TWI434888B - 熱敏組合物及其用途 - Google Patents
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- TWI434888B TWI434888B TW100123263A TW100123263A TWI434888B TW I434888 B TWI434888 B TW I434888B TW 100123263 A TW100123263 A TW 100123263A TW 100123263 A TW100123263 A TW 100123263A TW I434888 B TWI434888 B TW I434888B
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 85
- -1 nitrogen-containing compound Chemical class 0.000 claims description 37
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 claims description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 8
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 claims description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 claims 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 26
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 22
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 6
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- KKMOSYLWYLMHAL-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-6-nitroaniline Chemical compound NC1=C(Br)C=CC=C1[N+]([O-])=O KKMOSYLWYLMHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O hydron;quinoline Chemical compound [NH+]1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N trichloroacetaldehyde Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C=O HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSPPHHAIMCTKNN-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-hydroxy-2-methoxyanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(OC)=CC(O)=C3C(=O)C2=C1 WSPPHHAIMCTKNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 2,3-Diphenyl-1-indanone Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEJPWLNPOFOBSP-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-chloro-4-nitrophenyl)diazenyl]-n-ethylanilino]ethanol Chemical compound C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1Cl FEJPWLNPOFOBSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M Cetrimide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C CXRFDZFCGOPDTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOQABOMYTOFLPZ-ISLYRVAYSA-N Disperse Red 1 Chemical compound C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1\N=N\C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 FOQABOMYTOFLPZ-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 239000000298 carbocyanine Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 1
