TWI253647B - Optical storage medium and manufacturing method of reflecting layer thereof - Google Patents

Description

1253647 五、發明說明（1) ()、【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種光學儲存媒體及m 關於一種具有反射層之光學^衣泣方法，特別 予保存媒體及其製造方法。 (二）、【先前技術】

f年來，由於光學儲存媒體可以儲存 有可攜帶性、且能夠長久保存 里、貝枓、A 體來儲存資料已經是越來越普及==用光學儲存媒 的領域包括儲存影像、音其應用 目兩最常見的光學健存媒體包括CD ( c〇_

Disc ’ =位影音光碟（DVD，"e a + )，八、、，Q構大致相仿而數位影音光碟的資料儲存容量 退大於CD的資料儲存容量。以下 Γη 、 來昭m裕- 以下以CD為例說明其結構，請 Γ/、、、圖所不，一般而言，光學儲存媒體1通常包括三声材 二：第-層為形成有孔洞（pit)之基板u，第二層為曰金 ^例如D所形成之反射層13，而第三層為由樹脂 保瘦層15。需注意者’前述之光學儲存媒體係包 括可錄式光學儲存媒體，其係於基板u與反射層13之間形 成一層由有機染料（Dye )或金屬相變化材料所構成的記錄 層（圖中未顯示），此時基板丨丨係形成有預刻溝槽（ groove ) ° 在習知技術中，利用銀來構成反射層是一種使用相當 廣泛的技術。然而，由純銀所形成之反射層常因晶粒成^ 過大，且在經過高溫高濕的環境條件後，會產生相當程度

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而嚴重影響光學儲存媒 體在環境測試之後 多、發明說明（2) 的劣化現象，因 白勺燒錄訊號品質 因此，熟知技術者常以 如為銀、把、銅合金，以抑 力’以有效減低光學儲存媒 誤率。然而，若要由銀合金 射層的濺鍍製程中，使用合 造成製造成本的上升。 銀合金作為反射層的材料，例 制銀的晶粒成長及抗劣化能 體在％境測試後之燒錄資料錯 構成反射層，則必須在形成反 金材料的濺鍍靶材’如此將會

因此，如何能夠改良光學儲存媒體之反射層性質，以 有效提昇光學儲存媒體的品質，進而降低光學儲存媒體 環境測試後的劣化現象，實乃當前光學儲存媒體製造技 的重要課題之一。 (三）、【發明内容】 有鑑於上述課題，本發明之目的為提供一種能夠有效 提昇光學儲存媒體之品質的光學儲存媒體及其反射層製造 方法。

緣是，為達上述目的，依本發明之光學儲存媒體之反 射層製造方法包括以下步驟：將一光學記錄基板設置於一 反應室（chamber)中；將一包含氮氣之混合氣體注入反應 室中；濺鍍一濺鍍源於光學記錄基板上以形成一反射層， 其中激鑛源包括銀。 另外，本發明亦提供一種光學儲存媒體，包括一光學 記錄基板及一反射層。在本發明中，反射層係以濺鍍方式

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五、發明說明（3) 形成於光學記錄基 本發明之實施態樣 承上所述’因 造方法係於反應室 反射層時’能夠形 相比，本發明的含 長及抗劣化能力， 材料劣化現象。 板上，而反射層係 中，反射層係為一 依本發明之光學儲 中加入氮氣，所以 成含氮之銀反射層 氮之銀反射層能夠 進而降低光學儲存 由銀及氮所構成。在 含氮之銀反射層。 存媒體及其反射層製 在利用濺鍍製程形成 ;與習知的銀反射層 有效抑制銀的晶粒成 媒體在環境測試後的 (四）、【實施方式】 以下將參照相關圖式，說明依本發明較佳實施例之光 學儲存媒體及其反射層製造方法，其中相同的元件將以相 同的參照符號加以說明。 請參照圖2所示，依本發明較佳實施例之光學儲存媒體 2包括一基板21、一 §己錄層23、一反射層25、及一保護層 27。 ” … 在本實施例中，基板2 1之一側面上係形成有預刻溝槽 211 ; —般而言，熟知技術者係先製作與基板21相對應之一 母版（stamper )，並利用射出成型方式配合此母版形成基 板 21。 土 記錄層2 3係形成於基板2 1形成有預刻溝槽2 1 1之一側面 上。在本實施例中，記錄層23之材質可以是包括有機物， 如 phthalocyanine、或是含氮化合物（Azo compounds)， 而此有機物在經過雷射光的照射後，會因為雷射光聚焦所

