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WO2002038490A3 - Verfahren zum herstellen von glas-silizium-glas sandwichstrukturen - Google Patents

Verfahren zum herstellen von glas-silizium-glas sandwichstrukturen Download PDF

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WO2002038490A3
WO2002038490A3 PCT/DE2001/004141 DE0104141W WO0238490A3 WO 2002038490 A3 WO2002038490 A3 WO 2002038490A3 DE 0104141 W DE0104141 W DE 0104141W WO 0238490 A3 WO0238490 A3 WO 0238490A3
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WO
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glass
silicon
sandwich structures
substrate
producing
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PCT/DE2001/004141
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Steffen Howitz
Original Assignee
Gesim Ges Fuer Silizium Mikros
Steffen Howitz
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von irreversibel und justiert miteinander verbundenen Glas-Silizium-Glas Sandwichstrukturen, bestehend aus einem unteren und einem oberen Glassubstrat (2, 3), sowie einem dazwischenliegenden Siliziumsubstrat (1), wobei wenigstens eines der Substrate (1; 2; 3) mit einer 3-D-Tiefenstrukturierung versehen ist. Es soll nun ein preiswertes Herstellungsverfahren, besonders mit Blick auf die Massenproduktion von Glas-Silizium-Glas Sandwichstrukturen geschaffen werden. Erreicht wird dies dadurch, dass das Siliziumsubstrat (1) vor oder nach dessen 3-D-Tiefenstrukturierung mit einem der Glassubstrate (2; 3) durch anodisches Bonden irreversibel verbunden wird, der Verbund mittels Schleif-, Ätz- und Polierverfahren von der Glas- und/oder Siliziumseite auf eine vorgegebene Enddicke abgedünnt wird und dass nachfolgend die verbleibende Siliziumoberfläche mit einem zweiten Glassubstrat (3; 2) durch anodisches Bonden verbunden wird.
PCT/DE2001/004141 2000-11-07 2001-11-07 Verfahren zum herstellen von glas-silizium-glas sandwichstrukturen WO2002038490A2 (de)

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