TW202138680A - 真空泵及注入滌洗氣體之方法 - Google Patents

Abstract

一種真空泵(1)包括通過至少一注入孔口(15)顯現之至少一注入通道(10)，其被組構成用以將滌洗氣體注入在於該逆止閥(4)之該開啟位置中之該閥座(5)之支承面上、及/或在移動閉合構件(6)上、及/或在被固定至該真空泵(1)之定子部分(12)的至少一導引元件(13)上，該導引元件(13)被組構成用以導引該移動閉合構件(6)在該逆止閥(4)之該開啟及關閉位置之間的位移。

Description

真空泵及注入滌洗氣體之方法

本發明係關於乾式真空泵。本發明亦關於將滌洗氣體注入至真空泵之方法。

在所謂「粉末」方法中採用某些真空泵，因為氣體實施會顯現大量的固體副產物。舉例來說，諸如一些半導體製造方法或一些塗覆沈積方法或平板顯示器製造方法或LED製造方法。

當泵送從這些方法衍生的氣體時，在真空泵或管線中可能形成固體化合物且可能會沈積在真空泵中，這會限制氣體通道尺寸且導致泵送容量損失。這些沈積物亦可能會中斷真空泵之移動部分的正確操作，尤其是在定子中轉動的轉子，或者是再循環、釋壓或排放逆止閥之主動部分。

逆止閥係如釋壓閥般操作，其可開啟以避免在真空泵中不當的過壓力。這些亦可能造成氣體僅在單一方向上循環。逆止閥必須可基於壓力差而被開啟，且它們亦必須可被緊密關閉。在真空泵中沈積物之過度累積的一結果是不再能夠正確地確保這兩功能中之一者。這些故障不僅會損害生產率，且亦會顯現人員安全及設備損壞風險的問題。

可藉由用非黏性塗層(諸如PTFE)塗覆閥之移動部分及閥座來降低這些風險，但此材料之成本較高且其使用會因為潛在毒性性質而具有重大的環境影響。亦可藉由濺鍍來沈積塗層，但無法保證其隨時間經過的強度。另一解決方案可包含水平配置逆止閥，使得重力有助於沈積之粉末的排放。然而，通常黏附的沈積物可能難以僅藉由重力來排放。

本發明之一目的係提出一種增進的真空泵，其至少部分地解決當前技術之若干缺點中之一者。

為此，本發明之標的係一種真空泵，包括： 至少一泵送級，位於該至少一泵送級中之兩轉子被組構成在相反方向上同步轉動以驅動待泵送之氣體， 至少一逆止閥包括閥座及移動閉合構件，該逆止閥能位於關閉位置及開啟位置，當該逆止閥位於該關閉位置時，該移動閉合構件關閉該閥座之通道，且當當該逆止閥位於該開啟位置時，該移動閉合構件開放該通道，在該移動閉合構件兩側上的壓力差係能開啟該逆止閥，其特徵在於，該真空泵進一步包括至少一注入通道，通過該至少一注入孔口顯現，該至少一注入孔口被組構成用以將滌洗氣體注入至： 該逆止閥之開啟位置中之該閥座的支承面上，及/或 該移動閉合構件上，及/或 被固定至該真空泵之定子部分之至少一導引元件上，該至少一導引元件被組構成用以導引該移動閉合構件在該逆止閥之開啟及關閉位置之間的位移。

滌洗氣體之注入可以清潔逆止閥以防止可能阻礙其操作之沈積物的存在。逆止閥之清潔允許在過壓力的情況中長時間確保閥之閉合密封功能及開啟功能。

真空泵可包括通過至少一注入孔口顯現之至少一注入通道，其被組構成用以在逆止閥之開啟位置中注入滌洗氣體於閥座之支承面上。支承面之清掃可使得在關閉位置中與移動閉合構件接觸之閥座的表面不存在粒子或沈積物以保證逆止閥之緊密閉合。

