TWI567460B - 背光模組 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種背光模組,且特別是有關於一種能夠提供較佳光學品質的背光模組。
近年來,隨著電子產品的普遍使用,用於電子產品中提供顯示功能的顯示面板(display panel)已為設計者關注的焦點。顯示面板的種類眾多,而可依據電子產品的設計選用。其中,部分種類的顯示面板本身不具有發光功能,而需在其下方配置背光模組(backlight module)提供光源,以達到顯示功能。
所述背光模組通常包括組裝框架、光源以及平面光學調控板。依據光源與平面光學調控板的相對關係,背光模組可分為直下式背光模組與側入式背光模組。以直下式背光模組為例,其將光源與平面光學調控板配置於組裝框架內,其中光源位在平面光學調控板的下方,使其所發出的光線通過平面光學調控板的引導與調整光源所發出的光線的傳遞方向或分佈方式後射出背光模組外。然而,雖然背光模組中已有平面光學調控板來調整光線的傳遞方向或分佈方式,但仍然會有些微亮暗分佈不均的(mura)現象。因此,如何能夠使背光模組能夠發出亮度均勻的光線,一直是本領域所欲探討的目標。
本發明提供一種背光模組,其能夠提供亮度較為均勻的光線。
本發明的一種背光模組,包括:一反射底板;一光源,配置在反射底板上;至少一立體光學調控結構,配置在反射底板上並罩覆光源,立體光學調控結構包括一頂部及連接於頂部的兩側牆,其中兩側牆傾斜地且相對地朝向反射底板,至少一側牆包括至少一穿孔;以及至少一亮度調整結構,鄰近具有穿孔之側牆,其中穿孔在反射底板的正投影處為A,在側牆上穿過穿孔的法線與反射底板的交會處為B,其中A與B之間的區域為一亮度調整區段,至少一亮度調整結構配置於亮度調整區段中。
在本發明的一實施例中,上述具有穿孔之側牆更包含複數穿孔,其中最靠近反射底板的穿孔對反射底板的正投影處為A’,在側牆上穿過最遠離反射底板的穿孔的法線與反射底板的交會處為B’,其中亮度調整區段為A’與B’之間的區域。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構包含複數孔洞、一吸光油墨層、一吸光膠層、一粗糙面或其組合。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構設置於反射底板,亮度調整結構包含位在亮度調整區段內反射底板的多個孔洞。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整區段的這些孔洞具有多種尺寸,且這些孔洞之間存在多種間距。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構設置於反射底板,其中亮度調整結構包括一吸光油墨層、一吸光膠層或是一粗糙面。
在本發明的一實施例中,上述的立體光學調控結構還包括連接於至少一側牆的一底部,底部設置於反射底板上,且亮度調整結構配置在底部上。
在本發明的一實施例中,上述的配置於底部的亮度調整結構為複數穿孔,並且這些穿孔中具有吸光層。
在本發明的一實施例中,上述的立體光學調控結構還包括連接於至少一側牆的一底部,底部設置於反射底板上,其中亮度調整區段部分位在底部且部分位在反射底板。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構為複數穿孔、吸光油墨層或吸光膠層。
在本發明的一實施例中,上述的立體光學調控結構的頂部以及側牆為一平面、一弧面或一曲面。
在本發明的一實施例中,上述的背光模組更包括一光學膜層,位在反射底板、光源與立體光學調控結構上方。
本發明的一種立體光學調控組件,包括:一頂部;兩側牆,分別連接於頂部,其中兩側牆傾斜地且相對地由頂部向下延伸,至少一側牆包括至少一穿孔;至少一底部,連接於具有穿孔之側牆;以及至少一亮度調整結構,位於底部,其中穿孔在底部的正投影處為A,在側牆上穿過穿孔的法線與底部的交會處為B,其中A與B之間的區域為一亮度調整區段,至少一亮度調整結構配置於亮度調整區段中。
