチオ基、 ノヽロ （C Cj アルキルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル チォ基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Cj アルキルス ルフィニル基、 ノヽロ （^〜じ^ アルキルスルフィ ニル基、 シク ロ （C3〜 c6) アルキノレスルフィ ニル基、 ノヽロシク ロ （c3~c6) アルキルスノレフィ
-ル基、 （Ci〜（： 6) ァノレキルスルホニル基、 ノヽ ロ （。 〜。 アルキルス ルホニル基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ （c3
〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci〜C6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （^〜じ^ アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （Ci Cj アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （じ 〜じ^ アルキル基、 ノヽロ （Ci Cj アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽロ シク ロ （C3〜(： 6) アルキル基、 （C2 〜C6) ァルケ-ル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニ ル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （じ 〜じ^ アルコキシ基、 ハロ （C 〜。 アルコキシ基、 シク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシク ロ （C 3〜(： 6) アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキルチオ基、 ハロ （Ci Ce) アルキ ルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシクロ (C3〜C6) ァ ルキルチオ基、 （C1〜C6) アルキルスルフィニル基、 ノヽロ （じ丄〜じ ^ 了 ルキルスルフィエル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルスルフィ エル基、 ノヽ ロシク ロ （C3〜C6) アルキルスルフィ ニル基、 (C1〜C6) アルキノレスノレ ホ-ル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （C3~C6) ァ ルキルスルホニル基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルスルホニル基、 モ ノ （Ci C アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci〜 C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置 換ァリール （Ci Cj アルキル基、 複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 同一又は異 なっても良く、ハロゲン原子、シァノ基、ニトロ基、 （Ci〜C6)アルキル基、ハロ （C 〜じ アルキノレ基、 シクロ （C3〜Ce) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アル キル基、 （C C アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ (Ci Cs) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3 〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環は 前記に同じ。）、 複素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記に同じ。） 又は同一若し くは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ 6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキノレ基、 ノヽロシクロ （C3〜
C6) アルキル基、 （Ci〜C6) アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci〜C6) アルコキ シ基、 ハロ （。 〜。^ アルコキシ基、 シクロ （c3〜c6)アルコキシ基又はハロシ クロ （C3〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複 素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） を示す。 }で表される 置換チェノピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
(3) Q1がー OR3 {式中、 R3は （（^〜(： 。） アルキル基、 ハロ （Ci C ) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 （じ 〜じ^ アルコキシ 6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 （( 丄〜。 ァ ルキルシク口 (C3〜C6) アルキル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル (C^CJ ァ ルキル基、 (C^CJ アルコキシカルボニル ( 〜 ) アルキル基、 （ァミノ） ヒ ドロキシ （c2〜c6) アルキル基、 (c^cj アルキルチオ (じ 〜。 アルキル 基、 （(^〜じ アルキルスルフィニル （（^〜じ^ アルキル基、 （c1〜c4)アルキ ルスルホニル （c 〜c4)アルキル基、 （c2〜c6)アルケニル基、 ハロ （c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （c2 ~c6)アルケニル基、 フエニル (c2〜c6)アルケニル基、 (c2〜c6)アルキ ニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキ-ル基、 アミノ基、 モノ （C CJ アルキルァ ミノ基、 モノハロ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良 ぃジ （(^〜。^ アルキルアミノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci〜 c6)アルキルアミノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （じ 〜じ^ アルキル基、 ノヽロ （じ 〜。^ アルキル基、 （c2〜c6)アルケニル基、 ノヽロ (c2〜c6) アルケニル基、 (c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6) アル キニル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 （Ci
〜C6) アルキルチオ基、 ハロ （じ 〜。 アルキルチオ基、 （じ 〜。^ アルキ ルスルフィニル基、 ノヽロ （c1〜c6)アルキルスルフィ -ル基、 （Ci Cj アルキルスルホ-ル基、 ハロ （C 〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （C 〜じ^ アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フ 工ニルァミノ基、 ァリール基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （d Cj アルキル基、 ハロ （c cjアルキル基、 （c2〜c6)アルケニル基、 ノヽロ （c2〜c6)ァ ルケニル基、 （C2〜C6) アルキ-ル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （C i Cj アルコキシ基、 ハロ （C CJ アルコキシ基、 （C Cj アルキ ルチオ基、 Ci Ce) アルキルチオ基、 C Ce) アルキルスルフィニ ル基、 ヽロ （。 〜じ アルキルスルフィニル基、 ^ アルキノレス ルホニル基、 ハロ ァノレキルスルホ二ノレ基、 モノ （。 〜じ ァ ルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci Ce) アルキルァ ミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 ァリール
(Ci-Ce) アルキル基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ 基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （^~(：6) アルキル基、 ハロ
(Ca~C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ヽロ （C2〜C6) ァルケ ニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 C6) アルコキシ基、 ハロ （。 〜。^ アルコキシ基、 （C Ce) アルキルチ ォ基、 ハロ （C1〜C6) アルキルチオ基、 ^〜じ^ アルキルスルフィニル基、 ハロ （( 〜じ^ アルキルスルフィニル基、 ^ アルキルスルホ二 ル基、 ヽロ （じ 〜。^ アルキルスルホ-ル基、 モノ （(^〜。^ アルキル アミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （C Ce) アルキルアミ ノ基 から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （Ci Cj アル キル基、 複素環基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラ ン、 チ才フェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリ ジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 ィミダゾール、 ィミダゾリン、 イミ ダゾリジン、 トリァゾール、 トリァゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 ィ ソチアゾール、 ィソチアゾリジン、 ビラゾール、 ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラ ゾール、 テトラヒ ドロピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チ オモルホリン、 ピぺラジン、 ピぺリジンまたはォキサジンを示す。）、 同一又は異なつ ても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （C^ CJ アルキル基、 ハロ （Ci ~C6) アルキル基、 ^〜じ^ アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci Cj アルコ キシ基又はハロ （Ci Cj アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置 換複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記 に同じ。）又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （C ^ アルキル基、 ハロ （C Ce) アルキル基、 （C Ce) アルキルカルボ二 ルォキシ基、 （Ci Cj アルコキシ基又はハロ （Ci Cj アルコキシ基から選択 される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci C アルキル基 （複素環は 前記に同じ。） を示す。} である （1) 又は （2) いずれかに記載の除草剤。
(4) Q2が （C Cio) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、
6) アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Ce) アルキルスル フィ-ル基、 シクロ （C3~C6) アルキルスルフィ -ル基、 （^〜じ^ アルキルス ルホニル基、 シクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 複素環基 （複素環とはォキ シラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリ ジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チ ァゾリジン、 イミダゾーノレ、 ィミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリアゾール、 トリア ゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 イソチアゾール、 イソチアゾリジン、 ビラゾール、 ピラゾリン、 ピラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒドロピラン、 ピリ ジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺラジン、 ピペリ ジンまたはォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Ce) ァ ルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 6) アルキルチ ォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環基は前記に同じ。）、 複素環ォキシ基 （複素環基は前記に同じ。）、 同一又は異なっても良く、含フッ素 （C 〜C6) アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環ォキシ基 （複素環 基は前記に同じ。） 又は—X2R4 (式中、 X2が単結合、 一 O—、 — S―、 —SO—又 は _S02—を示し、 R4がフエ-ノレ基を示し、 該フエニル基が同一または異なっても 良い含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フ ッ素 （Ci Cj アルキルチオ基からなる群より選択される置換基で少なくとも 1置 換されており、更に他の置換基として同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、 シァノ基、 （C1〜C6) アルキル基、 ハロ （(^〜じ^ アルキル基、 シクロ （C 3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アル ケ-ル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ
(C2〜C6) アルキニル基、 （(^〜。 アルコキシ基、 ハロ （Ci Cs) ァ ルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) ァ ルコキシ基、 （(^〜じ アルキルチオ基、 ノヽ ロ （Ci Ce) アルキルチオ基、 シ クロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキルチオ基、
(C1〜C6) アルキルスルフィニル基、 ノヽ口 (C^CJ アルキルスノレブイ 二ノレ基、 シクロ （C3〜C6) ァノレキルスルフィニル基、 ノヽロシクロ （C3〜 C6)アルキルスルフィニル基、 (Ci〜C6)アルキルスルホニル基、ハロ (C 〜じ^ アルキルスルホニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基 又はハロシクロ （C3〜C6) アルキルスルホ二ル基から選択される 1以上 の置換基を有していても良い。） である （1) から （3) いずれかに記載の除草 剤。
(5) Q1が水素原子、 ハロゲン厚子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基、 （Ci〜C 10) アルキル基、ハロ （Ci〜C6) アルキル基、 （Ci〜C6) アルコキシ （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 （じ 〜じ丄。） 了 ルコキシ基、 ハロ （じ 〜じ アルコキシ基、 シクロ （c3〜c6)アルコキシ基、 ノヽ ロシクロ (C3〜C6) アルコキシ基、 (C^CJ アルコキシ (c^cj アルコキ シ基、 ハロ (C^Ce) アルコキシ (C^CJ アルコキシ基、 ( 〜 ) アルコ キシカルボニル (C^Cs) アルコキシ基、 (ァミノ) ヒドロキシ (C2〜C6) アル コキシ基、 （。 〜〇 アルキルチオ （じ 〜じ^ アルコキシ基、 （じ 〜じ^ アルキ ルスルフィニル （Ci-^CJ アルコキシ基、 (C^CJ アルキルスルホ二ノレ (C !~ C6) アルコキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ （C 〜 c3)アルコキシ基、 （c2~c6)アルケニル基、 ハロ （c2〜c6)アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルケニルォキシ基、 ハロ （C 2〜C6) アルケニルォキシ基、 （C2〜C6) アルキニルォキシ基、 アミノ基、 モノ （C 〜。^ アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ 基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロ （Ci C アルキル基で置換された置換 フエニル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異なっても良い 1以上の （Ci 〜c3)アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピラゾリル基、 同一又は異なつ ても良く、 3) アルキル基又はハロ （Ci〜C3) アルキル基から選択される
1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、同一又は異なっても良い 1以上のハロ（C 丄〜。^ アルキル基で置換された置換ピラゾリル （C Cj アルキル基、 トリァゾ リル基、 フエノキシ基、 同一又は異なっても良く、 ハロ （Ο 〜( 3) アルキル基又は ハロ （(^〜(：^ アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエノキ シ基、 （Ci〜C3) アルキルチオ基、 (Ci~C3) アルキルスルフィニル基、 （Ci〜C 3) アルキルスルホニル基、 ( 〜 ) アルキルスルホニルォキシ基、 ノヽロ (C !~ C6) アルキルスルホニルォキシ基、 フエニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なって も良い 1以上の （C Cs) アルキル基で置換された置換フエニルスルホニルォキシ 基、 同一又は異なっても良いジ （Ci C ァノレキノレアミノスルホニルォキシ基、 (C 2〜C4) ァルケニルスルホニルォキシ基、 （Ci〜C3) アルキルカルボニルォキシ基、 (C1〜C3) アルコキシカルボニルォキシ基、 (C^Cs) アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても良い 1以上のハロゲン原子で置換さ れた置換フエニルァミノカルボ-ル基であり、
Q 2がハロゲン原子、水酸基、 （Ci C アルキル基、ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （。 〜。^ アルコキシ基、 ハロ （C1〜C6) アルコキシ基、 （じ 〜じ^ アルキルチオ基、 （Ci 〜C6) アルキルスルフィニノレ基、 （じ 〜じ アルキルスルホ二ノレ基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （C C アルキル基、 ハロ （C Ca) アルキル基、 （じ 〜じ アルコキシ基、 ハロ （Ci C アルコキシ基又はハロ （C 〜じ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエニル基、 同 一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 （ 〜。 アルキル基又はハロ （Ci〜C3) アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 フリル基、 同 一又は異なっても良い 1以上の（Ci Cjアルキル基で置換された置換チェニル基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロゲン原子で置換された置換ピリジル基又は同一 若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シァノ基、 3)アルキル基、ハロ（C !~03) アルキル基、 （。 〜。^ アルコキシ基、 ハロ （C1〜C3) アルコキシ基又 はハロ （Ci Cg) アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエ ノキシ基である （1) 又は （2) いずれかに記載の除草剤。
(6) (1) から （5) いずれかに記載の除草剤の有効量を土壌処理、 茎葉処理又は 湛水処理することを特徴とする除草剤の使用方法。
(7) —般式 （I)
Figure imgf000014_0001
{式中、 Aは A
Figure imgf000014_0002
(式中、 R1は水素原子、 （Ci Cs) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R2は、水素原子、ハロゲン原子、 （Ci〜C6) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000014_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。
Q1は水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基又は— Χ1!^3 (式 中、 X1は単結合、 — O—、 —SOn— （式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 C02_、 一 OC02—又は一 OC (O) 一を示し、
R3は （Ci Cio) アルキル基、 ハロ （C C o) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （。 〜。^ アルコキシ
6) アルキル基、 ハロ （C CJ アルコキシ （C CJ アルキル基、 （Ci Cj アルキル (c3〜c6) シクロアルキル基、 シクロ (c3〜c6) アルキル (c^c J アルキル基、 ( 〜 ) アルコキシカルボニル ( 〜 ) アルキル基、 (ァミノ） ヒドロキシ （C2〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルキルチオ （Ci Cj アルキ ル基、 （Ci Cj アルキルスルフィエル （c cjアルキル基、 （Ci Cj アル キノレスノレホニノレ （c1〜c4)アルキル基、 （c2〜c6)ァノレケニノレ基、 ハロ （c2〜c
6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C
2〜c6) アルケニル基、 フエニル (c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci Cj アルキル アミ ノ基、 モノハロ （じ丄〜じ^ アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても 良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci 〜c6)アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ノヽ ロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （じ 〜。 6) アルキル基、 ハロ （Ci Ce) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル 基、 ハロ シクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C
2〜c6)アルケニル基、 （c2〜c6)アルキニル基、 ノヽロ （c2〜c6)アルキニ ル基、 （Ci〜（： 6) アルコキシ基、 ノヽロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シク ロ （C
3〜c6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルコキシ基、 ( 〜 ) アルキルチオ基、 ノヽ ロ （C CJ アルキルチオ基、 シクロ （c3〜c6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （。 〜。^ アルキル スルフィ ニル基、 ノヽロ ( 〜 ) アルキノレスノレフ ィ ニル基、 シク ロ （c3 〜c6) アルキルスルフ ィ ニル基、 ノヽロ シク ロ (c3〜c6) ァノレキノレスノレフ ィ -ル基、 （Ci Cj アルキルスルホニル基、 ハロ （( 〜。^ アルキル スノレホニノレ基、 シクロ (c3〜c6)ァノレキノレスノレホニノレ基、 ハロ シク 口 (C
3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （じ 〜じ 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一 又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 ァ ミ ノ基、 S H基、 （Ci Ce) アルキル基、 ノヽロ （C1〜C6) アルキル基、 シク ロ （c3〜c6) アルキル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキル基、 （c2 〜c6) アルケニル基、 ハロ （c2〜c6)ァルケ-ル基、 （c2〜c6)アルキニ ル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルキニル基、 （じ 〜じ アルコキシ基、 ハロ （C 〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 ノヽロ （( 〜じ アルキ ルチオ基、 シクロ （C3~C6) アルキルチオ基、 ノヽロシク ロ （C3~C6) ァ ルキルチオ基、 （。 〜。^ ァノレキルスルフィエル基、 ハロ （。 〜。^ ァ ルキルスルフィエル基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルスルフィニル基、 ノヽ ロシク ロ （c3〜c6) アルキルスルフィ -ル基、 （。丄〜。 アルキルスル ホニル基、 ノヽロ （。 〜じ^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （C3~C6) ァ ノレキノレスルホニノレ基、 ノヽロシクロ （c3〜c6) ァノレキルスノレホニル基、 モ ノ （じ 〜。 アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci〜 C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （Ci C アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲ ン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj ァ ルキル基、 ノヽロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜Ce) アルキル基、 ハロ シク ロ （C3〜（ 6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C2
~c6) アルケニル基、 （c2~c6)アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキ- ル基、 6) アルコキシ基、 ノヽロ （Ci Cj アルコキシ基、 シクロ （C
3〜C6) アルコキシ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （(^〜（ ^ アルキルチオ基、 ハロ ((： 丄〜 ) アルキルチオ基、 シクロ (c3〜c6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （じ 〜じ^ アルキル スノレブ イ -ノレ基、 ノヽロ （d^Ce) ァノレキノレスノレブイ -ノレ基、 シク ロ （C3 ~C6) アルキルスルフィニル基、 ノヽロシクロ （C3〜Ce) ァノレキノレスルフ ィニル基、 （（： 〜じ^ ァノレキルスルホニル基、 ノヽロ （C;t〜C6) アルキル スルホ二ノレ基、 シク ロ (C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロ シク ロ (C 3〜C6) アルキルスルホ-ル基、 モノ （(^〜じ 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （C Cs) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （Ci C アルキル基、 複素環 基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒ ドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 才キサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 ィミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリア ゾール、 トリアゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 ィソチアゾール、 ィソ チアゾリジン、 ビラゾーノレ、 ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾーノレ、 テトラヒ ド 口ピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺ ラジン、 ピぺリジンまたはォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン 原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci C アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （。 〜。^ アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （。 〜。^ アルコ キシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基 から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素 環（Ci Cjアルキル基（複素環は前記に同じ。）又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj ァ ルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 (C a~C6) アルキルカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキシ基、 ヽロ (c^cj アルコキシ基、 シクロ （c3〜c6) アルコキシ基又はハロシクロ （c3〜c6) アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci Cj アルキ ル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） を示す。
Q2は水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は— X2R4 (式中、 X2は単結合、 一 O—、 -SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 _co2_、 _oco2—又は一 OC (O) —を示し、
R4は ^) アルキル基、 ハロ （(^〜じ ） アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロ (C3〜C6) シクロアルキル基、 (C Cj アルコキシ ( 〜。 6) アルキル基、 ヽロ ( 〜 ) アルコキシ (C^C アルキル基、 ( 〜じ アルキルシク口 (C3〜C6) アルキル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル (C^CJ アルキル基、 ((^〜(： アルコキシカルボニル 〜じ アルキル基、 (C^CJ アルキルチオ (C^CJ アルキル基、 (C!~C4) アルキルスルフィエル (Ci〜C
4) アルキル基、 (c1〜c4)アルキルスルホニル ( 〜 ) アルキル基、 (c2〜c β) アルケニル基、 ハロ (c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ (c2〜c6) アル ケニル基、 ヒ ドロキシハ口 (c2〜c6) アルケニル基、 フエニル （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6) アルキニル基、 アミ ノ基、 モノ （Ci〜C6) アルキルアミ ノ基、 モノハロ （Ci〜C6) アルキル アミノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci〜C6) アルキルアミノ基、 同 一又は異なって良いジハロ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 フエ-ルァミノ 基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸 基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキ ル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ヽロシクロ （C3〜C6) アルキル基、
(c2〜c6) アルケニル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニル基、 ヽロ （C2〜C6) ァノレキエル基、 （Ci〜C6) ァノレコキシ基、 ノヽロ
(c1〜c6) アルコキシ基、 シクロ （c3〜c6) アルコキシ基、 ハロシク ロ
(C3〜C6) アルコキシ基、 （d Cj アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj ァ ルキルチオ基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 ノヽロシク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 （。 〜。^ ァノレキルスルフィ エル基、 ノヽロ （じ 〜じ^ アルキルスルフィ エル基、 シク ロ (c3〜c6) アルキルスルフィ ニル基、 ハロシク ロ (c3〜c6) アルキルスルフィ ニル基、 (Ci〜C6) アルキルス ノレホニル基、 ハロ （( 〜。^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （C3~C6) アルキルスルホ-ル基、 ノヽロシク ロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci Cj アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ （Ci ~C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミノ基、 ァリール基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン 原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （Ci Cj アル キル基、 ハロ （C ^CJ アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽ ロシク ロ （c3〜c6) アルキル基、 （c2〜c6) ァルケ-ノレ基、 ハロ （c2〜c 6) アルケニル基、 （c2~c6)アルキニル基、 ノヽロ （c2〜c6)アルキニル基、
(Ca~C6) アルコキシ基、 ハロ (C Cj アルコキシ基、 シク ロ （C3〜 C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C C ァ ルキルチオ基、 ハロ （ ^ Ce) アルキルチオ基、 シク ロ （C3~C6) アルキル チォ基、 ハロ シク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Ce) アルキルス ノレブ イ 二ノレ基、 ノヽロ (C ) ァノレキルスノレブ イ ニル基、 シク ロ （C3〜 c6) アルキルスルフィ ニル基、 ノヽロシク ロ （c3〜c6) アルキルスルフィ
-ル基、 （( 丄〜じ^ ァノレキルスルホニル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキルス ルホニル基、 シク ロ （c3〜c6) アルキノレスルホニル基、 ノヽロシク ロ （c3 〜c6) アルキルスルホ -ル基、 モノ （c1〜c6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しくは異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （じ 〜じ^ アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 SH基、 （じ 〜。 アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロ シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 (C2
~c6) ァルケ-ル基、 ハロ （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニ ノレ基、 ハロ （C2~C6) ァノレキニノレ基、 （じ 〜じ^ アルコキシ基、 ハロ （C 〜。^ アルコキシ基、 シク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Ce) アルキ ルチオ基、 シク ロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) ァ ルキルチオ基、 （じ 〜。^ アルキルスルフィ エル基、 ハロ （Ci Ce) ァ ノレキルスルフィニル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルスルブイ 二ル基、 ノヽ ロシク ロ （C3〜C6) アルキノレスノレフィニル基、 （じ 〜。^ ァノレキルスル ホ-ル基、 ノヽロ （c1〜c6) ァノレキノレスノレホニル基、 シクロ （c3〜c6) ァ ルキルスルホ -ル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モ ノ （Ci Cj アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ
C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置 換ァリール （じ 〜。 アルキル基、 複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 同一又は異 なっても良く、ハロゲン原子、シァノ基、ニトロ基、 （Ci Cjアルキル基、ハロ （C ^ アルキノレ基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アル キル基、 ^ アルキルカルボニルォキシ基、 （（^〜。^ アルコキシ基、 ハロ (Ci Cj アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3 〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環は 前記に同じ。）、 複素環 （Ci Ce) アルキル基 （複素環は前記に同じ。）
又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci C アルキル基、 ハロ （(^〜。^ アルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、 ハロシ クロ （C3〜C6) アルキル基、 (C^Ce) アルキルカルボニルォキシ基、 (Ci〜C 6) アルコキシ基、 ハロ ^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ 基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を環上に 有する置換複素環（Ci Cjアルキル基（複素環は前記に同じ。）を示す。）を示す。 } で表される置換チェノピリミジン誘導体。
(8) Aが A1であり、 Q1が— OR3 (式中、 R3は（7)に同じ） であり、 Q2が水素 原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は _X2R4 (式中、 X2は（7)に同じくし、 R4が （C 〜じ 。） アルキル基、 ハロ （Ci CiJ アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキ ル基、 (C^CJ アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルコキ シ 6) アルキル基、 （Ci Cj アルキルシクロ （C3〜C6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル （Ci Cj アルキル基、 （Ci C アルコキシカル ボニル（Ci C アルキル基、 （Ci Cj アルキルチオ（Ci Cj アルキル基、 〜じ アルキルスルフィエル ^ アルキル基、 ^ アルキル スルホニル ^〜じ アルキル基、 （C2 C6) アルケニル基、 ハロ （C2 C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （C2 C6) ァノレケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C2
〜c6) アルケニル基、 フエニル （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル基、 アミノ基、 モノ （c cjアルキル アミノ基、 モノハロ （C Ce) アルキルアミノ基、 同一又は異なっても 良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なって良いジハロ （d 〜C6) アルキルアミノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く、 ハ ロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （。 〜じ 6) アルキル基、 ノヽロ （Ci Cj アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) ァノレケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキ-ル基、 （C CJ アルコキシ基、 ノヽロ （Ci Cj アルコキシ基、
(Ci Cj アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Ce) アルキルチオ基、 （Ci Cj 了 ルキノレスノレフィニル基、 ノヽロ (C^CJ アルキルスルフィ ニル基、 (C！ 〜C6) アルキルスルホニル基、 ノヽロ （C1〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエ-ルァミ ノ基、 同一又は異なっても良く 、 含フッ素 （C CJ アルキル基、 含フッ素 （(^〜( 6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール基、複 素環基（複素環は（7)に同じ。）、 同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ノヽロ （Ci~C6) アルキル基、 （Ci〜C6) ァ ルキルカルボニルォキシ基、 （C Ce) アルコキシ基又はハロ （（^〜じ アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環は前記に同じ。） を示す。 但し、
1. X 2が単結合を示す場合、 R 4はァミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基 及びモノハロ (Ci Cj アルキルアミ ノ基を除く。
2. X2が一 0—の場合、 R4は （(^〜じ ） アルキル基を除く。
である （ 7 ) 記載の置換チェノビリミジン誘導体。
(9) Aが A 1であり、 Q1が水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボ キシ基又は一 X1!^ 3 (式中、 X1が単結合、 -SOn- (式中、 nは 0〜2の整数を 示す。）、 —OS On— （式中、 nは前記に同じ。）、 —CO—、 一 C02—、 一 OC02 —又は一 OC (O) —を示し、 R 3は（7)に同じ。） であり、
Q2が同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （ Ci-Ce) アルコキシ基又は含フッ素 （じ 〜。 アルキルチオ基から選択さ れる 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 同一又は異なっても良く、 含 フッ素 （じ 〜。 アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含 フッ素 （Ci C アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換ァリールォキシ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C i C e) ァ ルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj 了 ルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルチオ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci 〜C6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択され る 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルスルフィニル基又は同一若しくは 異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cs) アルキル基、 含フッ素 （Ci〜C6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以 上の置換基を有する置換ァリールスルホニル基である （ 7 ) 記載の置換チ エノピリミジン誘導体。
但し、 Q1が （C^ C J アルキル基 （X 1が単結合且つ R 3が （C i C j アルキル基を示す。） を示す場合、 Q2は含フッ素アルキル基で少なく と も 1置換されている置換ァリールォキシ基を除く。
(10) Aが A 1であり、 Q1が水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カル ボキシ基、 （Ci C^) アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキル基、 （Ci〜C6) ァ ルコキシ （じ 〜じ アルキル基、 ハロ （じ丄〜じ^ アルコキシ （じ 〜じ^ アル キル基、 （Ci〜C10) アルコキシ基、 ハロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3 〜C6) アルコキシ基、ハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 (Ci〜C6) アルコキ シ (C 〜 ) アルコキシ基、 ハロ ( 〜じ アルコキシ ( 〜 ) アルコキ シ基、 （Ci Ca) アルコキシカルボニル (C^CJ アルコキシ基、 (ァミノ） ヒド ロキシ (C2〜C6) アルコキシ基、 ((^〜。6) アルキルチオ ( 〜 ) アルコキ シ基、 （Ci〜C6) アルキルスルフエニル （Ci〜C6) アルコキシ基、 (Ci〜C6) アルキルスルホニル （Ci C アルコキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci〜 C3)アルキルァミノ (Ci〜C3)アルコキシ基、 (C2〜C6)アルケニル基、ハロ (C 2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 (C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) ァ ルケ-ルォキシ基、 ハロ （C2〜C6) アルケニルォキシ基、 （C2〜C6) アルキニル ォキシ基、 アミノ基、 モノ （じ丄〜じ アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良い ジ（Ci Cjアルキルアミノ基、同一又は異なっても良い 1以上のハロ （Ci C アルキル基で置換された置換フエニル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異 なっても良い 1以上の （Ci Cj アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピ ラゾリル基、 同一又は異なっても良く、 （Ci C アルキル基又はハロ （C C アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 同一又は異な つても良い 1以上のハロ （。 〜。^ アルキル基で置換された置換ピラゾリル （Ci 〜c3) アルキル基、 トリァゾリル基、 フエノキシ基、 同一又は異なっても良く、 ハ 口 （Ci Cj アルキル基又はハロ （Ci C アルコキシ基から選択される 1以上 の置換基を有する置換フエノキシ基、 （Ci〜C3)アルキルチオ基、 （Ci~C3) アル キルスルブイ二ノレ基、 （c1〜c3)アルキルスルホニル基、 〜 ) アルキルスノレ ホニルォキシ基、 ハロ （c1〜c6)アルキルスルホニルォキシ基、 フエニルスノレホニ ルォキシ基、 同一又は異なっても良い 1以上の （じ 〜じ^ アルキル基で置換された 置換フエニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なっても良いジ （d Cs) アルキル アミノスルホニルォキシ基、 （C2〜C4) ァルケニルスルホニルォキシ基、 （Ci〜C 3) アルキルカルボニルォキシ基、 ( 〜じ アルコキシカルボニルォキシ基、 (d
〜(： 3) アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても 良い 1以上のハロゲン原子で置換された置換フエニルァミノカルボニル基であり、 Q 2がハロゲン原子、水酸基、 （Ci C アルキル基、ハロ （Ci Cjアルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキルチオ基、 〜C6) アルキルスルフィニル基、 （。 〜。^ アルキルスルホ二ノレ基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci〜C3) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 （(： 〜じ アルコキシ基、ハロ （C CJ アルコキシ基又はハロ （C 〜じ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエニル基、 同 一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 （Ci Ca) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 フリル基、 同 一又は異なっても良い 1以上の（じ 〜。 アルキル基で置換された置換チェニル基、 同一又は異なっても良い 1以上のハ口ゲン原子で置換された置換ピリジル基又は同一 若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci C アルキル基、 ハロ 〜じ アルキル基、 (C^Cs) アルコキシ基、 ハロ (C^CJ アルコキシ 基又はハロ （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 フエノキシ基である （ 7 ) 記載の置換チェノビリミジン誘導体。
(11) Aが A 1であり、 Q1がハロゲン原子又は水酸基である （7)、 (9) 又は （1 0) いずれかに記載の置換チェノピリミジン誘導体。
(12)