移動閉合構件能以平移、旋轉或以組合移動來位移。

逆止閥可包括被固定至該真空泵之定子部分之至少一導引元件上，該至少一導引元件被組構成用以導引該移動閉合構件在該逆止閥之開啟及關閉位置之間的位移。該真空泵可包括通過至少一注入孔口顯現之至少一注入通道，其被組構成用以注入滌洗氣體於該導引元件上，這使得可確保移動閉合構件之導引功能。

依照一例示性實施例，該導引元件包括與該移動閉合構件之導引包殼協作之桿，以導引該移動閉合構件之軸向平移位移。該注入通道可被組構成沿著導引元件之桿注入滌洗氣體。移動閉合構件之桿及/或導引包殼可因此具有與注入通道連通之螺旋凹槽以用於導引滌洗氣體。

依照另一例示性實施例，逆止閥具有用於移動閉合構件之旋轉導引元件。

真空泵可包括通過至少一注入孔口顯現之至少一注入通道，其被組構成用以特別地在逆止閥之關閉位置中注入滌洗氣體於移動閉合構件上。滌洗氣體注入在移動閉合構件上可使得避免可能阻止或限制逆止閥開啟之沈積物的累積。

舉例而言，該真空泵可包括注入通道，該注入通道包括形成在該導引元件中之第一通道，該第一通道通過至少一注入孔口顯現，以用於在該逆止閥之該關閉位置中將滌洗氣體注入在該移動閉合構件上。

真空泵亦可包括單獨或組合採用之一或多個特徵，其將在下文中描述。

注入通道可包括用於滌洗氣體之至少一注入孔口，其在逆止閥之關閉位置中由該移動閉合構件阻擋且在開啟位置中開放。該逆止閥因此係自阻擋，該逆止閥之閉合密封滌洗氣體之注入。

逆止閥可包括將移動閉合構件壓迫至關閉位置之彈性回復構件。

真空泵可包括注入通道，該注入通道包括通過至少一注入孔口顯現之形成在導引元件中之第一通道及形成在移動閉合構件中之至少一第二通道，該至少一注入孔口被安置成面向該閥座，該第一及第二通道彼此連通。滌洗氣體因此可通過導引元件來清潔閥座之支承面。

在導引元件包括與移動閉合構件之導引包殼協作之桿以導引移動閉合構件之軸向平移位移的情況中，導引元件之第一通道之至少一注入孔口及移動閉合構件之導引包殼可相對於彼此定位成使得： 滌洗氣體可在該逆止閥之該關閉位置中通過該導引元件之至少一注入孔口被注入，及 滌洗氣體可在該逆止閥之該開啟位置中通過由該移動閉合構件顯現之該至少一注入孔口被注入。

滌洗氣體之注入因此可依照逆止閥之位置而差異化，當閥開啟時可清潔閥座之支承面，或者當逆止閥關閉時可清潔移動閉合構件之後部分。

依照另一例示性實施例，通過至少一注入孔口顯現之注入通道被組構成用以在該逆止閥之該開啟位置中在與將該閥座之平坦支承面及該移動閉合構件之互補平坦表面分開之平面相切的方向上來注入滌洗氣體。

依照另一例示性實施例，通過至少一注入孔口顯現之注入通道被組構成用以在該逆止閥之該關閉位置中注入滌洗氣體於阻擋該通道之該移動閉合構件之頭部之錐形齒腹上。

該至少一注入通道可被組構成用以注入漩流滌洗氣體。滌洗氣體之漩流可增進清潔。

真空泵可包括至少兩泵送級且該逆止閥係配置在第一或第二泵送級之輸出處的釋壓閥。在開啟位置中，釋壓閥可短路真空泵之最後泵送級，其可限制在強氣流之泵送情況中顯現之總流速。

