TWI815389B - 光學膜結構 - Google Patents
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Abstract
本揭露提供一種光學膜結構、一種光學膜結構的評估方法、以及一種顯示器的製造方法。光學膜結構包含光學膜、表面保護膜以及離形膜。光學膜具有第一表面和相對於第一表面的第二表面。表面保護膜位於光學膜的第一表面上。離形膜位於光學膜的第二表面上。表面保護膜和離形膜的至少其中一者相對於另一者的靜摩擦係數為等於或小於0.4。
Description
本揭露是有關於一種光學膜結構、一種光學膜結構的評估方法、以及一種顯示器的製造方法。
偏光板為廣泛應用於顯示器之光學元件，隨著顯示器的應用越來越廣，例如，手機、穿戴式裝置等，對偏光板品質的要求也越來越高。
在一些實施例中，本揭露提供一種光學膜結構，其包含光學膜、表面保護膜以及離形膜。光學膜具有第一表面和相對於第一表面的第二表面。表面保護膜位於光學膜的第一表面上。離形膜位於光學膜的第二表面上。表面保護膜和離形膜的至少其中一者相對於另一者的靜摩擦係數為等於或小於0.4。
在一些實施例中，本揭露提供一種光學膜結構的評估方法，其包含：將第一光學膜結構貼合至斜坡機構的承載面上；將第二光學膜結構設置於第一光學膜結構上，並使第二光學膜結構的第一表面接觸第
一光學膜結構的表面；調整承載面的傾斜程度直到第二光學膜結構從第一光學膜結構開始脫落而停止，並且量測承載面的傾斜角度；以及以傾斜角度作為指標，評估第一光學膜結構與第二光學膜結構之間的黏附(adhesion)特性。
在一些實施例中，本揭露提供一種顯示器的製造方法，其包含：提供彼此堆疊的複數個光學膜結構；以前述之光學膜結構的評估方法評估此些光學膜結構；以及從此些光學膜結構中拾取其中一者貼合至顯示面板之上。
1:顯示器
10,10',10A,10B,10C:光學膜結構
20:顯示面板
50:斜坡機構
60:硬質基板
70:吸取裝置
80:撕除裝置
100:光學膜
101,102,201',301,301',601:表面
110:光學功能膜
120,130:保護層
140,150:接著劑層
200,200A:表面保護膜
210:表面保護層
220,320:表面結構
300,300A:離形膜
310:離形層
400,500:黏著層
510:承載面
S10,S20,S30,S40:步驟
θ1,θ2:角度
為讓本揭露之特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉不同實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。應注意的是，圖式中的各種特徵並未按照實際比例繪製且僅用以說明例示。事實上，圖式中的各種元件的尺寸可依照實際應用任意地放大或縮小，以清楚地表現出本揭露實施例的特徵。
圖1是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的示意圖。
圖2是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的示意圖。
圖3是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的示意圖。
圖4是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的示意圖。
圖5是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的評估方法的流程圖。
圖6A至圖6B是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的評估方法的示意圖。
圖7A、圖7B、圖7C、圖7D和圖7E是根據本揭露的一些實
施例之顯示器的製造方法的流程圖。
以下的揭露內容提供許多不同的實施例或範例，以展示本揭露之實施例的不同部件。以下將揭示本說明書各部件及其排列方式之特定範例，用以簡化本揭露之敘述。當然，這些特定範例並非用於限定本揭露。例如，若是本說明書以下的揭露敘述了將形成第一部件於第二部件之上或上方，即表示其包括了所形成之第一部件及第二部件是直接接觸的實施例，亦包括了尚可將附加的部件形成於上述第一部件及第二部件之間，則第一部件及第二部件為未直接接觸的實施例。此外，本揭露之說明中的各式範例可能使用重複的參照符號及/或用字。這些重複符號或用字的目的在於使本揭露較為簡化與清晰，並非用以限定各式實施例及/或所述配置之間的關係。
再者，為了方便描述圖式中之一元件或部件與另一(些)元件或部件的關係，可使用空間相對用語，例如「在...之下」、「下方」、「下部」、「上方」、「上部」及諸如此類用語。除了圖式所繪示之方位外，空間相對用語亦涵蓋使用或操作中之結構或裝置的不同方位。當結構或裝置被轉向不同方位時(例如，旋轉90度或者其他方位)，則其中所使用的空間相對形容詞亦將依轉向後的方位來解釋。
