TW478032B - Method and device for laser plotting, hologram master and the manufacturing method thereof - Google Patents

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4(78032 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明（1 ) 發明所屬之技術領域 本發明係關於被使用於半導體製造或全息圖像製造等 之各種微細加工處理之雷射描繪技術。又，本發明係關於 再生彩色3次元圖像用之原版全息圖像及其製造技術。 習知技術 圖2 3係顯示習知之李普曼（Liprnan )型全息圖像之 原理圖。李普曼型全息圖像也被稱爲體積全息圖像，爲在 記錄材料之內側在厚度方向記錄干涉紋者。李普曼型全息 圖像利用其之顏色選擇性、角度選擇性優異之性質，在立 體圖像記錄以外，控制通過全息圖像內部之光之相位，可 以進行使特定之顏色之光通過、反射之控制、或使透過之 光聚焦於任意之方向，反射由特定之方向進入之光等之控 制，也可以當成具有濾色器或透鏡機能之光學元件使用。 如同圖所示般地，將被攝物之蘋果與相片乾板6 0取 得適當距離載置。由氣體雷射3 6被照射之光束通過光閘 3 5後，以物鏡3 3被聚光，以平行光管透鏡3 1成爲平 行光束。之後，在半透明鏡6 6被分歧，一方照射蘋果 8 1 ，其之反射光當成信號波6 3到達相片乾板6 0。另 一方以反射鏡6 1反射，當成參考波6 4到達相片乾板 6 0° 相片乾板6 0之記錄材料層係由氣體雷射3 6被照射 之光束波長之數十倍之厚度。同圖所示之光學系之情形， 參考波6 4與信號波6 3係由相反方向入射之故，干涉紋 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

ΜΜ · ΗΜ SHI · w MB W aa·· a··» IBBIB W W W IMB M·! a··· w MW MB -4- 478032 A7 __ B7 五、發明說明（2 ) 接近與相片乾板6 0表面平行，繞射效率高，可以獲得具 有顯著之波長選擇性之全息圖像。 在以光蝕法製造此立體（relief )型全息圖像上，需要 經過光罩製造工程、曝光工程、顯像工程、以及蝕刻工程 等。在光罩製造工程中，使用圖2 2所示之XY工作盤式 雷射描繪裝置。於同圖中，被處理構件1 1 0 4係成爲雷 射描繪處理之對向之光阻，以指定之厚度被塗佈在玻璃基 板上。 在XY工作盤式雷射描繪裝置中，一邊驅動正交之2 個之滑動器1 102、1 103，使被載置於XY工作盤 1 1 0 1上之被處理構件1 1 0 4在X方向以及Y方向移 動’ 一邊使雷射光1 1 2透過電氣光學調製器1 0 3以及 音響光學調製器1 0 2，進而在反射鏡1 0 4使之反射， 在物鏡1 0 5聚光，於被處理構件1 1 0 4上形成雷射光 點，描繪形成光罩用之指定之圖案。 通常，光罩之各像素係採用透明或不透明之2種等級 。如將全息圖像之深度假定爲8個等級，由於8 = 2 3，至 少需要3個之光阻之組合。在曝光工程中，在塗佈光阻之 石英基板密接在上述之光罩製造工程所獲得之光罩，由其 上曝光。光罩在3個之情形，改變光源之光量進行3次曝 光。 之後，如進行顯像，各像素之高度因應3次之曝光量 而變深。接著，將光阻當成光罩，蝕刻石英基板，在石英 基板複製光阻之圖案，獲得原版全息圖像。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· — 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 478032 A7 B7 五、發明說明（3 ) 但是，於上述之光罩製造工程中，在以XY工作盤式 雷射描繪裝置描繪圖案之情形，像素數變多，X γ方向之 滑動器之移動次數、加減速次數增加，產生描繪時間變長 之不良情形。 又’在塗滿圖案內部之情形，反復運動變多，在以高 速描繪之情形，在對線性馬達施以相當之負擔之同時，由 於XY工作盤之加減速時之反作用，本身成爲振動要因， 位置精度、速度精度降低。 又’在特開昭5 9 - 1 7 1 1 1 9號雖然揭示由光碟 之旋轉與光學系之直線運動高速進行圖案化之技術，但是 關於提升描繪位置精度或描繪圖案之解析度用之手法，皆 未有任何揭不。 又，在特開平1 0 - 1 1 8 1 4號中，雖然揭示將以 X - Y座標系被表現之原畫資料轉換爲R 一 0座標系，以 表示所希望之文字等之表示圖案之形成方法，但是關於高 精度而且短時間描繪在深度方向具有微細灰階之圖案之技 術，並未被揭示。 又，複數之光罩之製造成爲必要，或於曝光工程中， 光罩之張數份之對位、曝光成爲必要，製造時間、成本也 皆變大。 又，於圖2 3所示之李普曼型全息圖像中，信號波 6 3與參考波6 4需要干涉，自然光或螢光燈等之一般的 照明並不適用爲光源。因此，被攝體需要配置於遮斷自然 光之暗室內，自然光下之建築物並不適用爲被攝體。而且 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I i^i ϋ ϋ ϋ ϋ 一-o, a I ϋ I ί ·ϋ ϋ I I I ϋ ϋ I ί ι ϋ ϋ ^1 ϋ Μ·ϋ ϋ n I ϋ n -6 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478032 Α7 ____________________ Β7 五、發明說明（4 ) ，雷射光需要照明被攝體全體之故，大的物體並不適用爲 被攝體。 進而，在 T，Yatagi，et al.，Appl.〇pt.，28，1 042- 1 043(7989) 中，雖然揭示藉由轉盤之旋轉與滑動器之直線運動之控制 系統之組合，二元等級C G Η之製造技術，但是關於具有 複數之相位値之多等級C G . Η之製作技術，皆未有任何揭 示。 發明之槪要 本發明係有鑑於上述問題點而完成者，其課題在於提 供：高精度而且短時間描繪在深度方向具有微細灰階之圖 案之雷射描繪裝置、及雷射描繪方向。 又，本發明之其它課題在於：不受限於蘋果等之小物 體，容易製作以建築物等之大物體爲被攝體之李普曼型全 息圖像。 解決上述課題之本發明之雷射描繪裝置係包含：被處 理構件被載置，使該構件旋轉用之轉盤，以及直線之滑動 器，以及成爲光源之雷射光，以及被搭載於滑動器，於基 板聚光雷射光，形成雷射光點用之光學系，以及使雷射光 點之光強度變化用之光調製器，藉由轉盤一邊使被處理構 件旋轉，而且一邊使被搭載於滑動器之光學系移動，在被 處理構件上以指定之圖案進行雷射描繪。 