真空泵可包括至少兩泵送級且該逆止閥係配置在最後泵送級之輸出處的排放閥。排放逆止閥可避免泵送氣體返回至真空泵。

逆止閥可以係連接在第一泵送級之輸出及輸入之間的再循環逆止閥。逆止閥之開啟可以在泵送強氣流的情況中使得待泵送之氣體在相同泵送級中再循環。

本發明之另一標的係一種用於注入滌洗氣體至如前所述之真空泵中的方法，其特徵在於，滌洗氣體被注入在於該逆止閥之開啟位置中之該閥座之支承面上、及/或在該移動閉合構件上、及/或在被固定至該真空泵之定子部分的導引元件上，該導引元件被組構成用以導引該移動閉合構件在該逆止閥之該開啟及關閉位置之間的位移。

以下的實施例係實例。雖然描述係指一或多項實施例，但這並不一定表示各參考關於相同實施例，或者特徵僅適用於單一實施例。不同實施例之簡單特徵亦可以組合或互換以提供其他實施例。

主真空泵被定義為體積式真空泵，其被組構成利用兩轉子來抽吸、轉移、接著在大氣壓力下排放待泵送的氣體。轉子由兩軸桿所承載，該兩軸桿藉由主真空泵之馬達驅動旋轉。一主真空泵可以係多級，換言之，其包括數個級(至少兩個)，諸如兩個至九個泵送級。

魯氏真空泵(亦稱為「魯氏鼓風機」被定義為體積式真空泵，其被組構成利用魯氏型轉子抽吸、轉移接著排放待泵送的氣體。魯氏真空泵被安裝在主真空泵的上游且與主真空泵串聯。轉子由兩軸桿所承載，該兩軸桿藉由魯氏真空泵之馬達驅動旋轉。該魯氏真空泵包括一至三個泵送級。

「上游」被理解為表示一元件相對於氣體之循環方向被放置在另一元件之前。另一方面，「下游」被理解為表示一元件相對於待泵送氣體之循環方向被放置在另一元件之後。

真空泵1係例如連接至用於泵送氣體之腔室。其可以係使用在生產矽晶圓上之微電子裝置的沈積及蝕刻程序或塗覆程序或平板顯示器生產程序或LED製造程序發生的腔室。

本發明可應用於任何類型的乾式真空泵、單級或多級，換言之，包括一或多個級(至少兩個)。此真空泵可以係多級主真空泵，其被組構成用以排放在大氣壓力下泵送之氣體，或者一至三個泵送級之魯氏真空泵，其在使用時被連接至主真空泵的上游。

眾所周知，真空泵1包括機械驅動部分(未圖示)，包括馬達驅動轉子、轉子同步齒輪及支撐轉子之軸桿的軸承。真空泵1亦包括氣體可於其中循環之乾式泵送級，該真空泵1亦包括密封構件，允許軸桿在乾式泵送部分中旋轉，同時限制潤滑劑從機械驅動部分移動至該乾式泵送部分。

在乾式泵送部分中，該真空泵1包括至少一泵送級1a-1e，位於該至少一泵送級1a-1e中之兩轉子被組構成在相反方向上同步轉動以驅動待泵送之氣體。真空泵1被稱為「乾式」係因為在操作時，在定子內部轉動之轉子不會與定子機械接觸，這使得其在乾式泵送部分中不需使用油。

真空泵1係例如「魯氏」或「爪式」或螺旋或螺桿型或基於另一類似體積式真空泵原理的主真空泵。

圖1因此表示泵單元之實例，該泵單元包括配置在多級真空泵上游之單級真空泵。

多級真空泵1包括例如五個泵送級1a-1e，串聯安裝在抽吸2及排放3之間。與真空泵1之抽吸2連通之泵送級1a係第一泵送級，亦稱為低壓力級，且與排放3連通之泵送級1e係最後泵送級，亦稱為高壓力級。連續泵送級1a-1e之壓縮腔室係藉由將前一泵送級之壓縮腔室之輸出連接至下一級之壓縮腔室之輸入的至少一各自級間通道而一個接著一個地串聯連接。在旋轉期間，從真空泵1之抽吸2被抽吸的氣體被拘留在由泵送級1a-1f之轉子及定子顯現的體積內，然後被壓縮及驅使至下一級且直至真空泵1的排放3。該泵送級1a-1e具有一顯現的體積，換言之，泵送氣體體積，其隨著泵送級1a-1e而遞減(或保持相等)，第一泵送級1a具有最高顯現流速且最後泵送級1e具有最低顯現流速。