在此，「約」、「大約」、「大抵」之用語通常表示在一給定值或範圍的20%之內，較佳是10%之內，且更佳是5%之內，或3%之內，或2%之內，或1%之內，或0.5%之內。應注意的是，說明書中所提供的數量為大約的數量，亦即在沒有特定說明「約」、「大約」、「大抵」的情況下，仍可隱含「約」、「大約」、「大抵」之含義。
本揭露之實施例提供一種光學膜結構及其評估方法，其中光學膜結構包含表面保護膜及離形膜，且表面保護膜和離形膜之間的靜摩擦係數等於或小於0.4，如此一來，則多個光學膜結構(或偏光板結構)可以彼此堆疊在一起而不會發生黏片問題。再者，光學膜結構的評估方法中，可將兩個光學膜結構堆疊在斜坡機構的承載面上，調整承載面的傾斜程度直到其中一個光學膜結構從另一者開始脫落而停止，而以此時的承載面傾斜角度作為指標，評估光學膜結構之間的黏附(adhesion)特性，則可以不需要採用複雜的規範或儀器，僅透過簡單的下滑測試便能得到光學膜結構之間的黏附特性測試結果。以下將進一步詳細說明光學膜結構的實施例。
請參照圖1，圖1是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構10的示意圖。光學膜結構10包含光學膜100、表面保護膜200和離形膜300。
在一些實施例中，光學膜100具有表面101和表面102，表面101相對於表面102。在一些實施例中，光學膜100包含偏光板、光學性質調整膜、或上述的組合。在一些實施例中，光學膜100的結構可以包含多種膜層。在一些實施例中，光學膜100包含光學功能膜110、保護層120和130、及接著劑層140和150，但在本揭露的結構並非限定於此，例如可省略保護層120及/或保護層130，或增加其他光學功能膜。
在一些實施例中，光學功能膜110可包含偏光子。在一些實施例中，偏光子的材料可為聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)系樹脂，聚乙烯醇系樹脂可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂製得。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為約85莫耳%以上。聚醋酸乙烯樹脂的例子包含醋酸乙烯之單聚合物(即聚醋酸乙烯)、以及醋酸乙烯之共聚合物和其他能與醋酸乙烯進
行共聚合之單體。其他能與醋酸乙烯進行共聚合之單體的例子包含不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯)、烯烴(例如，乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲基丙烯)、乙烯醚(例如，乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、異丙基乙烯醚)、不飽和磺酸(例如，乙烯基磺酸、乙烯基磺酸鈉)等。作為上述乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體之共聚物的具體例，可列舉乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為約1000至10000左右，較理想為約1500至5000左右。聚乙烯醇系樹脂可為改質者，例如可使用以醛類改質之聚乙烯甲縮醛、聚乙烯乙縮醛、聚乙烯丁縮醛等。在一些實施例中，光學功能膜110的厚度為約5~35微米(μm)，優選為約20~30微米。
在一些實施例中，保護層120及130的材料可例如是透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等優良之熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂可包含乙醯基纖維素樹脂(例如：三醋酸纖維素(triacetate cellulose，TAC)、二醋酸纖維素(diacetate cellulose，DAC))、丙烯酸樹脂(例如：聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)，PMMA)、聚酯樹脂(例如，聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯)、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(oriented-polypropylene，OPP)、聚乙烯(polyethylene，PE)、聚丙烯(polypropylene，PP)、環烯烴聚合物(cyclic olefin polymer，COP)、環烯烴共聚合物(cyclic olefin copolymer，COC)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、或上述之任意組合。除此之外，保護層120及130的材料還可為例如下列熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系(例如，聚胺基甲酸酯(polyurethane，PU))、丙烯酸胺
