TW202041821A - 資料中心中之冷卻電子裝置 - Google Patents

Abstract

一種資料中心冷卻系統包含：一外容器，其界定一第一體積；一內容器，其界定一第二體積且定位於該第一體積內，該內容器包含一空氣出口，該空氣出口包含該第一體積與該第二體積之間的一氣流路徑；一液體密封件，其流體地隔離填充該第一體積及該第二體積之至少一部分之一非傳導冷卻劑之一液相與一周圍環境；及至少一個伺服器托盤總成。該伺服器托盤總成包含：複數個電子熱產生裝置，其等浸沒於該非傳導冷卻劑之該液相中；及一浸沒冷卻系統，其安裝至該複數個電子熱產生裝置之一或多者且與該複數個電子熱產生裝置之一或多者傳導熱接觸。該浸沒冷卻系統包含與該一或多個電子熱產生裝置及該非傳導冷卻劑熱連通之一工作流體。

Description

資料中心中之冷卻電子裝置

本文獻係關於用於使用一非傳導冷卻劑提供冷卻至電腦資料中心中之電子設備(諸如電腦伺服器機架及相關設備)之系統及方法。

電腦使用者通常關注電腦微處理器之速度(例如，兆赫及千兆赫)。許多人忘了此速度通常係有代價的，即更高功率消耗。此功率消耗亦產生熱。此係因為依據簡單物理定律，所有功率需轉移至某處且某處最終係轉換為熱。安裝於一單一主機板上之一對微處理器可汲取數百瓦特或更多之功率。將該數字乘以數千(或數萬)以考量一大型資料中心中之許多電腦且吾人將容易瞭解可產生之熱量。當吾人併入支援關鍵負載所需之所有輔助設備時，資料中心中之關鍵負載所消耗之功率之效應通常加倍。

許多技術可用於冷卻定位於一伺服器或網路機架托盤上之電子裝置(例如，處理器、記憶體、網路連結裝置及其他熱產生裝置)。例如，可藉由在裝置上方提供一冷卻氣流而產生強制對流。定位於裝置附近之風扇、定位於電腦伺服器機房中之風扇及/或定位於與電子裝置周圍之空氣流體連通之通風道中之風扇可在含有裝置之托盤上方強制形成冷卻氣流。在一些例項中，一伺服器托盤上之一或多個組件或裝置可定位於托盤之一難以冷卻區域中；例如，強制對流並非特別有效或無法獲得之一區域。

冷卻不足及/或不充分之結果可為托盤上之一或多個電子裝置歸因於裝置之一溫度超過一最大額定溫度而故障。雖然特定冗餘可內建於一電腦資料中心、一伺服器機架及甚至個別托盤中，但歸因於過熱之裝置故障可在速度、效率及費用方面付出很大代價。

本發明描述一種資料中心冷卻系統，其使用一非傳導冷卻劑及與一或多個電子熱產生裝置熱接觸且浸沒於該冷卻劑中之一或多個熱傳遞裝置(例如，熱管道、三維蒸汽腔)冷卻該等熱產生裝置。例如，該非傳導冷卻劑可為一介電冷卻劑。在一些態樣中，一非傳導冷卻劑或介電冷卻劑不傳導一電荷或傳導一足夠小電荷，使得浸沒於此冷卻劑中之任何電子裝置之操作不受影響。一非傳導冷卻劑或一介電冷卻劑之實例包含例如芳香族化合物、矽酸酯、脂族化合物、聚矽氧、氟碳化合物及油(諸如礦物油)。在一些態樣中，該資料中心冷卻系統包含流體地隔離該非傳導冷卻劑與一周圍環境之一或多個內容器連同圍封該內容器之一外容器。

在一例示性實施方案中，一種資料中心冷卻系統包含：一外容器，其界定一第一體積；一內容器，其界定一第二體積且定位於該第一體積內，該內容器包含一空氣出口，該空氣出口包含該第一體積與該第二體積之間的一氣流路徑；一液體密封件，其流體地隔離填充該第一體積及該第二體積之至少一部分之一非傳導冷卻劑之一液相與一周圍環境；及至少一個伺服器托盤總成。該伺服器托盤總成包含：複數個電子熱產生裝置，其等浸沒於該非傳導冷卻劑之該液相中；及一浸沒冷卻系統，其安裝至該複數個電子熱產生裝置之一或多者且與該複數個電子熱產生裝置之一或多者傳導熱接觸。該浸沒冷卻系統包含與該一或多個電子熱產生裝置及該非傳導冷卻劑熱連通之一工作流體。

