TWI581004B - 可調式光學裝置 - Google Patents

Description

可調式光學裝置

本發明是有關於一種光學裝置，且特別是有關於一種可調式光學裝置。

法布里-珀羅(Fabry-Perot)光學濾波器是一種利用多光束干涉原理製作而成的濾波器，其通常配置有平行排列的第一反射鏡與第二反射鏡，以定義出法布里-珀羅共振腔。在光穿透第一反射鏡，以入射至法布里-珀羅共振腔之後，光會在第一反射鏡與第二反射鏡之間來回振盪。由於第一反射鏡與第二反射鏡之間維持特定間距，因此具有特定波長的光會形成建設性干涉(constructive interference)，其中形成建設性干涉的光(即具有特定波長的光)會穿透第二反射鏡，以自法布里-珀羅共振腔出射。通常而言，藉由調整光入射至法布里-珀羅共振腔的角度，或者是調整第一反射鏡與第二反射鏡之間的間距，便能濾出特定波段的光。

在現有技術中，調整第一反射鏡與第二反射鏡之間的間距的方式大多是使第一反射鏡移動靠近固定不動的第二反射鏡，使得法布里-珀羅共振腔的腔長(即第一反射鏡與第二反射鏡之間 的間距)縮短，因此僅能夠濾出較短波段的光，且波段範圍也較窄。為使法布里-珀羅(Fabry-Perot)光學濾波器實現寬波段濾光，可使第一反射鏡的初始位置相對遠離第二反射鏡以達成，故法布里-珀羅(Fabry-Perot)光學濾波器通常具有體積過大且縮小不易之缺點。因此，如何將法布里-珀羅(Fabry-Perot)光學濾波器微型化，同時實現寬波段濾光，便成為當前亟待解決的問題之一。

本發明提供一種可調式光學裝置，不僅符合微型化的設計需求，且能同時實現寬波段濾光。

本發明提出一種可調式光學裝置，包括基板、至少一支持構件、可撓性框架、彈性元件、第一反射元件以及至少一致動元件。支持構件固定於基板上。可撓性框架連接支持構件，且懸空於基板。彈性元件連接可撓性框架。彈性元件在Z軸方向上的剛性小於可撓性框架在Z軸方向上的剛性。第一反射元件連接彈性元件。致動元件位於可撓性框架與基板之間或第一反射元件與基板之間。

本發明提出一種可調式光學裝置，包括基板、至少一支持構件、可撓性框架、彈性元件、第一反射元件、第二反射元件、第一致動元件、第二致動元件、第一外部電極墊、第二外部電極墊以及第三外部電極墊。支持構件包括至少一固定座以及至少兩懸吊結構。固定座固定於基板上。這些懸吊結構分別位於可撓性 框架的相對兩側。可撓性框架透過這些懸吊結構連接至固定座，且懸空於基板。可撓性框架具有主體部與兩翼部。前述兩翼部分別連接於主體部的相對兩側。彈性元件連接可撓性框架的主體部，其中彈性元件在Z軸方向上的剛性小於可撓性框架在Z軸方向上的剛性。第一反射元件連接彈性元件，其中主體部環繞第一反射元件，且彈性元件位於主體部與第一反射元件之間。第二反射元件設置於基板上，並與第一反射元件相對。第一致動元件位於第一反射元件與基板之間，其中第一致動元件係為對向設置的第一電極對與對向設置的第二電極對。第一電極對的第一上電極與第二電極對的第二上電極分別連接第一反射元件，且第一電極對的第一下電極與第二電極對的第二下電極分別設置於基板上。第二致動元件與第一致動元件分別位於任一個懸吊結構的相對兩側，其中第二致動元件位於可撓性框架的各個翼部與基板之間。第二致動元件係為對向設置的第三電極對與對向設置的第四電極對。第三電極對的第三上電極與第四電極對的第四上電極分別設置於前述兩翼部上，且第三電極對的第三下電極與第四電極對的第四下電極分別設置於基板上。第一外部電極墊設置於基板上，其中第一上電極與第二上電極分別透過第一反射元件、彈性元件、可撓性框架、這些懸吊結構以及固定座與第一外部電極墊電性連接，且第三上電極與第四上電極分別透過可撓性框架、這些懸吊結構以及固定座與第一外部電極墊電性連接。第二外部電極墊設置於基板上，其中第一下電極及第二下電極分別與第二外部 電極墊電性連接。第三外部電極墊設置於基板上，其中第三下電極及第四下電極分別與第三外部電極墊電性連接。

