TWI379778B - - Google Patents
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- TWI379778B TWI379778B TW99127629A TW99127629A TWI379778B TW I379778 B TWI379778 B TW I379778B TW 99127629 A TW99127629 A TW 99127629A TW 99127629 A TW99127629 A TW 99127629A TW I379778 B TWI379778 B TW I379778B
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Description
1379778 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種超霧面轉印膜及其製造方法,特別是一種 獲得霧面效果的超霧面轉印膜及其製造方法。 【先前技術】 隨著行動電話與筆記型電腦之普及,民眾對於行動電話之外 殼及筆記型電腦之外殼的要求也日益提高,例如需具有多彩光滑 面之外殼,以在外型及顏色上展現時尚及特殊美感。隨著塗裝技 術的演進’模内裝飾(In-MoldDecoration,IMD)是目前國際風行的 表面裝飾技術。顯裝飾主要應餘家電產品的表面裝飾及功能 性面板’或是用在手機視窗鏡片及外殼、洗衣機控制台、冰箱控 制台、空調㈣台、汽車儀表盤及電她制台多種領域的面板: 標誌等外觀物件上。 ε 以IMD領域中的模内轉印(In_M〇ld R〇Uer,職)為例,多半 是運用於行動電話及筆記魏腦之歧印是·案印刷 在薄膜上’再通過送膜機將膜片與塑模型腔貼合以進行注塑注 塑後有圖案的油墨層與薄膜分離,油墨層留在塑件上而得到表面 有裝飾圖案的塑件。模内轉印的優勢在於生產時的自動化程度高 和大批量生產的成本較低。 習知技術的模内轉印膜包含一膜片、一離形層、一硬塗層細d ΓΓ至少—油墨層以及—黏著層。其中,離形層位於膜片盘硬 後功用在於當模内轉印膜經由射出成型與塑材貼合 後,可藉由離形層將膜片撕除。 當產品的殼體需要產生霧面效果時,f用的做法係在模内轉 印膜内的_狀材_添加_消光粉。t抑藉轉形層盘硬 塗層分離時,可使硬塗層具有微小凹坑,以達霧面的效果/、 然而’由於離形層内部的消光粉無法達到均勾的分佈狀態, 所以此種習賴_印獅的霧面絲離生的絲度⑹㈣最 小不低於25%綺單修bssunit,叫意即習知模轉印技 術的霧面效果姐,縣輯到完衫反細雜面效果,因而 相對侷限了產品殼體的外觀呈現之選擇。 【發明内容】 馨於以上的問題’本發明在於提供—種超霧面轉印膜及直制 造方法,藉轉決先前技術所存在模_印技術的霧面效果= 的問題。 v 本發明所揭露-實施例之超霧面轉印膜,其包含—膜片、 霧化膠、-脫卿以及—硬塗層。霧化膠塗佈於膜片上,霧 化夥表面具有多個微細且彼此連接之隆突結構及凹陷結構。脫 膜劑填入於咬些凹陷結構内,這些凹陷結構藉由脫膜劑與這些 隆突結構在霧化膠表面形成一微粒霧面。另外,硬塗厚覆2 霧化膠且複製微粒霧面之表面結構,令硬塗層對應微粒霧面而 形成-外觀霧面,使得外觀霧面具有微細的凹凸紋路 到霧面的效果。 運 本發明所揭露―實施例之超霧面前膜的製造方法,其步 驟為、’塗佈-霧轉於-膜片上,霧化縣面具有多個微細且 彼此連接之隆突結構及凹陷結構。接著填人一脫膜劑於這些凹 硬塗層複製微粒霧面之表面硬塗層於霧化膠表面,並令 :糊之超霧面轉印二上具有由― 時,便一 數個凹陷結構,於凹陷結_脫’此_Km表面具有複 舆於__=:===化膠 共同形成的外觀霧面相密合,因此務,膜劑所 技轉___添加消光粉所達到霧面的 技術手&,其光澤度無法小於 提供聽綠果诈本發狀域面轉印膜所 法所製成的產品外觀=:::_明之製造方 詳細==物、細触,祕_最佳實施例 【實施方式】 「兹^同第1八圖」至「第1q」,並一併請參照「第2圖」, 「笛H不為根據本發明一實施例之超霧面轉印膜的結構剖 =二=」係為根據「第1A圖」之超霧面轉印膜之局部 於脫模i的結第^ =之超霧面轉印膜 超霧面轉_的製造方法和絲縣伽—實施例之 1379778 如圖所示,本發明一實施例之超霧面轉印膜1〇,係用於模内. 