在可與該例示性實施方案組合之一態樣中，該浸沒冷卻系統包含：一蒸汽腔，其安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸；及一或多個熱傳遞裝置，其或其等定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之一液相熱接觸。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該一或多個熱傳遞裝置之各者包含一冷凝器管。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該冷凝器管包含：一入口，其敞開至該內體積以從該內體積接收該工作流體之一汽相；一出口，其敞開至該內體積以使該工作流體之一液相循環至該內體積；及一u形流動路徑，其在該入口與該出口之間，該u形流動路徑從該內體積延伸穿過該蒸汽腔之一壁且至該第二體積。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含定位於該流動路徑之至少一部分中之一毛細結構(wick)。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該一或多個熱傳遞裝置之各者包含定位成從該內體積延伸穿過該蒸汽腔之一壁且至該第二體積中之一熱管道。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該浸沒冷卻系統進一步包含定位於該一或多個電子熱產生裝置與該蒸汽腔之間且與其等傳導熱接觸之一熱介面材料。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該浸沒冷卻系統進一步包含一或多個偏置部件，其或其等耦合至該蒸汽腔及該伺服器托盤總成且經組態以將該蒸汽腔推向該一或多個電子熱產生裝置。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該外容器包含：一壓力釋放閥，其經組態以將從該第二體積通過該空氣出口排放至該第一體積中之空氣之一部分排放至該周圍環境；及一底座及一煙囪，該煙囪從該底座垂直延伸，該底座包含該第一體積之一第一部分且該煙囪包含與該第一部分流體連通之該第一體積之一第二部分。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該第二部分界定：一冷卻劑回收層，其包含空氣與該非傳導冷卻劑之一汽相之一混合物；一蒸汽冷凝層，其實質上包含該非傳導冷卻劑之該汽相；及一液體過冷卻(sub-cooling)層，其實質上包含該非傳導冷卻劑之該液相。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含安裝於該煙囪中且經組態以冷卻該非傳導冷卻劑之一冷卻模組。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該非傳導冷卻劑包含一介電冷卻劑。

在另一例示性實施方案中，一種用於冷卻一資料中心中之電子熱產生裝置之方法包含將複數個伺服器托盤總成圍封於由一第一容器界定之一體積中。該等伺服器托盤總成之各者包含：複數個電子熱產生裝置；及一浸沒冷卻系統，其安裝至該複數個電子熱產生裝置之一或多者且與該複數個電子熱產生裝置之一或多者傳導熱接觸。該浸沒冷卻系統包含與該一或多個電子熱產生裝置熱連通之一工作流體。該方法進一步包含：將該複數個伺服器托盤總成浸沒於一非傳導冷卻劑之一液相中；操作該一或多個電子熱產生裝置以產生熱；將該所產生熱從該一或多個電子熱產生裝置傳遞至該浸沒冷卻系統之該工作流體；及將該所產生熱從該浸沒冷卻系統之該工作流體傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相。

可與該例示性實施方案組合之一態樣進一步包含：將該所產生熱傳遞至含於安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸之該浸沒冷卻系統之一蒸汽腔之一內體積中之該工作流體；使用該所傳遞熱將該工作流體之一液相之至少一部分蒸發為該工作流體之一汽相；及使該汽相從該內體積循環至一或多個冷凝器管中，該一或多個冷凝器管定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之該液相熱接觸。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，使該汽相從該內體積循環至一或多個冷凝器管中包含：使該汽相循環通過敞開至該內體積之一特定冷凝器管之一入口；使該汽相循環通過該特定冷凝器管之一u形流動路徑；藉由將熱傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相而使該u形流動路徑中之該汽相之至少一部分冷凝；及使該經冷凝部分循環通過該特定冷凝器管之一出口且至該內體積中。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，使該汽相循環通過該u形流動路徑包含至少部分基於將該汽相芯吸通過該u形流動路徑而使該汽相循環。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含：將該所產生熱傳遞至含於安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸之該浸沒冷卻系統之一蒸汽腔之一內體積中之該工作流體；使用該所傳遞熱將該工作流體之一液相之至少一部分蒸發為該工作流體之一汽相；及使用該工作流體之該汽相中之熱使含於至少一個熱管道中之一製冷劑之一液相之至少一部分蒸發，該至少一個熱管道定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之該液相熱接觸。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含將來自該經蒸發製冷劑之熱傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含透過定位於該一或多個電子熱產生裝置與該蒸汽腔之間且與其等傳導熱接觸之一熱介面材料傳遞來自該一或多個電子熱產生裝置之熱。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含使用耦合至該蒸汽腔及該伺服器托盤總成之一或多個偏置部件將該蒸汽腔推向該一或多個電子熱產生裝置。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含：將該第一容器圍封於一第二容器之一第二體積中，該非傳導冷卻劑填充該第一體積及該第二體積之至少一部分；密封該非傳導冷卻劑之該液相以與一周圍環境隔絕；將來自該複數個電子熱產生裝置之一熱負載傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相；在該第一體積與該第二體積之間形成一氣流路徑；及將來自該第一體積之空氣之一部分通過該氣流路徑、通過該第二體積排放至該周圍環境。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該第二容器包含一底座及從該底座垂直延伸之一煙囪，該底座包含該第二體積之一第一部分且該煙囪包含與該第一部分流體連通之該第二體積之一第二部分。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含：在該煙囪之一頂部部分中冷卻空氣與該非傳導冷卻劑之一汽相之一第一部分之一混合物以將該汽相之該第一部分冷凝為該非傳導冷卻劑之該液相；在該煙囪之一中間部分中冷卻該非傳導冷卻劑之該汽相之一第二部分以將該汽相之該第二部分冷凝為該非傳導冷卻劑之該液相；及在該煙囪之一底部部分中過冷卻該非傳導冷卻劑之該液相。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含將一冷卻流體供應至定位於該煙囪中之一冷卻模組。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該非傳導冷卻劑包含一單相非傳導冷卻劑。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含：使該非傳導液體冷卻劑之一過冷卻液相從該第二體積之一底部部分循環至該第二體積之一頂部部分；及使該頂部部分中之該過冷卻液體在定位於該第二體積中之一冷卻模組上方循環。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該第二容器包含一人類可佔用外殼，且該第二體積包含一人類可佔用工作空間。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該非傳導冷卻劑包含一介電冷卻劑。