真空泵1亦包括至少一逆止閥4。逆止閥4包括閥座5及移動閉合構件6。移動閉合構件6可平移、旋轉或藉由組合移動而位移。

逆止閥4可位於關閉位置(圖2)，其中該移動閉合構件6係與閥座5之支承面接觸且關閉用於待泵送氣體之閥座5的通道7，且可位於開啟位置(圖3)，其中該移動閉合構件6遠離閥座5，開放用於氣體的通道。

逆止閥4可依照在移動閉合構件6之兩側上的壓力差而被開啟。舉例而言，在泵送級中過壓力的情況下，該逆止閥4開啟。當上游/下游壓力差低於逆止閥4之負荷臨限值時，逆止閥4被關閉，該移動閉合構件6防止氣體通過。當逆止閥4之上游/下游壓力差高於逆止閥4之負荷臨限值時，移動閉合構件6與閥座5分離，透過逆止閥4開放用於待泵送氣體之通道。

真空泵1包括例如再循環逆止閥4a及/或至少兩泵送級1a-1e及至少一釋壓逆止閥4b及/或至少一排放逆止閥4c。

再循環逆止閥4a(亦稱為壓力釋放逆止閥)被連接在同一泵送級1a之輸出及輸入之間。其被組構成只要泵送級1a之輸入及輸出之間的壓力差超過預定臨限值便立即開啟。逆止閥4a之開啟可以在泵送強氣流的情況中使得待泵送之氣體在相同泵送級中再循環。該臨限值尤其係依照顯現之流速之比值且依照機械安全設定而被預定義。再循環逆止閥4a亦配置在例如配置在主真空泵上游之具有一至三個泵送級之魯氏真空泵之第一泵送級1a之輸出及輸入之間。

釋壓逆止閥4b使得可吸收且準時地轉移強氣流，同時限制真空泵1之電消耗，例如在腔室於大氣壓力下洩壓期間。其係例如配置在低壓力泵送級之輸出處，諸如在多級真空泵1之第一或第二泵送級1a、1b的輸出處。在開啟位置中，釋壓逆止閥4b使得可短路真空泵1之最後泵送級1c-1e，其可限制總顯現流速。

排放逆止閥4c(亦稱為止回逆止閥)配置在最後泵送級1e之輸出處，換言之，多級真空泵1之排放3處，大體上在真空泵1之消音器上游。這使得可以避免的泵送氣體返回至真空泵1中。

在逆止閥4之配置的所有例子中，移動閉合構件6之頭部8被組構成阻擋氣體之通道7。

在圖2至4之實例中，閥座5具有平坦形狀且頭部8具有與閥座5之通道7互補的圓柱形形狀。移動閉合構件6及/或閥座5亦可具有密封塗層或墊片9，例如由彈性體材料或聚矽氧製成，以加強機械強度且耐高溫。

逆止閥4可包括彈性回復構件11，其將移動閉合構件6壓迫至關閉位置中。彈性回復構件11包括例如插置在移動閉合構件6與真空泵1之定子部分12之間的彈簧。亦可以不使用彈簧而利用重力將移動閉合構件6壓迫至關閉位置中。

逆止閥4可包括固定至定子部分12之至少一導引元件13，其被組構成導引移動閉合構件6在逆止閥4之開啟及關閉位置之間的位移。

依照例示性實施例，導引元件13包括與移動閉合構件6之導引包殼14協作之桿以導引移動閉合構件6之軸向平移位移。導引包殼14係例如圓柱形腔。其可被形成在移動閉合構件6之中心軸線。彈性回復構件11係例如安置於導引元件13之桿的周圍，該桿亦導引彈性回復構件11之壓縮。

真空泵1進一步包括通過至少一注入孔口15顯現之至少一注入通道10，其被組構成在逆止閥4之開啟位置中將滌洗氣體注入在閥座5之支承面上及/或在移動閉合構件6上及/或在導引元件13上。