Aが A2であり、 Q1がー OR3 (式中、 R3は （7) に同じ） であり、 Q2が水素原 子、 ハロゲン原子、 水酸基又は _X2R4 (式中、 X 2が単結合、 —O—、 —SOn— (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 —OSOn— （式中、 nは前記に同じ。）、 一 C 02_、 一 OC02_又は一 OC (O) 一を示し、 R4が （。 〜。 。） アルキル基、 ハロ （d^C o) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アル コキシ ( 〜 ) アルキル基、 ハロ アルコキシ (C^CJ アルキ ノレ基、 （。 〜じ アルキルシクロ （C3〜C6) アルキル基、 シクロ （C3~C6) 了 ルキル (C^CJ アルキル基、 (C^CJ アルコキシカルボニル ( 〜 ) 了 ルキル基、 （C CJ アルキルチオ （C CJ アルキル基、 （C Cj アルキ ノレスノレブイ二ノレ (Ci〜C4) アルキル基、 ( 〜 ) アルキルスルホ-ル （Ci〜C 4) アルキル基、 （c2〜c6) アルケニル基、 ハロ （c2〜c6) ァルケ-ル基、 ヒ ド ロキシ （C2〜C6) ァルケ-ル基、 ヒ ドロキシハ口 （C2〜C6) アルケニル 基、 フエニル （C2〜C6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2
〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci Ce) アルキルァミ ノ基、 モノノヽ 口 （Ci C アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良いジ （じ 〜。 アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci C アルキルァ ミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァ ノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 アルキル基、 ハロ （ ^ Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ (C3~C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アル ケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2~C6) アルキ-ル基、 （Ci ~C6) アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 (C^CJ アルキル チォ基、 ノヽロ （Ci~C6) アルキルチオ基、 (C^CJ アルキルスルフィニル 基、 ハロ （(^〜。^ アルキルスルフィニル基、 (C!~C6) アルキルスル ホニル基、 ノ、口 (C^CJ アルキルスルホニル基、 モノ (C^Cs) アル キルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ 6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエ-ルァミ ノ 基、 ァリール基又は同一若しく は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ 基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Ce) アルキル基、 ノヽ 口 （(^〜。^ アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ヽロ （C2〜C6) ァ ルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、 （C
6) アルコキシ基、 ハロ （じ 〜。^ アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキ ルチオ基、 ハ口 (C^CJ アルキルチオ基、 (C^CJ アルキルスルブイ - ル基、 ヽロ 〜 アルキルスノレフィニル基、■ 〜じ^ アルキノレス ルホニル基、 ハロ （Ci Cj ァノレキルスルホニル基、 モノ （^〜。^ ァ ルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （d Ce) アルキルァ ミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ル基を示す。 但し、 X2が単結合を示す場合、 R4はァミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 モノハロ （d C アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良い ジ （C Ce) アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci〜C 6) アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 口 （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （じ 〜。 アルコキシ基、 ノヽロ （Ci Ce) アルコキシ基、 (Ci Cj アルキルチオ基、 ハロ （C Ce) アルキルチオ基、 （Ci Ce) ァ ノレキノレスノレフ ィ ニノレ基、 ハロ （。 〜じ^ ァノレキノレスノレフィ ニノレ基、 (C！ 〜C6) アルキルスルホ-ル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci Ce) アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミ ノ基、 （じ 〜じ ） アルキル基、 ハロ （Ci Cio) アルキル 基、 シクロ (C3〜C6) アルキル基、 ( 〜 ) アルコキシ （Ci〜C6) アルキル 基、ハロ （C1〜C6) アルコキシ （。 〜。^ アルキル基、 （Ci Cj アルキル （C 3~C6) シクロアルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル （Ci〜C4) アルキル基、
(C^CJ アルコキシカルボニル 3) アルキル基、 （Ci〜C4) アルキル チォ (C^CJ アルキル基、 (C1〜C4) アルキルスルフィニル (Ci〜C4) アル キル基及び （じ 〜じ^ アルキルスルホ-ル （Ci Cj アルキル基を除く。） で ある （ 7 ) 記載の置換チェノビリミジン誘導体。
(13) Aが A 2であり、 Q1がハロゲン原子、 シァノ基、 カルボキシ基又は— X1 R3 (式中、 X1が単結合、 —SOn_ (式中、 nは 0~2の整数を示す。）、 一 OSO n— (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 C02—、 一 OC02_又は一 OC (O) 一を示し、 R3は （7) に同じ。） であり、
Q2が同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci〜C6) アルキル基、 含フッ素 （ Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 6) アルキルチオ基から選択さ れる 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 同一又は異なっても良く、 含 フッ素 （d Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含 フッ素 （(^〜。^ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換ァリールォキシ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C Ce) アル コキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の 置換基を有する置換ァリ一ルチオ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 ~C6) アルキル基、 含フッ素 （じ 〜。 アルコキシ基又は含フッ素 （Ci〜 C6) アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール スルフィエル基又は同一若しくは異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル 基、 含フッ素 （Ci Cs) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci〜C6) アルキルチ ォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルスルホ -ル基 である （ 7 ) 記載の置換チェノビリミジン誘導体。
(14) Aが A2であり、 Q1が、 ハロゲン原子、 シァノ基、 カルポキシ基、 （Ci~C 10) アルキル基、 ハロ （Ci Ce) アルキル基、 （C CJ アルコキシ （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （C CJ アルコキシ （d Cs) アルキル基、 （C^ Cio) ァ ノレコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 シクロ （C3~C6) ァノレコキシ基、 ハ ロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （。 〜じ アルコキシ （。 〜。^ アルコキ シ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （C Ce) アルコキシ基、 （Ci C アルコ キシカルボニル （C1〜C3) アルコキシ基、 ヒ ドロキシァミノ （じ 〜。 アルコキ シ ( 〜 ) アルコキシ基、 6) アルキルチオ ( 〜 ) アルコキシ基、 (C^CJ アルキルスルフィニル 6) アルコキシ基、 (C^CJ アルキ ルスルホニル （Ci Cj アルコキシ基、 同一又は異なっても良いジ （C Ca) ァ ルキルアミノ （じ 〜じ^ アルコキシ基、 (C2~C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C 6) アルケニル基、 ヒドロキシノヽロ （C2〜C6) アルケニノレ基、 （C2〜C6) アルケニ ルォキシ基、 ハロ （C2~Ce) アルケニルォキシ基、 （C2〜C6) アルキニルォキシ 基、 アミノ基、 モノ （じ 〜。^ アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良いジ （C !~06) アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロ （Ci C アル キル基で置換された置換フエニル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異なつ ても良い 1以上の （ 〜。 アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピラゾ リル基、 同一又は異なっても良く、 （ 〜じ^ アルキル基又はハロ （Ci Cs) ァ ルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 同一又は異なつ ても良い 1以上のハロ （Ci C アルキル基で置換された置換ピラゾリル （Ci C3)アルキル基、 トリァゾリル基、 フエノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロ （C i Cg) アルキル基又はハロ （Ci Cg) アルコキシ基から選択される 1以上の置換 基を有する置換フエノキシ基、 （Ci C アルキルチオ基、 （じ 〜じ アルキルス ルフィニル基、 ( 〜 ) アルキルスルホニル基、 ( 〜じ ァノレキノレスノレホニノレ ォキシ基、 ハロ （Ci Ce) アルキルスルホニルォキシ基、 フエニルスルホュルォキ シ基、 同一又は異なっても良い 1以上の 3) アルキル基で置換された置換フ ェニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なっても良いジ （じ 〜じ アルキルアミノ スルホニルォキシ基、 （C2〜C4) ァルケニルスルホニルォキシ基、 (C^C アル キルカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキシカルボニルォキシ基、 ( 〜 ) アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても良い 1以 上のハロゲン原子で置換された置換フエニルァミノカルボ-ル基であり、
Q2がハロゲン原子、水酸基、 （Ci Cj アルキル基、ハロ （じ 〜。 アルキル基、 シクロ （c3〜c6) アルキル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキル基、 （(^〜。^ アルコキシ基、 ハロ アルコキシ基、 （( 〜じ^ アルキルチオ基、
〜( 6) アルキルスルフィエル基、 （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci〜C3) アルキノレ基、 ハロ （Ci〜C3) アルキル基、 （Ci C アルコキシ基、ハロ （C1〜C3) アルコキシ基又はハロ （C 〜じ^ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フ: nニル基、 又 は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci C アルキル基、 ハロ （d C アルキル基、 （じ 〜じ^ アルコキシ基、 ハロ （じ 〜じ^ アルコ キシ基又はハロ （Ci C アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換フエノキシ基である （ 7 ) 記載の置換チェノビリミジン誘導体。
(15) 一般式 （ I一 1 )
Figure imgf000026_0001
{式中、 Aは A1
Figure imgf000026_0002
(式中、 R1は水素原子、 （(^〜( アルキル基又はハロ 6) アルキル基を 示し、 R2は、水素原子、ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （Ci C アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000026_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。 Yはハロゲン原子を示す。
Q2aは、 同一又は異なっても良く、含フッ素 （Ci Cj アルキル基、含フッ素 （Ci ~C6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci〜C6) アルキルチオ基から選択される 1以 上の置換基を有する置換ァリール基、同一又は異なっても良く、含フッ素（じ 〜 ^ アルキル基、 含フッ素 （Ci Ce) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci C アルキル チォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリールォキシ基、 同一又は異な つても良く、 含フッ素 （Ci〜C6) アルキル基、 含フッ素 （Ci〜C6) アルコキシ基 又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置 換ァリールチオ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C C アルキル基、 含 フッ素 （Ci C アルコキシ基又は含フッ素 （C CJ アルキルチオ基から選択 される 1以上の置換基を有する置換ァリールスルフィニル基又は同一若しくは異なつ ても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci Ce) アルコキシ基又 は含フッ素 （じ 〜。 アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 ァリールスルホ -ル基を示す。 } で表される置換チェノビリミジン誘導体と、 式 (Π)
R3XlaH (Π)
(式中、 Xlaは単結合、 — 0_又は—S—を示し、 R3は （Ci Cio) アルキル基、 ハ 口 (C^C o) アルキル基、 シクロ （c3〜c6) アルキル基、 ハロ (c3〜c6) シ クロアルキル基、 （C CJ アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 ハロ 6) アルコキシ (C^CJ アルキル基、 ( 〜 ) アルキルシク口 (C3〜C6) アル キル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル （C CJ アルキル基、 ( 〜( 3) アルコ キシカルボニル (Ci-Ca) アルキル基、 (じ ) アルキルチオ 〜 ) ァ ルキル基、 ( 〜 !) アルキルスルフィニル ( 〜 ) アルキル基、 （Ci〜C4) アルキルスルホ二ノレ (C^CJ アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ (C2
〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ (c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ 口 (c2〜c6) アルケニル基、 フエニル (c2〜c6) アルケニル基、 (c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci Ce) アル キルアミ ノ基、 モノハロ （(^〜。^ アルキルアミ ノ基、 同一又は異なつ ても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なって良いジハロ
(Ci Cj アルキルアミノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良 く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （C ェ〜。^ ァノレキル基、 ノヽロ （。 〜。^ アルキル基、 シク ロ （C3~C6) 了 ルキル基、 ハロ シクロ (C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、 （じ 〜。^ アルコキシ基、 ハロ （C1〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （C3~C6) アルコキシ基、
(C Ce) アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シクロ （C3〜 C6) アルキルチオ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci〜C6) ァノレキノレスノレブイ 二ノレ基、 ハロ （Ci^Ce) ァノレキノレスノレフィ ニノレ基、 シ ク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィ ニノレ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキ ルスルブイ二ル基、 (0!~06) ァノレキノレスルホニル基、 ハロ （(： 〜じ^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロ シク ロ (C3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ (じ 〜じ アルキルアミ ノ基又は同一若しくは異なって良いジ （。 〜じ^ アルキルアミノ基から 選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエ-ルァミノ基、 ァリー ノレ基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水 酸基、 ア ミノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （Ci~C6) アル キル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキル 基、 （c2〜c6) アルケニル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6) アルキニル基、 （c1〜c6) アルコキシ基、 ハロ （。丄〜じ^ アルコキシ基、 シク ロ （c3〜c6) アルコキシ基、 ノヽロシ ク ロ (C3〜C6) アルコキシ基、 ( 〜 ) アルキルチオ基、 ハ口 (C^CJ アルキルチオ基、 シク ロ （c3〜c6)アルキルチオ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 (C^CJ アルキルスルフィ ニル基、 ハロ (C^CJ ァノレキルスノレフィ ニル基、 シク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィニル基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキルスノレフィ ニル基、 (0!~06) アルキノレス ノレホニル基、 ハロ （（^〜（：^ アルキルスルホニル基、 シク ロ （c3〜c6) ァノレキルスノレホニル基、 ハロ シク ロ (c3〜c6) アルキノレスルホニノレ基、 モノ （(^〜(36) アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ 〜C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァ リール基、 ァリール （Ci Cj アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニ ト ロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （Ci Ce) アルキル基、 ノヽ ロ （Ci C アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ （c3~c6) アルキル基、 （c2〜c6) アルケニル基、 ハロ （c2 〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキ-ル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニ ル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ノヽロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シク ロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C Cj アルキルチオ基、 ノヽロ (C^CJ アルキルチオ基、 シク ロ (C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Cj アルキル スルフィ エル基、 ノヽロ （。 〜じ^ アルキルスノレフィエル基、 シク ロ （C3 〜C6) アルキルスノレフィニル基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキルスルフ ィ ニル基、 （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 ハロ （。 〜 ^ アルキル スルホニル基、 シク ロ (C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ (C 3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （d~C 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （じ 〜。 アルキル基、 複素環 基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒ ドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリア ゾール、 トリアゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 ィソチアゾール、 ィソ チアゾリジン、 ビラゾール、 ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒ ド 口ピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺ ラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原 子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （Ci Ce) アルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （。 〜。 アルキルカルボニルォキシ基、 (C^Ce) アルコキシ基、 ハロ (C^C アルコ キシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基 から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素 環（Ci C アルキル基（複素環は前記に同じ。）又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （Ci Cj ァ ルキノレ基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 (C 〜 ) アルキルカルボニルォキシ基、 ( 〜 ) アルコキシ基、 ハロ ((： 〜 ) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci Cj アルキ ノレ基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） で表される化合物とを反応させることを特徴 とする式 （1—2)
Figure imgf000029_0001
(式中、 A、 R3、 Xla及び Q2aは前記に同じ。） で表される置換チェノビリミジン誘 導体の製造方法。 (16) 一般式 （III)
Figure imgf000030_0001
(式中、 R1は水素原子、 （C CJ アルキル基又はハロ （Ci C アルキル基を 示し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （( 〜。 アルキル基を示す。 Yは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子を示す。） で表される 2, 4一ジハロゲノチエノ [2， 3—d] ピリミジン誘導体と、 式 （IV)
し (IV)
(式中、 Q2aは同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Ce) アルキル基、 含フッ 素 （(^〜( 6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Ce) アルキルチオ基から選択され る 1以上の置換基を有する置換ァリール基を示し、 Lは _B(OH)2を示す。） で表され る化合物をカップリング反応することを特徴とする式 （1—3)
Figure imgf000030_0002
(式中、 R1 R2、 Q2a及び Yは前記に同じ。）で表される 4—置換チェノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体の製造方法。
(17) —般式 （V)
Figure imgf000030_0003
(式中、 R1は水素原子、 （C Ce) アルキル基又はハロ （Ci C アルキル基を 示し、 R5は水素原子、 ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （d Cj アルキル基を示し、 R 6は含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 （d Ce) アルキルチオ基を示す。） で表される 2—アミ ノ一 3— (置換べンゾィル） チォフェン誘導体。
(18) —般式 （VI)
Figure imgf000031_0001
(式中、 R1は水素原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 （C CJ アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を示す。 Wはァリール基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （C CJ アルキル基、 ハロ 6) アルキル基、 (Cx
〜Ce) アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基又はハロ （Ci Cj アルキ ルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール基を示す。）で表される ゥレイドチォフェン誘導体。
(19) 一般式 （VII)
Figure imgf000031_0002
(式中、 R 5は水素原子、ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を示し、 R 6は含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （d Ce) アルコキシ基又は含フッ素 （C Ce) アルキルチオ基を示す。 但し、 R6が含フッ 素 （Ci Ce) アルキル基の場合、 R5は水素原子を除く。） で表される置換べンゾィ ルァセトニトリル誘導体。
(20) 3— （トリフルォロメ トキシ） 安息香酸ェチル。 発明を実施するための最良の形態
本発明における除草剤として有用な置換チェノビリミジン誘導体は、 前記一般式 (I) で示され、 新規な除草剤としての用途を見出した。
1. 本発明の除草剤として用いられる化合物
一般式 （I) における R1は、 水素原子又は置換されていても良いアルキル基であ る。
アルキル基の置換基としては、 該ィ匕合物が除草活性を発揮する限りにおいては特に 限定されないが、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素原子等のハロゲン 原子が挙げられる。 また、 上記置換されていても良いアルキル基としては炭素数 1〜 6のものが好ましく、 より好ましくは炭素数 1〜4のものである。
上記置換されていても良いアルキル基の好ましい具体例としては、 メチル基、 ェチ ル基、 プロピル基、 イソプロピル基、 プチル基、 イソプチル基等の
Figure imgf000032_0001
アルキル 基； クロロメチノレ基、 フノレオロメチノレ基、 トリフルォロメチル基、 2 _クロロェチノレ 基、 2_フルォロェチル基、 2, 2—ジフルォロェチル基、 2, 2, 2—トリフルォロェ チル基、 2, 2, 2—トリクロ口ェチル基、 3 _クロ口プロピル基、 3—プロモプロピ ル基、 3 , 3， 3—トリフルォロプロピル基、 2 , 2 , 3， 3—テトラフルォロプロピル基、 2, 2, 3, 3， 3—ペンタフルォロプロピル基、 1—メチノレー 2, 2, 2—トリフノレオ口 ェチル基、 2, 2, 2—トリフノレオロー 1一 （トリフルォロメチル） ェチル基、 1ーメ チル _ 2, 2， 3, 3, 3 _ペンタフルォロプロピル基、 4—クロ口プチル基、 4, 4, 4 一トリフルォロプチル基等のハロ （(^〜(：^ アルキル基を挙げることができる。 このうち上記 R1として好ましくは （d Cj アルキル基であり、 特に好ましく はメチル基又はェチル基である。
R2は、水素原子；フッ素原子、塩素原子、 臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子； 又は置換されていても良いアルキル基である。 R 2の置換されていても良いアルキル 基としては、 上記 R1と同様の基が挙げられる。
このうち R 2として好ましくは水素原子又はハロゲン原子である。
Q1は、水素原子；フッ素原子、塩素原子、 臭素原子、沃素原子等のハロゲン原子； シァノ基；水酸基；カルボキシ基；又は一 Χ1!^3で表される基である。
上記 Q1の— X1!^3で表される基において、 X1は、単結合、一 O—、—SOn—（式 中、 nは 0〜2の整数を示す。）、一 OSOn— （式中、 nは前記に同じ。）、一 CO—、 一 co2—、 一 oco2—又は一 OC (O) 一を示し、 好ましくは単結合、 _o_、 一 S—又は一 so2—であり、 特に好ましくは一 O—である。
上記 Q1の— XiR3で表される基において、 R3は、置換されていても良いアルキル 基、 置換されていても良いアルケニル基、 置換されていても良いアルキニル基、 置換 されていても良いアミノ基、 置換されていても良いァリール基又は置換されていても 良い複素環基である。 該複素環基の複素環としては、 酸素原子、 硫黄原子又は窒素原 子から選択される 1以上のへテロ原子を有する 5又は 6員複素環を示し、 例えば、 ォ キシラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロ一ノレ、 ピロ リジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリァゾール、 トリ ァゾリジン、イソキサゾール、イソキサゾリン、イソチアゾール、イソチアゾリジン、 ビラゾール、 ピラゾリン、 ピラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒドロピラン、 ピリ ジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チォモノレホリン、 ピぺラジン、 ピペリ ジン、 ォキサジン等が挙げられる。
上記アルキル基、 アルケニル基、 アルキニル基、 アミノ基、 ァリール基及び複素環 基の置換基としては、 該ィヒ合物が除草活性を発揮する限りにおいては特に限定されな いが、 例えば、 ハロゲン原子、 アルコキシ基、 ハロアルコキシ基、 アルキルチオ基、 ハロアルキルチオ基、 アルキルスルブイ二ノレ基、 ハロアルキルスルフィエル基、 アル キルスルホ二ノレ基、 ノヽロアルキルスルホニル基、 アルキル基、 ァリール基、 ニトロ基 が挙げられる。
また、 上記アルキル基、 アルケニル基及びアルキニル基としては、 炭素数 1〜1 0 のものが好ましく、 より好ましくは炭素数 1〜6のものであり、 上記アミノ基、 ァリ 一ル基及ぴ複素環基の炭素数としては炭素数 1 5以下のものが好ましく、 より好まし くは炭素数 1 2以下であり、 特に好ましくは炭素数 1 0以下のものである。
R 3として好ましくは、 ハロゲン原子、 置換されていても良いアルキル基、 置換さ れていても良いアルケニル基、 置換されていても良いアルキ-ル基、 置換されていて も良いァリ一ル基又は置換されていても良レ、複素還基である。
上記 R 3の好ましい具体例としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロ ピル基、 プチル基、 イソプチル基、 sec—プチル基、 tert—プチル基、 ペンチル基、 ィ ソペンチル基、 へキシル基、 イソへキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 ノニル基、 デシル基等の （C i C ) アルキル基；
シクロプロピル基、 シクロプチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基等のシク 口 （C 3〜C 6) アルキル基；
クロロメチル基、 2—クロ口ェチル基、 2—フルォロェチル基、 2 , 2—ジフノレォロェ チル基、 2， 2 , 2—トリ ブノレオロェチノレ基、 2 , 2 , 2 _トリクロ口ェチル基、 3—ク ロロプロピル基、 3—プロモプロピル基、 3 , 3， 3—トリフルォロプロピル基、 2 , 2 , 3 , 3—テトラフルォロプロピル基、 2， 2， 3， 3 , 3—ペンタフルォロプロピル基、 1—メチルー 2， 2 , 2—トリフルォロェチル基、 2， 2 , 2—トリフノレオロー 1一 （ト リフルォロメチル） ェチル基、 1—メチルー 2 , 2 , 3 , 3 , 3—ペンタフルォロプロピ ノレ基、 3—クロ口プロピル基、 3 -プロモプロピル基、 4 _クロ口プチル基、 4 , 4 , 4— トリブノレオ口プチノレ基、 5, 5, 5— トリフノレオ口ペンチノレ基、 6， 6， 6— ト リフルォ口へキシノレ基、 7—フルォ口へプチル基、 8—クロロォクチル基、 9ーフノレ ォロノ二ル基、 10一フルォロデシル基等のハロ アルキル基； メ トキシメチル基、 エトキシメチル基、 プロポキシメチル基、 イソプロポキシメチル 基、 プトキシメチル基、 ペンチルォキシメチル基、 へキシルォキシメチル基、 2—メ トキシェチル基、 2—メ トキシー 1一メチルェチル基、 2 _エトキシェチル基、 2— プロポキシェチノレ基、 2 _イソプロポキシェチノレ基、 2—メ トキシプロピノレ基、 3 - メトキシプロピノレ基、 4—メ トキシプチノレ基、 5—メ トキシぺンチノレ基、 6—メ トキ シへキシル基等の （(^〜。^ アルコキシ （^〜じ アルキル基；
(2, 2, 2—トリフルォロェトキシ) メチル基、 2 - (2, 2, 2_トリフノレオ口エト キシ） ェチル基、 3- (2， 2, 2—トリフルォロエトキシ） プロピル基、 4— (2， 2, 2—トリフルォロエトキシ） プチル基、 5 - (2, 2, 2—トリフルォロエトキシ） ペンチノレ基、 6 - (2, 2, 2 _トリフノレオ口エトキシ） へキシル基、 1—メチルー 2 ー（2, 2, 2 _トリフルォロエトキシ）ェチル基、 (トリフルォロメ トキシ）ェチル基、
(3—クロ口プロボキシ） ェチノレ基、 （4—クロロプトキシ） ェチノレ基、 （5—クロ口 ペンチルォキシ） ェチル基、 (6—フルォ口へキシルォキシ) メチル基等のハロ (Ci 〜C6) アルコキシ (C^CJ アルキル基；
2—アミノー 3—ヒ ドロキシ一 2—メチルプロピル基等の (ァミノ) ヒ ドロキシ (C 2〜C6) アルキル基；
1—メチルーシク口プロピル基、 2—メチノレーシクロプロピノレ基、 2 _ェチル一シク 口プロピル基、 2—プロピル一シクロプロピル基、 2 -プチルーシク口プロピル基、 2， 2—ジメチルーシクロプロピル基、 2—メチノレーシクロプチル基、 2—メチル一シ クロペンチル基、 4—tert—プチル一シクロへキシル基等の (C^CJアルキル (C 3〜Ce) シクロアノレキノレ基；
シクロプロピルメチル基、 2_ (シクロプロピル） ェチル基、 3- (シクロプロピル） プロピル基、 4一 （シクロプロピル） プチル基、 シクロプチルメチル基、 シクロペン チルメチル基、 シクロへキシルメチル基等のシクロ (C3〜C6) アルキル
アルキル基；
メチルチオメチル基、 ェチルチオメチル基、 プロピルチオメチル基、 プチルチオメチ ル基、 1— (メチノレチォ） ェチル基、 2— （メチルチオ） ェチル基、 3- (メチノレチ ォ） プロピル基、 4- (メチルチオ） プチル基等の （Ci Cj アルキルチオ （Ci 〜C4) アルキル基；
メチルスルフィニルメチル基、 ェチノレスルフィニルメチル基、 プロピルスルフィニル メチル基、 ブチルスルフィ二ルメチノレ基、 1一 （メチルスルフィエル） ェチル基、 2 - (メチルスルフィニル) ェチル基、 3一 (メチルスルフィニル） プロピル基、 4— (メチルスルフィニル) プチル基等の (c^cjアルキルスルブイ二ノレ ( 〜 ) アルキル基；
メチノレスノレホニルメチノレ基、 ェチルスルホニノレメチノレ基、 プロピルスノレホニルメチノレ 基、 プチルスルホニルメチル基、 1 _ (メチルスルホニル） ェチル基、 2— （メチル スルホニル） ェチル基、 3— （メチルスルホ -ル） プロピル基、 4- (メチルスルホ ニル） プチル基等の （C1〜C4) アルキルスルホニル （じ 〜じ アルキル基； ビュル基、 ァリル基、 メタリノレ基、 クロチル基、 2—プテュル基、 3—プテュル基、
2—メチル _ 2—ブテニル基、 3—メチル _ 2—プテュル基、 4一ペンテュル基、 5 —へキセニノレ基等の （C2〜（： 6) ァルケ-ル基；
2—クロロアリール基、 3 _クロロアリール基、 4一クロ口一 2—プテュル基等のハ 口 （C2〜C6) アルケニル基；
ェチニル基、 プロパルギル基、 ひ一メチルプロパルギル基、 2 _プチニル基、 3—プ チュル基、 4—ペンチ-ル基、 5—へキシュル基等の （C2〜Ce) アルキニル基；
3—クロロプロノ ノレギル基、 4一クロ口一 2—プチ二ノレ基、 5 _クロロー 3_ペンチ ニル基等のハロ （C2〜C6) アルキニル基；
フエニル基、 2 _メチルフエ-ノレ基、 3—メチルフエニル基、 4一メチルフエニル基、
2—メ トキシフエ二ル基、 3—メ トキシフエ二ル基、 4—メ トキシフエ二ル基、 2,
3—ジメチルフエニル基、 2, 4—ジメチルフエニル基、 2, 5—ジメチルフエニル基、 2, 6—ジメチルフエニル基、 3, 4—ジメチルフエニル基、 3, 5—ジメチルフエニル 基、 2—フノレオロフェニノレ基、 3—フルオロフェニノレ基、 4—フクレオ口フエ二ノレ基、 2_クロ口フエ二ノレ基、 3—クロ口フエ二ノレ基、 4_クロ口フエ-ノレ基、 2_ブロモ フエ二ノレ基、 3 _プロモフエ二ノレ基、 4—プロモフエ二ノレ基、 2, 3—ジフルオロフェ ニル基、 2, 4—ジフルオロフェニノレ基、 2, 5—ジフルオロフェニル基、 2， 6—ジブ ルオロフェニル基、 3, 4—ジフルオロフェニル基、 3, 5—ジフルオロフェニル基、 2, 3—ジクロ口フエ二ノレ基、 2, 4—ジクロロフエ二ノレ基、 2, 5—ジクロロフエ二ノレ 基、 2, 6—ジクロ口フエ二ノレ基、 3, 4—ジクロ口フエ二ノレ基、 3, 5—ジクロ口フエ ニル基、 2, 3—ジプロモフエ二ル基、 2, 4—ジプロモフエ二ル基、 2, 5—ジプロモ フエニル基、 2, 6—ジプロモフエニル基、 3, 4—ジブロモフエニル基、 3, 5—ジプ ロモフエニル基、 2— (ジフルォロメチル） フエニル基、 3— （ジフルォロメチル） フエニル基、 4— (ジブノレオロメチノレ) フエニル基、 2 - (ジフルォロメ トキシ) フ ェニル基、 3— (ジフルォロメ トキシ） フエニル基、 4一 （ジブルォロメ トキシ） フ ェニル基、 2- (ジフルォロメチルチオ) フエニル基、 3 - (ジフルォロメチルチオ) フエニル基、 4— (ジブルォロメチルチオ) フエニル基、 2— （トリフルォロメチル） フエニル基、 3 - (トリフルォロメチル） フエニル基、 4- (トリフルォロメチル） フエニル基、 2- (トリフルォロメ トキシ) フエニル基、 3- (トリフノレオロメトキ シ） フエニル基、 4— (トリフノレオロメ トキシ） フエニル基、 2— (トリフルォロメ チルチオ） フエ-ル基、 3— （トリフルォロメチルチオ） フエ-ル基、 4一 （トリフ ルォロメチルチオ） フエニル基、 2 , 4—ビス （トリフノレオロメチノレ） フエ-ノレ基、 2 , 5—ビス （トリフルォロメチル） フエニル基、 3 , 5—ビス （トリフノレオロメチノレ） フ ェニル基、 2， 4一ビス （トリフルォロメ トキシ） フエニル基、 2， 5—ビス （トリフ ルォロメ トキシ） フエニル基、 3， 5 _ビス （トリフルォロメ トキシ） フエニル基、 2 , 4一ビス (トリフノレオロメチノレチォ） フエ二ノレ基、 2 , 5 -ビス (トリフノレオロメチノレ チォ) フエ二ノレ基、 3 , 5 -ビス (トリフルォロメチルチオ) フエ二ノレ基、 2—フノレオ ロー 3— （トリフルォロメチル） フエニル基、 4一フルオロー 3 _ (トリフルォロメ チル） フエニル基、 5—フルオロー 3— （トリフルォロメチル） フエニル基、 6—フ ルオロー 3— (トリフルォロメチル） フエ-ル基、 2—クロロー 3— （トリフルォロ メチノレ） フエ二ノレ基、 4—クロ口 3 _ (トリフクレオロメチノレ） フエ-ノレ基、 5—クロ 口一 3— (トリフノレオロメチル） フエ-ノレ基、 6—クロロー 3— (トリフノレオロメチ ル） フエニル基、 2 _プロモ一 3— （トリフルォロメチル） フエ-ル基、 4一プロモ 一 3— (トリフルォロメチル) フェニル基、 5—プロモ— 3— (トリフノレオロメチル） フエニル基、 6—ブロモ一 3— (トリフルォロメチル） フエニル基、 2—メチル _ 3 - (トリフルォロメチル） フエニル基、 4—メチル一 3— （トリフルォロメチル） フ ェニル基、 5—メチノレ一 3— （トリフルォロメチル） フエ-ル基、 6—メチノレ一 3— (トリフルォロメチル) フエ二ノレ基、 2—メ トキシー 3— (トリフルォロメチル） フ ェニル基、 4—メ トキシー 3— (トリフルォロメチル) フエニル基、 5—メ トキシー 3 - (トリフノレオロメチノレ） フエ二ノレ基、 6—メ トキシー 3— (トリフノレオロメチノレ） フエニル基、 4一エトキシー 3 _ (トリフルォロメチノレ） フエニル基、 4 _n—プロボ キシ一 3— (トリフルォロメチル） フエニル基、 4—イソプロポキシ一 3— (トリフ ノレオロメチル) フエニル基、 2— ( 2， 2 , 2—トリフノレオロェチノレ) フエニル基、 3 一 （2， 2 , 2—トリフルォロェチル） フエ-ル基、 4— ( 2， 2 , 2—トリフルォロェ チル） フエニル基、 2 , 6—ジクロロー 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 2— ニトロフエニル基、 3—二トロフエニル基、 4一二トロフエ二ノレ基等の置換ァリール 基；
アミノ基、メチルァミノ基、ジメチルァミノ基、ェチルァミノ基、 ジェチルァミノ基、 メチルェチルァミノ基、プロピルァミノ基、イソプロピルァミノ基、プチルァミノ基、 フエニルァミノ基、 2—メチルフエニルァミノ基、 3—メチルフエニルァミノ基、 4 —メチルフエニルァミノ基、 2—フルオロフェニルァミノ基、 3—フルオロフヱニル アミノ基、 4一フルオロフェニルァミノ基、 2— （トリフルォロメチル） フエニルァ ミノ基、 3— (トリフルォロメチル） フエニルァミノ基、 4— (トリフルォロメチル） フエニルァミノ基、 2 _ (トリフルォロメ トキシ） フエニルァミノ基、 3— （トリフ ルォロメ トキシ） フエニノレアミノ基、 4― (トリフルォロメ トキシ） フエニルァミノ 基、 2—クロ口フエニルァミノ基、 3—クロ口フエニルァミノ基、 4一クロ口フエ- ルァミノ基、 2—メ トキシフエ二ルァミノ基、 3—メ トキシフエニルァミノ基、 4_ メ トキシフエニルァミノ基、 2—ニトロフエニルァミノ基、 3—ニトロフエニルアミ ノ基、 4—-トロフエニルァミノ基等の C C アミノ基；
ォキシラニル基、 ォキセタニル基、 テトラヒドロフリル基、 フリノレ基、 チェニル基、 ピロリル基、 ピロリジニル基、 ォキサゾリジル基、 チアゾリル基、 イミダゾリル基、 イソォキサゾリル基、 イソチアゾリジル基、 ピラゾリジル基、 テトラヒ ドロピラエル 基、 ピリジル基、 ピぺリジル基、 ピリミジニル基、 ピリダニル基、 モルホリニル基、 ピペラジ-ル基、 トリアゾリジノレ基、 1—ピロリジニル基、 1一ピロリル基、 2—ィ ソォキサゾリジニル基、 1 -ビラゾリノレ基、 1—イミダゾリル基、 1一トリァゾリル 基、 1—テトラゾリル基、 1—ピペリジル基、 4一モノレホリニル基、 4 -チォモノレホ リニル基、 2—ォキサジン一 2—ィル基、 1一ピペラジニル基等の複素環基； 及び、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素原子等のハロゲン原子、 メチル基、 ェ チル基、プロピル基、イソプロピル基、プチル基、ィソプチル基、 see—プチル基、 tert —プチル基、 ペンチル基、 へキシル基等の Ci〜C 6アルキル基、 シクロプロピル基、 シクロプチル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基等のシクロ （C3〜C6) アル キル基、 クロロメチル基、 トリフルォロメチル基、 2—クロ口ェチル基、 2—フルォ 口ェチル基、 2, 2—ジフルォロェチル基、 2, 2, 2—トリフルォロェチル基、 2, 2, 2_トリクロ口ェチル基、 3_クロ口プロピル基、 3_プロモプロピル基、 3, 3, 3 一トリフルォロプロピル基、 2 , 2 , 3 , 3—テトラフルォロプロピル基、 2, 2, 3, 3， 3—ペンタフルォロプロピル基、 1—メチル一 2 , 2， 2—トリフルォロェチノレ基、 2 ,
2, 2 _トリフルオロー 1 _ (トリフルォロメチル） ェチル基、 1—メチルー 2, 2,
3, 3, 3—ペンタフノレォロプロピノレ基、 4 _クロ口プチノレ基、 4, 4, 4—トリフノレオ 口プチル基等の (^〜じ 4ハロアルキル基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 プトキシ基、 tert—プトキシ基等の （Ci Cj ァ コキシ基等 で置換された前記の複素環基が挙げられる。
上記 Q1として好ましくは、 Q1が OR 3で表される基の場合であり、 好ましい具体 例としては、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 ブトキシ 基、 tert—プトキシ基、 ペンチルォキシ、 へキシルォキシ基等の （C Ce) アルコ キシ基；
シクロプロポキシ基、 シクロプトキシ基、 シクロペンチノレォキシ基、 シクロへキシル ォキシ基等のシクロ （C3〜C6) アルコキシ基；
クロロメ トキシ基、 フルォロメトキシ基、 トリフルォロメ トキシ基、 2—クロ口エト キシ基、 2—フルォロエトキシ基、 2， 2—ジフルォロエトキシ基、 2, 2, 2—トリフ ルォロエトキシ基、 2, 2， 2—トリクロ口エトキシ基、 3—クロ口プロポキシ基、 3 —プロモプロポキシ基、 3, 3， 3—トリフルォロプロポキシ基、 2, 2， 3, 3—テトラ フルォロプロポキシ基、 2, 2, 3, 3， 3—ペンタフルォロプロポキシ基、 1一メチル 一 2, 2, 2_トリフルォロエトキシ基、 2， 2, 2_トリフルオロー 1 _ (トリフノレオ ロメチル）エトキシ基、 1—メチルー 2, 2, 3， 3, 3 _ペンタフルォロプロポキシ基、 3 _クロ口プロポキシ基、 3—プロモプロポキシ基、 4—クロロブトキシ基、 4, 4, 4—トリフルォロプトキシ基、 5, 5， 5—トリフルォロペンチルォキシ基、 6, 6, 6—トリフルォ口へキシルォキシ基等のハロ （Ci~C6) アルコキシ基； ビニルォキシ基、 ァリルォキシ基、 メタリルォキシ基、 クロチルォキシ基、 2—プテ ニルォキシ基、 3—プテュルォキシ基、 2—メチル _ 2—プテュルォキシ基、 3—メ チルー 2—プテュルォキシ基等の （C2〜C4) アルケニルォキシ基；
2—クロロアリルォキシ基、 3_クロロアリルォキシ基、 4一クロ口一 2—プテュル ォキシ基等のハロ （C2〜C4) アルケニルォキシ基；
ェチニルォキシ基、 プロパルギルォキシ基、 《—メチルプロパルギルォキシ基、 2— プチニルォキシ基、 3—プチ-ルォキシ基等の （C2〜C4) アルキニルォキシ基；
3—クロ口プロパルギルォキシ基、 4—クロロー 2 _プチニルォキシ基等のハロ （C
2〜C4) アルキニルォキシ基；
テトラヒドロフリルォキシ基、 フリルォキシ基、 イミダゾリルォキシ基、 イソォキサ ゾリルォキシ基、 イソチアゾリジルォキシ基、 ビラゾリジルォキシ基、 トリアゾリジ ルォキシ基、 2—イソキサゾリジニルォキシ基、 1—ピラゾリルォキシ基、 1一イミ ダゾリルォキシ基等の複素環ォキシ基、 及び、 フエノキシ基、 ベンジルォキシ基 （該 複素環ォキシ基、 フエノキシ基、 ベンジルォキシ基は、 ハロゲン原子、 Ci~C3アル キル基、 C3〜C6シクロアルキル基、 C 〜 C 2ハロアルキル基及び C 〜 C 3アルコ キシ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い。）等が挙げられ、 より 好ましくは （C Cs) アルコキシ基又はハロアルコキシ基である。
Q2は、 水素原子；フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子、 沃素原子等のハロゲン原子； 水酸基；又は一 X2R4で表される基である。
上記 Q2の一 X2R4で表される基において、 X2としては前記の X1と同様の基が挙 げられ、 R4としては、 前記の R3と同様の基が挙げられる。
このうち、 Q2として好ましくは、
1) メチルチオ基、 ェチルチオ基、 プロピルチォ基、 イソプロピルチオ基、 プチルチ ォ基、ィソプチルチオ基、 sec—プチルチオ基、 tert—プチルチオ基、ペンチルチオ基、 イソペンチルチオ基、 へキシルチオ基等のアルキルチオ基、 メチルスルフィニル基、 ェチルスルフィニル基、 プロピルスルフィニル基、 イソプロピルスルブイ二ル基、 プ チルスルフィニル基、イソプチルスルフィニル基、 sec—プチルスルブイ-ノレ基、 tert —プチルスノレフィニル基、 ペンチルスルフィ二ノレ基、 ィソペンチルスルフィ二ノレ基、 へキシルスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基又はメチルスルホ -ル基、 ェチ ルスルホニル基、 プロピルスルホ二ノレ基、 イソプロピルスルホ-ノレ基、 プチルスルホ 二ノレ基、イソプチルスルホニル基、 sec—プチルスルホニル基、 tert—プチルスルホニ ル基、 ペンチルスルホニル基、 イソペンチルスルホニル基、 へキシルスルホ-ル基等 のァノレキノレスノレホニノレ基、
2) 同一又は異なっても良く、 フルォロメチル基、 ジブルォロメチル基、 トリフノレオ ロメチル基、 2—フルォロェチル基、 2, 2—ジフルォロェチル基、 2, 2, 2—ト リフルォロェチル基、 3—フルォロプロピル基、 3, 3, 3—トリフルォロプロピル 基、 2, 2, 3, 3, —テトラフルォロプロピル基、 2, 2, 3, 3, 3一^。、ソ フ ルォロプロピル基、 1—メチル一 2, 2, 2—トリフルォロェチル基、 2, 2, 2—ト リフルオロー 1— (トリフルォロメチル） ェチル基、 1一メチル一 2, 2， 3, 3, 3— ペンタフルォロプロピル基等の含フッ素アルキル基、 フルォロメ トキシ基、 ジフルォ ロメ トキシ基、 トリフルォロメトキシ基、 2—フルォロエトキシ基、 2, 2—ジフル ォロエトキシ基、 2， 2, 2_トリフルォロエトキシ基、 3—フルォロプロポキシ基、 3, 3, 3—トリフルォロプロポキシ基、 2， 2, 3, 3, —テトラフルォロプロボ キシ基、 2, 2， 3， 3, 3 _ペンタフルォロプロポキシ基、 1一メチル一 2， 2, 2—トリフルォロエトキシ基、 2, 2, 2—トリフルオロー 1一 (トリフルォロメチル) エトキシ基、 1ーメチルー 2, 2, 3, 3， 3—ペンタフルォロプロポキシ基等の含フッ 素アルコキシ基及びフルォロメチルチオ基、 ジフルォロメチルチオ基、 トリフルォロ メチルチオ基、 2—フルォロェチルチオ基、 2, 2—ジフルォロェチルチオ基、 2, 2, 2—トリフルォロェチルチオ基、 3 _フルォロプロピルチオ基、 3, 3, 3—ト リフルォロプロピルチオ基、 2, 2, 3， 3, —テトラフルォロプロピルチオ基、 2， 2, 3， 3， 3—ペンタフルォロプロピルチオ基、 1一メチル一 2, 2, 2—トリフ ルォロェチルチオ基、 2, 2, 2—トリフルオロー 1— (トリフルォロメチル） ェチル チォ基、 1—メチルー 2, 2, 3, 3, 3—ペンタフルォロプロピルチオ基等の含フッ素 アルキルチオ基からなる群より選ばれる置換基で少なくとも 1置換されているァリー ル基、 ァリールォキシ基、 ァリールチオ基、 ァリールスルフィニル基又はァリールス ノレホニノレ基、