在一例示性實施方案中，一種沈浸式伺服器托盤總成包含：一主機板；至少一個硬體處理器，其耦合至該主機板；及一浸沒冷卻系統，其安裝至該處理器且與該處理器傳導熱接觸。該浸沒冷卻系統包含與該處理器熱連通之一工作流體。該主機板、該處理器及該浸沒冷卻系統經組態以沈浸於一介電冷卻液體中。

在可與該例示性實施方案組合之一態樣中，該浸沒冷卻系統包含：一外殼，其安裝至該處理器且與該處理器傳導熱接觸；及一或多個冷凝器管，其或其等定位成與該外殼之一內體積內之該工作流體熱接觸且從該外殼延伸，其中該一或多個冷凝器管之各者經組態以沈浸於該介電冷卻液體中。

在可與先前態樣之任一者組合之另一態樣中，該冷凝器管包含：一入口，其敞開至該內體積；一出口，其敞開至該內體積；及一導管，其在該入口與該出口之間，該導管從該內體積延伸穿過該外殼之一壁且至該外殼外部。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含定位於該導管之至少一部分中之一毛細結構。

可與先前態樣之任一者組合之另一態樣進一步包含定位於該處理器與該外殼之間且與其等傳導熱接觸之一相變材料。

根據本發明之一資料中心冷卻系統之各種實施方案可包含一個、一些或全部以下特徵。例如，該資料中心冷卻系統可利用一介電或非傳導液體冷卻劑來冷卻一或多個電子熱產生裝置，諸如處理器、記憶體模組(例如，DIMM或其他記憶體)、網路連結裝置或其他。在一些態樣中，該介電或非傳導液體冷卻劑係阻礙或防止電荷流動穿過其中之一液體冷卻劑，藉此容許該等電子熱產生裝置在浸沒於該液體冷卻劑中時之正常操作。作為一進一步實例，與習知冷卻系統相比，該資料中心冷卻系統可冷卻更緊密堆積或定位之電子熱產生裝置。作為另一實例，與習知冷卻系統相比，該資料中心冷卻系統可在一類似空間內冷卻更高功率電子熱產生裝置。此外，與習知介電液體冷卻系統相比，該資料中心冷卻系統可使用更少介電液體而以更低成本冷卻該等電子裝置。該資料中心冷卻系統亦可防止或實質上防止液體或蒸汽介電冷卻劑之逸出。作為一進一步實例，該資料中心冷卻系統可利用一單相介電或非傳導冷卻劑液體，藉此實質上防止蒸汽從該液體排出。在另一實例中，該資料中心冷卻系統可提供一擴展體積以截留該介電液體冷卻劑之一汽相且使該汽相返回至一液相。因此，與習知液體冷卻劑系統相比，本發明中描述之實施方案可使用或需要實質上更少介電液體冷卻劑。

下文在附圖及描述中闡述一或多項實施例之細節。從描述及圖式且從發明申請專利範圍將明白其他特徵、目標及優點。

本文獻論述使用一非傳導或介電冷卻劑及熱耦合至一或多個電子熱產生裝置之一浸沒冷卻系統來移除由該等裝置產生之熱之一資料中心冷卻系統之實施方案。例示性資料中心冷卻系統可在一或多個容器中流體地隔離非傳導冷卻劑與一周圍環境。例示性資料中心冷卻系統可使用含於一或多個容器中之一或多個冷卻模組冷卻非傳導冷卻劑。在一些態樣中，運算裝置可安裝或連接至一結構(例如，伺服器托盤、伺服器板、主機板或其他)。

圖1A至圖1D繪示使用一非傳導液體冷卻劑及一浸沒冷卻系統來冷卻一或多個電子熱產生裝置之一資料中心冷卻系統100之一例示性實施方案之各種示意圖。圖1B繪示資料中心冷卻系統100之一剖面側視圖。圖1C繪示資料中心冷卻系統100之一剖面正視圖。圖1D繪示資料中心冷卻系統100之一剖面俯視圖。一般言之，系統100包含一外容器102，該外容器102將非傳導冷卻劑(例如，液體及蒸汽)密封於外容器102內。在所繪示實施方案中，外容器102包括一底座外殼106及從底座外殼106垂直延伸之一煙囪外殼(或煙囪) 104。在一些實施方案中，冷卻系統100可為約50英吋寬(例如，跨底座外殼106之正面)，30英吋深且72英吋高(例如，底座外殼106之36英吋高度加上煙囪104在底座外殼106上方之36英吋延伸高度)。

在所繪示實施方案中，藉由包含或產生外容器102之一體積與外容器102外部之一周圍環境之間的一流體密封之一可移除蓋108促進對該體積之接取。蓋108可提供對一或多個伺服器總成134 (在下文描述)以及非傳導冷卻劑之一液相150以及系統100之其他組件之接取。在一些實施方案中，蓋108可實質上防止任何或全部液體或蒸汽非傳導冷卻劑透過底座外殼106離開外容器。

