TWD221941S - 反射器 - Google Patents
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【物品用途】;本設計物品是一種應用於在晶圓表面上塗布上磊晶膜的半導體製造設備中的反射器。本設計物品用以反射加熱器的熱。本設計物品的加熱器包括碟狀的內緣反射器以及由兩個半環形構件組成的外緣反射器,外緣反射器內側的內周與內緣反射器的外周分別形成有兩個凹陷部,且這些凹陷部排列在彼此分開的位置。;【設計說明】;仰視圖與俯視圖相對稱,故省略仰視圖。
Description
本設計物品是一種應用於在晶圓表面上塗布上磊晶膜的半導體製造設備中的反射器。本設計物品用以反射加熱器的熱。本設計物品的加熱器包括碟狀的內緣反射器以及由兩個半環形構件組成的外緣反射器,外緣反射器內側的內周與內緣反射器的外周分別形成有兩個凹陷部,且這些凹陷部排列在彼此分開的位置。
仰視圖與俯視圖相對稱,故省略仰視圖。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2021-017778 | 2021-08-18 | ||
JP2021017778F JP1704966S (ja) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | リフレクタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWD221941S true TWD221941S (zh) | 2022-11-11 |
Family
ID=80217242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW110304817D01F TWD221941S (zh) | 2021-08-18 | 2021-10-26 | 反射器 |
Country Status (2)
Country | Link |
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JP (1) | JP1704966S (zh) |
TW (1) | TWD221941S (zh) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWD208205S (zh) | 2019-05-24 | 2020-11-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體流道板 |
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2021
- 2021-08-18 JP JP2021017778F patent/JP1704966S/ja active Active
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TWD208205S (zh) | 2019-05-24 | 2020-11-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體流道板 |
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JP1704966S (ja) | 2022-01-14 |
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