3) 前述と同様の含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキル チォ基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良い複素環基又は複素環ォ キシ基である。 該複素環は、 前記 Q1で例示した酸素原子、硫黄原子又は窒素原子から 選択される 1以上のへテロ原子を有する 5又は 6員複素環である。
上記アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基及ぴアルキルスルホニル基、並びに、 上記ァリール基等の置換基である含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及ぴ含 フッ素アルキルチオ基として好ましくは C Ceのものであり、 より好ましくは 〜C4のものである。
上記含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキルチオ基から なる群より選ばれる置換基で少なくとも 1置換されているァリール基、 ァリールォキ シ基、 ァリ一ルチオ基、 ァリ一ルスルフィニル基又はァリ一ルスルホニル基の好まし い具体例としては、 2— （フルォロメチル） フエニル基、 2- (フルォロメ トキシ） フエニル基、 2— （フルォロメチルチオ） フエニル基、 3 - (フルォロメチル） フエ ニル基、 3 - (フルォロメ トキシ） フエニル基、 3— （フルォロメチルチオ） フエ二 ル基、 4— (フルォロメチル） フエニル基、 4— (フルォロメ トキシ） フエニル基、 4- (フルォロメチルチオ） フエニル基、 2- (ジフルォロメチル） フエニル基、
2- (ジフルォロメ トキシ） フエニル基、 2— （ジフルォロメチルチオ） フエニル基、
3— （ジフルォロメチル） フエニル基、 3 - (ジフルォロメ トキシ） フエニル基、
3— （ジブルォロメチルチオ） フエニル基、 4- (ジフルォロメチル） フエ二ノレ基、 4 - (ジフルォロメ トキシ） フエニル基、 4 - (ジフルォロメチルチオ） フエニル基、 2一 (トリフノレオロメチノレ） フエニル基、 2一 (トリフノレオロメ トキシ） フエ二ノレ基、 2 - (トリフルォロメチルチオ) フエニル基、 3― (トリフルォロメチル) フエ二ノレ 基、 3 _ (トリフルォロメ トキシ） フエニル基、 3 - (トリフルォロメチルチオ） フ ェニル基、 4— (トリフルォロメチル） フエニル基、 4一 （トリフルォロメ トキシ） フエニル基、 4 - (トリフルォロメチルチオ） フエニル基、
2 - ( 2—フルォロェチル) フエニル基、 2― (2—フルォロエトキシ） フェニル基、 2一 (2—フルォロェチルチオ） フエニル基、 3 - (2—フルォロェチル） フエ二ノレ 基、 3— （2—フルォロエトキシ） フエニル基、 3 - (2—フルォロェチルチオ） フ ェニル基、 4 - (2—フルォロェチル） フエニル基、 4一 （2—フルォロエトキシ） フエニル基、 4一 （2—フルォロェチルチオ） フエニル基、 2— (2, 2—ジフルォ ロェチル） フエニル基、 2 - (2, 2—ジフルォロエトキシ） フエニル基、 2- (2, 2—ジフルォロェチルチオ） フエニル基、 3- (2, 2—ジフルォロェチル) フエ二 ル基、 3 - (2， 2—ジフルォロエトキシ) フエニル基、 3 - (2, 2—ジフルォロ ェチルチオ） フエ-ノレ基、 4 - (2， 2—ジフルォロェチル) フエニル基、 4 - (2, 2—ジフルォロエトキシ） フエニル基、 4一 (2， 2ージフルォロェチルチオ) フエ ニル基、 2- (2, 2， 2—トリフノレオロェチノレ） フエニル基、 2- (2， 2, 2 - トリフルォロエトキシ） フエ-ル基、 2— (2, 2, 2—トリフルォロェチルチオ） フエニル基、 3— （2, 2, 2—トリフルォロェチル） フエニル基、 3— (2， 2, 2_トリフルォロエトキシ） フエニル基、 3— (2, 2， 2—トリフルォロェチルチ ォ） フエニル基、 4— (2, 2， 2—トリフルォロェチル） フエ-ル基、 4— (2, 2, 2—トリフノレオ口エトキシ） フエュル基、 4- (2, 2, 2—トリフノレオロェチ ルチオ） フエニル基、 並びに、 上記に例示されたフエニル基の置換基と同様の置換基 を有するフエノキシ基及びフエ二ルチオ基が挙げられ、
このうち好ましくは 3— (フルォロメチル) フエニル基、 3― (フルォロメ トキシ) フエニル基、 3— （フノレオロメチノレチォ） フエニル基、 3— （ジフルォロメチノレ） フエニル基、 3— (ジブルォロメ トキシ） フエニル基、 3— （ジフルォロメチルチオ） フエ二ノレ基、 3— （トリフノレオロメチノレ） フエ二ノレ基、 3 - (トリフノレオロメトキシ） フエニル基、 3 - (トリフルォロメチルチオ） フエニル基、 3— （2—フルォロェチ ル） フエニル基、 3— （2—フルォロエトキシ） フエニル基、 3 - (2—フルォロェ チルチオ） フエニル基、 3— (2, 2—ジフルォロェチル） フエニル基、 3— (2,
2—ジフルォロエトキシ） フエニル基、 3— （2, 2—ジフルォロェチルチオ） フエ ニル基、 3— （2, 2, 2—トリフルォロェチル） フエニル基、 3— (2, 2, 2— トリフルォロエトキシ） フエニル基、 3 - (2， 2, 2—トリフルォロェチルチオ） フエニル基、 並びに、 上記に例示されたフ ニル基の置換基と同様の置換基を有する フエノキシ基及びフエ二ルチオ基である。
上記含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキルチオ基から なる群より選ばれる置換基で置換されていても良い複素環基又は複素環ォキシ基とし て好ましくはこれらの置換基で置換されていても良い含窒素複素環であり、 特に好ま しくは含窒素 5〜 6員環である。
含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキルチオ基からなる 群より選ばれる置換基で置換されていても良い複素環基又は複素環ォキシ基の好まし い具体例としては、
3— (トリフルォロメチル) ピラゾール一1ーィル基、 3— （トリプノレオロメ トキシ） ピラゾールー 1ーィル基、 3—（トリフルォロメチルチオ）ピラゾール一 1ーィル基、 1一 [3 _ (トリフルォロメチルチオ） ]ピラゾリルォキシ基、 3— (1， 1, 2, 2, 2一ペンタフルォロェチル) ピラゾール一 1—ィル基、 3 - (1, 1, 2， 2， 2一 ペンタフルォロエトキシ） ピラゾールー 1—ィル基、 3— （1, 1, 2， 2, 2—ぺ ンタフルォロェチルチオ） ピラゾールー 1ーィル基、 4一 （トリフルォロメチル） ピ ラゾール一 1—ィル基、 4一 （トリフルォロメ トキシ） ピラゾーノレ一 1ーィル基、
4一 （トリブノレオロメチノレチォ） ピラゾールー 1ーィル基、 1_[3— （1, 1, 2, 2， 2—ペンタフルォロェチル） ]ピラゾリルォキシ基、 1_[3— （1， 1, 2, 2, 2—ペンタフルォロエトキシ） ]ピラゾリルォキシ基、 1— [3— (1, 1， 2, 2, 2—ペンタフルォロェチルチオ） ]ピラゾリルォキシ基、 1— [4— (トリフルォロメ チル） ]ビラゾリルォキシ基、 1— [ 3—（トリフルォロメチル) ]ビラゾリルォキシ基、 1一 [ 3— (トリフルォロメ トキシ） ]ビラゾリルォキシ基、 1一 [4一 （トリフルォロ メ トキシ） ]ピラゾリルォキシ基、 1— [4一 (トリフルォロメチルチオ) ]ピラゾリル ォキシ基、 2— （トリフルォロメチル） イミダゾール _ 1—ィル基、 2— （トリフル ォロメトキシ） イミダゾールー 1ーィル基、 4— (トリフルォロメチル） イミダゾー ル一 1—ィル基、 4— (トリフルォロメトキシ）イミダゾール— 1—ィル基、 4— (ト リフルォロメチルチオ） ィミダゾールー 1ーィル基、 2— (トリフルォロメチルチオ） イミダゾール一 1—ィル基、 4- (1, 1, 2, 2， 2—ペンタフルォロェチル） ィ ミダゾ一ルー 1一^ fル基、 4— (1， 1， 2, 2, 2—ペンタフルォロエトキシ） ィ ミダゾ一ルー 1—ィル基、 4一 (1, 1, 2, 2, 2—ペンタフルォロェチルチオ) イミダゾールー 1ーィル基、 1ー[2— （トリフルォロメチル） ]イミダゾリルォキシ 基、 1_[2— (トリフルォロメ トキシ） ]イミダゾリルォキシ基、 1— [2— （トリフ ルォロメチルチオ) ]ィミダゾリルォキシ基、 1 _ [4一 （トリフルォロメチル) ]ィミ ダゾリルォキシ基、 1— [4— (トリフルォロメトキシ） ]イミダゾリルォキシ基、 1 — [4— (トリフルォロメチルチオ) ]ィミダゾリルォキシ基等が挙げられ、 このうち好ましくは
3 - (トリフルォロメチル） ピラゾール— 1—ィル基、 3 - (トリフルォロメ トキシ) ピラゾールー 1ーィル基、 3— (トリフルォロメチルチオ） ピラゾール一 1—ィル基、 3 - (1， 1, 2， 2, 2—ペンタフルォロェチル) ピラゾールー 1—ィル基、 3 - (1, 1, 2, 2, 2—ペンタフルォロエトキシ） ピラゾーノレ一 1—ィル基、 3— (1, 1, 2, 2, 2—ペンタフルォロェチルチオ) ピラゾールー 1—ィル基、 2— (トリ フルォロメチル） ィミダゾールー 1—ィル基、 2— (トリフルォロメ トキシ） イミダ ゾール一 1ーィル基、 2— (トリフルォロメチルチオ） ィミダゾールー 1—ィル基、 4— (トリフルォロメチル) イミダゾール _ 1—ィル基、 4 - (トリフルォロメトキ シ） ィミダゾール一 1—ィル基、 4— (トリフルォロメチルチオ） ィミダゾール— 1 —ィノレ基である。
2. —般式 （I) で表される新規化合物
本発明の除草剤として使用される上記一般式 (I)で表される化合物のうち、以下に 説明する化合物は新規化合物であり、 除草剤としても、 より好ましい化合物である。 上記一般式 （I) において、
(1) Aが A1であり、 R1及び R2は前記に同じくし、 Q1が一 OR3 (R3は前記に 同じ。） の場合には、 Q 2は水素原子；フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン 原子；水酸基又は一 X2R4 (式中、 X 2及び R 4は前記に同じ。） である。
但し、 X2が単結合を示す場合、 R4はァミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基及びモノハロ （Ci Cjアルキルァミ ノ基を除き、 X2が一0—の場合、 R4は （C アルキル基を除く。
(2) Aが A 1であり、 R1及び R 2は前記に同じくし、 Q1が水素原子；フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子；水酸基又は—Χ1!^3であり、 X1が単結合、 -SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 _co2_、一OC02—又は _OC (O) —であり、 R3が前記に同じ場合、 Q 2は含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキルチオ基から なる群より選ばれる置換基で少なくとも 1置換されている、 ァリール基、 ァリールォ キシ基、ァリ一ルチオ基、ァリ一ルスルフィニル基又はァリ一ルスルホニル基である。 但し、 Q1が （C i C j アルキル基 （ が単結合且っ！^^ （C i C j アルキル基を示す。） を示す場合、 Q2は含フッ素アルキル基で少なく と も 1置換されている置換ァリールォキシ基を除く。
(3) Aが A2であり、 R1及ぴ R2は前記に同じくし、 Q1がー OR3の場合には、 Q 2は水素原子；フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子；水酸基又は— X 2 R4であり、 X2は単結合、 —SOn— (式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式 中、 nは前記に同じ。）、 一 CO_、 _C02—、—OC02—又は _OC (O) 一であ り、 R4は置換されても良いアルキル基、 置換されても良いアルケニル基、 置換され ても良 、アルキニル基、 置換されても良いアミノ基又は置換されても良いァリール基 である。
但し、 X 2が単結合を示す場合、 R 4は置換されても良いアミノ基及び置換されても良 いアルキル基を除く。
(4) Aが A 2であり、 R1及ぴ R 2は前記に同じくし、 Q1がフッ素原子、塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子；水酸基又は— X1!^ 3であり、 X1が単結合、 一 SOn—
(式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 C02—、一OC02—又は一 OC (O) —であり、 R3が前記に同じ場合、 Q2は含フ ッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アルキルチオ基からなる群より 選ばれる置換基で少なくとも 1置換されている、 ァリール基、 ァリールォキシ基、 了 リ一ルチオ基、 了リ一ルスルフィエル基又はァリ一ルスルホニル基である。
上記 Q2としては、 含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基及び含フッ素アル キルチオ基からなる群より選ばれる置換基で少なくとも 1置換されている、 ァリール 基、 ァリールォキシ基、 ァリールチオ基、 ァリールスルフィニル基又はァリールスル ホニル基が好ましい。
また Aが A 1であり Q1がハロゲン原子又は水酸基である化合物は、 それ自身も除 草活性を有するが、 更に本発明の除草剤として用いられる他の化合物を合成するに当 たっての中間体としても有用なものである。
3. 置換チェノピリミジン誘導体の製造方法及び中間体
上記一般式 （I) で表される化合物は、 公知の方法、 それに準じた方法またはそれ らの方法を組み合わせることにより任意に製造することができるが、 特に新規化合物 は下記に示す方法 1 〜 8により製造するのが好ましい。 製造方法一 1
Figure imgf000044_0001
(I-7)
(式中、 R R 2、 R 3、 Q 2、 n、 Y及び X 1は前記に同じくし、 R 7はメチル基、 ェ チル基又はプロピル基を示し、 R 8はアルキルスルホニル基、ァリールスルホニル基、 ァシル基又は置換されていても良いカノレバモイル基を表し、 h a 1はハロゲン原子を 示す。）
工程一 1は、 一般式 （VIII) で表されるエステル誘導体と、 ァセトニトリルとを反 応させ、一般式（IX)で表されるァシルァセトニトリル誘導体を製造する工程である。 ここで、 3— （トリフルォロメトキシ） 安息香酸ェチルは新規化合物であり、 また一 般式 （IX) で表されるァシルァセトニトリル誘導体のうち、 下記一般式 （VII)
Figure imgf000044_0002
(式中、 R 5は水素原子、ハロゲン原子又は置換されていても良いアルキル基を示し、 R 6は含フッ素アルキル基、 含フッ素アルコキシ基又は含フッ素アルキルチオ基を示 す。 但し、 R 6が含フッ素アルキル基の場合、 R 5は水素原子ではない。） で表される 置換べンゾィルァセトニトリル誘導体は新規化合物である。
本工程の反応は塩基の存在下に行うことが収率の点で好ましい。 塩基としては、 水 素化ナトリウム、 水素ィ匕カリウム、 リチウムアミド、 ナトリウムアミド、 リチウムジ イソプロピルアミド （L D A)、 n—プチルリチウム、 sec—プチルリチウム、 tープ チルリチウム、 リチウムへキサメチルジシラジド、 カリウム一 t _ブトキシド等のァ ルカリ金属塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0 . 1 ~ 2 . 0当量用 いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 ァセトニトリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 ト ルェン、 キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 オクタン等の脂 肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テトラヒドロブ ラン（T H F )、ジメトキシェタン（DME)、 1， 4—ジォキサン等のエーテル系溶媒； 液体アンモニア；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば 使用することができる。
反応は、 - 7 8でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程 _ 2は、 一般式 （IX) で表されるァシルァセトニトリノレ誘導体、 一般式 （X) で 示される化合物及び硫黄とを反応させ、 一般式 （XI) で表される 2—アミノチオフヱ ン誘導体を製造する工程である。 ここで、 一般式 （IX) で表される 2—アミノチオフ ェン誘導体のうち下記一般式 （V)
（V)
Figure imgf000045_0001
(式中、 R R 5及び R 6は前記に同じ。）
で表される 2 _アミノー 3— (置換べンゾィル） チォフエン誘導体は新規化合物であ る。
本工程は、 J. Med. Chera. 1973年，第 16卷, 214頁に記載の方法に準じ行うことができ、 塩基の存在下に行うことが収率の点で好ましい。 塩基としては、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチルモルホリン、 N, N—ジ メチノレア二リン（DMA)、 N, N—ジェチルァ二リン、 4ー t一プチルー N, N—ジメ チルァ二リン、 ピリジン、 4— (ジメチルァミノ) ピリジン (DMA P )、 ピコリン、 ノレチジン、 1 , 5—ジァザビシクロ [ 5 . 4. 0 ]ゥンデクー 5—ェン（D B U)、 1 , 4— ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン （DAB CO)、 イミダゾール等の有機塩基、水素 化ナトリウム、 水素ィ匕カリウム、 リチウムアミ ド、 ナトリウムアミド、 リチウムジィ ソプロピルアミ ド （LDA)、 ブチルリチウム、 t一プチルリチウム、 リチウムへキサ メチルジシラジド、 ナトリウムメ トキシド、 ナトリウムエトキシド、 カリウム一 t— プトキシド等のアルカリ金属塩基等を用いることができる。塩基は、基質に対して 0. ：!〜 2.0当量用いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 N, N—ジメチノレホルムアミ ド （DMF)、 N，N—ジ メチルァセトアミ ド（DMAC)、 N—メチノレピロリ ドン（NMP)等のアミド系溶媒： ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタ ン、 へキサン、 オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロ ピルエーテル、 テトラヒドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4— ジォキサン等のエーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DMSO)、 メタノール、 ェ タノール、 イソプロパノール （I PA) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混 合溶媒等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一 3は、 一般式 （XI) で表される 2 _アミノチォフェン誘導体と、 ゥレアとを 反応させ、 一般式 （XII) で表される 2—ヒドロキシチエノ [2， 3_d] ピリミジン誘 導体を製造する工程である。
本工程は、 Chem. Pharm. Bull. , 1980年，第 28卷， 3172頁に記載の方法に準じて行うこ とができる。
本反応は溶媒中ノもしくは無溶媒で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶 媒であれば使用することができる。溶媒としては、 Ν,Ν—ジメチルホルムアミ ド （D MF)、 N, N—ジメチルァセトアミ ド (DMAC)、 N—メチルピロリ ドン （NMP) 等のァミ ド系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼ ン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へ キサン、 オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルェ 一テル、 テトラヒ ドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4_ジォキ サン等のエーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DMSO)、 メタノール、 エタノー ル、 イソプロパノール （I P A) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒 等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 室温から溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程 _ 4は、一般式（XII) で表される 2—ヒドロキシチエノ [ 2 , 3— d] ピリミジ ン誘導体のヒドロキシ基をハロゲン化剤を用いてハロゲン化し、一般式（1—4 )で表 されるチエノ [ 2 , 3 _d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
本工程も、 Chem. Pharm. Bull. , 1980年，第 28卷， 3172頁に記載の方法に準じて行うこ とができる。 すなわち、 本工程で用いるハロゲン化剤としては、 スルフリルクロライ ド、 チォユルク口ライド、 ォキシ塩ィ匕リン、 ホスゲン、 三塩化リン、 五塩化リン、 三 臭化リン等のハロゲン化剤を用いることができる。 この際、 トリェチルァミン、 ジィ ソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン等のアルキルァミン他、 Ν, Ν—ジメチル ホルムアミド （DMF )、 N， N—ジメチルァセトアミド、 N, N—ジメチルァニリン、 N, N—ジェチルァニリン等をハロゲン化反応の触媒として用いることにより収率よ く目的物を得ることができる。 その使用量は、 基質に対して 0 . 1〜2当量程度であ る。
本反応は溶媒中でも実施することもでき、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用 することができる。 溶媒としては、 水；クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン等の芳香 族炭化水素系溶媒；クロロホルム、 ジクロロメタン、 四塩ィ匕炭素等のハロゲン化炭化 水素系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等を用いることができる。
反応は、一 2 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一 5は、 一般式 （1—4 ) で表されるチエノ [ 2 , 3 -d] ピリミジン誘導体と、 一般式 （II) (式中、 R 3及び X1は前記に同じ。） で表される化合物とを反応させ、 一 般式（I一 5 )で表されるチエノ [ 2 , 3 -d]ピリミジン誘導体を製造する工程である。 本工程の反応は塩基の存在下に行うことが収率の点で好ましい。 塩基としては、 水 素ィ匕ナトリウム、 水素化カリウム、 リチウムアミド、 ナトリウムアミ ド、 リチウムジ イソプロピルアミド （LDA)、 n—プチルリチウム、 sec—プチルリチウム、 tープ チルリチウム、 トリメチノレシリノレリチウム、 リチウムへキサメチルジシラジド、 炭酸 ナトリゥム、 炭酸カリウム、 水酸ィ匕ナトリゥム、 水酸ィヒカリウム、 ナトリゥムメ トキ シド、 ナトリウムエトキシド、 カリウム一 t—プトキシド等のアルカリ金属塩基、 ト リェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチルモル ホリン、 N, N—ジメチノレア二リン （DMA)、 N, N_ジェチルァュリン、 4一 tープ チル一 N, N—ジメチルァニリン、 ピリジン、 4— (ジメチルァミノ） ピリジン （DM AP)、 ピコリン、 ルチジン、 1, 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデクー 5—ェン (DBU)ゝ 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン （DABCO)、 イミダゾール 等の有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1-2.0当量用い ることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミ ド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミ ド （DMAC)、 N_メチルピロリ ドン （NMP) 等のアミ ド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4—ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DMSO)、 メタノール、 エタノール、 イソプ ロパノール （I PA) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に 害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、— 78 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良！/ヽが、 ヽずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程 _ 6は、一般式（1—5)で表されるチエノ [2, 3—d]ピリミジン誘導体の中、 X1がー S—で示される化合物を酸ィ匕し、 一般式 （1—6) で表されるチエノ [2, 3 -d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
本工程は酸化剤を用いることにより行うことができ、 用いる酸化剤としては m—ク 口口過安息香酸、 過酸化水素水、 過酢酸等の酸化剤を挙げることができる。 本反応は溶媒中でも実施することもでき、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用 することができる。 溶媒としては、 水； トノレェン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロべンゼ ン等の芳香族炭化水素系溶媒；クロロホノレム、 ジクロロメタン、 四塩化炭素等のハロ ゲン化炭化水素系溶媒；酢酸；あるいはこれらの混合溶媒等を用いることができる。 反応は、 - 20°Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。
工程一 7は、一般式（ΧΠ) で表される 2—ヒドロキシチエノ [2, 3-d] ピリミジ ン誘導体と、一般式（XIII) で表される化合物とを反応させ、一般式 （1—7) で示さ れるチエノ [2, 3— d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
本工程の反応は塩基又はトリメチルァミン塩酸塩等のトリアルキルァンモニゥムク 口ライド類の存在下に行うことが好ましい。 塩基としては、 トリェチルァミン、 ジィ ソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチルモルホリン、 N, N—ジメチ ルァニリン (DMA), N, N_ジェチルァニリン、 4- t一プチルー N, N—ジメチノレ ァニリン、 ピリジン、 4- (ジメチルァミノ） ピリジン （DMAP)、 ピコリン、 ルチ ジン、 1， 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデクー 5—ェン （DBU)、 1, 4ージァ ザビシクロ [2. 2.2]オクタン（DABCO)、イミダゾール等の有機塩基等を用いる ことができる。塩基又はトリアルキルアンモニゥムクロライド類は、基質に対して 0. 1〜2.0当量用いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミ ド （DMAC)、 N_メチルピロリ ドン （NMP) 等のアミ ド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4一ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド（DMSO)；あるいはこれらの混合溶媒等の反 応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 -78 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。 反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト ダラフィ一等の操作で精製することができる。 製造方法一 2
Figure imgf000050_0001
(式中、 Q 2は前記に同じ。）
工程一 8は、 一般式 （IX) で表されるァシルァセトニトリル誘導体と、 式 （XIV) で 表される 2， 5—ジヒ ドロキシー 1， 4ージチアンとを反応させ、 一般式 （XV) で表 される 2—アミノチォフェン誘導体を製造する工程である。
本工程は、 塩基を使用するのが収率の点で好ましい。.塩基としては、 トリェチルァ ミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチルモルホリン、 N, N—ジメチルァニリン (DMA), N， N_ジェチルァニリン、 4 - t—プチル— N, N—ジメチルァニリン、 ピリジン、 4— (ジメチルァミノ） ピリジン （DMAP)、 ピ コリン、ノレチジン、 1， 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデクー 5—ェン（DBU)、 1， 4ージァザビシクロ [2. 2.2]オクタン （DABCO)、 イミダゾール等の有機塩 基、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム、 リチウムアミ ド、 ナトリウ.ムアミ ド、 リチ ゥムジイソプロピルアミ ド （LDA)、 プチルリチウム、 t—ブチルリチウム、 トリメ チノレシリノレリチウム、 リチウムへキサメチルジシラジド、 ナトリウムメ トキシド、 ナ トリウムエトキシド、 カリウム一 tープトキシド等のアルカリ金属塩基等を用いるこ とができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜 2.0当量用いることにより、 収率よく目 的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N， N—ジメチルホルムアミ ド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミ ド （DMAC)、 N—メチルピロリ ドン （NMP) 等のアミ ド 系溶媒；ァセトニトリノレ、 プロピオ-トリル等の-トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4一ジォキサン等の エーテル系溶媒：ジメチルスルホキシド (DMSO) ；メタノール、 エタノール、 イソ プロパノール （I P A) 等のアルコール溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に 害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。 製造方法一 3
R9X3H (XVII)
工程一 10
R9X3H (XVII)
Figure imgf000051_0001
工程一 12
(1-10) (1-11)
(式中、 R R 2、 h a 1及ぴ Q 2は前記に同じくし、 X 3は単結合、 一 0—又は一S —を示し、 R 9は、 置換されていても良いアミノ基、 置換されていても良いアルキル 基又は置換されていても良いァリール基を表す。）
工程一 9は、一般式（XI) で表されるアミノチォフェン誘導体と一般式（XVI) で表 されるハロアセトニトリルとを塩ィヒアルミニウム等のルイス酸存在下反応させ、 一般 式 （1—8 ) で表されるチエノ [ 2 , 3— d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。 本工程は、 J. Med. Chem. , 1996年，第 39卷， 第 16号， 5176頁に記載の方法に準じて 行う事ができる。
本反応は溶媒中でも実施することもでき、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用 することができる。 溶媒としては、 水；クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン等の芳香 族炭化水素系溶媒；クロロホルム、 ジクロロメタン、 四塩化炭素等のハ口ゲン化炭ィ匕 水素系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等を用いることができる。
反応は、 0でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一10は一般式（1—8) で表されるチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体と一 般式 （XVII) で表される化合物とを前述の工程一 5と同様の操作で反応させ、 一般式
(1-9) で表されるチエノ [2， 3_d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。 工程一 1 1は、 一般式 （XI) で表されるアミノチォフェン誘導体と、 グリオキシリ ック酸及ぴ酢酸アンモニゥムとを反応させることにより、一般式（1—10)で表され るチエノ [2, 3— d] ピリミジンカルボン酸誘導体を製造する工程である。
本工程は、 Tetrahedron, 1993年， 第 49卷， 第 31号， 6899頁に記載の方法に準じて 行うことができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N， N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N—メチルピロリ ドン（NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；メタノール、 エタ ノール、プロパノール、ィソプロパノール等のアルコール系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（THF)、ジメ トキシェタン（DME)、 1， 4—ジォキサン等のエーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド (DMSO) ；あるい はこれらの混合溶媒等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。 反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程 _1 2は、 チエノ [2, 3-d] ピリミジンカルボン酸誘導体 （1—10) から、 チォユルク口ライド、 ォキシ塩化リン、 五塩化リン、 ォキザリルクロライド等を用い 酸クロライドを製造した後、 一般式 （XVII) で表される化合物とを反応させ、 一般式 (1- 11) で表されるチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。 酸ハライドを原料に、一般式（1—1 1) で表されるチエノ [2, 3—d] ピリミジン 誘導体を製造する工程では、 塩基の存在下に行うことが好ましい。 塩基としては、 ト リエチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチノレモノレ ホリン、 N, N—ジメチルァニリン (DMA)、 N, N—ジェチルァニリン、 4一 tーブ チノレ _N, N—ジメチ^/ァニリン、 ピリジン、 4一 （ジメチノレアミノ） ピリジン （DM AP)、 ピコリン、 ノレチジン、 1, 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデク一 5—ェン
(DBU)、 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン（DABCO)、イミダゾール 等の有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜2.0当量用い ることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N—メチルピロリドン (画 P)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭ィ匕水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメトキシェタン （DME)、 1, 4—ジォキサン等の エーテル系溶媒；ジメチルスルホキシド（DMSO)；あるいはこれらの混合溶媒等の 反応に害を及ぼさな 、溶媒であれば使用することができる。
反応は、 -78でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モノレ反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト ダラフィ一等の操作で精製することができる。 製造方法一 4
R0 4Sn (XVIII)
Figure imgf000053_0001
工程 3
(I- ) (1-12)
(式中、 R R2、 Q 2及ぴ Yは前記に同じくし、 R 10はアルキル基を表す。） 工程— 13は、一般式（1—4) で表されるチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体と 一般式（XVIII) で表される錫ィヒ合物とを反応させ、 チエノ [2, 3—d] ピリミジン誘 導体 （1—12) を製造する工程である。
本工程は、 （Ph3P) 2P dC 12等のパラジウム触媒を用いることにより、収率よ く反応を進行させることができる。パラジウム触媒の使用量としては、一般式（I— 4 ) で表されるチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体に対して 0. 0001〜0. 1倍モ ルの範囲で適宜選択して使用すれば良い。
溶媒としては、 水；ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジ ェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テトラヒ ドロフラン （THF)、 ジメ トキ シェタン （DME)、 1, 4—ジォキサン等のエーテル系溶媒；クロ口ホルム、 ジクロ ロメタン、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等 の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良!/、が、 V、ずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 製造方法一 5
Figure imgf000054_0001
(式中、 R\ R 2及び Q 2は前記に同じ。）
工程— 14は、一般式（1—10) で表されるチエノ [2, 3_d] ピリミジン誘導体 を脱炭酸することにより、一般式（1—13) で表されるチエノ [2, 3— d] ピリミジ ン誘導体を製造する工程である。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反.応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミ ド （DMAC)、 N—メチルピロリドン (NMP) 等のアミ ド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメトキシェタン（DME)、 1, 4 _ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド（DMSO)：あるいはこれらの混合溶媒等の反 応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 室温から溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一 15は、一般式（1—13) で表されるチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体 に酸化剤を反応させ、 1位及び Z又は 3位の窒素原子を酸化した後に、 トリメチルシ リルシアナイドを作用させることにより、 一般式 （1—14) で表されるチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
本工程は、 Synthesis, 1984年， 681頁に記載の方法に準じて行うことができる。 本工程で用いる酸化剤としては、 m—クロ口過安息香酸、 過酢酸等を挙げることが できる。 酸ィヒ剤の使用量は等モル〜 5倍モルの範囲で適宜選択して使用することがで きる。
本酸化反応は溶媒中でも実施することもでき、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば 使用することができる。 溶媒としては、 水； トルエン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロべ ンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；クロロホルム、 ジクロロメタン、 四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等を用いることができる。 反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
また、 シァノ化反応に関しては、 塩基の存在下に行うことが好ましい。 塩基として は、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチ ノレモルホリン、 N，N—ジメチルァニリン （DMA)、 N, N—ジェチノレア二リン、 4一 t—プチル一 N, N—ジメチルァニリン、 ピリジン、 4一（ジメチルァミノ） ピリジン
(DMAP)、 ピコリン、 ルチジン、 1, 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデク _5 —ェン （DBU)、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン （DAB CO)、 イミダ ゾール等の有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜2.0当 量用いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N_メチルピロリドン（NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭ィ匕水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメトキシェタン（DME)、 1, 4—ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド（DM SO)；あるいはこれらの混合溶媒等の反 応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。 反応は、一 78 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。 製造方法一 6
Figure imgf000056_0001
(式中、 R R2、 R4、 Y、 h a l、 η及び Q2は前記に同じくし、 R11は置換さ れていても良いアルキル基又は置換されていても良いァリール基を示し、 R 12はアル キノレ基を示す。）
工程一 16は、 一般式 （XIX) で表されるアミノチォフェン誘導体を、 一般式 （XX) で表される酸ハロゲン化物を用いてァシル化し、一般式（XXI)で表されるチォフェン 誘導体を製造する工程である。
本工程は、塩基の存在下に行うことが好ましい。塩基としては、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチノレァミン、 N—メチルモルホリン、 , N—ジ メチルァニリン （DMA)、 N， N—ジェチルァニリン、 4— t—プチルー N， N—ジメ チルァ二リン、 ピリジン、 4— (ジメチルァミノ） ピリジン （DMAP)、 ピコリン、 ルチジン、 1， 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデク一 5—ェン （DBU)、 1, 4- ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン（DABCO)、イミダゾール等の有機塩基等を用 いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜2.0当量用いることにより、 収率 よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N， N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド（DMAC)、 N—メチルピロリドン（NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の-トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン（THF)、 ジメトキシェタン （DME)、 1, 4一ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド（DMSO)；酢酸ェチル、酢酸メチル等のエス テル溶媒；ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶 媒；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用すること ができる。
反応は、 -78 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一 17は、一般式（XXI)で表されるチォフェン誘導体を環化反応することによ り、 一般式 （XXII) で表される 4—ヒドロキシチエノ [2, 3_d] ピリミジン誘導体 を製造する工程である。
本工程は、塩基の存在下に行うことが好ましい。塩基としては、水素化ナトリウム、 水素化力リゥム、 水酸化ナトリゥム、 水酸化力リゥム、 ナトリゥムメトキシド、 ナト リウムェトキシド、 カリウム— t—ブトキシド等のアルカリ金属塩基、 トリェチルァ ミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メチルモルホリン、 1， 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデクー 5—ェン （DBU)、 1, 4—ジァザビシク 口 [2. 2. 2]オクタン（DABCO)、イミダゾール等の有機塩基等を用いることがで きる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜2.0当量用いることにより、 収率よく目的物を 得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N—メチルピロリドン（NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭ィ匕水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン（THF)、 ジメトキシェタン（DME)、 1, 4一ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DM SO)；メタノール、エタノール、イソプ ロパノール （I PA) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に 害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程 _ 1 8は、 一般式 （XXII) で表される 4ーヒドロキシチエノ [ 2， 3 -d] ピリ ミジン誘導体を工程一 4と同様の操作でハロゲン化することにより、一般式 (I一 1 5 ) で表されるチエノ [ 2 , 3—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
工程一 1 9は、一般式（1—1 5 ) で表されるチエノ [ 2 , 3 _d] ピリミジン誘導体 と一般式 (XXIII)で表されるメルカブタン類とを反応させた後、酸化することにより、 一般式（1—1 6 ) で表されるチエノ [ 2 , 3 -d] ピリミジン誘導体を製造する工程で ある。
本工程において、一般式（XXIII) で表されるメルカプタン類との反応では、塩基を 用いることにより収率よく反応を進行させることができる。 ここで、 塩基としては、 水素化ナトリゥム、 水素化力リゥム、 水酸化ナトリゥム、 水酸化力リゥム、 炭酸ナト リウム、 炭酸カリウム等のアルカリ金属塩基、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェ チルァミン、 トリプチルァミン等の有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質 に対して 0. 1〜2. 0当量用いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。 反応は、 0でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収率 よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
本工程で用いる酸化剤としては、 m—クロ口過安息香酸、 過酢酸等の酸化剤を用い ることができる。 酸化剤の使用量は等モル〜 5倍モルの範囲で適宜選択して使用する ことができる。
本酸ィ匕反応は溶媒中でも実施することもでき、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば 使用することができる。 溶媒としては、 水； トルエン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロべ ンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；クロロホルム、 ジクロロメタン、 四塩化炭素等の ハロゲン化炭化水素系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等を用いることができる。 反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。 反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲノレカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程一 20は、一般式（1—16) で表されるチエノ [2, 3_d] ピリミジン誘導体 と一般式（XXIV) で表される化合物とを反応させ、 一般式（1_1 7) で表されるチェ ノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
本工程は、塩基の存在下に行うことが好ましい。塩基としては、水素化ナトリゥム、 水素化力リゥム、 炭酸ナトリゥム、 炭酸力リゥム、 水酸化ナトリゥム、 水酸化力リゥ ム、 ナトリゥムメトキシド、 ナトリゥムェトキシド、 カリゥム一 t—プトキシド等の アル力リ金属塩基、 トリェチルァミン、 ジィソプロピルェチルァミン、 トリプチルァ ミン、 N—メチルモルホリン、 ピリジン、 4— (ジメチルァミノ） ピリジン (DMA P)、ピコリン、ノレチジン、 1, 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデクー 5—ェン (D BU)、 1, 4—ジァザビシクロ [2.2. 2]オクタン（DABCO)、イミダゾール等の 有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. ：!〜 2.0当量用いるこ とにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； N, N—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N—メチルピロリ ドン (NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン （THF)、 ジメ トキシェタン （DME)、 1, 4—ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DMSO)、 メタノール、 エタノール、 イソプ ロパノール （I PA) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等の反応に 害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0でから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 製造方法一 7
(1-19) (I-20)
Figure imgf000060_0001
R7、 R12、 Y、 及び ηは前記に同じ。）
工程一 21は、一般式（XXV)で表されるアミノチオフヱン誘導体とシァン酸カリゥ ム又はシアン酸ナトリウムとを反応させ、 一般式 （XXVI) で表されるウレイドチオフ ヱン誘導体を製造する工程である。 .