藉由如此構成，一邊使被處理構件旋轉，一邊時雷身寸 光點直線移動，可以高精度而且短時間描繪在深度方向具 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) • ^...« - π ·ϋ ϋ ammmm emmf l a·— j 9 i i·— an n mmtm I mmmme ϋ KmMam 11 —ϋ ϋ —Bi l i ϋ in i^i 1__§ n —HI ϋ·- ϋ · 言 矣 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478032 B7____ 五、發明說明（5) 有微細灰階之圖案。 於上述之構成中，最好更具備由包含：使產生取得轉 盤之旋轉速與光調製器之控制信號之同步用之基準信號之 振盪器，以及記錄因應光調製器之控制信號之輸出値之數 位資料用之記憶裝置，以及將上述數位資料轉換爲類比信 號用之轉換器而構成之格式器。 藉由如此構成，將曝光量資料預先記憶於記憶裝置， 逐次讀出該曝光量資料，將其轉換爲類比資料，一邊取得 與轉盤之旋轉之同步，可以一邊進行雷射光束之調製。 本發明之雷射描繪裝置係具備：被處理構件被載置， 使該構件旋轉用之轉盤，以及直線之滑動器，以及成爲光 源之雷射光，以及被搭載於滑動器，在前述處理構件聚光 雷射光，形成雷射光點用之光學系，以及一邊使由轉盤之 旋轉中心起之半徑以及旋轉角度逐次變化，一邊產生取樣 座標之取樣座標產生手段，以及產生對應表示在取樣座標 位置之狀態之特定之物理量之取樣資訊之取樣資訊產生手 段，以及由取樣資訊控制前述雷射光點之曝光量用之曝光 量控制手段。 藉由此種構成，各取樣點之雷射光點之曝光量在曝光 處理中以即時運算之故，變成不需要預先將曝光量資料記 憶在記憶裝置。 本發明之原版全息圖像係再生被分解爲彩色3次元圖 像之每一顏色成份之圖像用之複數之全息圖像領域被配置 於同一基板上。上述顏色成份例如爲紅色、綠色、以及藍 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-8- >8032 A7 B7 五、發明說明（6 ) 色。藉由將以上述之原版全息圖像爲基礎被再生之圖像複 製於全息圖像用記錄媒體，可以製作全息圖像。 實施發明用之最好形態 以下，參考各圖，說明本發明之實施形態。 發明之實施形態1 圖1係顯示雷射描繪裝置之構成。於同圖中，由氣體 雷射或固體雷射被射出之雷射光112透過去除雷射雜訊 用之電氣光學調製器1 0 3以及因應描繪圖案透過率變化 之音響光學調製器1 0 2。之後，雷射光1 1 2在反射鏡 101、 104反射，以物鏡105被聚光，成爲雷射光 點，照射被形成在玻璃原盤1 0 8之表面之光阻層1 1 1 。藉由此光之作用，在光阻層1 1 1形成潛像，描繪圖案 〇 通常，雷射光點之光強度愈高，潛像被形成得更深。 盤1 0 6隨著時間之經過在滑動器1 0 7之上於r方向， 即由玻璃原盤1 0 8之內周朝向外周移動。又，玻璃原盤 1 0 8真空吸附於轉盤1 〇 9 ，獲得主軸馬達1 1 0之驅 動力而旋轉。藉由此動作’如圖2所示般地’照射光阻層 1 1 1之雷射光點之軌跡2 0 2成爲螺旋狀（渦卷狀）。 將此軌跡之一周份稱爲磁軌。雷射光點曝光全息圖像區域 2 0 1 內。 又，描繪動作中之主軸馬達1 1 〇之旋轉控制方式雖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ϋ 1 ϋ 一501 0 mMtm .^1 ϋ I ϋ ϋ 1 I _1 ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ -ϋ ϋ H ϋ ϋ I ϋ I ϋ ^1 ^1 ϋ ^1 ϋ ϋ ^1 ϋ _ 1032 1032

A7 B7 五、發明說明（7) 然並未被限定，但是設爲旋轉數經常一定（角速度一定） 而控制者。在此情形，雷射光點掃描光阻層1 1 1之速度 係比例於雷射光點與旋轉中心點之距離（半徑）而變快。 爲了在玻璃原盤1 0 8獲得均勻之曝光量，雷射光點有必 要比例於掃描速度使雷射光點之強度變高。進行此控制者 爲電氣光學調製器1 0 3，具有因應半徑使雷射光1 1 2 之透過光強度變化之機能。 此處，考慮在全息圖像區域2 0 1描繪如圖4所示之 圖案之情形。構成圖案之像素4 0 4係以由旋轉中心點 4 0 1往直徑方向延伸之複數之線4 0 2與圓弧4 0 3而 被區分。全息圖像區域2 0 1內之各像素之剖面線密度表 示深度，愈濃表示愈深。被塗佈於玻璃原盤1 0 8之光阻 在正型之情形，顯像時被曝光之部份溶解而形成凹形狀， 此深度在曝光量一變多，便會變深。 因此，對於濃度濃的像素，曝光量變多，對於濃度淡 的像素，曝光量變少地控制電氣光學調製器1 0 3。形成 於各像素之點可以以1脈衝之雷射照射形成，在雷射光點 直徑對於像素爲比較小之情形，也可以以複數之脈衝之雷 射照射形成。 電氣光學調製器1 0 3 —般係因應被輸入光調製器驅 動器之控制信號而被驅動。圖3係對此光調製器驅動器供 給控制信號之格式器之機能方塊圖。此格式器與主軸馬達 同步，以高精度之時機對光調製器驅動器供給因應各像素 之深度之電壓位準。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

ϋ I 1 ϋ H ϋ ϋ 一-0、· ϋ n ϋ ϋ 1 ϋ ϋ I I I ϋ ϋ I .1 ϋ ^1 ^1 ϋ .1 ϋ I

A7R7 五、發明說明（8) 藉由水晶振盪器3 0 1被供給之時脈信號在分頻器 3 0 2被分頻，分頻後之時脈信號之頻率成爲串列信號產 生器3 0 7之基準頻率f r。進而基準頻率f r之時脈信 號在分頻器3 0 3被分頻，成爲控制主軸馬達之旋轉數用 之基準信號，被供給於主軸馬達驅動器。 另一方面，對應各像素之曝光量之値（資料）依被曝 光之順序被記錄於硬碟3 0 4。這些資料藉由介面控制器 3 0 5被轉送於F I F〇（First In First Out )記憶體 3 0 6。此處，對應連續之複數像素之曝光量之數位資料 被並列轉送。將此並列信號在串列信號產生器3 0 7分割 爲1個像素所必要之位元數份，與基準信號f r同步，以 時間系列轉送於D / A轉換器3 0 8。在D / A轉換器 3 0 8中，轉換爲對應被輸入之數位信號之電壓位準之類 比信號，供給於光調製器驅動器。 如此，在構成全息圖像區域2 0 1之各像素進行指定 之曝光量之曝光，藉由顯像，在光阻層1 1 1形成立體狀 之圖案。將光阻層1 1 1當成光罩，蝕刻玻璃原盤1 〇 8 ，可以將光阻層1 1 1之圖案複製於玻璃原盤1 〇 8。藉 由此，可以獲得原版全息圖像。 以上，如依據敘述之本實施形態，可以高精度而且短 時間描繪在深度方向具有微細灰階之圖案。此處，雖舉出 原版全息圖像之製造例，在加工於深度方向具有微細灰階 之圖案之情形有效。 