- 239000006099 infrared radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- VRWKTAYJTKRVCU-UHFFFAOYSA-N iron(6+);hexacyanide Chemical compound [Fe+6].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] VRWKTAYJTKRVCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- LSMAIBOZUPTNBR-UHFFFAOYSA-N phosphanium;iodide Chemical compound [PH4+].[I-] LSMAIBOZUPTNBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M pinacyanol iodide Chemical compound [I-].C1=CC2=CC=CC=C2N(CC)C1=CC=CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=[N+]1CC QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002523 polyethylene Glycol 1000 Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950007237 quinaldine blue Drugs 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940029273 trichloroacetaldehyde Drugs 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
本發明係關於一種熱敏組合物,尤指一種可用於熱敏平版印刷中之熱敏性塗料組合物,及使用該熱敏組合物製造圖像的方法。
習知的印刷技術,主要分成四大類方法:凹版印刷、凸版印刷、網版印刷,以及平版印刷。
上述平版印刷,其係一種間接印刷。透過滾輪塗佈上油墨後再經由一個中介的膠皮版(blanket)轉印到基材上,即如紙張、布料等表面。而其上墨的原理是利用油水不互溶的原理,使得親油區與親水區對油墨具有不同的親合力,當施加油墨(ink)時,非圖像區吸著水而排斥油墨,同時圖像區(image area)接受油墨而排斥水。
平版印刷常見的兩種主要方法為:PS(presensitized plate)版印刷及CTP(computer to plate)版印刷。PS版主要是利用一個底片或是光阻的選擇性曝光來達到製作圖像的目的,其缺點為底片或光阻的製作與黃光室的使用(PS常以紫外光為光源),以及需要人工校正的技術問題。
近來使用CTP版來取傳統PS版,CTP版由於透過電腦控制熱源,因此不需要人工校正印版的動作以及無需使用黃光室,可在一般室內製版,而且製版效率、輸出速度與印量相較於PS版皆較為優異。
CTP製程需使用熱敏性塗料組合物,其可分為兩大類,即正型熱敏性塗料組合物和負型熱敏性塗料組合物。正型熱敏性塗料組合物:在受熱部分,會溶於顯影液;未受熱區域則不溶解。解析度比負型熱敏性塗料組合物佳,故大部分的平版印刷製程使用正型熱敏性塗料組合物。負型熱敏性塗料組合物:受熱區域會形成鏈結(cross linkage),使結構強度增加,所以不會溶於顯影液,但未照射區則會溶解。
在平版印刷製程中的圖像區及非圖像區係經曝光過程,使該版曝露於光源(此光源由近紅外輻射(NIR)構成)後而形成。近紅外輻射較佳可直接轉成熱,或藉組合物之一種成份經由化學反應轉換成熱。如果使用正型感光版,對應於該版上之圖像區為不受光區域(area),但對應於非圖像區則允許光線透過至正型熱敏性塗料組合物,使其變為更易溶解而去除。若是使用負型感光版則情形與上述相反。
美國專利US 6063544,US5372907,US 5340699,US 5372915,US 5466577,US 5491046及US 5663037揭露有關平版印刷的方法,唯彼等所面臨的共通問題在於單層印刷版顯像後,其顯現之圖像區常有殘像(smudging),無法供於長時間下有效印刷,以致印刷產生之圖像清晰度及印刷品質均差。
美國專利US 6352811、US 6358669、US 6440633、US 6534238、US 6537735、US 6555291、US 6649324及US 7582407係針對US 6280899提出改良技術。
以US 6440633為例,該文中提及先前技術多層的系統係用以改善原先組成物(親油性)與基材(親水性)密著不佳的問題,但多層系統中仍存在著許多問題,如:顯影後殘污(smudging)的產生,然單層印刷版亦存在相同的問題。因此,如何有效的改善習知單層印刷版所面臨的問題,是相對而言較為重要的發展方向。
台灣專利TW 583508、TW 200617591及TW 584787揭示嘗試改進印刷圖像之清晰度及印刷品質之內容,其特點在於添加交聯劑與熱化學酸/光酸產生劑(photoacid generators),來改善原有顯影與剝除的均質性。該等技術乃針對熱敏組合物添加交聯劑與熱化學酸,而熱化學酸可能使組合物的儲存性變差,特別當存在於組合物中的熱化學酸在未塗佈前,於紫外輻射的條件下易導致質變。因此,習知組合物中需要額外添加酸安定劑作為安定的组份。但是,於熱敏組合物中添加交聯劑與熱化學酸,並不能改善原先組合物耐溶劑性。