基甲酸酯系(例如，聚丙烯酸胺基甲酸酯)、環氧系(例如，環氧樹脂)、聚矽氧系(例如，聚矽氧樹脂)等。此外，亦可進一步對上述保護層120及130實行表面處理，例如，抗眩光處理、抗反射處理、硬塗處理、帶電防止處理或抗污處理等。此外，在一些實施例中，保護層120及130係一單層或多層光學膜。在一些實施例中，保護層120及130的厚度可分別獨立為約5~90微米，優選為約35~80微米。
在一些實施例中，接著劑層140位於保護層120與光學功能膜110之間，接著劑層150位於保護層130與光學功能膜110之間。接著劑層140和150可包含水系接著劑，一般例如是使用聚乙烯醇系樹脂或胺基甲酸酯樹脂作為水系接著劑的主成分，且為了提高接著性可以是配合添加異氰酸酯系化合物或環氧化合物般之交聯劑或硬化性化合物而製成之組成物。在一些實施例中，水系接著劑之主成分是聚乙烯醇系樹脂時，除可使用部分皂化聚乙烯醇及完全皂化聚乙烯醇之外，尚可使用如羧基變性聚乙烯醇、乙醯基變性聚乙烯醇、羥甲基變性聚乙烯醇、及胺基變性聚乙烯醇般之經變性之聚乙烯醇系樹脂。這類的聚乙烯醇系樹脂之水溶液可以作為水系接著劑，而水系接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之濃度在相對於水100質量份而言，通常為1~10質量份，以1~5質量份為佳。在一些實施例中，由聚乙烯醇系樹脂之水溶液所構成之水系接著劑中，為了如前述般提高接著性，可配合添加如多價醛、水溶性環氧樹脂、三聚氰胺系化合物、氧化鋯系化合物、及鋅化合物般之硬化性化合物。
在一些實施例中，接著劑層140和150可為紫外線固化型接著劑，材料可列舉例如：丙烯酸系接著劑、環氧系接著劑、胺甲酸酯系接著劑、聚酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、聚烯烴系接著劑、改質聚烯烴
系接著劑、聚乙烯基烷基醚系接著劑、橡膠系接著劑、氯乙烯-乙酸乙烯酯系接著劑、SEBS(苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯共聚物)系接著劑、乙烯-苯乙烯共聚物等乙烯系接著劑、乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物等丙烯酸酯系接著劑等。
在一些實施例中，表面保護膜200位於光學膜100的表面101上。在一些實施例中，表面保護膜200相對於離形膜300的靜摩擦係數為等於或小於約0.4、等於或小於約0.3、等於或小於約0.2、或等於或小於約0.1。
基於目前產品薄型化的需求，經常需要對應減縮偏光板的厚度，雖可能會導致加工過程中的偏光板結構剛性不足的問題，但可以透過將表面保護膜的厚度增厚以提高整體結構的剛性(由於表面保護膜最終會移除，並不會存在於產品中，因此不會對於產品薄型化有不良影響，僅用於提高加工過程中的偏光板結構剛性)；然而，增厚的表面保護膜又可能會在面臨加工過程中較難被撕除的問題，透過降低表面保護膜與偏光板之間的黏著力雖可解決此問題，但可能會導致製作完成的偏光板結構的經時翹曲過小，而導致容易發生黏片，造成後續加工不易。根據本揭露的一些實施例，當表面保護膜200相對於離形膜300的靜摩擦係數滿足上述條件時，多個光學膜結構10(或偏光板結構)可以彼此堆疊在一起而不會發生黏片問題。如此一來，即使光學膜結構10中的表面保護膜200具有較大厚度且表面保護膜200與光學膜100之間的黏著力較低，使得光學膜結構10的經時翹曲相對較低，光學膜結構10依然具有足夠剛性、在後續製程中可輕易撕除表面保護膜200、及彼此堆疊在一起而不會發生黏片的優點，因此具有良好的加工性。
在一些實施例中，表面保護膜200可包含表面保護層210及表面結構220，表面保護層210位於光學膜100的表面101與表面結構220之間。在一些實施例中，表面結構220相對於離形膜300的靜摩擦係數為等於或小於約0.4、等於或小於約0.3、等於或小於約0.2、或等於或小於約0.1。
在一些實施例中，表面結構220的材料與表面保護層210的材料不同。在一些實施例中，表面結構220可以是額外製作或形成的表面結構膜層，透過在表面保護層210上設置或製作額外的膜層而形成。在一些實施例中，表面結構220包含樹脂材料，例如熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。在一些實施例中，表面結構220的熱硬化性樹脂可包含胺基甲酸酯系(例如，聚胺基甲酸酯(PU))、丙烯酸胺基甲酸酯系(例如，聚丙烯酸胺基甲酸酯)、丙烯酸苯乙烯系、聚矽氧系(例如，聚矽氧樹脂)、聚矽胺烷系、氟樹脂系等。在一些實施例中，表面結構220的紫外線性樹脂可包含丙烯酸系、胺基甲酸酯系、環氧系等各種樹脂之單體、寡聚物、聚合物之混合物。在一些實施例中，表面結構220可進一步包含大於約2.5wtt%的滑劑。在一些實施例中，表面結構220包含約5~30wt%的滑劑。在一些實施例中，滑劑可包含脂肪酸醯胺、脂肪酸酯、聚矽氧系潤滑劑、氟系潤滑劑、蠟系潤滑劑、或上述的任意組合。