接著，說明利用以圖1說明之雷射描繪裝置，提高雷 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I -------訂----- -----^ — -----------^--- -11 - 478032 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（9) 射曝光之情形的雷射光點之深度之精度之方法。如圖5所 示般地，通常之雷射描繪裝置之雷射光點之光束外形I ( X )係如曲線5 0 1。雷射強度爲零之最小之圓被稱爲愛 里圓盤（Aky disk ) ’其之半徑w係以雷射波長與光學系 之孔徑數而決定。愛里圓盤之定義詳細記載於光學槪論Π (辭內順平著：朝倉書店）地7 6頁。 以此種雷射光點瞬間曝光光阻，要形成1個之像素之 情形，係形成與光束外形同樣之形狀之光阻圖案。理想上 期望在各像素之區域內深度均勻之故，雷射光點之光束外 形被期望爲矩形。但是，在使雷射光點直徑與雷射波長爲 相同等級之情形，矩形之光束外形原理上爲不可能。 因此，在雷射描繪之際，圖1所示之轉盤1 〇 9在一 旋轉之間，使盤1 0 6前進之距離，即軌距p與雷射光點 之愛里圓盤之半徑w相等，在圖2所示之全息圖像區域 2 0 1內，可以獲得理想之曝光分布。參考圖6 ，在以下 說明此原理。於同圖中，標號6 0 1 、6 0 2係被照射於 光阻之雷射光點之光束外形，6 0 3係被照射於光阻之總 和之曝光量分布，6 0 4係顯像處理後之光阻之深度分布 ，6 0 5係作爲光阻之目標之深度分布。 於同圖中，被照射於磁軌t η上之雷射光點具有光束 外形6 0 1 ，被照射於與此相鄰之磁軌t η + 1上之雷射 光點具有光束外形6 0 2。這些光束外形6 0 1、6 0 2 爲了簡化說明，使光束外形5 0 1爲近似三角形狀。 使軌距ρ與愛里圓盤半徑w爲相等之故，在光束外形 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·. 訂---- 線丨--- -12- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478032 Α7 _ Β7 五、發明說明（10) 6 0 1之峰値之位置，光束外形6 0 2成爲零之故，在磁 軌t η中心之曝光量不受到鄰接磁軌t η + 1之光束外形 6 0 2之影響。因此，被照射於光阻之直徑方向之總和之 曝光量分布可以由連結個個之光束外形之頂點而獲得，成 爲如以標號6 0 3所示之曲線。 如顯像處理此光阻，光阻圖案之深度分布成爲標號 604之樣子，幾乎可以實現目標之深度分布605。但 是，在各像素之邊界上，深度緩慢變化，與施加所謂之低 通濾波器爲等效。由此，磁軌之空間頻率（1 / ρ )被期 望比在深度分布6 0 4所必要之空間頻帶還大。 如以上說明般地，藉由使軌距ρ與雷射光點之愛里圓 盤半徑w同等，應形成之光阻圖案之深度與藉由雷射光點 之曝光量爲一對一對應之故，曝光控制變得容易，在深度 方向可以實現精度良好之加工處理。 發明之實施形態2 本實施形態之雷射描繪裝置係具備圖1所示之構成。 在說明本實施形態之雷射描繪方法之前，參考圖1 1 ，說 明在玻璃原盤1 0 8之描繪區域4 0 5上描繪之圖案之座 標系。描繪區域4 0 5係以玻璃原盤1 0 8之旋轉中心點 4 0 1爲中心之2個圓弧與通過旋轉中心點4 0 1之2個 直線所包圍之區域。在表示描繪點之位置上，係使用以旋 轉中心點4 0 1爲基準之2個之座標系。一個爲直角座標 系（X Υ座標系），以旋轉中心點4 0 1爲原點，在通過 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 A7 ___ —_B7____ .說明（11) 开夕成描繪W域4 0 5之圓弧之中點與旋轉中心點4 〇 1之 直線上設定Y軸。另一個爲極座標系（r 0座標系），r 係旋轉中心點4 0 1與描繪點之距離，旋轉角0係通過描 繪點與旋轉中心點4 〇 1之直線與X軸所形成之角度。 圖7係雷射描繪裝置之控制系統之方塊圖。於同圖中 ’由水晶振盪器7 〇 1被輸出之一定頻率之信號在分頻器 7 0 2被分頻’成爲d/A轉換器7 0 5決定驅動時機之 基準信號。D / A轉換器7 〇 5以此基準信號之時機由 F I F 0記憶體7 〇 4逐次讀出數位信號，轉換爲以此爲 準之電壓之類比信號，當成音響光學調製器1 〇 2之控制 信號，輸出於音響光學調製器驅動器。D / A轉換器 7 0 5之位元數雖然並無特別限定，但是在本實施形態中 ’設爲8位元。此基準信號在分頻器7 0 3更被分頻，被 供給於控制主軸馬達1 1 〇之旋轉數之主軸馬達驅動器。 如此’藉由以共通之基準信號控制音響光學調製器1 〇 2 與主軸馬達驅動器，完全之同步成爲可能，可以提高描繪 位置精度。 F I F〇記憶體7 0 4在記憶體內之資料殘留量一少 於全容量之一半，將中斷信號7 1 0輸出於取樣座標產生 例程7 0 6。此處，設F I F〇記憶體7 0 4之全容量之 一半爲S I Z E字節。取樣座標產生例程7 0 6 —接收中 斷信號7 1 0，產生s I Z E字節份之曝光量資料。在本 實施形態中，設D / A轉換器7 0 5之位元數爲8位元之 故’曝光量資料藉由D/A轉換器7 0 5被轉換爲2 5 6 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) mp.-------訂----- —線---------------------- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -14- 478032 A7 __B7 五、發明說明（12) 灰階之光強度調製信號，背書出於音響光學調製器驅動器 〇 圖8係顯示取樣座標產生例程7 0 6之處理步驟。於 同圖中，變數m在本處理步驟中，係計數應求取曝光量資 料之取樣座標之個數用之變數。各取樣座標之曝光量資料 係8位元之故，使本處理步驟成爲S I Z E (次），即m =S I ZE爲止，重複實行步驟S 1 〇 1〜步驟S 1 1 4 ，產生S I Z E字節份之曝光量資料。 又，r 〇係描繪開始半徑，r i係第i號之磁軌半徑 。△ r係鄰接磁軌之間隔，相當於（r i + 1 - r i )。 0 0係各磁軌中，最初之取樣點之旋轉角，0 j係第]號 之取樣點之旋轉角。△ Θ係鄰接取樣點之旋轉角之差，相 當於（0 j + 1 -Θ j )。又，i與j係取零或自然數之値 之靜變數，採用0 S 1 < M r 、0 S j < Μ Θ之範圍。i 與j在描繪處理前，分別被初期化爲Ο，描繪處理中，保 持個別之値。 一對取樣座標產生例程7 0 6供給中斷信號，變數m 之値被初期化爲0 (步驟S 1 Ο 1 )。