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水； , Ν—ジメチルホルムアミド （DMF)、 N, N—ジメチルァセトアミド （DMAC)、 N—メチルピロリ ドン （NMP)等のアミド 系溶媒；ァセトニトリノレ、 プロピオ二トリル等の二トリル系溶媒；ベンゼン、 トルェ ン、 キシレン、 クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、 へキサン、 ォ クタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テ トラヒドロフラン （THF)、 ジメトキシェタン（DME)、 1, 4—ジォキサン等のェ 一テル系溶媒；ジメチルスルホキシド （DMSO) ；酢酸；メタノール、 エタノール、 イソプロパノール （I PA) 等のアルコール系溶媒；あるいはこれらの混合溶媒等の 反応に害を及ぼさな 、溶媒であれば使用することができる。
反応は、 0 から溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 また、 単離せずして次の反応に用いる こともできる。
工程— 22は、 一般式 （XXVI) で表されるウレイドチォフェン誘導体から、 前述の 工程一 17と同様の操作で一般式 (XXVII)で表される 2, 4—ジヒドロキシチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
工程一 23は、一般式（XXVII)で表される 2, 4—ジヒドロキシチエノ [2， 3— d] ピリミジン誘導体を前述の工程一 4と同様の操作によりハロゲンィ匕し、 一般式 （III) で表される 2, 4—ジハロゲノチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体を製造する工程 である。
工程— 24及び工程一 26は、 一般式 （III) 又は （1—18) で表されるハロゲノ チエノ [2， 3—d] ピリミジン誘導体から前述の工程一 19と同様の操作により、一 般式（XXVIII) 又は （1—19) で表されるチエノ [2, 3_d] ピリミジン誘導体を製 造する工程である。
工程一 25及び工程一 27は、一般式（XXVIII) 又は （1— 1 9) で表されるチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体から前述の工程— 20と同様の操作により、一般式（I -18) 又は （1—20) で表されるチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体を製造する 工程である。 製造方法一 8
Figure imgf000061_0001
工程一 28
(XXIX) (1-21)
(式中、 I 1、 R2、 Q 2及び Yは前記に同じくし、 R 13はハロゲン原子又はトリフル ォロメチルスルホニノレォキシ基を示す。）
工程一28は、 一般式 （XXIX) で表される 4ーハロゲノチエノ [2, 3—d] ピリミ ジン誘導体と一般式（XXX)で表されるボロン酸類とをカップリング反応することによ り、 一般式（1—21) で表されるチエノ [2, 3-d] ピリミジン誘導体を製造するェ 程である。
本工程では、 Tetrahedron Lett. , 19"年， 第 40卷， 第 51号， 9005頁に記載され ている方法に準じて行うことができる。
本工程は、 トリフエニルホスフィンパラジウム等の触媒存在下行うことが、 収率が 良く、 パラジウム触媒の使用量としては、 一般式 （XXIX) で表される 4—ハロゲノチ エノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体に対して 0. 0001〜0. 1倍モルの範囲で適 宜選択して使用すれば良い。 また、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等のアルカリ金属 塩基、 トリェチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミン、 トリプチルァミン、 N—メ チルモノレホリン、 N，N—ジメチルァニリン （DMA)、 N, N—ジェチルァ-リン、 4 ― tーブチノレ一 N， N—ジメチノレアユリン、 ピリジン、 4- (ジメチルァミノ) ピリジ ン （DMAP)、 ピコリン、 ルチジン、 1, 5—ジァザビシクロ [5.4.0]ゥンデク一 5—ェン（DBU)、 1, 4—ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン （DAB CO)、イミ ダゾール等の有機塩基等を用いることができる。 塩基は、 基質に対して 0. 1〜2.0 当量用いることにより、 収率よく目的物を得ることができる。
本反応は溶媒中で実施することができ、 反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用す ることができる。 溶媒としては、 水；ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口べンゼ ン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 テトラ ヒドロフラン （T H F)、 ジメトキシェタン （DME)、 1 , 4 _ジォキサン等のエーテ ル系溶媒；ジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒；あるいは これらの混合溶媒等の反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができる。 反応は、 0 °Cから溶媒還流温度の範囲から適宜選ばれた温度で行うことにより、 収 率よく目的物を得ることができる。
本反応は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良いが、 いずれかを過 剰に用いることもできる。
反応終了後、 常法により単離し、 必要により、 再結晶、 シリカゲルカラムクロマト グラフィ一等の操作で精製することができる。 製造方法— 9
Figure imgf000062_0001
(式中、 R 1 R 2及び Q 2は前記に同じ。）
工程一 2 9は、 一般式 （XI) で表されるアミノチォフェン誘導体とシアン酸力リウ ム又はシアン酸ナトリゥムとを反応させ、 前述の工程一 2 1と同様の操作で、 一般式 (XXXI) で表されるウレイドチォフェン誘導体を製造する工程である。 ここで、 一般 式 （VI)
Figure imgf000062_0002
(式中、 R 1及び R 2は前記に同じくし、 Wは置換されていても良いァリール基を示 す。） で表されるゥレイドチォフェン誘導体は新規化合物である。
工程一 3 0は、 一般式 （XXXI) で表されるウレイドチォフェン誘導体から、 前述の 工程一 1 7と同様の操作により、一般式（XII)で表される 2—ヒドロキシチエノ [2: 3-d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。 製造方法— 1 0
程一 33
Figure imgf000063_0001
(式中、 I 1、 R2、 R3、 R X1、 Y及ぴ Q2は前記に同じ。）
工程 _ 3 1は、一般式（XXXII) で表されるアミノチォフェン誘導体とシアン酸カリ ゥム又はシアン酸ナトリゥムとを反応させ、 前述の工程一 21と同様の操作により、 一般式 （XXXIII) で表されるウレイドチォフェン誘導体を製造する工程である。
工程一 32は、 一般式 （XXXIII) で表されるウレイドチォフェン誘導体から、 前述 の工程一 1 7と同様の操作により、一般式（XXXIV) で表される 2， 4—ジヒドロキシ チエノ [3, 2—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
工程一 3 3は、一般式（XXXIV)で表される 2, 4—ジヒドロキシチエノ [3, 2—d] ピリミジン誘導体を前述の工程一 4と同様の操作により、ハロゲン化し、一般式 (XXXV) で表される 2, 4_ジハロゲノチエノ [3， 2_d] ピリミジン誘導体を製造する工程 である。
工程一 34は、 2， 4 _ジハロゲノチエノ [3, 2—d] ピリミジン誘導体 (XXXV) を前述の工程一 28と同様の操作により、一般式（1— 22)で表される 2—ハロゲノ チエノ [3, 2—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。
工程一 3 5は、一般式（1—22) で表される 2—ハロゲノチエノ [3, 2— d] ピリ ミジン誘導体を前述の工程一 5と同様の操作により、一般式（1— 23)で表されるチ エノ [3， 2—d] ピリミジン誘導体を製造する工程である。 4 . 除草剤
本発明の除草剤は、上記一般式 (I)で表される化合物をそのまま施用してもよいが、 通常、 適当な捕助剤を用い、 水和剤、 粒剤、 ？ L剤、 フロアブル剤等の製剤の形態で使 用する。
製剤中の上記一般式 (I)で表される化合物の含有量は、製剤形態によつて異なるが、 一般的には、 例えば、 水和剤では 1一 90重量。ん 粒剤では 0. 1— 30重量％、 乳剤で は 1— 50重量％、 フロアブル剤では 5— 50重量％が適当である。 これらの上記一般 式（I) で表される化合物を含有する製剤は、その形態によって、そのままで施用する 、 または水で希釈して施用する。
製剤の調製において使用される捕助剤としては、例えば、力オリン、ベントナイト、 ターノレク、珪藻土、ホワイトカーボン、デンプン等の固体担体；水、アルコール類（メ タノール、 エタノール、 プロパノール、 プタノール、 エチレングリコール等）、 ケトン 類 （アセトン、 メチルェチルケトン、 シクロへキサノン、 イソホロン等）、エーテル類
(ジェチルエーテル、 ジォキサン、 セロソルプ類等)、 脂肪族炭化水素類 （ケロシン、 灯油等）、芳香族炭化水素類 （ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 タメン、 ソルベントナ フサ、 メチルナフタレン等）、 ハロゲンィ匕炭化水素類 （ジクロロェタン、 四塩化炭素、 トリクロ口ベンゼン等）、酸アミド類（ジメチルホルムアミド、 ジメチルァセトアミド 等)、 エステル類 （酢酸ェチル、 酢酸プチル、 脂肪酸グリセリンエステル類等）、 ニト リノレ類 （ァセトニト リル等） 等の液体担体；非イオン系界面活性剤 （ポリォキシェチ レングリコールアルキルエーテル、 ポリオキシエチレンアルキルァリールエーテル、 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル等）、カチォ ン系界面活性剤 （アルキルジメチルベンジルアンモニゥムクロリ ド、 アルキルピリジ ニゥムクロリ ド等）、ァニオン系界面活性剤（アルキルベンゼンスルホン酸塩、 リグ二 ンスルホン酸塩、 ジアルキルスルホコハク酸塩、 高級アルコール硫酸エステノレ塩等）、 両性系界面活性剤 (ァノレキノレジメチルベタィン、 ドデシルァミノェチルダリシン等） 等の界面活性剤等が挙げられる。 これらの固体担体、 液体担体、 界面活性剤等は、 そ れぞれ必要に応じて 1種または 2種以上の混合物として使用される。
上記一般式（I)で表される化合物を含有する製剤を水で希釈して施用する場合、付 着性ゃ拡展性等を向上させ、 除草効果を高めるために、 散布液中に展着剤等の捕助剤 を添カ卩してもよい。 使用される展着剤等の捕助剤としては、 界面活性剤 （前記の非ィ オン系界面活性剤、 カチオン系界面活性剤、 ァニオン系界面活性剤、 両性系界面活性 斉 IJ)、 パラフィン、 ポリ酢酸ビュル、 ポリアクリル酸塩、 エチレングリコール、 ポリエ チレンダリコール、ク口ップオイル（鉱物油、動植物油等）、液体肥料等が挙げられる。 これらの捕助剤は、必要に応じて 2種以上を同時に使用してもよい。展着剤等の捕助 剤の使用量は、 その種類によって異なるが、 通常、 散布液中に 0. 01 — 5重量％を添 加するのが適当である。 また、 捕助剤の種類によっては、 製剤中の成分としてあらか じめ添カ卩しておくことも可能である。
上記一般式（I)で表される化合物の施用量は、化合物の構造や対象雑草、処理時期、 処理方法、 土壌の性質等の条件によって異なるが、 通常、 1 ヘクタール当りの有効成 分量としては 2 — 2000グラム、 好ましくは 5 — 1000グラムの範囲が適当である。 本発明の除草剤の対象雑草としては、 畑地においては、 例えば、 シロザ、 ァカザ、 ィヌタデ、ハルタデ、ィヌビュ、ァオビュ、ハコべ、 ホトケノザ、ィチビ、ォナモミ、 マノレバアサガオ、 チョウセンアサガオ、 セィヨウカラシナ、 ヤエムダラ、 セィョウス ミレ、 ォロシャギク、 コセンダングサ等の広葉雑荜、メヒシバ、ォヒシバ、ィヌビエ、 ェノコログサ等の狭葉雑草が挙げられる。 また、 水田においては、 例えば、 キカシグ サ、 ァゼナ、 コナギ、 ァプノメ、 ミゾハコべ、 ヘラォモダカ、 才モダカ、 ゥリカヮ等 の広葉雑草、 タイヌビエ、 タマガヤッリ、 ホタルイ、 ミズガヤッリ等の狭葉雑草が挙 げられる。
本発明の除草剤は、 畑地および水田において、 土壌処理、 茎葉処理又は湛水処理の いずれの処理方法によっても上記雑草を防除することが可能である。 また、 本発明の 除草剤は、 例えば、 トウモロコシ、 コムギ、 ォォムギ、 イネ、 ダイズ等の栽培作物に 対し、 土壌処理および茎葉処理のいずれにおいても影響が少なく、 これらの作物の栽 培において選択的除草剤として使用することが可能である。
本発明の除草剤は、 同一分野に用いる殺虫剤、 殺菌剤、 植物成長調節剤等の他の農 薬、 および肥料等と混合施用することができる。 また、 除草効果をより安定化させる ために他の除草剤と混合施用することもできる。上記一般式（I)で表される化合物と 他の除草剤を混合施用する場合、 両者の各々の製剤を施用時に混合してもよいが、 あ らかじめ両者を含有する製剤として施用してもよい。上記一般式（I)で表される化合 物と好適に混合施用することができる除草剤としては、 例えば以下のものが挙げられ る。
有機リン系除草剤：
N—（ホスホノメチル）グリシンおよびその塩、
4— [ヒ ドロキシ（メチル）ホスブイノィノレ]—DL—ホモァラニンおよびその塩、
4一 [ヒ ドロキシ（メチル）ホスフイノィル]一 L一ホモアラ二ルー L—ァラニル一 L—ァラ ニンおょぴその塩、
0—ェチノレ 0— 6_ニトロ一 m—トリノレ sec—プチノレホスホロアミドチォエート、
5— [N— (4—クロ口フエニル）一 N—ィソプロピル力ルバモイルメチル] 0, 0—ジメチ ノレホスホロジチ才エー ト、
0， 0—ジイソプロピル S— 2—（フエニルスルホニルァミノ）ェチル ホスホロジチォ エー ト、 等。 カーバメート系除草剤：
2—クロロアリーノレ- ジェチノレジチォカーバメート、
S— 2, 3—ジクロロアリール ジイソプロピノレチォカーバメート、
S -2, 2, 3 -トリクロロアリール ジイソプロピルチオカーバメート、
S—ェチル ジプロピルチオカーバメート、
S—ェチル ジイソプチルチオカーバメート、
S—べンジル 1， 2—ジメチルプロピル （ェチル） チォカーバメート、
S— 4—クロ口べンジル ジェチルチオカーバメート、
S—ェチノレ パ一ヒドロアゼピン一 1ーチォカ^^ボキシレート、
S—イソプロピル パ一ヒドロアゼピン一 1ーチォカルボキシレート、
S— 1 _メチル一 1一フエ-ルェチル ピペリジン一 1ーチォカルボキシレート、
0_ 3_t—プチルフエ-ル 6—メ トキシ一 2—ピリジル (メチル） チォカーバメート、
3— (メトキシカルボニルァミノ）フエニル 3'—メチルフエ二ルカーパメート、 イソプロピノレ 3'—クロ口フエ二ノレカーバメート、
メチル （4ーァミノフエニルスルホニル） カーバメート、 等。
ウレァ系除草剤：
3— (3, 4—ジクロロフエ二ル）一 1, 1ージメチルゥレア、
3— (3， 4ージクロ口フエ二ノレ）一 1ーメ トキシ一 1ーメチノレゥレア、
1, 1—ジメチル一 3—[3— (トリフルォロメチル）フエニル]ゥレア、
3— [4一 (4-メ トキシフエノキシ）フエ二ノレ]― 1, 1ージメチノレゥレア、
1 _ (1—メチルー 1一フエ二ルェチル）一 3—p—トリノレゥレア、
3—（4ーィソプロピルフエニル）一 1， 1—ジメチノレゥレア、
3— (5— t—プチノレィソキサゾ一ノレ -3一^ ノレ）一 1， 1ージメチノレゥレア、
1一（5_ t—プチルー 1, 3, 4—チアジアゾールー 2—ィル）一1, 3—ジメチノレゥレア、 1一（ベンゾチアゾ一ル 2—ィル）一 1, 3—ジメチルゥレア、 等。
ァミド系除草剤：
2一クロロー N一（ピラゾールー 1一ィルメチル）ァセト一2' , 6'—キシリジド、
2—クロロー 2'，6'—ジェチルー N—（メ トキシメチル）ァセトァニリ ド、
N—(プトキシメチノレ）ー2—クロロー 2' , 6'—ジェチノレアセトァユリ ド、
2—クロ口一 2' , 6，ージェチルー N— (2—プロポキシェチル）ァセトァニリ ド、
2—クロ口一 N—（ェトキシメチル）一 6'—ェチルァセトー 0 _トルイジド、
2—クロロー 6'—ェチルー N— (2—メ トキシ一 1—メチルェチル）ァセト一 o—トルイジ ド、、
2—クロ口一 N—（3—メ トキシー 2—テュル）一 2' , 6'—ジメチルァセトァユリ ド、 N- (クロロァセチル） -N- (2, 6—ジェチルフエニル）グリシン ェチルエステル、 2 _クロ口一 N— (2, 4—ジメチルー 3—チェ二ノレ）一N—（2—メ トキシー 1ーメチルェチ ル）ァセトアミ ド、
3' , 4' -ジク口口プロピオンァニリ ド、
2'，4，ージフルォロ一 2—[3—（トリフルォロメチル）フエノキシ]ニコチンァニリ ド、 2—（1, 3—ベンゾチアゾール 2—ィルォキシ）一 N—メチルァセトァニリ ド、
4'一フルォロ一 N—ィソプロピル一2— (5—トリフルォロメチルー 1, 3, 4—チアジアゾ ール 2—ィルォキシ）ァセトァニリ ド、
2—プロモー α—ジメチルベンジル）—3, 3—ジメチルプチルアミ ド、
Ν— [3—（1—ェチル一1—メチルプロピル）イソキサゾール 5—ィル ]—2, 6—ジメ トキ シベンズアミ ド、 等。
ジニトロア二リン系除草剤：
2, 6—ジニトロー1^^_ジプロピルー4ー（トリフルォロメチル）ァ-リン、
Ν—プチルー Ν—ェチル一2, 6—ジニトロ一4— (トリフルォロメチル）ァニリン、 2, 6—ジニトロー Ν1, ^—ジプロピノレー 4— (トリフノレオロメチノレ）一 m—フエ二レンジァ ミン、
4— (ジプロピルァミノ）一 3, 5—ジニトロベンゼンスルホンアミ ド、
1^_ 36。ープチル_4_ 1;—プチルー2, 6_ジニトロァニリン、
N—(l—ェチノレプロピル）一 2, 6—ジニトロ一 3, 4—キシリジン、 等。
カルボン酸系除草剤：
(2, 4—ジクロロフエノキシ)酢酸およぴその誘導体、
(2, 4, 5 -トリクロロフエノキシ)酢酸およびその誘導体、
(4一クロロー 2—メチルフエノキシ)酢酸およびその誘導体、
2— (2, 4—ジクロロフエノキシ）プロピオン酸およびその誘導体、
2—（4一クロロー 2—メチルフエノキシ）プロピオン酸およびその誘導体、
4一（2, 4—ジクロロフ; cノキシ)酪酸およぴその誘導体、
2, 3, 6—トリクロ口安息香酸およびその誘導体、
3, 6—ジクロロー 2—メ トキシ安息香酸およびその誘導体、
3, 7—ジクロ口キノリンー 8—カルボン酸およびその誘導体、
7—クロロー 3—メチルキノリンー 8—力ルボン酸おょぴその誘導体、
3, 6—ジクロ口ピリジン一 2—カルボン酸おょぴその誘導体、
4ーァミノ一 3, 5, 6-トリクロロピリジン一 2_カルボン酸おょぴその誘導体、
(3, 5, 6-トリクロロ _2—ピリジルォキシ)酢酸およびその誘導体、
(4—ァミノ一 3, 5—ジクロロー 6—フルオロー 2_ピリジルォキシ）酢酸およびその誘導 体、
(4一クロロー 2_ォキソベンゾチアゾリン一 3—ィル)酢酸およびその誘導体、 2- [4一（2, 4—ジク口ロフエノキシ）フエノキシ]プロピオン酸およびその誘導体、
2— [4一 [5—(トリフルォロメチノレ）一 2—ピリジルォキシ]フエノキシ]プロピオン酸お ょぴその誘導体、
2— [4— [3—クロロー 5—（トリフルォロメチル）ー2—ピリジルォキシ]フエノキシ]プ 口ピオン酸およびその誘導体、
2 - [4- (6—クロロー 1, 3—ベンゾォキサゾールー 2—ィルォキシ)フエノキシ]プロピ オン酸およびその誘導体、
2_ [4— (6—クロ口キノキサリン一 2—ィルォキシ）フエノキシ]プロピオン酸およびそ の誘導体、
2- [4— (4ーシァノ一2—フルォロフエノキシ）フエノキシ]プロピオン酸およびその誘 導体、 等。
フエノール系除草剤：
3, 5—ジプロモー 4ーヒドロキシベンゾニトリルおよびその誘導体、
4—ヒドロキシー 3, 5—ジョードベンゾニトリルおよびその誘導体、
2— t—プチル一 4， 6—ジニトロフエノールおょぴその誘導体、 等。
シク口へキサンジオン系除草斉 IJ ：
メチル 3— [1—（ァリールォキシィミノ）プチル]一 4ーヒ ドロキシ一 6， 6—ジメチルー 2 _ォキソ一3—シク口へキセン一 1一力ルポキシレートおよびその塩、
2— [1— (エトキシミノ）プチル]— 5 _ [2— (ェチルチオ）プロピル ] _ 3—ヒ ドロキシー 2 —シク口へキセン一1—オン、
2— [1— (エトキシミノ)プチル]—3—ヒ ドロキシ一 5— (チアン— 3—ィル)—2—シク口 へキセン一1—オン、
2— [1— (エトキシミノ）プロピル]— 3—ヒ ドロキシ一5— (2, 4, 6—トリメチルフエ二 ル）一 2—シク口へキセン一 1—オン、
5— (3—プチリル一 2， 4, 6-トリメチルフエニル）一 2— [1一（エトキシミノ）プロピル] —3—ヒ ドロキシ一 2—シクロへキセン一 1一オン、
2 - [1 - (3—クロロアリールォキシィミノ）プロピル ] _ 5 _ [2— (ェチルチオ）プロピ ル]— 3—ヒドロキシー 2—シク口へキセン一 1—オン、
2 _ [1—（3—クロロアリールォキシィミノ）プロピル]一 3—ヒドロキシー 5—パ一ヒ ド 口ピラン一 4—ィルー 2—シク口へキセン一1—オン、
2— [2—クロロー 4一（メチルスルホニル）ベンゾィノレ]シク口へキサン一 1， 3—ジオン、 等。
ジフエ-ルエーテル系除草剤：
4一二トロフエ二ノレ 2, 4, 6—トリクロ口フエ二ノレ エーテノレ、
5— (2, 4—ジクロロフエノキシ)—2—二トロアニソール、 2—クロ口一 4一 (トリフノレオロメチノレ）フエ-ノレ 3—ェトキシ一 4_二トロフエ二ノレ エーテノレ、
メチル 5— (2, 4—ジクロロフエノキシ）一 2—二トロべンゾエート、
5 _ [2—クロ口 _4一 (トリフルォロメチル）フエノキシ]—2—二ト口安息香酸およぴそ の塩、
0— [5— [2—クロロー 4一（トリフルォロメチル）フエノキシ ] _2—二トロべンゾィル] グリコール酸ェチル、
ェチノレ 0— [5— [2—クロロー 4一 (トリフルォロメチル）フエノキシ ]—2—ニトロベン ゾィル]—DL—ラタテ一ト、
5— [2—クロ口一 4—(トリフルォロメチル）フエノキシ]一 N— (メチルスルホニル）一 2 一二トロべンズアミ ド、
2 _クロロー 6—ニトロ一 3—フエノキシァニリン、 等。
スルホニルゥレア系除草剤：
1一（4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィノレ）一3- ァ、
ェチノレ 2 _ (4—クロ口 _ 6—メトキシピリミジン一 2_ .
ィノレ）ベンゾエート、
メチル 2 - (4, 6—ジメチルピリミジン一2—ィルカルバモイルスルファモイノレ）ベン ゾエート、
メチル 2 - [4, 6-ビス（ジフルォロメ トキシ）ピリミジン一 2—ィルカルバモイルスノレ ファモイノレ]ベンゾエート、
メチノレ 2— (4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィルカルバモイルスルファモイルメチ ノレ)ベンゾエート、
1— (4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィル）ー3—（2—ェトキシフエノキシスルホニ ル）ゥレア、
1一 [2—（シクロプロピル力ルポ二ノレ）フェニルスノレフ了モイノレ] -3 - (4, 6—ジメ トキ シピリミジン一2—ィル）ゥレア、
1— (2—クロ口フエニノレスノレホニノレ）一 3— (4—メ トキシ一 6—メチノレー 1, 3, 5—トリア ジン一 2—ィノレ）ゥレア、
メチル 2—（4ーメ トキシ一 6—メチル一1, 3, 5—トリァジン一 2—ィルカノレバモイルス ノレファモイノレ）ベンゾエート、
メチル 2— [4—メ トキシー 6—メチルー 1, 3, 5—トリァジン一 2—ィル（メチル）カノレバ モイルスルファモイル]ベンゾエート、
1 - [2 - (2—クロロェトキシ）フエニノレスノレホニノレ ]—3— (4—メ トキシ一 6—メチルー 1, 3, 5-トリアジンー2—ィル）ゥレア、 1— (4, 6—ジメ トキシ一 1，3，5—トリアジンー 2—ィル）一3— [2— (2—メ トキシェトキ シ）フヱニルスルホニル]ゥレア、
メチノレ 2— [4ーェトキシ 6—（メチノレアミノ）一 1, 3, 5—トリァジン一 2—ィノレカノレバ モイノレスノレファモイノレ]ベンゾエート、
メチル 2- [4- (ジメチルァミノ）一6— (2, 2, 2 -トリフルォロェトキシ）一 1, 3, 5—ト リァジン一 2—ィルカノレバモイルスルファモイノレ ]ー3—メチルベンゾエート、
1— (4ーメ トキシ一 6—メチル一1, 3， 5_トリアジン一 2—ィル）ー3_ [2— (3, 3， 3—トリ フルォロプロピル）フエニルスルホニル]ゥレア、
メチル 3—（4—メ トキシ一 6—メチルー 1, 3, 5—トリアジン一 2—ィルカルバモイルス ルファモイル）チォフェン一2—カルボキシレート、
ェチル 5—（4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィルカルバモイルスルファモイノレ）_ 1 —メチルビラゾール 4_カルボキシレート、
メチノレ 3—クロ口一 5—（4， 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィルカルバモイルスノレフ ァモイル）一 1ーメチルピラゾール 4一カルボキシレート、
1一（4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィル）一3— [3—(トリフルォロメチル）一2—ピ リジルスルホニル]ゥレア、
1ー（4， 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィル） - 3 - [3—（ェチルスルホ -ル）ー2—ピリ ジノレスノレホニノレ]ゥレア、
2— (4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィルカルバモイルスルファモイノレ）一Ν, Ν—ジメ チルニコチンアミ ド、
メチル 2— (4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィルカルバモイルスルファモイノレ）_6 —トリフルォロメチルニコチネ一トおよびその塩、
1— (2—クロ口イミダゾ [1, 2 -a]ピリジン一 3—ィルスルホニル）一3— (4, 6—ジメ トキ シピリミジン一 2—ィル）ゥレア、
1— (4, 6—ジメ トキシピリミジン一 2—ィル）一3— [2— (ェチルスルホニル）イミダゾ [1, 2— a]ピリジン一 3—ィルスルホニル]ゥレア、 等。
ビビリジニゥム系除草剤：
1, -ジメチル一 4， 4' -ビピリジニゥム ジク口リ ド、
1, 1，一エチレン一 2, 2'—ビビリジニゥム ジプロミ ド、 等。
ピラゾール系除草剤：
4— (2， 4ージク口口べンゾィル）一 1, 3—ジメチルビラゾーノレ一 5—ィル トルエン一 4 ースノレホネ一ト、
2 - [4- (2, 4—ジクロ口べンゾィル）ー1， 3—ジメチルビラゾールー 5—ィルォキシ]ァ セトフエノン、
2- [4- (2， 4ージク口口一3—メチルベンゾィノレ）一 1, 3—ジメチルピラゾールー 5—ィ ルォキシ]一 4' -メチルァセトフエノン、 等。
トリアジン系除草剤：
6—クロロー N2, ^—ジェチルー 1, 3, 5—トリアジンー 2, 4—ジァミン、
6—クロロー N2—ェチル一N4—ィソプロピル一 1, 3， 5—トリァジン一 2, 4—ジァミン、 2 _ [4—クロ口一 6— (ェチルァミノ）一 1, 3, 5—トリァジンー2_ィルァミノ]— 2—メチ ルプロピオ二トリル、
N2, N4—ジェチルー 6—（メチルチオ）一 1, 3, 5—トリァジン一 2， 4—ジァミン、
N2- (1, 2—ジメチルプロピル）—N4—ェチル—6— (メチルチオ）一 1, 3, 5—トリァジン 一 2, 4—ジァミン、
4—ァミノ一 6— t—プチノレ一 3— (メチルチオ）一 1, 2, 4-トリアジン一 5 (4H)—オン、等。 イミダゾリノン系除草剤：
メチル 2_ (4—イソプロピル一 4一メチル _ 5_ォキソ _2—ィミダゾリンー 2—ィル） —4 (5)—メチルベンゾエート、
2— (4ーィソプロピル一 4_メチル一5—ォキソ一2—ィミダゾリン _2_ィル）ピリジン _ 3 _カルボン酸およびその塩、
2—（4一イソプロピル一 4—メチル一5—ォキソー2—ィミダゾリン一 2—ィル）キノリン 一 3 _カルボン酸およびその塩、
5—ェチルー 2—（4ーィソプロピル一4—メチル _5—ォキソ一2—ィミダゾリン一 2—ィ ル）ピリジン _ 3—力ルボン酸およびその塩、
2- (4 f ソプロピルー4一メチル一5—ォキソ一2—ィミダゾリンー2—^ fル）一 5—(メ トキシメチル）ピリジン一 3—カルボン酸おょぴその塩、 等。
その他の除草剤：
3— [2—クロ口一4一（メチルスルホニル）ベンゾィノレ]一 2—（フエ二ルチオ)ビシク口 [3. 2. 1]ー2—オタテン _4一オン、
2- [2— (3—クロ口フエニル） -2, 3—エポキシプロピル]—2—ェチノレインダン一 1， 3- ジオン、
1—メチル _ 3_フエ二ノレ一 5—[3— (トリフノレオロメチノレ）フエ二ノレ ]—4—ピリ ドン、 3—クロロー 4— (クロロメチノレ）一 1一 [3— (トリフルォロメチノレ）フエニル]—2—ピロ リジノン、
5—(メチルァミノ）一 2_フエ二ルー 4一 [3—（トリフルォロメチル）フエニル]フラン一 3 (2H)—オン、
4—クロロ - 5 -（メチルァミノ） - 2 - [3 -（トリフルォロメチル）フエニル]ピリダジン -3 (2H) -オン、
Ν, Ν-ジェチル -3- (2, 4， 6-トリメチルフエ-ルスルホニノレ） -1H - 1， 2, 4-トリアゾールー 1-カルボキサミド、 4- (2 -クロ口フエ二ノレ)—N-シクロへキシノレ- N -ェチノレ- 4, 5 -ジヒドロ— 5 -ォキソテトラゾ ール 1-カルボキサミ ド、
N- [2, 4-ジク口口- 5- [4 - (ジフルォロメチル） - 4, 5 -ジヒドロ- 3-メチル- 5 -ォキソ - 1 H - 1, 2, 4 -トリアゾール- 1-ィル]フェニル]メタンスルホンァミ ド、
ェチル 2 -ク口口- 3- [2-ク口口- 5- [4- (ジフルォロメチル） -4, 5-ジヒ ドロ- 3_メチル - 5 -ォキソ- 1H-1, 2, 4-トリァゾール— 1-ィル] -4 -フルォロフエニル]プロピオネート、 3- [4 -クロロ- 5- (シク口ペンチルォキシ）- 2-フルオロフェニル ]-5-ィソプロピリデン - 1, 3-ォキサゾリジン- 2, 4-ジオン、
5- 1:-プチル-3- (2， 4 -ジク口ロ- 5-ィソプロポキシフエニル） -1, 3, 4 -ォキサジァゾール -2 (3H) -オン、
ェチル [2 -ク口口- 5- [4-ク口口- 5 -（ジフルォロメ トキシ） - 1-メチノレピラゾーノレ一 3- ィル] - 4 -フルオロフエノキシ]ァセテ一ト、
イソプロピル 5- (4-ブ口モ-トメチノレ- 5-トリフルォ口メチノレピラゾール- 3 -ィル) - 2 - ク口口— 4-フノレ才口べンゾエート、
1- [4-ク口口- 3- (2, 2, 3, 3, 3 -ペンタフルォロプロポキシメチル）フエ二ル]- 5_フエニル -1H-1, 2, 4-トリァゾール -3-カルボキサミ ド、
2- (2-ク口口ベンジル) -4, 4 -ジメチルイソォキサゾリジン- 3 -オン、
5 -シクロプロピノレ- 4 - [2 -（メチルスルホニノレ） - 4 -（トリプノレオロメチノレ）ベンゾィノレ]ィ ソキサゾーノレ、
S, S，-ジメチル 2 -（ジブルォ口メチル) -4 -ィソプチル- 6- (トリフルォ口メチル）ピリ ジン- 3, 5 -ジカノレボチォエート、
メチル 2- (ジフルォロメチル ) -5- (4, 5-ジヒドロ- 1, 3 -チアゾール -2-ィル) -4-ィソプ チル- 6- (トリフルォロメチル)ピリジン- 3 -カルボキシレート、
2-クロロ- 6 - (4, 6-ジメ トキシピリミジン- 2-ィルチオ)安息香酸およびその塩、 メチル 2- (4, 6-ジメ トキシピリミジン- 2-ィルォキシ） -6- [1 -（メ トキシィミノ）ェチ ノレ]ベンゾエート、
2， 6-ビス（4, 6-ジメトキシピリミジン- 2-ィルォキシ)安息香酸およびその塩、 5-プロモ -3- sec-プチル -6 -メチルピリミジン- 2, 4 (11-1， 3H) -ジオン、
3 - 1-ブチノレ- 5 -ク口口- 6-メチルピリミジン - 2， 4 (1H, 3H) -ジオン、
3 -シク口へキシノレ - 1, 5， 6, 7 -テトラヒドロシクロペンタピリミジン- 2, 4 (3H) -ジオン、 イソプロピル 2 -ク口ロ- 5- [1, 2, 3, 6 -テトラヒドロ- 3-メチル- 2, 6 -ジォキソ- 4 -（トリ フルォ口メチル）ピリミジン- 1-ィノレ]ベンゾエート、
3- [1- (3, 5 -ジク口口フエ二ル）- 1 -メチルェチル] -3, 4-ジヒドロ- 6 -メチル- 5 -フエニル -2H-1, 3 -ォキサジン- 4-オン、
1 -メチル- 4 -ィソプロピル- 2 - [ (2 -メチルフエニル）メ トキシ]- 7 -ォキサビシク口 [2. 2. 1]ヘプタン、
N- (4—ク口口フエ二ノレ)一 3, 4， 5, 6 -テトラヒドロフタ一ルイミ ド、
ペンチル [2-クロ口- 4-フノレオ口- 5_ (1, 3, 4, 5, 6, 7-へキサヒドロ- 1, 3-ジォキソ- 2H - イソインドール- 2-ィル）フエノキシ]ァセテ一ト、
2- [7 -フルォロ -3, 4-ジヒ ドロ -3-ォキソ -4- (2-プロピエル）- 2H-1, 4-ベンゾォキサジン 一 6 -ィル]—4, 5, 6, 7-テトラヒドロ- 1H—ィソィンドール- 1, 3 (2H)—ジオン、
ェチル 2-クロ口- 3— [2-クロ口- 5- (1, 3, 4, 5, 6， 7 -へキサヒ ドロ- 1, 3 -ジォキソ- 2H -ィ ソインドーノレ一 2—ィル）フェニル]アタリレート、
2- [2, 4-ジク口口- 5- (2 -プロピニルォキシ）フ; ニル] -5, 6, 7, 8-テトラヒ ドロ- 1, 2, 4- トリァゾロ [4, 3 - a]ピリジン- 3 (2H) -オン、
メチル [ [2 -クロ口- 4-フルォロ- 5 - [ (テトラヒドロ- 3-ォキソ -1H, 3H- [1, 3, 4]チアジ ァゾ口 [3, 4a]ピリダジン- 1-ィリデン）ァミノ]フエニル]チォ]ァセテ一ト、
N -（2, 6-ジフルオロフェニノレ)- 5-メチル [1, 2, 4]トリァゾロ [1, 5-a]ピリミジン- 2 -スル ホンアミ ド、
N- (2, 6 -ジクロ口- 3-メチルフエ二ル) - 5, 7-ジメ トキシ [1, 2, 4]トリァゾロ [1, 5- a]ピリ ミジン- 2-スルホンアミ ド、
メチル 3-クロ口- 2- (5-エトキシ 7_フルォロ [1, 2, 4]トリァゾロ [1, 5- c]ピリミジン -2-ィルスルホニルァミノ）ベンゾエート、
2, 3-ジヒドロ- 3, 3 -ジメチルベンゾフラン- 5 -ィル エタンスルホネート、
2 -エトキシ 2, 3 -ジヒ ドロ- 3, 3 -ジメチルベンゾフラン- 5-ィル メタンスルホネート、
3-ィソプロピル- 1H-2, 1， 3-ベンゾチアジアジン- 4 (3H) -オン- 2, 2-ジォキシド、 等。 また、 近年、 遺伝子組み換え作物 （除草剤耐性作物、 殺虫性タンパク産製遺伝子を 組み込んだ害虫耐性作物、 病害に対する抵抗性誘導物質産生遺伝子を組み込んだ病害 耐性作物、食味向上作物、保存性向上作物、収量向上作物など）、昆虫性フェロモン（ハ マキガ類、 ョトウガ類の交信攪乱剤など)、 天敵昆虫などを用いた IPM (総合的害虫 管理） 技術が進歩しており、 本発明の農薬組成物はそれらの技術と併用、 あるいは体 系化して用いることができる。 実施例
以下、 本発明を実施例、 参考例及び試験例によりさらに具体的に説明するが、 本発 明は下記実施例、 参考例並びに試験例に限定されることはない。 実施例-
3- (トリフルォロメトキシ） 安息香酸ェチル （化合物 No.1-2)
Figure imgf000074_0001
エタノール（lOOraL)とトリェチルァミン（28.0g, 0.277raol)の混合溶液を氷水にて冷 却したところに、 3- (トリフルォロメ トキシ） ベンゾイルク口ライ ド（50.0g, 0.223mOl)をゆつくり滴下し、 3時間室温にて撹拌した。 反応終了後溶媒を留去し、 得 られた残さを酢酸ェチルに溶解し、 これを水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を 留去した。 残さをシリ力ゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 2%Ac0Et-Hex)により精 製し、 3- (トリフルォロメ トキシ） 安息香酸ェチル (52.0g， 99%)を得た。
:H-NMR (400MHz, CDC13) ： 1.41 (t, 3H， J=7.2Hz) , 4.40 (q, 2H, J=7.2Hz)， 7.40 (br. d, 1H, J=8.0Hz) , 7.48(t, 1H, J=8.0Hz) , 7.89 (ra, 1H), 7.99(dt, 1H, J=8.0Hz, 1.2Hz). nD(25°C) :1.5890 実施例一 2
[4-フノレオ口- 3- (トリフルォロメチル）フエ二ル]- 3-ォキソプロピオ二トリル（化 合物 No.2— 9 ) の製造
Figure imgf000074_0002
ドライアイス-ァセトンバスで冷却した 4つ口ナスフラスコにアンモニアガスを吹 き込み、 液体アンモニア（87g)をとり、 これにナトリウムアミ ド（8.26g， 0.212mol)を 添カ卩し、 更にァセトニトリル（8.69g, 0.212mol)のトルエン（lOraL)溶液及ぴ 4-フルォ 口- 3- (トリフルォロメチル) 安息香酸ェチル（25.0g, 0.106raol)のトルエン（lOmL) 溶液を添加し、 -70°Cで 1時間撹拌した。反応液を室温に戻しながらアンモニアガスを 系外に放出した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 トルエンで抽出後、 不溶物を除去 した水層を濃塩酸により酸性にしたのち、 さらにこれを酢酸ェチルにより抽出した。 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄後、 溶媒を留去し、 得られた残さをシリカゲル力 ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 40 AcOEt-Hex)により精製し、 [ 4 -フルォロ - 3 -(トリ フルォロメチル） フエ-ル] - 3-ォキソプロピオ二トリル（19.4g, 79%)を得た。 aH-NMR (400MHz, CDC13) ： 4.13 (s, 2H)， 7.40(t, 1H, J=7.6Hz), 8.17 (m, 1H), 8.21(d, 1H, J=7.6Hz) . 実施例— 3
3-ォキソ -3- [3- (トリフルォロメチル） フエニル]プロピオ-トリル（化合物 No. 2-2)
Figure imgf000075_0001
水素化ナトリウム（3.91g, 97.8腿 ol)の THF(50raL)懸濁液に、ァセトニトリル (4.02g, 97.8腿 ol)を添加し、 70°Cで 1分加熱した。 反応液を室温に戻し 3- (トリフルォロメ チル） 安息香酸メチル（10.0g， 48.9讓01)の¾^(20111し)溶液を滴下した後、 60°Cにて 6 時間加熱撹拌した。 反応終了後、 溶媒を留去し、 残さを水にあけ、 これを酢酸ェチル で抽出し、 得られた抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄後、 溶媒を留去した。 残さを シリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 30 Ac0Et-Hex)により精製し、 3 -ォキソ- 3 - [3- (トリフルォロメチル） フエニル] プロピオ二トリル (9.67g, 93%)を得た。 また、 次の方法によっても製造することができる。
3- (トリフルォロメチル) 安息香酸メチル（9.08g, 44.5醒01)のトルェン（60111し)溶 液に、 水素化ナトリウム（3.56g， 89.0画 ol) を添加し 85°Cにまで加熱攪拌する。 そこ に、 ァセトニトリル (3.65g, 89. Oraraol)をガス発生の状況を見ながらゆっくり滴下し、 85°Cにて 2時間過熱攪拌を続けた。 反応終了後反応液を水にあけ、 トルエンで抽出後 得られた水層を氷水にて冷却し濃塩酸を用レ、て酸性にした。 析出結晶を濾過後、 得ら れた結晶を水とへキサンを用いて洗浄、 乾燥し、 3-ォキソ -3- [3- (トリフルォロ メチル） フエニル] プロピオ二トリル (8.17g, 80%)を得た。
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 4.14 (s, 2H), 7.71 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.93 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.12 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.18 (s, 1H).
rap： 63°C 実施例一 4
2 -アミノ- 3- [3- (トリフルォロメチル） ベンゾィル] チォフェン (化合物 No. 3 一 4)
Figure imgf000076_0001
3-ォキソ -3- [3- (トリフルォロメチル） フエニル] プロピオ二トリル（12.0g, 0.0563mol)、 2, 5-ジヒドロキシ- 1, 4_ジチアン（4.56g, 0.0296mol)及ぴトリェチノレアミ ン（6.26g, 0.0620mol)の DMF (30mL)溶液を 60°Cで 1時間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出し、 得られた抽出液を水及ぴ飽和食塩水 にて洗浄後、 溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20°/oAcOEt-Hex)により精製し、 2-ァミノ- 3- [3- (トリフルォロメチル）ベンゾィル] チオフェン（5.75g， 38%)を得た。
一 NMR (400MHz, CDC13) :6.16(d, 1H, J=5.6Hz) , 6.80 (d, 1H, J=5.6Hz), 7.01 (br. s, 2H), 7.58 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.75 (d, 1H, J=8.0Hz), 7.86 (d, 1H, J=8.0Hz), 7.94 (s, 1H).
