TW527674B - Die bonder and/or wire bonder with a device for holding down a substrate - Google Patents

Description

527674 五、發明說明（1) 本發明係關於一種具備用於握住在申請專利範圍第 1項的條文中所指出之該種基板之裝置的晶粒接合機 和/或打線接合機。 當半導體晶片藉由所謂的晶粒接合機放置在基板上 時，則在運送方向和/或橫過運送的方向上，基板在 支撐面上循環周期性運送一預定的距離，使得半導體 晶片可以被放置在預定位置上。對於本申請人在市場 上所賣之晶粒接合機，該基板係位在具有鑽孔之嚴謹 排列的平板上，其中該鑽孔可以連接到真空源，用以 吸住並握住該基板。爲了處理具有以行和列排列之用 以接受半導體晶片的晶片島之所謂的矩陣基板，只具 有一個鑽孔之握持裝置幾乎不太適合。當放置半導體 晶片時，晶片島必須輪流運送到嚴謹排列的鑽孔上。 在如此執行時，在矩陣基板的下方會發生不想要的擦 痕。 當矩陣基板的移動必須與運送方向成垂直時，則晶 粒接合機也知道要號位在具有幾個與矩陣基板一起移 動之鑽孔的平板上之矩陣基板。對於具有彼此分隔之 晶片島的已切割矩陣基板，平板必須針對各種基板製 造適合晶片島的幾何之鑽孔。 本發明之目的係要發展一種適用於不同型式和幾何 之基板的握持裝置。 本發明係由申請專利範圍第1項所給定之特徵組 527674 五、發明說明（2) 成。有利的構想則出現在附屬的申請專利範圍。 根據本發明之裝置具有一用以握住基板之平台。此 平台包含一可以應用真空之連接點和可在與基板運送 方向成垂直的方向上行進之鑽孔。就機械上而言，其 可以規劃那一個鑽孔可以連接到真空連接點，而那一 個鑽孔不連接到真空連接點。 對於第一實施例，鑽孔係開在被連接到平台中的真 空連接點之金屬薄片覆蓋的凹槽之上。藉由以針尖刺 入金屬薄片，其中針尖係被推入個別選擇的鑽孔之中 ，有可以可以人工決定那一個鑽孔與凹槽相接，因此 ，當將真空應用到凹槽時，就會導引真空。該凹槽結 合可移動裝配在平台中之拉回器，使得金屬薄片可以 很容易地改變。 對於第二實施例，平台的下表面具有幾個，但至少 有兩個，不同長度之連接到真空連接點之空腔。平台 容納一可以在不同位置啣接之可移動式拉回器。拉回 器面對平台下表面的這一側含有形成通道的空腔，其 中通道連接在具有個別鑽孔的平台中之真空導引空腔 。這些通道的數量取決於拉回器的實際啣接位置。在 拉回器的位置1，只出現一個通道，在拉回器的位置 2，出現一個通道’以此類推。在此情形下，藉由移動 拉回器的位置，就有可能改變導引真空之最外面的鑽 孔之間的距離。 527674 五、 發明說明 (4) 的 晶片島4 ，也 可以很 確實地握住。對於示於第1圖 之 特定的矩 陣基 板 3， 在接合處理期間導引真空之鑽 孔 1被塗成 ρπτ μ u 黒點 而沒 有導引真空之其他的鑽孔1則 畫 成空心圓 。因 此 ，導 引真空的凹槽7則以斜線網表 示 〇 對於具有 之晶 片 島4 在運送方向5的長度小於8mm 之 示於第2 圖的 第 二版 適用矩陣基板，鑽孔1在線6 的 兩側斜對 角變 換 。鑽 孔1的直徑典型等於〇.8mm。 鑽 孔1係有 尺寸 上 的排 列，所以面積只有2mmx2mm 之 晶片島 4 至少 要 完全 覆蓋一個單一鑽孔1。 就這兩個 版本 而 言， 鑽孔1在機械上是可規劃的。 ”機械上可規劃” —* i 詞意 思是：藉由機械上的調整握裝 置 ，在放置 處理 的 開始 ，可以決定在握持裝置面對平 台 2的支撐 表面 這 一邊 之鑽孔1，那一個可以應用真 空 ，那一個 沒有 庳 J/IU、 用真 空。此種機械規劃之方式現在 根 據下面的 範例 作 更詳 細的說明。 範 例1 第3圖爲 沿著 第 1圖 的線6之握持裝置的橫截面圖 〇 平台2具 有-- 結 合在 操作時會連接到真空源之凹槽 9 的底部之; 泣回: 器 8。此外，拉回器8的底部有3個凸 輪 1 0(第4圖）。 金 屬薄 片11插入拉回器8之中，因此 凸 輪1 0啣接進入作在金屬薄片1 1中之對應的孔洞。 對 於金屬薄 片， 例 如， 最好使用由Vink AG公司所賣 -6- 527674 五、發明說明（5 ) 的一種名爲VIKUNYL的硬式PVC金屬薄片。平台2 的鑽孔1開在凹槽9的區域中之金屬薄片u之上。當 爲了新型的基板要重新調整晶粒接合機時，拉出拉回 器8，插入拉回器8之金屬薄片11會被一個塗有真空 油的新金屬薄片1 1取代，然後將拉回器8推回進入平 台2。在此情形下’若將真空應用到凹槽9，則金屬薄 片1 1會防止鑽孔1導引真空。因此，那些必須導引真 空之鑽孔1係以機械性規劃，其中以人工引入針1 2穿 入金屬薄片1 1。針1 2不用要有傳統的圓錐尖頂，但 是要有可以保證被穿入的金屬薄片11不會再封閉的單 側傾斜的尖頂。在此情形下，若應用真空到凹槽9， 則已被針1 2穿入鑽孔1就可以導引真空。 第4圖爲具有一些被針穿入之孔洞13之拉回器8和 插入的金屬薄片11的平面圖。被金屬薄片1蓋住之凹 槽9以虛線圖示。 範例 2 參考第5圖和第6圖說明之本範例並不適用於矩陣 基板，而是適用於沒有分割之基板，例如B G A⑧基板 。示於第5圖之平台2，在下表面上具有一些但至少 有2個不同長度之連接到連續凹槽1 9之空腔2 0 . 1到 2 0 · 6。在本範例中，空腔2 0 · 1 gij 2 0 · 6的數目總共6。 與第一實施例相較，就是針對拉回器8。示於第6圖 之拉回器8具有一有6個空腔22.1到22.6之表面21 527674 五、發明說明（6) 。空腔22.1到22.6具有一個面對凹槽19之側臂，和 2或3個面對鑽孔1的側臂。在插入之前，先應用真 空油至該表面21。拉回器8的表面21係放在平台2 的下表面之上，因此凹槽19形成一可以應用真空之通 道。真空油可以確保通道和空腔20.1到20.6及空腔 2 2 · 1到2 2.6對外界氣密。 爲了預定在拉回器8上啣接用以啣接平台2之鋸齒 狀刻紋2 3，拉回器8可以啣接在平台2中之6個不同 的位置1到6。在位置1，拉回器8的空腔2 2 · 1之側 臂與平台2的空腔20.1重疊。但是，在位置1，拉回 器8的其他5個空腔2 2.2到2 2 · 6之側臂沒有和平台2 的空腔20.1到20.6重疊。空腔22.1具有3個與3個 鑽孔1重疊之側臂，所以，在拉回器8的位置1，這3 個鑽孔1會導引真空，而所有其他的鑽孔1則不會導 引真空。在位置2，空腔22 · 1的一個側臂繼續與空腔 2 0 . 1重疊。此外，拉回器8的空腔2 2.2之一個側臂會 與平台2的空腔20 ·2重疊。因爲腔腔22.2面對鑽孔1 有2個側臂（第5圖），所以在拉回器8的位置2，已有 5個鑽孔1可以導引真空，而其餘的鑽孔1還是沒有 導引真空。在拉回器8的位置3，有3個拉回器8的 空腔與平台2重疊，在位置4有4個空腔，在位置5 有5個空腔，而在位置6有6個空腔，所以導引真空 之鑽孔1的數目會隨著位置數的增加而持續增加。此 527674