滌洗氣體係例如氮氣。

滌洗氣體之注入可以清潔逆止閥4以防止可能阻礙其操作之沈積物的存在。因此可以在兩次維護週期之間的較長時間中確保逆止閥4在過壓力的情況下之密封閉合功能及開啟功能。

滌洗氣體之注入僅局部標定在逆止閥4之主動部分，諸如閥座5之支承面、移動閉合構件6及/或導引元件13上。

滌洗氣體之注入可以連續或依時間標定。時間不連續注入可以不中斷真空泵1之泵送及最終真空性能程度(不存在待泵送之氣體流)。

特定言之，當在連接至真空泵1之腔室中不發生任何程序時，滌洗氣體之注入可被控制在所謂「清潔」階段。為此，真空泵1包括例如驅動器單元，其被組構成接收腔室中發生之程序的資訊且基於此資訊來控制滌洗氣體之注入。

時間不連續注入亦可藉由事先定義之注入時間來決定。

依照另一實例，此不連續注入可藉由逆止閥4本身的移動而觸發，該注入通道10包括用於滌洗氣體之至少一注入孔口15，在關閉位置中由移動閉合構件6阻擋且在開啟位置中開放。逆止閥4因此可自阻擋，逆止閥4之關閉可關閉滌洗氣體的注入。

此實施例尤其適用於注入通道10通過被組構成在逆止閥4之開啟位置中注入滌洗氣體於逆止閥4之閥座5的支承面上之注入孔口15顯現的情況。

藉由滌洗氣體清掃支承面可使得在逆止閥4之關閉位置中與移動閉合構件6接觸之閥座5的表面不存在粒子或沈積物以保證逆止閥4之緊密閉合。

為此，舉例來說，真空泵1包括注入通道10，該注入通道10包括形成在導引元件13中之第一通道16及形成在移動閉合構件6中之至少一第二通道17。該至少一第二通道17通過安置成面向閥座5之各自注入孔口15而由移動閉合構件6顯現。第一通道及第二通道16、17彼此連通。可具有例如通過各自注入孔口15顯現之數個第二通道17，諸如六個至十個，均勻分佈於移動閉合構件6之周圍，以形成用於均勻清潔閥座5之支承面的「淋噴頭部」(圖4)。

在操作中，當逆止閥4處在關閉位置中時，用於滌洗氣體之注入孔口15由移動閉合構件6所阻擋。

在過壓力情況中，移動閉合構件6被向後推抵彈性回復構件11，其開啟逆止閥4。逆止閥4之開啟允許待泵送之氣體通過且開放注入孔口15用於注入滌洗氣體於閥座5之支承面上(圖3)。滌洗氣體通過導引元件13之注入清潔閥座5之支承面。

圖5及6顯示第二例示性實施例。

在此實例中，真空泵1包括通過被組構成注入滌洗氣體於移動閉合構件6之後部分19上的至少一注入孔口18顯現的注入通道10。更特定言之，注入通道10包括形成在導引元件13中之第一通道16。第一通道16通過至少一注入孔口18顯現以用於在逆止閥4之關閉位置中將滌洗氣體注入在移動閉合構件6上(圖5)。

可具有例如從第一通道16顯現之至少兩徑向相對的注入孔口18。

滌洗氣體注入在移動閉合構件6之後部分19上可以在關閉位置中清潔移動閉合構件6以避免可能阻止或限制逆止閥4開啟之沈積物的累積。

在導引元件13包括與移動閉合構件6之導引包殼14協作之桿以導引移動閉合構件6之軸向平移位移的情況中，亦可以提供導引元件13之第一通道26之至少一注入孔口18與移動閉合構件6之導引包殼14相對於彼此定位以在逆止閥4之關閉位置中通過導引元件13之至少一注入孔口18注入滌洗氣體，且在逆止閥4之開啟位置中通過從移動閉合構件6顯現之至少一注入孔口15注入滌洗氣體。