平版印刷技術係根據油及水不相混的特性,其中油性物質或油墨(ink)被吸著於圖像區(image area),而非圖像區係具親水性,潤版液則被吸著於非圖像區,該潤版液會防止油墨黏著於非影像區。當適當調配之表面施加油墨時,非圖像區排斥油墨,同時圖像區接受油墨,隨後圖像區上之油墨轉移至待複製圖像之材料表面,即如紙張、布料等表面。但是,由於潤版液中含有溶劑,會慢慢侵蝕圖像區,減少印刷版的使用壽命,因此,如何讓熱敏組合物對潤版液具有耐溶劑性,成為平版印刷技術的重要課題,惟先前技術中鮮有討論如何提升組合物對潤版液之耐溶劑性。
鑒此,本發明之目的係提供一種對潤版液具較高耐溶劑性之熱敏組合物,其可應用於熱敏平版印刷製程中。本發明之熱敏組合物包含(a)酚醛樹脂,(b)溶解抑制劑,(c)具紅外輻射吸收性化合物及(d)耐溶劑性添加劑。
本發明另一目的係提供一種使用上述熱敏組合物以製造圖像的方法。
除非另外說明,本說明書中所有組合物的含量百分比皆為重量百分比。
本發明組合物中,以整體組合物之100重量%固成份重量計,組分(a)酚醛樹脂之含量為50~99重量%,較佳為60~95重量%;組分(b)溶解抑制劑之用量為0.1~45重量%,較佳為1~35重量%;組分(c)具紅外輻射吸收性化合物之用量為0.5~10重量%,較佳為1~6重量%;及組分(d)耐溶劑性添加劑之用量為0.1~40重量%,較佳為1~20重量%。
本發明所使用之酚醛樹脂,為適當酚類與適當醛類行縮合反應而得之聚合物。適當酚類,例如但不限制於酚、甲酚、二甲酚、對第三丁基酚、對苯酚、壬酚或雙酚A(2,2-雙(4-羥苯基)丙烷;2,2-Bis(4-hydroxyphenyl) propane)。適當醛類,例如但不限制於甲醛、三氯乙醛、乙醛或糠醛。本發明較佳之酚醛樹脂為線性酚醛樹脂(novolak resin)。
可用於本發明之溶解抑制劑係選自由含氮化合物、羰基化合物、茂鐵鎓化合物、馬來酐衍生物及其混合所構成之群組,較佳之溶解抑制劑係選自由含氮化合物、馬來酐衍生物及其混合所構成之群組。
可用於本發明組合物中作為溶解抑制劑之含氮化合物包含第四化氮化合物、含氮雜環化合物或第四化雜環族環氮化合物。上述第四化氮化合物係指三芳基甲銨,例如三(對-二甲基胺基苯基)甲烷、或乙基紫或四烷基銨化合物。其中四烷基銨化合物,例如溴化十六基三甲銨(Cetrimide)。上述含氮雜環化合物係指喹啉或三唑化物,如1,2,4-三唑化物。上述第四化雜環族環氮化合物係指咪唑啉鎓化合物、吡鎓化合物、喹啉鎓化合物(如喹啉鎓陽離子性花青染料)或苯并噻唑鎓化合物(如苯并噻唑鎓陽離子性花青染料,其例如但不限於1,1'-二甲基-2,2'-羰花青碘(Quinaldine blue),3-乙基-2-[3-(3-乙基-2(3H)-亞苯并碱唑醯基)-2-甲基-1-丙烯基]苯并噻唑鎓碘化物)。
可用於本發明組合物中作為溶解抑制劑之羰基化合物,例如但不限於α-萘并黃素酮,β-萘并黃素酮,2,3-二苯基-1-茚酮,黃素酮,黃素烷酮,黃酮(xanthone),二苯甲酮,N-(4-溴丁基)酞二醯亞銨或菲醌或其混合物。
可用於本發明組合物中作為溶解抑制劑之鐵茂鎓(ferrocenium)化合物,例如可為鐵茂鎓六氟磷酸酯。
可用於本發明組合物中作為溶解抑制劑之馬來酐衍生物例如可為馬來酸半酯;苯乙烯與馬來酸之共聚合物、苯乙烯與馬來酐之共聚合物或苯乙烯與馬來酸半酯之共聚合物、丙烯酸與馬來酐之共聚合物、甲基乙烯基醚與馬來酐之共聚合物;或其混合物。
為了提高熱敏組合物之敏感度,本發明組合物包含可吸收光並將其轉換成熱之紅外輻射吸收化合物(後文稱做「具紅外輻射吸收性化合物」)。具紅外輻射吸收性化合物可為染料或顏料。
根據本發明之一實施例,具紅外輻射吸收性化合物吸收選定供成像之射線並將其轉成熱,上述射線可選自紅外光,例如來自紅外線雷射或二極體雷射波長830 nm射線。
可用於本發明之具紅外輻射吸收性化合物可為顏料,其為黑色本體或寬譜吸收劑,例如碳黑或石墨,例如市售此類顏料例子包含如BASF供給之酞菁綠(Heliogen green)或NH實驗室公司供給之苯銨黑(Nigrosine base NG1)或Aldrich公司供給之鐵藍(Milori blue,C.I. B27)(C.I.顏料藍27)。
具紅外輻射吸收性化合物亦可為有機顏料或染料,如酞花青顏料,或為方酸菁(squarylium)、部花青、吲哚、花青、吡喃鎓(pyrylium),或金屬二硫啉類之染料或顏料。
顏料通常不可溶於組合物中,故形成顆粒。其通常為廣譜吸收劑,較佳可有效吸收電磁射線並將其於超過200 nm,較佳超過400 nm範圍之射線轉成熱。顏料通常不被射線分解,對未經加熱組合物於顯影劑中之溶解度不會造成顯著影響。相反地,染料通常可溶於組合物,其通常為窄譜吸收劑,典型可有效吸收電磁波並僅於典型不超過100 nm之波長範圍將其轉成熱,因此,需就用於成像之射線波長加以選擇。
根據本發明之一具體實施例,較佳的具紅外輻射吸收性化合物係可吸收高於600 nm之射線之染料,其例如但不限於具下述結構的喹啉鎓花青染料:
上述喹啉鎓花青染料於800 nm有最大吸收值。
可用於本發明組合物中之耐溶劑性添加劑,可為乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、硝基纖維素、(甲基)丙烯酸酯樹脂、氯醋樹脂或其混合物,較佳為乙酸丁酸纖維素或(甲基)丙烯酸酯樹脂或其組合。根據本發明之一實施例,使用乙酸丁酸纖維素除可作為耐溶劑性添加劑外,亦可作為溶解抑制劑。
