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TWM538333U - 足底曲面量測裝置 - Google Patents

足底曲面量測裝置 Download PDF

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Publication number
TWM538333U
TWM538333U TW105215709U TW105215709U TWM538333U TW M538333 U TWM538333 U TW M538333U TW 105215709 U TW105215709 U TW 105215709U TW 105215709 U TW105215709 U TW 105215709U TW M538333 U TWM538333 U TW M538333U
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
foot
unit
measuring platform
measuring device
disposed
Prior art date
Application number
TW105215709U
Other languages
English (en)
Inventor
xi-ming Xu
Original Assignee
xi-ming Xu
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by xi-ming Xu filed Critical xi-ming Xu
Priority to TW105215709U priority Critical patent/TWM538333U/zh
Publication of TWM538333U publication Critical patent/TWM538333U/zh

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Landscapes

  • Footwear And Its Accessory, Manufacturing Method And Apparatuses (AREA)
  • Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)

Description

足底曲面量測裝置
本創作係有關於一種足底曲面量測裝置,尤指涉及一種可讓量測者站立於量測平台上,利用腳踩在彈性體上會產生一個高度不同之壓力差,即可推算出足底曲面之形狀者。
按,一般消費者於購買鞋子時,若消費者得知自身之尺寸,通常會依據其足部之尺寸,選擇適當之鞋子進行穿戴,若消費者不知自身足部尺寸之大小,則通常係由服務人員以目測之方式判斷消費者之足部尺寸,再提供鞋子讓消費者進行試穿。
然,由於不同之鞋款各有不同之規格尺寸,即便消費者得知自身之尺寸,仍會因為鞋款之不同,或自身因素之影響(變胖或變瘦),而需要提供各式不同尺寸之鞋子讓消費者一一進行試穿,而導致時間之浪費,且縱然找到適合之尺寸,但其鞋形並不見得能與消費者之足形狀吻合。
另,當消費者因個人品味,或是足型較為特別而需進行特殊規格之鞋子訂製時,通常係以捲尺、雙手直接觸碰或是油墨式足印等方式取得消費者足型之各部位尺寸,但是,以前述方式所取得之足型尺寸並無法精準得知足弓、足型長度、足型寬度及足型高度等數據,僅能依靠經驗以粗估方式進行量取,因此,便會產生測量數據較之誤差,導致消費者無法準確找到適合自身足型之鞋子 。
因此,為改善上述之缺失,本案之創作人特潛心研究,開發出一種「足底曲面量測裝置」,以有效改善習用之缺點。
本創作之主要目的係在於,克服習知技藝所遭遇之上述問題並提供一種可讓量測者站立於量測平台上,利用腳踩在彈性體上會產生一個高度不同之壓力差,即可推算出足底曲面之形狀,配合影像擷取機構擷取量測平台與反射單元上之量測者足部影像(即足型尺寸),讓操控機構依據足部影像、壓力差、足弓高度等資訊,輸出量測者足弓高度、足底曲面形狀與足部長、寬、高之立體影像,而達到結構簡單、易於操作使用以及量測精準度佳等功效之足底曲面量測裝置。
為達以上之目的,本創作係一種足底曲面量測裝置,係包括:一操控機構,係包含有一座體、一設於該座體中之處理單元、一設於該座體端面且與該處理單元連接之操作/顯示介面、及一設於該座體上並與該處理單元連接之發光單元;一量測平台,係設於該操控機構底部之一側並與該發光單元對應,而該量測平台上係設有數個彈性體;以及一影像擷取機構,係設於操控機構之端面上且與該處理單元連接並設於該操作/顯示介面一側,可擷取該量測平台上之影像。
於本創作上述實施例中,該量測平台底部係進一步設置有一足部資訊偵測單元,而該足部資訊偵測單元係與該操控機構連接。
於本創作上述實施例中,該足部資訊偵測單元係為壓力感測器、 熱感應器或影像擷取機構。
於本創作上述實施例中,該量測平台係為平面之壓力板或光學式壓力板。
於本創作上述實施例中,該影像擷取機構係為手機、照相機或攝影機。
