TW202244121A - 相位差膜、使用該相位差膜之圓偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種高溫高濕環境下之耐久性優異之逆色散相位差膜。本發明之相位差膜含有:樹脂,其包含選自由碳酸酯鍵及酯鍵所組成之群中之至少1種鍵結基、及選自由通式(1)所表示之結構單元及通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元,且具有正折射率各向異性;及化合物(A),其含有芳香族結構且分子量為500以上2000以下;該化合物(A)之含量超過0.5質量%且為4.0質量%以下,Re(550)為100 nm~200 nm,Re(450)/Re(550)超過0.5且未達1.0。
Description
本發明係關於一種相位差膜、使用該相位差膜之圓偏光板及圖像顯示裝置。
近年來,以智慧型手機為代表之智慧型裝置、以及數位標牌或窗口顯示器等顯示裝置於強烈外界光下使用之機會增加。隨之產生由顯示裝置本身或顯示裝置中使用之觸控面板部或玻璃基板、金屬配線等反射體引起之外界光反射或背景映入等問題。尤其是,近年來逐漸實用化之有機電致發光(EL)顯示裝置由於具有反射性較高之金屬層,故而容易產生外界光反射或背景映入等問題。因此,已知藉由於視認側設置具有相位差膜(代表性而言為λ/4板)之圓偏光板作為抗反射膜來防止該等問題。進而,為了於可見光區域之各波長下實現良好之相位差特性,而推進表現出相位差值隨著測定光之波長而變大之所謂逆色散之波長相依性之相位差膜(以下,有時簡稱為逆色散相位差膜)之開發。於逆色散相位差膜之開發中,正進行持續研究,以進一步改善特性。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第3325560號
[發明所欲解決之問題]
本發明之主要目的在於提供一種高溫高濕環境下之耐久性優異之逆色散相位差膜。
[解決問題之技術手段]
本發明之相位差膜含有:樹脂,其包含選自由碳酸酯鍵及酯鍵所組成之群中之至少1種鍵結基、及選自由下述通式(1)所表示之結構單元及下述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元;且具有正折射率各向異性;及化合物(A),其含有芳香族結構且分子量為500以上2000以下;該化合物(A)之含量超過0.5質量%且為4.0質量%以下,Re(550)為100 nm~200 nm,Re(450)/Re(550)超過0.5且未達1.0。
[化1]
[化2]
通式(1)及(2)中,R
1~R
3分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代之碳數1~4之伸烷基,R
4~R
9分別獨立地為氫原子、經取代或未經取代之碳數1~10之烷基、經取代或未經取代之碳數4~10之芳基、經取代或未經取代之碳數1~10之醯基、經取代或未經取代之碳數1~10之烷氧基、經取代或未經取代之碳數1~10之芳氧基、經取代或未經取代之胺基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙烯基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基;其中,R
4~R
9可彼此相同或不同,R
4~R
9中,相鄰接之至少兩個基可相互鍵結而形成環。Re(550)為於23℃下藉由波長550 nm之光所測得之膜之面內相位差,Re(450)為於23℃下藉由波長450 nm之光所測得之膜之面內相位差。
於一實施方式中,上述具有正折射率各向異性之樹脂含有1質量%~40質量%之選自由上述通式(1)所表示之結構單元及上述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元。
於一實施方式中,上述具有正折射率各向異性之樹脂進而包含下述通式(3)所表示之結構單元。
[化3]
於一實施方式中,上述具有正折射率各向異性之樹脂進而包含下述通式(4)所表示之結構單元。
[化4]
於一實施方式中,上述相位差膜進而包含丙烯酸系樹脂,該丙烯酸系樹脂之含量為0.5質量%以上2.0質量%以下。
於一實施方式中,上述化合物(A)之含量為1.0質量%以上3.0質量%以下。
於一實施方式中,上述化合物(A)之特徵在於具有下述式(5)所表示之部分結構。
[化5]
根據本發明之進而另一態樣,提供一種圓偏光板。該圓偏光板具有偏光元件及上述相位差膜,該偏光元件之吸收軸與該相位差膜之遲相軸所成之角度為40°~50°或130°~140°。
根據本發明之進而另一態樣,提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置於視認側具備上述圓偏光板,且該圓偏光板之偏光元件配置於視認側。
[發明之效果]
根據本發明之實施方式,可藉由於具有特定之正折射率各向異性之樹脂(代表性而言為聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂)中調配特定之化合物而獲得高溫高濕環境下之耐久性優異之逆色散相位差膜。
以下,對本發明之代表性實施方式進行說明,但本發明並不限定於該等實施方式。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」係面內之折射率成為最大之方向(即遲相軸方向)之折射率,「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率,「nz」係厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係於23℃下藉由波長λ nm之光所測得之膜之面內相位差。例如,「Re(450)」係於23℃下藉由波長450 nm之光所測得之膜之面內相位差。於將膜之厚度設為d(nm)時,藉由式:Re=(nx-ny)×d求出Re(λ)。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係於23℃下藉由波長λ nm之光所測得之膜之厚度方向之相位差。例如,「Rth(450)」係於23℃下藉由波長450 nm之光所測得之膜之厚度方向之相位差。於將膜之厚度設為d(nm)時,藉由式:Rth=(nx-nz)×d求出Rth(λ)。
(4)Nz係數
Nz係數係藉由Nz=Rth/Re而求出。
(5)角度
於本說明書中提及角度時,只要無特別說明,則該角度包括順時針方向及逆時針方向兩個方向之角度。
A.相位差膜
本發明之相位差膜含有:樹脂,其包含選自由碳酸酯鍵及酯鍵所組成之群中之至少1種鍵結基、及選自由下述通式(1)所表示之結構單元及下述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元,且具有正折射率各向異性;及化合物(以下,有時稱為化合物(A)),其含有芳香族結構且分子量為500以上2000以下;該化合物(A)之含量超過0.5質量%且為4.0質量%以下,Re(550)為100 nm~200 nm,Re(450)/Re(550)超過0.5且未達1.0。藉由使相位差膜具有此種構成,可獲得高溫高濕環境下之耐久性優異之逆色散相位差膜。
[化6]
[化7]
A-1.相位差膜之構成材料
本發明之實施方式之相位差膜含有包含選自由碳酸酯鍵及酯鍵所組成之群中之至少1種鍵結基的樹脂。換言之,相位差膜含有聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下,有時將該等統稱為聚碳酸酯系樹脂等)。聚碳酸酯系樹脂等包含選自由上述通式(1)所表示之結構單元及/或上述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元。該等結構單元係2價之源自寡聚茀之結構單元,以下,有時將其稱為寡聚茀結構單元。此種聚碳酸酯系樹脂等具有正折射率各向異性。
本發明之實施方式之相位差膜進而含有改質劑。改質劑為具有芳香族結構且分子量為500以上2000以下之化合物(A)。化合物(A)之含量如上所述超過0.5質量%且為4.0質量%以下。再者,於本說明書中,「質量」單位之百分率或份與「重量」單位之百分率或份之含義相同。
相位差膜亦可進而含有丙烯酸系樹脂。該丙烯酸系樹脂之含量如上所述為0.5質量%~1.5質量%。
A-1-1.聚碳酸酯系樹脂等
<寡聚茀結構單元>
寡聚茀結構單元由上述通式(1)或(2)表示。通式(1)及(2)中,R
1~R
3分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代之碳數1~4之伸烷基,R
4~R
9分別獨立地為氫原子、經取代或未經取代之碳數1~10之烷基、經取代或未經取代之碳數4~10之芳基、經取代或未經取代之碳數1~10之醯基、經取代或未經取代之碳數1~10之烷氧基、經取代或未經取代之碳數1~10之芳氧基、經取代或未經取代之胺基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙烯基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基。其中,R