轉印(In-Mold Roller,IMR)製成,其包含一膜片1〇〇、一霧化膠 110、一脫膜劑130以及-硬塗層140。此外,超霧面轉印膜1〇 更可以包含一油墨層160以及一黏著劑180。也就是說,本發明一 實施例之超霧面轉印膜10係由膜片100、霧化膠11〇、脫膜劑13〇、 硬塗層140、油墨層160以及黏著劑ι8〇依序堆疊形成。 其中,黏著劑180與使用模内轉印製程中的塑材2〇相結合, 意即超霧面轉印膜10藉由黏著劑18〇而與產品的塑料結合。脫膜 劑no的功用在於當超霧面轉印膜1〇經由射出成型與塑材貼 合後,可藉由脫膜劑130使膜片100連同霧化膠11()撕離硬塗層 140。意即,當產品於模内轉印製程中進行脫膜時硬塗層^卯會 藉由脫膜劑130與霧化膠110分離(如「第lc圖」所示),而硬^ 層140即為產品的外觀表面。此外,油墨層⑽可提供產品外觀 的圖案及顏色。 接著’將針對超霧面轉印膜1〇内的各單元之結構與超霧面轉 印膜ίο的製造方法作詳細說明。請繼續參照「第1Α圖」、「第ιβ 圖」及「第2圖」。首先’提供膜片1〇〇(步驟sl〇〇)。其中膜片1〇〇 的結構特徵為-平面薄臈’且膜片酣料於實際運用上可以 疋&乙稀對本一曱酸知(PolyethyleneTerephthalate,PET)、聚碳酸 酯(Polycarbonate ’ PC)、三醋酸纖維素(cdlul〇se Triacetate ,TAC)、 壓克力(Acryhc)以及環狀烯烴聚合物(Cyclic 〇lefin p〇lymers, COC) ’但不以此為限。 接著,塗佈霧化膠110於膜片1〇〇上霧化穋表面具有 ^79778 % 多個微細且彼此連接之隨結構119及凹陷結構⑴(步驟s_。 本實施例之霧化膠no具有相對的—第—側面113及—第二側面 叫’霧化膠110以第一側面113設置於膜片觸上。隆突結構ιΐ9 ,凹^構111位於第二側面114上。其中霧化膠⑽的材質 可以是環氧樹脂(Epoxy Resin)·混合矽顆粒(Silic〇n G_,但不以此 為限。並且,霧化膠11〇可以網版印刷的方式設置於膜片】⑻上, =不以此為限。由於霧化膠11Q的材f内包含有賴粒因此當 霧化勝110形成於膜片100上時,會於第二側面114上產生凹凸 不平的紋路’即第二侧面114上的複數個相連接的隆突結構ιΐ9 及凹陷結構111 (如「第1B圖」所示)。 印參照「第1B圖」’其中第一側面113至隆突結構119具有 一凸面距離118’而第-侧面113至凹陷結構m具有—凹面距離 U6。然而,凹陷結構lu與窿突結構119之間具有一凹陷深度 112’此凹陷深度112即為凸面距離118與凹面距離116的距離差。 接者,左入脫膜劑130於這些凹陷結構in内,並令脫膜劑13〇 的脫模厚度132小於凹陷深度m的三分之一,並與霧化膠11〇 共同形成微粒霧面134(步驟S120)。 接者,可添加顏料至硬塗層140的材料内(步驟si3〇),並覆 蓋硬塗層140於霧化膠11〇的第二側面114上,並令硬塗層14〇 貼合於微粒霧面134(步驟S140)。由於硬塗層140貼合於微粒霧面 134 ’因此便對應此微粒霧面134而形成一外觀霧面142。外觀霧 面142相鄰並密接微粒霧面134,且配合微粒霧面134的外形,外 觀霧面142也對應形成凹凸紋路’外觀霧面ία即為使用此超霧 轉I7膜10所疋成之產αΰ的表面外觀。由於外觀霧面⑷具有微 細凹凸紋路,使得產品的表面外觀具有霧面的效果。此外,硬塗 層140更具有一第三侧面145,第三側面145姆於外觀霧面⑷, 油墨層160與黏著劑180即可設置於第三側面145上。因此接下 來三形成油墨層16G於硬塗層14G上(步驟⑽)。最後可形成 黏著劑180於油墨層160上’令油墨層16〇夾置於黏著劑⑽與 硬塗層140之間(步驟S160)。 