如展示，一釋放裝置110可定位於外容器102上，諸如在煙囪104之頂部上之容器102之一高點處。釋放裝置110可為容許空氣從外容器102之體積流動至容器102外部之周圍環境之一通氣口、孔口、壓力釋放閥或其他。例如，作為一壓力釋放閥，裝置可經預設以在一特定壓力(例如，容器102外部)下敞開以排放容器102中之空氣累積。空氣可經排放，例如使得實質上不從一所要設計更改容器內之熱力學性質或程序(例如，冷卻、冷凝或其他)。在一些態樣中，如下文描述，可僅將空氣或將實質上空氣而非空氣與非傳導冷卻劑之一汽相148之一混合物排放至周圍環境。

如繪示，一冷卻液體供應器112及一冷卻液體回流器114可例如透過外容器102流體地耦合至系統100且耦合至安裝於容器102之體積內之一冷卻模組116。冷卻液體供應器112可為例如一冷激水供應器、冷激乙二醇/製冷劑供應器、一蒸發冷卻液體或其他(例如，透過機械製冷、蒸發或其他方式冷卻之一液體冷卻劑)。

參考圖1B至圖1D，一或多個內容器124安裝於外容器102之體積內。所繪示內容器124之各者將非傳導冷卻劑之液相150及汽相148密封於與煙囪104流體連通(如展示)之內容器124之一體積內。內容器124之一頂部部分可藉由在此實施方案中包含一把手128之一蓋126形成。蓋126可形成伺服器總成134之部分。在替代實施例中，蓋126可與伺服器總成134分離。在任何情況下，外容器102及內容器124 (或容器124)可形成一容器內容器系統，其實質上將非傳導冷卻劑之液相150及汽相148密封於內容器124及煙囪104內。

如展示，所繪示伺服器總成134可垂直地定位於內容器124內且在此實施方案中浸沒於一過冷卻液體層122中之非傳導冷卻劑之液相150內。在此實例中，伺服器總成134包含一或多個記憶體模組136 (例如，DIMM或其他記憶體模組)、一或多個處理器136 (例如，CPU或其他)及一電源互連件142。在此實例中，此等組件可安裝於安裝至一背襯板144之一伺服器板上。

伺服器總成亦包含一或多個I/O插線面板130，其或其等安裝於蓋126上方或安裝至蓋126且透過連接器132連接至記憶體模組136及/或處理器136。如展示，I/O插線面板130定位於一蒸汽冷凝層120內之非傳導冷卻劑之汽相148上方及一空氣/蒸汽混合物146中。空氣/蒸汽混合物146可包含空氣與非傳導冷卻劑之汽相146之一混合物。在一些實施例中，混合物146可實質上或主要(或全部)係空氣。

此外，在此實例中，且如下文關於圖3更詳細論述，一或多個浸沒冷卻系統300安裝至例如伺服器總成134之處理器136。各浸沒冷卻系統300與一或多個處理器136傳導熱接觸以將來自一或多個處理器136之熱接收至系統300。替代地或另外，浸沒冷卻系統300與一或多個記憶體模組或其他熱產生裝置傳導熱接觸以將來自一或多個記憶體模組或其他熱產生裝置之熱接收至系統300。各浸沒冷卻系統300包含一工作流體，該工作流體在接收來自伺服器總成134之熱產生裝置之熱之後從一液體相變為一蒸汽或混合相流體)。蒸汽(或混合相流體)在將熱釋放至非傳導冷卻劑(浸沒冷卻系統300及伺服器總成134浸沒於其中)之液相150之後在浸沒冷卻系統300之一或多個熱傳遞裝置(例如，熱管道、冷凝器管)中冷凝。在一些態樣中，將浸沒冷卻系統300之熱釋放至非傳導冷卻劑之液相150中導致液相150蒸發為非傳導冷卻劑之汽相148。

在一些態樣中，熱傳遞步驟之此組合可更高效地從伺服器總成134上之熱產生裝置移除熱。例如，一第一熱傳遞步驟可包含從(若干)熱產生裝置至浸沒冷卻系統300 (例如，系統300之一蒸汽腔或外殼)之對流熱傳遞。一第二熱傳遞步驟可包含從系統300之蒸汽腔或外殼至系統300內部之液體工作流體之傳導及對流熱傳遞之一者或兩者。一第三熱傳遞步驟可包含系統300內部之液體工作流體至系統300內部之蒸汽工作流體之蒸發。一第四熱傳遞步驟可包含從系統300之一或多個熱傳遞裝置至液相150之傳導及對流熱傳遞之一者或兩者。一第五熱傳遞步驟可包含液相150至非傳導液體之汽相148之蒸發。

如此實施方案中繪示，一冷卻模組116安裝於煙囪104內。儘管此處展示之冷卻模組116係一冷卻線圈(例如，鰭管熱交換器)，然其他形式之冷卻模組(諸如熱電冷卻器、帕耳帖(Peltier)冷卻器或其他)亦在本發明之範疇內。在此實例中，冷卻模組116延伸穿過煙囪104之全部或大部分高度(且亦可延伸煙囪104之一寬度)。如繪示，冷卻模組116通常延伸穿過煙囪104內之若干熱力學層及外容器102之體積。在煙囪104之底部處，冷卻模組116定位於過冷卻液體層122中，該過冷卻液體層122含有非傳導冷卻劑之全部或大部分液相150。