4~R
9可彼此相同或不同,R
4~R
9中,相鄰接之至少兩個基可相互鍵結而形成環。
作為R
1及R
2,例如可採用以下伸烷基:亞甲基、伸乙基、正伸丙基、正伸丁基等直鏈狀之伸烷基;甲基亞甲基、二甲基亞甲基、乙基亞甲基、丙基亞甲基、(1-甲基乙基)亞甲基、1-甲基伸乙基、2-甲基伸乙基、1-乙基伸乙基、2-乙基伸乙基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、1,1-二甲基伸乙基、2,2-二甲基伸丙基、3-甲基伸丙基等具有支鏈之伸烷基。此處,R
1及R
2中之支鏈之位置係藉由以茀環側之碳成為第1位之方式賦予之編號來表示。
R
1及R
2之選擇可能關係到逆色散波長相依性之表現。聚碳酸酯系樹脂等係於茀環相對於主鏈方向(延伸方向)呈垂直配向之狀態下,表現出最強之逆色散波長相依性。為了使茀環之配向狀態接近此種狀態,表現出較強之逆色散波長相依性,較佳為採用伸烷基之主鏈上之碳數為2~3之R
1及R
2。於碳數為1之情形時,有意外地不表現逆色散波長相依性之情況。認為其原因在於,由於作為寡聚茀結構單元之連結基之碳酸酯基或酯基之立體阻礙,而使茀環之配向沿不垂直於主鏈方向之方向固定化等。另一方面,於碳數過多之情形時,由於茀環之配向固定減弱,因此有逆色散波長相依性變得不充分之虞。進而,存在聚碳酸酯系樹脂等之耐熱性降低之情況。
作為R
3,例如可採用以下伸烷基:亞甲基、伸乙基、正伸丙基、正伸丁基等直鏈狀之伸烷基;甲基亞甲基、二甲基亞甲基、乙基亞甲基、丙基亞甲基、(1-甲基乙基)亞甲基、1-甲基伸乙基、2-甲基伸乙基、1-乙基伸乙基、2-乙基伸乙基、1-甲基伸丙基、2-甲基伸丙基、1,1-二甲基伸乙基、2,2-二甲基伸丙基、3-甲基伸丙基等具有支鏈之伸烷基。R
3較佳為伸烷基之主鏈上之碳數為1~2,更佳為碳數為1。於主鏈上之碳數過多之情形時,與R
1及R
2之情形相同,茀環之固定化減弱,有導致逆色散波長相依性下降,光彈性係數增加,耐熱性下降等之虞。另一方面,主鏈上之碳數較少時,光學特性及耐熱性良好,但於兩個茀環之第9位藉由直接鍵連結之情形時,有熱穩定性變差之情況。
作為R
1~R
3中之取代基,例如可例舉:鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子);甲氧基、乙氧基等碳數1~10之烷氧基;乙醯基、苯甲醯基等碳數1~10之醯基;乙醯胺基、苯甲醯胺基等碳數1~10之醯胺基;硝基;氰基;1~3個氫原子可被上述鹵素原子、上述烷氧基、上述醯基、上述醯胺基、上述硝基、上述氰基等取代之苯基、萘基等碳數6~10之芳基。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之烷基,例如可採用以下烷基:甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正癸基等直鏈狀烷基;異丙基、2-甲基丙基、2,2-二甲基丙基、2-乙基己基等具有支鏈之烷基;環丙基、環戊基、環己基、環辛基等環狀烷基。烷基之碳數較佳為4以下,更佳為2以下。若碳數處於該範圍內,則茀環彼此不易發生立體阻礙,容易獲得來自茀環之所需光學特性。作為烷基之取代基,可例舉上文關於R
1~R
3所述之取代基。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之芳基,例如可採用以下芳基:苯基、1-萘基、2-萘基等芳基;2-吡啶基、2-噻吩基、2-呋喃基等雜芳基。芳基之碳數較佳為8以下,更佳為7以下。若碳數處於該範圍內,則茀環彼此不易發生立體阻礙,容易獲得來自茀環之所需光學特性。作為芳基之取代基,可例舉上文關於R
1~R
3所述之取代基。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之醯基,例如可採用以下醯基:甲醯基、乙醯基、丙醯基、2-甲基丙醯基、2,2-二甲基丙醯基、2-乙基己醯基等脂肪族醯基;苯甲醯基、1-萘基羰基、2-萘基羰基、2-呋喃基羰基等芳香族醯基。醯基之碳數較佳為4以下,更佳為2以下。若碳數處於該範圍內,則茀環彼此不易發生立體阻礙,容易獲得來自茀環之所需光學特性。作為醯基之取代基,可例舉上文關於R
1~R
3所述之取代基。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之烷氧基或芳氧基,例如可採用甲氧基、乙氧基、異丙氧基、第三丁氧基、三氟甲氧基、苯氧基。烷氧基或芳氧基之碳數較佳為4以下,更佳為2以下。若碳數處於該範圍內,則茀環彼此不易發生立體阻礙,容易獲得來自茀環之所需光學特性。作為烷氧基或芳氧基之取代基,可例舉上文關於R
1~R
3所述之取代基。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之胺基,例如可採用以下胺基:胺基;N-甲胺基、N,N-二甲胺基、N-乙胺基、N,N-二乙胺基、N,N-甲基乙基胺基、N-丙胺基、N,N-二丙胺基、N-異丙胺基、N,N-二異丙胺基等脂肪族胺基;N-苯基胺基、N,N-二苯基胺基等芳香族胺基;甲醯胺基、乙醯胺基、癸醯胺基、苯甲醯胺基、氯乙醯胺基等醯胺基;苄氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基等烷氧基羰基胺基。較佳為N,N-二甲胺基、N-乙胺基、或N,N-二乙胺基,更佳為N,N-二甲胺基。該等不具有酸性度較高之質子,分子量小,可提高茀比率。
作為R
4~R
9中之經取代或未經取代之乙烯基或乙炔基,例如,可採用乙烯基、2-甲基乙烯基、2,2-二甲基乙烯基、2-苯基乙烯基、2-乙醯基乙烯基、乙炔基、甲基乙炔基、第三丁基乙炔基、苯基乙炔基、乙醯基乙炔基、三甲基矽烷基乙炔基。乙烯基或乙炔基之碳數較佳為4以下。若碳數處於該範圍內,則茀環彼此不易發生立體阻礙,容易獲得來自茀環之所需光學特性。又,藉由茀環之共軛系變長,容易獲得更強之逆色散波長相依性。
作為R
4~R
9中之具有取代基之硫原子,例如可採用以下含硫之基:磺基;甲磺醯基、乙磺醯基、丙磺醯基、異丙磺醯基等烷基磺醯基;苯磺醯基、對甲苯磺醯基等芳基磺醯基;甲亞磺醯基、乙亞磺醯基、丙亞磺醯基、異丙亞磺醯基等烷基亞磺醯基;苯亞磺醯基、對甲苯亞磺醯基等芳基亞磺醯基;甲硫基、乙硫基等烷硫基;苯硫基、對甲苯基硫基等芳硫基;甲氧磺醯基、乙氧磺醯基等烷氧基磺醯基;苯氧基磺醯基等芳氧基磺醯基;胺基磺醯基;N-甲胺基磺醯基、N-乙胺基磺醯基、N-第三丁基胺基磺醯基、N,N-二甲胺基磺醯基、N,N-二乙胺基磺醯基等烷基磺醯基;N-苯基胺基磺醯基、N,N-二苯基胺基磺醯基等芳基胺基磺醯基。再者,磺基亦可與鋰、鈉、鉀、鎂、銨等形成鹽。較佳為甲亞磺醯基、乙亞磺醯基、或苯亞磺醯基,更佳為甲亞磺醯基。該等不具有酸性度較高之質子,分子量小,可提高茀比率。
作為R
4~R
9中之具有取代基之矽原子,例如可採用以下矽烷基:三甲基矽烷基、三乙基矽烷基等三烷基矽烷基;三甲氧基矽烷基、三乙氧基矽烷基等三烷氧基矽烷基。較佳為三烷基矽烷基。原因在於穩定性及操作性優異。
聚碳酸酯系樹脂等中之寡聚茀結構單元之含量相對於整個樹脂,較佳為1質量%~40質量%,更佳為10質量%~35質量%,進而較佳為15質量%~30質量%,特佳為18質量%~25質量%。於寡聚茀結構單元之含量過多之情形時,有產生光彈性係數變得過大,可靠性變得不足,相位差表現性變得不足等問題之虞。進而,由於寡聚茀結構單元於樹脂中所占之比率變高,故而分子設計之範圍變窄,存在要求樹脂改質時難以進行改良之情況。另一方面,存在如下情況:即使假定藉由非常少量之寡聚茀結構單元獲得所需之逆色散波長相依性,於此情形下,光學特性亦會因寡聚茀結構單元之含量之微小差異而敏感地發生變化,從而導致難以以各特性落入一定範圍之方式進行製造。
作為調節樹脂中之寡聚茀結構單元之比率之方法,例如可例舉使具有寡聚茀結構單元之單體與其他單體進行共聚之方法、或將含有寡聚茀結構單元之樹脂與其他樹脂進行摻合之方法。由於使具有寡聚茀結構單元之單體與其他單體進行共聚之方法可精密地控制寡聚茀結構單元之含量,且可獲得高透明性,可於膜之整個面獲得均勻之特性,故而較佳。
<其他結構單元>
聚碳酸酯系樹脂等代表性地可除寡聚茀結構單元以外亦包含其他結構單元。於一實施方式中,其他結構單元較佳可源自二羥基化合物或二酯化合物。為了表現出目標之逆波長色散性,必須將具有正固有雙折射之結構單元與具有負固有雙折射之寡聚茀結構單元一同納入至聚合物結構中,故而作為進行共聚之其他單體,進而較佳為成為具有正雙折射之結構單元之原料之二羥基化合物或二酯化合物。
作為共聚單體,可例舉:可導入包含芳香族環之結構單元之化合物;及不導入包含芳香族環之結構單元之化合物,即包含脂肪族結構之化合物。