第7頁 1253647 五、發明說明（4) 產生的南溫而產生結構的變化，以便寫入資料；另外，記 錄層23之材質亦可以是包括合金材料，如(je — Te、或是

Ag-In-Sb-Te，上述之合金材料在經過雷射光的照射後，會 因為雷射光聚焦所產生的兩溫而發生相變化，據此達成資 料的寫入。 反射層2 5係利用濺鍍製程形成於記錄層2 3上，如圖2所 示。在本實施例中，反射層2 5主要由一濺鍍材料（如銀） 所形成’且其係彳參雜有適當比例之氮。更詳細地說，反射 層2 5係由一濺鍍製程所形成，而濺鍍製程所使用的濺鍍源 為銀’並且在進行濺鍍製程的反應室中加入氮氣。 保護層2 7係形成於反射層2 5上。一般而言，保護層2 7 通常由樹脂所形成，而其背向反射層25之一侧面上通常印 刷有適當的圖案，例如產品說a月等。 需注意者，基板21及記錄層23係構成前文定義之光學 記錄基板，其可以構成習知的CD —R/RW等光學儲存媒體。另 外’依本實施例之光學儲存媒體更可以是雙層結構之一 R/RW或DVD + R/RW的其中一層。 此外，在本發明另一較佳實施例中，構成前文定義之 光學記錄基板者僅一層基板，而此基板上係形成有複數個 孔洞；在本實施例中，反射層係形成於基板上，而保護芦 係形成於反射層上，其中反射層係為一含氮之銀反射層: ，注意者，依本實施例之光學記錄基板可以構成習知二⑶ 等光學儲存媒體。另外，依本實施例之光學儲存媒體更可 以是雙層結構之DVD的其中一層。 "

第8頁 1253647 五、發明說明（5) 為使本發明之内容更容易 說明依本發明較佳實施例之二以下將舉一實例，以 法的流程。 Λ㈣之^儲存媒體之反射層製造方 請參照圖3所示，依本於明▲ 之及射厣制、生士、+ 丰毛月較佳實施例之光學儲存媒體 之反射層製造方法包括步驟3〇1〜 一氺庳3。首先，步驟301係將 尤学e己錄基板設置於一及庵仝 々俾A T、，η 、 反應至中。在本實施例中，光學 二=:::的CD、CD-R/RW、_、_-，或 n d r儲存媒體之部分結構；光學記錄基板通常 ^ ^ ^ 丞槪右為寫入式或可複寫式的光 学儲存媒體之部分结禮，則主 曰+ ~ ^ a I刀、、口構則為一具有預刻溝槽之基板及一 吕己錄層。 接著，在步驟302中，一混合氣體係被注入反應室中。 在本實施例中’混合氣㈣由氮氣及―惰性氣冑（例如為 虱軋）所構成，且其混和氣體之氮氣含量約為15%以下。 最後，步驟303係進行一濺鍍製程，其係濺鍍一濺鍍源 於步驟301所設置的光學記錄基板上，以便於光學記錄基板 上形成一反射層。在本實施例中，本步驟所使用的濺鍍源 為銀，而濺鍍氣體含有氮氣，因此，所形成的反射層為一 含氮之銀反射層。需注意者，在步驟3〇2中，氮氣與氬氣可 以分別由獨立的管線輸入反應室中，所以熟知技術者可以 藉由氮氣與氩氣的獨立流量控制，產生適當比率之氣體預 混效果，進而控制步驟3 0 3所形成之反射層的含氮量；其 中’較佳之混和氣體含氮比率為1 5 %以下。另外，在步驟 3 0 2中，氮氣與氬氣亦可以依一定比例預先混合，然後再經