、本發月只施例之超務面轉印膜1〇,藉由上述霧化膠⑽、 脫膜劑130與硬塗層140的結構特徵搭配,使硬塗層14〇的外觀 霧面142之光澤度可以達到〇%~5%光澤單位(G1⑽融,则。 相f於習知技術所能達成的霧面效果,其光澤度無法低於25%光 澤單位’本發明一實施例之超霧面轉印膜1〇可提供更佳的霧面效 果,以使產品表面達到完全不反光的超霧面。 值得-提的是,本實施例中,由於霧化膠11〇為一具凹凸紋 路的面,因此與霧化膠110貼合的硬塗層M〇將不容易與其於脫 模時分離。當脫膜劑130填入凹陷結構U1内時,會形成一角度㊀, 角度Θ會大於90度角’此角度θ即為硬塗層14〇與霧化膠間 的脫模角。故,脫膜劑13〇的功用即在於使超霧面轉印膜1〇於脫 膜時,硬塗層140可更容易與霧化膠11〇分離。但是,若脫膜劑 130的脫模厚度132過厚’將使得凹陷結構1U被脫膜劑13〇所填 滿。如此會使硬塗層14〇的外觀霧面142其凹凸紋路較為平坦, 造成霧面效果不佳的現象發生。至於脫模厚度132該如何拿捏, 可參考以下表格,表格所示為針對不同脫模厚度132的條件下, 1379778 i際所測出硬塗層140的外觀霧面H2之光澤度比較。 樣本編號 凹陷深度112 (微米) 脫模厚度132 (微米) _外觀霧面142之光澤度 (光澤單位) 1 5 3.1 30.1% 2 5 2.3 26.4% 3 5 2 19.8% 4 5 1 1.8 15.6% 5 5 1.6 3.2% 6 5 1.5 2.9% 7 5 1.2 2.1% 由上表可知’當脫模厚度132為凹陷深度112的五分之三時, 外觀霧面142的光澤度效果不甚理想,但當脫模厚度132趨近於 凹陷深度112的三分之一以下時,外觀霧面ι42的光澤度將可降 至5%以下,以達到超霧面效果。並且,藉由少量的脫膜劑13〇之 δ又置’也可以確保霧化膠11〇與硬塗層14〇於脫模時可順利分離, 達到兩全其美的目的。 故,根據發明人所提供的實測報告,當脫膜劑130的脫模厚 度132小於霧化膠11〇 _陷深度112的三分之一時,本實施例 之超霧面轉印膜1G可以提供最佳_面效果。 另外值得一提的,本實施例之硬塗層140更可以添加-顏料, ,硬塗層14G具有顏色’並可取代油墨層設置顏料用以 提升硬塗層140於視覺上的霧面效果。 根據本發日骑揭露之超霧面轉顿及其製造方法,由於超霧 轉印膜的膜片上具有由樹脂混合石夕顆粒所製成的霧化膠,因此 9 1379778 當霧化谬形成於膜片上時,便會藉由霧化膠的發顆粒之作用而對 應形成具凹凸紋路的表面’此一凹凸紋路的表面具有複數個凹陷 結構’於凹陷結構内設置有脫膜劑,脫膜_以使霧化膠與硬塗 層於脫模時較易分開。由於硬塗層係與槪軸職劑所共同形 ^的外觀霧面相密合,因此硬塗層的外觀霧面便會對應此二外觀 霧面而成形凹凸紋路,進以達到霧面的效果。 、,且,本實施例之硬塗層更可添加色料,令硬塗層具有顏色, 以獲得更佳的霧面㈣效果。相較於習用超霧面轉印膜於脫膜劑 添加消光粉所達_面射段,其締度無法小於抓,而 本發明之超霧面轉印膜所提供的霧面效果,其光澤度可至 〇%-5%,以達到超霧面的效果,使得使用本 ς 成的產品外觀具有更多元的視覺呈現。 &方法所衣 —雖然本發明以前述之較隹實施例揭露如上,然其並非用以限 定本f明,任何熟f相像技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍 内,當可作些許之更動觸飾,因此本發明之專利保護範圍須視 本說明書所附之申請翻麵所界定者為準。 【圖式簡單說明】 第1A圖所不為根據本發明一實施例之超霧面轉印膜的結構 剖視圖。 第1Β圖係為根據第1Α圖之超霧面轉印膜之局部放大示意 圖。 第lc圖係為根據第1Α圖之超霧面轉印膜於脫模時的結構剖 視圖。 10
Claims (1)