接著，變數m之値 與S I Z E之値被比較，在m < S I Z E之情形（步驟 S 1 0 2 ； Y E S )，於 ri 代入 ro+ixz\r 之値， 於0 j代入Θ 0 + j X △ 0之値（步驟s 1 〇 3 )。此處 ，個別之i與j係在中斷信號被供給於取樣座標產生例程 7 0 6之前被保持之値。接著，於x代入r i X c 〇 s Θ j之値，於Y代入r i x s i η 0 j之値，進行由極座標 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -------訂---------Aw 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -15- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478032 A7 B7 五、發明說明（13) 系轉換爲直角座標系之座標（步驟s 1 〇 4 )。 接著，呼叫取樣資訊產生副例程7 0 8，產生比例於 光阻之潛像之深度之資料（以下，稱爲深度資料）（步驟 S 1 0 5 )。如圖9所示般地，於取樣資訊產生副例程 7 0 8中，首先，判斷被轉換爲直角座標系之取樣點是否 位於描繪區域4 0 5內（步驟S 2 0 1 )。取樣點（X， y )在描繪區域4 0 5內之情形（步驟S 2 0 1 Y E S )，由函數f ( X，y )取得深度資料，將此代入變數d 。函數f ( X，y )係藉由運算以求得各取樣點之深度資 料用之函數。 如此，深度資料之資料量即使全體而成爲巨大之容量 ，由於係在描繪處理中’以運算求得深度資料之構成之故 ，沒有必要將深度資料預先儲存於記憶裝置（例如，外部 記憶裝置），可以簡化雷射描繪裝置之構成。假如，深度 資料之運算花時間，也可以將深度資料預先儲存於記憶體 709，在描繪處理中，一邊參考其一邊描繪而構成。另 一方面，取樣點不在描繪區域4 0 5內之情形（步驟 S 2 0 1 ； N 0 )，於變數d代入’〇’（步驟S2 0 4)。 而且，輸出變數d之値（步驟S203)。 接著，呼叫曝光量轉換副例程4 0 7，進行曝光量轉 換（步驟S 1 0 6 )。通常，在使用正型光阻之情形’被 形成之潛像藉由顯像處理被溶解，在光阻表面形成因應潛 像之深度之深度的凹形狀。潛像之深度依存於曝光量之故 ，被形成在光阻表面之凹形狀之深度成爲依存於曝光量。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線1----- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -16- 478032 A7 B7 五、發明說明（Η) 圖1 0係顯示光阻深度與曝光量之關係。標號7 0係顯示 對於光阻深度之曝光量之感光特性曲線。在曝光量轉換畐ij 例程7 0 7中，利用感光特性曲線7 0由深度資料（變數 d之値）求得必要之曝光量資料，將其輸出於f I F〇 7 0 4 (步驟S 1 〇 7 )。曝光量轉換處理可以在記憶體 上，以表之形式預先記錄深度資料與曝光量資料，參考其 而構成，也可以由表示特性曲線之近似式算出而構成。 接著，使j之値只增加1 (步驟S 1 0 8 )，在j之 値與Μ 0之値不一致之情形（步驟s 1 〇 8 ; N〇），只 使m之値增加1(步驟S110)，返回步驟S102。 另一方面，在j之値與Μ Θ —致之情形（步驟S 1 0 8 ; YES) ’於j·代入0 (步驟S 1 1 1 )，只使i之値增 加1(步驟S112)。此處，在i之値不與Mr—致之 情形（步驟S 1 1 3 ; N〇），於I* i代入r 0 + i X △r之値（步驟S114)，進入步驟S110。另一方 面，在i之値與M r —致之情形（步驟s 1 1 3 ; Y E S )，終了描繪。 如以上敘述般地，在本實施形態之雷射描繪裝置中， 準備各式各樣之種類的取樣資訊產生副例程，可以描繪多 種多樣之圖案。又，可以高速使轉盤1 〇 9 —邊旋轉一邊 描繪之故，與習知之X γ工作盤式之雷射描繪裝置比較， 可以高速而且高精度描繪任意之圖案。 又，於上述之說明中，雖然顯示以音響光學調製器 1 0 2調製雷射光1 1 2，但是在雷射光源也可以使用半 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ϋ ϋ I ϋ n ί 一^J n n ·1 n ϋ 1__1 ϋ I I 1 n n ϋ ϋ ϋ I ϋ I I I I n ϋ I I I I ϋ ϋ ϋ ϋ - -17- 4/8032 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（15) _ II雷射。在此情形，半導體雷射本身可以做光調製之故 ’不需要音響光學調製器1 0 2。 胃著’說明描繪圖案以週期的基本圖案之重複而構成 之^青形的描繪方法。說明在玻璃原盤1 0 8之描繪區域 4 〇 5形成如圖1 2所示之光阻之格子狀之圖案之情形。 方令同圖中’以直線8 0 2所代表之通過玻璃原盤1 〇 8之 方定轉中心點4 0 1之直線以及以磁軌8 0 3所代表之磁軌 之交點（例如，以標號8 0 0、標號8 0 1所示之交點） 成爲取樣點。 格子狀之圖案顯示週期性，將其基本圖案顯示於圖 1 3 °此處’稱此格子狀之圖案之一週期爲單元9 〇〇。 單元9 0 〇內之座標可以以相對座標（X r ，y r )表示 ° Px係X r軸方向之週期，Py係y r軸方向之週期。 單元9 0 0具有2種之區域，以標號8 0 4所示之區域係 不曝光’殘留光阻之區域，稱爲單元框。以標號8 〇 5所 示之區域係曝光形成凹形狀用之區域，稱爲單元內部。 描繪此種週期之基本圖案之際之基本的方法與上述$ 法相同，只有取樣資訊產生副例程7 0 8不同。圖1 4係 描繪此種週期之基本圖案之際之取樣資訊產生副例程 7 0 8之處理流程。於同一副例程中，首先，取樣點（χ ，y )位於描繪區域4 0 5內之情形（步驟S 3 0 1 ; YES)，將座標（χ，y )轉換爲相對座標（χ r ， y r )(步驟S302)。具體而言，將x以Ρχ所除之 餘數當成X r ，將y以P y所除之餘數當成y r。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·· 訂---- -線 --- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公釐） -18- 478032