基於上述，本發明的可調式光學裝置可透過致動元件驅使可撓性框架的至少部分及/或彈性元件產生彈性變形，以令位於可撓性框架上的第一反射元件移動靠近或遠離基板，從而擴大第一反射元件與基板之間的間距的可調範圍。因此，本發明的可調式光學裝置能在符合微型化的設計需求下，同時實現寬波段濾光。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

100、100A、100B‧‧‧可調式光學裝置

110‧‧‧基板

111a‧‧‧第一外部電極墊

111b‧‧‧第二外部電極墊

111c‧‧‧第三外部電極墊

120、120a、120b‧‧‧支持構件

121、121a、121b‧‧‧固定座

122‧‧‧懸吊結構

123‧‧‧第一側壁

124‧‧‧第二側壁

130‧‧‧可撓性框架

131‧‧‧主體部

132‧‧‧第一翼部

133‧‧‧第二翼部

134‧‧‧第一連接部

135‧‧‧第二連接部

136‧‧‧彈性元件

140‧‧‧第一反射元件

150‧‧‧第一致動元件

151‧‧‧第一電極對

151a‧‧‧第一上電極

151b‧‧‧第一下電極

152‧‧‧第二電極對

152a‧‧‧第二上電極

152b‧‧‧第二下電極

160‧‧‧第二致動元件

161‧‧‧第三電極對

161a‧‧‧第三上電極

161b‧‧‧第三下電極

162‧‧‧第四電極對

162a‧‧‧第四上電極

162b‧‧‧第四下電極

170‧‧‧第二反射元件

D1‧‧‧第一間距

D2‧‧‧第二間距

D3‧‧‧第三間距

圖1是本發明一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。

圖2是圖1的可調式光學裝置沿剖線A-A的剖面示意圖。

圖3與圖4是圖2的可調式光學裝置的作動示意圖。

圖5是對應圖4的可調式光學裝置的立體示意圖。

圖6是本發明另一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。

圖7是本發明又一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。

圖1是本發明一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。圖2是圖1的可調式光學裝置沿剖線A-A的剖面示意圖。為 求清楚表示與便於說明，略微放大圖2的比例。請參考圖1與圖2，在本實施例中，可調式光學裝置100包括基板110、至少一支持構件120、可撓性框架130、彈性元件136、第一反射元件140、第一致動元件150以及第二致動元件160。支持構件120固定於基板110上。可撓性框架130連接支持構件120，且懸空於基板110。彈性元件136連接可撓性框架130。第一反射元件140連接彈性元件136。第一致動元件150位於第一反射元件140與基板110之間，且第二致動元件160位於可撓性框架130與基板110之間。雖然本實施例是以同時配置有第一致動元件150與第二致動元件160作說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，可僅配置有位於第一反射元件與基板之間的第一致動元件，或者是位於可撓性框架與基板之間的第二致動元件。另一方面，致動元件的數量可視設計需求而調整。