具有穿孔之側牆更包含複數穿孔,其中最靠近底部的穿孔對底部的正投影處為A’,在側牆上穿過最遠離底部的穿孔的法線與底部的交會處為B’,其中亮度調整區段為A’與B’之間的區域。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構包含複數孔洞、一吸光油墨層、一吸光膠層、一粗糙面或其組合。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構為複數孔洞且這些孔洞具有多種尺寸,且這些孔洞之間存在多種間距。
在本發明的一實施例中,上述的亮度調整結構為複數穿孔,並且這些穿孔中具有吸光層。
在本發明的一實施例中,上述的頂部與底部平行,且側牆與底部之間具有一銳角。
讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A是依照本發明的一實施例的一種背光模組的立體示意圖。圖1B是依照圖1A的背光模組沿A-A線段的局部剖面示意圖。請參閱圖1A與圖1B,本實施例的背光模組100包括反射底板114、多個光源120、多個立體光學調控組件125及光學膜層140(在圖1A中為了清楚表示出其他元件,因此圖1A隱藏了光學膜層140,而將光學膜層140標示於圖1B)。在圖1A中,這些立體光學調控組件125平行地配置於反射底板114上,各立體光學調控組件125包括立體光學調控結構130及多個亮度調整結構116,立體光學調控結構130呈長條狀,在各立體光學調控結構130的兩旁分別有兩排亮度調整結構116。當然,立體光學調控組件125的數量、在反射底板114上的排列方式與立體光學調控結構130及亮度調整結構116之間的配置關係並不以此為限制。
圖1B中擷取圖1A中的其中一個光源120及一個立體光學調控組件125以說明上述元件的相對位置關係。如圖1B所示,反射底板114具有亮度調整區段112,更明確地說,亮度調整結構116包含位在亮度調整區段112內反射底板114的多個孔洞。當然,亮度調整結構116的種類並不以此為限制,在其他實施例中,亮度調整結構116也可以是吸光油墨層、吸光膠層、粗糙面或其組合。下面將會在其他段落中提到亮度調整區段112的定義。
光源120配置在反射底板114上且位在亮度調整區段112以外區域。在本實施例中,光源120可以是發光二極體或其他適當的光源。立體光學調控結構130配置在反射底板114上且位在亮度調整區段112以外區域,並且立體光學調控結構130罩覆光源120上方。
在本實施例中,由圖1B來看,立體光學調控結構130包括頂部132、連接於頂部132的兩側牆134及分別連接兩側牆134的兩底部136,用以構成光學調控空間。立體光學調控結構130的頂部132、側牆134與底部136分別為平面,立體光學調控結構130的頂部132與底部均與反射底板114平行,且底部136設置於反射底板114上。立體光學調控結構130的兩側牆134傾斜地且相對地朝向反射底板114設置,兩側牆134對稱,且兩側牆134與反射底板114或底部136之間分別夾有銳角。
當然,立體光學調控結構130的形狀並不以此為限制,在其他實施例中,立體光學調控結構130的頂部132也可以是不平行於反射底板114,立體光學調控結構130的兩側牆134也可以是不對稱的,而與底部136或反射底板114之間夾有不同的角度。此外,各立體光學調控結構130的頂部132與側牆134也分別可以為具有弧面、曲面或是不規則形狀的表面形式。立體光學調控結構130也可以省略貼附於反射底板114上的底部136。設計者可視需求調整立體光學調控結構130的形式(未繪示)。
此外,側牆134包括至少一穿孔135。需說明的是,在圖1B中為了線條簡潔僅示意性地在側牆繪示了一個穿孔135,以說明亮度調整區段112的定義。實際上,側牆134可以具有多個穿孔135。此外,立體光學調控結構130不僅在側牆具有穿孔135,在頂部132也同樣地具有貫穿的通孔,以供光源120所發出的部分光線能夠直接穿出頂部132。
更精確地說,在本實施例中,立體光學調控結構130為高反射率的立體多孔反射結構,其內側表面具有高反射性的功能,其可調整光源所發出的光線的傳遞方向與分佈方式。舉例而言,立體光學調控結構130的頂部132可以具有數量不同或面積不同的多個通孔(未繪示),使頂部132的不同區域有不同的透光量。同樣地,側牆134也可以具有數量不同或面積不同的多個穿孔135,而使側牆134的不同區域也有不同的透光量。