根據本揭露的一些實施例，表面結構220的樹脂材料包含聚矽氧系、聚矽胺烷系及/或氟樹脂系，或者表面結構220進一步包含滑劑，可以增加表面結構220的平滑性，從而有助於降低表面結構220的表面靜摩擦力。再者，根據本揭露的一些實施例，滑劑的含量對於表面結構220的特性具有關鍵性的影響。當滑劑的含量高於30wt%，則有可能導致
表面結構220的透光性下降，或者使得表面結構220的表面印字性不佳。當滑劑的含量低於5wt%，則可能導致表面結構220的表面靜摩擦力過高，而無法有效解決後續加工黏片的問題。
在一些實施例中，表面結構220可透過對表面保護膜200的外側表面進行表面處理而形成。在一些實施例中，表面結構220可包含噴砂微結構、3D列印材料層、網印層、矢印、紫外光固化膠層、或上述的任意組合。
在一些實施例中，表面結構220的厚度為等於或小於約1微米、等於或小於約0.5微米、或等於或小於約0.2微米。在一些實施例中，表面結構220的厚度為約0.05~1微米、約0.1~1微米、約0.05~0.5微米、約0.05~0.2微米、或約0.2~0.5微米。在一些實施例中，表面保護層210與表面結構220的整體厚度的厚度可為大於35微米、或等於或大於50微米，優選為50~90微米。根據本揭露的一些實施例，表面保護膜200具有表面保護層210與表面結構220且整體厚度具有以上範圍時，則可以避免黏片問題並且能提供光學膜結構10足夠的剛性，而大幅提高光學膜結構10的加工性。
在一些實施例中，表面保護膜200(或表面保護層210)的材料可為具有良好透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等特性之熱可塑性樹脂。在一些實施例中，熱可塑性樹脂可包含纖維素樹脂(例如，三醋酸纖維素(TAC)、二醋酸纖維素(DAC))、丙烯酸樹脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酯樹脂(例如，聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯)、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(polyethylene，PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴聚合物
(COP)、環烯烴共聚合物(COC)、聚碳酸酯(PC)、或上述之任意組合。除此之外，表面保護膜200(或表面保護層210)的材料還可例如是(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。此外，亦可進一步對上述表面保護膜200(或表面保護層210)實行表面處理，例如，抗眩光處理、抗反射處理、硬塗處理、帶電防止處理或抗污處理等。
在一些實施例中，離形膜300位於光學膜100的表面102上。在一些實施例中，離形膜300相對於表面保護膜200的靜摩擦係數為等於或小於約0.4、等於或小於約0.3、等於或小於約0.2、或等於或小於約0.1。在一些實施例中，離形膜300可包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酸酯、聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、丙烯酸樹脂、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴樹脂、或上述之組合。
在一些實施例中，光學膜結構10可進一步包含黏著層400和500，黏著層400位於表面保護膜200與光學膜100之間，黏著層500位於離形膜300與光學膜100之間。在一些實施例中，黏著層400和500包含壓敏性黏著劑(pressure sensitive adhesive，PSA)、熱敏性黏著劑、溶劑揮發性黏著劑、及/或UV可固化黏著劑。在一些實施例中，壓敏性黏著劑可包含天然橡膠、合成橡膠、苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸系嵌段共聚物、聚乙烯基醚、聚烯烴、及/或聚(甲基)丙烯酸酯。在一些實施例中，(甲基)丙烯酸(或丙烯酸酯)係指丙烯酸及甲基丙烯酸類二者。在一些實施例中，壓敏性黏著劑可包含(甲基)丙烯酸酯、橡膠、熱塑性彈性體、聚矽氧、胺基甲酸酯、及其組合。在一些實施例中，壓敏性黏著劑係基於(甲
基)丙烯酸系壓敏性黏著劑或基於至少一種聚(甲基)丙烯酸酯。