基板110例如是可容許特定光波長穿透之透光基板，其材質包括玻璃、壓克力、石英、藍寶石或其他適用透光者。支持構件120可包括至少一固定座121與至少兩懸吊結構122(圖1示意地繪示出四個)，其中固定座121與這些懸吊結構122的材質可包括金屬、金屬合金、半導體或半導體氧化物，或者是上述材質之組合，又或者是其他適用的導電材質。固定座121例如是固定於基板110上的框架結構，且環繞可撓性框架130、彈性元件136、第一反射元件140、第一致動元件150以及第二致動元件160。懸吊結構122分別位於可撓性框架130的相對兩側，且可撓性框架 130透過這些懸吊結構122連接至固定座121，以懸空於基板110。由於第一反射元件140透過彈性元件136連接至可撓性框架130，且可撓性框架130透過這些懸吊結構122連接至固定座121，因此固定座121可用以間隔出第一反射元件140與基板110之間的初始間距。

另一方面，第一反射元件140可以是由金屬、金屬合金、半導體或半導體氧化物等導電材質所構成，或配置有導電線路層(圖未示)。可撓性框架130與彈性元件136可以是由半導體、金屬或金屬合金等彈性佳的導電材質所構成，或者是由彈性佳的非導電材質(例如介電材料)所構成，但混摻有導電粒子或配置有導電線路層(圖未示)。因此，第一反射元件140可透過彈性元件136、可撓性框架130以及支持構件120與位於基板110上的第一外部電極墊111a電性連接，其中第一外部電極墊111a位於可撓性框架130之外，而未被可撓性框架130所環繞。舉例來說，基板110上可配置有導電線路層(圖未示)，用以電性連接支持構件120與第一外部電極墊111a。

在本實施例中，固定座121具有第一側壁123以及與第一側壁123相對的第二側壁124。可撓性框架130透過其中兩個對稱設置的懸吊結構122連接至固定座121的第一側壁123，並透過另兩個對稱設置的懸吊結構122連接至固定座121的第二側壁124，以使懸空於基板110的可撓性框130能與基板110保持平行。詳細而言，可撓性框架130具有主體部131、第一翼部132以及第 二翼部133。第一翼部132與第二翼部133分別與主體部131保有一間隙，其中第一翼部132例如是透過第一連接部134與主體部131相連接，且第二翼部133例如是透過第二連接部135與主體部131相連接。如圖1所示，其中兩個對稱設置的懸吊結構122自固定座121延伸至第一翼部132與主體部131之間的間隙，以與第一連接部134相連接。另兩個對稱設置的懸吊結構122自固定座121延伸至第二翼部133與主體部131之間的間隙，以與第二連接部135相連接。

如圖1所示，主體部131例如是框架結構，第一反射元件140設置於此框架結構內，並透過彈性元件136與主體部131相連接。換言之，主體部131環繞第一反射元件140，其中彈性元件136位於主體部131與第一反射元件140之間，且環繞第一反射元件140。需說明的是，本發明並不限定彈性元件136環繞於第一反射元件140的配置方式。在其他實施例中，彈性元件可以是位於第一反射元件的相對兩側。另一方面，彈性元件136在Z軸方向上的剛性小於可撓性框架130在Z軸方向上的剛性，其中Z軸方向平行於基板110的法線方向或重力方向。藉此，當可撓性框架130或第一反射元件140作動時，透過彈性元件136連接至可撓性框架130的第一反射元件140仍可與基板110保持平行。以下將就此詳加說明。

請繼續參考圖1與圖2，在本實施例中，第一致動元件150與第二致動元件160分別位於任一懸吊結構122的相對兩側。 第一致動元件150可包括對向設置(或稱對稱設置)的第一電極對151與對向設置(或稱對稱設置)的第二電極對152。舉例來說，第一電極對151相對靠近第一翼部132，而第二電極對152相對靠近第二翼部133。詳細而言，第一電極對151的第一上電極151a連接第一反射元件140，且第一電極對151的第一下電極151b設置於基板110上。相似的，第二電極對152的第二上電極152a連接第一反射元件140，且第二電極對152的第二下電極152b設置於基板110上。雖然本實施例是以第一上電極151a與第二上電極152a對稱地設置於基板110上作說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，第一反射元件可開設用以容納第一上電極與第二上電極的兩容置空間，其中位於前述兩容置空間內的第一上電極與第二上電極可以是與第一反射元件直接連接或間接連接。