此處，冷卻模組116可使液相150過冷卻，伺服器總成134浸沒於其中以冷卻總成134之組件。朝向煙囪104之中間，冷卻模組116延伸穿過蒸汽冷凝層120，該蒸汽冷凝層120含有非傳導冷卻劑之全部或大部分汽相148。此處，冷卻模組116將汽相146冷卻且藉此冷凝為液相150。朝向煙囪104之頂部，冷卻模組116延伸穿過一冷卻劑回收層118，該冷卻劑回收層118含有大部分或全部空氣但亦可含有非傳導冷卻劑之一些汽相148。此處，冷卻模組116冷卻空氣以冷凝非傳導冷卻劑之任何剩餘汽相148之全部或大部分。因此，在壓力釋放裝置110處或附近，將全部或大部分空氣(而非昂貴非傳導冷卻劑)排放至周圍環境。

特定參考圖1D，各蓋126包含一或多個通氣孔152，其或其等在底座外殼106中流體地耦合內容器124之體積與外容器102之體積。例如，通氣孔152容許來自冷卻劑回收層118中之空氣/蒸汽混合物146之氣態連通從內容器124之體積離開至外容器104之體積(包含煙囪104中之冷卻劑回收層118)。

圖2繪示使用一非傳導液體冷卻劑之一資料中心冷卻系統200之另一例示性實施方案之一示意側視圖。在此例示性實施方案中，資料中心冷卻系統200可利用一單相(例如，液相)非傳導冷卻劑，例如並不基於從一伺服器總成上之一或多個電熱產生裝置接收一熱負載而從一液相蒸發為一汽相之一非傳導冷卻劑。單相非傳導冷卻劑之一些實例包含礦物油、氟碳化合物及具有小於電子熱產生裝置之一溫度(例如，最大額定溫度)之一閃點或沸點之其他非傳導冷卻劑。

在此例示性實施方案中，系統200包含一外容器202，該外容器202將非傳導冷卻劑(例如，液體)密封於外容器202內。在所繪示實施方案中，外容器202包括一實質上矩形稜柱體積(例如，不具有一煙囪)。在一些實施方案中，冷卻系統200可為約50英吋寬(例如，跨容器202之正面，圖2中未展示)，30英吋深且36英吋高。

在所繪示實施方案中，藉由包含或產生外容器202之一體積與外容器202外部之一周圍環境之間的一流體密封之一可移除蓋208促進對該體積之接取。蓋208可提供對一或多個伺服器總成234 (在下文描述)以及液體非傳導冷卻劑248以及系統200之其他組件之接取。在一些實施方案中，蓋208可實質上防止任何或全部液體或蒸汽非傳導冷卻劑透過容器202離開外容器。

如繪示，一冷卻液體供應器212及一冷卻液體回流器214可例如透過外容器202流體地耦合至系統200且耦合至安裝於容器202之體積內之一冷卻模組216。冷卻液體供應器212可為例如一冷激水供應器、冷激乙二醇/製冷劑供應器、一蒸發冷卻液體或其他(例如，透過機械製冷、蒸發或以其他方式冷卻之一液體冷卻劑)。

一或多個內容器224安裝於外容器202之體積內。所繪示內容器224之各者將液體非傳導冷卻劑248密封於內容器224之一體積內。內容器224之一頂部部分可藉由在此實施方案中包含一把手228之一蓋226形成。

如展示，所繪示伺服器總成234可垂直地定位於內容器224內且在此實施方案中浸沒於一液體層222中之液體非傳導冷卻劑248內。在此實例中，伺服器總成234包含一或多個記憶體模組236 (例如，DIMM或其他記憶體模組)、一或多個處理器236 (例如，CPU或其他)及一電源互連件242。在此實例中，此等組件可安裝於安裝至一背襯板244之一伺服器板上。

伺服器總成亦包含一或多個I/O插線面板230，其或其等安裝於蓋226上方或安裝至蓋126且透過連接器232連接至記憶體模組236及/或處理器236。如展示，I/O插線面板230定位於液體非傳導冷卻劑248上方及含有大部分或僅空氣之一空氣層220內。

此外，在此實例中，且如下文關於圖3更詳細論述，一或多個浸沒冷卻系統300安裝至例如伺服器總成234之處理器236。各浸沒冷卻系統300與一或多個處理器236傳導熱接觸以將來自一或多個處理器236之熱接收至系統300。替代地或另外，浸沒冷卻系統300與一或多個記憶體模組或其他熱產生裝置傳導熱接觸以將來自一或多個記憶體模組或其他熱產生裝置之熱接收至系統300。各浸沒冷卻系統300包含一工作流體，該工作流體在接收來自伺服器總成234之熱產生裝置之熱之後從一液體相變為一蒸汽(或混合相流體)。蒸汽(或混合相流體)在將熱釋放至非傳導冷卻劑(浸沒冷卻系統300及伺服器總成234浸沒於其中)之液相222之後在浸沒冷卻系統300之一或多個熱傳遞裝置(例如，熱管道、冷凝器管)中冷凝。在一些態樣中，將浸沒冷卻系統300之熱釋放至非傳導冷卻劑之液相222中導致液相222蒸發為非傳導冷卻劑之汽相220。