於本創作上述實施例中,該量測平台一側係進一步設有一反射單元,使該影像擷取機構可擷取該量測平台與該反射單元上之影像。
於本創作上述實施例中,該反射單元係為鏡子。
於本創作上述實施例中,該彈性體係為海綿、矽膠墊、相關彈性軟質之物體或壓力探針。
1‧‧‧操控機構
11‧‧‧座體
12‧‧‧處理單元
13‧‧‧操作/顯示介面
14‧‧‧發光單元
2‧‧‧量測平台
21‧‧‧彈性體
22‧‧‧足部資訊偵測單元
3‧‧‧影像擷取機構
4‧‧‧反射單元
5‧‧‧量測者
第1圖,係本創作第一實施例之立體外觀示意圖。
第2圖,係本創作第一實施例之使用狀態示意圖。
第3圖,係本創作第二實施例之使用狀態示意圖。
第4圖,係本創作第三實施例之使用狀態示意圖。
請參閱『第1及第2圖』所示,係分別為本創作第一實施例之立體外觀示意圖及本創作第一實施例之使用狀態示意圖。如圖所示:本創作係一種足底曲面量測裝置,其包含有一操控機構1、一量測平台2以及一影像擷取機構3所構成。
上述所提之操控機構1係包含有一座體11、一設於該座體11中之處理單元12、一設於該座體11端面且與該處理單元12連接之操作/顯示介面13、及一設於該座體11上且與該處理單元12連接之發光單元14。
該量測平台2係設於該操控機構1之座體11底部一側並與該發光單元14對應,且該量測平台2上係設有數個彈性體21,而該些彈性體21係為海綿、矽膠墊、相關彈性軟質之物體或壓力探針;該量測平台2底部係可進一步設置有一足部資訊偵測單元22,而該足部資訊偵測單元22係與該操控機構1之處理單元12連接,其中該足部資訊偵測單元22係可為壓力感測器、熱感應器或影像擷取機構。
該影像擷取機構3係為手機、照相機或攝影機,而該影像擷取機構3係與該處理單元12連接,並設於該操控機構1之端面上且位於該操作/顯示介面13之一側,可擷取該量測平台1上之影像。如是,藉由上述揭露之結構構成一全新之足底曲面量測裝置。
當本創作於使用時,係可讓量測者5站立於量測平台2上,利用彈性體21之配合產生一高度不同之壓力差,而於量測時藉由操作/顯示介面13操作影像擷取機構3由量測平台2上面擷取量測者5足部影像(即足型尺寸),必要時可以處理單元12控制發光單元14進行光度之補償,並同時以足部資訊偵測單元22由下方偵測出量測者5之足弓高度、足部壓力與足型圖,之後讓處理單元12將影像擷取機構3、彈性體21與足部資訊偵測單元22之資訊連結在一起,即可量測出足部之完整資訊,並由該 操作/顯示介面13上輸出量測者5足弓高度、足底曲面形狀與足部長、寬、高之立體影像,如此,即可達到結構簡單、易於操作使用以及量測精準度佳之功效。
請參閱『第3圖』所示,係本創作第二實施例之使用狀態示意圖。如圖所示:本創作除上述第一實施例所提結構型態之外,亦可為本第二實施例之結構之結構型態,而其所不同之處係在於,該量測平台2之一側係可設有一反射單元4,而該反射單元3係為鏡子。
當本創作於使用時,係可讓量測者5站立於量測平台2上,利用彈性體21之配合產生一高度不同之壓力差,而於量測時藉由操作/顯示介面13操作影像擷取機構3擷取量測平台2與反射單元4上之量測者5足部影像(即足型尺寸),並同時以足部資訊偵測單元22由下方偵測出量測者5之足弓高度、足部壓力與足型圖,之後讓處理單元12將影像擷取機構3、彈性體21與足部資訊偵測單元22之資訊連結在一起,即可量測出足部之完整資訊,並由該操作/顯示介面13上輸出量測者5足弓高度、足底曲面形狀與足部長、寬、高之立體影像,如此,即可達到結構簡單、易於操作使用以及量測精準度佳之功效。
請參閱『第4圖』所示,係本創作第三實施例之使用狀態示意圖。如圖所示:本創作除上述第一及第二實施例所提結構型態之外,亦可為本第三實施例之結構之結構型態,而其所不同之處係在於,該量測平台2係可直接為平面之壓力板或光學式壓力板,而該量測平台2係與操控機構1之處理單元12連接;可當量測者5於量測平台2上進行量測時,由該量測平台2直接偵測量測者 5之足弓高度、足部壓力與足型圖,進而使本創作能更符合實際使用時之所需。
綜上所述,本創作係一種足底曲面量測裝置,可有效改善習用之種種缺點,可讓量測者站立於量測平台上,利用腳踩在彈性體上會產生一個高度不同之壓力差,即可推算出足底曲面之形狀,配合影像擷取機構擷取量測平台與反射單元上之量測者足部影像(即足型尺寸),讓操控機構依據足部影像、壓力差、足弓高度等資訊,輸出量測者足弓高度、足底曲面形狀與足部長、寬、高之立體影像,而達到結構簡單、易於操作使用以及量測精準度佳之功效,進而使本創作之產生能更進步、更實用、更符合使用者之所須,確已符合新型專利申請之要件,爰依法提出專利申請。
惟以上所述者,僅為本創作之較佳實施例而已,當不能以此限定本創作實施之範圍;故,凡依本創作申請專利範圍及新型說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆應仍屬本創作專利涵蓋之範圍內。
1‧‧‧操控機構
11‧‧‧座體
12‧‧‧處理單元
13‧‧‧操作/顯示介面
14‧‧‧發光單元
2‧‧‧量測平台
21‧‧‧彈性體
22‧‧‧足部資訊偵測單元
3‧‧‧影像擷取機構