在操作中，當逆止閥4位在關閉位置中時(圖5)，滌洗氣體通過形成在導引元件13中之至少一第一注入孔口18注入滌洗氣體，其清潔移動閉合構件6之後部分19且防止粉末塊形成在移動閉合構件6上。此外，第二注入孔口15藉由移動閉合構件6與閥座5接觸而被阻擋。

在過壓力情況中，移動閉合構件6向後推扺彈性回復構件11，其開啟逆止閥4(圖6)。逆止閥4之開啟允許待泵送氣體通過，開放第二注入孔口15以注入滌洗氣體於閥座5上且關閉第一注入孔口18。

滌洗氣體之注入因此可依照逆止閥4之位置而差異化，當逆止閥4開啟時可清潔閥座5之支承面，或者當逆止閥4關閉時可清潔移動閉合構件6之後部分9。

圖7顯示第三例示性實施例，其中注入通道10定位在真空泵1之定子部分12(固定)中。

真空泵1包括通過至少一注入孔口15顯現之注入通道10，其被組構成當逆止閥4在開啟位置時在與將閥座5之平坦支承面與移動閉合構件6之互補平坦表面分離之平面相切的方向上注入滌洗氣體於逆止閥4之閥座5上。滌洗氣體在切線方向上的注入使得可以清潔閥座5之支承面以確保逆止閥4之緊密閉合。

真空泵1亦可包括通過至少一注入孔口15顯現的注入通道10，其被組構成沿著導引元件13之桿發送滌洗氣體，這使得可以保證移動閉合構件6及彈性回復構件11之導引功能(若需要)。

真空泵1亦可包括通過至少一注入孔口15顯現之注入通道10，其被組構成將滌洗氣體注入在移動閉合構件6上，尤其在關閉位置中，以防止在逆止閥4上累積粉末。滌洗氣體之注入可在與移動閉合構件6之後部分19之表面成直角或相切之方向上執行。

滌洗氣體之注入可以連續或依時間標定。滌洗氣體之注入係例如在所謂的「清潔」階段或由預定注入時間來控制。

該至少一注入通道10可被組構成注入漩流滌洗氣體(圖8)。

氣體之漩流效果可藉由一或多個注入孔口15之特定定向及定子部分12之至少部分圓形或圓柱形幾何形狀之組合而獲得。該漩流滌洗氣體可以增進清潔。

可在當逆止閥4在開啟位置時在與將閥座5之平坦支承面與移動閉合構件6之互補平坦表面分離之平面相切的方向上將漩流氣體注入於逆止閥4之閥座5上。該漩流氣體亦可注入於導引元件13周圍或注入在移動閉合構件6上。

圖9顯示第四例示性實施例。

在導引元件13包括與移動閉合構件6之導引包殼14協作之桿以導引移動閉合構件6之軸向平移位移的此實例中，真空泵1包括通過至少一注入孔口15顯現之注入通道10，其被組構以沿著該導引元件13之桿注入滌洗氣體。移動閉合構件6之該桿及/或導引包殼14可為此具有例如與注入通道10連通之螺旋凹槽20以用於導引滌洗氣體。此實施例使得可以避免在逆止閥4之導引表面上的沈積物，該沈積物可能會阻礙逆止閥4之移動。滌洗氣體之注入使得可以確保桿在導引包殼14中容易滑動。滌洗氣體可在逆止閥4之開啟及/或關閉位置中被注入。

雖然圖2至圖9係顯示大致圓柱形兩段式形狀之移動閉合構件6及平坦的閥座5，但亦可有其他實施例。特定言之，移動閉合構件6可為球形或部分球形或具有錐形或部分錐形頭部，且該閥座5可為錐形。該移動閉合構件亦可具有大體平坦形狀，諸如平板形狀，且可藉由通過移動閉合構件之旋轉導引元件在逆止閥之開啟及關閉位置之間樞轉而位移。