本發明組合物視需要可加入此技術領域具有通常知識者所熟知之添加物,其例如,但不限於,酸安定劑、濕潤劑、界面活性劑、增塑劑、惰性著色劑,及/或惰性聚合物黏結劑或填料或其組合。舉例言之,本發明組合物可含有著色劑(指示劑染料),其於印刷版顯像後有助肉眼鑑別圖像區。本發明組合物亦可含有任何一種習知之染料或顏料,例如花青色、黃色及洋紅色染料。較可取之著色劑包括維多利亞藍、海洋藍、鹼性藍、亞甲藍、結晶紫、分散紅1、4或13以及甲基紫等。
本發明之組合物具有熱敏性,適用於熱敏平版印刷中作為正型熱敏性塗料組合物,藉由適當射線加熱組合物,可使曝光區對水性顯影劑的溶解度增高。
本發明另提供一種製造圖像之方法,該方法包含下列步驟:
(i) 將本發明之熱敏組合物塗佈於基版上形成成像層(imaging layer);
(ii) 使該成像層之成像區曝露於一近紅外輻射之能源下,使其形成一曝露的潛像(latent image);
(iii) 使該成像區與顯影劑(devoloper)接觸,以將該成像層之該曝露區選擇地從該基版去除;
(iv) 於基版上塗佈潤版液;及
(v) 塗佈油墨進行平版印刷。
本發明製造圖像之方法中所使用之基版係用於平版印刷之基版,上述基版例如陽極化鋁版或多元酯薄膜,根據一具體實施例該基版可為表面已經受平版印刷業界眾所周知之尋常陽極晶粒化及後陽極處理之鋁板。
使用本發明之熱敏組合物可先將其溶解於適當之有機溶劑中調製成溶液,再塗佈於選定之例如陽極化鋁版或多元酯薄膜等基版上,並使該基版表面做為印刷表面。塗佈方法可用習知之輥塗法,凹印法、滾塗法或斗式塗敷法(hopper coating)等任一方法。上述溶劑可選自例如1-甲氧基-2-乙醇、1-甲氧基-2-丙醇、丙酮、丁酮、二異丁基酮、甲基異丁基酮、正-丙醇、異丙醇、四氫呋喃、丁內酯或乳酸甲酯或其混合物,塗佈用溶劑較佳為1-甲氧基-2-丙醇、丙酮或甲基異丁基酮或其混合物。
塗佈本發明組合物於基版表面後,在進行傳熱(曝露於近紅外輻射能源)之前,為增加儲存安定性,視需要可進行一熱處理,可使本發明組合物之靈敏度降低,不易隨儲存時間而產生變化。
熱敏組合物塗層於基版上之「積層量」可藉由將每單位面積以單面塗佈塗層之基材之總重量減去未塗佈前之基材重量而得。根據本發明,上述熱敏組合物塗層之積層量係介於約0.8 g/m2
至約3.5 g/m2
之間,較佳介於約1.1 g/m2
至約2.7 g/m2
之間,最佳為約1.3~2.4g/m2
。乾燥塗層係將該經塗佈組合物之基版置於能有效地去除溶劑但又不引起組合物劣化的條件下實施。塗佈層係在能有效去除溶劑且又不引起染料劣化或聚合物間之反應等條件下實行乾燥。一如前述,輻射熱敏性組合物可應用於電腦至印刷版(computer-to-plate)之圖像技藝。由於這些組合物之多功能性,使其可應用於「寫入圖像」或「寫入背景」於印刷版上。應用於「寫入圖像」時,受雷射而曝光之部份變成圖像,一如負型感光版之場合,並於雷射曝光後,將該版加熱進行交聯。然後使用適當之鹼性顯像水溶液顯像以供印刷。應用「寫入背景」時,受雷射而曝光之部份乃在顯像處理時被去除,留下之圖像區變成背景。且應用「寫入背景」時之技術時,在顯像處理前不必預熱。
本發明之製造圖像之方法中係所使用之近紅外輻射較佳係藉雷射傳送,適合波長主要於600至1400 nm之範圍,更佳為700至1200 nm之範圍,最佳為750至1150 nm之範圍。上述近紅外輻射例如為紅外光或可見光。較佳之近紅外輻射為紅外雷射光束。較佳射線係藉雷射傳送。印版最佳置於圖像整定器(imagesetter)上以利成像(imaging)。圖像整定器可輸出不同波長之紫外線、可見光或紅外線,而時下常應用於紅外線成像。可發出830 nm波長之雷射二極體陣列(array)之紅外線光源已有商業化之利用,此等雷射係由一系列之二極體光纖串連組成,總電力可在1-14瓦特之間變化,並施加一定時間以產生高達250 mJ/cm2
之成像所用能量(energy)。較佳之能量範圍為約130-210 mJ/cm2
。成像裝置機台型號:Screen 8600。
顯影劑組合物係由聚合物質之性質決定。上述之所有塗佈組合物係用顯影劑顯像,顯影劑為完全可溶之水溶液且具有高pH值。正型感光版所常用之顯影劑最為適用於本發明之組合物。此顯影劑最能善用曝光形成之區分(differentiation)去除背景塗佈層而保留圖像,使該圖像可用以印刷。顯影劑之常見成份為界面活性劑、螯合劑如伸乙基二銨四乙酸鹽、有機溶劑如苯甲醇、及鹼性成份如無機偏矽酸鹽、有機偏矽酸鹽、氫氧化物或碳酸氫鹽;更佳水性顯影劑為含無機或有機偏矽酸鹽之鹼性顯影劑或為鹼金屬氫氧化物;最佳為有機偏矽酸鹽之鹼性顯影劑。
本發明製造圖像之方法適用於平版印刷,上述平版印刷技術係根據油及水不相混的特性,一般而言,圖像區具有親油性,所以油性物質,例如油墨(ink)被附著於圖像區(image area),而非圖像區具有親水性。潤版液是一種水性混合物,其包含減感劑、pH值調節劑、緩衝劑、殺菌劑、防黴劑、潤濕劑,及溶劑,所以潤版液會被附著於非圖像區,且該潤版液會防止油墨黏著於非影像區。但由於潤版液中含有溶劑,例如異丙醇或酒精,因此會慢慢侵蝕圖像區,因而減少印刷版的使用壽命,本發明之熱敏組合物含有耐溶劑性添加劑,可以防止潤版液侵蝕圖像區,故對潤版液具有優良的耐溶劑性。
本發明將以下述實例作進一步之說明,然非欲以對本發明的範圍作任何限制。