以下例舉上述包含脂肪族結構之化合物之具體例。乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、1,4-丁二醇、1,3-丁二醇、1,2-丁二醇、1,5-庚二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、1,12-十二烷二醇等直鏈脂肪族烴之二羥基化合物;新戊二醇、己二醇等支鏈脂肪族烴之二羥基化合物;作為脂環式烴之二級醇及三級醇之二羥基化合物,例如1,2-環己二醇、1,4-環己二醇、1,3-二羥基金剛烷、氫化雙酚A、2,2,4,4-四甲基-1,3-環丁二醇等;作為脂環式烴之一級醇之二羥基化合物,例如1,2-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、五環十五烷二甲醇、2,6-十氫萘二甲醇、1,5-十氫萘二甲醇、2,3-十氫萘二甲醇、2,3-降𦯉烷二甲醇、2,5-降𦯉烷二甲醇、1,3-金剛烷二甲醇、檸檬烯等由萜烯化合物衍生之二羥基化合物等;二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇等氧伸烷基二醇類;異山梨糖醇等具有環狀醚結構之二羥基化合物;螺二醇、二㗁烷二醇等具有環狀縮醛結構之二羥基化合物;1,2-環己烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸等脂環式二羧酸;丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸等脂肪族二羧酸。
以下例舉上述可導入包含芳香族環之結構單元之化合物之具體例。2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(3-甲基-4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二乙基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3-苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3,5-二苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、2,2-雙(4-羥基苯基)戊烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-1-苯乙烷、雙(4-羥基苯基)二苯甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-2-乙基己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)癸烷、雙(4-羥基-3-硝基苯基)甲烷、3,3-雙(4-羥基苯基)戊烷、1,3-雙(2-(4-羥基苯基)-2-丙基)苯、1,3-雙(2-(4-羥基苯基)-2-丙基)苯、2,2-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、雙(4-羥基苯基)碸、2,4'-二羥基二苯基碸、雙(4-羥基苯基)硫化物、雙(4-羥基-3-甲基苯基)硫化物、雙(4-羥基苯基)二硫化物、4,4'-二羥基二苯基醚、4,4'-二羥基-3,3'-二氯二苯基醚等芳香族雙酚化合物;2,2-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-(2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,3-雙(2-羥基乙氧基)苯、4,4'-雙(2-羥基乙氧基)聯苯、雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)碸等具有鍵結於芳香族基之醚基之二羥基化合物;對苯二甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、4,4'-二苯基二羧酸、4,4'-二苯基醚二羧酸、4,4'-二苯甲酮二羧酸、4,4'-二苯氧基乙烷二羧酸、4,4'-二苯基碸二羧酸、2,6-萘二羧酸等芳香族二羧酸。
再者,上述所例舉之脂肪族二羧酸及芳香族二羧酸成分可將二羧酸本身作為上述聚酯碳酸酯之原料,亦可根據製造方法將甲酯體、苯酯體等二羧酸酯、或二羧酸鹵化物等二羧酸衍生物作為原料。
作為共聚單體,亦可將先前已知為包含具有負雙折射之結構單元之化合物的9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-羥基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀等具有茀環之二羥基化合物、或具有茀環之二羧酸化合物與寡聚茀化合物組合使用。
就光學特性之觀點而言,本發明中使用之樹脂較佳為使用不含芳香族成分之結構單元作為除寡聚茀結構單元以外之結構單元。即,較佳為使用包含脂肪族結構之化合物作為共聚單體。若聚合物之主鏈中含有芳香族成分,則藉由寡聚茀結構單元而呈現之逆波長色散性被抵消,故而必須增加寡聚茀結構單元之含量,因而有光彈性係數或機械物性變差之顧慮。藉由採用不含芳香族成分之上述其他結構單元,可防止源自該結構單元之芳香族成分納入至主鏈中。包含脂肪族結構之化合物中,進而較佳為機械物性或耐熱性優異之具有脂環式結構之化合物。
另一方面,亦存在如下情形:為了確保光學特性並取得光學特性與耐熱性或機械特性等之平衡,將芳香族成分納入至聚合物之主鏈或側鏈較為有效。就取得各特性之平衡之觀點而言,上述樹脂中之包含芳香族基之結構單元(其中,寡聚茀結構單元除外)之含量較佳為5質量%以下。
作為可導入上述式(3)之結構單元之二羥基化合物,可使用螺二醇。
於本發明中使用之樹脂中,較佳為含有5質量%以上90質量%以下之上述式(3)所表示之結構單元。上限進而較佳為70質量%以下,特佳為50質量%以下。下限進而較佳為10質量%以上,更佳為20質量%以上,特佳為25質量%以上。若上述式(3)所表示之結構單元之含量為上述下限以上,則可獲得充分之機械物性或耐熱性、較低之光彈性係數。進而,與丙烯酸系樹脂之相容性提昇,可進一步提昇所獲得之樹脂組合物之透明性。又,由於螺二醇之聚合反應之速度相對較慢,因此藉由將含量控制為上述上限以下,易於對聚合反應進行控制。
作為可導入上述式(4)所表示之結構單元之二羥基化合物,可例舉具有立體異構物關係之異山梨糖醇(ISB)、去水甘露糖醇、異艾杜糖醇。該等可單獨使用1種,亦可將2種以上組合使用。
於本發明中使用之樹脂中,較佳為含有5質量%以上90質量%以下之上述式(4)所表示之結構單元。上限進而較佳為70質量%以下,特佳為50質量%以下。下限進而較佳為10質量%以上,特佳為15質量%以上。若上述式(4)所表示之結構單元之含量為上述下限以上,則可獲得充分之機械物性或耐熱性、低光彈性係數。又,由於上述式(4)所表示之結構單元具有吸水性較高之特性,因此若上述式(4)所表示之結構單元之含量為上述上限以下,則可將由吸水引起之成形體之尺寸變化抑制為容許範圍內。
本發明中使用之樹脂亦可進而含有其他結構單元。再者,有時將該結構單元稱為「其他結構單元」。作為具有其他結構單元之單體,更佳為採用1,4-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、1,4-環己烷二羧酸(及其衍生物),特佳為1,4-環己烷二甲醇及三環癸烷二甲醇。包含源自該等單體之結構單元之樹脂之光學特性或耐熱性、機械特性等之平衡性優異。又,由於二酯化合物之聚合反應性相對較低,因此就提高反應效率之觀點而言,較佳為不使用除含有寡聚茀結構單元之二酯化合物以外之二酯化合物。
用於導入其他結構單元之二羥基化合物或二酯化合物可根據所獲得之樹脂之要求性能單獨使用或將2種以上組合使用。樹脂中之其他結構單元之含量較佳為1質量%以上50質量%以下,進而較佳為5質量%以上40質量%以下,特佳為10質量%以上30質量%以下。由於其他結構單元尤其負責調整樹脂之耐熱性或賦予柔軟性或韌性,故而若含量過少,則有樹脂之機械特性或熔融加工性變差之虞;若含量過多,則有耐熱性或光學特性變差之虞。
聚碳酸酯系樹脂之分子量例如可由比濃黏度來表示。比濃黏度係使用二氯甲烷作為溶劑,將聚碳酸酯濃度精密地調整為0.6 g/dL,並於20.0℃±0.1℃之溫度下使用烏氏黏度管進行測定。比濃黏度之下限通常較佳為0.30 dL/g以上,更佳為0.35 dL/g以上,特佳為0.40 dL/g以上。比濃黏度之上限通常較佳為1.00 dL/g以下,更佳為0.80 dL/g以下,特佳為0.60 dL/g以下。若比濃黏度小於下限值,則存在所獲得之膜之機械強度變得不足之情況。另一方面,若比濃黏度大於上限值,則存在成形性、操作性及生產性變得不足之情況。
聚碳酸酯系樹脂之熔融黏度於溫度240℃、剪切速度91.2 sec
-1之測定條件下較佳為700 Pa・s以上5000 Pa・s以下。上限進而較佳為4000 Pa・s以下,更佳為3500 Pa・s以下,特佳為3000 Pa・s以下。下限進而較佳為1000 Pa・s以上,更佳為1500 Pa・s以上,特佳為2000 Pa・s以上。再者,熔融黏度係使用毛細管流變儀(東洋精機公司製造)進行測定。
本發明中使用之樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為110℃以上160℃以下。上限進而較佳為155℃以下,更佳為150℃以下,特佳為145℃以下。下限進而較佳為120℃以上,特佳為130℃以上。若玻璃轉移溫度處於上述範圍外,則有耐熱性變差之傾向,有膜成形後尺寸發生變化,或相位差膜於使用條件下之質量可靠性變差之可能性。另一方面,若玻璃轉移溫度過高,則存在膜成形時產生膜厚不均,或膜變得易碎,延伸性變差之情況,又,存在損害膜之透明性之情況。