在一些實施例中，光學膜結構100的經時2週翹曲值為等於或小於約23毫米(mm)、等於或小於約18毫米、等於或小於約16毫米、或等於或小於約9毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時4週翹曲值為等於或小於約20毫米、等於或小於約13毫米、等於或小於約10毫米、或等於或小於約2毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時2週翹曲值為約8~23毫米、約12~20毫米、或約15~18毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時4週翹曲值為約1~20毫米、約5~15毫米、或約10~12毫米。
請參照圖2，圖2是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構10A,的示意圖。在一些實施例中，光學膜結構10A的結構類似於光學膜結構10，其差別如下所述。此外，本文自此以下與前述元件相同或相似的元件沿用相同或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參照前述，在此不再贅述。
在一些實施例中，表面保護膜200的厚度可為大於35微米、或等於或大於50微米，優選為50~90微米。
在一些實施例中，離形膜300可包含離形層310及表面結構320，離形層310位於光學膜100的表面102與表面結構320之間。在一些實施例中，表面結構320相對於表面保護膜200的靜摩擦係數為等於或小於約0.4、等於或小於約0.3、等於或小於約0.2、或等於或小於約0.1。
在一些實施例中，表面結構320的材料與離形層310的材料不同。在一些實施例中，表面結構320可以是額外製作或形成的表面結構膜層，透過在離形層310上設置或製作額外的膜層而形成。在一些實施例
中，表面結構320包含樹脂材料，例如熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。在一些實施例中，表面結構320的熱硬化性樹脂可包含胺基甲酸酯系(例如，聚胺基甲酸酯(PU))、丙烯酸胺基甲酸酯系(例如，聚丙烯酸胺基甲酸酯)、丙烯酸苯乙烯系、聚矽氧系(例如，聚矽氧樹脂)、聚矽胺烷系、氟樹脂系等。在一些實施例中，表面結構320的紫外線性樹脂可包含丙烯酸系、胺基甲酸酯系、環氧系等各種樹脂之單體、寡聚物、聚合物之混合物。在一些實施例中，表面結構320可進一步包含大於約2.5wt%的滑劑。在一些實施例中，表面結構320包含約5~30wt%的滑劑。在一些實施例中，滑劑可包含脂肪酸醯胺、脂肪酸酯、聚矽氧系潤滑劑、氟系潤滑劑、蠟系潤滑劑、或上述的任意組合。
根據本揭露的一些實施例，表面結構320的樹脂材料包含聚矽氧系、聚矽胺烷系及/或氟樹脂系，或者表面結構320進一步包含滑劑，可以增加表面結構320的平滑性，從而有助於降低表面結構320的表面靜摩擦力。再者，根據本揭露的一些實施例，滑劑的含量對於表面結構320的特性具有關鍵性的影響。當滑劑的含量高於30wt%，則有可能導致表面結構320的透光性下降，或者使得表面結構320的表面印字性不佳。當滑劑的含量低於5wt%，則可能導致表面結構320的表面靜摩擦力過高，而無法有效解決後續加工黏片的問題。
再者，根據本揭露的一些實施例，由於離形膜300包含離形層310及表面結構320，因此表面保護膜200可具有相對較大的厚度以提供光學膜結構10A足夠的剛性，而離形膜300的設計則可以有效避免黏片問題，從而能而大幅提高光學膜結構10A的加工性。
在一些實施例中，表面結構320可透過對離形膜300的外側
表面進行表面處理而形成。在一些實施例中，表面結構320可包含噴砂微結構、3D列印材料層、網印層、矢印、紫外光固化膠層、或上述的任意組合。
在一些實施例中，表面結構320的厚度為等於或小於約1微米、等於或小於約0.5微米、或等於或小於約0.2微米。在一些實施例中，表面結構320的厚度為約0.05~1微米、約0.1~1微米、約0.05~0.5微米、約0.05~0.2微米、或約0.2~0.5微米。
在一些實施例中，離形層310可包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酸酯、聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、丙烯酸樹脂、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴樹脂或上述之組合。
請參照圖3，圖3是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構10B的示意圖。在一些實施例中，光學膜結構10B的結構類似於光學膜結構10及/或光學膜結構10A，其差別如下所述。
在一些實施例中，光學膜結構10B的表面保護膜200包含表面保護層210及表面結構220，且離形膜300包含離形層310及表面結構320。
請參照圖4，圖4是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構10C的示意圖。在一些實施例中，光學膜結構10C的結構類似於光學膜結構10、光學膜結構10A、及/或光學膜結構10B，其差別如下所述。