於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解9.00克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外線吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)與6.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)製作成塗佈組合物溶液。另準備一經過脫脂、機械粗化、陽極化及用習知之聚乙烯基膦酸處理成親水性之鋁基版,而將上述之被覆組成物溶液塗敷於該鋁基被上。被覆層之乾重為1.7g/m2
。
將塗佈有熱敏組合物之基版置於Screen 8600 Trendsetter(圖像整定器之商品名)中,使用波長830 nm照射能量150 mJ/cm2
,用盛有傳統正型顯影劑(13%偏矽酸鈉水溶液)之處理機中實施基版之顯像。可看到產生之正像(positive image)。但曝光區有殘影,此版無法適用於商業印刷。
進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重為0.20g/m2
,低於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留1.0g/m2
,高於容許範圍(<0.05g/m2
)。並將塗佈感光液的版材裁切完整的大小,經秤其重量,浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,烘乾再秤重,檢測其浸泡於50%異丙醇水溶液中前後的重量變化,檢測感光層保留為<0.05 g/m2
。此檢測結果顯示,該配方耐溶劑性不足。
如比較例1製作塗佈組成物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解9.00克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外輻射吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)與6.00克乙酸丁酸纖維素(CAB)(Eastman chemical)製作成塗佈組合物溶液。
進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重為0.1g/m2
,低於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留1.5 g/m2
,高於容許範圍(<0.05 g/m2
)。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留約為1.7 g/m2
。比較實施例1,發現在該配方中添加CAB,使得顯像後殘留嚴重,但此配方展現優異的耐溶劑性。
如比較例1製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解11.0克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外輻射吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)、2.00克乙酸丁酸纖維素(Eastman chemical)與2.00克馬來酐共聚物(SMA)製作成塗佈組合物溶液。
進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重為0.36 g/m2
,低於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留<0.05 g/m2
,低於容許範圍。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留約為1.7 g/m2
,表示此配方具有優異的耐溶劑特性。相較於比較例1,發現加入CAB與馬來酐共聚物後,發現顯像後殘留低於容許範圍內,且耐溶劑性有明顯的改善。可知所添加馬來酐共聚物於該配方中,可解決添加CAB後,感光層顯像嚴重殘留的問題。
如實施例2製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解11.0克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外輻射吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、2.00克乙酸丁酸纖維素(Eastman chemical)與2.00克馬來酐共聚物(SMA)製作成塗佈組合物溶液。
此比較例發現,不添加溶解抑制劑則顯像後無法成像。進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重為1.2 g/m2
,高於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留<0.05 g/m2
,低於容許範圍。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留約為1.7 g/m2
,其具有耐溶劑特性。