例如,在對應光源120上方的區域,立體光學調控結構130的頂部132具有數量較少或面積較小的通孔,以容許較低的透光量。相對地,在未對應光源120的其他區域,立體光學調控結構130的頂部132具有數量較多或面積較大的通孔,以提供較高的透光量。同樣地,立體光學調控結構130的側牆134在較靠近光源120所發出的光線直射的部位具有數量較少或面積較小的穿孔135,立體光學調控結構130的側牆134在較遠離光源120所發出的光線直射的部位具有數量較多或面積較大的穿孔135(圖式中為了簡潔僅繪示一個穿孔135以方便在下文定義亮度調整區段112,但實際上穿孔135的數量、位置、尺寸並不以圖式為限制)。藉此,光源120所發出的光線可先通過立體光學調控結構130調整其分布型態之後才往外傳遞,以提升光線的均勻性。
在本實施例中,由於立體光學調控結構130本身可靠著自身的結構而自行站立在反射底板114上,立體光學調控結構130不需使用額外的間隔件來支撐。相較於傳統上設置在光源上方的平面光學調控板需要靠多個間隔件來維持其與光源之間的距離,本實施例的背光模組100可省去間隔件,而可節省材料與模具的成本。此外,相較於平面光學調控板,本實施例的立體光學調控結構130還提供了側牆134的穿孔135來調整靠近光源120的兩側的光線分布。
此外,光學膜層140位在反射底板114、光源120與立體光學調控結構130上方。光學膜層140例如是稜鏡片(prism film)、擴散片(diffusion film)、增亮片(brightness enhancement film,BEF)、偏光片(polarizer film)等,以調整光源120所發出的光線的傳遞方向或分佈方式。在其他實施例中,也可以省去光學膜層140的設計。
需注意的是,由於光源120發出的一部分光線會直接穿透頂部132之通孔與側牆134之穿孔135,一部分的光線會被頂部132反射之後穿過側牆134的穿孔135,而射向反射底板114。由於被頂部132反射之後直接穿過側牆134的穿孔135的此類光線為一次反射,光線的能量較強,所以射到反射底板114之後再被反射底板114反射會造成背光模組100的亮區,而導致背光模組100所發出的光線亮暗不均。在本實施例中,為了解決此原因所造成的亮暗不均的問題,特別在會被頂部132反射之後直接穿過側牆134的穿孔135而射向反射底板114的光線所照射到的區域(也就是亮度調整區段112)作特殊的設計,來降低被此區域反射的光線的亮度,以避免被此區域反射的光線過亮而使得背光模組100的亮度不均。
此處先界定亮度調整區段112的範圍,在圖1B中,以側牆134僅具有一個穿孔135為例,若在側牆134上穿孔135對反射底板114的正投影處為A,在側牆134上穿過穿孔135的法線與反射底板114的交會處為B,其中亮度調整區段112為A與B之間的區域。圖1C是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。在圖1C的背光模組100b中,與前一實施例相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,請參閱圖1C,側牆134包括多個穿孔135,在側牆134上最靠近反射底板114的穿孔135對反射底板114的正投影處為A’,在側牆134上穿過最遠離反射底板114的穿孔135的法線與反射底板114的交會處為B’,而可得到對應的亮度調整區段112b(也就是A’與B’之間的區域)。
圖2是圖1B的背光模組的反射底板在亮度調整區段的俯視示意圖。請參閱圖2,在本實施例中,由於被頂部132反射之後直接穿過側牆134的穿孔135的光線會落入亮度調整區段112中,因此,反射底板114在亮度調整區段112設有這些亮度調整結構116(孔洞),而使落入亮度調整區段112中的一部分光線能夠通過亮度調整結構116,而僅有一部分的光線能夠被反射底板114反射。藉此,降低被亮度調整區段112反射的光線亮度,而避免亮區產生。如圖2所示,在本實施例中,反射底板114位在亮度調整區段112的這些亮度調整結構116的尺寸與間距可以依據需求調整為不同尺寸與不同間距,並不以圖式為限制。亦即,亮度調整結構116可為具有同一尺寸與相等間距(未繪示)。
請回到圖1B,立體光學調控結構130的底部136的一部分會位在亮度調整區段112上。底部136的上表面具有反射功能,且位在亮度調整區段112上的部分同樣地具有複數開孔137,開孔137的位置對應於亮度調整結構116的位置。穿透側牆134的其中一部分光線穿出於底部136的開孔137以及反射底板114的亮度調整結構116而不被反射底板114反射。當然,在其他實施例中,立體光學調控結構130的底部136也可以不位在亮度調整區段112上,就不需要在底部136上設有開孔137。