五、發明說明（16) 接著’由函數f r ( X r ，y r )取得深度資料，將 其代入變數d (步驟S3〇3)。函數f r ，yr )係藉由運算取得各取樣點之深度資料用之函數。在求得 各取樣點之深度資料上，使用函數f r ( x r ，y r )之 手法之外’也可以預先將各取樣點之深度資料儲存於記億 體。另一方面’取樣點（x，y )在沒有位於描繪區域 4 0 5內之情形（步驟s 3 0 1 ; N〇），進入步驟 5 3 04。在步驟S 3 04中，輸出變數d之値。 如以上敘述般地，在描繪圖案以週期之基本圖案之重 複構成之情形’設置如圖1 4所示之取樣資訊產生副例程 之故’以簡單之運算、少容量之記憶體可以高速產生資料 。又’基本圖案並不限定於格子狀，具有週期性之任意之 形狀皆可。又’此處，雖然說明具有單元框8 0 4與單元 內部8 0 5之2値之深度之圖案，3値以上之複雜之圖案 也可以形成。 又，藉由使磁軌間隔△ r變窄，或使△ β變小，可以 提局取樣密度，能夠描繪理想之圖案。在使△ 0變小上， 使轉盤1 0 9之旋轉數變慢，或提高分頻器2 0 2之輸出 信號之頻率與取樣資訊產生副例程2 0 8之處理速度即可 〇 但是，現實上，取樣密度之高密度化有其限度，在實 施所描繪之圖案上，於r方向產生△!·，於0方向產生△ Θ之描繪誤差。因此，在描繪圖案有週期性’具有y r方 向之週期P y之圖案之情形，藉由 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· — 線 I --- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -19- 478032 B7 五、發明說明（17) △ r = P y / η ，可以提升y r軸方向之實質的描繪精度。例如，在 圖1 2所示之格子狀圖案之情形，如只著眼於y r軸方向 ，可以以4磁軌描繪1單元。即，藉 Δ r = Ρ γ / 4 ，每4磁軌可以描繪單元框8 0 4，描繪精度提升。 又，在上述之說明中，雖然顯示於玻璃原盤1 0 8上 描繪1個之圖案，但是藉由玻璃原盤1 0 8 1旋轉之間4 次照射同一個之雷射脈衝列，如圖1 5所示般地，可以總 括描繪相同之圖案1〇Ola 、l〇〇lb、1001c 、以及1 0 0 1 d。又，因應必要，如照射不同之脈衝列 ，可以總括描繪不同之複數之圖案。此描繪時間可以與描 繪1個之圖案1 0 0 1 a之時間相等之故，可以縮短每一 個圖案之描繪時間。 發明之實施形態3 接著，說明本實施形態之原版全息圖像。 圖1 6係原版全息圖像之平面圖，圖1 8係原版全息 圖像之剖面圖。如圖1 6所示般地，原版全息圖像1 〇係 具備再生被分解爲彩色3次元圖像之顏色成份之圖像用之 複數之全息圖像區域1 1、1 2、以及1 3。全息圖像區 域1 1設爲再生紅色之圖像者，全息圖像區域1 2設爲再 生綠色之圖像者，全息圖像區域1 3設爲再生藍色之圖像 者。這些之各全息圖像區域係成爲扇形，其中心角爲 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I------訂---------線丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -20- 478032 A7 B7 五、發明說明（18) 12 0° 。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 如圖1 8所示般地，原版全息圖像1 〇係由被塗佈於 玻璃原盤1 0 8上之光阻1 1 1形成，光阻1 1 1係以深 度不同之多數的像素構成。像素可以藉由對光阻曝光雷射 光，將其顯像而獲得。又，藉由改變此時之曝光量，可以 調整像素之深度。如此具有凹凸形狀之全息圖像被稱爲立 體形全息圖像。圖中，標號1 1 3係深度d爲0之像素。 於再生原版全息圖像1 0上’如圖1 7所示般地’照 射對應各全息圖像區域1 1、1 2、以及1 3之顏色之雷 射光束2 0。透過各像素之光束產生分別對應深度之相位 差，形成再生圖像之波面。如考慮以深度〇之像素1 1 3 爲基準，接受調製之相位差Δ0 (rad)係成爲下式。 △ 2疋（1 (η — 1)/又 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此處，η係光阻1 1 1之折射率’ λ ( n m )係雷射 光束2 0之波長。如於全息圖像區域1 1照射紅色之雷射 光束2 0，雷射光束2 0在全息圖像區域1 1接受相位調 製，在透鏡2 1聚光’再生被攝體之蘿果2 2之紅色成份 之圖像。關於全息圖像區域1 2、1 3，也同樣地如照射 綠色、藍色之雷射光束2 0，綠色、藍色之圖像個別被再 生。 像素之深度d之最大値係再生紅色之圖像之區域1 1 ，△ 0爲2 7Γ之情形，如設紅色雷射光束2 0之波長爲 633nm、光阻111之折射率η爲1 · 6〇，由上式 ，d之最大値爲1 · 〇6#m。 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 478032

五、發明說明（19) 又，雖然藉由將光阻1 1 1形成爲立體狀，實現原版 全息圖像1 0，也可以在石英基板上形成立體狀之光阻 1 1 1 ，將此光阻1 1 1當成犧牲層而鈾刻之，在石英基 板複製光阻1 1 1之立體狀之圖案，以製造原版全息圖像 〇 又，也可以在光阻1 1 1之表面設置反射層，作成反 射型之全息圖像。 接著，參考圖1 9說明上述之原版全息圖像1 0之製 造方法。首先，由複數方向攝影被攝體（步驟S 4 0 1 ) ，利用計算機計算構成被攝體之各像素之深度資料，產生 3次元圖像之資料（步驟S 4 0 2 )。替代步驟S 4 0 1 、S 4 0 2利用電腦圖像技術產生架空之3次元圖像之資 料亦可。接著，將此3次元圖像分解爲紅色、綠色、以及 藍色之各成份之圖像，藉由分別進行F F T或繞射積分， 計算原版全息圖像1 0上之複數振幅分布（步驟S 4 0 3 )° 此處，藉由取用大的再生圖像與原版全息圖像面之距 離，振幅分布幾乎成爲一定，成爲如只著眼於相位分布即 可。此相位分布在被產生於直角座標（X Y座標）之情形 ，轉換爲極座標（r 0座標）。關於構成此相位分布之各 像素，使產生必要之相位差地計算深度，計算獲得該深度 所需要之必要的曝光量資料（步驟S 4 0 4 )。 另一方面，精密硏磨、洗淨玻璃原盤1 0 8 ，進行原 盤再生（步驟S405)。接著，在玻璃原盤108表面 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 I ϋ ϋ ϋ 1 ϋ -ϋ-^-r<»J· — — — — — — — I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ n ϋ I I I νϋ ϋ ϋ -22- 478032 A7 B7_ 五、發明說明（20) 旋轉塗佈光阻（步驟S 4 0 6 )，曝光玻璃原盤1 0 8 ( 步驟S 4 0 7 )。 