如實施例2製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解11.0克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)、2.00克乙酸丁酸纖維素(Eastman chemical)與2.00克馬來酐共聚物(SMA)製作成塗佈組合物溶液。
此比較例發現,不添加紅外輻射吸收劑,則曝光顯像後無法成像。進一步分別檢測,得到非曝光區顯像後殘留0.4 g/m2
,高於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留1.0 g/m2
,高於容許範圍(<0.05 g/m2
)。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留約為1.7 g/m2
,具有耐溶劑特性。
如實施例2製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解11.0克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外輻射吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)與2克馬來酐共聚物(SMA)製作成塗佈組合物溶液。
此比較例發現,不添加乙酸丁酸纖維素則顯像後無法成像。進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後感光層殘留1.2 g/m2
,高於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留<0.05 g/m2
,低於容許範圍。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留為<0.05 g/m2
。
如實施例2製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解9.00克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外線吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)與6.00克C12脂肪酸(d1)、C18脂肪酸(d2)、PEG 1000(d3)、PEG 2000(d4)、Tego P50(有機矽添加劑)(d5)製作成塗佈組合物溶液。
此比較例發現,在該配方中添加d1-d5,則顯像後無法成像。進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重分為1.2 g/m2
;1.1 g/m2
;1.7 g/m2
;1.7 g/m2
;及1.2 g/m2
,高於容許範圍內(<0.4 g/m2
),曝光區顯像後殘留<0.05 g/m2
,低於容許範圍。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留為<0.05 g/m2
。
如實施例2製作塗佈組合物溶液及鋁基版。於91.0克之1-甲氧基-2-丙醇中溶解9.00克之Novolak EP6050(Asahi organic chemicals industry)、0.50克之紅外線吸收染料HCD23(Hayashibara biochemical laboratories)、0.50克之三(對-二甲基胺基苯基)甲烷(優締化學)與6.00克PMMA(CM207,CM211)製作成塗佈組合物溶液。
此比較例發現,在該配方中添加PMMA(CM207,CM211),則顯像後表面效果不佳,不易均勻塗佈油墨。進一步分別檢測,得到非曝光區顯像處理後失重為0.1 g/m2
,低於容許範圍內(<0.4 g/m2),曝光區顯像後殘留1.6 g/m2
,高於容許範圍(<0.05 g/m2
)。並將上述塗有熱敏組合物之基版浸泡於50%異丙醇水溶液中1小時後,檢測感光層保留約為1.7 g/m2
,具有耐溶劑特性。
(無元件符號說明)
Claims (12)
- 一種熱敏組合物,其包括:(a)酚醛樹脂;(b)溶解抑制劑,其係選自由含氮化合物、羰基化合物、茂鐵鎓化合物、馬來酐衍生物及其混合所構成之群組;(c)具紅外輻射吸收性化合物;及(d)耐溶劑性添加劑,其包含乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸纖維素、硝基纖維素、氯醋樹脂或其混合物。
- 如請求項1之組合物,其中該酚醛樹脂係為線性酚醛樹脂。
- 如請求項1之組合物,其中該含氮化合物包含第四化氮化合物、含氮雜環化合物或第四化雜環族環氮化合物。
- 如請求項3之組合物,其中該第四化氮化合物為三芳基甲銨化合物。
- 如請求項3之組合物,其中該含氮雜環化合物為喹啉或三唑。
- 如請求項3之組合物,其中該第四化雜環族環氮化合物為咪唑啉鎓化合物、吡鎓化合物、喹啉鎓化合物或苯并噻唑鎓化合物。
- 如請求項1之組合物,其中該馬來酐衍生物為馬來酸半酯;苯乙烯與馬來酸之共聚合物、苯乙烯與馬來酐之共聚合物、苯乙烯與馬來酸半酯之共聚合物、丙烯酸與馬來酐之共聚合物、甲基乙烯基醚與馬來酐之共聚合物; 或其混合物。
- 如申請專利範圍第1項之組合物,其中:成份(a)為50~99重量%;(b)為0.1~45重量%;(c)為0.5~10重量%;及(d)為1~40重量%,以整體組合物之100重量%固成份重量計。
- 如請求項1之組合物,其中該耐溶劑性添加劑包含乙酸丁酸纖維素。