本實施例的背光模組100藉由將射至亮度調整區段112的部分光線導出吸收或分散,而降低被亮度調整區段112反射的光線量,以避免亮區的形成。換句話說,在反射底板114中,亮度調整區段112的反射率會小於其他部位的反射率,而使得亮度調整區段112反射出較少的光線。
需說明的是,上面僅是其中一種亮度調整區段112的形式,在其他實施例中,也可以透過散光或吸光的設計來調整被頂部132反射之後直接穿過側牆134的穿孔135的光線被反射底板114反射的亮度。
圖3A是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。請參閱圖3A,圖3A的背光模組200與圖1B的背光模組100的主要差異在於,在圖1B中,亮度調整結構116為孔洞,反射底板114是透過位在亮度調整區段112的亮度調整結構116,讓照射至亮度調整區段112的一部分光線直接穿過亮度調整結構116,而不被反射底板114反射,圖3A則是利用吸光元件作為亮度調整結構218,以吸光的方式,減少光反射量。
在圖3A中,亮度調整區段212內設置有亮度調整結構218,亮度調整結構218包括吸光層,例如是吸光油墨層或是吸光膠層。亮度調整結構218可配置在反射底板214上且位在亮度調整區段212內。同樣地,若底部236的一部分位在亮度調整區段212上,底部236的此部分也可以具有亮度調整結構218,如吸光層237。穿透側牆234的一部分光線會被亮度調整結構218吸收而不往遠離反射底板214的方向射去。當然,亮度調整結構218的種類並不以此為限制。此外,雖然在本實施例中,亮度調整結構218是配置在反射底板214與底部236的區域,但在其他實施例中,亮度調整結構218也可以僅直接覆蓋底部236,亦即整個亮度調整區段212配置在底部236的範圍內。
此外,在其他實施例中,亮度調整結構218也可以包括粗糙面,穿透側牆234的一部分光線被亮度調整218元件漫射或散射而不往遠離反射底板214的方向射去。也就是說,光線在亮度調整區段212的散射率高於在反射底板214的其他區域的散射率。或者,在其他實施例中,反射底板組件210也可以包括具有孔洞的反射底板214以及具有吸光層或是粗糙面的亮度調整結構218,讓照射至亮度調整區段212的一部分光線直接穿過孔洞、一部分光線被吸收、漫射或散射,而只讓一部分的光線被反射底板214反射而往光學膜層射去。同樣地,底部236的位在亮度調整區段212上的此部分也可以包括粗糙面或是開孔來漫射光線或是使光線穿透。
圖3B是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。在圖3B的背光模組200b中,與前一實施例相同或相似的元件以相同或相似的符號表示,請參閱圖3B,圖3B的背光模組200b與圖3A的背光模組200的主要差異在於,在圖3A中,亮度調整結構218是吸光層,例如是吸光油墨層或是吸光膠層。在圖3B中,亮度調整結構218b包括了在亮度調整區段212中位在反射底板214的孔洞216a以及位在至少一部分的孔洞216a內的吸光層216b,且亮度調整結構218c包括了在亮度調整區段212中位在底部236上的孔洞236a以及位在至少一部分的孔洞216a內的吸光層236b。未填有吸光層236b的孔洞216a的下方同樣地具有216a。照射至亮度調整區段212的一部分光線穿過孔洞216a、236a,一部分光線被位在孔洞216a、236a內的吸光層吸收216b、236b。
此外,在其他實施例中,一部分的孔洞216a、236a也可以不貫穿反射底板214或底部236而於孔洞216a、236a的底面形成粗糙面,而使得一部分光線穿過貫穿反射底板214的孔洞216a,一部分光線被未貫穿反射底板214或底部236的孔洞216a、236a底面的粗糙面漫射。或者,在其他實施例中,對應於底部236的孔洞236a的反射底板214的表面也可以是粗糙面,而使貫穿底部236的孔洞236a的光線漫射。也就是說,本發明的背光模組100、100b、200、200b藉由將反射底板114、214或立體光學調控結構的底部136、236在亮度調整區段112、112b處設有亮度調整結構116或者在亮度調整區段212處配置有能夠吸光或是散光的亮度調整結構218、218b,光源所發出的一部分光線穿透側牆134、234之後射至亮度調整區段112、112b、212而被穿出、吸收或漫射,僅一部分的光線能夠被反射底板114、214或底部136、236反射而往遠離反射底板114、210射去,而降低被亮度調整區段112、112b、212反射的光線量,以避免亮區的形成,進而增加背光模組100、100b、200所射出光線的亮度的均勻性。