在玻璃原盤1 0 8之曝光處理中，使用圖1所示之雷 射描繪裝置。作爲光源使用之氣體雷射之波長以原版全息 圖像1 0之製作所必要之空間頻率，即分解能決定，在本 實施形態中，使用4 0 0 n m程度之紫色雷射。又，以依 據物鏡1 0 5之繞射界限聚光之情形的雷射光束之光點尺 寸如設孔徑數爲0 . 9 ，則成爲0 · 5 // m程度。由氣體 雷射所射出之雷射1 1 2在透過電氣光學調製器1 0 3後 ，透過音響光學調製器102。在步驟S404所產生之 曝光量資料被轉換爲各每一像素之電壓位準，作爲控制信 號依序被輸入電氣光學調製器1 0 3。 電氣光學調製器1 〇 3係利用音響光學元件之光彈性 效果者，因應被輸入之控制信號，可以調製雷射1 1 2。 透過音響光學調製器1 0 2之雷射1 1 2在反射鏡1 0 1 、104反射，以物鏡105被聚光，在步驟S405、 4 0 6被處理之玻璃原盤1 0 8上之光阻1 1 1上形成雷 射光點。玻璃原盤1 0 8吸附於轉盤1 〇 9 ’以主軸馬達 1 1 0獲得驅動力而旋轉。 盤1 0 6隨著時間經過，由玻璃原盤1 0 8之內周朝 向外周移動，曝光全息圖像區域。構成全息圖像區域之各 像素可以以1次旋轉以內之1脈衝之雷射照射形成，雷射 光點之尺寸對於像素在小之情形，也可以以複數旋轉內以 複數脈衝形成。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -------訂------- ---線 -------.---*--- 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -23- 478032 A7 B7 五、發明說明（21) 之後，藉由顯像玻璃原盤1 0 8，於光阻1 1 1形成 立體狀之原版全息圖像1 〇。被塗佈於玻璃原盤1 0 8之 光阻1 1 1在正型之情形’顯像時被曝光之部份溶解，形 成凹狀之圖案，此在曝光量愈大，變得愈深。因此，在要 使各像素之相位差更大之情形，有必要使被照射於像素之 曝光量之差變大。 如以上說明般地，如依據本實施形態，一邊使玻璃原 盤1 0 8旋轉，一邊使雷射光點在直徑方向直線地移動以 使之曝光，可以短時間進行曝光工程。 又，藉由計算機求得原版全息圖像1 〇之相位分布， 依據此資料，精密地製作原版全息圖像1 0，藉由於相片 乾板9 0複製再生圖像，不受被攝體之大小限制地，可以 容易量產李普曼型全息圖像1 0。 又，藉由使彩色3原色之全息圖像區域1 1、1 2以 及1 3形成於1個之圓盤上，在相片乾板6 0複製再生圖 像之工程中，原版全息圖像1 0之對位變得容易。 接著，參考圖2 0說明本實施形態之全息圖像之製造 方法。由白色雷射6 5被照射之雷射光束通過光閘3 5後 ，到達彩色濾色器3 4。彩色濾色器3 4形成爲圓盤形狀 ，在圓盤內具備紅色、綠色、以及藍色之3原色之彩色濾 色器。由白色雷射6 5被射出之雷射光束具有3原色之成 分，藉由使彩色濾色器3 4旋轉，可以切換透過其之雷射 光束之波長。 透過彩色濾、色器3 4之雷射光束以物鏡3 3被聚光， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 訂---------線 1·——— — Lilli -24 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 478032 B7 五、發明說明（22) 在半透明鏡分歧’ 一方到達反射鏡3 2，另一'方到達反身寸 鏡6 1。在反射鏡3 2反射之雷射光束以平行光管透鏡 3 2而成爲平行光束，到達原版全息圖像1 〇 ，空間地接 受相位調製，成爲形成被攝體之再生圖像之波面。原版全 息圖像1 0係藉由上述之製法而獲得者。透過原版全息圖 像1 0之雷射光束以透鏡2 1而放大圖像，當成信號波 6 3而到達相片乾板6 0。 一方面以反射鏡6 1反射之雷射光束在平行光管透鏡 6 2當成平行光之參考波6 4而到達相片乾板6 0。相片 乾板6 0之記錄材料層係具有波長之數十倍之厚度之體積 全息圖像，信號波6 3與參考波6 4之干涉紋以濃淡或折 射率之變化被記錄。 將此曝光操作藉由使彩色濾色器3 4、原版全息圖像 1 0旋轉，就紅色、綠色、以及藍色合計進行3次。3原 色成分之干涉紋被重疊記錄於相片乾板6 0。之後，因應 需要進行相片乾板6 0之顯像，完成全息圖像。於再生圖 像之情形，對於相片乾板6 0由與參考波6 4相同方向照 射自然光，被攝體之彩色3次元圖像會浮出。 接著，參考圖2 1說明本實施形態之顯示裝置。由白 色雷射3 6被照射之雷射光束透過光閘3 5後，到達彩色 濾色器3 4。彩色濾色器3 4成爲圓盤形狀，在圓盤內具 備紅色、綠色、以及藍色之3原色之彩色濾色器。由白色 雷射6 5被射出之雷射光束具有3原色之成分，藉由使彩 色濾色器3 4旋轉，可以切換透過其之雷射光樹枝波長。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I — — — — — — — 口，— — — — — — — I* I I — I I I I I奢— — — — — — — — 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -25- 478032 A7 - B7 五、發明說明（23) 透過彩色濾色器3 4之雷射光束在物鏡3 3被聚光後 ’在反射鏡3 2反射，以平行光管透鏡3 1成爲平行光束 ’到達原版全息圖像1 0。原版全息圖像1 〇係藉由上述 之製法而獲得者。 彩色濾色器3 4與原版全息圖像1 0係以相同旋轉旋 轉’由白色雷射3 6被照射之雷射光束在透過彩色濾色器 3 4之紅色之濾色器時，照射原版全息圖像1 〇之紅色之 全息圖像區域，在再生紅色之圖像地取得同步。關於綠色 與藍色之全息圖像區域，也同樣地再生綠色與藍色之圖像 地取得同步。 又，光閘3 5也與原版全息圖像1 0之旋轉同步開關 ’在原版全息圖像區域1 1、1 2、以及1 3到達適當之 位置時，光閘3 5打開地構成。如使原版全息圖像1 0之 旋轉數爲3 0轉/秒之程度，觀察者3 7由於光閘3 5之 開關之閃爍變不見，可以觀察彩色3次元圖像。 如此，藉由直接觀察原版全息圖像1 0之再生圖像， 可以獲得鮮明之3次元圖像。又，原版全息圖像1 〇之參 考波入射之方向被固定之故，沒有調整參考波之入射方向 之必要。 圖面之簡單說明 圖1係本發明之雷射描繪裝置之構成圖。 圖2係全息圖像區域之雷射描繪之說明匱I ° 圖3係本發明之雷射描繪裝置之格式器之機能方塊圖 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂-— 線 I --- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -26- 478032 A7 B7 五、發明說明（24) 〇 圖4係全息圖像區域之雷射描繪之說明圖。 