1253647 五、發明說明（6) 由單一管線輸入反應至中。 承上所述，依據不同實施態樣之光學儲存媒體，步驟 303所形成之反射層係形成於具有孔洞的基板上，或是形成 於記錄層上。另外，在形成反射層之後，更可以在反射層 上形成一保護層。 綜上 製造方法 形成反射 昇光學儲 試後的劣 射層製造 金，所以 以上 本發明之 應包含於 所述’ 係於濺 層時， 存媒體 化現象 方法不 可以有 所述僅 精神與 後附之 由於依 鍍氣體 能夠形 的品質 。另外 需使用 效降低 為舉例 範_， 申請專 /十、，奴π <尤 中添加氮氣 成含氮之銀 ，進而降低 ’依本發明 昂貴之合金 錢鍛乾材成 性，而非為 而對其進行 利範圍中。 ，所以 反射層 光學儲 之光學 靶材濺 〇 限制性 之等效 媒體及 在利用 ’其能 存媒體 儲存媒 鍍以形 者。任 修改或 其反射層 濺鍍製程 夠有效提 在環境測 體及其反 成銀合 何未脫離 變更，均

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1253647 圖式簡單說明 (五）、【圖式簡單說明】 圖1為一示意圖，顯示習知之光學儲存媒體的示意圖； 圖2為一示意圖，顯示依本發明較佳實施例之光學儲存 媒體的示意圖；以及 圖3為一流程圖，顯示依本發明較佳實施例之光學儲存 媒體之反射層製造方法的流程。 元件符號說明： 1 光學儲存媒體 11 基板 13 反射層 15 保護層 2 光學儲存媒體 21 基板 211 預刻溝槽 2 3 記錄層 25 反射層 27 保護層 30 1 -30 3 光學儲存媒體之反射層製造方法的步驟

Claims (1)

1253647 六、申請專利範圍 1、 一種光學儲存媒體之反射層製造方法，包含： 將一光學記錄基板設置於一反應室（chamber)中； 將一混合氣體注入該反應室中，該混合氣體包含氮氣；以 及 濺鍍一濺鍍源於該光學記錄基板上以形成一反射層，其中 該濺鍍源包含銀。 2、 如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該反射層為一含氮之銀反射層。 # 3、 如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該混合氣體含氮量為1 5 %以下。 4、 如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該混合氣體之各氣體係分別注入該反應室後 混合。 5、 如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該混合氣體之各氣體係預先混合後再注入該 反應室。 6、 如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該光學記錄基板包含一基板，該反射層係形 成於該基板上。

第12頁 1253647 —-----------— 六、申請專利範圍 7、如申請專利範圍第1項所述之光學儲存媒體之反射層製 造方法，其中該光學記錄基板包含一基板及一記錄層，該 記錄層係形成於該基板上，該反射層係形成於該記錄層 上〇 δ、一種光學儲存媒體，包含： 一光學記錄基板；以及 一反射層，其係以濺鍍方式形成於該光學記錄基板上，該 反射層包含銀及氣。 9、 如申請專利範圍第8項所述之光學儲存媒體，其中該光 學兄錄基板包含一基板，該反射層係形成於該基板上。 10、 如申請專利範圍第8項所述之光學儲存媒體，其中該光 學兄錄基板包含一基板及一記錄層，該記錄層係形成於該 基板上’該反射層係形成於該記錄層上。 11、 如申請專利範圍第8項所述之光學儲存媒體，更包含： 一保護層，其係形成於該反射層上。

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