在一些實施例中，光學膜結構10C的表面保護膜200A和離形膜300A均未包含額外形成的表面結構。在一些實施例中，表面保護膜200A和離形膜300A包含含矽樹脂、含氟樹脂、或上述的組合。在一些實
施例中，透過選用合適的材料形成表面保護膜200A和離形膜300A，使得表面保護膜200A相對於離形膜300A的靜摩擦係數為等於或小於約0.4、等於或小於約0.3、等於或小於約0.2、或等於或小於約0.1。
請參照圖5、圖6A和圖6B，圖5是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的評估方法的流程圖，圖6A和圖6B是根據本揭露的一些實施例之光學膜結構的評估方法的示意圖。如圖5所示，光學膜結構的評估方法可包含以下步驟：將第一光學膜結構貼合至斜坡機構的承載面上(步驟S10)；將第二光學膜結構設置於第一光學膜結構上，並使第二光學膜結構的第一表面接觸第一光學膜結構的表面(步驟S20)；調整承載面的傾斜程度直到第二光學膜結構從第一光學膜結構開始脫落而停止，並且量測承載面的傾斜角度(步驟S30)；以及以傾斜角度作為指標，評估第一光學膜結構與第二光學膜結構之間的黏附(adhesion)特性(步驟S40)。
請參照圖5及圖6A，在步驟S10中，可將光學膜結構10貼合至斜坡機構50的承載面510上。在一些實施例中，可將光學膜結構10固定在斜坡機構50的承載面510上。在一些實施例中，光學膜結構10包含光學膜100、表面保護膜200及離形膜300，光學膜結構10可以離形膜300朝上的方式固定在斜坡機構50的承載面510上。在一些其他實施例中，光學膜結構10亦可以表面保護膜200朝上的方式固定在斜坡機構50的承載面510上。
接著，請參照圖5及圖6A，在步驟S20中，可將光學膜結構10'設置於光學膜結構10上，並使光學膜結構10'的表面201'接觸光學膜結構10的表面301。在一些實施例中，類似於光學膜結構10，光學膜結構10'包含光學膜100、表面保護膜200及離形膜300，光學膜結構10'可以表
面保護膜200朝下的方式設置於光學膜結構10上。在一些其他實施例中，亦可以離形膜300朝下的方式設置於光學膜結構10上。
在一些實施例中，在步驟S20中，使光學膜結構10'的表面保護膜200的表面201'接觸光學膜結構10的離形膜300的表面301。在一些其他實施例中，在步驟S20中，亦可使光學膜結構10'的離形膜300的表面接觸光學膜結構10的表面保護膜200的表面。在一些實施例中，在步驟S20中，承載面510相對於水平面具有角度θ1(亦稱為「起始角度」)，角度θ1使得光學膜結構10'可以靜置於光學膜結構10上而不致鬆動或滑落。
在一些實施例中，在步驟S20中，光學膜結構10'具有相對於表面201'的表面301'，可在調整承載面510的傾斜程度(步驟S30)之前，將光學膜結構10'的表面301'貼合至硬質基板60的表面601。在一些實施例中，光學膜結構10'的表面301'完全位於硬質基板60的表面601的範圍內。在一些實施例中，硬質基板60例如是玻璃板。根據本揭露的一些實施例，硬質基板60可以提高光學膜結構10'的整體結構平整性，使得光學膜結構10'的表面201'在後續測試步驟(步驟S30)中可以完全接觸光學膜結構10的表面，從而得到較為一致且準確的量測數據，而降低誤差、提高評估方法的可靠性。
接著，請參照圖5及圖6B，在步驟S30中，可調整承載面510的傾斜程度直到光學膜結構10'從光學膜結構10開始脫落(或鬆動)而停止，並且量測此時的承載面510的傾斜角度θ2。在一些實施例中，在光學膜結構10'的表面201'與光學膜結構10的表面301的相對位置開始發生改變時量測承載面510的傾斜角度θ2。在一些實施例中，承載面510的傾斜角度θ2大於起始角度θ1。在一些實施例中，在光學膜結構10'從光學膜結構
10脫落(或鬆動)之前，光學膜結構10'的表面201'完全位於光學膜結構10的表面301的範圍內。根據本揭露的一些實施例，光學膜結構10'的表面201'完全位於光學膜結構10的表面301的範圍內，使得光學膜結構10'的表面201'在步驟S30中可以完全接觸光學膜結構10的表面，從而得到較為一致且準確的量測數據，而降低誤差、提高評估方法的可靠性。
接著，請參照圖5，在步驟S40中，可以傾斜角度θ2作為指標，評估光學膜結構10與光學膜結構10'之間的黏附特性。
在一些實施例中，光學膜結構10的表面301相對於光學膜結構10'的表面201'的靜摩擦力隨承載面510的傾斜角度θ2增大而增大。在一些實施例中，光學膜結構10的表面301相對於光學膜結構10'的表面201'的靜摩擦係數隨承載面510的傾斜角度θ2增大而增大。
在一些實施例中，光學膜結構10與光學膜結構10'之間的黏附特性可包含光學膜結構10的表面(例如表面301)相對於光學膜結構10'的表面(例如表面201')的靜摩擦力、光學膜結構10的表面(例如表面301)相對於光學膜結構10'的表面(例如表面201')的靜摩擦係數、或上述的組合。