另一方面，第二致動元件160可包括對向設置(或稱對稱設置)的第三電極對161與第四電極對162。第三電極對161的第三上電極161a設置於第一翼部132上，且第三電極對161的第三下電極161b設置於基板110上。第四電極對162的第四上電極162a設置於第二翼部133上，且第四電極對162的第四下電極162b設置於基板110上。換言之，第三電極對161與第四電極對162分別位於第一反射元件140的相對兩側。詳細而言，第一電極對151與第三電極對161分別位於其中兩個對稱設置的懸吊結構122的相對兩側，且第二電極對152與第四電極對162分別位於另兩個對稱設置的懸吊結構122的相對兩側。

由於第一反射元件140可透過彈性元件136、可撓性框架130、懸吊結構122以及固定座121與位於基板110上的第一外部電極墊111a電性連接，因此連接第一反射元件140的第一上電極151a與第二上電極152a會分別與第一外部電極墊111a電性連接。此外，位於可撓性框架130上的第三上電極161a與第四上電極162a可透過可撓性框架130、懸吊結構122以及固定座121與位於基板110上的第一外部電極墊111a電性連接。換言之，第一上電極151a、第二上電極152a、第三上電極161a以及第四上電極162a皆會與第一外部電極墊111a電性連接，且第一外部電極墊111a例如是接地電極。另一方面，位於基板110上的第一下電極151b與第二下電極152b可分別透過基板110上的導電線路層(圖未示)與第二外部電極墊111b電性連接，且位於基板110上的第三下電極161b與第四下電極162b可分別透過基板110上的導電線路層(圖未示)與第三外部電極墊111c電性連接。如圖1所示，第二外部電極墊111b與第三外部電極墊111c皆位於可撓性框架130之外，而未被可撓性框架130所環繞。

在本實施例中，可調式光學裝置100更包括第二反射元件170。第一反射元件140與第二反射元件170可包括布拉格反射鏡，其中第二反射元件170設置於基板110上，且與第一反射元件140相對應。如圖2所示，第二反射元件170位於第一反射元件140的正下方(或稱第一反射元件140在基板110上的正投影與第二反射元件170相重疊)，且位於基板110上的第一電極對151 與第二電極對152的電極例如是分別位於第二反射元件170的相對兩側。在其他實施例中，第一電極對與第二電極對的其中一電極可設置於第二反射元件上。

由於第一反射元件140與位於基板110上的第二反射元件170保持平行，且兩者之間具有第一間距D1(即第一反射元件140與基板110之間的初始間距減去第二反射元件170的厚度)，因此第一反射元件140與第二反射元件170可定義出法布里-珀羅共振腔。在光穿透第一反射元件140，以入射至法布里-珀羅共振腔之後，光會在第一反射元件140與第二反射元件170之間來回反射振盪。由於第一反射元件140與第二反射元件170之間具有第一間距D1，因此具有第一特定波長的光會形成建設性干涉，其中形成建設性干涉的光(即具有第一特定波長的光)會穿透第二反射元件170，以自法布里-珀羅共振腔射出。

圖3與圖4是圖2的可調式光學裝置的作動示意圖。圖5是對應圖4的可調式光學裝置的立體示意圖。請參考圖1至圖3，當透過第一外部電極墊111a與第二外部電極墊111b施加偏壓於第一電極對151與第二電極對152時，位於第一反射元件140上的第一上電極151a與第二上電極152a在受到驅動後會分別朝向位於基板110上的第一下電極151b與第二下電極152b移動，使得可撓性框架130的主體部131以及與可撓性框架130的主體部131相連接的彈性元件136產生彈性變形，以縮減第一反射元件140與基板110之間的間距。換言之，以這些懸吊結構122為支點， 第一反射元件140會移動靠近基板110，以與第二反射元件170之間具有第二間距D2，而第一翼部132及第二翼部133未隨主體部131變形，且仍與基板110保持平行。由於彈性元件136的剛性例如是小於或等於可撓性框架130的主體部131的剛性，因此能釋放可撓性框架130的主體部131產生彈性變形時的應力，以使透過彈性元件136與主體部131相連接的第一反射元件140仍可與第二反射元件170保持平行。