圖10及11顯示移動閉合構件6之另一實例，其頭部8具有與錐形閥座5互補之錐形齒腹21，以在關閉位置中阻擋閥座5之通道7。

在此實例中，注入通道10通過至少一注入孔口15顯現，其被組構成在逆止閥4之關閉位置中將滌洗氣體注入在阻擋通道7之移動閉合構件6之頭部8之錐形齒腹21上。該注入通道10係例如形成在真空泵1之定子部分12中。該真空泵1包括例如通過單一注入孔口15顯現之單一注入通道10，其被組構成注入顯著的流速(圖10)或該真空泵1包括數個較小的注入通道10，其被組構成將滌洗氣體注入在移動閉合構件6之頭部8的相對兩側上(圖 11)。

注入通道10可被組構成在與逆止閥之位移之軸向方向成直角的方向上(圖10)或在與移動閉合構件6之頭部8之錐形齒腹21成直角的方向上(圖11)注入滌洗氣體。

1:真空泵 1a:泵送級 1b:泵送級 1c:泵送級 1e:泵送級 1f:泵送級 2:抽吸 3:排放 4:逆止閥 4a:再循環逆止閥 4b:釋壓逆止閥 4c:排放逆止閥 5:閥座 6:移動閉合構件 7:通道 8:頭部 9:密封塗層或墊片 10:注入通道 11:彈性回復構件 12:定子部分 13:導引元件 14:導引包殼 15:注入孔口 16:第一通道 17:第二通道 18:注入孔口 19:後部分 20:螺旋凹槽 21:錐形齒腹 26:第一通道

本發明之其他特徵及優點可從以下描述中給定的非限制性實例中鑑於附圖來發現，其中：

[圖1]圖1係表示泵單元之示意圖，該泵單元包括多級主真空泵及安裝在主真空泵上游的魯氏真空泵。

[圖2]圖2顯示依照第一例示性實施例在關閉位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

[圖3]圖3顯示圖2之逆止閥在開啟位置中。

[圖4]圖4顯示圖2之逆止閥之移動閉合構件，其相較於圖2之視圖係顛倒的。

[圖5]圖5顯示依照第二例示性實施例在關閉位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

[圖6]圖6顯示類似於圖5在開啟位置的視圖。

[圖7]圖7顯示依照第三例示性實施例在開啟位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

[圖8]圖8顯示從上方觀看之圖7之逆止閥的變體。

[圖9]圖9顯示依照第四例示性實施例在關閉位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

[圖10]圖10顯示依照第五例示性實施例在關閉位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

[圖11]圖11顯示依照第六例示性實施例在關閉位置中之逆止閥的示意橫截面圖。

在這些圖式中，相同的元件係具有相同的元件符號。

4:逆止閥

5:閥座

6:移動閉合構件

7:通道

8:頭部

9:密封塗層或墊片

10:注入通道

11:彈性回復構件

12:定子部分

13:導引元件

14:導引包殼

15:注入孔口

16:第一通道

17:第二通道

19:後部分

Claims (15)