聚碳酸酯系樹脂等之構成及製造方法等之詳細內容例如記載於國際公開第2015/159928號說明書中。將該記載作為參考引用於本說明書中。
A-1-2.改質劑
本發明之實施方式中之相位差膜包含改質劑。使用具有芳香族結構且分子量為500以上2000以下之化合物(A)作為改質劑。化合物(A)之含量超過0.5質量%且為4.0質量%以下。藉由使相位差膜中之化合物(A)之含量處於此種範圍內,可獲得高溫高濕環境下之耐久性優異之逆色散相位差膜。究其原因,推斷為:藉由向樹脂中調配化合物(A),聚合物分子之移動性得到抑制,因熱或吸濕而產生之聚合物分子之配向緩和得到抑制之效果與樹脂之吸濕得到抑制之效果等聯合作用之結果。就同樣之觀點而言,含量之下限更佳為1.0質量%以上,特佳為1.5質量%以上。含量之上限更佳為3.5質量%以下。
上述化合物(A)之分子量如上所述為500以上2000以下。藉由設為上述範圍,化合物(A)與樹脂相容,且樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)之下降較小,可獲得較高之耐久性提昇效果。又,於進行熔融擠出混練或熔融擠出製膜時,可減少出現因化合物(A)揮發或滲出而對真空排氣口或製膜輥造成污染等不良情況。就同樣之觀點而言,下限更佳為600以上,進而較佳為700以上,特佳為800以上。分子量之上限更佳為1800以下,特佳為1500以下。
上述化合物(A)較佳為具有下述式(5)所表示之部分結構。推斷,含有上述部分結構之化合物與本發明中使用之聚碳酸酯系樹脂之相容性更良好,又,由於其大體積結構,抑制聚合物分子之移動性之效果進一步增強。
[化10]
對於作為上述化合物(A)較佳之化合物,例如可使用作為具有受阻酚結構之抗氧化劑或紫外線吸收劑而被習知之化合物,可例舉:季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]:商品名「Irganox1010」(BASF公司製造)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯:商品名「Irganox1330」(BASF公司製造)、異氰尿酸三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)酯:商品名「Irganox3114」(BASF公司製造)、3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸硬脂酯:商品名「Irganox1076」(BASF公司製造)、2,2'-硫代二乙基雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]:商品名「Irganox1035」(BASF公司製造)、N,N'-六亞甲基雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯胺]:商品名「Irganox1098」(BASF公司製造)、雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸][伸乙基雙(氧化乙烯)]:商品名「Irganox245」(BASF公司製造)、1,6-己二醇雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]商品名「Irganox259」(BASF公司製造)、4-[[4,6-雙(辛硫基)-1,3,5-三𠯤-2-基]胺基]-2,6-二-第三丁基苯酚:商品名「Irganox565」(BASF公司製造)、2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚:商品名「Adekastab LA-31」(ADEKA公司製造)商品名「Adekastab LA-F70」(ADEKA公司製造)等。該等中,就分子量較大,且具有大體積結構之觀點而言,可較佳地使用商品名「Irganox1010」(BASF公司製造)、商品名「Irganox1330」(BASF公司製造)、商品名「Irganox3114」(BASF公司製造)、商品名「Adekastab LA-31」(ADEKA公司製造)、商品名「Adekastab LA-F70」(ADEKA公司製造)。特佳為季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]或2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚,最佳為季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]。
A-1-3.丙烯酸系樹脂
本發明之實施方式中之相位差膜亦可包含丙烯酸系樹脂。藉由含有丙烯酸系樹脂,膜延伸時之破斷強度或極限延伸倍率提昇,可表現出更高之配向性。又,藉由降低破斷頻度,可提昇延伸步驟之良率。
作為丙烯酸系樹脂,使用作為熱塑性樹脂之丙烯酸系樹脂。作為成為丙烯酸系樹脂之結構單元之單體,例如可例舉以下化合物:甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異𦯉基酯、(甲基)丙烯酸降𦯉基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丙烯醯基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、琥珀酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、馬來酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、六氫鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五甲基哌啶酯、(甲基)丙烯酸四甲基哌啶酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、甲基丙烯酸環戊酯、丙烯酸環戊酯、甲基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸環庚酯、丙烯酸環庚酯、甲基丙烯酸環辛酯、丙烯酸環辛酯、甲基丙烯酸環十二烷基酯、丙烯酸環十二烷基酯。該等可單獨使用,亦可將2種以上組合使用。作為將2種以上單體組合使用之形態,可列舉:2種以上單體之共聚、2個以上1種單體之均聚物之摻合、及該等之組合。進而,亦可併用能夠與該等丙烯酸系單體進行共聚之其他單體(例如烯烴系單體、乙烯系單體)。
丙烯酸系樹脂較佳為包含源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元。丙烯酸系樹脂中之源自甲基丙烯酸甲酯之結構單元之含量較佳為70質量%以上100質量%以下。下限更佳為80質量%以上,進而較佳為90質量%以上,特佳為95質量%以上。若為該範圍,則可獲得優異之與本發明之聚碳酸酯系樹脂之相容性。作為除甲基丙烯酸甲酯以外之結構單元,較佳為使用丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯。可藉由使丙烯酸甲酯進行共聚而提昇熱穩定性。藉由使用(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯乙烯,可調整丙烯酸系樹脂之折射率,故而藉由與組合之樹脂之折射率相配合,可提昇所獲得之樹脂組合物之透明性。
丙烯酸系樹脂之重量平均分子量Mw較佳為10,000以上200,000以下。下限較佳為30,000以上,特佳為50,000以上。上限較佳為180,000以下,特佳為150,000以下。若分子量處於此種範圍內,則可獲得與本發明之聚碳酸酯系樹脂之相容性,由此可提昇最終之相位差膜之透明性,且可獲得充分提昇延伸時之擴展性之效果。再者,上述重量平均分子量係藉由GPC(Gel Permeation Chromatography,凝膠滲透層析法)所測得之聚苯乙烯換算之分子量。測定方法之詳情於後文中描述。又,就相容性之觀點而言,丙烯酸系樹脂較佳為實質上不含分支結構。不含分支結構可藉由丙烯酸系樹脂之GPC曲線為單峰性等進行確認。
樹脂組合物(結果為相位差膜)中之丙烯酸系樹脂之含量較佳為0質量%以上2.0質量%以下。上限較佳為1.5質量%以下,更佳為1.0質量%以下,進而較佳為0.9質量%以下,特佳為0.8質量%以下。如此,藉由以極有限的比率於聚碳酸酯系樹脂中調配丙烯酸系樹脂,可使擴展性及相位差表現性顯著增加。進而,可抑制霧度。此種效果於理論上並不明確,為藉由試誤而獲得之預期外之優異效果。再者,若丙烯酸系樹脂之含量過少,則存在無法獲得上述效果之情況。另一方面,若丙烯酸系樹脂之含量過多,則存在霧度變高之情況。又,擴展性及相位差表現性亦與上述範圍內之情形相比變得不充分,或反而降低之情況較多。
A-1-4.樹脂組合物