換言之，當施加偏壓於第一電極對151與第二電極對152時，僅有第一反射元件140移動靠近基板110，而與第二反射元件170之間具有小於第一間距D1的第二間距D2。在光穿透第一反射元件140，以入射至法布里-珀羅共振腔之後，光會在第一反射元件140與第二反射元件170之間來回反射振盪。由於第一反射元件140與第二反射元件170之間具有第二間距D2，因此具有第二特定波長的光會形成建設性干涉，其中形成建設性干涉的光(即具有第二特定波長的光)會穿透第二反射元件170，以自法布里-珀羅共振腔出射。由於第二間距D2小於第一間距D1，因此第二特定波長會小於第一特定波長。

請參考圖1、圖4與圖5，當透過第一外部電極墊111a與第三外部電極墊111c施加偏壓於第三電極對161與第四電極對162時，位於第一翼部132上的第三上電極161a在受到驅動後會朝向位於基板110上的第三下電極161b移動，且位於第二翼部133上的第四上電極162a在受到驅動後會朝向位於基板110上的第四 下電極162b移動，使得可撓性框架130的主體部131產生彎曲變形(bending)。以這些懸吊結構122為支點，可撓性框架130的主體部131會帶動第一反射元件140移動遠離基板110，而可撓性框架130的第一翼部132與第二翼部133會分別移動靠近基板110。

由於彈性元件136在Z軸方向上的剛性例如是小於彈性元件136在X軸或Y軸方向上的剛性，因此能藉由彈性元件136所產生的彈性變形來釋放可撓性框架130的主體部131產生彎曲變形時的扭矩應力，以使透過彈性元件136與主體部131相連接的第一反射元件140仍可與第二反射元件170保持平行，而不會產生傾斜或形變。此時，第一反射元件140與第二反射元件170之間可具有大於第一間距D1的第三間距D3。在光穿透第一反射元件140，以入射至法布里-珀羅共振腔之後，光會在第一反射元件140與第二反射元件170之間來回反射振盪。由於第一反射元件140與第二反射元件170之間具有第三間距D3，因此具有第三特定波長的光會形成建設性干涉，其中形成建設性干涉的光(即具有第三特定波長的光)會穿透第二反射元件170，以自法布里-珀羅共振腔出射。由於第三間距D3大於第一間距D1，因此第三特定波長會大於第一特定波長。

簡言之，透過施加偏壓於第一電極對151與第二電極對152或第三電極對161與第四電極對162能使可撓性框架130的至少部分產生彈性變形，藉以調整第一反射元件140與第二反射元件170之間的間距。由於前述間距的可調範圍(例如介於第二間距 D2至第三間距D3之間)被擴大，因此本實施例的可調式光學裝置100能在符合微型化的設計需求下，同時實現寬波段(例如介於第二特定波長至第三特定波長之間)濾光。換句話說，本實施例的可調式光學裝置100可具有較寬的光譜掃描範圍。另一方面，在第一反射元件140移動靠近或遠離第二反射元件170的過程中，第一反射元件140始終與第二反射元件170保持平行。因此，本實施例的可調式光學裝置100可具有良好的光譜解析度。

需特別說明的是，本發明用以驅使可撓性框架的至少部分及/或彈性元件產生彈性變形的致動元件並不限定於對向設置的電極對。在其他實施例中，可採用熱致動元件、壓電致動元件或靜電致動元件等，以驅使可撓性框架的至少部分及/或彈性元件產生彈性變形。舉例來說，壓電致動元件可設置於第一反射元件上或可撓性框架的第一翼部與第二翼部上，以驅使可使撓性框架的至少部分及/或彈性元件沿Z軸方向產生彈性變形，進而達成相同的致動模態。