Claims (7)

  1. 一種足底曲面量測裝置,係包括:一操控機構,係包含有一座體、一設於該座體中之處理單元、一設於該座體端面且與該處理單元連接之操作/顯示介面、及一設於該座體上並與該處理單元連接之發光單元;一量測平台,係設於該操控機構底部之一側並與該發光單元對應,而該量測平台上係設有數個彈性體;以及一影像擷取機構,係設於操控機構之端面上且與該處理單元連接並設於該操作/顯示介面一側,可擷取該量測平台上之影像。
  2. 依申請專利範圍第1項所述之足底曲面量測裝置,其中,該量測平台底部係進一步設置有一足部資訊偵測單元,而該足部資訊偵測單元係與該操控機構連接。
  3. 依申請專利範圍第2項所述之足底曲面量測裝置,其中,該足部資訊偵測單元係為壓力感測器、熱感應器或影像擷取機構。
  4. 依申請專利範圍第1項所述之足底曲面量測裝置,其中,該量測平台係為平面之壓力板或光學式壓力板。
  5. 依申請專利範圍第1項所述之足底曲面量測裝置,其中,該影像擷取機構係為手機、照相機或攝影機。
  6. 依申請專利範圍第1項所述之足底曲面量測裝置,其中,該量測平台一側係進一步設有一反射單元,使該影像擷取機構可擷取該量測平台與該反射單元上之影像。
  7. 依申請專利範圍第6項所述之足底曲面量測裝置,其中,該反射 單元係為鏡子依申請專利範圍第1項所述之足底曲面量測裝置,其中,該彈性體係為海綿、矽膠墊、相關彈性軟質之物體或壓力探針。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109528204A (zh) * 2017-09-21 2019-03-29 刘懿贤 足底测量装置

Cited By (2)

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