將聚碳酸酯系樹脂等與上述改質劑或丙烯酸系樹脂進行摻合而以樹脂組合物之形式供於相位差膜之製造方法(製造方法於A-3項中描述)。聚碳酸酯系樹脂等與改質劑或丙烯酸系樹脂較佳為可於熔融狀態下摻合。作為於熔融狀態下摻合之方法,代表性而言可例舉使用擠出機之熔融混練。混練溫度(熔融樹脂溫度)較佳為200℃~280℃,更佳為220℃~270℃,進而較佳為230℃~260℃。若混練溫度處於此種範圍內,則可獲得熱解得到抑制,且改質劑或丙烯酸系樹脂均勻地摻合之樹脂組合物之顆粒。若擠出機中之熔融樹脂溫度超過280℃,則存在發生樹脂之著色及/或熱解之情況。另一方面,若擠出機中之熔融樹脂溫度低於200℃,則存在樹脂黏度變得過高而對擠出機造成過大負荷,或樹脂之熔融變得不充分之情況。再者,作為擠出機之構成、螺桿之構成等,可採用任意適當之構成。為了獲得可耐受光學膜用途之樹脂之透明性或均勻之分散性,較佳為使用雙軸擠出機。進而,存在樹脂中殘存之低分子成分或擠出混練中之低分子量之熱解成分於製膜步驟或延伸步驟中污染冷卻輥或搬送輥之擔憂,故而為了將其去除,較佳為使用具備真空排氣口之擠出機。
為了對機械特性及/或耐溶劑性等特性進行改質,樹脂組合物可進而摻合芳香族聚碳酸酯、脂肪族聚碳酸酯、芳香族聚酯、脂肪族聚酯、聚醯胺、聚苯乙烯、聚烯烴、丙烯酸、非晶質聚烯烴、ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene,丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)、AS(acrylonitrile-styrene,苯乙烯-丙烯腈共聚物)、聚乳酸、聚丁二酸丁二酯等合成樹脂、橡膠及該等之組合。
樹脂組合物亦可進而含有添加劑。作為添加劑之具體例,可例舉:熱穩定劑、抗氧化劑、觸媒失活劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、離型劑、染顏料、衝擊改良劑、抗靜電劑、滑劑、潤滑劑、塑化劑、相容劑、成核劑、阻燃劑、無機填充劑、發泡劑。樹脂組合物中所包含之添加劑之種類、數量、組合、含量等可根據目的適當地設定。
A-2.相位差膜之特性
相位差膜之面內相位差Re(550)如上所述為100 nm~200 nm,較佳為110 nm~180 nm,更佳為120 nm~160 nm,進而較佳為130 nm~150 nm。即,相位差膜可作為所謂之λ/4板發揮作用。
相位差膜代表性而言滿足Re(450)<Re(550)<Re(650)之關係。即,相位差膜表現出相位差值隨著測定光之波長而變大之逆色散波長相依性。相位差膜之Re(450)/Re(550)如上所述超過0.5且未達1.0,較佳為0.7~0.95,更佳為0.75~0.92,進而較佳為0.8~0.9。Re(650)/Re(550)較佳為1.0以上且未達1.15,更佳為1.03~1.1。
相位差膜由於具有如上所述之面內相位差,故而具有nx>ny之關係。相位差膜只要具有nx>ny之關係,則顯示任意適當之折射率橢圓體。相位差膜之折射率橢圓體代表性而言顯示nx>ny≧nz之關係。再者,此處「ny=nz」不僅包括ny與nz完全相等之情形,亦包括ny與nz實質上相等之情形。因此,可於不損害本發明之效果之範圍內存在ny<nz之情形。相位差膜之Nz係數較佳為0.9~2.0,更佳為0.9~1.5,進而較佳為0.9~1.2。藉由滿足此種關係,於將包含相位差膜之圓偏光板用於圖像顯示裝置之情形時,可實現非常優異之反射色相。
相位差膜之厚度可以能夠作為λ/4板最適當地發揮作用之方式設定。換言之,厚度可以獲得所需之面內相位差之方式設定。具體而言,厚度較佳為15 μm~60 μm,進而較佳為20 μm~55 μm,最佳為20 μm~50 μm。根據本發明之實施方式,可獲得相位差表現性優異之相位差膜,故而與通常之λ/4板相比可使相位差膜之厚度變薄。
相位差膜之霧度值較佳為1.5%以下,更佳為1.0%以下,進而較佳為0.5%以下。根據本發明之實施方式,可實現相位差表現性及霧度值兩者均優異之逆色散相位差膜。霧度值越小越佳。霧度值之下限例如可為0.1%。
相位差膜之雙折射Δn較佳為0.0025以上,更佳為0.0030以上,進而較佳為0.0035以上,特佳為0.0040以上。雙折射Δn之上限例如可為0.0070。雙折射可藉由將不破斷之最高延伸倍率下之膜之面內相位差Re除以膜厚d而求出。
相位差膜之光彈性係數之絕對值較佳為20×10
-12(m
2/N)以下,更佳為1.0×10
-12(m
2/N)~15×10
-12(m
2/N),進而較佳為2.0×10
-12(m
2/N)~12×10
-12(m
2/N)。若光彈性係數之絕對值處於此種範圍內,則於將相位差膜應用於圖像顯示裝置之情形時,可抑制顯示不均。
A-3.相位差膜之製造方法
上述A-1項及A-2項中所記載之相位差膜藉由如下方式獲得:由A-1項中所記載之樹脂組合物形成膜,進而使該膜延伸。作為由樹脂組合物形成膜之方法,可採用任意適當之成形加工法。作為具體例,可例舉:壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP(Fiber Reinforced Plastics,纖維強化塑膠)成形法、澆鑄塗佈法(例如流延法)、壓延成形法、熱壓法等。其中較佳為可提昇所獲得之膜之平滑性,可獲得良好之光學均勻性之擠出成形法或澆鑄塗佈法。由於澆鑄塗佈法有產生由殘存溶劑引起之問題之虞,故而特佳為擠出成形法,其中,就膜之生產性或後續之延伸處理之容易性之觀點而言,較佳為使用T型模頭之熔融擠出成形法。成形條件可根據所使用之樹脂之組成或種類、相位差膜所需之特性等而適當地設定。如此,可獲得包含聚碳酸酯系樹脂等之樹脂膜。
樹脂膜(未延伸膜)之厚度可根據所獲得之相位差膜之所需厚度、所需光學特性、後文中描述之延伸條件等而設定為任意適當之值。較佳為50 μm~300 μm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言,可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法,亦可同時或逐次使用該等延伸方法。關於延伸方向,能夠於長度方向、寬度方向、厚度方向、斜方向等各種方向或維度上進行。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件,可獲得具有上述所需光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)之相位差膜。
於一實施方式中,相位差膜係藉由將樹脂膜進行單軸延伸或固定端單軸延伸而製作。作為單軸延伸之具體例,可例舉使樹脂膜一面沿長條方向移行一面於移行方向(長條方向)延伸之方法。作為固定端單軸延伸之具體例,可例舉使樹脂膜一面沿長條方向移行一面於寬度方向(橫方向)延伸之方法。延伸倍率較佳為1.1倍~3.5倍。
於另一實施方式中,相位差膜可藉由使長條狀之樹脂膜於相對於長條方向為特定角度之方向連續斜向延伸而製作。藉由採用斜向延伸,可獲得具有相對於膜之長條方向為特定角度之配向角(於特定角度之方向具有遲相軸)的長條狀之延伸膜,例如能夠於與偏光元件進行積層時採用卷對卷式,從而可簡化製造步驟。再者,上述特定角度可為圓偏光板(於後文中描述)中偏光元件之吸收軸與相位差膜之遲相軸所成之角度。如下所述,該角度較佳為40°~50°,更佳為42°~48°,進而較佳為44°~46°,特佳為約45°;或者較佳為130°~140°,更佳為132°~138°,進而較佳為134°~136°,特佳為約135°。
作為斜向延伸時使用之延伸機,例如可例舉能夠於橫及/或縱方向附加左右速度不同之進給力或拉伸力或者牽引力之拉幅式延伸機。拉幅式延伸機有橫向單軸延伸機、同時雙軸延伸機等,但只要可使長條狀之樹脂膜連續地斜向延伸,則可使用任意適當之延伸機。
藉由於上述延伸機中分別適當地控制左右之速度,可獲得具有上述所需面內相位差,且於上述所需方向具有遲相軸之相位差膜(實質上為長條狀之相位差膜)。
作為斜向延伸之方法,例如可例舉日本專利特開昭50-83482號公報、日本專利特開平2-113920號公報、日本專利特開平3-182701號公報、日本專利特開2000-9912號公報、日本專利特開2002-86554號公報、日本專利特開2002-22944號公報等中所記載之方法。
上述膜之延伸溫度於一實施方式中為聚碳酸酯系樹脂等之玻璃轉移溫度(Tg)以下之溫度。通常,於使聚碳酸酯系樹脂等之膜延伸之情形時,由於在Tg以下之溫度下膜為玻璃狀態,故而實質上無法進行延伸。根據本發明之實施方式,藉由調配少量之丙烯酸系樹脂(代表性而言為聚甲基丙烯酸甲酯),可於不使聚碳酸酯系樹脂等之Tg發生實質性變化之情況下,於Tg以下進行延伸。進而,理論上雖不明確,但藉由於Tg以下之溫度下進行延伸,可實現擴展性及相位差表現性優異,且霧度較小之逆色散相位差膜。具體而言,延伸溫度較佳為Tg~Tg-10℃,更佳為Tg~Tg-8℃,進而較佳為Tg~Tg-5℃。再者,上述膜於高於Tg之溫度下亦可適當地延伸,例如Tg+5℃左右,又,例如Tg+2℃左右。
B.圓偏光板
