[go: up one dir, main page]

TWD221941S - 反射器 - Google Patents

反射器 Download PDF

Info

Publication number
TWD221941S
TWD221941S TW110304817D01F TW110304817D01F TWD221941S TW D221941 S TWD221941 S TW D221941S TW 110304817D01 F TW110304817D01 F TW 110304817D01F TW 110304817D01 F TW110304817D01 F TW 110304817D01F TW D221941 S TWD221941 S TW D221941S
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
reflector
design
inner edge
article
edge reflector
Prior art date
Application number
TW110304817D01F
Other languages
English (en)
Inventor
原口貴史
Original Assignee
日商紐富來科技股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商紐富來科技股份有限公司 filed Critical 日商紐富來科技股份有限公司
Publication of TWD221941S publication Critical patent/TWD221941S/zh

Links

Images

Abstract

【物品用途】;本設計物品是一種應用於在晶圓表面上塗布上磊晶膜的半導體製造設備中的反射器。本設計物品用以反射加熱器的熱。本設計物品的加熱器包括碟狀的內緣反射器以及由兩個半環形構件組成的外緣反射器,外緣反射器內側的內周與內緣反射器的外周分別形成有兩個凹陷部,且這些凹陷部排列在彼此分開的位置。;【設計說明】;仰視圖與俯視圖相對稱,故省略仰視圖。

Description

反射器
本設計物品是一種應用於在晶圓表面上塗布上磊晶膜的半導體製造設備中的反射器。本設計物品用以反射加熱器的熱。本設計物品的加熱器包括碟狀的內緣反射器以及由兩個半環形構件組成的外緣反射器,外緣反射器內側的內周與內緣反射器的外周分別形成有兩個凹陷部,且這些凹陷部排列在彼此分開的位置。
仰視圖與俯視圖相對稱,故省略仰視圖。
TW110304817D01F 2021-08-18 2021-10-26 反射器 TWD221941S (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-017778 2021-08-18
JP2021017778F JP1704966S (ja) 2021-08-18 2021-08-18 リフレクタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWD221941S true TWD221941S (zh) 2022-11-11

Family

ID=80217242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW110304817D01F TWD221941S (zh) 2021-08-18 2021-10-26 反射器

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP1704966S (zh)
TW (1) TWD221941S (zh)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWD208205S (zh) 2019-05-24 2020-11-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氣體流道板

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWD208205S (zh) 2019-05-24 2020-11-11 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 氣體流道板

Also Published As

Publication number Publication date
JP1704966S (ja) 2022-01-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWD212933S (zh) 用於處理腔室基板支撐件的基底板
TWD217686S (zh) 用於半導體處理腔室的沉積環
TWD229386S (zh) 冷風扇
TWD214316S (zh) 基板處理腔室的內部護罩
TWD211363S (zh) 基板載具
TWD209383S (zh) 體溫貼片
TWD211589S (zh) 基板支撐底座
TWD209201S (zh) 製造半導體裝置用的膜片
TWD203027S (zh) 基座
TWD212866S (zh) 可替換基板載具接面膜
TWD209151S (zh) 基座軸
TWD228948S (zh) 基座
TWD221941S (zh) 反射器
TWD220657S (zh) 反射器
TWD220762S (zh) 加熱燈泡
TWD217045S (zh) 基座支撐部
TWD139857S (zh) 半導體晶圓研磨裝置用彈性膜
TWD223493S (zh) 容器
TWD228949S (zh) 基座
TWD222704S (zh) 加熱燈泡之部分
TWD216088S (zh) 接觸栓塞
TWD223130S (zh) 微小構造體和薄化晶圓處理用載體基板
JP1741426S (ja) ボトムリング
TWD224524S (zh) 一組容器
JP1767333S (ja) ディッシュ