圖4是具有不同形式的亮度調整區段的多種背光模組的實驗結果圖。請參閱圖4,此處採用兩種背光模組來進行實驗,第一種是未在反射底板上設有孔洞或是未具有亮度調整結構的背光模組。第二種是採用具有亮度調整結構的背光模組,且亮度調整結構包括散射圖樣,例如複數穿孔所構成的散射圖樣。由圖4的此兩種背光模組的實驗結果可知,在x軸正負30公厘至70公厘的範圍中,第一種背光模組會在x軸的位置約是正負30公厘處有一明顯的照度峰值,換句話說,此區域會有亮紋出現。相較於第一種背光模組,第二種具有亮度調整結構且亮度調整結構包括散射圖樣的背光模組能夠使x軸正負30公厘至70公厘中不同位置的亮暗程度較為接近,而較能夠發出亮度較為均勻的光線。
綜上所述,本發明的背光模組藉由能夠自行站立的立體光學調控結構配置在反射底板上並罩覆光源,而不需利用額外的間隔件來支撐,能有效節省成本與組裝工序。相較於平面光學調控板,立體光學調控結構還提供了側牆的穿孔來調整靠近光源的兩側的光線分布。此外,立體光學調控結構在側牆上最靠近反射底板的穿孔對反射底板的正投影處為A,在側牆上穿過最遠離反射底板的穿孔的法線與反射底板的交會處為B。光源發出的一部分光線若被頂部反射後直接穿過側牆的穿孔,而射向反射底板,會落在A與B之間的亮度調整區段中,此類光線屬一次反射,光線的能量較強,其後再被反射底板反射出背光模組,會造成背光模組的亮區。本發明的背光模組藉由在A與B之間的亮度調整區段設有特殊設計,如此一來,在此部分被頂部反射、穿透側牆之後射至亮度調整區段的光線之中,其中一部分的光線會穿出反射底板或是被亮度調整結構吸收、漫射或散射,而不往遠離反射底板的方向射去。也就是說,射至亮度調整區段的光線僅有一部分會被反射底板反射而往遠離反射底板的方向射去,而降低被反射底板在亮度調整區段處所反射的光線的亮度,以減少背光模組所發出的光線存在亮度不均的程度。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
A、A’、B、B’‧‧‧位置
100、100b、200、200b‧‧‧背光模組
112、112b、212‧‧‧亮度調整區段
114、214‧‧‧反射底板
116、216a‧‧‧孔洞
120‧‧‧光源
125‧‧‧立體光學調控組件
130‧‧‧立體光學調控結構
132‧‧‧頂部
134、234‧‧‧側牆
135‧‧‧穿孔
136、236‧‧‧底部
137‧‧‧開孔
140‧‧‧光學膜層
218、218b、237‧‧‧亮度調整結構
216b‧‧‧吸光層
100、100b、200、200b‧‧‧背光模組
112、112b、212‧‧‧亮度調整區段
114、214‧‧‧反射底板
116、216a‧‧‧孔洞
120‧‧‧光源
125‧‧‧立體光學調控組件
130‧‧‧立體光學調控結構
132‧‧‧頂部
134、234‧‧‧側牆
135‧‧‧穿孔
136、236‧‧‧底部
137‧‧‧開孔
140‧‧‧光學膜層
218、218b、237‧‧‧亮度調整結構
216b‧‧‧吸光層
圖1A是依照本發明的一實施例的一種背光模組的立體示意圖。 圖1B是依照圖1A的背光模組沿A-A線段的局部剖面示意圖。 圖1C是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。 圖2是圖1B的背光模組的反射底板在亮度調整區段的俯視示意圖。 圖3A是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。 圖3B是依照本發明的另一實施例的一種背光模組的局部剖面示意圖。 圖4是具有不同形式的亮度調整區段的多種背光模組的實驗結果圖。
A、B‧‧‧位置
100‧‧‧背光模組
112‧‧‧亮度調整區段
114‧‧‧反射底板
116‧‧‧孔洞
120‧‧‧光源