以下將列舉其他實施例以作為說明。在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖6是本發明另一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。請參考圖6，本實施例的可調式光學裝置100A與上述實施例 的可調式光學裝置100大致相似，兩者的差異在於：可調式光學裝置100A的支持構件120a的固定座121a例如是對應於這些懸吊結構122設置的四個島狀結構。換言之，各個懸吊結構122會與對應的島狀結構相連接。

圖7是本發明又一實施例的可調式光學裝置的俯視示意圖。請參考圖7，本實施例的可調式光學裝置100B與上述實施例的可調式光學裝置100大致相似，兩者的差異在於：可調式光學裝置100B的支持構件120b的固定座121b例如是分設於可撓性框架130的相對兩側的兩個條狀結構。換言之，位於可撓性框架130的同側的其中兩個懸吊結構122會與對應的條狀結構相連接。在其他實施例中，支持構件的固定座可以是島狀結構與條狀結構的組合，或其他適用的結構。

綜上所述，本發明的可調式光學裝置可透過第一致動元件或第二致動元件驅使可撓性框架的至少部分及/或彈性元件產生彈性變形，以令位於可撓性框架上的第一反射元件移動靠近或遠離第二反射元件，從而擴大第一反射元件與第二反射元件之間的間距的可調範圍。因此，本發明的可調式光學裝置能在符合微型化的設計需求下，同時實現寬波段濾光。換句話說，本發明的可調式光學裝置具有較寬的光譜掃描範圍。

另一方面，在第一反射元件移動靠近或遠離第二反射元件的過程中，由於彈性元件在Z軸方向上的剛性例如是小於或等於可撓性框架的主體部的在Z軸方向上的剛性，因此能釋放可撓 性框架的主體部產生彈性變形時的應力，以使透過彈性元件與主體部相連接的第一反射元件仍可與第二反射元件保持平行。據此，本發明的可調式光學裝置可具有良好的光譜解析度。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧可調式光學裝置

110‧‧‧基板

111a‧‧‧第一外部電極墊

111b‧‧‧第二外部電極墊

111c‧‧‧第三外部電極墊

120‧‧‧支持構件

121‧‧‧固定座

122‧‧‧懸吊結構

123‧‧‧第一側壁

124‧‧‧第二側壁

130‧‧‧可撓性框架

131‧‧‧主體部

132‧‧‧第一翼部

133‧‧‧第二翼部

134‧‧‧第一連接部

135‧‧‧第二連接部

136‧‧‧彈性元件

140‧‧‧第一反射元件

Claims (17)