在一些實施例中，光學膜結構10與光學膜結構10'之間的黏附特性可包含光學膜結構10的表面保護膜200相對於光學膜結構10'的離形膜300的靜摩擦力及/或靜摩擦係數、光學膜結構10的離形膜300相對於光學膜結構10'的表面保護膜200的靜摩擦力及/或靜摩擦係數、光學膜結構10的表面保護膜200相對於光學膜結構10'的表面保護膜200的靜摩擦力及/或靜摩擦係數、光學膜結構10的離形膜300相對於光學膜結構10'的離形膜300的靜摩擦力及/或靜摩擦係數、或上述的組合。
在一些實施例中，可根據傾斜角度θ2及查找表(lookup
table)，來評估光學膜結構10與光學膜結構10'之間的黏附特性。在一些實施例中，查找表包含傾斜角度θ2與靜摩擦力之間的關係、傾斜角度θ2與靜摩擦係數之間的關係、或上述的組合。
在一些實施例中，可以傾斜角度θ2為等於或小於特定數值範圍作為指標。在一些實施例中，可以傾斜角度θ2為等於或小於25度作為指標。在一些實施例中，當傾斜角度θ2滿足上述指標的條件時，光學膜結構10與10'可通過黏附特性測試，也就表示光學膜結構10與10'不易發生黏片。
以下針對各種不同光學膜結構(偏光板)的樣品進行黏附特性測試，其中承載面的傾斜角度θ2、兩個光學膜結構之間的靜摩擦係數、與黏片測試評價的結果表示於以下表1中。藉此，可以使用承載面的傾斜角度θ2作為指標，評估光學膜結構的黏附特性。
(1)靜摩擦係數測試：採用JIS K7152規範量測光學膜結構之間的靜摩擦力，其中將第一個光學膜結構以離形膜朝上的方式設置在玻璃基板上，再將第二個光學膜結構以表面保護膜朝下作為滑動面，用以接觸下方的第一個光學膜結構的離形膜，並且在第二個光學膜結構上方放置200克的荷重，接著以100毫米/分鐘之速度使滑動面沿水平方向移動，而量測兩個光學膜結構之間的靜摩擦力，然後再根據靜摩擦力及荷重計算出靜摩擦係數。在以下的實施例與比較例中，光學膜結構的表面保護膜包含表面結構，各個光學膜結構的表面保護膜的表面結構包含不同含量的滑劑(聚醚改性矽酮，信越化學KP-105添加劑)。表面結構的製作方法如下所述：將丙烯酸樹脂與不同重量比例之滑劑、交聯劑混合，攪拌約30分鐘後充分混合。接著，提供厚度38微米、寬度20公分、長度30公分之透明之
聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜，並利用棒式塗佈機將上述混合物塗布於PET膜上，之後100℃下加熱5分鐘進行乾燥，則乾燥完成後形成表面結構。
(2)承載面的傾斜角度θ2之量測：使用初黏性測試儀作為斜坡機構進行測試，其中將第一個光學膜結構裁切成20公分*30公分的尺寸，將第二個光學膜結構裁切成8公分*8公分的尺寸(重量為約1.23克)，接著將第一個光學膜結構樣品以離形膜朝上的方式黏在測試儀器的斜坡(斜坡機構的承載面)上，並將第二個光學膜結構樣品貼合在厚度為0.5毫米且尺寸為10公分*1公分玻璃板上(玻璃板的重量為約16.65克)，然後將第二個光學膜結構樣品(整體重量為約17.88克)以表面保護膜朝下且玻璃板朝上的方式貼在斜坡上的第一個光學膜結構樣品上。接著，調整測試儀器的斜坡(斜坡機構的承載面)的傾斜角度，並記錄各組光學膜結構鬆脫滑落時的傾斜角度θ2。
(3)黏片測試評價：將光學膜結構樣品裁切成13.3吋(295.76毫米*168.24毫米)的尺寸，堆疊50片光學膜結構樣品後，將50片堆疊的光學膜結構樣品放入鋁箔袋抽真空，接著放置在溫度為25℃/濕度為55%的環境兩週，以模擬包裝完成後至運送到客戶所經過的時間。接著，打開鋁箔袋取出50片堆疊的光學膜結構，將表面保護膜側朝上放置，使用真空吸取器吸附位在最上方的光學膜結構並往上方移動，以確認黏片狀況。單次吸取操作就能成功吸附起最上方的單個光學膜結構則判定為通過「○」，單次吸取操作會吸附起兩個以上的光學膜結構則判定為不通過「×」。
由表1的結果可看出，滑劑的含量對於靜摩擦係數有關鍵的影響，從而影響光學膜結構的黏片情形。此外，由表1的結果可看出，不同傾斜角度θ2可對應至不同的靜摩擦係數，從而可以判斷光學膜結構的黏片結果。因此，根據本揭露的一些實施例，以傾斜角度θ2作為指標，評估光學膜結構之間的黏附特性，可以不需要採用複雜的規範或儀器，例如可以不需要量測靜摩擦力或靜摩擦係數，而可以透過簡單的下滑測試而得到光學膜結構之間的黏附特性測試結果。
圖7A、圖7B、圖7C、圖7D和圖7E是根據本揭露的一些實施例之顯示器1的製造方法的流程圖。
如圖7A所示，可提供彼此堆疊的複數個光學膜結構10。在一些實施例中，各個光學膜結構10均包含光學膜100、表面保護膜200及離形膜300，且光學膜結構10以表面保護膜200朝上的方式堆疊。在一些實施例中，相鄰的兩個光學膜結構10中，其中一者的表面保護膜200的表面接觸另一者的離形膜300的表面。
在一些實施例中，可以藉由本揭露之實施例所述的評估方法評估光學膜結構10的黏附特性，並將通過黏附特性測試的光學膜結構10彼此堆疊設置。在一些實施例中，可以在完成評估光學膜結構10之黏