1. 一種真空泵(1)，包括： 至少一泵送級(1a-1e)，位於該至少一泵送級(1a-1e)中之兩轉子被組構成在相反方向上同步轉動以驅動待泵送之氣體， 至少一逆止閥(4)，包括閥座(5)及移動閉合構件(6)，該逆止閥(4)能位於關閉位置及開啟位置，當該逆止閥(4)位於該關閉位置時，該移動閉合構件(6)關閉該閥座(5)之通道(7)，且當該逆止閥(4)位於該開啟位置時，該移動閉合構件(6)開放該通道(7)，在該移動閉合構件(6)兩側上的壓力差係能開啟該逆止閥(4)， 其特徵在於，該真空泵(1)進一步包括至少一注入通道(10)，通過該至少一注入孔口(15；18)而顯現，該至少一注入孔口(15；18)被組構成將滌洗氣體注入至： 該逆止閥(4)之開啟位置中之該閥座(5)的支承面上，及/或 該移動閉合構件(6)上，及/或 被固定至該真空泵(1)之定子部分(12)之至少一導引元件(13)上，該至少一導引元件(13)被組構成用以導引該移動閉合構件(6)在該逆止閥(4)之開啟及閉合位置之間的位移。
2. 如請求項1之真空泵(1)，其中，該注入通道(10)包括用於滌洗氣體之至少一注入孔口(15)，其藉由該移動閉合構件(6)在該關閉位置中被阻擋且在該開啟位置中被開放。
3. 如請求項1之真空泵(1)，其中，其包括注入通道(10)，該注入通道(10)包括形成在該導引元件(13)中之第一通道(16)，該第一通道(16)通過至少一注入孔口(18)顯現，以用於在該逆止閥(4)之該關閉位置中將滌洗氣體注入在該移動閉合構件(6)上。
4. 如請求項1之真空泵(1)，其中，其包括注入通道(10)，該注入通道(10)包括通過該至少一注入孔口(15)顯現之形成在該導引元件(13)中之第一通道(16)及形成在該移動閉合構件(6)中之至少一第二通道(17)，該至少一注入孔口(15)被安置成面對該閥座(5)，該第一通道及該第二通道(16、17)彼此連通。
5. 如請求項1之真空泵(1)，其中，該導引元件(13)包括與該移動閉合構件(6)之導引包殼(14)協作之桿，以導引該移動閉合構件(6)之平移位移。
6. 如請求項5之真空泵(1)，其中，該導引元件(13)之該桿之該第一通道(16)之該至少一注入孔口(18)及該移動閉合構件(6)之該導引包殼(14)相對於彼此以如下方式被定位： 滌洗氣體可在該逆止閥(4)之該關閉位置中通過該桿之至少一注入孔口(18)被注入，及 滌洗氣體可在該逆止閥(4)之該開啟位置中通過由該移動閉合構件(6)顯現之該至少一注入孔口(15)被注入。
7. 如請求項5之真空泵(1)，其中，其包括通過至少一注入孔口(15)顯現之注入通道(10)，其被組構成用以沿著該桿注入滌洗氣體，該移動閉合構件(6)之該桿及/或該導引包殼(14)具有與該注入通道(10)連通之螺旋凹槽(20)用於導引該滌洗氣體。
8. 如請求項1之真空泵(1)，其中，其包括通過至少一注入孔口(15)顯現之注入通道(10)，被組構成用以在該逆止閥(4)之該開啟位置中在與將該閥座(5)之平坦支承面及該移動閉合構件(6)之互補平坦面分開之平面相切的方向上來注入滌洗氣體。
9. 如請求項1之真空泵(1)，其中，該注入通道(10)被組構成用以在該逆止閥(4)之該關閉位置中注入滌洗氣體於阻擋該通道(7)之該移動閉合構件(6)之頭部(8)之錐形齒腹(21)上。
10. 如請求項1之真空泵(1)，其中，該至少一注入通道(10)被組構成用以注入漩流滌洗氣體。
11. 如請求項1之真空泵(1)，其中，該逆止閥(4)包括將該移動閉合構件(6)壓迫至該關閉位置中之彈性回復構件(11)。
12. 如請求項1至11中任一項之真空泵(1)，其中，其包括至少兩泵送級(1a-1e)，該逆止閥(4)係配置在該第一或該第二泵送級(1a、1b)之輸出處的釋壓逆止閥(4a)。
13. 如請求項1至11中任一項之真空泵(1)，其中，其包括至少兩泵送級(1a-1e)，該逆止閥(4)係配置在該最後泵送級(1e)之輸出處的排放逆止閥(4c)。
14. 如請求項1至11中任一項之真空泵(10)，其中，該逆止閥(4)係連接於第一泵送級(1a)之輸出及輸入之間之再循環逆止閥(4a)。
15. 一種用於注入滌洗氣體至如請求項1至14中任一項之真空泵(1)中的方法，其特徵在於，滌洗氣體被注入至該逆止閥(4)之開啟位置中之該閥座(5)之支承面上、及/或至該移動閉合構件(6)上、及/或至被固定至該真空泵(1)之定子部分(12)的導引元件(13)上，該導引元件(13)被組構成用以導引該移動閉合構件(6)在該逆止閥(4)之該開啟及關閉位置之間的位移。

Images