rap ： 143- 145°C 実施例一 5
：ンゾィル] チォフェン (化
Figure imgf000076_0002
3 ォキソ - 3 - [3- (トリフルォロメチノレ) フエニル] プロピオ二トリル（4· 60g, 21.5讓 ol)、 硫黄（0.69g, 21.5mraol)及ぴトリエチルァミン（2.18g， 21.5ramol)の DMF(30mL)溶液を 40°Cにて加熱撹拌しているところに、 ブチルアルデヒド（1· 71g， 23.7匪 ol)のェタノール (2raL)溶液を滴下し、 60°Cで 4時間加熱撹拌した。反応終了後、 反応液を水にあけ、 析出結晶を濾取して酢酸ェチルに溶解後、 溶液を水及び飽和食塩 水にて洗浄してから、 溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 40°/。AcOEt- Hex)により精製し、得られた結晶をへキサン洗浄後、 2-アミ ノ- 5-ェチノレ- 3- [3- (トリフルォロメチル） ベンゾィノレ] チォフェン（3.00g, 47%) を得た。
^- MR (400MHz, CDC13) ： 1.21(t， 3H, J=7.6Hz), 2.60 (q, 2H， J=7.6Hz) , 6.42 (s, 1H)，
6.96 (br. s, 2H), 7.50 (t, 1H， J=8.0Hz), 7.73 (d, 1H， J=8.0Hz), 7.83 (d, 1H, J=8.0Hz),
7.92 (s, 1H). 実施例— 6
2—アミノー 5—メチノレー 3· [2 - （トリフルォロメチル） ベンゾィル] チォフェン (化 合物 No.3 - 1 )
Figure imgf000077_0001
3 -ォキソ - 3_ [2- (トリフルォロメチル） フエエル] プロピオ二トリル（3.10g, 14.5匪 ol)、 硫黄（0.47g, 14.5raraol)及ぴトリエチルァミン（1.61g, 16. Omraol)の DMF(30raL)溶液を 40°Cにて加熱撹拌しているところに、プロピオンアルデヒド（0.93g, 16. Omraol)のエタノール (lmL)溶液を滴下し、 60°Cで 4時間加熱撹拌した。反応終了後、 反応液を水にあけ、 析出結晶を濾取して酢酸ェチルに溶解後、 溶液を水及び飽和食塩 水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリ力ゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 20%Ac0Et- Hex)により精製し、得られた結晶をへキサン洗浄後、 2-アミ ノー 5—メチノレー 3— [2- (トリフスレオロメチノレ)ベンゾィル]チォフェン (1.74g, 42%) を得た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.17 (d, 3H, J=l.2Hz) , 5.98 (d, 1H, J=1.2Hz), 6.90 (br. s, 2H)， 7.39(d, 1H, J=7.2Hz), 7.5—7.6 (m, 2H), 7.72 (in, 1H).
mp ： 136- 137°C 実施例一 7
4- (2—クロ口ピリジン- 3-ィル） - 6-メチルチエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2 - オール （化合物 No.4— 22 )
Figure imgf000077_0002
2-ァミノ- 3- [(2-クロ口ピリジン- 3-ィル） カルボニル] -5-メチルチオフェン (7.20g, 0.0285mol)及ぴゥレア (8.55g, 0.143mol)の匿（20raL)溶液を 180°Cにて 2時 間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 析出結晶を濾取し、 得られた結晶 をアセトン洗浄することにより精製し、 4- (2-クロ口ピリジン- 3-ィル） -6-メチ ルチェノ [ 2， 3-d] ピリミジン- 2 -オール (4.88g, 53%)を得た。 H-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.54 (d, 3H， J=1.2Hz), 7.24 (d, 1H, J=l.2Hz) , 7.37 (dd, 1H， J=4.8Hz, 8.0Hz), 8.74 (dd, 1H, J=2. OHz, 4.8Hz) , 8.86 (dd, 1H, J=2. OHz, 8.0Hz). rap ： >300°C 実施例一 8
6 -メチル -4— [3- (トリフノレオロメチル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリミジ ン- 2 -オール （化合物 No.4 _ 3 )
Figure imgf000078_0001
2—ァミノ— 5—メチノレー 3— [3— (トリフルォロメチル）ベンゾィル]チォフェン（1.50g， 5.26mmol)及ぴゥレア（1.58g, 26.3腿 ol)の NMP(5mL)溶液を 180°Cにて 5時間加熱撹拌 した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 析出結晶を濾取し、 イソプロパノールを用い て結晶を洗浄してから乾燥し、 6-メチル- 4- [3- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2-オール（1.30g， 80%)を得た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.49 (d, 3H, J=1.2Hz), 6.75 (d, 1H, J=l.2Hz), 7.78 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.85 (d, 1H, J=8. OHz), 8.02 (s, 1H)， 8.07 (d, 1H, J=8. OHz) .
rap： 251-253°C (dec. ) 実施例一 9
2—ク nロー 6—メチノレー 4一 (3—メチルチオフェン— 2—ィル） チエノ [2, 3-d] ピリ ミジン (化合物 No.5— 22) 及び 2 -クロロ- 4_ (5—ホルミノレ— 3—メチノレチォフエ ン -2-ィル） -6-メチルチエノ [2， 3-d] ピリミジン （化合物 No. 5— 23)
Figure imgf000078_0002
ォキシ塩化リン（40.2g, 0.263mol)に D F(8g)を滴下し、 6-メチル -4- (3-メチル チォフェン- 2-ィル） チエノ [2， 3-d] ピリミジン- 2-オール（8.60g， 0.0329mol) を添加した後、 100°Cにて 2時間加熱撹拌した。反応終了後、反応液を氷にあけ、析出 結晶を濾取して酢酸ェチルに溶解後、 溶液を重曹水、 水及ぴ飽和食塩水にて洗浄して から溶媒を留去した。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 20%AcOEt-Hex)により精製し、 2 -クロ口- 6 -メチル -4 - ( 3 -メチルチオフェン- 2 - ィル） チエノ [2, 3-d] ピリミジン（8.10g， 88%)及ぴ 2-クロ口- 4- (5-ホルミル - 3 -メチルチオフェン- 2 -ィル） - 6 -メチルチェノ [ 2， 3 - d ]ピリミジン（0.86g, 8%) を得た。
2-クロ口— 6—メチル—4— (3—メチルチオフェン— 2—ィル） チエノ [2, 3-d] ピリ ミジン
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.52 (s, 3H), 2.63 (d, 3H， J=1.2Hz), 7.03 (d, 1H， J=4.8Hz), 7.27 (d, 1H， J=l.2Hz) , 7.48 (d, 1H， J=4.8Hz).
rap ： 127°C
2—クロ口- 4— (5-ホゾレミノレ- 3—メチノレチォフェン- 2—イスレ）— 6—メチノレチエノ [2，
3- d] ピリミジン
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.55 (s, 3H)， 2.65 (d, 3H, J=1.2Hz), 7.28 (d, 1H， J=l.2Hz), 7.69 (s, 1H), 9.97 (s, 1H).
mp ： 204-206°C (dec. ) 実施例一 10
2 -クロ口- 4- (3-クロ口フエニル） -6—メチルチエノ [2， 3-d] ピリミジン (化 合物 No. 5 _ 15 )
Figure imgf000079_0001
ォキシ塩化リン（42.9g, 0.280mol)に DMF (I6g)を滴下し、 4- (3-クロ口フエニル） -6 -メチルチエノ [2， 3-d] ピリミジン- 2-オール（15.5g， 0.0561mol)を添加した 後、 100°Cにて 2時間加熱撹拌した。反応終了後、反応液を氷にあけ、析出結晶を濾取 して酢酸ェチルに溶解した後、 溶液を重曹水、 水及び飽和食塩水にて洗浄し、 溶媒を 留去した。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60, 20%〜30%Ac0Et- Hex)に より精製し、 2-クロ口- 4- (3-クロ口フエニル） -6-メチルチエノ [2， 3-d] ピ リミジン (5.73g, 35%)を得た。
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.65 (d, 3H, J=1.2Hz), 7.19 (d, 1H， J=1.2Hz), 7.5 (m, 2H), 7.80 (dt, 1H, J=l.6Hz, 7.2Hz), 7.92 (t, 1H, J=2.0Hz) .
mp ： 118 - 120°C 実施例一 11
2 -クロ口— 6—メチノレ— 4— [3- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2 d] ピリミジン （化合物 No. 5— 4)
Figure imgf000080_0001
ォキシ塩化リン（5.13g 33.5 01)に0¾^(1.2§)を滴下し、 6-メチル -4- [3— (ト リフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2 -オール（1.30g, 4.19mraol)を添加した後、 100°Cにて 3時間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を氷に あけ、 析出結晶を濾取して酢酸ェチルに溶解後、 溶液を水及び飽和食塩水にて洗浄し てから溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60 20%Ac0Et-Hex)により精製し、得られた結晶をへキサン洗浄後、 2-クロ口- 6-メチル- 4— [3 - (トリフノレオロメチノレ)フエニル]チエノ [2 3-d]ピリミジン（1.12g 81%) を得た。
'H-NMR (400MHz, CDC13) 2.66 (d, 3H J=l.2Hz), 7.16 (d, 1H J=1.2Hz), 7.70 (t, 1H, J=8.0Hz),7.82 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.12 (d, 1H J=8.0Hz) , 8.19 (s, 1H).
rap 108°C 実施例- 2
4 - [4-フルォロ -3- (トリフルォロメチル） フエニル] -6-メチル- 2 -プロポキシ チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 29) 及ぴ 6 _メチル -2-プロポキ シ -4- [4 -プロポキシ -3- (トリフノレオロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 32 )
Figure imgf000080_0002
（0.15g 2.50 ol)の THF(20mL)溶液に、 水素化ナトリウム（0.10g, 2.50 ol)を添カ卩し、 2-クロ口— 6-メチノレ— 4— [4—フノレオ口— 3— (トリフルォロメチ ル） フ工 -ル] チエノ [ 2 , 3-d] ピリミジン（0.30g 0.866mmol)の THF (5raL)溶液 を室温にて滴下した後、 2時間加熱環流した。 反応終了後、 溶媒を留去して得られた 残さを酢酸ェチルに溶解し、 これを水及ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去し た。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20%AcOEt-Hex)により精製し、 4— [4-フルォロ -3- (トリフルォロメチル) フエニル] - 6 -メチル- 2 -プロポキシ チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.12g， 38%)及ぴ 6-メチル- 2-プロポキシ - 4- [4- プロポキシ - 3-(トリフルォロメチル）フエニル]チエノ [2, 3- d]ピリミジン（0.066g, 18%)を得た。
4一 [4-フルォロ- 3- (トリフルォロメチル) フエニル] —6-メチル -2-プロポキシ チエノ [2， 3-d] ピリミジン
^- MR (400MHz, CDC13) ： 1.08(t， 3H, J=7.6Hz)， 1.90 (sixtet, 2H, J=7.6Hz) , 2.59 (d, 3H， J=1.2Hz), 4.44 (t, 2H, J=7.6Hz) , 7.01 (d, 1H, J=1.2Hz)， 7.36 (t, 1H， J=9.6Hz), 8.13 (ra, 1H), 8.20 (d, 1H, J=6.4Hz) .
6 -メチル—2—プロポキシ -4— [4—プロポキシ—3— (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン
1 H-NMR (400MHz, CDC13) ： 1.07 (t, 3H, J=7.6Hz) , 1.09(t, 3H， J=7.6Hz)， 1.90 (sixtet, 2H, J=7.6Hz), 2.58 (d, 3H, J=l.2Hz), 4.11 (t, 2H， J=7.2Hz), 4.43 (t, 2H, J=7.2Hz) , 7.06 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.11 (t, 1H, J=8.8Hz)， 8.10 (dd, 1H, J=2.0Hz, 8.8Hz) , 8.18 (d, 1H, J=2.0Hz) . 実施例一 13
2- (イソプロピルスルホニルォキシ) 一 6—メチノレー 4— [3- (トリフルォロメ トキシ） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 163)
Figure imgf000081_0001
2-ヒドロキシ—6—メチルー 4— [3— (トリフルォロメ トキシ）フエニル]チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.30g， 0.920醒 ol)のァセトニトリル (20mL)溶液に、イソプロピル スルホユルク口ライド（0.36g， 2.50mmol)、 トリェチルァミン（0.25g， 2.50匪 ol)及び トリメチルァミン塩酸塩 (0.01g)を室温にて添カ卩した後、 4時間室温にて撹拌した後、 6時間 60°Cにて加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで 抽出し、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカ ゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 30%AcOEt- Hex)により精製し、 2- (イソプロピ ノレスノレホニノレォキシ) -6 -メチノレ- 4 - [3- (トリフルォロメ トキシ） フエニル] チェ ノ [2， 3-d] ピリミジン（60.4mg, 15%)を得た。
-腿 (400MHz, CDC13) ： 1.63 (d, 6H, J=7.2Hz) , 2.66 (d, 3H， J=1.2Hz)， 3.83(7- plet, IH, J=7.2Hz), 7.22 (d, IH, J=l.2Hz) , 7.41 (ra, IH), 7.61 (t, 1H， J=8.0Hz), 7.81 (s, IH), 7.90 (d, 1H， J=8.0Hz). 実施例- 4
6-メチル- 4- [3- (トリフルォロメチル） フエ-ル] -2- (ビニルスルホニルォキ シ） チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 150)
Figure imgf000082_0001
2 -ヒドロキシ- 6-メチル -4- [3— (トリフルォロメチル) フエ-ノレ]チエノ [2， 3-d] ピリミジン（0.30g, 0.968mmol)の塩ィ匕メチレン（20mL)溶液に、 2-クロロェチ ルスルホニルク口ライド（0.41g, 2.50匪 ol)及びトリェチルァミン（0· 25g, 2.50mmol) を室温にて添カ卩した後、 12 時間室温にて撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出し、 抽出液を水及ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去 した。残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 30 AcOEt-Hex)により精製し たところ、 6—メチノレー 4一 [3- (トリフルォロメチル) フエニル] -2- (ビニルスル ホニルォキシ） チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.23g， 59%)が得られた。
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.67 (d, 3H, J=l.2Hz) , 6.27 (dd, 1H， J=0.8Hz, 10HZ),
6.64 (dd, IH, J=0.8Hz, 16.8HZ), 7.20 (dd, IH, J=10Hz, 16.8HZ), 7.21 (d, 1H， J=1.2Hz),
7.71(d, IH, J=8.0Hz) , 7.83 (d, 1H， J=8.0Hz) , 8.14 (d, IH, J=8.0Hz) , 8.19 (s, IH). 実施例一 15
2- (クロロメチル） -6 -メチノレ- 4 - [3- (トリフノレオロメチノレ) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 12)
Figure imgf000082_0002
2 -アミノ- 2 - [3- (卜リフルォロメチル)フエ-ル]— 5—メチノレチォフェン（3· 90g， 13.7匪 ol)のクロロアセトニト リル（15mL)溶液に、 塩化アルミニウム（3.65g, 27.4匪 ol)を添カ卩し、 2時間 100°Cにて加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を氷水にあ け、 これを酢酸ェチルで抽出し、 抽出液を水及ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を 留去した。残さをシリカゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10〜20%Ac0Et_Hex)によ り精製し、 2-クロロメチル- 6-メチル -4- [3- ('トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリミジン（2.92g, 62%)を得た。
¾-NMR (400MHz, CDC13) ：2.67 (d, 1H, J=2.0Hz), 4.90 (s, 2H), 7.18 (d, 1H, J=l.2Hz), 7.64 (d, 1H, J=8.0Hz), 7.80 (t, 1H, J=8.0Hz), 8.13 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.20 (s, 1H). 実施例— 1 6
6—メチルー 2— [(2, 2， 2—トリフルォロエトキシ） メチル] -4- [3- (トリフルォ ロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No. 6— 1 7)
Figure imgf000083_0001
2, 2， 2-トリフルォロエタノール（0.25g, 2.50mraol)の THF(20mL)溶液に、 水素化 ナトリウム（0.10g, 2.50匪 ol)を添加し、室温で 0.5時間撹拌した後に、 これを氷水に て冷却し、 2-クロロメチル- 6-メチル -4- [3- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリミジン（0.30g, 0.875mmol)の THF(5mL)溶液を滴下した。 反 応液を室温に戻した後、 4時間 60°Cにて加熱撹拌した。 反応終了後、 溶媒を留去し、 得られた残さを酢酸ェチルに溶解し、 これを水及ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒 を留去した。残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20 AcOEt-Hex)により 精製し、 6-メチル -2- [(2, 2， 2-トリフルォロエトキシ） メチル] -4- [3- (ト リフルォ口メチル） フェ -ル] チエノ [ 2 , 3-d] ピリミジン（0.27g， 75%)を得た。 aH-NMR (400MHz, CDC13) ：2.67 (d, 1H, J=2.0Hz) , 4.16 (q, 2H, J=8.4Hz), 5.05 (s, 2H), 7.18 (d, 1H， J=1.2Hz), 7.70 (d, 1H, J=8.0Hz), 7.80 (t, 1H, J=8.0Hz), 8.12 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.20 (s, 1H).
rap： 40-41°C 実施例一 1 7
6 -メチル- 2—メチルチオ- 4— [4- (トリフルォロメチル） フエエル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No. 6— 1 7 1)
Figure imgf000084_0001
THF(20mL)にメチルメルカプタンナトリウム塩 (0.64g， 9.13mraol)を懸濁し、 2-クロ ロ- 6 -メチル -4- [4- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリ ミジン（1· 50g, 4.57醒 ol)の THF(5mL)溶液を室温にて滴下した後、 7時間加熱環流した。 反応終了後、 反応液を重曹水にあけ、 これを酢酸ェチルにて抽出し、 抽出液を水及ぴ 飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 得られた結晶をへキサン洗浄後、 6- メチル -2- (メチルチオ） -4- [4- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン（1· 24g, 80%)を得た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.60 (d, 3H， J=1.2Hz), 2.68 (s, 3H), 7.08 (d, 1H, J=1.2Hz)， 7.79 (d, 2H, J=8.0Hz) , 8.03 (d, 2H, J=8.0Hz) .
rap ： 113°C 実施例— 18
6 -メチル -2-メチルスルホニル -4- [4- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン (化合物 No.6— 1 73 ) 及ぴ 6 -メチノレ— 2 - (メチルスル フィニル） -4- [4 - (トリフルォロメチル) フエ-ノレ] チエノ [2, 3-d] ピリミ ジン （化合物 No.6-1 75)
Figure imgf000084_0002
6-メチノレ- 2—メチノレチォ— 4— [4 (トリフノレオロメチノレ) フエニル]チエノ [2， 3-d] ピリミジン（1.00g， 2.94醒 ol)の塩化メチレン（30mL)溶液に、 m-クロ口過安息 香酸 (0.76g, 4.41讓 ol)を室温にて添加した後、 7時間撹拌した。 反応終了後、 反応液 を 1N水酸化ナトリゥム水溶液にあけ、これを酢酸ェチルにて抽出し、抽出液を水及ぴ 飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20%AcOEt-Hex 〜Ac0Et のみ）により精製し、 6-メチル -2- (メチルス ルホニル） 一 4 - [4- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミ ジン (0.70g, 64%)及ぴ 6 -メチノレ- 2 -メチルスルフィニル- 4一 [4- (トリフルォロメ チル） フエニル] チエノ [ 2， 3-d] ピリミジン（0· 20g, 19%)を得た。
6-メチル -2-メチルスルホニル- 4- [4- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.74 (d, 3H, J=1.2Hz)， 3.46(s, 3H), 7.35 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.85 (d, 2H， J=8.0Hz) , 8.11 (d, 2H, J=8.0Hz) .
mp ： 153°C
6 -メチノレ- 2—メチノレスノレフィ二ノレ- 4 - [4- (トリフノレオロメチノレ) フエニル] チェ ノ [2, 3-d] ピリミジン
'H-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.71(d， 3H， J=l.2Hz) , 3.05 (s, 3H), 7.28 (d, 1H， J=1.2Hz), 7.84 (d, 2H， J=8.0Hz), 8.08 (d, 2H， J=8.0Hz) .
mp ： 171°C 実施例— 19
6 -メチル -2 - (メチノレアミノ） -4- [4- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 168)
Figure imgf000085_0001
メチルァミン 'メタノール溶液（20mL)に、 2—クロ口 _ 6 -メチノレー 4一 [4一 (トリフ ルォロメチル)フェニル]チェノ [2, 3 - d ]ピリミジン（0.40g, 1.22雇 1)の THF (5mL) 溶液を室温にて滴下した後、 8時間撹拌した。 反応終了後、 溶媒を留去してから残さ を水にあけ、 これを酢酸ェチルにて抽出し、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄して から溶媒を留去した。得られた結晶をメタノールで洗浄後、 6-メチル -2- (メチルァ ミノ） -4— [4- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン (0.34g, 87%)を得た。
¾-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.51 (d, 3H, J=l.2Hz), 3.10 (d, 3H， J=~5.2Hz)， 5.15 (br. s, 1H)， 6.89 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.76 (d, 2H, J=8.0Hz), 7.96 (d, 2H, J=8.0Hz).
rap ： 233。C 実施例一 20
6—メチノレー 2_ [4— (トリブノレオロメチノレ） フエニル] —4— [3- ル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 18)
Figure imgf000086_0001
2 -クロロー 6 -メチノレー 4 _ [3 - (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3- d] ピリミジン（0.30g, 0.913mraol)のトルェン（2mL) -水（IraL)混合液に、 4 - (トリフ ルォロメチル） ベンゼンボロン酸（0.20g, 1.07raraol) 炭酸ナトリ ウム（0.22g， 2· 14蘭 ol)及ぴテトラキス （トリフエニルホスフィン） パラジウム（0.062g， 5mol%)を 添加し、 窒素気流下で 1.5時間環流した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢 酸ェチルを用いて抽出し、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去し た。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60N 10%Ac0Et-Hex)により精製し、 6-メチノレ- 2- [4- (トリフルォロメチル) フエニル] - 4 - [3- (トリフルォロメチ ル） フエ-ル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.22g, 54%)を得た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ：2.70 (d, 3H， J=l.2Hz), 7.22 (d, 1H, J=l.2Hz), 7.72 (d, 1H， J=8.0Hz), 7.77(d, 2H, J=8. Hz) , 7.83 (d, 1H, J=8.0Hz), 8. 3 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.29 (s, 1H)， 8.72 (d, 2H, J=8.4Hz) .
mp: 134-136°C 実施例一 21
6-メチル -4— [3- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジ ン -2-カルボン酸 （化合物 No.6— 180) 及ぴ 6-メチル- 4- [3- (トリフノレオ口 メチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 9)
Figure imgf000086_0002
2—アミノー 5—メチノレー 3— [3— (トリフルォロメチル）ベンゾィル]チォフェン（4.00g， 14. Ommol)のェタノール (50raL)溶液に、 酢酸アンモユウム（3.24g, 42. lramol)及ぴグリ ォキシリック酸 (約 40%水溶液 · 2.61g, 14.0醒 ol)を添加した後に、 24時間 50°Cにて 加熱撹拌した。 反応終了後、 溶媒を留去し、 反応物を水にあけ、 析出した結晶を濾過 した。 得られた結晶をエタノールで洗浄後、 乾燥し、 6-メチル- 4 _ [3- (トリフル ォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2-カルボン酸 (0.60g, 13%) を得た。
^-NMR (400MHz, CDC13) ：2.64 (d, 3H, J=l.2Hz), 7.39 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.84 (d, 1H, J=8.0Hz) , 7.95 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.22 (s, 1H), 7.26 (d, 1H, J=8.0Hz).
mp: 226-227°C (dec. )
また、 濾液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲ ルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et-Hex)により精製し、 6 -メチル- 4 - [ 3 - (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2， 3-d] ピリミジン（1.10g， 27%)を得 た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ：2.67 (d, 3H, J=l.2Hz) , 7.19 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.70 (d, 1H, J=8.0Hz) , 7.80 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.12 (d, 1H， J=8.0Hz), 8.21(s, 1H)， 9.09 (s, 1H). rap: 70-72°C 実施例— 22
6 -メチルー 4— [3— (トリフルォロメチノレ) フエ二ノレ] チエノ [2, 3-d] ピリミジ ン -2-カルボン酸ェチル （化合物 No. 6— 181)
Figure imgf000087_0001
6 -メチノレ— 4- [3- (トリフノレオロメチノレ） フエ-ル] チエノ [2， 3-d] ピリミ ジン- 2-カルボン酸（0.40g, 1.18腿 ol)に塩化チォ-ル（2mL)を添カ卩し、 1時間 80°Cに て加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を留去し、 得られた残さの半量を、 冷却したェ タノール (lOraL)とトリェチルァミン (0.5raL)の混合溶液に滴下した。反応終了後、反応 液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄して から溶媒を留去した。 残さをシリ力ゲル力ラム (MERCK 社製 Kieselgel60、 10%AcOEt-Hex)により精製し、 6 -メチル- 4 - [ 3 - (トリフルォロメチル） フェニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2-カルボン酸ェチル (41.2mg)を得た。
aH-NMR (400MHz, CDC13) ：1.54(t, 3H, J=7.2Hz), 2.72 (d, 3H, J=l.2Hz), 4.59 (q, 2H， J=7.2Hz)， 7.71 (t, 1H, J=8.0Hz), 7.82 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.18 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.23 (s, 1H).
このとき、 チォフェン環のプロトンピークはクロ口ホルムピークに含まれているよ うで確認できなかった。
mp: 134°C 実施例— 23
6 -メチル -4— [3— (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジ ン - 2 カルボキサミド （化合物 No.6-182)
Figure imgf000088_0001
6-メチル -4- [3- (トリフルォロメチノレ) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミ ジン- 2 -カルボン酸（0.40g, 1.18醒 ol)に塩化チォニル（2mL)を添加し、 1時間 80°Cに て加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液を留去し、 得られた残さの半量を、 冷却したァ ンモユア水（lOmL)に滴下した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで 抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカ ゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10°/oAcOEt-Hex)により精製し、 6 -メチル- 4 - [ 3 - (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン- 2-カルボキサ ミド (82.2mg)を得た。
^-NMR (400MHz, CDC13) ：2.72 (d, 3H, J=l.2Hz), 5.85 (br. s, 1H), 7.73 (t, 1H， J=8.0Hz), 7.84 (d, 1H, J=8.0Hz), 8.15 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.20 (s, 1H).
このときチォフェン環のプロトンピークはクロ口ホルムピークに含まれているよう で確認できなかった。
rap: 209°C 実施例一 24
2-シァノ -6—メチノレ— 4- [3— (トリフルォロメチル） フエ-ル] チエノ [2, 3— d] ピリミジン （化合物 No.6— 10)
Figure imgf000089_0001
6—メチルー 4— [3— (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミ ジン（0.93g， 3.16讓 ol)の塩化メチレン（20mL)溶液に、 m -ク口口過安息香酸（0.82g， 4.74mm0l)を添カ卩し、 室温にて 20時間撹拌した。 反応終了後、 反応液を留去し、 得ら れた残さを重曹水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及ぴ飽和食塩水に て洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリ力ゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20〜50%AcOEt- Hex)により精製し、 N-オキサイド （0, 56g， 57%)を得た。
生成物を1 H- NMRで確認したところ、 位置異性体の混合物であることが判った。 引き続き、 得られた N -オキサイド（0.56g, 1.80讓 ol)のァセトニトリル（10mL)溶液 に、 トリメチルシリノレシァナイ ド（0.54g, 5.41腿 ol)と トリェチルァミン（0.36g, 3.60腿 ol)を添加し、 7時間環流した。 反応終了後、 反応液を留去し、得られた残さを 重曹水にあけ、 これを塩ィヒメチレンで抽出後、 抽出液を水及ぴ飽和食塩水にて洗浄し てから溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et-Hex)により精製し、 2 -シァノ - 6 -メチル- 4 - [ 3 - (トリフルォロメチル） フエ-ル] チエノ [ 2 , 3-d] ピリミジン（0, 20g, 35%)を得た。
JH-NMR (400MHz, CDC13) ：2.75 (d, 3H, J=l.2Hz) , 7.31 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.74 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.85 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.15 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.2l(s, 1H).
rap: 121-122°C 実施例一 25
2 -ブチル -6—メチル—4— [3— (トリフルォロメ トキシ） フエニル] チエノ [2， 3- d] ピリミジン （化合物 No. 6— 1 1)
Figure imgf000089_0002
2 -クロ口 _6—メチノレー 4一 [3- (トリフルォロメ トキシ） フエニル] チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.50g， 1.45醒 ol)のキシレン（20mL)溶液に、 テトラ- n-ブチル錫 (0.55g， 1.60匪 ol)及ぴビス（ ト リフエ -ルフォスフイン）パラジウムジクロライド（触 媒量 0.05g)を添加した後に、窒素気流下、 14時間 110°Cにて加熱撹拌した。反応終了 後、 反応物を水にあけ、 不溶物をセライト （商品名） により濾過して除去した後、 濾 液を酢酸ェチルに溶解し、これを水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et-Hex)により精製し、 2 _n_ ブチノレー 6-メチノレ- 4— [3- (トリフノレオロメ トキシ） フエ-ル] チエノ [2， 3-d] ピリミジン (0.30g, 59%)を得た。
XH-NMR (400MHz, CDC13)： 0.98 (t, 3H, J=7.2Hz) , 1.47 (sextet, 2H, J=7.2Hz) , 1.91 (m, 2H), 2.63 (d, 3H, J=l.2Hz), 3.09 (t, 2H, J=7.2Hz), 7.12 (d, 1H, J=l.2Hz), 7.37 (dt, 1H, J=8.0Hz, 1.2Hz) , 7.58 (t, 1H， J=8.0Hz) , 7.78 (s, 1H), 7.86 (dt, 1H， J=8.0Hz, 1.2Hz). 実施例— 26
6-メチル -4- [3- (トリフルォロメチル） フエノキシ] -2- (3， 3， 3-トリフルォ 口プロピル） チエノ [2， 3-d] ピリミジン （化合物 No. 6 _ 130)
Figure imgf000090_0001
6 -メチノレ- 4— (メチルスルホニル） -2- (3, 3, 3-トリフノレオ口プロピノレ） チェ ノ [2， 3-d] ピリミジン（0.30g， 0.925膽01)の01^(5 ）溶液に、 3- (トリフルォ 口メチル） フエノール（0.15g, 0.925mmol)と炭酸力リウム（0.19g, 1.39画 ol)とを添カロ し、 室温にて 1日撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これ酢酸ェチルで抽出 後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲル カラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10°/。AcOEt_Hex)により精製し、 6-メチル -4- [3-
(トリフルォロメチル） フエノキシ] -2- (3， 3, 3-トリフルォロプロピル） チエノ
[ 2， 3-d] ピリミジン（0.26g， 68%)を得た。
】H-讓 (400MHz, CDC13) ：2.5-2.6 (m, 2H)， 2.64 (d, 3H, J=l.2Hz) , 3.09(m, 2H), 7.12 (q, 1H， J=l.2Hz) , 7.4-7.6 (m, 4H).
rap： 85°C 実施例— 27
6—メチノレ- 2— (2, 2， 2—トリフルォロェトキシ) —4— [3- (トリフノレオロメチノレ) フエノキシ] チエノ [2, 3-d] ピリミジン （化合物 No.6— 129) の製造
Figure imgf000091_0001
6-メチノレ— 4- (メチルスルホニル） —2— (2， 2, 2—トリブノレオ口エトキシ） チェ ノ [2， 3-d] ピリミジン（0.50g, 1.53腿 ol)と炭酸カリウム（0.23g， 1.68匪 ol)の DMF (20mL)混合液に、 3 - (トリフルォ口メチル） フエノール（0.27g, 1.68讓 ol)を添加 し室温にて 1.5時間撹拌した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで 抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカ ゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60, 20 Ac0Et-Hex)により精製し、 6 -メチル- 2 _ ( 2， 2, 2—トリフルォロエトキシ） —4— [3- (トリフルォロメチル） フエノキシ] チエノ [2, 3-d] ピリミジン（0.58g, 94%)を得た。
^-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.60 (d, 3H, J=l.2Hz) , 4.66 (q, 2H, J=8.4Hz), 7.07 (q, 1H, J=1.2Hz), 7.44 (ra, 1H), 7.51 (m， 1H), 7.57 (m, 2H).
mp: 124-125^
実施例— 28
5 -メチル -2-ウレイ ド- 3— [3- (トリフルォロメチル) ベンゾィル] チォフェン
Figure imgf000091_0002
2-ァミノ- 5-メチル -3- [3- (トリフルォロメチル）ベンゾィル]チォフェン（2.50g， 8.76匪01)の酢酸（25 )溶液に、 シアン酸ナトリウム（1.03g， 15.8腿 ol)の水（60mL)溶 液をゆつくり滴下した。反応終了後、結晶を濾別し、水洗した後乾燥させ、 5-メチル - 2-ゥレイド -3- [3- (トリフルォロメチル) ベンゾィル] チォフェン（2.56g, 89%) を得た。
-丽1？ (400MHz, CDC13) ： 2.26 (d, 3H, J=1.2Hz), 6.41 (d, 1H, J=1.2Hz), 6.95 (br. s, 2H), 7.57 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.73 (d, 1H， J=8.0Hz), 7.83 (d, 1H， J=8.0Hz), 7.91(s, 1H).
mp: 155°C (dec. ) 実施例一 29
2-クロ口— 6—メチノレ- 4— [3- (トリフルォロメチル) フエ二ノレ] チエノ [3, 2 d] ピリミジン （化合物 No. 5-34)
29-1)
5 -メチル- 3 -ゥレイドチォフェン- 2 -力ルボン酸メチル
Figure imgf000092_0001
3 -ァミノ- 5-メチルチオフェン- 2 -カルボン酸メチル（5.00g, 29.2mraol,特開平 5-117263 を参考に合成した。 ）の酢酸（40mL)溶液に、 シアン酸ナトリウム（5.78g， 87.6mmol)の水 (20mL)溶液をゆつくり滴下した。反応終了後、結晶を濾別し、水洗した 後乾燥させ、 5 -メチル- 3 -ゥレイドチオフェン- 2 -カルボン酸メチル（4· 54g, 73%) を得た。
¾-雇 R (400MHz, CDC13) ： 2.47 (d, 3H， J=1.2Hz), 3.84 (s, 3H), 4.68 (br. s, 2H), 7.71 (d, 1H, J=1.2Hz), 9.50 (br. s, 1H).