125‧‧‧立體光學調控組件
130‧‧‧立體光學調控結構
132‧‧‧頂部
134‧‧‧側牆
135‧‧‧穿孔
136‧‧‧底部
137‧‧‧開孔
140‧‧‧光學膜層
Claims (18)
- 一種背光模組,包括: 一反射底板; 一光源,配置在該反射底板上; 至少一立體光學調控結構,配置在該反射底板上並罩覆該光源,該立體光學調控結構包括一頂部及連接於該頂部的兩側牆,其中該兩側牆傾斜地且相對地朝向該反射底板,至少一該側牆包括至少一穿孔;以及 至少一亮度調整結構,鄰近具有該穿孔之該側牆,其中該穿孔在該反射底板的正投影處為A,在該側牆上穿過該穿孔的法線與該反射底板的交會處為B,其中A與B之間的區域為一亮度調整區段,該至少一亮度調整結構配置於該亮度調整區段中。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,其中具有該穿孔之該側牆更包含複數穿孔,其中最靠近該反射底板的該穿孔對該反射底板的正投影處為A’,在該側牆上穿過最遠離該反射底板的該穿孔的法線與該反射底板的交會處為B’,其中該亮度調整區段為A’與B’之間的區域。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,其中該亮度調整結構包含複數孔洞、一吸光油墨層、一吸光膠層、一粗糙面或其組合。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,其中該亮度調整結構設置於該反射底板,該亮度調整結構包含位在該亮度調整區段內該反射底板的多個孔洞。
- 如申請專利範圍第4項所述的背光模組,其中該亮度調整區段的該些孔洞具有多種尺寸,且該些孔洞之間存在多種間距。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,其中該亮度調整結構設置於該反射底板,其中該亮度調整結構包括一吸光油墨層、一吸光膠層或是一粗糙面。
- 如申請專利範圍第3項所述的背光模組,其中該立體光學調控結構還包括連接於該至少一側牆的一底部,該底部設置於該反射底板上,且該亮度調整結構配置在該底部上。
- 如申請專利範圍第7項所述的背光模組,其中配置於該底部的該亮度調整結構為複數穿孔,並且該些穿孔中具有吸光層。
- 如申請專利範圍第3項所述的背光模組,其中該立體光學調控結構還包括連接於該至少一側牆的一底部,該底部設置於該反射底板上,其中該亮度調整區段部分位在該底部且部分位在該反射底板。
- 如申請專利範圍第9項所述的背光模組,其中該亮度調整結構為複數穿孔、吸光油墨層或吸光膠層。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,其中該立體光學調控結構的該頂部以及該側牆為一平面、一弧面或一曲面。
- 如申請專利範圍第1項所述的背光模組,更包括: 一光學膜層,位在該反射底板、該光源與該立體光學調控結構上方。
- 一種立體光學調控組件,包括: 一頂部; 兩側牆,分別連接於該頂部,其中該兩側牆傾斜地且相對地由該頂部向下延伸,至少一該側牆包括至少一穿孔; 至少一底部,連接於該具有該穿孔之該側牆;以及 至少一亮度調整結構,位於該底部,其中該穿孔在該底部的正投影處為A,在該側牆上穿過該穿孔的法線與該底部的交會處為B,其中A與B之間的區域為一亮度調整區段,該至少一亮度調整結構配置於該亮度調整區段中。
- 如申請專利範圍第13項所述的立體光學調控組件,其中具有該穿孔之該側牆更包含複數穿孔,其中最靠近該底部的該穿孔對該底部的正投影處為A’,在該側牆上穿過最遠離該底部的該穿孔的法線與該底部的交會處為B’,其中該亮度調整區段為A’與B’之間的區域。
- 如申請專利範圍第13項所述的立體光學調控組件,其中該亮度調整結構包含複數孔洞、一吸光油墨層、一吸光膠層、一粗糙面或其組合。
- 如申請專利範圍第15項所述的立體光學調控組件,其中該亮度調整結構為複數孔洞且該些孔洞具有多種尺寸,且該些孔洞之間存在多種間距。
- 如申請專利範圍第15項所述的立體光學調控組件,其中該亮度調整結構為複數穿孔,並且該些穿孔中具有吸光層。
- 如申請專利範圍第13項所述的立體光學調控組件,其中該頂部與該底部平行,且該側牆與該底部之間具有一銳角。
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