上述A項中所記載之本發明之實施方式之相位差膜適宜用於圓偏光板。因此,本發明之實施方式亦包含圓偏光板。圖1係本發明之一實施方式之圓偏光板之概略剖視圖。圖示例之圓偏光板100具有偏光板10及相位差膜20。相位差膜20為上述A項中所記載之本發明之實施方式之相位差膜。偏光板10包含:偏光元件11;第1保護層12,其配置於偏光元件11之一側;及第2保護層13,其配置於偏光元件11之另一側。可根據目的省略第1保護層12及第2保護層13中之一者。例如,由於本發明之實施方式之相位差膜20亦可作為偏光元件11之保護層發揮作用,故而可省略第2保護層13。相位差膜20之遲相軸與偏光元件11之吸收軸所成之角度較佳為40°~50°,更佳為42°~48°,進而較佳為44°~46°,特佳為約45°;或者較佳為130°~140°,更佳為132°~138°,進而較佳為134°~136°,特佳為約135°。
於另一實施方式中,亦可設置另一相位差層及/或導電層或附有導電層之各向同性基材(未圖示)。另一相位差層以及導電層或附有導電層之各向同性基材代表性而言設置於相位差膜20之外側(偏光板10之相反側)。另一相位差層代表性而言折射率特性顯示nz>nx=ny之關係。藉由設置此種另一相位差層,可良好地防止斜方向之反射,可實現抗反射功能之廣視角化。另一相位差層以及導電層或附有導電層之各向同性基材代表性而言自相位差膜20側依序設置。另一相位差層以及導電層或附有導電層之各向同性基材代表性而言係視需要設置之任意層,可省略任一者或兩者。再者,於設置有導電層或附有導電層之各向同性基材之情形時,圓偏光板可應用於在圖像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組裝有觸控傳感器之所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。
圓偏光板亦可具有又一相位差層。又一相位差層可與另一相位差層組合設置,亦可單獨(即不設置另一相位差層)設置。又一相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可根據目的適當地設定。
圓偏光板可為單片狀亦可為長條狀。於本說明書中,所謂「長條狀」,意指相對於寬度而言長度足夠長之細長形狀,例如包含長度相對於寬度為10倍以上,較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之圓偏光板可卷取為卷狀。於圓偏光板為長條狀之情形時,偏光板及相位差膜亦為長條狀。於此情形下,偏光元件較佳為於長條方向上具有吸收軸。相位差膜較佳為如上所述,為於相對於長條方向呈40°~50°或130°~140°之角度之方向上具有遲相軸之斜向延伸膜。若偏光元件及相位差膜為此種構成,則可藉由卷對卷製作圓偏光板。
就實用性而言,可於相位差膜之與偏光板相反之側設置黏著劑層(未圖示)而使圓偏光板貼附於圖像顯示單元。進而,較佳為於黏著劑層之表面暫時黏附有剝離膜直至圓偏光板供於使用為止。藉由暫時黏附剝離膜,可保護黏著劑層,並且可形成圓偏光板之捲筒。
以下,對圓偏光板之構成要素進行說明。
B-1.偏光元件
作為偏光元件11,可採用任意適當之偏光元件。例如,形成偏光元件之樹脂膜可為單層樹脂膜,亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層樹脂膜構成之偏光元件之具體例,可例舉:利用碘或二色性染料等二色性物質對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言,較佳為使用利用碘將PVA系膜進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘進行之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可於延伸後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由於染色之前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗,不僅可洗淨PVA系膜表面之污漬或抗黏連劑,亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例,可例舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下方式製作,即,將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層,而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體;將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中,延伸代表性而言包括使積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而,延伸可視需要進而包括於硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即,可將樹脂基材作為偏光元件之保護層),亦可將樹脂基材自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離,於該剝離面上積層視目的而定之任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報(日本專利第5414738號)、日本專利第6470455號中。將該專利文獻之記載作為參考引用於本說明書中。
偏光元件之厚度較佳為15 μm以下,更佳為1 μm~12 μm,進而較佳為3 μm~10 μm,特佳為3 μm~8 μm。若偏光元件之厚度處於此種範圍內,則可良好地抑制加熱時之捲曲,且可獲得良好之加熱時之外觀耐久性。進而,若偏光元件之厚度處於此種範圍內,則可有助於圓偏光板(結果為有機EL顯示裝置)之薄型化。
偏光元件較佳為於波長380 nm~780 nm之任一波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為43.0%~46.0%,更佳為44.5%~46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上,更佳為99.0%以上,進而較佳為99.9%以上。
B-2.保護層
第1保護層12及第2保護層13分別由可用作偏光元件之保護層的任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例,可例舉:三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又,亦可例舉:(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外,例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如可使用如下樹脂組合物,該樹脂組合物含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基的熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂,例如可例舉含有包含異丁烯及N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
如下所述,圓偏光板代表性而言配置於圖像顯示裝置之視認側,第1保護層12代表性而言配置於該視認側。因此,可視需要對第1保護層12實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者,亦可視需要對第1保護層12實施改善經由偏光太陽眼鏡進行視認之情形時之視認性之處理(代表性而言為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理,即便於經由偏光太陽眼鏡等偏光透鏡對顯示畫面進行視認之情形時,亦可實現優異之視認性。因此,圓偏光板亦可較佳地應用於能夠在室外使用之圖像顯示裝置。
第1保護層之厚度代表性而言為300 μm以下,較佳為100 μm以下,更佳為5 μm~80 μm,進而較佳為10 μm~60 μm。再者,於實施了表面處理之情形時,外側保護層之厚度為包含表面處理層之厚度在內之厚度。
第2保護層13於一實施方式中較佳為具有光學各向同性。於本說明書中,所謂「具有光學各向同性」,係指面內相位差Re(550)為0 nm~10 nm,厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm~+10 nm。
C.圖像顯示裝置
上述B項中所記載之圓偏光板可應用於圖像顯示裝置。因此,本發明之實施方式亦包含使用此種圓偏光板之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例,可例舉液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置。本發明之實施方式之圖像顯示裝置於其視認側具備上述B項中所記載之圓偏光板。圓偏光板係以偏光元件成為視認側之方式進行配置。
[實施例]
以下,藉由實施例對本發明進行具體說明,但本發明並不受該等實施例限定。再者,各特性之測定方法如下所述。