五、發明說明（7) 引真空的鑽孔1之區域可以很快地且容易地配合不同 寬度的基板。 當形成拉回器8時，所以藉由旋轉180。，本發明 之優點是一邊可以根據範例1使用，而另一邊則可以 根據範例2使用。 本發明之實施例和應用已圖式和說明，顯而易見 的，具有揭露多於上述之修正例利益之技術中的那些 技巧，可能並沒有脫離本發明此處之觀念。 符號之說明 1 鑽孔 2 平台 3 基板 4 晶片島 5 運送方向 6 線 7 凹槽 8 拉回器 9 凹槽 10 凸輪 11 金屬薄片 12 針 13 孔洞 19 凹槽 20.1 到 20.6 空腔 2 1 表面 22.1 到 20.6 空腔

Claims (1)

1. 527674 六、申請專利範圍 1. 一種具備用於握住基板之裝置的晶粒接合機和/或打 線接合機，其中用以握住基板之裝置包含具有會應用真 空之鑽孔（1)的平台（2)，其特徵爲：平台（2)之下表面至 少具有2個不同長度之會應用真空之空腔（20.1 ...20.6) ，可移動式拉回器（8)在面對平台（2)之下表面的表面（21) 具有空腔（22.1 ...22.6)，其中，在拉回器（8)之中之空腔 (22.1··. 22· 6)包含面對平台（2)之空腔（20.1··· 20.6)的側臂 ，和至少一個面對鑽孔（1)之側臂，拉回器（8)可以在不 同的位置啣接平台（2)，因此在拉回器（8)的不同位置， 拉回器（8)的空腔（22.1 ...22.6)和平台（2)的空腔 (20.1... 20.6)重疊的數目不同。 2·如申請專利範圍第1項之晶粒接合機和/或打線接合機 ’其中在平台（2)之下表面中的該至少2個空腔（20.1.... 2〇·6)係以凹槽（19)而相接。 3.如申請專利範圍第丨項之晶粒接合機和/或打線接合機 ’其中該拉回器（8)的另一邊具有一可以由金屬薄片（11) 覆蓋且會應用真空之凹槽（9)，而且該拉回器（8)可以以 反向位置插入該平台（2)，其中該金屬薄片（11)係放置在 該平台（2)的下表面之上。 4 ·如申請專利範圍第2項之晶粒接合機和/或打線接合機 ’其中該拉回器（8)的另一邊具有一可以由金屬薄片（11) 覆蓋且會應用真空之凹槽（9)，而且該拉回器（8)可以以 反向位置插入該平台（2)，其中該金屬薄片（11)係放置在 該平台（2)的下表面之上。 -10-