29-2)
2, 4-ジヒドロキシ -6-メチルチエノ [3, 2-d] ピリミジン (化合物 No.4— 1 )
Figure imgf000092_0002
5 -メチル- 3-ゥレイドチォフェン- 2-カルボン酸メチル（4.54g， 19.2mmol)のエタ ノール（50mL)溶液に、水酸化力リウム（2.54 43.8mmol)を添加し、 80°Cにて 3時間加 熱環流した。 反応終了後、 結晶を濾別し、 エタノールを用いて結晶を洗浄後、 得られ た結晶を水に溶解させた液を濃塩酸を用いて酸性にし、 析出した結晶を濾別、 水洗し た後に乾燥させ、 2, 4-ジヒドロキシ -6-メチルチエノ [3， 2 - d]ピリミジン（2.72g, 70%)を得た。
mp: >300°C 2, 4ージクロ口— 6—メチルチエノ [3， 2 - d] ピリミジン
Figure imgf000093_0001
2, 4-ジヒドロキシ- 6-メチルチエノ [3, 2-d] ピリミジン（2.72g, 14.9mmol) の DMF(lmL)溶液に、 ォキシ塩化リン（6.85g， 44.8mmol)を添加し、 100°Cにて 2時間加 熱環流した。 反応終了後、 反応液を氷水にあけ析出結晶を濾取した。 得られた結晶を 酢酸ェチルに溶解させ、 溶液を水及び飽和食塩水にて洗浄後、 溶媒を留去し、 2, 4 ージクロ口- 6-メチルチエノ [3, 2-d] ピリミジン（3.21g, 98%)を得た。
¾— NMR (400MHz, CDC13) ： 2.73 (d, 3H, J=1.2Hz), 7.20(q, 1H, J=l.2Hz) .
mp: 152-153°C
29-4)
2 -ク口ロー 6 -メチノレ— 4一 [3- (トリフルォロメチル) フエニル] チエノ [3, 2 - d] ピリミジン （化合物 No. 5— 34) の製造
Figure imgf000093_0002
2, 4ージクロ口— 6-メチルチエノ [3， 2-d] ピリミジン（l.OOg, 4.56mmol)の トルエン（lOmL)-水（lmL)混合液に、 3_ (トリフルォロメチル）ベンゼンボロン酸（0.87g, 4.56mmol) , 炭酸ナトリウム（0.97g， 9.13mmol)及びテトラキス （トリフエニルホスフ イン） パラジウム（0.10g, 5mol%)を添加し、 窒素気流下で 2時間加熱環流した。 反応 終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルを用いて抽出し、 抽出液を水及び飽和 食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et - Hex)により精製し、 2-クロ口- 6 -メチル -4- [3- (トリフ ルォロメチル） フエニル] チエノ [3, 2-d] ピリミジン（1.33g, 89%)を得た。 'H-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.75 (d, 3H, J=1.2Hz), 7.26 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.72 (t, 1H, J=8.0Hz) , 7.85 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.36 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.43 (s, 1H).
mp： 174 - 176°C (dec. ) 実施例一 30
2-ィソプロポキシ - 6-メチル- 4-[ 3 -（トリフ 7レオロメチノレ）フエニル]チエノ [3, 2-d] ピリミジン （化合物 No.6— 231)
Figure imgf000094_0001
トリゥム（0.10g, 2.50醒 ol)を添カ卩し、 室温で 0.5時間撹拌した後に、 これを氷水にて冷却し、 6-メチ ルー 4- [3— (トリフノレオロメチル） フエエル] -2-クロロチェノ [3, 2-d] ピリ ミジン（0.40g, 1.22醒 ol)の THF(5mL)溶液を滴下した。 反応液を室温に戻した後、 2 時間 60°Cにて加熱撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、得られた残さを酢酸ェチル に溶解し、 これを水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカ ゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20%Ac0Et-Hex)により精製し、 2 -イソプロポキ シ -6-メチノレ- 4- [3- (トリフルォロメチル） フエニル] チエノ [3， 2-d] ピリ ミジン (0.16g, 37%)を得た。
一 NMR (400MHz, CDC13) :1.47(d, 6H, J=6. OHz), 2.68 (d, 3H， J=1.2Hz), 5.45 (7-plet, 1H, J=6.0Hz), 7.11 (d, 1H, J=1.2Hz), 7.67 (t, 1H, J=8.0Hz), 7.79 (d, 1H, J=8. OHz), 8.35 (d, 1H, J=8.0Hz) , 8.44 (s, 1H).
rap: 106°C 参考例として一部中間体の製造例を以下に示した。 参考例一 1
3- (ジフルォロメチルチオ） 安息香酸ェチル
Figure imgf000094_0002
3 -メルカプト安息香酸 (25.0g, 0.162mol)のジォキサン（150raL)溶液に、 水（50mL)と 水酸化ナトリウム（40g， 1. Omol)を添カ卩し、 60°Cにて加熱撹拌した。 そこにフロン 22 (ジフルォロクロルメタン） ガスを 9時間吹き込んだ。 このとき、 ドライアイス .ァ セトン冷却ガストラップにより、フロン 22が緩やかに環流する程度に吹き込みを行い、 途中水酸ィヒナトリウムを 10gづっ 2回追カ卩した。 反応終了後、 ジォキサンを留去した 後、 残さに濃塩酸を加えて酸性にした。 得られた残さを酢酸ェチルに溶解し不溶物を セライト （商品名） を用いて濾過後、 濾液を水及び飽和食塩水で洗浄してから、 溶媒 を留去した。 残さの NMRより、 3- (ジフルォロメチルチオ) 安息香酸と原料との比 率はおおよそ 9 ： 1であった。
引き続き、 上記で得られた粗な 3- (ジフルォロメチルチオ) 安息香酸 (32. 5g)に塩 化チォエル (28. 4g, 0. 239raol)とトルエン（30mL)を添加し、 100°Cにて 1時間加熱撹拌 した。 反応終了後溶媒を留去し、 粗な酸クロライドを得た。
次いで、 エタノール（lOOmL)とトリエチルァミン（24. lg, 0, 239mol)の混合溶液を氷 水にて冷却したところに、 上記で得られた酸クロライドを添加し、 3 時間室温にて撹 拌した。 反応終了後、 溶媒を留去し、 得られた残さを酢酸ェチルに溶解後、 水及ぴ飽 和食塩水で洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 2%Ac0Et- Hex)により精製し、 3- (ジフルォロメチルチオ)安息香酸ェチ ル（30. 7g， 84%)を得た。
Ή-NMR (400MHz, CDC13) ： 1. 4l (t, 3H， J=7. 2Hz) , 4. 40 (q, 2H, 1=7. 2Hz) , 6. 86 (t, 1H, J=56. 8Hz) , 7. 48 (t, 1H, J=8. 0Hz) , 7. 77 (dt, 1H， J=8. 0Hz, 1. 6Hz) , 8. 10 (dt, 1H, J=8. 0Hz, 1. 6Hz) , 8. 25 (t, 1H, J=1. 6Hz) . 参考例一 2
4 _クロロー 3—ェチルー 1ーメチルピラゾール 5—力ルボン酸ェチル
Figure imgf000095_0001
-20°Cに冷却したナトリウムエトキシド（22. 7g, ca. 90% 0. 30mol)のトルェン (150mL)混合液を激しく攪拌させ、 そこにメチルェチルケトン（21. 6g， 0. 30mol)と蓚 酸ジェチル (43. 8g， 0. 30mol)の混合液を滴下した。 反応終了後、 濃塩酸を用いて中和 し水洗後、 溶媒を留去し粗なケトエステル体を得た（53. 0g)。
引き続き、 -20°Cに冷却したメチルヒドラジン（15. 5g， 0. 34mol)のトルエン（200mL) 混合液に、 上記で得られた粗なケトエステル体を滴下した。 反応終了後、 反応液を水 洗し溶媒を留去後、 粗な 3—ェチル一 1—メチルピラゾール 5—力ルボン酸ェチルを 得た (38. 4g)。
さらに、 上記で得られた粗な 3—ェチルー 1ーメチルビラゾール 5—力ルボン酸ェ チルのメタノール（150raL)溶液に、別途枰量した塩素（16. 4g， 0. 21mol)を自然気化させ ながら吹き込んだ。 反応終了後、 溶媒を留去し、 残さをシリ力ゲル力ラム (MERCK社製 Kieselgel60、 10%AcOEt- Hex)により精製し、 4一クロロー 3—ェチルー 1ーメチルビ ラゾールー 5—力ルボン酸ェチル (41· 0g)を得た。 参考例一 3
2 -ァミノ- 5 -メチルチオフェン- 3 -力ルポキサミ ド
Figure imgf000096_0001
シァノ酢酸ァミド（42. Og, 0. 5mol)と硫黄（16. 0g, 0. 5mol)、トリェチルァミン（50. 5g, 0. 5mol)の DMF (lOOmL)溶液に、 室温にてプロピオンアルデヒド（31. 9g, 0. 55mol)のェ タノール（15mL)溶液をゆつく り滴下した （内温 70°Cまで上昇） 後、 60°Cにて 1· 5時間 加熱撹拌した。 反応終了後反応物を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を 水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さを塩化メチレンで洗浄し、 目的物 （42. 4g) を得た。 濾液をシリカゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 20 AcOEt-Hex)により精製し、 2 -ァミノ- 5 -メチルチオフェン- 3 -カルボキサミ ド合 計（52. 6g, 67%)を得た。
Ή-NMR (400MHz, CDC13) ： 2. 27 (d, 3H, J=l. 2Hz) , 5. 32 (br s, 2H) , 6. 01 (br. s, 2H)， 6. 33 (q, 1H, J=l. 2Hz) .
rap : 140-141°C 参考例一 4
5 -メチル - 2 - [ ( 4 , 4， 4 -トリフルォ口ブチリル）ァミノ]チオフェン- 3 -カルボキサ ¾ K
Figure imgf000096_0002
2 -ァミノ- 5 -メチルチオフェン- 3 -カルボキサミ ド（10. 0g， 64. 0腿 ol)のトリェチ ルァミン (9. 70g, 96. Ommol)及ぴ酢酸ェチル（lOOmL)溶液を氷水冷下冷却し、 ここに別 途調整した 4， 4， 4-トリフルォロプチリルクロライド（10. 3g， 64. Ommol)をゆっくり滴 下した。 反応終了後、 反応液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及 ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。残さをシリカゲルカラム (MERCKネ±¾ Kieselgel60、 20〜40%AcOEt - Hex)により精製し、 5 -メチル- 2- [(4， 4, 4 -トリフル ォロブチリル）ァミノ]チォフェン- 3 -カルボキサミ ドを合計 (6.58g, 37%)を得た。 ¾-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.40 (d, 3H， J=l.2Hz) , 2.5-2.6 (in, 2H)， 2.74 (ra, 2H), 5.64 (br, 2H)， 6.57 (d, 1H, J=l.2Hz) .
mp: 151- 153°C 参考例一 5
4ーヒ ドロキシ— 6-メチル—2— (3， 3， 3—トリフルォロプロピル）チエノ [2: 3-d] ピリミジン
Figure imgf000097_0001
5—メチノレー 2— [(4， 4, 4-トリフルォロブチリノレ）ァミノ]チォフェン- 3-カルボキ サミ ド（6.33g, 22.6匪 ol)のエタノール（50mL)溶液に、 水酸化カリウム（3.92g, 67.7画 ol)を添加し、 80°Cにて 7時間加熱環流した。反応終了後、反応液を減圧留去し、 残さを水にあけた後、 酢酸ェチルを用いて不溶物を抽出した。 得られた水層に濃塩酸 を加えて酸性にし、析出した結晶を濾別後、得られた結晶を水洗、乾燥し、 4-ヒドロ キシ- 6-メチル -2- (3, 3， 3-トリフルォロプロピル）チエノ [2， 3-d] ピリミジ ン（4.78g, 81%)を得た。
¾-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.55 (d, 3H, J=1.2Hz), 2.74 (ra, 2H), 3.04(ra, 2H), 7.12 (d, 1H， J=l.2Hz) , 12.23 (br. s, 1H).
mp: 267-269°C (dec. ) 参考例一 6
4—ク口口— 6—メチル—2— (3, 3, 3—トリフルォロプロピル）チエノ [2, 3-d] ピリ ミジン
Figure imgf000097_0002
4ーヒ ドロキシ— 6—メチノレ— 2— (3， 3, 3—トリフノレオ口プロピル）チエノ [2, 3 - d ] ピリ ミジン（5.53g， 21.1腿 ol)の D F(6mL)溶液に、 ォキシ塩化リン（16· lg， 0.105mol)を添加し、 100°Cにて 2時間加熱環流した。 反応終了後、 反応液を永水にあ け析出結晶を濾取した。 得られた結晶を酢酸ェチルに溶解させ、 これを水及び飽和食 塩水にて洗浄してから、 溶媒を留去し、 残さをシリカゲルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et_Hex)により精製したのち、 得られた結晶をへキサン洗浄し、 4—クロロー 6—メチ /レ— 2— (3, 3, 3-トリフノレオ口プロピノレ）チエノ [2， 3 - d] ピリ ミジン（2.10g， 35%)を得た。 参考例一 7
6 -メチノレー 4— (メチルチオ) -2 -（3， 3, 3-トリフルォロプロピル）チエノ [2, 3- dl ピリミジン
Figure imgf000098_0001
4—クロロー 6 -メチノレー 2-（3， 3, 3-トリフノレオ口プロピゾレ）チエノ [2， 3-d] ピ リミジン（2.10g, 7.48mmol)の THF (30raL)溶液に、 15%メチルメルカプタンナトリウム 水溶液 (5.23g, 11.2醒 ol)を添加し、 3時間加熱環流した。 反応終了後、 反応液を水に あけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒 を留去した。残さをシリカゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 10%Ac0Et-Hex)により 精製し、 6—メチノレ— 4一 (メチノレチォ) -2-(3， 3, 3_ト リ フノレオ口プロピノレ）チエノ
[2, 3-d] ピリミジン（1.80g, 82%)を得た。
Ή-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.59 (d, 3H, J=1.2Hz), 2.67 (s, 3H), 2.7-2.8 (ra, 2H), 3.23 (m, 2H), 6.93 (q, 1H, J=l.2Hz) .
rap: 81- 83°C 参考例一 8
6—メチノレ— 4—メチノレスノレホニノレ _2— (3， 3， 3 -トリフルォロプロピル)チエノ [2， 3-d] ピリミジン
Figure imgf000098_0002
6—メチノレ—4—メチノレチォ—2— (3， 3, 3_トリフノレオ口プロピノレ）チエノ [2, 3 - d] ピリミジン（l.60g, 5.4ァ膽 ol)の塩ィ匕メチレン (20raL)溶液に、 m—クロ口過安息香 酸 (2.83g, 16.4蘭 ol)を添加し 1日室温にて撹拌した。反応終了後、析出結晶を濾別し、 濾液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄し てから溶媒を留去した。 残さをシリカゲルカラム（MERCK 社製 Kieselgel60、 200/0AcOEt-Hex)により精製し、 6—メチル—4— (メチノレスルホニル） —2— (3, 3, 3- トリフルォロプロピル） チエノ [2, 3-d] ピリミジン（1.17g, 65%)を得た。
Ή-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.70 (d, 3H, J=1.2Hz), 2.7-2.8 (m, 2H), 3.38 (s, 3H), 3.38(m, 2H), 7.65 (q, 1H, J=l.2Hz) .
mp: 60 - 61°C 参考例一 9
2 -ァミノ- 5 -メチルチオフェン- 3 -カルボン酸ェチノレの製造
Figure imgf000099_0001
シァノ酢酸ェチル（56· 6g, 0.5mol)、 硫黄（16.0g, 0.5mol)及ぴトリェチルァミン (50.5g, 0.5mol)の DMF(lOOmL)溶液を 40°Cに加熱したところに、 プロピオンアルデヒ ド（31.9g, 0.55mol)のエタノール（15mL)溶液をゆつくり滴下した（内温 60°Cまで上昇） 後、 60°Cにて加熱撹拌した。 反応終了後、 反応物を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽 出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲ ルカラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20%Ac0Et- Hex)により精製し、 2 -ァミノ- 5 -メチ ルチオフェン- 3-カルポン酸ェチル（81.8g， 89%)を得た。
'H-NMR (400MHz, CDC13) ： 1.33 (t, 3H, J=7.2Hz)， 2.26 (d, 3H, J=l.2Hz), 4.25 (q, 2H, J=7.2Hz), 5.76 (br. s, 2H)， 6.61 (q, 1H， J=l.2Hz) . 参考例一 10
5 -メチル- 2 -ゥレイドチオフェン- 3 -カルボン酸ェチル
Figure imgf000099_0002
2-アミノ- 5-メチルチオフェン- 3 -力ルポン酸ェチル（10.0g, 54. Oramol)の酢酸 (80mL)溶液に、シアン酸ナトリウム（7.01g, 0.108mol)の水（60mL)溶液をゆつくり滴下 した。反応終了後、結晶を濾別し、水洗した後乾燥させ、 5 -メチル- 2 -ゥレイドチォ フェン- 3 -力ルボン酸ェチル (7.60g, 62%)を得た。
-腿 (400MHz, CDC13) ： 1.36(t, 3H， J=7.2Hz) , 2.35 (d, 3H, J=l.2Hz), 4.29 (q, 2H, J=7.2Hz), 4.81 (br. s, 2H), 6.78 (d, 1H, J=l.2Hz), 10.36 (br. s, 1H).
mp: 198- 199°C (dec. )
1
2， 4-ジヒ ドロキシ -6-メチルチエノ [2, 3-d] ピリミジン
Figure imgf000100_0001
5 -メチル -2-ゥレイドチォフェン- 3-カルボン酸ェチル（7.60g， 33.3醒 ol)のエタ ノール（lOOmL)溶液に、水酸化力リウム（5· 80g, 0. lOmol)を添カ卩し、 80°Cにて 3時間加 熱環流した。 反応終了後、 結晶を濾別し、 エタノールを用いて結晶を洗浄後、 得られ た結晶を水に溶解させた液を濃塩酸を用いて酸性にし、 析出した結晶を濾別、 水洗し た後に乾燥させ、 2， 4-ジヒ ドロキシ -6-メチルチエノ [2, 3-d]ピリミジン（3.60g, 59%)を得た。
一 NMR (400MHz, CDC13) ： 2.37 (d, 3H, J=1.2Hz), 6.82 (d, 1H, J=l.2Hz), 11.5(br. s, 1H), 11.7(br. s, 1H).
mp: >300。C 参考例- 2
2， 4ージクロ口- 6-メチルチエノ [2, 3-d] ピリミジン
Figure imgf000100_0002
2， 4-ジヒ ドロキシ -6-メチルチエノ [2， 3-d] ピリミジン（6.70g, 36.8腿 ol) の DMF(lOmL)溶液に、 ォキシ塩ィ匕リン（28. lg， 0.184mol)を添加し、 100°Cにて 2.5時 間加熱環流した。 反応終了後、 反応液を氷水にあけ析出結晶を濾取した。 得られた結 晶を酢酸ェチルに溶解させ、溶液を水及び飽和食塩水にて洗浄後、溶媒を留去し、 2 , 4—ジクロ口- 6-メチルチエノ [2, 3-d] ピリミジン（6.40g， 79%)を得た。
— NMR (400MHz, CDC13) ： 2.65 (d, 3H, J=l.2Hz), 7.07 (q, 1H, J=l.2Hz) .
rap: 145-146°C 1 3
2 -クロロー 6 -メチノレ— 4一 (メチルチオ) チエノ [2, 3-d] ピリミジン
Figure imgf000101_0001
2, 4—ジクロロ- 6 -メチルチエノ [2， 3-d] ピリミジン（3.80g， 17.3腿 ol)の THF(50mL)溶液に、 15%メチルメルカプタンナトリゥム水溶液（9.71g, 20.8讓 ol)を添加 し、 4 時間加熱環流した。 反応終了後、 析出塩を濾別し、 濾液を水にあけ、 これを酢 酸ェチルで抽出後、 溶液を水及び飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 生成 物を一部シリ力ゲル力ラム（MERCK社製 Kieselgel60、 20%Ac0Et-Hex)により精製し、 2 -クロ口- 6-メチル -4-メチルチオチエノ [2, 3-d] ピリミジンを得た。 残りは精 製することなく次の反応に用いた。
'H-NMR (400MHZ, CDC13) ： 2.60 (d, 3H, J=1.2Hz), 2.70 (s, 3H), 6.94 (q, 1H, J=l.2Hz) . rap: m - 112。C
1 4
6-メチル -4- (メチルチオ) -2- (2, 2, 2 -トリフノレオ口エトキシ） チエノ [2, 3-d] ピリミジンの製造
Figure imgf000101_0002
2, 2, 2-トリフルォロエタノール （2.18g, 21.8mmol) の THF(50mL)溶液に、 水素 ィヒナトリウム（0.87g, 21.8匪 ol)を添加し、 0.5時間室温で撹拌した。 そこに参考例 1 3で得られた粗な 2-クロ口- 6-メチル -4- (メチルチオ） チエノ [2， 3-d] ピリ ミジン (3.35g, 14.5ramol)を加え、 60°Cにて 6時間加熱撹拌した。 反応終了後、 反応液 を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出後、 抽出液を水及び飽和食塩水にて洗浄してか ら溶媒を留去した。 結晶化した粗生成物をへキサン洗浄することにより、 6 -メチル- 4- (メチルチオ） -2— (2, 2， 2-トリフルォロエトキシ） チエノ [2， 3-d] ピリ ミジンを得た。
¾-NMR (400MHz, CDC13) ： 2.56 (q, 3H， J=l.2Hz), 2.68 (s, 3H), 4.86 (q, 2H, J=8.4Hz), 6.89 (q, 1H, J=l.2Hz) .
mp: 97°C 15
6 -メチノレ- 4 - (メチルスルホ -ル） -2- (2， 2， 2-トリフルォロエトキシ） チエノ [2, 3-d] ピリミジンの製造
Figure imgf000102_0001
上記参考列 14で得られた粗な 6—メチノレー 4一 （メチノレチ才） —2— （2, 2, 2—トリ フルォロエトキシ） チエノ [2, 3-d] ピリミジン（3.35g, 14.5画 ol)の塩化メチレ ン（50mL)溶液に、 m—クロ口過安息香酸 (2.82g， 16.3讓 ol)を添カ卩し、 1日室温にて撹 拌した。 反応終了後、 析出結晶を濾別し、 濾液を水にあけ、 これを酢酸ェチルで抽出 後、 抽出液を水及ぴ飽和食塩水にて洗浄してから溶媒を留去した。 残さをシリカゲル カラム（MERCK tt¾Kieselgel60、 20%Ac0Et-Hex) により精製し、 6-メチル -4- (メチ ルスルホニル） —2- (2， 2， 2—トリフルォロエトキシ） チエノ [2， 3-d] ピリミ ジン（1, 18g)を得た。
¾一 NMR (400MHz, CDC13) ： 2.65 (d, 3H, J=1.2Hz), 3.39 (s, 3H), 4.90 (q, 2H, J=8.4Hz), 7.59 (q, 1H, J=l.2Hz) .
mp: 138- 140°C
上記参考例、 実施例のいずれかと同様の方法によって得られる本発明化合物を第 1 表〜第 6表に例示するが本発明はこれらに限定されるものではない。 尚、表中「Me」 はメチル基を、 「E t」はェチル基を、 「Pr」はプロピル基を、 「Bu」はブチル基を、 「P e n」 はペンチル基を、 「H e x」 はへキシル基を、 「Ph」 はフエニル基を、 「P y」 はピリジル基を、 「Ac」 はァセチル基を、 「Ts」 はパラトルエンスルホニル基 を、 「n -」 はノルマルを、 「i -」 はイソを、 「t -」 はターシャリーを、 「c -」 は 脂環式炭化水素基を示す。 また第 6表の X1の列中、 「一」 は単結合を示す。
1
Figure imgf000103_0001
一般式 (IX)
O
Q (IX)
第 2表 （ァシルァセトニトリル誘導体）
Figure imgf000104_0001
Figure imgf000105_0001
Figure imgf000106_0001
SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Ζ OAV / επο一
Figure imgf000107_0001
Figure imgf000108_0001
第 5表 （2-クロ口チェノビリミジン誘導体）
Figure imgf000108_0002
第 5表 （続き:
Figure imgf000109_0001
80T
Figure imgf000110_0002
(tm ^ 。a エ^稱喜） 挲 9绻
Figure imgf000110_0001
(S S-Ι) ¾ί一
9S£Zl0/C00Zdf/X3d 0906請 00 OAV
Figure imgf000111_0001
Oil
Figure imgf000112_0001
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Ζ OAV
Figure imgf000113_0001
Figure imgf000114_0001
9S£ZlO/COOZdf/X3d 0906請 OO OAV επ
Figure imgf000115_0001
( 挲 9建
9SClT0/f00Zdf/X3d 0906i0/tO0Z OAV ηι
Figure imgf000116_0001
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV
Figure imgf000117_0001
9TI
Figure imgf000118_0001
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV LIT
Figure imgf000119_0001
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV 8TT
Figure imgf000120_0001
挲 9镇
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV 6TI
Figure imgf000121_0001
( ) 挲 9镇
9S£ilO/£OOZdf/X3d 0906 OOZ ΟΛΧ
Figure imgf000122_0001
( ) 挲 9第
9S£ilO/COOZdf/X3d 0906請 00 OAV
Figure imgf000123_0001
Figure imgf000124_0001
2ΖΪ
Figure imgf000125_0001
( ) 挲 9镍
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV ΨΖΪ
Figure imgf000126_0001
9SCZT0/C00Zdf/X3d 0906請 00Z OAV 次に、 本発明の除草剤の製剤例を示す。 なお、 以下に 「部」、 「％」 とあるのは、 そ れぞれ 「重量部」、 「重量％」 を意味する。 霧綱
水和剤
第 1表〜第 6表に記載の化合物 40部、 カープレックス # 80 (商標名、 塩野義製薬 社） 20部、 カオリンクレー （商標名、 土屋カオリン社） 35部、 および高級アルコール 硫酸エステル系界面活性剤ソルポール 8070 (商標名、東邦化学社） 5部を配合した後、 均一に混合粉砕して、 有効成分 40%を含有する水和剤を得た。 製剤例 2
乳剤
第 1表〜第 6表に記載の化合物 10部を芳香族炭化水素系溶剤ソルべッソー 200 (商 標名、ェクソン化学社） 40部および N, N -ジメチルァセトアミド 40部からなる混合溶 媒に溶解させた後、 これにポリオキシエチレン系界面活性剤ソルポール 3 ΟΟδΧ 谪標 名、 東邦化学社） 10部を加えて溶解させ、 有効成分 10%を含有する乳剤を得た。 製剤例 3
フロアプル斉 IJ
第 1表〜第 6表に記載の化合物 10部にルノックス 1000C (商標名、 東邦化学社） 5 部、 カープレックス # 80D (商標名、 塩野義製薬社） 3部、 エチレングリコール 8部、 およぴ水 54部を加えて混合分散させた。 このスラリー状混合物をダイノーミル （商 標名、 WAB社） で湿式粉砕した後、 別にあらかじめ混合溶解しておいたキサンタンガ ム 1°/。水溶液 20部を加えて均一に混合し、有効成分 10%を含有するフロアプル剤を得 た。 ' 製剤例 4
粒剤
第 1表〜第 6表に記載の化合物 1部、 クレー （日本タールク社製） 43部、ベントナ ィト （豊順洋行社製） 55部、およびサクシネート系界面活性剤ェャロール CT-1 (商標 名、東邦化学社） 1部を配合し、混合粉砕した後、水 20部を加えて混和した。 更にこ れを押し出し造粒機を用いて直径 0. 6mmの穴から押し出し、 60 で 2時間乾燥した後、 1-2讓の長さに切断して、 有効成分 1%を含有する粒剤を得た。 次に、 本発明の除草剤の試験例を示す。 試験例 1
畑地茎葉処理試験
面積 2 0 O cm2の樹脂製バットに洪積性埴壌土の畑土壌を充填し、施肥後、ィヌビエ、 セィヨウカラシナ及びマルバアサガオを播種し、 均一に覆土を行った。 その後、 温室 で栽培管理を続け、 供試雑草の生育葉令が 1 . 0〜 2. 0葉期に達した時、 製剤例 1に より得た水和剤を水で希釈調整し、 有効成分量の処理薬量が 1アール当たり 1 O g と なるように所定量を小型動力加圧噴霧器で均一に噴霧処理した。 その後、 温室内で栽 培管理を続け、 薬剤処理後 2 1 S目に除草効果について調査を行った。 その結果を第 7表に示した （第 7表の化合物 No.は第 1表〜第 6表の化合物 No.に対応する。）。 なお、 除草効果の評価は下記数式 処理区における雑草の地上部生体重
除草率 (%) = ( 1一 ) X 0 0 無処理区における雑草の地上部生体重 により除草率をを求め、 下記の基準による除草効果係数で表した。 除草効果係数 除草率 （％)
0 0〜 5
1 6〜3 0
2 3 1〜5 0
3 5 1〜7 0
4 7 1〜9 0
5 9 1 ~ 1 0 0 以下、 第 7表〜第 9表の試験結果の記載は本係数にて記載する c
Figure imgf000129_0001
試験例 2
畑地土壌処理試験
面積 2 0 0 cm2の樹脂製バットに洪積性埴壤土の畑土壌を充填し、施肥後、メヒシバ、 シロザ及びォオイヌタデを播種し、 均一に覆土を行った。 製剤例 1により得た水和剤 を水で希釈調整し、 有効成分量の処理薬量が 1アール当たり 1 0 g となるように所定 量を小型動力加圧噴霧器で土壌表面に均一に噴霧処理した。 その後、 温室内で栽培管 理を続け、 薬剤処理後 2 1日目に除草効果について調査を行った。 その結果を第 8表 に示した （第 8表の化合物 No.は第 1表〜第 6表の化合物 No.に対応する。）。 第 8表 化合物 No. 有効成分量 除草効果
(g/a) メヒシ ォ才ィヌタ于' シ时'
6-27 10 5 4 5
6-30 10 5 5 5
6-36 10 5 5 5
6-43 10 5 2 5
6-88 10 5 5 5
6-100 10 5 5 5
6-101 10 5 4 5
6-103 10 5 5 5
6-107 10 5 5 5
6-108 10 5 5 5
6-110 10 5 5 5
6-111 10 5 5 5
6-119 10 5 5 5
6-121 10 5 5 5
6-122 10 5 5 5
6-148 10 5 4 5
6-189 10 5 3 4
6-198 10 5 5 5
6-199 10 5 5 5 試験例 3 ：湛水処理茎葉処理試験
面積 2 0 O cm2の樹脂製バットに沖積性埴壌土の水田土壌を充填し、施肥後、タイヌ ビエ、 キカシグサ及びホタルイを播種し、 均一に覆土を行い、 3 cmの湛水深とした。 その後、 温室で栽培管理を続け、 供試雑草の生育葉令が子葉期〜 1葉期に達した時、 製剤例 1により得た水和剤を水で希釈調整し、 有効成分量の処理薬量が 1アール当た り 1 0 g となるように所定量をピペットを用い、 均一に滴下処理した。 その後、 温室 内で栽培管理を続け、 薬剤処理後 2 8日目に除草効果について調査を行った。 その結 果を第 9表に示した（第 9表の化合物 No.は第 1表〜第 6表の化合物 No.に対応する。）。
9表 化合物 No. 有効成分量 除草効果
/ / 、
(g/a) タイヌビエ · ホタルイ キかンク'サ
5-3 10 5 3 5
5-9 10 5 4 5
5-15 10 5 3 5
6-5 10 3 5 5
6-8 10 5 4 4
6-10 10 5 4 5
6-17 10 5 3 5
6-18 10 3 1 4
6-24 10 5 4 5
6-34 10 5 5 5
6 - 41 10 5 4 5
6-47 10 4 1 3
6-50 10 3 3 4
6-52 10 5 3 5
6-54 10 5 4 5
6-56 10 5 4 5
6-60 10 5 5 5
6-62 10 5 5 5
6-72 10 5 3 5
6-86 10 5 4 5
6-116 10 5 4 5
6-127 10 5 4 5
6-129 10 5 2 4
6-146 10 4 2 5
6-149 10 5 4 5
6-157 10 5 4 5
6-160 10 5 4 5
6-164 10 5 4 5
6-169 10 5 2 5
6-174 10 1 3 5
6-188 10 5 4 5
6-191 10 5 3 5
6-200 10 3 3 5
6-201 10 5 3 5 産業上の利用可能性
本発明によれば、 高い除草効果を示し、 力つ、 重要作物に対して十分な安全性を示 す除草剤として有用な化合物を得ることが出来る。

Claims

請求の範囲
1. 一般式 （I)
Figure imgf000134_0001
{式中、 Aは A1
Figure imgf000134_0002
(式中、 R1は水素原子又は置換されていてもよいアルキル基を示し、 R2は水素原 子、 ハロゲン原子又は置換されていてもよいアルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000134_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。
Q1は、水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基又は一 Χ1!^3 (式 中、 X1は単結合、 — O—、 一 SOn— (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 一CO—、 _C02—、 _OC02—又は一 OC (O) —を示し、
R 3は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換さ れていてもよいアルキ-ル基、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ ぃァリール基又は置換されていてもよ!/、複素環基を示す。 ) を示し、
Q 2は水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は _X2R4 (式中、 X2は、 単結合、 一 O—、
-SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 OSOn— （式中、 nは前記に同じ。）、 -
CO—、 一co2—、 一OC02—又は一 OC (O) 一を示し、
R4は置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいァルケ-ル基、置換さ れていてもよいアルキニル基、 置換されていてもよいアミノ基、 置換されていてもよ ぃァリール基又は置換されていてもよい複素環基を示す。） を示す。 } で表される置換チェノピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
2. 一般式 （I)
Figure imgf000135_0001
{式中、 Aは A1
Figure imgf000135_0002
(式中、 R1は水素原子、 （： 〜(： 6) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R 2は水素原子、 ハロゲン原子、 6) アルキル基又はハロ （d Cj アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000135_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。
Q1は水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基又は一 X1!^3 (式 中、 X1は単結合、 — O—、 — SOn— （式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 —CO—、 一 C02—、 一 OC02_又は—OC (O) —を示し、
R3は （(^〜(： ） アルキル基、 ハロ （Ci Cio) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （Ci~C6) アルコキシ （Ci〜C 6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 （Ci Cj アルキル （C3〜C6) シクロアルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル （Ci Cj アルキル基、 （じ 〜。 アルコキシカルボニル （。 〜じ^ アルキル基、 （ァミノ） ヒドロキシ （c2〜c6) アルキル基、 （Ci Cj アルキルチオ （d Cj アルキ ル基、 （Ci〜C4) アルキルスルフィニル （Ci〜C4) アルキル基、 （Ci〜C4) アル キルスルホニル （c1〜c4)アルキル基、 （c2〜c6)アルケニル基、 ハロ （c2〜c 6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C
2〜c6) アルケニル基、 フエニル （c2〜c6) アルケニル基、 (c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci Cj アルキル アミ ノ基、 モノハロ （じ丄〜じ^ アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても 良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （じ 〜C6) アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハ ロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci〜C 6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル 基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) ァルケ-ル基、 ノヽロ （C
2〜c6)アルケニル基、 （c2~c6)アルキニル基、 ハロ （c2~c6)アルキ- ル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ノヽロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C
3~c6) アルコキシ基、 ハロシクロ （c3~ce) アルコキシ基、 （(^〜じ^ アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （Ci〜C6) アルキル スルフィニル基、 ハロ (d— Ce) アルキルスルブイニル基、 シクロ （C3
〜c6) アルキノレスノレブイニル基、 ハロシクロ (c3〜c6) アクレキルスノレフ ィニル基、 （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 ハロ （Ci Ce) アルキル スノレホニノレ基、 シクロ (C3〜C 6) アルキルスルホニル基、 ノヽロシクロ (C 3~C6) アルキルスルホ-ル基、 モノ （(^〜( 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （C CJ アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一 又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 ァ ミ ノ基、 S H基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （C Ce) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2 〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 (C2〜C6) アルキニ ル基、 ハロ （C2~C6) アルキニル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （C ェ〜。^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜Ce) ァノレコキシ基、 ノヽロシクロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 （じ 〜。 アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキ ルチオ基、 シク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 ノヽロシクロ （C3〜C6) ァ ルキルチオ基、 （C1~C6) アルキルスルブイ -ル基、 ノヽ ロ （。 〜じ^ ァ ルキノレスノレフィニル基、 シクロ (C3〜C6) アルキルスルフィニル基、 ノヽ ロシクロ （C3〜C6) アルキルスルフィニル基、 (C^CJ アルキルスル ホニノレ基、 ノヽロ （C1〜C6) ァノレキノレスルホニノレ基、 シクロ （C3~C6) ァ ルキルスルホニル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モ ノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （Ci Cj アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ノヽロゲ ン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （じ 〜。 了 ルキル基、 ハロ （C1〜C6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) ァノレキノレ基、 （C2〜C6) アルケニノレ基、 ノヽロ （C2 〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキ-ル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニ ル基、 （C CJ アルコキシ基、 ハロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シク口 （C 3〜C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルコキシ基、 （(^〜( 6) アルキルチオ基、 ハロ （じ 〜。 アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ノヽロシク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （C Cs) アルキル スノレブ イ 二ノレ基、 ノヽロ （（ 〜じ^ ァノレキノレスノレブ イ 二ノレ基、 シク ロ （C3 〜C6) ァノレキノレスノレフ ィ ニノレ基、 ハロ シク ロ （C3〜C6) ァノレキノレスノレフ ィ -ル基、 （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 ノヽ ロ （C^ Ce) アルキル スルホニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ノヽロシクロ （C 3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （(^〜じ 6) アルキルアミ ノ基又は同 一若しくは異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （Ci Ce) アルキル基、 複素環 基 (複素環とはォキシラン、 才キセタン、 テトラヒ ドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾーノレ、 イミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリア ゾール、 トリアゾリジン、 ィソキサゾール、 ィソキサゾリン、 ィソチアゾール、 ィソ チアゾリジン、 ピラゾール、 ピラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒ ド 口ピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺ ラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原 子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 6) アルキルカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキシ基、 ノヽロ ( 〜 ) アルコ キシ基、 シクロ （C3~C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基 から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素 環（d c アルキル基（複素環は前記に同じ。）又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （。 〜じ アルキル基、 ハロ （C Ce) ァ ルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 (C ェ〜 )アルキルカルボニルォキシ基、 ( 〜 ) アルコキシ基、 ハロ ( 〜じ アルコキシ基、 シクロ (c3〜c6)アルコキシ基又はハロシク口 (c3〜c6)アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci Cj アルキ ル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） を示す。
Q 2は水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は一 X2R4 (式中、 X 2は単結合、 一 0_、 -SOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同じ。）、 ― CO—、 一co2—、 一 oco2—又は一 OC (O) —を示し、
R4は （(^〜じ ） アルキル基、 ハロ （じ 〜。 ） アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキノレ基、 ハロ （C3〜C6) シクロアノレキル基、 （じ 〜じ^ ァノレコキシ
6) アルキル基、 ハロ （ ^ C アルコキシ （Ci Ce) アルキル基、 （Ci Cj アルキルシク口 (C3〜C6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル (C!~C4) アルキル基、 (じ丄〜じ アルコキシカルボ-ル（(^〜じ アルキノレ基、 ( 〜 ) アルキルチオ (C^CJ アルキル基、 (C^CJ アルキルスルフィエル (C^C
4) アルキル基、 ( 〜 ,) アルキルスルホニル (c^cjアルキル基、 （c2〜c 6) アルケニル基、 ハロ （c2~c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （c2〜c6) アル ケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （c2〜c6) アルケニル基、 フエニル (C2~C6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6) アルキニル基、 アミ ノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 モノハロ （Ci~C6) アルキル アミノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同 一又は異なって良いジハロ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ 基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸 基、 アミノ基、 S H基、 （(^〜( 6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキ ル基、 シクロ （c3〜c6)アルキル基、 ハロシク ロ （c3〜c6)アルキル基、 (c2〜c6) アルケニル基、 ノヽロ (c2〜c6)アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニノレ基、 ノヽロ （C2〜C6) ァノレキ-ノレ基、 （（^〜（：^ ァノレコキシ基、 ハロ
(じ 〜じ^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜(： 6) アルコキシ基、 ハロシク ロ
(C3〜C6) アルコキシ基、 （じ 〜。^ アルキルチオ基、 ハロ （Ci C ァ ルキルチオ基、 シクロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 ハロシクロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 (CX~C6) ァノレキルスルフィニル基、 ハロ ( 〜 ) アルキルスルフィニル基、 シクロ （c3~c6) アルキルスルフィニル基、 ハロシク ロ (C3~C6) アルキルスルフィエル基、 (C^CJ アルキルス ノレホニル基、 ハロ （Ci Cj アルキルスルホニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルスルホニル基、 モノ （C Ce) アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ 〜C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミノ基、 ァリール基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン 原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （じ 〜。 アル キル基、 ノヽロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽ ロシクロ （c3〜c6)アルキル基、 （c2〜c6) ァルケ-ル基、 ハロ （c2〜c 6) アルケニル基、 （c2〜c6)アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル基、 (じ 〜じ^ アルコキシ基、 ノヽロ （c1〜c6) アルコキシ基、 シクロ （c3〜 c6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルコキシ基、 （c cj ァ ルキルチオ基、 ノヽロ （Ci C アルキルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル チォ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （Ci Ce) アルキルス ルフィニル基、 ハロ （じ丄〜じ アルキルスルフィエル基、 シク ロ （C3〜 C6) ァノレキノレスノレフ ィ -ノレ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) ァノレキノレスノレフ ィ -ル基、 （Ci〜C6) アルキルスルホニル基、 ノヽロ （Ci〜C6) アルキルス ルホニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホ-ル基、 ノヽロシクロ （C3 〜C6) アルキルスルホ-ル基、 モノ （(^〜じ^ アルキルアミ ノ基又は同 一若しくは異なって良いジ （Ci C アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 ァリール （(^〜。^ アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci C アルキル基、 ノヽロ （(^〜(：^ アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2 〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニ ル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、 （C1〜C6) アルコキシ基、 ハロ （C ェ〜じ^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 （(^〜(：6) アルキルチオ基、 ハロ （(^〜( 6) アルキ ルチオ基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 ノヽロシクロ （c3〜c6) ァ ルキルチオ基、 （C C ァノレキルスノレフィニル基、 ハロ （。 〜じ^ ァ ルキルスノレブイニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルフィエル基、 ハ ロシク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィニル基、 （C1~C6) アルキルスル ホニル基、 ハロ （^〜（：^ アルキルスノレホニル基、 シクロ （C3~C6) ァ ルキルスルホニル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキルスノレホニル基、 モ ノ （Ci Cj アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ （(^〜 C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置 換ァリール （Ci Ce) アルキル基、 複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 同一又は異 なっても良く、ハロゲン原子、シァノ基、ニトロ基、 （Ci Ce)アルキル基、ハロ （C 丄〜じ アルキル基、 シクロ （C3〜(： 6) アルキル基、 ハロシクロ （C3~C6) アル キル基、 （Ci Cj アルキルカルボニルォキシ基、 （じ 〜。 アルコキシ基、 ハロ (Ci Cj アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3 〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環は 前記に同じ。）、複素環 （ 〜じ^ アルキル基 （複素環は前記に同じ。） 又は同一若し くは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci C アルキル基、 ハロ （。；!〜。 アルキル基、 シクロ （c3〜c6) アルキル基、 ハロシクロ （c3〜
C6) アルキル基、 (C^CJ アルキルカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキ シ基、 ハロ （Ci Ce) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシ クロ （C3〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複 素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） を示す。 }で表される 置換チェノピリミジン誘導体を有効成分として含有する除草剤。
3. Q1が一 OR3 {式中、 R3は （じ 〜。 。） アルキル基、 ハロ （じ 〜。 ） ァ ルキル基、 シクロ （C3〜Ce) アルキル基、 （Ci Ce) アルコキシ （(^〜( ^ ァ ルキル基、 ノヽロ （(^〜(：^ アルコキシ （C1~C6) アルキル基、 （C1〜C4) アル キルシクロ (C3〜C6) アルキル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル (C^CJ アル キル基、 (じ ) アルコキシカルボ二ノレ (C^C アルキル基、 （ァミノ） ヒド ロキシ （C2〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルキルチオ （Ci Cj アルキル基、 (C^CJ アルキルスルフィニル 〜 ') アルキル基、 (0!~04) アルキル スルホニル （Ci Cj アルキル基、 （c2〜c6) アルケニノレ基、 ハロ （c2〜c6) ァルケ-ル基、 ヒ ドロキシ （c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （c2 〜c6)アルケニル基、 フエニル (c2〜c6)アルケニル基、 （c2〜c6)アルキ ニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （(^〜。^ アルキルァ ミ ノ基、 モノハロ （Ci C アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良 ぃジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ
C6) アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く、 ノヽロ ゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （(^〜（：^ ァノレキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ (C2〜C6) ァルケ-ル基、 （C2~C6) アルキニル基、 ハロ （C2~C6) アル キニル基、 （( 〜じ^ アルコキシ基、 ハロ （Ci〜C6) アルコキシ基、
〜c6) アルキルチオ基、 ハロ
Figure imgf000140_0001
アルキ ルスルブイ二ル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキルスルブイ二ル基、 （Cj^ Ce) ァノレキノレスノレホニノレ基、 ノヽロ (。 〜 ^ アルキルスルホニル基、 モノ (C i Cj アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci C アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フ ェニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （C Ce) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2~C6) ァ ルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （C !~06) アルコキシ基、 ハロ （じ 〜〇6) アルコキシ基、 （( 〜じ アルキ ルチオ基、 ハロ （C1〜C6) アルキルチオ基、 (C^CJ アルキルスルフィニ ル基、 ハロ （じ丄〜。^ アルキルスルフィニル基、 （じ 〜じ アルキノレス ルホニル基、 ノヽロ （じ 〜。^ アルキルスルホニル基、 モノ （。 〜じ^ ァ ルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルァ ミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 ァリール
(Ci-Ce) アルキル基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ 基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ
(。 〜。^ アルキル基、 （C2〜C6) ァルケ-ル基、 ハロ （C2〜C6) ァルケ ニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2~C6) アルキ-ル基、 C6) アルコキシ基、 ハロ （Ci C アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキルチ ォ基、 ノヽロ （じ 〜じ^ アルキルチオ基、 （じ 〜。^ アルキルスルフィエル基、 ハロ (C ) ァノレキノレスノレフ ィ 二ノレ基、 (C 〜 ) ァノレキノレスノレホニ ル基、 ハロ ( 〜 ) アルキルスルホニル基、 モノ （C1〜C6) アルキル ァミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基 から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （じ 〜。 アル キル基、 複素環基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラ ン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリ ジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミ ダゾリジン、 トリァゾール、 トリアゾリジン、 ィソキサゾール、 ィソキサゾリン、 ィ ソチアゾーノレ、 イソチアゾリジン、 ピラゾー Λ ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラ ゾール、 テトラヒドロピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チ ォモノレホリン、 ピぺラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なって も良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （C Ce) アルキル基、 ハロ （Ci~ C6) アルキル基、 (Ci〜C6) アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci〜C6) アルコキ シ基又はハロ （じ 〜。 アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 複素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記に 同じ。） 又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （じ丄 〜C6) アルキル基、 ハロ (C^CJ アルキノレ基、 (C^Ce) アルキルカルボニル ォキシ基、 (Ca~C6) アルコキシ基又はハロ （じ 〜じ^ アルコキシ基から選択さ れる 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci C アルキル基 （複素環は前 記に同じ。） を示す。 } である請求の範囲 1又は 2いずれかに記載の除草剤。