- 七、申請專利範圍: 日替換頁 1. 一種超霧面轉印膜,其包含: 一臈片; ,務化膠’塗佈於該膜片上,該霧化膠表面具有多個微細 且彼此連接之隆突結構及凹陷結構; …-脫膜劑,填入於該些凹陷結構内,該些凹陷結構藉由該 脫_與該些隆突結構在該霧化膠表面形成一微粒霧面;曰以及 一硬塗層,覆蓋雌霧化敎複製該微粒霧面之表面結 構7該硬塗層對應該微粒霧面而形成一外觀霧面; 其中’該些凹陷結構與該些隆突結構之間分別具有一高 度’該脫膜劑具有-厚度,該脫膜劑之該厚度小於該高度之三 分,-’且該脫膜劑在該凹陷結構内形成有一脫膜角度。 2.如睛求項1所述之超霧面轉印膜,更包含—黏著劑及一油墨 層該黏著劑係没置於該硬塗層遠離該外觀霧面之另一側面, 該油墨層設置於該硬塗層與該黏著劑之間。 3·如请求項1所述之超細轉印膜,其中該外觀霧面的光澤度為 〇°/〇至 5%光澤單位(Gloss Unit,GU)。 4·如睛求項1所述之超霧面轉印膜,更包含至少—顏料,係填入 該硬ί層内。 5. —種超霧面轉印膜之製造方法,其步驟包含·· 塗佈一霧化膠於一膜片上,該霧化膠表面具有多個微細且 彼此連接之隆突結構及凹陷結構; 填入一脫膜劑於該些凹陷結構内,且以該隆突結構及該四 12 1379778 κ p _ -· . Ml年08月31曰替換頁 • 陷結構設定一高度,該脫膜劑小於該高度二,該些凹 4 陷結構藉由該脫膜劑與該些隆突結構在該霧化膠表面形成一微 4 ; 粒霧面;以及 %· 覆蓋一硬塗層於該霧化膠表面,並令該硬塗層複製該微粒 霧面之表面結構而形成一外觀霧面。 . 6·如請求項5所述之超霧面轉印膜之製造方法,其中更包括:塗 • 佈一黏著劑於該硬塗層遠離該外觀霧面之另一側面,該硬塗層 • 藉由該黏著劑係黏附在一物件上。 7, 如請求項6所述之超霧面轉印膜之製造方法,其中塗佈該黏著 劑於該硬塗層的步驟更包括:設置一油墨層於該黏著劑與該硬 塗層之間。 8. 如請求項5所述之超霧面轉印膜之製造方法,其中更包括:添 加一顏料至該硬塗層内。13
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW99127629A TW201208902A (en) | 2010-08-18 | 2010-08-18 | Ultra-matte transfer film and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
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TW99127629A TW201208902A (en) | 2010-08-18 | 2010-08-18 | Ultra-matte transfer film and manufacturing method thereof |
Publications (2)
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TW201208902A TW201208902A (en) | 2012-03-01 |
TWI379778B true TWI379778B (zh) | 2012-12-21 |
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TW (1) | TW201208902A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI581963B (zh) * | 2013-10-22 | 2017-05-11 | 福爾銘股份有限公司 | 複合式轉印膜 |
-
2010
- 2010-08-18 TW TW99127629A patent/TW201208902A/zh not_active IP Right Cessation
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TWI581963B (zh) * | 2013-10-22 | 2017-05-11 | 福爾銘股份有限公司 | 複合式轉印膜 |
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