附特性後，再將通過黏附特性測試的光學膜結構10彼此堆疊設置。在一些實施例中，光學膜結構100的經時2週翹曲值為等於或小於約23毫米、等於或小於約18毫米、等於或小於約16毫米、或等於或小於約9毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時4週翹曲值為等於或小於約20毫米、等於或小於約13毫米、等於或小於約10毫米、或等於或小於約2毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時2週翹曲值為約8~23毫米、約12~20毫米、或約15~18毫米。在一些實施例中，光學膜結構100的經時4週翹曲值為約1~20毫米、約5~15毫米、或約10~12毫米。
如圖7B所示，可從堆疊的多個光學膜結構10中拾取其中一個光學膜結構10。在一些實施例中，可藉由吸取裝置70拾取最上方的一個光學膜結構10。在一些實施例中，可藉由吸取裝置70的真空吸取器吸取堆疊的光學膜結構10中的最上方的一個光學膜結構10。在一些實施例中，吸取裝置70的真空吸取器可透過以真空吸附光學膜結構10的表面保護膜200而拾取光學膜結構10。根據本揭露的一些實施例，由於光學膜結構10均已通過通過黏附特性測試，因此可以單個逐一拾取以進行後續加工。
如圖7C所示，可將吸取裝置70上的光學膜結構10的離形膜300撕除。在一些實施例中，光學膜結構10透過真空吸附方式暫時固定在吸取裝置70上，並透過撕除裝置80將離形膜300從光學膜結構10撕除。根據本揭露的一些實施例，由於光學膜結構10具有足夠剛性，因此撕除離形膜300時不會因為拉扯到光學膜結構10而導致真空破壞使得光學膜結構10從吸取裝置70脫落。
如圖7D所示，可將光學膜100貼合至顯示面板20之上。在
一些實施例中，光學膜100透過表面保護膜200仍暫時固定在吸取裝置70上，可透過移動吸取裝置70以將光學膜100貼合至顯示面板20之上。在一些實施例中，顯示面板20可為液晶顯示面板，例如可為IPS液晶顯示面板、或VA液晶顯示面板。在一些實施例中，顯示面板20可為OLED面板。
如圖7E所示，可將吸取裝置70從表面保護膜200移開。在一些實施例中，可移除表面保護膜200，以形成包含光學膜100及顯示面板20的顯示器1。
雖然本揭露以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露。本揭露所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可做些許之更動與潤飾。因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。此外，每個申請專利範圍建構成一獨立的實施例，且各種申請專利範圍及實施例之組合皆介位於本揭露之範圍內。
10:光學膜結構
100:光學膜
101,102:表面
110:光學功能膜
120,130:保護層
140,150:接著劑層
200:表面保護膜
210:表面保護層
220:表面結構
300:離形膜
400,500:黏著層
Claims (8)
- 一種光學膜結構，包括：一光學膜，其具有一第一表面和相對於該第一表面的一第二表面，其中該光學膜包括偏光子；一表面保護膜，位於該光學膜的該第一表面上，其中該表面保護膜包括熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂；以及一離形膜，位於該光學膜的該第二表面上，其中該表面保護膜和該離形膜的至少其中一者相對於另一者的一靜摩擦係數為等於或小於0.4，其中：該表面保護膜包括一表面保護層及一表面結構，該表面結構相對於該離形膜的靜摩擦係數為等於或小於0.4，且該表面結構包括約5~20wt%的滑劑，及/或該表面結構包括噴砂微結構、3D列印材料層、網印層、矢印、紫外光固化膠層、或上述的任意組合。
- 如請求項1之光學膜結構，其中該表面保護層位於該光學膜的該第一表面與該表面結構之間。
- 如請求項1之光學膜結構，其中該離形膜包括一離形層及一表面結構，該離形層位於該光學膜的該第二表面與該表面結構之間，且該表面結構相對於該表面保護膜的靜摩擦係數為等於或小於0.4。
- 如請求項2或3之光學膜結構，其中該表面保護膜的該表面結構的材料與該表面保護層的材料不同，且/或該離形膜的該表面結構的材料與該離形層的材料不同。
- 如請求項2或3之光學膜結構，其中該表面保護膜的該表面結構的厚度為等於或小於1微米(μm)，且/或該離形膜的該表面結構的厚度為等於或小於1微米。
- 如請求項2或3之光學膜結構，其中該表面保護膜的該表面結構包括約5~30wt%的滑劑，且/或該離形膜的該表面結構包括約5~30wt%的滑劑。
- 如請求項1之光學膜結構，其中該表面保護膜和該離形膜的至少其中一者包括一含矽樹脂、一含氟樹脂、或上述的組合。
- 如請求項1之光學膜結構，其中該光學膜結構的經時2週翹曲值為8~23毫米，且/或該光學膜結構的經時4週翹曲值為1~20毫米。
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