圖5係雷射光點之光束外形圖。 圖6係光阻圖案之深度與曝光量分布之說明圖。 圖7係雷射描繪裝置之控制系統之方塊圖。 圖8係記述取樣座標產生例程之處理步驟之流程圖。. 圖9係記述取樣資訊產生例程之處理步驟之流程圖。 圖1 0係顯示光阻深度與曝光量之關係之曲線圖。 圖1 1係描繪區域之座標系之說明圖。 圖1 2係描繪圖案之說明圖。 圖1 3係基本圖案之說明圖。 圖1 4係記述取樣資訊產生副例程之處理步驟之流程 圖。 圖1 5係複數形成同一之描繪圖案時之說明圖。 圖1 6係本發明之原版全息圖像之平面圖。 圖1 7係使用本發明之原版全息圖像再生圖像時之說 明圖。 圖1 8係本發明之原版全息圖像之剖面圖。 圖1 9係記述本發明之原版全息圖像之製造工程之流 程圖。 圖2 0係利用本發明之原版全息圖像記錄全息圖像時 之說明圖。 圖2 1係利用本發明之原版全息圖像再生圖像之顯示 裝置之說明圖。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 •--------訂---------線 ι_!ίίΓ! -27- 478032 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（25) 圖2 2係習知之雷射描繪裝置之構成圖。 圖2 3係習知之李普曼型全息圖像之說明圖。 主要元件對照表 1〇 原版全息圖像 3 2 反射鏡 3 3 物鏡 3 4 彩色濾色器 3 5 光閘 3 6 氣體雷射 6〇 相片乾板 6 3 信號波 6 4 參考波 1 0 2 音響光學調製器 103 電氣光學調製器 104 反射鏡 1 0 5 物鏡 10 8 玻璃原盤 10 9 轉盤 110 主軸馬達 111 光阻 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丁 % 1 r · ϋ cl ϋ 1 ϋ ϋ ϋ I n I I I n ϋ ϋ Βϋ ϋ —ϋ ϋ ·ϋ ^1 ϋ ϋ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -28-

Claims (1)

1. 8032 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 第89 1 23230號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國90年6月修正 1 . 一種雷射描繪裝置，其特徵爲： 包含··被處理構件被載置，使該構件旋轉用之轉盤； 以及直線之滑動器；以及成爲光源之雷射光；以及被搭載 於前述滑動器’於前述基板聚光雷射光，形成雷射光點用 之光學系；以及使前述雷射光點之光強度變化用之光調製 器，藉由前述轉盤一邊使前述被處理構件旋轉，而且一邊 使被搭載於前述滑動器之光學系移動，在前述被處理構件 上以指定之圖案進行雷射描繪。 2 .如申請專利範圍第1項記載之雷射描繪裝置，其 中具備由包含：使產生取得前述轉盤之旋轉數與前述光調 製器之控制信號之同步用之基準信號之振盪器；以及記錄 因應前述光調製器之控制信號之輸出値之數位資料用之記 憶裝置；以及將前述數位資料轉換爲類比信號用之轉換器 而構成之格式器。 3 .如申請專利範圍第1項記載之雷射描繪裝置，其 中前述轉盤在1旋轉之間，前述光學系在滑動器上移動之 距離被設定爲與前述雷射光點之愛里圓盤之半徑相等。 4 . 一種雷射描繪方法，其特徵爲： 使被處理構件旋轉，而且使雷射光直線地移動，在前 述被處理構件上以指定之圖案進行雷射描繪。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ----L----i-----Aw--------訂---------線· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 03 78 ABCD il^l修補 0 月 /C,年 7 六、申請專利範圍 5 .如申請專利範圍第4項記載之雷射描繪方法，其 中使前述被處理構件載置於轉盤上使之旋轉，而且使被搭 載於直線之滑動器之光學系直線地移動’使雷射光沿著滑 動器之直線方向移動，藉由光調製器’一邊使雷射光之強 度變化，一邊在前述被處理構件上以指定之圖案進行雷射 描繪。 6 .如申請專利範圍第5項記載之雷射描繪方法，其 中依據藉由振盪器產生之基準信號，驅動前述轉盤之驅動 器，而且依據該基準信號，使記錄於記憶裝置之數位資料 轉換爲類比信號，供.給於前述光調製器，取得前述轉盤之 旋轉數與前述光調製器之控制信號之同步。 7 .如申請專利範圍第6項記載之雷射描繪方法，其 中前述轉盤在1旋轉之間，前述光學系在滑動器上移動之 距離被設定爲與前述雷射光點之愛里圓盤之半徑相等。 .8 . —種雷射描繪裝置，其特徵爲具備：_ 被處理構件被載置，使該構件旋轉用之轉盤；以及直 線之滑動器；以及成爲光源之雷射光；以及被搭載於前述 滑動器，在前述處理構件聚光雷射光，形賤雷射光點用之 光學系；以及一邊使由前述轉盤之旋轉中心起之半徑以及 旋轉角度逐次變化，一邊產生取樣座標之取樣座標產生手 段；以及產生對應於表示在前述取樣座標位置之狀態之特 定之物理量之取樣資訊之取樣資訊產生手段；以及由前述 取樣資訊控制前述雷射光點之曝光量用之曝光量控制手段 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) n ·ϋ n n n n tmm§ ^ ^ n m 1· _1 I— MB— n I · 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -2 - 478032 .，ί Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 9 · 一種雷射描繪裝置，其特徵爲具備： 被處理構件被載置，使該構件旋轉用之轉盤；以及直 線之滑動器；以及成爲光源之雷&光；以及被搭載於前述 滑動器，在前述處理構件聚光雷射光，形成雷射光點用之 光學系；以及一邊使由前述轉盤之旋轉中心起之半徑以及 « 旋轉角度逐次變化，一邊產生對應於表示在取樣座標位置 之狀態之特定之物理量之取樣資訊之取樣資訊產生手段； 以及依據前述被處理構件之感光特性曲線，由前述取樣資 訊轉換爲對應於變化爲前述物理量之狀態所需要之曝光量 之曝光量資訊用之曝.光量控制手段；以及依據該曝光量資 訊，控制前述雷射光點之曝光量用之曝光量控制手段。 1〇·如申請專利範圍第8項記載之雷射描繪裝置， 其中前述取樣資訊產生手段在描繪動作時，由前述取樣座 標藉由運算產生取樣資訊。 