在一些態樣中，熱傳遞步驟之此組合可更高效地從伺服器總成234上之熱產生裝置移除熱。例如，一第一熱傳遞步驟可包含從(若干)熱產生裝置至浸沒冷卻系統300 (例如，系統300之一蒸汽腔或外殼)之傳導熱傳遞。一第二熱傳遞步驟可包含從系統300之蒸汽腔或外殼至系統300內部之液體工作流體之傳導及對流熱傳遞之一者或兩者。一第三熱傳遞步驟可包含系統300內部之液體工作流體至系統300內部之蒸汽工作流體之蒸發。一第四熱傳遞步驟可包含從系統300之一或多個熱傳遞裝置至非傳導液體248之液相222之傳導及對流熱傳遞之一者或兩者。

如此實施方案中繪示，一冷卻模組216安裝於容器202之體積內。儘管此處展示之冷卻模組216係一冷卻線圈(例如，鰭管熱交換器)，然其他形式之冷卻模組(諸如熱電冷卻器、帕耳帖冷卻器或其他)亦在本發明之範疇內。在此實例中，冷卻模組216延伸穿過容器202之全部或大部分高度(且亦可延伸外容器202之一寬度)。如繪示，冷卻模組216通常延伸穿過外容器202內之若干熱力學層及外容器202之體積。在外容器202之底部處，冷卻模組216定位於液體層222中，該液體層222含有全部或大部分液體非傳導冷卻劑248。此處，冷卻模組216可使液體非傳導冷卻劑248冷卻或過冷卻，伺服器總成234浸沒於其中以冷卻總成234之組件。在外容器202之一頂部處或附近，冷卻模組216可延伸穿過空氣層220，但冷卻模組216之熱交換器部分可全部或大部分駐留於液體層222中。

如展示，一泵252包含液體層222之一底部部分中之一入口256及耦合至一集流管254之一出口，該集流管354繼而包含靠近或鄰近於冷卻模組216之一頂端之一出口。泵252可在外容器202之體積內(例如，不斷地、可變地、週期性地或以其他方式)循環液體非傳導冷卻劑248 (例如，從底部至頂部)以例如確保藉由冷卻模組216均勻地冷卻液體非傳導冷卻劑248 (以便移除從伺服器總成224傳遞至非傳導冷卻劑248之液相222之熱)且確保透過熱傳導及/或對流接觸冷卻伺服器總成234。在此熱傳導及/或對流接觸之後，非傳導冷卻劑248之液相222可在不沸騰或蒸發的情況下冷卻熱產生組件。

在一些例示性實施方案中，一壓力釋放裝置(未展示)可安裝至外容器202之一頂部。釋放裝置可為容許空氣從外容器202之體積流動至容器202外部之周圍環境之一通氣口、孔口、壓力釋放閥或其他。例如，作為一壓力釋放閥，裝置可經預設以在一特定壓力(例如，容器202外部)下敞開以排放容器202中之空氣累積。空氣可經排放，例如使得實質上不從一所要設計更改容器內之熱力學性質或程序(例如，冷卻或其他)。

各蓋226亦可包含一或多個通氣孔(未展示)，其或其等流體地耦合內容器224之體積與外容器202之體積。例如，通氣孔容許來自空氣層220之氣態連通從內容器224之體積離開至外容器204之體積。

圖3繪示熱耦合至一或多個電子熱產生裝置(例如，在此實例中，處理器136或處理器236)之浸沒冷卻系統300之一例示性實施方案。例如，如圖3中展示，浸沒冷卻系統300之一蒸汽腔302與熱產生裝置136 (或236)傳導熱接觸。如展示，熱產生裝置136 (或236)安裝於伺服器總成134 (或234)上。在此實例中，一熱介面材料322 (例如，相變材料)定位於蒸汽腔302與熱產生裝置136 (或236)之間且與兩者傳導熱接觸以確保一良好熱介面接觸。

在此例示性實施方案中，蒸汽腔302界定其中圍封一工作流體之一內體積304。一液體工作流體316被展示為匯集於內體積304之一底部部分處及一填充物310之頂部上。在此實例中，填充物310係填充內體積304之一底部部分之一固體材料。在一些態樣中，插入至內體積304之底部部分中之填充物310確保液體工作流體316之匯集之一頂表面處於熱產生裝置136 (或236)之一位置處或附近之一高度處。

如繪示，一或多個熱傳遞表面306 (例如，鰭片、脊、波紋)安裝至內體積304內之蒸汽腔302。在此實例中，熱傳遞表面306安裝至蒸汽腔302之鄰近於熱產生裝置136 (或236)之一內壁，藉此增加從熱產生裝置136 (或236)及液體工作流體316之一熱傳遞速率。在一些態樣中，預先判定液體工作流體316之一體積，使得頂表面在浸沒冷卻系統300之正常操作期間覆蓋一些或全部熱傳遞表面306。

一或多個偏置部件320經定位以使浸沒冷卻系統300 (例如，蒸汽腔302)保持與熱產生裝置136 (或236)傳導熱接觸。在此實例中，偏置部件320係一或多個彈簧，諸如螺旋彈簧或貝爾維(Bellville)墊圈，其等例如與將蒸汽腔302附接至伺服器總成134 (234)之一緊固件耦合。彈簧提供將蒸汽腔302 (例如，不斷地)推向伺服器總成134 (或234)且抵靠熱產生裝置136 (或236)之一力。