1. 一種可調式光學裝置，包括：一基板；至少一支持構件，包括：至少一固定座，固定於該基板上；以及至少兩懸吊結構，分別位於該可撓性框架的相對兩側；一可撓性框架，透過該些懸吊結構連接至該固定座，且懸空於該基板；一彈性元件，連接該可撓性框架，該彈性元件在Z軸方向上的剛性小於該可撓性框架在Z軸方向上的剛性；一第一反射元件，連接該彈性元件；以及至少一致動元件，位於該可撓性框架與該基板之間或該第一反射元件與該基板之間。
2. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，其中該致動元件更包括一第一致動元件與一第二致動元件，且該第一致動元件與該第二致動元件分別位於任一該懸吊結構的相對兩側。
3. 如申請專利範圍第2項所述的可調式光學裝置，其中該第一致動元件係為對向設置的至少一電極對，該電極對的一上電極連接該第一反射元件，且該電極對的一下電極設置於該基板上。
4. 如申請專利範圍第2項所述的可調式光學裝置，其中該第二致動元件係為對向設置的至少一電極對，該電極對的一上電 極設置於該可撓性框架上，且該電極對的一下電極設置於該基板上。
5. 如申請專利範圍第4項所述的可調式光學裝置，其中該電極對的數量為兩對，且該兩電極對分別位於該第一反射元件的相對兩側。
6. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，其中該固定座包括島狀結構、條狀結構或環繞該可撓性框架之結構。
7. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，其中該可撓性框架具有一主體部與兩翼部，該兩翼部分別連接於該主體部的相對兩側，且該第一反射元件設置於該主體部內。
8. 如申請專利範圍第7項所述的可調式光學裝置，其中該支持構件的部分位於該主體部與任一該翼部之間。
9. 如申請專利範圍第7項所述的可調式光學裝置，其中該主體部環繞該第一反射元件，且該彈性元件位於該主體部與該第一反射元件之間。
10. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，更包括：一第二反射元件，設置於該基板上，其中該第二反射元件與該第一反射元件相對。
11. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，其中該支持構件、該可撓性框架以及該彈性元件包括導電材質。
12. 如申請專利範圍第11項所述的可調式光學裝置，其中該第一反射元件透過該彈性元件、該可撓性框架以及該支持構件與至少一外部電極墊電性連接。
13. 如申請專利範圍第1項所述的可調式光學裝置，其中該致動元件包括熱致動元件、壓電致動元件、靜電致動元件或對向設置的電極對。
14. 如申請專利範圍第13項所述的可調式光學裝置，其中該致動元件係為對向設置的至少一電極對，該電極對的一上電極連接該第一反射元件或設置於該可撓性框架上，且該電極對的一下電極設置於該基板上。
15. 如申請專利範圍第14項所述的可調式光學裝置，其中連接該第一反射元件或設置於該可撓性框架上的該上電極、該第一反射元件、該彈性元件、該可撓性框架以及該支持構件與一第一外部電極墊電性連接。
16. 如申請專利範圍第14項所述的可調式光學裝置，其中設置於該基板上的該下電極與一第二外部電極墊或一第三外部電極墊電性連接。
17. 一種可調式光學裝置，包括：一基板；至少一支持構件，包括：至少一固定座，固定於該基板上；以及至少兩懸吊結構，分別位於該可撓性框架的相對兩側； 一可撓性框架，透過該些懸吊結構連接至該固定座，且懸空於該基板，該可撓性框架具有一主體部與兩翼部，該兩翼部分別連接於該主體部的相對兩側；一彈性元件，連接該可撓性框架的該主體部，其中該彈性元件在Z軸方向上的剛性小於該可撓性框架在Z軸方向上的剛性；一第一反射元件，連接該彈性元件，其中該主體部環繞該第一反射元件，且該彈性元件位於該主體部與該第一反射元件之間；一第二反射元件，設置於該基板上，並與該第一反射元件相對；一第一致動元件，位於該第一反射元件與該基板之間，其中該第一致動元件係為對向設置的一第一電極對與對向設置的一第二電極對，該第一電極對的一第一上電極與該第二電極對的一第二上電極分別連接該第一反射元件，且該第一電極對的一第一下電極與該第二電極對的一第二下電極分別設置於該基板上；一第二致動元件，與該第一致動元件分別位於任一該懸吊結構的相對兩側，其中該第二致動元件位於該可撓性框架的各該翼部與該基板之間，該第二致動元件係為對向設置的一第三電極對與對向設置的一第四電極對，該第三電極對的一第三上電極與該第四電極對的一第四上電極分別設置於該兩翼部上，且該第三電極對的一第三下電極與該第四電極對的一第四下電極分別設置於該基板上；一第一外部電極墊，設置於該基板上，其中該第一上電極與 該第二上電極分別透過該第一反射元件、該彈性元件、該可撓性框架、該些懸吊結構以及該固定座與該第一外部電極墊電性連接，且該第三上電極與該第四上電極分別透過該可撓性框架、該些懸吊結構以及該固定座與該第一外部電極墊電性連接；一第二外部電極墊，設置於該基板上，其中該第一下電極及該第二下電極分別與該第二外部電極墊電性連接；以及一第三外部電極墊，設置於該基板上，其中該第三下電極及該第四下電極分別與該第三外部電極墊電性連接。