4. Q2が （じ 〜。^) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 (d-Ce) アルキルチオ基、 シクロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 (C丄〜 ) アルキルスルフ ィニル基、 シクロ （C3~C6) アルキルスルフィニル基、 （じ 〜。^ アルキルスル ホニル基、 シクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 複素環基 （複素環とはォキシ ラン、 ォキセタン、 テトラヒ ドロフラン、 フラン、 チォフェン、 ピロール、 ピロリジ ン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チアゾール、 チアゾリン、 チア ゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジン、 トリァゾール、 トリァゾ リジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 イソチアゾール、 ィソチアゾリジン、 ピ ラゾール、 ビラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒ ドロピラン、 ピリジ ン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホリン、 ピぺラジン、 ピペリジ ン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C Ce) アルキ ル基、 含フッ素 （Ci Ce) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci〜C6) アルキルチオ基 から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環基は前記に同じ。）、 複 素環ォキシ基 （複素環基は前記に同じ。）、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （じ丄 〜C6) アルキル基、 含フッ素 （Ci C アルコキシ基又は含フッ素 （Ci C アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環ォキシ基 （複素環 基は前記に同じ。） 又は _X2R4 (式中、 X2が単結合、 一 0_、 一 S—、 —SO—又 は一 S02—を示し、 R4がフエ二ル基を示し、 該フエニル基が同一または異なっても 良い含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フ ッ素 （(^〜。^ アルキルチオ基からなる群より選択される置換基で少なくとも 1置 換されており、更に他の置換基として同一又は異なっても良く 、ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （(^〜( ^ アルキル基、 シク ロ （C 3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキル基、 (C2〜C6) アル ケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ (C2〜C6) アルキニル基、 （。 〜 アルコキシ基、 ノヽロ （じ丄〜 ^ ァ ルコキシ基、 シク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) 了 ルコキシ基、 （Ci〜C6) アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シ クロ （c3〜c6)アルキルチオ基、 ハロシクロ （c3〜c6)アルキルチオ基、
(C!~C6) ァノレキノレスノレフ ィ ニノレ基、 ノヽロ （( 〜じ^ アルキルスノレフィ 二ノレ基、 シク ロ （c3~c6) アルキノレスノレブイ -ル基、 ノヽロシク ロ （c3〜
C6)アルキルスルブイ ニル基、 （Ci〜C6)アルキルスルホ-ル基、ハロ （C ) アルキルスノレホニル基、 シク ロ (c3〜c6)アルキルスルホニル基 又はハロシク ロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基から選択される 1以上 の置換基を有していても良い。） である請求の範囲 1乃至 3いずれかに記載の除 草剤。
5. Q1が水素原子、ハロゲン原子、 シァノ基、水酸基、 カルボキシ基、 （。 〜じ^) アルキル基、 ハロ アルキル基、 〜じ アルコキシ （Ci C ァ ルキル基、 ハロ 6) アルコキシ （じ 〜。 アルキル基、 （C Cio) アル コキシ基、 ハロ （(^〜じ アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ハロ シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Ce) アルコキシ （C CJ アルコキシ 基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （Ci Cj アルコキシ基、 （じ 〜じ アルコキ シカルボニル （C C アルコキシ基、 （ァミノ） ヒ ドロキシ （C2〜( 6 アルコ キシ基、 （Ci Cj アルキルチオ （C Ce) アルコキシ基、 （Ci Cj アルキル スルフィニル （C1〜C6) アルコキシ基、 ( 〜 ) アルキルスノレホニル ( 〜。 6) アルコキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci C アルキルアミノ （C C 3) アルコキシ基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ド 口キシノ、口 (C2〜C6) アルケニル基、 (C2〜C6) アルケニルォキシ基、 ハロ (C, 〜C6) ァルケ-ルォキシ基、 （C2〜C6) アルキニルォキシ基、 アミノ基、 モノ （C 〜じ^ アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cj アルキノレアミノ 基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロ （Ci Cj アルキル基で置換された置換 フエ-ル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異なっても良い 1以上の （Ci
〜(： 3) アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピラゾリル基、 同一又は異なつ ても良く、 （Ci~C3) アルキル基又はハロ （Ci〜(： 3) アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ビラゾリル基、同一又は異なっても良い 1以上のハロ（C 3) アルキル基で置換された置換ピラゾリル （(^〜( アルキル基、 トリァゾ リル基、 フエノキシ基、 同一又は異なっても良く、 ハロ 3) アルキル基又は ハロ （Ci Cg) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエノキ シ基、 （Ci〜C3) アルキルチオ基、 （Ci~C3) アルキルスルフィニル基、 （Ci~C 3) アルキルスルホニル基、 （。 〜。 アルキルスルホニルォキシ基、 ハロ （（^〜 c6)アルキルスルホニルォキシ基、 フエニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なって も良い 1以上の （C C アルキル基で置換された置換フエニルスルホニルォキシ 基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cs) アルキルアミノスルホニルォキシ基、 （C
2~C4) ァルケニルスルホニルォキシ基、 ( 〜 ) アルキルカルボニルォキシ基、
(Ci〜C3) アルコキシカルボニルォキシ基、 (C^Cs) アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても良い 1以上のハロゲン原子で置換さ れた置換フェニルァミノカルボニル基であり、
Q 2がハロゲン原子、水酸基、 （C1〜C6) アルキル基、ハロ （C Ce) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキノレ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキノレ基、 （C1〜C6) アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 （じェ 〜C6) アルキルスルフィニル基、 (Ci-Ce) アルキルスルホニル基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci〜C3) アルキル基、 ハロ （d Cj アルキル基、 （じ 〜。 アルコキシ基、ハロ （Ci Cj アルコキシ基又はハロ （C 〜じ^ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエニル基、 同 一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （d C アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 フリル基、 同 一又は異なっても良い 1以上の（Ci Cg)アルキル基で置換された置換チェニル基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロゲン原子で置換された置換ピリジル基又は同一 若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シァノ基、 （C Cs)アルキル基、ハロ（C ェ〜じ^ アルキル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基又 はハロ （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエ ノキシ基である請求の範囲 1又は 2いずれかに記載の除草剤。
6. 請求の範囲 1乃至 5いずれかに記載の除草剤の有効量を土壌処理、茎葉処理又は 湛水処理することを特徴とする除草剤の使用方法。
7. 一般式 （I )
Figure imgf000144_0001
{式中、 Aは A1
Figure imgf000144_0002
(式中、 R1は水素原子、 (Ci-Ce) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R2は、水素原子、ハロゲン原子、 （C Ce) アルキル基又はハロ （(^〜じ^ アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000144_0003
(式中、 R1及ぴ R 2は前記に同じ。） を示す。 Q1は水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキシ基又は一 Χ1!^3 (式 中、 X1は単結合、 一 O—、 -SOn- (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 — OSO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 一 CO—、 一 C02—、 一 OC02—又は _OC (◦) 一を示し、
R3は （Ci C^) アルキル基、 ハロ （じ 〜じ ） アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 ^ アルコキシ
6) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ （Ci C アルキル基、 （C CJ アルキル (C3〜C6) シクロアルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル (C^CJ アルキル基、 ( 〜 ) アルコキシカルボニル (。 ) アルキル基、 (ァミノ) ヒドロキシ （C2〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルキルチオ （C CJ アルキ ル基、 （Ci~C4) アルキルスルフィニル （Ci〜C4) アルキル基、 （じ 〜じ^ アル キルスルホニル 〜じ アルキノレ基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2~C 6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C
2〜c6) アルケュル基、 フエニル (c2〜c6) アルケニル基、 （c2〜c6) アル キニル基、 ハロ （C2〜Ce) アルキ-ル基、 アミノ基、 モノ （C CJ アルキル アミ ノ基、 モノハロ （Ci〜C6) アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても 良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci ~c6)アルキルァミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハ ロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci C 6) アルキル基、 C^^CJ アルキル基、 シクロ （c3〜c6)アルキル 基、 ヽロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) ァルケ-ル基、 ハロ （C
2〜c6) ァルケ-ル基、 （c2〜c6)アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニ ル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ハロ （じ 〜じ^ アルコキシ基、 シクロ （C
3〜c6) アルコキシ基、 ヽロシク ロ （c3〜c6) アルコキシ基、 （c1〜c6) アルキルチオ基、 C Ce) アルキルチオ基、 シクロ （C3~C6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （じ 〜じ^ アルキル スルフィ ニル基、 ハロ （Ci Ce) アルキルスルフィ エル基、 シク ロ （C3 〜C6) ァノレキノレスノレブイ -ノレ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレフ ィニル基、 ^ アルキルスルホニル基、 ハロ ^ アルキル スノレホニル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホ二ノレ基、 ヽロシクロ （C 3〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （じュ〜 ^ アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （じ 〜じ^ アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一 又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 ァ ミ ノ基、 S H基、 （C1〜C6) アルキル基、 ハロ （じ 〜じ^ アルキル基、 シク ロ （c3~c6) アルキル基、 ハロシク ロ （c3〜ce) アルキル基、 （c2 〜c6)アルケニル基、 ハロ （c2〜c6)アルケニル基、 (c2〜c6)アルキニ ル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルキニノレ基、 （Ci Cj ァノレコキシ基、 ノヽロ （C 1〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （C 3~C6) アルコキシ基、 （Ci Ce) アルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキ ルチオ基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) 了 ルキルチオ基、 （C1〜C6) アルキルスルフィ エル基、 ハロ （( 〜じ^ 了 ノレキノレスノレフィ 二ノレ基、 シク ロ (c3〜c6) ァノレキルスノレブイ ニル基、 ノヽ ロシク ロ （C3〜C6) アルキルスルフィ ニル基、 (C^CJ アルキルスル ホニノレ基、 ノヽロ （c1〜c6) アルキルスルホニル基、 シク ロ （c3~c6) 了 ルキルスルホ -ル基、 ノヽロ シクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モ ノ （C Ce) アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci c6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ ール基、 ァリール （(^〜じ^ アルキル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲ ン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Ce) 了 ルキル基、 ハロ （(^〜。^ アルキル基、 シク ロ （C3~C6) アルキル基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキル基、 (C2〜C6) アルケニル基、 ハロ (C2 〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニ ル基、 ((^〜（ ^ アルコキシ基、 ノヽロ 6) アルコキシ基、 シクロ (C
3〜C6) アルコキシ基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 (C^Cs) アルキルチオ基、 ハロ (C^Ce) アルキルチオ基、 シクロ (C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキルチオ基、 (Ci〜C6) アルキル スノレフィエル基、 ハロ (C^Ce) アルキルスルフィ ニル基、 シク ロ (C3 〜C6) ァノレキノレスノレフイ エノレ基、 ノヽロシク ロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレフ ィ ニル基、 （。 〜。^ ァノレキノレスルホニノレ基、 ハロ （。 〜。^ アルキル スルホニル基、 シク ロ (C3〜C6) アルキノレスルホニル基、 ハロ シク ロ (C 3~C6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （Ci Cj アルキルアミ ノ基から選択される
1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （。 〜。^ アルキル基、 複素環基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒドロフラン、 フラン、 チォ フェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チ ァゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジ ン、 トリァゾール、 トリァゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 イソチアゾ ール、 イソチアゾリジン、 ビラゾール、 ピラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒドロピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モルホリン、 チオモルホ リン、 ピぺラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) ァ ルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 (C 丄〜じ^ アルキルカルボニルォキシ基、 （。 〜じ^ アルコキシ基、 ハロ （じ 〜じ ァノレコキシ
基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3~C6) アルコキシ基から 選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環は前記に同じ。）、複素環（C !~06) アルキル基 （複素環は前記に同じ。） 又は同一若しくは異なっても良く、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキ ル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （じ 〜 C6) アルキルカルボ-ルォキシ基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ハロ （Ci〜C6) 了 ルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキ シ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci Cj アルキル 基 （複素環は前記に同じ。） を示す。) を示す。
Q 2は水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は— X2R4 (式中、 X 2は単結合、 — 0_、 - S O n- (式中、 nは前記に同じ。）、 -O SO n- (式中、 nは前記に同じ。）、 - CO—、 一 co2_、 _oco2—又は一 OC (O) —を示し、
R4は （C アルキル基、 ハロ （( 〜じ ） アルキル基、 シクロ （C3〜
C6) アルキル基、 ハロ (C3〜C6) シクロアルキル基、 （Ci~C6) アルコキシ (C i Ce) アルキル基、 ハロ （(^〜( アルコキシ （C CJ アルキル基、 （じ 〜C4) アルキルシクロ （C3〜C6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル (C1 〜C4) アルキル基、 (C^CJ アルコキシカルボニル（Ci〜( 3) アルキル基、 (C アルキルチオ ( 〜 ) アルキル基、 (C^CJ アルキルスルフィニル (C^CJ アルキル基、 (Ca~C4) アルキルスルホニル (C^CJ アルキル基、
(c2〜c6)アルケニル基、 ハロ (c2〜c6)アルケニル基、 ヒ ドロキシ (c2〜c
6) ァルケ-ル基、 ヒ ドロキシハ口 （C2〜C6) アルケニル基、 フエニル (C
2〜c6) アルケニル基、 (c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2〜c6)アルキニル 基、 アミノ基、 モノ （C C アルキルアミ ノ基、 モノハロ （Ci~C6) ァ ルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Ce) アルキルアミ ノ 基、 同一又は異なって良いジハロ （Ci Ce) アルキルアミ ノ基、 フエニル アミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （C i〜C6) 了 ルキル基、 シクロ （C3~C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキ ル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ハロ （じ 〜じ^ ァノレコキシ基、 シク ロ （c3~c6) ァノレコキシ基、 ノヽロ シ ク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シク ロ （c3~c6)アルキルチオ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 （じ 〜じ^ アルキノレスルフィ 二ノレ基、 ノヽロ （Ci Cj ァノレキノレスノレフ イ エノレ基、 シクロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレブ イ 二ノレ基、 ノヽロシク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィ エル基、 (C ) アルキノレス ノレホニノレ基、 ノヽロ （c1〜c6) ァノレキノレスノレホニノレ基、 シク ロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ （c3〜c6)アルキルスルホニル基、 モノ （C Ce) アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミ ノ基、 ァリール基、 同一又は異なつても良く 、 ハロゲン 原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （(^〜( ^ アル キル基、 ハロ （C ^^Ce) アルキル基、 シク ロ （C3~C6) アルキル基、 ハ ロシク ロ （C3〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C2〜C 6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 (Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 シク ロ （C3〜 C6) アルコキシ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C CJ 了 ルキルチオ基、 ハロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキル チォ基、 ノヽロシクロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （Ci〜(： 6) アルキルス ノレフィ ニル基、 ノヽロ (C^CJ アルキノレスルフィ ニル基、 シク ロ （C3〜 C6) アルキルスルフィ ニル基、 ノヽロシク ロ (C3〜C6) ァノレキノレスノレフィ ニル基、 （Ci Cs) アルキルスルホニル基、 ノヽロ （（^〜（ ^ アルキルス ルホニル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ノヽロシク ロ （C3 ~C6) アルキルスルホニル基、 モノ （じ 〜じ^ アルキルアミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ (C^CJ アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール基、 ァリール （Ci〜C6) アル キル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ノヽロ （じ 〜じ^ ァ ルキル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキ ル基、 （C2~C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （c2〜c6) アルキニル基、 （c1〜c6) アルコキシ基、 ノヽロ （c1〜c6) ァノレコキシ基、 シク ロ （c3〜c6) アルコキシ基、 ハロシ ク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （d Cj アルキルチオ基、 ハロ （c1〜c6) アルキルチオ基、 シク ロ （c3〜c6)アルキルチオ基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルキルチオ基、 （Ci C アルキルスルフィ ニル基、 ハロ （Ci~C6) アルキルスノレフィエル基、 シクロ （c3〜c6) アルキノレスノレブイニル基、 ハロシク ロ （C3~C6) ァノレキルスルフィニル基、 （。 〜 ^ アルキノレス ノレホニノレ基、 ノヽロ （じ^^〜じ^ アルキノレスノレホニノレ基、 シクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モノ （Ci Cj アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ 〜C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換ァリール （Ci Cj アルキル基、 複素環基 （複素環は前記に同じ。）、 同一又は 異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Cj アルキル基、ハロ (じ 〜じ^ アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキノレ基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 6) アルキルカルボニルォキシ基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （じ 〜。 アルコキシ基、 シクロ. （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C 3~C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基 （複素環 は前記に同じ。）、 複素環 ( 〜 ) アルキル基 （複素環は前記に同じ。） 又は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （(^〜じ^ アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシ クロ （C3〜C6) アルキル基、 6) アルキルカルボニルォキシ基、 (C i〜C 6) アルコキシ基、 ハロ （C1〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ 基又はハロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を環上に 有する置換複素環（ 〜( 6)アルキル基（複素環は前記に同じ。）を示す。）を示す。 } で表される置換チェノビリミジン誘導体。
8. Aが A 1であり、 Q1が一 OR3 (式中、 R3は請求の範囲 7に同じ） であり、 Q2 が水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は一 X2R4 (式中、 X2は請求の範囲 7に同じ くし、 R4が （Ci C o) ァノレキノレ基、 ハロ （Ci Cio) アルキル基、 シクロ （C 3〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルコキシ （Ci Cj アルキル基、 ハロ （Ci 〜C6) アルコキシ ( 〜 ) アルキル基、 （C1〜C4) アルキルシクロ (C3〜C 6) アルキル基、 シクロ (C3〜C6) アルキル (C^CJ アルキル基、 (d-Cs) アルコキシカルボ二ノレ ( 〜 ) アルキル基、 〜 アルキルチオ ( 〜。 4) アルキル基、 （C CJ アルキルスルフィエル （C i Cj アルキル基、 (C1 〜C4) アルキルスルホ二ノレ (Ci〜C4) アルキル基、 (C2〜C6) アルケニル基、 ノヽ 口 （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （C2〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロ キシハ口 （C2〜C6) ァノレケニル基、 フエニル （C2〜C6) ァノレケニル基、 (C 2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci C 6) アルキルアミ ノ基、 モノハロ （C Ce) アルキルアミ ノ基、 同一又は 異なっても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なって良い ジハロ （Ci C アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なつ ても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （(^〜じ^ アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキル基、 （C2〜C6) 了 ルケニル基、 ハロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハ 口 （C2〜C6) アルキニル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci Cj アルコキシ基、 （(^〜じ^ アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Cj アルキルチオ基、 ( 〜。 アルキルスルフィ ニル基、 ハロ （C1〜C6) アルキルスルブイ ニル基、 （。 〜じ^ アルキルスノレホニル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキルス ルホニル基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なつ て良いジ （Ci Ce) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を 環上に有する置換フエ -ルァミ ノ基、 同一又は異なっても良く 、 含フッ 素 （Ci Ce) アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ 素 （(^〜(：^ アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を環上に有す る置換ァリール基、 複素環基 （複素環は請求の範囲 7に同じ。）、 同一又は異なって も良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （ 〜 C6) アルキル基、 (Ci~C6) アルキルカルボニルォキシ基、 (Ci〜C6) アルコキ シ基又はハロ （じ 〜。 アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 複素環基 （複素環は前記に同じ。） を示す。 但し、
(1) X2が単結合を示す場合、 R4はァミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基及びモノハロ （Ci Ce) アルキルアミ ノ基を除く。
(2) X2が一0—の場合、 R4は アルキル基を除く。
である請求の範囲 7記載の置換チェノピリミジン誘導体。
9. Aが A 1であり、 Q1が水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボキ シ基又は— X1!^3 (式中、 X1が単結合、 -SOn- (式中、 nは 0〜2の整数を示 す。）、 一OSOn— （式中、 nは前記に同じ。）、 _CO_、 一 C02—、 一 OC02— 又は一 OC (O) —を示し、 R 3は請求の範囲 7に同じ。） であり、
Q2が同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （ Ci-Ce) アルコキシ基又は含フッ素 （じ 〜。 アルキルチオ基から選択さ れる 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 同一又は異なっても良く、 含 フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci〜C6) アルコキシ基又は含 フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換ァリールォキシ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C i C ァ ルキル基、 含フッ素 （じ 〜じ^ アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Ce) 了 ルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルチオ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （C Ce) アルキル基、 含フッ素 （Ci 〜C6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択され る 1以上の置換基を有する置換ァリ—ルスルブイニル基又は同一若しくは 異なっても良く、 含フッ素 （Ci〜C6) アルキル基、 含フッ素 （じ 〜じ ^ アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以 上の置換基を有する置換ァ リ一ルスルホニル基である請求の範囲 7記載 の置換チェノピリミジン誘導体。
但し、 Q1が （C i C j アルキル基 （X 1が単結合且つ R 3が （C i C e) アルキル基を示す。） を示す場合、 Q2は含フッ素アルキル基で少なく と も 1置換されている置換ァリールォキシ基を除く。
10. Aが A1であり、 Q1が水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 水酸基、 カルボ キシ基、 アルキル基、 ハロ （Ci C アルキル基、 （(： 〜( 6) アル コキシ 〜 ) アルキル基、 ノヽロ (C^C アルコキシ 〜 ) アルキ ノレ基、 （(^ Cio) アルコキシ基、 ハロ （Ci〜C6) アルコキシ基、 シクロ （C3〜 C6) アルコキシ基、ハロシクロ (C3〜C6) アルコキシ基、 (C^CJ アルコキシ (Ca~C6) アルコキシ基、 ハロ ( 〜 ) アルコキシ 〜 ) アルコキシ 基、 ( 〜 ) アルコキシカルボニル ( 〜 ) アルコキシ基、 （ァミノ） ヒドロ キシ （C2〜C6) アルコキシ基、 (Ci-Ce) アルキルチオ （C CJ アルコキシ 基、 〜 ) アルキルスルフエニル （Ci Cj アルコキシ基、 (Ci-Ce) 了 ルキルスルホニル（Ci Cj アルコキシ基、同一又は異なっても良いジ（Ci Cj アルキルアミノ (C^CJ アルコキシ基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ (C 〜C6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （C2〜C6) アルケニル基、 (C2~C6) アル ケニルォキシ基、 ハロ (c2〜c6) アルケニルォキシ基、 （c2〜c6) アルキニルォ キシ基、 アミノ基、 モノ （Ci Ce) ァノレキルアミノ基、 同一又は異なっても良いジ (Ci Cj ァノレキノレアミノ基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロ （Ci C アルキル基で置換された置換フエニル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異 なっても良い 1以上の （Ci C アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピ ラゾリル基、 同一又は異なっても良く、 （。丄〜じ アルキル基又はハロ （Ci Cs) アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 同一又は異な つても良い 1以上のハロ （Ci C アルキル基で置換された置換ピラゾリル （じ 〜C3) アルキル基、 トリァゾリル基、 フエノキシ基、 同一又は異なっても良く、 ハ 口 （Ci C アルキル基又はハロ （C Cs) アルコキシ基から選択される 1以上 の置換基を有する置換フエノキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 （じ 〜。^ アル キルスルフィニル基、 ( 〜じ アルキルスルホニル基、 ( 〜 )アルキルスノレ ホニノレオキシ基、 ノヽロ （C;t~C6) ァノレキノレスノレホニノレォキシ基、 フエニノレスノレホニ ルォキシ基、 同一又は異なっても良い 1以上の （c cjアルキル基で置換された 置換フエニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci C アルキル アミノスルホニルォキシ基、 （c2〜c4) ァルケ-ルスルホニルォキシ基、 （。 〜じ
3) アルキルカルボニルォキシ基、 〜 ) アルコキシカルボニルォキシ基、 (d
〜c3) アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても 良い 1以上のハロゲン原子で置換された置換フエニルァミノカルボニル基であり、
Q 2がハロゲン原子、水酸基、 （ C i〜 C 6 )アルキル基、ハロ （ C i〜 C 6 )アルキル基、 シクロ （c3〜c6) アルキル基、 ハロシクロ （c3〜c6) アルキル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （d^Cj アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 （Ci ~C6) アルキルスルフィエル基、 （C^ Cj アルキルスルホニル基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci Cs) アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 （( 〜じ^ アルコキシ基、ハロ （C CJ アルコキシ基又はハロ （C 〜じ^ アルキルチォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエニル基、 同 一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 （Ci Cs) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 フリル基、 同 一又は異なっても良い 1以上の（d Cjアルキル基で置換された置換チェニル基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロゲン原子で置換された置換ピリジル基又は同一 若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （Ci Cg) アルキル基、 ハロ (0!~03) アルキル基、 (Ci〜C3) アルコキシ基、 ハロ (C^Cs) アルコキシ 基又はハロ （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 フエノキシ基である請求の範囲 7記載の置換チェノビリミジン誘導体。
1 1. Aが A1であり、 Q1がハロゲン原子又は水酸基である請求の範囲 7、 9又は 10いずれかに記載の置換チェノピリミジン誘導体。
1 2. Aが A2であり、 Q1が一 OR3 (式中、 R 3は請求の範囲 7に同じ） であり、 Q2が水素原子、 ハロゲン原子、 水酸基又は— X2R4 (式中、 X2が単結合、 —0—、 -SOn- (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 -OSOn- (式中、 nは前記に同 じ。）、 _C02_、 一OC02_又は一 OC (O) —を示し、 R4が （Ci Cio) ァ ルキル基、 ハロ （。 〜。^) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 （C 〜 C6) アルコキシ ( 〜 ) アルキル基、 ハロ ( 〜 ) アルコキシ （^~〇6) アルキル基、 （。 〜じ アルキルシクロ （c3〜c6)アルキル基、 シクロ （c3〜c
6) アルキル ( 〜じ J アルキル基、 ( 〜 ) アルコキシカルボニル ( 〜。
3) アルキル基、 (C!~C4) アルキルチオ （じ 〜。 アルキル基、 （Ci Cj ァ ルキルスルフィニル （。 〜。 アルキル基、 (0!~04) アルキルスルホニル (Cx
〜c4) アルキル基、 （c2〜c6) アルケニル基、 ハロ （c2~c6) アルケニノレ基、 ヒ ドロキシ （c2〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ口 （c2〜c6) ァルケ 二ノレ基、 フエニル （C2〜C6) アルケニル基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ノヽロ
(C2〜C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （Ci Ce) アルキルァミ ノ基、 モ ノハロ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良いジ （C 〜 C6) アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハ口 （(^〜。^ アルキ ルァミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル 基、 ハロ （Ci C アルキル基、 シク ロ （C3~C6) アルキル基、 ノヽロシ ク ロ （C3~C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、
(C CJ アルコキシ基、 ハロ （C CJ アルコキシ基、 （Ci Cj 了 ルキルチオ基、 ノヽロ (C^CJ アルキルチオ基、 ( 〜 ) アルキルスルフ ィニル基、 ハ ロ （( 〜。^ アルキルスノレブイ二ル基、 （。丄〜。^ アルキ ルスノレホニル基、 ハロ （（^〜。(；） アルキルスルホニル基、 モノ
6) アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （C^ Ce) アルキ ルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニル アミ ノ基、 ァリール基又は同一若しく は異なっても良く 、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル 基、 ノヽロ （Ci Ce) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C 6) ァルケエル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2~C6) アルキニル 基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （Ci C アルコキシ基、 （C Cj アルキルチオ基、 ハロ （ 〜。^ アルキルチオ基、 6) アルキルスル ブイ二ル基、 ノヽ ロ （^〜じ アルキルスルフィニル基、 （じ 〜じ^ アル キルスルホニル基、 ノヽロ （Ci Cj アルキルスルホニル基、 モノ （じ 〜 C6) アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci Ce) アル キルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ル基を 示す。
但し、 X2が単結合を示す場合、 R4はァミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミ ノ基、 モノハロ （C CJ アルキルアミ ノ基、 同一又は異なっても良い ジ （C CJ アルキルアミ ノ基、 同一又は異なって良いジハロ （Ct C 6) アルキルアミ ノ基、 フエニルァミノ基、 同一又は異なっても良く 、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （じ 〜。^ アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽ 口 （C2〜C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、 （C CJ アルコキシ基、 ノヽロ （C CJ Tルコキシ基、
(Ci Cj アルキルチオ基、 ハロ （Ci C アルキルチオ基、 （C Cj ァ ノレキノレスノレブ イ 二ノレ基、 ノヽロ (C^CJ ァノレキノレスノレブ イ 二ノレ基、 (d 〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロ （C ]L〜C6) アルキルスルホニル基、 モノ （C C アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する 置換フエニルァミ ノ基、 （。 〜じ ） アルキル基、 ハロ （〇 〜〇 。） アルキル 基、 シクロ (C3〜C6) アルキル基、 (C!~C6) アルコキシ (C^CJ アルキル 基、ハロ （じ丄〜じ^ アルコキシ（じ 〜。^ アルキル基、 (C!~C4) アルキル （C
3〜(： 6) シクロアルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル （じ 〜。 アルキル基、
(C!~C3) アルコキシカルボニル (Ca~C3) アルキル基、 (c1〜c4) アルキル チォ (C^CJ アルキル基、 (Ci Cj アルキルスルフィエル ( 〜 ) アル キル基及び （Ci〜C4) アルキルスルホ二ノレ (C1〜C4) アルキル基を除く。） で ある請求の範囲 7記載の置換チェノピリミジン誘導体。
13. Aが A2であり、 Q1がハロゲン原子、 シァノ基、 カルボキシ基又は一 Χ1!^3 (式中、 X1が単結合、 _SOn— (式中、 nは 0〜2の整数を示す。）、 — OSOn 一 (式中、 nは前記に同じ。）、 一CO—、 一 C02—、 一 OC02—又は一OC (O) —を示し、 R 3は請求の範囲 7に同じ。） であり、
Q2が同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （ じ丄〜。^ アルコキシ基又は含フッ素 （(^〜。^ アルキルチオ基から選択さ れる 1以上の置換基を有する置換ァリール基、 同一又は異なっても良く、 含 フッ素 （Ci~C6) アルキル基、 含フッ素 （Ci〜C6) アルコキシ基又は含 フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換ァリールォキシ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アル コキシ基又は含フッ素 （じ 〜。 アルキルチオ基から選択される 1以上の 置換基を有する置換ァリ一ルチオ基、 同一又は異なっても良く、含フッ素 （C 〜C6) アルキル基、 含フッ素 （Ci Cj アルコキシ基又は含フッ素 （Ci〜 C6) アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリール スルフ ィ エル基又は同一若しくは異なっても良く、含フッ素 （d Cj アルキル 基、 含フッ素 （Ci~C6) アルコキシ基又は含フッ素 （C Ce) アルキルチ ォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルスルホニル基 である請求の範囲 7記載の置換チェノピリミジン誘導体。
14. Aが A2であり、 Q1が、 ハロゲン原子、 シァノ基、 カルボキシ基、 （Ci〜C 10) アルキル基、 ハロ （Ci~C6) アルキル基、 （Ci〜C6) アルコキシ （Ci〜C6) アルキル基、 ハロ （C1〜C6) アルコキシ （Ci Ce) アルキル基、 （じ 〜。 。） 了 ノレコキシ基、 ハロ （Ci Cj ァノレコキシ基、 シクロ （C3〜C6) ァノレコキシ基、 ハ ロシクロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （C Ce) アルコキシ （C Ce) アルコキ シ基、 ハロ （C Ce) アルコキシ （C Ce) アルコキシ基、 （Ci C アルコ キシカルボニル (じ ) アルコキシ基、 ヒ ドロキシァミノ ( 〜 ) アルコキ シ （じ 〜。 アルコキシ基、 （じ 〜じ^ アルキルチオ （じ 〜。 アルコキシ基、 (じ丄〜じ^ アルキルスルフィニル （(^〜じ アルコキシ基、 （じ 〜。^ アルキ ルスルホ -ル （Ci Cj アルコキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci C 了 ルキルアミノ （。 〜。^ アルコキシ基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ （C2〜C 6) アルケニル基、 ヒドロキシハ口 （C2~C6) アルケニル基、 (C2~C6) アルケニ ルォキシ基、 ハロ （C2〜C6) アルケニルォキシ基、 （C2〜C6) アルキニルォキシ 基、 アミノ基、 モノ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良いジ （C !~06) アルキルアミノ基、 同一又は異なっても良い 1以上のハロ （c cjアル キル基で置換された置換フエニル基、 ピロリル基、 イミダゾリル基、 同一又は異なつ ても良い 1以上の 3) アルキル基で置換された置換イミダゾリル基、 ピラゾ リノレ基、 同一又は異なっても良く、 （C CJ アルキル基又はハロ （Ci〜C3) ァ ルキル基から選択される 1以上の置換基を有する置換ピラゾリル基、 同一又は異なつ ても良い 1以上のハロ （Ci Cg) アルキル基で置換された置換ピラゾリル （じ 〜 C3) アルキル基、 トリァゾリル基、 フエノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロ （C 〜じ^ アルキル基又はハロ （Ci C アルコキシ基から選択される 1以上の置換 基を有する置換フエノキシ基、 （Ci Cg) アルキルチオ基、 （Ci〜C3) アルキルス ルブイ二ル基、 (C^C アルキルスルホニル基、 (じ ) アルキルスルホニル ォキシ基、 ハロ （Ci〜C6) ァノレキノレスノレホニノレォキシ基、 フエニノレスノレホニノレォキ シ基、 同一又は異なっても良い 1以上の （( 〜(： 3) アルキル基で置換された置換フ ェニルスルホニルォキシ基、 同一又は異なっても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ スルホニルォキシ基、 (C2〜C4) ァルケニルスルホニルォキシ基、 (C^CJ アル キル力ルボ二ルォキシ基、 (C^C アルコキシカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキシカルボニル基、 ァミノカルボニル基又は同一若しくは異なっても良い 1以 上のハロゲン原子で置換された置換フエニルァミノカルボニル基であり、
Q2がハロゲン原子、水酸基、 （Ci Cj アルキル基、 ハロ （Ci Cj アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 （Ci Cj アルコキシ基、 ハロ （。 〜。^ アルコキシ基、 (0!~06) アルキルチオ基、 （Ci ~C6) アルキルスルブイ-ル基、 （。丄〜。^ アルキルスルホニル基、 同一又は異な つても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （。 〜じ アルキル基、 ハロ （Ci〜C3) アルキル基、 （。 〜じ アルコキシ基、 ハロ （C C アルコキシ基又はハロ （C i Cg) アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換フエニル基、 又 は同一若しくは異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 （。 〜。 アルキル基、 ハロ （じ 〜じ アルキル基、 (cx~c3) アルコキシ基、 ハロ （c1〜c3) アルコ キシ基又はハロ （じ 〜。 アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する 置換フエノキシ基である請求の範囲 7記載の置換チエノピリミジン誘導体。
15. -般式 （ I一 1 )
Figure imgf000156_0001
{式中、 Aは A1
Figure imgf000156_0002
(式中、 R1は水素原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （d Cj アルキル基を 示し、 R2は、 水素原子、 ハロゲン原子、 （じ 〜。 アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を示す。） 又は A 2
Figure imgf000156_0003
(式中、 R1及び R 2は前記に同じ。） を示す。 Yはハロゲン原子を示す。
Q2aは、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci^C アルキル基、 含フッ素 〜C6) アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以 上の置換基を有する置換ァリール基、 同一又は異なっても良く、含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （。 〜じ^ アルコキシ基又は含フッ素 （Ci C アルキル チォ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリールォキシ基、 同一又は異な つても良く、 含フッ素 （C Ce) アルキル基、 含フッ素 （C CJ アルコキシ基 又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置 換ァリールチオ基、 同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含 フッ素 （C CJ アルコキシ基又は含フッ素 （Ci Cj アルキルチオ基から選択 される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ルスルフィニル基又は同一若しくは異なつ ても良く、 含フッ素 （Ci Cj アルキル基、 含フッ素 （Ci C アルコキシ基又 は含フッ素 （Ci Ce) アルキルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換 ァリールスルホニル基を示す。 } で表される置換チェノビリミジン誘導体と、 式 （II)
R3XlaH (Π)
(式中、 Xlaは単結合、 一 0—又は一 S—を示し、 R3は アルキル基、 ハ 口 ((^〜(： 。) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロ （C3〜（： 6) シ ク口アルキル基、 (C^CJ アルコキシ （(： 〜( 6) アルキル基、 ハロ （C1~C6) アルコキシ (C^CJ アルキル基、 ( 〜 ) アルキルシク口 (C3〜C6) アル キル基、 シクロ (C3〜（： 6) アルキル (C^CJ アルキル基、 (0!~03) アルコ キシカルボニル
Figure imgf000157_0001
〜( 4) アルキルチオ ( 〜 !) 了 ルキル基、 （c1〜c4)アルキルスルフイエノレ ( 〜 】) アルキル基、 (c1〜c4) アルキルスルホニル (C C J アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ハロ (C,
〜c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシ （c2~c6) アルケニル基、 ヒ ドロキシハ 口 （c2〜c6)アルケニル基、 フエニル （c2〜c6)アルケニル基、 (c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （C2~C6) アルキニル基、 アミノ基、 モノ （C CJ アル キルアミノ基、 モノハロ （C CJ アルキルアミノ基、 同一又は異なつ ても良いジ （Ci Cj アルキルアミノ基、 同一又は異なって良いジハロ (Ci-Ce) アルキルアミノ基、 フエ-ルァミノ基、 同一又は異なっても良 く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 水酸基、 アミノ基、 S H基、 （C !~C6) アルキル基、 ノヽ ロ （C1〜C6) アルキル基、 シク ロ （C3〜C6) ァ ルキル基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキル基、 （C2〜C6) アルケニル基、 ノヽロ （c2~c6)アルケニノレ基、 （c2〜c6) アルキニル基、 ハロ （c2~c6) アルキニル基、 （じ 〜じ^ ァノレコキシ基、 ノヽ ロ （。 〜じ アルコキシ基、 シクロ （c3~c6) アルコキシ基、 ノヽロシクロ （c3〜c6) ァノレコキシ基、
(Ci Cj アルキルチオ基、 ハロ （Ci C アルキルチオ基、 シクロ （C3〜 C6) アルキルチオ基、 ノヽロシクロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （Ci〜C6) アルキノレスノレフィ ニノレ基、 ノヽロ （じ 〜。^ アクレキノレスノレフィ ニノレ基、 シ ク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィ ニル基、 ハロシク ロ (C3〜C6) アルキ ルスルフィ二ノレ基、 （。 〜じ^ ァノレキルスルホニル基、 ハロ （じ 〜。^ アルキルスルホ-ル基、 シクロ （C3〜C6) アルキルスルホニル基、 ハロ シクロ （C3〜C6) アルキルスルホ-ル基、 モノ (C^CJ アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （(： 〜じ^ アルキルアミ ノ基から 選択される 1以上の置換基を環上に有する置換フエニルァミ ノ基、 ァリー ル基、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水 酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （Ci Cj アルキル基、 ノヽロ （Ci C アル キル基、 シク ロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシク ロ （C3〜C6) アルキル 基、 （c2〜c6) アルケニル基、 ハロ （c2〜c6) ァルケ-ル基、 （c2〜c6) アルキ-ル基、 ノヽロ （C2〜C6) アルキニル基、 （Ci C アルコキシ基、 ハロ （じ丄〜。^ アルコキシ基、 シクロ （c3〜c6) アルコキシ基、 ハロシ クロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （Ci Cj アルキルチオ基、 ハロ （(： 〜じ アルキルチオ基、 シク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 ノ、ロシク ロ （C3〜C6) アルキルチオ基、 （（ 〜じ アルキルスルフィ ニノレ基、 ノヽ ロ （( 丄〜じ^ アルキルスルフィ ニル基、 シク ロ (C3〜C6) アルキルスルフィ ニル基、 ノヽロシクロ （c3〜c6) アルキルスノレフィエル基、 （c1〜c6) アルキルス ルホニル基、 ハロ （c1〜c6) アルキノレスルホニル基、 シクロ （c3〜c6) アルキルスルホニル基、 ハロシク ロ (c3〜c6) アルキルスルホニル基、 モノ （じ 〜じ^ アルキルアミ ノ基又は同一若しく は異なって良いジ （Ci 〜C6) アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァ リール基、 ァリール 6) アルキル基、 同一又は異なっても良く 、 ハロ ゲン原子、 シァノ基、 ニ トロ基、 水酸基、 アミ ノ基、 S H基、 （C ^Cj アルキル基、 ハロ （(： 〜じ^ アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルキル基、 (C2〜C 6) アルケニル基、 ハロ （C2 ~C6) アルケニル基、 （C2〜C6) アルキニル基、 ハロ （C2〜C6) アルキニ ル基、 （Ci〜C6) アルコキシ基、 ハロ （Ci~C6) アルコキシ基、 シクロ （C 3〜C6) アルコキシ基、 ノヽロシク ロ （C3〜C6) アルコキシ基、 （じ 〜。^ アルキルチオ基、 ノヽロ （Ci Cj アルキルチオ基、 シクロ （C3〜C6) アルキ ルチオ基、 ハロシク ロ （C3~C6) アルキルチオ基、 （Ci Ce) アルキル スノレフィ ニノレ基、 ノヽ ロ （じ 〜。^ ァノレキノレスノレフィ ニノレ基、 シクロ （C3