1 1 ·如申請專利範圍第8項記載之雷射描繪裝置， 其中取樣資訊產生手段在描繪圖案係以指定之基本圖案之 重複而構成之情形，包含：以相對座標系記憶構成前述基 本圖案之取樣資訊之記憶裝置；以及將前述取樣座標轉換 爲相對座標之相對座標轉換手段，以相對座標爲基準，由 前述記憶裝置讀取取樣資訊進行輸出。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項記載之雷射描繪裝置 ，其中使前述轉盤1旋轉之間之滑動器之進給量爲前述基 本圖案之整數分之1 ，描繪基本圖案。 1 3 ·如申請專利範圍第8項記載之雷射描繪裝置， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -3 - 478032 ABCD 正t修補 月 六、申請專利範圍 其中在前述被處理構件1旋轉之間，複數次照射同樣之雷 射脈衝列，於被處理構件複數形成相同之描繪圖案。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 4 . 一種雷射描繪方法，其特徵爲：使被處理構件 載置於轉盤上旋轉，而且使被搭載於直線之滑動器之光學 系移動，使雷射光沿著滑動器移動，一邊使由轉盤之旋轉 中心起之半徑以及旋轉角逐次變化，一邊產生取樣座標， 產生對應於表示在取樣座標位置之狀態之特定之物理量之 取樣資訊，由該取樣資訊使雷射光點之曝光量變化，在前 述被處理構件上以指定之圖案進行雷射描繪。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 5 · —種雷射描繪方法，其特徵爲：使被處理構件 載置於轉盤上旋轉，而且使被搭載於直線之滑動器之光學 系移動，使雷射光沿著滑動器移動，一邊使由轉盤之旋轉 中心起之半徑以及旋轉角逐次變化，一邊產生對應於表示 ’在取樣座標位置之狀態之特定之物理量之取樣資訊，依據 前述被處理構件之感光特性曲線，由前述取樣資訊轉換爲 對應於變化爲前述物理量之狀態所需要之曝光量之曝光量 資訊，由該曝光量資訊，控制前述雷射光點之曝光量，在 前述被處理構件上以指定之圖案進行雷射描繪。 1 6 ·如申請專利範圍第1 4項記載之雷射描繪方法 ，其中在描繪動作時，由前述取樣座標藉由運算產生取樣 資訊。 1 7 .如申請專利範圍第1 4項記載之雷射描繪方法 ，其中描繪圖案以指定之基本圖案之重複構成之情形，以 相對座標系將構成該基本圖案之.取樣資訊預先記憶於記憶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -4- 478032 ABCn 年 修補 月 六、申請專利範圍 裝置’將前述取樣座標轉換爲相對座標，以該相對座標爲 基礎，由前述記憶裝置讀取取樣資訊進行輸出。 1 8 ·如申請專利範圍第1 7項記載之雷射描繪方法 ’其中使前述轉盤1旋轉之間之滑動器之進給量爲前述基 本圖案之整數分之1 ，描繪基本圖案。 !· 9 ·如申請專利範圍第1 4項記載之雷射描繪方法 ，其中在前述被處理構件1旋轉之間，複數次照射同樣之 雷射脈衝列，於被處理構件複數形成相同之描繪圖案。 2〇· 一種原版全息圖像，其特徵爲： 再生被分解爲彩.色3次元圖像之每一顏色成分之圖像 用之複數之全息圖像區域被配置於同一基板上。 2 1 ·如申請專利範圍第2 0項記載之原版全息圖像 ，其中前述顏色成分爲紅色、綠色、以及藍色。 2 2 .如申請專利範圍第2 0項記載之原版全息圖像 ，其中前述基板爲圓盤。 2 3 .如申請專利範圍第2 0項記載之原版全息圖像 ，其中前述複數之全息圖像區域係被配置於圓周上。 2 4 ·如申請專利範圍第2 0項記載之原版全息圖像 ，其中前述基板之材質爲玻璃、石英、或金屬之中之其一 0 2 5 ·如申請專利範圍第2 0項記載之原版全息圖像 ，其中形狀、透過率、反射率、或折射率等之其一之光學 特性空間地變化之感光材料被形成於基板之表面上。 2 6 · —種原版全息圖像之製造方法，其特徵爲： 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) t 訂---------線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 478032 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 六、申請專利範圍 在基板上塗佈感光材料，曝光以及顯像處理 料，在前述感光材料形成再生被分解爲彩色3次 每一顏色成分之圖像用之複數之全息圖像區域。 2 7 ·如申請專利範圍第2 6項記載之原版 之製造方法，其中以前述感光材料爲犧牲層，藉 被形成於感光材料之圖案複製於前述基板。 2 8 .如申請專利範圍第2 6項記載之原版 之製造方法，其中一邊使塗佈前述感光材料之基 一邊使雷射光直線地移動，一邊使被形成於前述 .之雷射光點之光強度變化，一邊描繪在深度方向 階之等級之圖案以形成前述全息圖像區域。. 2 9 .如申請專利範圍第2 6項記載之原版 之製造方法，其中作爲進行前述曝光處理之曝光 :包含使塗佈感光材料之基板旋轉用之轉盤；以 線移動之滑動器；以及成爲光源之雷射；以及被 述滑動器，在前述感光材料層聚光雷射光以形成 光學系；以及使前述雷射光點之光強度變化用之 ，描繪任意之圖案之雷射描繪裝置。 3〇· 一種全息圖像，其特徵爲： 藉由將以如申請專利範圍第2 0項記載之原 像爲基礎被再生之圖像複製於全息_像用記錄媒 該感光材 元圖像之 全息圖像 由鈾刻將 全息圖像 板旋轉， 感光材料 具有多灰 全息圖像 機，使用 及可以直 搭載於前 光點用之 光調製器 版全息圖 體而被製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------*5^ ^ 作 3 1 . —種全息圖像之製造方法，其特徵爲： 藉由將以如申請專利範圍第2 〇項記載之原版全息圖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -6- 478032 Α8· Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 像爲基礎被再生之圖像複製於全息圖像用記錄媒體而製作 裝第 示 圍 顯範 種利 一 專 .請 2 申 3 如 備 具 爲 徵 特 其 及 以 像 圖 息 全 版 原 之 載 記 項 像於段 圖射手 息照之 全線像 述光圖 前之元 於射次 應照 3 對被色 及源彩 以光生 ;該再 段由， 手將域 之及區 轉以像 旋 ·，圖 像 源息 圖光全 息之之 全色色 版顏顏 原之之 該域應 使區對 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ----- 訂---------線一 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）