如此實例中展示，一熱傳遞增強表面308形成於蒸汽腔302之一外表面之全部或部分上。在此實例中，熱傳遞增強表面308形成於與浸沒冷卻系統300及伺服器總成134 (或234)浸沒於其中之非傳導液體之液相150 (或液體層222)完全或幾乎完全浸沒接觸之蒸汽腔302之一外表面上。在一些態樣中，熱傳遞增強308可包含或包括鰭片、脊、波紋或促進蒸汽腔302與液體非傳導流體之間的熱傳遞之其他表面蝕刻。

如圖3中展示，例示性浸沒冷卻系統300包含部分定位於內體積304中且延伸穿過蒸汽腔302至非傳導液體(150或222)中之一或多個熱傳遞裝置312。一般言之，熱傳遞裝置312操作以接收蒸汽腔302中之工作流體之一汽相318且促進來自汽相318之熱傳遞至非傳導冷卻劑，藉此將汽相318冷凝為工作流體之液相316。

在此實例中，熱傳遞裝置312包括一冷凝器管，該冷凝器管包含一流動路徑313以使汽相318進入(蒸汽腔302之內體積304內)且圍繞流動路徑313流動(以U形，如展示)且在作為液相316離開流動路徑313之前由於熱被傳遞至蒸汽腔304外部之非傳導液體(150或222)而在流動路徑313中冷凝。在一些態樣中，如展示，一芯吸結構(「毛細結構」) 314可插入至流動路徑313中以幫助汽相318流動穿過其中。

在替代實施方案中，熱傳遞裝置312包括圍封一工作流體之一熱管道，該工作流體例如在熱管道在內體積304內之一部分中蒸發為一汽相且在熱管道在內體積304外部之一部分中(例如，在非傳導液體內)冷凝為一液相。因此，在一些態樣中，可存在圍封於蒸汽腔302之內體積304內之一第一工作流體以及圍封於一或多個熱管道內之一第二工作流體。

如圖3中展示，熱傳遞裝置312以相對於蒸汽腔304、熱產生裝置136 (或236)及伺服器托盤134 (或234)之一定向之一角度α定位。如展示，從熱傳遞裝置312之一部分至蒸汽腔302之鄰近於非傳導液體150 (或222)之一表面量測角度α。角度α可取決於浸沒冷卻系統300之設計進行調整。浸沒冷卻系統300之設計可取決於例如可用於伺服器托盤總成之空間之一量、伺服器托盤總成在容器內堆積的緊密程度及其他因素。例如，角度α可接近於90度、小於90度或大於90度。

在系統100或200之任一者之一例示性操作中，熱產生裝置136 (或236)(例如，一硬體處理器)在資料中心操作期間操作且產生熱。所產生之熱傳導地傳遞至安裝至裝置136 (或236)(且與其傳導熱接觸)之一浸沒冷卻系統300之一蒸汽腔302。在一些態樣中，所產生之熱透過定位於裝置136 (或236)與蒸汽腔302之間的一熱介面材料(諸如一相變材料)傳遞(例如，以增加至蒸汽腔302之一熱傳遞速率)。

傳遞至蒸汽腔302之熱使圍封於浸沒冷卻系統300內之一液體工作流體之至少一部分蒸發。在一些態樣中，安裝或形成於蒸汽腔302之一或多個內表面上之熱傳遞表面增加液體工作流體之一蒸發速率(例如，相較於不使用此等熱傳遞表面之一速率)。在一些態樣中，由於蒸汽腔302相對於重力垂直定向，所以經蒸發工作流體自然地循環朝向蒸汽腔302之一頂部部分。

在蒸汽腔302中之經蒸發工作流體升高時，其循環至從蒸汽腔302延伸之一或多個冷凝器管312中且循環至浸沒裝置136 (或236)安裝至其上(例如，總成之一主機板上)之伺服器托盤總成134 (或234)之一非傳導冷卻劑液體中。在蒸汽在冷凝器管312中循環時，來自經蒸發工作流體之熱傳遞至非傳導冷卻劑液體中。基於此熱傳遞，經蒸發工作流體在冷凝器管312中冷凝且(以液相)返回至蒸汽腔302之內體積中，其中重複操作。

已描述數項實施例。然而，應理解，可在不脫離所描述內容之精神及範疇的情況下作出各種修改。例如，例示性操作之步驟可以其他順序執行，可移除一些步驟，且可添加其他步驟。作為另一實例，利用如本文中描述之容器內容器概念之資料中心冷卻系統可不使用一煙囪作為一外容器之部分，而代替地使用一實質上矩形(或方形)稜柱體積。此外，使用一單一容器(例如，僅一外部容器)之一些實施方案可利用或可不利用一煙囪。作為另一實例，使用根據本發明之一單相非傳導冷卻劑之一資料中心冷卻系統可使用一容器內容器方法或一單容器方法，具有或不具有如本文中描述之一煙囪。因此，其他實施例係在以下發明申請專利範圍之範疇內。