~c6) ァノレキノレスノレフ イ エノレ基、 ノヽロ シク ロ （c3~c6) ァノレキノレスノレフ ィ ニル基、 （じ 〜じ^ アルキルスルホニル基、 ノヽ ロ （c1〜c6) アルキル スノレホニノレ基、 シク ロ （c3〜c6) ァノレキノレスノレホニノレ基、 ノヽロ シク ロ （C 3〜c6) アルキルスルホニル基、 モノ （じ 〜。 アルキルァミ ノ基又は同 一若しく は異なって良いジ （じ 〜。^ アルキルアミ ノ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換ァリール （じ 〜。^ アルキル基、 複素環基 （複素環とはォキシラン、 ォキセタン、 テトラヒ ドロフラン、 フラン、 チォ フェン、 ピロール、 ピロリジン、 ォキサゾール、 ォキサゾリン、 ォキサゾリジン、 チ ァゾール、 チアゾリン、 チアゾリジン、 イミダゾール、 イミダゾリン、 イミダゾリジ ン、 トリァゾール、 トリァゾリジン、 イソキサゾール、 イソキサゾリン、 イソチアゾ ール、 イソチアゾリジン、 ビラゾール、 ピラゾリン、 ビラゾリジン、 テトラゾール、 テトラヒドロピラン、 ピリジン、 ピリミジン、 ピリダジン、 モ ホリン、 チォモノレホ リン、 ピぺラジン、 ピぺリジン又はォキサジンを示す。）、 同一又は異なっても良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ （C Cs) ァ ルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキル基、 (C ) アルキルカルボニルォキシ基、 (C^CJ アルコキシ基、 ハロ (〇】〜。ø) アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3~C6) アルコ キシ基から選択される 1以上の置換基を有する置換複素環基（複素環は前記に同じ。）、 複素環 （Ci Cj アルキル基 （複素環は前記に同じ。） 又は同一若しくは異なっても 良く、 ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （Ci Ce) アルキル基、 ハロ
6) アルキル基、 シクロ （C3〜C6) アルキル基、 ハロシクロ （C3〜C6) アルキノレ 基、 （( 〜( 6) アルキルカルボニルォキシ基、 （じ 〜。 アルコキシ基、 ハロ （C ェ〜じ^ アルコキシ基、 シクロ （C3〜C6) アルコキシ基又はハロシクロ （C3〜C 6) アルコキシ基から選択される 1以上の置換基を環上に有する置換複素環 （Ci C 6) アルキル基 （複素環は前記に同じ。） を示す。） で表される化合物とを反応させるこ とを特 ί敷とする式 (1 -2)
Figure imgf000159_0001
(式中、 A、 R3、 Xla及び Q2aは前記に同じ。） で表される置換チェノビリミジン誘 導体の製造方法。
6. 一般式 （III)
Figure imgf000160_0001
(式中、 R1は水素原子、 （(^〜じ^ アルキル基又はハロ （(^〜じ^ アルキル基を 示し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （C Ce) アルキル基を示す。 Yは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子を示す。） で表される 2, 4—ジハロゲノチエノ [2, 3—d] ピリミジン誘導体と、 式 （IV)
(IV)
(式中、 Q2aは同一又は異なっても良く、 含フッ素 （Ci Ce) アルキル基、 含フッ 素 （Ci C アルコキシ基又は含フッ素 （Ci C アルキルチオ基から選択され る 1以上の置換基を有する置換ァリール基を示し、 Lは一 B(OH)2を示す。） で表され る化合物をカツプリング反応することを特徴とする式 （1—3)
Figure imgf000160_0002
(式中、 R1 R2、 Q2a及び Yは前記に同じ。）で表される 4一置換チェノ [2， 3— d] ピリミジン誘導体の製造方法。
17. 一般式 （V)
Figure imgf000160_0003
(式中、 R1は水素原子、 （Ci Cj アルキル基又はハ口 （Ci Cj アルキル基を 示し、 R5は水素原子、 ハロゲン原子、 （C1〜C6) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を示し、 R6は含フッ素 （Ci Ce) アルキル基、 含フッ素 （C1〜C6) アルコキシ基又は含フッ素 （C 〜C6) アルキルチオ基を示す。） で表される 2—アミ ノ _ 3— （置換べンゾィル） チォフェン誘導体。
8. 一般式 (VI)
Figure imgf000161_0001
(式中、 R1は水素原子、 (Ci-Ce) アルキル基又はハロ （Ci Cj アルキル基を 示し、 R2は水素原子、 ハロゲン原子、 （Ci Cj アルキル基又はハロ （d Cj アルキル基を示す。 Wはァリール基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 （( 〜(： 6) アルキル基、 ハロ （Ci〜C6) アルキル基、 (C1 〜C6) アルコキシ基、 ハロ （( 〜じ アルコキシ基又はハロ （じ 〜。^ アルキ ルチオ基から選択される 1以上の置換基を有する置換ァリ一ル基を示す。）で表される ゥレイドチォフェン誘導体。
1 9. 一般式 （VII)
Figure imgf000161_0002
(式中、 R 5は水素原子、ハロゲン原子、 （Ci Ce) アルキル基又はハロ （。 〜 ^ アルキル基を示し、 R6は含フッ素 （じ 〜じ アルキル基、 含フッ素 （C CJ アルコキシ基又は含フッ素 （C^ CJ アルキノレチォ基を示す。 但し、 R6が含フッ 素 （Ci Cj アルキル基の場合、 R5は水素原子を除く。） で表される置換べンゾィ ルァセト-トリル誘導体。
20. 3— （トリフルォロメトキシ） 安息香酸ェチル。
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Cited By (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006046485A1 (ja) * 2004-10-25 2006-05-04 Nihon Nohyaku Co., Ltd. 畑作用除草剤組成物及び防除方法
US7071190B2 (en) 2002-02-15 2006-07-04 Rigel Pharmaceuticals, Inc. Inhibitors to tubulin polymerization
US7601725B2 (en) 2004-07-16 2009-10-13 Sunesis Pharmaceuticals, Inc. Thienopyrimidines useful as Aurora kinase inhibitors
WO2013040021A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
WO2013040117A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
WO2013039990A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US8691813B2 (en) 2008-11-28 2014-04-08 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Indole and benzoxazine derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8691849B2 (en) 2008-09-02 2014-04-08 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 3-azabicyclo[3.1.0]hexyl derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8697689B2 (en) 2008-10-16 2014-04-15 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Indole and benzomorpholine derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8722894B2 (en) 2007-09-14 2014-05-13 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,3-disubstituted-4-phenyl-1H-pyridin-2-ones
US8748621B2 (en) 2007-09-14 2014-06-10 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,3-disubstituted 4-(aryl-X-phenyl)-1H-pyridin-2-ones
US8785486B2 (en) 2007-11-14 2014-07-22 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Imidazo[1,2-A]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US8841323B2 (en) 2006-03-15 2014-09-23 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1, 4-disubstituted 3-cyano-pyridone derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2-receptors
WO2014151255A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US8906939B2 (en) 2007-03-07 2014-12-09 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 3-cyano-4-(4-tetrahydropyran-phenyl)-pyridin-2-one derivatives
US8937060B2 (en) 2009-05-12 2015-01-20 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo [4,3-A] pyridine derivatives and their use for the treatment of prevention of neurological and psychiatric disorders
US8946205B2 (en) 2009-05-12 2015-02-03 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US8993591B2 (en) 2010-11-08 2015-03-31 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a] pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US9012448B2 (en) 2010-11-08 2015-04-21 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US9067891B2 (en) 2007-03-07 2015-06-30 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,4-disubstituted 3-cyano-pyridone derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2-receptors
US9085577B2 (en) 2009-05-12 2015-07-21 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 7-aryl-1,2,4-triazolo[4,3-A]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
WO2015108982A2 (en) 2014-01-15 2015-07-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control using epsps polynucleotides
US9114138B2 (en) 2007-09-14 2015-08-25 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1′,3′-disubstituted-4-phenyl-3,4,5,6-tetrahydro-2H,1′H-[1,4′] bipyridinyl-2′-ones
US9121022B2 (en) 2010-03-08 2015-09-01 Monsanto Technology Llc Method for controlling herbicide-resistant plants
US9271967B2 (en) 2010-11-08 2016-03-01 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US9416363B2 (en) 2011-09-13 2016-08-16 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US9422558B2 (en) 2011-09-13 2016-08-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US9422557B2 (en) 2011-09-13 2016-08-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US9540642B2 (en) 2013-11-04 2017-01-10 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Agriculture Compositions and methods for controlling arthropod parasite and pest infestations
US9604994B2 (en) 2011-11-23 2017-03-28 Cancer Research Technology Limited Thienopyrimidine inhibitors of atypical protein kinase C
US9708315B2 (en) 2013-09-06 2017-07-18 Janssen Pharmaceutica Nv 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine compounds and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US9777288B2 (en) 2013-07-19 2017-10-03 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling leptinotarsa
US9850496B2 (en) 2013-07-19 2017-12-26 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US10041068B2 (en) 2013-01-01 2018-08-07 A. B. Seeds Ltd. Isolated dsRNA molecules and methods of using same for silencing target molecules of interest
US10106542B2 (en) 2013-06-04 2018-10-23 Janssen Pharmaceutica Nv Substituted 6,7-dihydropyrazolo[1,5-a]pyrazines as negative allosteric modulators of mGluR2 receptors
US10240162B2 (en) 2012-05-24 2019-03-26 A.B. Seeds Ltd. Compositions and methods for silencing gene expression
US10378012B2 (en) 2014-07-29 2019-08-13 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling insect pests
US10537573B2 (en) 2014-01-21 2020-01-21 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US10557138B2 (en) 2013-12-10 2020-02-11 Beeologics, Inc. Compositions and methods for virus control in Varroa mite and bees
US10612019B2 (en) 2013-03-13 2020-04-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10609930B2 (en) 2013-03-13 2020-04-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10655136B2 (en) 2015-06-03 2020-05-19 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for introducing nucleic acids into plants
US10683505B2 (en) 2013-01-01 2020-06-16 Monsanto Technology Llc Methods of introducing dsRNA to plant seeds for modulating gene expression
US10760086B2 (en) 2011-09-13 2020-09-01 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10801028B2 (en) 2009-10-14 2020-10-13 Beeologics Inc. Compositions for controlling Varroa mites in bees
US10806146B2 (en) 2011-09-13 2020-10-20 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10808249B2 (en) 2011-09-13 2020-10-20 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10829828B2 (en) 2011-09-13 2020-11-10 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10883103B2 (en) 2015-06-02 2021-01-05 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for delivery of a polynucleotide into a plant
US10888579B2 (en) 2007-11-07 2021-01-12 Beeologics Inc. Compositions for conferring tolerance to viral disease in social insects, and the use thereof
US10968449B2 (en) 2015-01-22 2021-04-06 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US10988764B2 (en) 2014-06-23 2021-04-27 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for regulating gene expression via RNA interference
US11091770B2 (en) 2014-04-01 2021-08-17 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling insect pests
US11369606B2 (en) 2014-01-21 2022-06-28 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US11807857B2 (en) 2014-06-25 2023-11-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for delivering nucleic acids to plant cells and regulating gene expression

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008092860A1 (en) * 2007-01-30 2008-08-07 Janssen Pharmaceutica N.V. Bicyclic derivatives as ep4 agonists
WO2008092862A1 (en) * 2007-01-30 2008-08-07 Janssen Pharmaceutica N.V. Bicyclic derivatives as ep4 agonists
WO2008092861A1 (en) * 2007-01-30 2008-08-07 Janssen Pharmaceutica N.V. Bicyclic derivatives as ep4 agonists
BRPI0912546A2 (pt) * 2008-05-13 2016-10-18 Boehringer Ingelheim Int síntese de di-hidrotieno[3,2-d]-pirimidino dióis e pirimidino dióis similares.
UA113831C2 (xx) 2008-07-31 2017-03-27 Способи і проміжні сполуки для одержання підсилювачів солодкого смаку
CN103556174B (zh) * 2013-10-21 2016-06-01 哈尔滨理工大学 一种4-氯-1-甲基-3-乙基-5-吡唑羧酸乙酯的合成方法
CN112703193A (zh) 2018-08-07 2021-04-23 弗门尼舍公司 5-取代的4-氨基-1H-苯并[c][1,2,6]噻二嗪2,2-二氧化物及其制剂和用途
US20230028441A1 (en) * 2019-10-09 2023-01-26 Bayer Aktiengesellschaft Novel heteroaryl-triazole compounds as pesticides

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4196207A (en) * 1977-05-23 1980-04-01 Ici Australia Limited Process for controlling eradicating or preventing infestations of animals by Ixodid ticks
GB1570494A (en) * 1975-11-28 1980-07-02 Ici Ltd Thienopyrimidine derivatives and their use as pesticides
EP0082023A2 (en) * 1981-12-16 1983-06-22 Sankyo Company Limited Thienopyrimidine derivatives, their preparation and their medical use
EP0202538A1 (de) * 1985-05-17 1986-11-26 Bayer Ag Leistungsfördernde Mittel
EP0404356A1 (en) * 1989-05-30 1990-12-27 Smithkline Beecham Intercredit B.V. Substituted thienopyrimidine derivatives, their preparation, pharmaceutical compositions and medical use
JPH0578721A (ja) * 1991-09-19 1993-03-30 Nippon Steel Corp 溶融還元の操業方法
WO1993017021A1 (en) * 1992-02-19 1993-09-02 Pfizer, Inc. Heterocyclic compounds for enhancing antitumor activity
EP0579424A1 (en) * 1992-07-17 1994-01-19 Rohm And Haas Company 2-substituted pyrimidines and herbicidal use thereof
WO1994008975A1 (en) * 1992-10-16 1994-04-28 Nippon Soda Co., Ltd. Pyrimidine derivative
WO1998006722A1 (de) * 1996-08-12 1998-02-19 Merck Patent Gmbh Thienopyrimidine
WO1998017668A1 (de) * 1996-10-24 1998-04-30 Merck Patent Gmbh Thienopyrimidine mit pde v inhibierender wirkung
EP0899263A2 (en) * 1997-08-13 1999-03-03 Fujirebio Inc. Fused pyrimidine derivatives and medicaments thereof for a blood oxygen partial pressure amelioration
US5948911A (en) * 1998-11-20 1999-09-07 Cell Pathways, Inc. Method for inhibiting neoplastic cells and related conditions by exposure to thienopyrimidine derivatives
WO2000027812A1 (de) * 1998-11-11 2000-05-18 Bayer Aktiengesellschaft Phenyl-substituierte zyklische enaminone
US6133271A (en) * 1998-11-19 2000-10-17 Cell Pathways, Inc. Method for inhibiting neoplastic cells and related conditions by exposure thienopyrimidine derivatives
WO2001002409A1 (en) * 1999-07-01 2001-01-11 Vernalis Research Limited Thieno- and furopyrimidine derivatives as a2a-receptor antagonists
WO2001032632A2 (en) * 1999-11-01 2001-05-10 Eli Lilly And Company Pharmaceutically active 4-substituted pyrimidine derivatives
WO2001040202A1 (de) * 1999-12-02 2001-06-07 Bayer Aktiengesellschaft (hetero)aryl-substituierte heterozyklische enaminone, deren herstellung und deren verwendung als herbizide, akarizide und insektizide
WO2002062803A1 (fr) * 2001-02-08 2002-08-15 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. Derive de thienopyrimidine

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1470356A1 (de) * 1964-01-15 1970-04-30 Thomae Gmbh Dr K Neue Thieno[3,2-d]pyrimidine und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2032687A1 (en) * 1970-07-02 1972-01-05 Dr. Karl Thomae Gmbh, 7950 Biberach Cardiovascular 2-aminoalkylamino-thienopyrimidines - and 4-morpholino derivatives from 4-diethanolamino-compounds by intramolecular cyclisa
DE2058086A1 (de) * 1970-11-26 1972-05-31 Thomae Gmbh Dr K Neue 4-Morpholino-thieno[3,2-d]pyrimidine,deren Salze und Verfahren zur Herstellung
DE2137341A1 (de) * 1971-07-26 1973-02-15 Thomae Gmbh Dr K Neue thieno eckige klammer auf 3,2-d eckige klammer zu pyrimidine
DE2200764A1 (de) * 1972-01-07 1973-07-12 Thomae Gmbh Dr K Neue thieno eckige klammer aff 2,3-d eckige klammer zu pyrimidine und verfahren zu ihrer herstellung
JPH03148265A (ja) * 1989-11-01 1991-06-25 Sumitomo Chem Co Ltd ５，７―ジフェニル―４，６―ジアザインダン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤
DE4008726A1 (de) * 1990-03-19 1991-09-26 Basf Ag Thieno(2,3-d)pyrimidinderivate
JP2817863B2 (ja) * 1992-02-21 1998-10-30 宇部興産株式会社 含フッ素ピラゾール化合物、その製法及び有害生物防除剤
EP0791000B1 (en) * 1994-11-08 2002-10-02 Takeda Chemical Industries, Ltd. Thienopyridine or thienopyrimidine derivatives and their use
US5814308A (en) * 1996-03-26 1998-09-29 Zhang; Ke Methods for the treatment of gastrointestinal tract disorders
US6043066A (en) * 1997-09-04 2000-03-28 Mangano; Joseph A. Cell separation using electric fields
US6897220B2 (en) * 2001-09-14 2005-05-24 Methylgene, Inc. Inhibitors of histone deacetylase
WO2003038055A2 (en) * 2001-10-31 2003-05-08 Mds Proteomics, Inc. Proteins involved in regulation of adipocytes and uses related thereto
AU2003251954B2 (en) * 2002-07-19 2008-06-26 University Of North Carolina At Chapel Hill Method of obtaining viable human liver cells, including hepatic stem/progenitor cells

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1570494A (en) * 1975-11-28 1980-07-02 Ici Ltd Thienopyrimidine derivatives and their use as pesticides
US4196207A (en) * 1977-05-23 1980-04-01 Ici Australia Limited Process for controlling eradicating or preventing infestations of animals by Ixodid ticks
EP0082023A2 (en) * 1981-12-16 1983-06-22 Sankyo Company Limited Thienopyrimidine derivatives, their preparation and their medical use
EP0202538A1 (de) * 1985-05-17 1986-11-26 Bayer Ag Leistungsfördernde Mittel
EP0404356A1 (en) * 1989-05-30 1990-12-27 Smithkline Beecham Intercredit B.V. Substituted thienopyrimidine derivatives, their preparation, pharmaceutical compositions and medical use
JPH0578721A (ja) * 1991-09-19 1993-03-30 Nippon Steel Corp 溶融還元の操業方法
WO1993017021A1 (en) * 1992-02-19 1993-09-02 Pfizer, Inc. Heterocyclic compounds for enhancing antitumor activity
EP0579424A1 (en) * 1992-07-17 1994-01-19 Rohm And Haas Company 2-substituted pyrimidines and herbicidal use thereof
WO1994008975A1 (en) * 1992-10-16 1994-04-28 Nippon Soda Co., Ltd. Pyrimidine derivative
WO1998006722A1 (de) * 1996-08-12 1998-02-19 Merck Patent Gmbh Thienopyrimidine
WO1998017668A1 (de) * 1996-10-24 1998-04-30 Merck Patent Gmbh Thienopyrimidine mit pde v inhibierender wirkung
EP0899263A2 (en) * 1997-08-13 1999-03-03 Fujirebio Inc. Fused pyrimidine derivatives and medicaments thereof for a blood oxygen partial pressure amelioration
WO2000027812A1 (de) * 1998-11-11 2000-05-18 Bayer Aktiengesellschaft Phenyl-substituierte zyklische enaminone
US6133271A (en) * 1998-11-19 2000-10-17 Cell Pathways, Inc. Method for inhibiting neoplastic cells and related conditions by exposure thienopyrimidine derivatives
US5948911A (en) * 1998-11-20 1999-09-07 Cell Pathways, Inc. Method for inhibiting neoplastic cells and related conditions by exposure to thienopyrimidine derivatives
WO2001002409A1 (en) * 1999-07-01 2001-01-11 Vernalis Research Limited Thieno- and furopyrimidine derivatives as a2a-receptor antagonists
WO2001032632A2 (en) * 1999-11-01 2001-05-10 Eli Lilly And Company Pharmaceutically active 4-substituted pyrimidine derivatives
WO2001040202A1 (de) * 1999-12-02 2001-06-07 Bayer Aktiengesellschaft (hetero)aryl-substituierte heterozyklische enaminone, deren herstellung und deren verwendung als herbizide, akarizide und insektizide
WO2002062803A1 (fr) * 2001-02-08 2002-08-15 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. Derive de thienopyrimidine

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IFE, R.J ET AL.: "Reversible inhibitors of the Gastric (H+/K+)-ATPase. 5. Substituted 2,4-Diaminoquinazolines and Thienopyrimidines.", J. MED. CHEM., vol. 38, 1995, pages 2763 - 2773, XP002121213 *
KOUROUNAKIS, A.P. ET AL.: "Elucidation of Structure-Activity Relations of 2-Amino-3-benzoylthiophenes:Study of Their Allosteric Enchancing vs. Antagonistic Activity on Adenosine A1, Receptors.", DRUG DEVELOPMENT RESEARCH, vol. 49, no. 4, 2000, pages 227 - 237, XP002974953 *
RAM, V.J. ET AL.: "Thieno[2,3-d]pyrimidines as potential Chemotherapeutic Agents II.", J. HETEROCYCLIC MED., vol. 18, no. 7, November 1981 (1981-11-01), pages 1277 - 1280, XP002974952 *
See also references of EP1544202A4 *
TAKAHASHI, A ET AL.: "Mitotic disruption by a novel pyrimidine herbicide, NS-245852, in oat (Avena sativa L.) roots.", WEED BIOLOGY AND MANAGEMENT, vol. 1, no. 3, 23 January 2001 (2001-01-23), pages 182 - 188, XP002974949 *
TANAKA, K ET AL.: "Synthesis and herbicidal activity of pyrimidine derivatives.", PESTICIDE SCIENCE, vol. 55, no. 3, 1999, pages 370 - 372, XP002974950 *
YAMAGUCHI, H ET AL.: "Synthesis and Reactions of 2-Chloro-3,4-dihydrothienopyrimidines and-quinazolines.", JOURNAL HETEROCYCLIC CHEM., vol. 18, January 1981 (1981-01-01), pages 67 - 70, XP002974951 *

Cited By (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7071190B2 (en) 2002-02-15 2006-07-04 Rigel Pharmaceuticals, Inc. Inhibitors to tubulin polymerization
US7601725B2 (en) 2004-07-16 2009-10-13 Sunesis Pharmaceuticals, Inc. Thienopyrimidines useful as Aurora kinase inhibitors
WO2006046485A1 (ja) * 2004-10-25 2006-05-04 Nihon Nohyaku Co., Ltd. 畑作用除草剤組成物及び防除方法
US8841323B2 (en) 2006-03-15 2014-09-23 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1, 4-disubstituted 3-cyano-pyridone derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2-receptors
US9266834B2 (en) 2006-03-15 2016-02-23 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1, 4-disubstituted 3-cyano-pyridone derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2-receptors
US9067891B2 (en) 2007-03-07 2015-06-30 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,4-disubstituted 3-cyano-pyridone derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2-receptors
US8906939B2 (en) 2007-03-07 2014-12-09 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 3-cyano-4-(4-tetrahydropyran-phenyl)-pyridin-2-one derivatives
US11071729B2 (en) 2007-09-14 2021-07-27 Addex Pharmaceuticals S.A. 1′,3′-disubstituted-4-phenyl-3,4,5,6-tetrahydro-2H,1′H-[1,4′]bipyridinyl-2′-ones
US9114138B2 (en) 2007-09-14 2015-08-25 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1′,3′-disubstituted-4-phenyl-3,4,5,6-tetrahydro-2H,1′H-[1,4′] bipyridinyl-2′-ones
US9132122B2 (en) 2007-09-14 2015-09-15 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1′,3′-disubstituted-4-phenyl-3,4,5,6-tetrahydro-2H,1′H-[1,4′]bipyridinyl-2′-ones
US8722894B2 (en) 2007-09-14 2014-05-13 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,3-disubstituted-4-phenyl-1H-pyridin-2-ones
US8748621B2 (en) 2007-09-14 2014-06-10 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,3-disubstituted 4-(aryl-X-phenyl)-1H-pyridin-2-ones
US10888579B2 (en) 2007-11-07 2021-01-12 Beeologics Inc. Compositions for conferring tolerance to viral disease in social insects, and the use thereof
US8785486B2 (en) 2007-11-14 2014-07-22 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Imidazo[1,2-A]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US8691849B2 (en) 2008-09-02 2014-04-08 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 3-azabicyclo[3.1.0]hexyl derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8697689B2 (en) 2008-10-16 2014-04-15 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Indole and benzomorpholine derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8691813B2 (en) 2008-11-28 2014-04-08 Janssen Pharmaceuticals, Inc. Indole and benzoxazine derivatives as modulators of metabotropic glutamate receptors
US8946205B2 (en) 2009-05-12 2015-02-03 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US9737533B2 (en) 2009-05-12 2017-08-22 Janssen Pharmaceuticals. Inc. 1,2,4-triazolo [4,3-A] pyridine derivatives and their use for the treatment of prevention of neurological and psychiatric disorders
US8937060B2 (en) 2009-05-12 2015-01-20 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo [4,3-A] pyridine derivatives and their use for the treatment of prevention of neurological and psychiatric disorders
US9085577B2 (en) 2009-05-12 2015-07-21 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 7-aryl-1,2,4-triazolo[4,3-A]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
US10071095B2 (en) 2009-05-12 2018-09-11 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo [4,3-A] pyridine derivatives and their use for the treatment of neurological and psychiatric disorders
US9226930B2 (en) 2009-05-12 2016-01-05 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo [4,3-a] pyridine derivatives and their use for the treatment of prevention of neurological and psychiatric disorders
US10801028B2 (en) 2009-10-14 2020-10-13 Beeologics Inc. Compositions for controlling Varroa mites in bees
US9988634B2 (en) 2010-03-08 2018-06-05 Monsanto Technology Llc Polynucleotide molecules for gene regulation in plants
US9121022B2 (en) 2010-03-08 2015-09-01 Monsanto Technology Llc Method for controlling herbicide-resistant plants
US11812738B2 (en) 2010-03-08 2023-11-14 Monsanto Technology Llc Polynucleotide molecules for gene regulation in plants
US9012448B2 (en) 2010-11-08 2015-04-21 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US8993591B2 (en) 2010-11-08 2015-03-31 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a] pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US9271967B2 (en) 2010-11-08 2016-03-01 Janssen Pharmaceuticals, Inc. 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine derivatives and their use as positive allosteric modulators of mGluR2 receptors
EP3382027A2 (en) 2011-09-13 2018-10-03 Monsanto Technology LLC Methods and compositions for weed control
US9422558B2 (en) 2011-09-13 2016-08-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
EP3434780A1 (en) 2011-09-13 2019-01-30 Monsanto Technology LLC Methods and compositions for weed control
WO2013039990A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10808249B2 (en) 2011-09-13 2020-10-20 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10760086B2 (en) 2011-09-13 2020-09-01 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
WO2013040117A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10829828B2 (en) 2011-09-13 2020-11-10 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
EP3296402A2 (en) 2011-09-13 2018-03-21 Monsanto Technology LLC Methods and compositions for weed control
US9422557B2 (en) 2011-09-13 2016-08-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
WO2013040021A1 (en) 2011-09-13 2013-03-21 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
EP3434779A1 (en) 2011-09-13 2019-01-30 Monsanto Technology LLC Methods and compositions for weed control
US10806146B2 (en) 2011-09-13 2020-10-20 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US9416363B2 (en) 2011-09-13 2016-08-16 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US9604994B2 (en) 2011-11-23 2017-03-28 Cancer Research Technology Limited Thienopyrimidine inhibitors of atypical protein kinase C
US10954251B2 (en) 2011-11-23 2021-03-23 Cancer Research Technology Limited Thienopyrimidine inhibitors of atypical protein kinase C
US10183950B2 (en) 2011-11-23 2019-01-22 Cancer Research Technology Limited Thienopyrimidine inhibitors of atypical protein kinase C
US10240162B2 (en) 2012-05-24 2019-03-26 A.B. Seeds Ltd. Compositions and methods for silencing gene expression
US10240161B2 (en) 2012-05-24 2019-03-26 A.B. Seeds Ltd. Compositions and methods for silencing gene expression
US10934555B2 (en) 2012-05-24 2021-03-02 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for silencing gene expression
US10041068B2 (en) 2013-01-01 2018-08-07 A. B. Seeds Ltd. Isolated dsRNA molecules and methods of using same for silencing target molecules of interest
US10683505B2 (en) 2013-01-01 2020-06-16 Monsanto Technology Llc Methods of introducing dsRNA to plant seeds for modulating gene expression
US10612019B2 (en) 2013-03-13 2020-04-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10609930B2 (en) 2013-03-13 2020-04-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
WO2014151255A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10568328B2 (en) 2013-03-15 2020-02-25 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control
US10584129B2 (en) 2013-06-04 2020-03-10 Janssen Pharmaceuticals Nv Substituted 6,7-dihydropyrazolo[1,5-a]pyrazines as negative allosteric modulators of mGluR2 receptors
US10106542B2 (en) 2013-06-04 2018-10-23 Janssen Pharmaceutica Nv Substituted 6,7-dihydropyrazolo[1,5-a]pyrazines as negative allosteric modulators of mGluR2 receptors
US10597676B2 (en) 2013-07-19 2020-03-24 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US9856495B2 (en) 2013-07-19 2018-01-02 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US9850496B2 (en) 2013-07-19 2017-12-26 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US9777288B2 (en) 2013-07-19 2017-10-03 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling leptinotarsa
US11377667B2 (en) 2013-07-19 2022-07-05 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US9708315B2 (en) 2013-09-06 2017-07-18 Janssen Pharmaceutica Nv 1,2,4-triazolo[4,3-a]pyridine compounds and their use as positive allosteric modulators of MGLUR2 receptors
US10927374B2 (en) 2013-11-04 2021-02-23 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling arthropod parasite and pest infestations
US9540642B2 (en) 2013-11-04 2017-01-10 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Agriculture Compositions and methods for controlling arthropod parasite and pest infestations
US10100306B2 (en) 2013-11-04 2018-10-16 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling arthropod parasite and pest infestations
US10557138B2 (en) 2013-12-10 2020-02-11 Beeologics, Inc. Compositions and methods for virus control in Varroa mite and bees
US10334848B2 (en) 2014-01-15 2019-07-02 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control using EPSPS polynucleotides
WO2015108982A2 (en) 2014-01-15 2015-07-23 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for weed control using epsps polynucleotides
US11369606B2 (en) 2014-01-21 2022-06-28 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US11103506B2 (en) 2014-01-21 2021-08-31 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US10537573B2 (en) 2014-01-21 2020-01-21 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US12048696B2 (en) 2014-01-21 2024-07-30 Janssen Pharmaceutica Nv Combinations comprising positive allosteric modulators or orthosteric agonists of metabotropic glutamatergic receptor subtype 2 and their use
US11091770B2 (en) 2014-04-01 2021-08-17 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling insect pests
US10988764B2 (en) 2014-06-23 2021-04-27 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for regulating gene expression via RNA interference
US11807857B2 (en) 2014-06-25 2023-11-07 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for delivering nucleic acids to plant cells and regulating gene expression
US10378012B2 (en) 2014-07-29 2019-08-13 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling insect pests
US11124792B2 (en) 2014-07-29 2021-09-21 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling insect pests
US10968449B2 (en) 2015-01-22 2021-04-06 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling Leptinotarsa
US10883103B2 (en) 2015-06-02 2021-01-05 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for delivery of a polynucleotide into a plant
US10655136B2 (en) 2015-06-03 2020-05-19 Monsanto Technology Llc Methods and compositions for introducing nucleic acids into plants

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