(1)厚度
使用針盤量規(PEACOCK公司製造,產品名「DG-205 type pds-2」)進行測定。
(2)玻璃轉移溫度(Tg)
樹脂及膜之玻璃轉移溫度係使用精工電子奈米科技公司製造之示差掃描熱量計DSC6220進行測定。將約10 mg之樹脂試樣加入至精工電子奈米科技公司製造之鋁鍋中並密封,於50 mL/分鐘之氮氣氣流下以20℃/分鐘之升溫速度自30℃升溫至200℃。保持該溫度3分鐘後,以20℃/分鐘之速度冷卻至30℃。於30℃下保持3分鐘,再次以20℃/分鐘之速度升溫至200℃。根據於第2次升溫中獲得之DSC(Differential Scanning Calorimetry,示差掃描熱析)資料,求出外推玻璃轉移開始溫度並將其作為玻璃轉移溫度(Tg),該外推玻璃轉移開始溫度係將低溫側之基線向高溫側延長而獲得之直線與在玻璃轉移之階梯狀變化部分之曲線斜率達到最大之點處所作之切線的交點之溫度。
(3)吸水率
使用實施例及比較例中所獲得之膜,並依據JIS K 7209中所記載之「塑膠之吸水率及沸騰吸水率試驗方法」進行測定。試驗片之大小為邊長50 mm之正方形,藉由使試驗片浸漬於水溫25℃之水中24小時,然後測定浸水前後之重量變化而求出吸水率。單位為%。
(4)樹脂中之改質劑之含量
藉由
1H-NMR(
1Hydrogen-Nuclear Magnetic-Resonance,一氫-核磁共振)對樹脂中之改質劑(化合物(A))之實際含量進行分析。自實施例及比較例中所獲得之相位差膜稱取約15 mg,溶解於約0.7 mL之氘氯仿中,將其放入內徑5 mm之NMR用管中,測定
1H-NMR光譜。又,分別精密地稱量不含改質劑之樹脂及改質劑,製備已知含量之試樣,以同樣之方式測定
1H-NMR。根據所獲得之
1H-NMR光譜,由來自構成樹脂之各成分之訊號及來自改質劑之訊號計算每一個質子之積分值,並將該數值乘以各成分之分子量,算出與樹脂之重量及改質劑之重量相對應之數值。若將該數值分別設為X、Y,則改質劑之含量係藉由下式求出。此處,係數α係根據已知含量之試樣之測定結果來確定。
改質劑之含量[質量%]=α×Y/(X+Y)×100
使用之裝置及條件如下所述。
・裝置:JNM-ECZ400S(日本電子公司製造)
・測定溫度:30℃
・緩和時間:6秒
・累計次數:64次
(5)相位差值
自實施例及比較例中所獲得之相位差膜切出50 mm×50 mm之樣品作為測定樣品,使用Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為450 nm、550 nm、590 nm、650 nm,測定溫度為23℃。
(6)加濕試驗中之相位差變化
藉由將實施例及比較例中所獲得之相位差膜經由黏著劑層貼合於玻璃上而製作樣品,以與上述相位差之測定相同之方法測定相位差。將測定後之樣品置於60℃、90%RH之環境下500小時後,取出樣品,再次測定相位差,求出Re(550)之變化率(%)。
良:相位差變化率(%)之絕對值未達1.40%
不良:相位差變化率(%)之絕對值為1.40%以上
(7)加濕試驗中之尺寸變化
將實施例及比較例中所獲得之延伸膜或相位差膜切成20 mm(遲相軸方向)×4 mm(進相軸方向)作為測定樣品。將測定樣品置於60℃、90%RH之環境下500小時後,對測定樣品之長度方向上之尺寸變化率進行測定。
良:尺寸變化率(%)之絕對值未達0.12%
不良:尺寸變化率(%)之絕對值為0.12%以上
(8)加熱、加濕試驗中之尺寸變化
將實施例及比較例中所獲得之延伸膜或相位差膜切成20 mm(遲相軸方向)×4 mm(進相軸方向)作為測定樣品。將測定樣品置於85℃、85%RH之環境下500小時後,對測定樣品之長度方向上之尺寸變化率進行測定。
良:尺寸變化率(%)之絕對值未達0.30%
不良:尺寸變化率(%)之絕對值為0.30%以上
[化合物之簡稱]
以下合成例、實施例及比較例中使用之化合物之簡稱如下所述。
・BPFM:雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷
利用日本專利特開2015-25111號公報(日本專利第6311264號)中所記載之方法合成。
[化11]
・ISB:異山梨糖醇[Roquette freres公司製造]
・SPG:螺二醇[三菱瓦斯化學(股份)製造]
・DPC:碳酸二苯酯[三菱化學(股份)製造]
・PHL:苯酚[三菱化學公司製造]
・Irganox1010:季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯][BASF公司製造] … 分子量1178
・Irganox1330:1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯[BASF公司製造] … 分子量775
・Irganox3114:異氰尿酸三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)酯[BASF公司製造] … 分子量784
・LA-31:2,2'-亞甲基雙[6-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚[ADEKA公司製造] … 分子量659
・LA-F70:6,6',6''-(1,3,5-三𠯤-2,4,6-三基)三(3-己氧基-2-甲基苯酚)[ADEKA公司製造]… 分子量700
・TPP:磷酸三苯酯[東京化成工業公司製造] … 分子量326
・DMT:對苯二甲酸二甲酯[東京化成工業公司製造] … 分子量194
・PEP36:3,9-雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)-2,4,8,10-四氧雜-3,9-二磷雜螺[5.5]十一烷[ADEKA公司製造] … 分子量633
・BR80:丙烯酸系樹脂[三菱化學公司製造]
[製造例1]
使用包含豎型攪拌反應器3台與橫型攪拌反應器1台、及雙軸擠出機之連續聚合設備,進行聚酯碳酸酯樹脂之聚合。使ISB、SPG與PHL、BPFM與DPC分別於各熔解槽中熔融(PHL係用作使SPG溶解之溶劑)。此時,以SPG與PHL之重量比成為55.0/45.0,BPFM與DPC之重量比成為30.3/69.7之方式進行混合。將ISB熔融液以49.9重量份/hr、SPG-PHL混合液以68.5重量份/hr、BPFM-DPC混合液以75.3重量份/hr(以莫耳比計為ISB/SPG/BPFM/DPC=0.734/0.266/0.126/0.874)之流量連續供給至第1豎型攪拌反應器。同時,將作為聚合觸媒之乙酸鈣一水合物之水溶液以相對於所有二羥基化合物1 mol而言乙酸鈣一水合物之添加量成為12 μmol之方式供給至第1豎型攪拌反應器。各反應器之內溫、內壓、滯留時間分別設為:第1豎型攪拌反應器:195℃、27 kPa、90分鐘;第2豎型攪拌反應器:205℃、20 kPa、70分鐘;第3豎型攪拌反應器:220℃、10 kPa、60分鐘;第4橫型攪拌反應器:235℃、0.1~1.0 kPa、150分鐘。以最終所獲得之樹脂之比濃黏度成為0.45~0.47 dL/g之方式,一面對第4橫型攪拌反應器之真空壓力進行微調整一面進行運轉。將自第4橫型攪拌反應器抽出之樹脂以熔融狀態供給至排氣式雙軸擠出機[日本製鋼所公司製造]。擠出機具有2個真空排氣口,此處,將樹脂中殘存之低分子量成分去揮發去除,並且於第1排氣口之近前方添加相對於聚酯碳酸酯樹脂為3.7重量ppm之膦酸作為觸媒失活劑。於第2排氣口之後添加相對於聚酯碳酸酯樹脂為1000質量ppm之Irganox1010及相對於聚酯碳酸酯樹脂為100質量ppm之PEP36作為熱穩定劑。再者,此處添加之Irganox1010及PEP36為相當於本發明中之化合物(A)之化合物,並包含於改質劑之含量內。使通過擠出機之聚碳酸酯樹脂繼續以熔融狀態通過網眼為10 μm之Ultipleat燭式過濾器[PALL公司製造]而過濾異物。其後,將熔融樹脂自模頭擠出為線狀,水冷、固化後,利用旋轉式切割器切斷,藉此製成顆粒。源自各單體之結構單元之比率為BPFM/ISB/SPG/DPC=21.5/39.4/30.0/9.1質量%。
[實施例1]
使用製造例1中所獲得之聚酯碳酸酯樹脂進行擠出混練。將聚酯碳酸酯樹脂之顆粒與作為改質劑之Irganox1010 2.0質量%加以混合,使用定量送料機投入至雙軸擠出機TEX30HSS[日本製鋼所公司製造]。擠出機料缸溫度設定為240℃,以處理量12 kg/hr、螺桿轉速120 rpm進行擠出。又,擠出機中具備真空排氣口,一面將熔融樹脂進行減壓去揮發一面擠出。將熔融樹脂自模頭擠出為線狀,水冷、固化後,利用旋轉式切割器切斷,藉此製成顆粒。使以此方式獲得之樹脂組合物之顆粒於100℃下真空乾燥6小時以上之後,使用具備單軸擠出機(Technovel公司製造、螺桿直徑30 mm、料缸設定溫度:235℃、附有真空排氣口)、T型模頭(寬400 mm、設定溫度:245℃)、冷卻輥(設定溫度:125~135℃)及卷取機之製膜裝置,製作長10 m、寬350 mm、厚110 μm之長條未延伸膜。於將膜移取完畢後,確認冷卻輥表面,結果未觀察到輥有污漬。所獲得之膜之玻璃轉移溫度(Tg)為137℃,吸水率為1.6%。繼而,自該長條未延伸膜切出120 mm(製造時之膜之搬送方向:MD(Machine direction,機械方向))×150 mm(與搬送方向正交之方向:TD(Transverse Direction,橫向方向))之樣品。使用實驗室拉伸機「Bluckner KARO IV」,將延伸溫度設定為樹脂試樣之「Tg+4℃」,改變延伸倍率而於TD方向對將樣品進行固定端單軸延伸,將面內相位差Re(測定波長590 nm)調整為145 nm而製作相位差膜。將結果示於表1。