- 一種製造圖像之方法,包括下列步驟:(i)將如請求項1-9中任一項之組合物塗佈於基版上形成成像層;(ii)使該成像層之成像區曝露於一近紅外輻射之能源下,使其形成一曝露的潛像;(iii)使該成像區與顯影劑接觸,以將該成像層之該曝露區選擇地從該基版去除;(iv)於基版上塗佈潤版液;及(v)塗佈油墨進行平版印刷。
- 如申請專利範圍第10項之方法,其中該基版係鋁版。
- 如申請專利範圍第10項之方法,其中該近紅外輻射為紅外雷射光束。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW100123263A TWI434888B (zh) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | 熱敏組合物及其用途 |
| CN201210020785XA CN102591149A (zh) | 2011-06-30 | 2012-01-18 | 热敏组合物和其用途 |
| CN201410141297.3A CN103926792B (zh) | 2011-06-30 | 2012-01-18 | 热敏组合物和其用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW100123263A TWI434888B (zh) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | 熱敏組合物及其用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201300453A TW201300453A (zh) | 2013-01-01 |
| TWI434888B true TWI434888B (zh) | 2014-04-21 |
Family
ID=46480011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW100123263A TWI434888B (zh) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | 熱敏組合物及其用途 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (2) | CN102591149A (zh) |
| TW (1) | TWI434888B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108227377A (zh) * | 2016-12-14 | 2018-06-29 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 一种阳图热敏感光组合物及其应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001305722A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| US20030008229A1 (en) * | 2001-06-25 | 2003-01-09 | Prakash Seth | Thermally sensitive coating compositions useful for lithographic elements |
| US20060019194A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Prakash Seth | Thermally sensitive coating compositions useful for lithographic elements |
| US7247418B2 (en) * | 2005-12-01 | 2007-07-24 | Eastman Kodak Company | Imageable members with improved chemical resistance |
| US7338745B2 (en) * | 2006-01-23 | 2008-03-04 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element with improved chemical resistance |
-
2011
- 2011-06-30 TW TW100123263A patent/TWI434888B/zh active
-
2012
- 2012-01-18 CN CN201210020785XA patent/CN102591149A/zh active Pending
- 2012-01-18 CN CN201410141297.3A patent/CN103926792B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102591149A (zh) | 2012-07-18 |
| TW201300453A (zh) | 2013-01-01 |
| CN103926792B (zh) | 2018-07-06 |
| CN103926792A (zh) | 2014-07-16 |
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