[實施例2]
除調配1質量%之Irganox1330作為改質劑以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。確認到於冷卻輥表面有少量之附著物。膜之Tg為140℃,吸水率為1.7%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[實施例3]
調配2質量%之Irganox1330作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。確認到於冷卻輥表面有少量之附著物。膜之Tg為139℃,吸水率為1.6%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[實施例4]
調配2質量%之Irganox3114作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。確認到於冷卻輥表面有少量之附著物。膜之Tg為139℃,吸水率為1.7%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[實施例5]
調配2質量%之LA-31作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。未觀察到冷卻輥表面有污漬。膜之Tg為138℃,吸水率為1.7%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[實施例6]
調配2質量%之Irganox1010作為改質劑,並調配0.7質量%之BR80作為丙烯酸系樹脂,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。未觀察到冷卻輥表面有污漬。膜之Tg為137℃,吸水率為1.6%。進而,將延伸溫度設定為樹脂試樣之「Tg-2℃」,除此以外,與實施例1同樣地獲得相位差膜。將結果示於表1。
[實施例7]
調配1.5質量%之Irganox1010作為改質劑、0.3質量%之LA-F70、及0.7質量%之BR80作為丙烯酸系樹脂,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。未觀察到冷卻輥表面有污漬。膜之Tg為137℃,吸水率為1.7%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[比較例1]
調配0.2質量%之Irganox1010作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。未觀察到冷卻輥表面有污漬。膜之Tg為140℃,吸水率為1.8%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[比較例2]
調配5質量%之Irganox1010作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地進行擠出混練,但熔融樹脂之噴出狀態不穩定,無法獲得顆粒狀樣品。
[比較例3]
調配2質量%之TPP作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。未觀察到冷卻輥表面有污漬。膜之Tg為134℃,吸水率為1.5%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[比較例4]
調配2質量%之DMT作為改質劑,除此以外,與實施例1同樣地製作相位差膜。確認到於冷卻輥表面有少量之附著物。膜之Tg為131℃,吸水率為1.5%。將所獲得之相位差膜供於與實施例1相同之評估。將結果示於表1。
[表1]
添加劑 | 化合物(A)之含量[質量%] | Tg [℃] | 吸水率[%] | 加濕條件 (60℃/90%RH、500 hrs) | 加熱加濕條件 (85℃/85%RH、500 hrs) | ||
相位差變化 | 尺寸變化 | 尺寸變化 | |||||
實施例1 | Irganox1010 | 2.09 | 137 | 1.6 | 良 | 良 | 良 |
實施例2 | Irganox1330 | 1.04 | 140 | 1.7 | 良 | 良 | 良 |
實施例3 | Irganox1330 | 2.03 | 139 | 1.6 | 良 | 良 | 良 |
實施例4 | Irganox3114 | 2.04 | 139 | 1.7 | 良 | 良 | 良 |
實施例5 | LA-31 | 2.10 | 138 | 1.7 | 良 | 良 | 良 |
實施例6 | Irganox1010 BR80 | 2.10 | 137 | 1.6 | 良 | 良 | 良 |
實施例7 | Irganox1010 LA-F70 BR80 | 1.83 | 137 | 1.7 | 良 | 良 | 良 |
比較例l | Irganox1010 | 0.29 | 140 | 1.8 | 不良 | 不良 | 不良 |
比較例2 | Irganox1010 | 無資料 | 無資料 | 無資料 | 無資料 | 無資料 | 無資料 |
比較例3 | TPP | 2.05 | 134 | 1.5 | 不良 | 不良 | 不良 |
比較例4 | DMT | 2.03 | 131 | 1.5 | 不良 | 不良 | 不良 |
[評估]
由表1可知,藉由具有本發明之實施例之構成,可獲得加濕條件下之相位差變化、尺寸變化及加熱濕條件下之尺寸變化得到抑制之相位差膜。
[產業上之可利用性]
本發明之相位差膜適宜用於圓偏光板,圓偏光板適宜用於圖像顯示裝置(代表性而言為液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置)。
10:偏光板
11:偏光元件
12:第1保護層
13:第2保護層
20:相位差膜
100:圓偏光板
圖1係本發明之一實施方式之圓偏光板之概略剖視圖。
10:偏光板
11:偏光元件
12:第1保護層
13:第2保護層
20:相位差膜
100:圓偏光板
Claims (9)
- 一種相位差膜,其含有:樹脂,其包含選自由碳酸酯鍵及酯鍵所組成之群中之至少1種鍵結基、及選自由下述通式(1)所表示之結構單元及下述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元,且具有正折射率各向異性;及化合物(A),其含有芳香族結構且分子量為500以上2000以下; 該化合物(A)之含量超過0.5質量%且為4.0質量%以下, Re(550)為100 nm~200 nm,Re(450)/Re(550)超過0.5且未達1.0, [化1] [化2] 通式(1)及(2)中,R 1~R 3分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代之碳數1~4之伸烷基,R 4~R 9分別獨立地為氫原子、經取代或未經取代之碳數1~10之烷基、經取代或未經取代之碳數4~10之芳基、經取代或未經取代之碳數1~10之醯基、經取代或未經取代之碳數1~10之烷氧基、經取代或未經取代之碳數1~10之芳氧基、經取代或未經取代之胺基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙烯基、經取代或未經取代之碳數1~10之乙炔基、具有取代基之硫原子、具有取代基之矽原子、鹵素原子、硝基或氰基;其中,R 4~R 9可彼此相同或不同,R 4~R 9中,相鄰接之至少兩個基可相互鍵結而形成環; Re(550)為於23℃下藉由波長550 nm之光所測得之膜之面內相位差,Re(450)為於23℃下藉由波長450 nm之光所測得之膜之面內相位差。
- 如請求項1之相位差膜,其中上述具有正折射率各向異性之樹脂含有1質量%~40質量%之選自由上述通式(1)所表示之結構單元及上述通式(2)所表示之結構單元所組成之群中之至少1種結構單元。
- 如請求項1至4中任一項之相位差膜,其進而包含丙烯酸系樹脂,該丙烯酸系樹脂之含量為0.5質量%以上2.0質量%以下。
- 如請求項1至5中任一項之相位差膜,其中上述化合物(A)之含量為1.0質量%以上3.0質量%以下。
- 一種圓偏光板,其具有偏光元件及如請求項1至7中任一項之相位差膜, 該偏光元件之吸收軸與該相位差膜之遲相軸所成之角度為40°~50°或130°~140°。
- 一種圖像顯示裝置,其於視認側具備如請求項8之圓偏光板,且該圓偏光板之偏光元件配置於視認側。
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