100:資料中心冷卻系統 102:外容器 104:煙囪外殼(或煙囪) 106:底座外殼 108:可移除蓋 110:釋放裝置 112:冷卻液體供應器 114:冷卻液體回流器 116:冷卻模組 118:冷卻劑回收層 120:蒸汽冷凝層 122:過冷卻液體層 124:內容器 126:蓋 128:把手 130:I/O插線面板 132:連接器 134:伺服器總成/伺服器托盤/伺服器托盤總成 136:記憶體模組/處理器/裝置 142:電源互連件 144:背襯板 146:空氣/蒸汽混合物 148:汽相 150:液相/非傳導液體 152:通氣孔 200:資料中心冷卻系統 202:外容器 208:可移除蓋 212:冷卻液體供應器 214:冷卻液體回流器 216:冷卻模組 220:空氣層 222:液體層/液相/非傳導液體 224:內容器 226:蓋 228:把手 230:I/O插線面板 232:連接器 234:伺服器總成/伺服器托盤/伺服器托盤總成 236:記憶體模組/處理器/裝置 242:電源互連件 244:背襯板 248:液體非傳導冷卻劑 252:泵 254:集流管 256:入口 300:浸沒冷卻系統 302:蒸汽腔 304:內體積 306:熱傳遞表面 308:熱傳遞增強表面 310:填充物 312:熱傳遞裝置/冷凝器管 313:流動路徑 314:芯吸結構 316:液體工作流體/液相 318:汽相 320:偏置部件 322:熱介面材料

圖1A至圖1D繪示使用一非傳導液體冷卻劑及熱耦合至一或多個電子熱產生裝置之一浸沒冷卻系統之一資料中心冷卻系統之一例示性實施方案之各種示意圖。

圖2繪示使用一非傳導液體冷卻劑及熱耦合至一或多個電子熱產生裝置之一浸沒冷卻系統之一資料中心冷卻系統之另一例示性實施方案之一示意側視圖。

圖3繪示熱耦合至一或多個電子熱產生裝置之一浸沒冷卻系統之一例示性實施方案。

200:資料中心冷卻系統

202:外容器

208:可移除蓋

212:冷卻液體供應器

214:冷卻液體回流器

216:冷卻模組

220:空氣層

222:液體層/液相/非傳導液體

224:內容器

226:蓋

228:把手

230:I/O插線面板

232:連接器

234:伺服器總成/伺服器托盤/伺服器托盤總成

236:記憶體模組/處理器/裝置

242:電源互連件

244:背襯板

248:液體非傳導冷卻劑

252:泵

254:集流管

256:入口

300:浸沒冷卻系統

Claims (30)

1. 一種資料中心冷卻系統，其包括： 一外容器，其界定一第一體積； 一內容器，其界定一第二體積且定位於該第一體積內，該內容器包括一空氣出口，該空氣出口包括該第一體積與該第二體積之間的一氣流路徑； 一液體密封件，其流體地隔離填充該第一體積及該第二體積之至少一部分之一非傳導冷卻劑之一液相與一周圍環境；及 至少一個伺服器托盤總成，其包括： 複數個電子熱產生裝置，其等浸沒於該非傳導冷卻劑之該液相中；及 一浸沒冷卻系統，其安裝至該複數個電子熱產生裝置之一或多者且與該複數個電子熱產生裝置之一或多者傳導熱接觸，該浸沒冷卻系統包括與該一或多個電子熱產生裝置及該非傳導冷卻劑熱連通之一工作流體。
2. 如請求項1之資料中心冷卻系統，其中該浸沒冷卻系統包括： 一蒸汽腔，其安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸；及 一或多個熱傳遞裝置，其或其等定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之一液相熱接觸。
3. 如請求項1之資料中心冷卻系統，其中該一或多個熱傳遞裝置之各者包括一冷凝器管，該冷凝器管包括： 一入口，其敞開至該內體積以從該內體積接收該工作流體之一汽相； 一出口，其敞開至該內體積以使該工作流體之一液相循環至該內體積；及 一u形流動路徑，其在該入口與該出口之間，該形流動路徑從該內體積延伸穿過該蒸汽腔之一壁且至該第二體積。
4. 如請求項3之資料中心冷卻系統，其進一步包括定位於該流動路徑之至少一部分中之一毛細結構。
5. 如請求項2之資料中心冷卻系統，其中該一或多個熱傳遞裝置之各者包括定位成從該內體積延伸穿過該蒸汽腔之一壁且至該第二體積中之一熱管道。
6. 如請求項2之資料中心冷卻系統，其中該浸沒冷卻系統進一步包括定位於該一或多個電子熱產生裝置與該蒸汽腔之間且與其等傳導熱接觸之一熱介面材料。
7. 如請求項2之資料中心冷卻系統，其中該浸沒冷卻系統進一步包括一或多個偏置部件，其或其等耦合至該蒸汽腔及該伺服器托盤總成且經組態以將該蒸汽腔推向該一或多個電子熱產生裝置。
8. 如請求項1之資料中心冷卻系統，其中該外容器包括： 一壓力釋放閥，其經組態以將從該第二體積通過該空氣出口排放至該第一體積中之空氣之一部分排放至該周圍環境；及 一底座及一煙囪，該煙囪從該底座垂直延伸，該底座包括該第一體積之一第一部分且該煙囪包括與該第一部分流體連通之該第一體積之一第二部分。
9. 如請求項8之資料中心冷卻系統，其中該第二部分界定：一冷卻劑回收層，其包括空氣與該非傳導冷卻劑之一汽相之一混合物；一蒸汽冷凝層，其實質上包括該非傳導冷卻劑之該汽相；及一液體過冷卻層，其實質上包括該非傳導冷卻劑之該液相。
10. 如請求項8之資料中心冷卻系統，其進一步包括安裝於該煙囪中且經組態以冷卻該非傳導冷卻劑之一冷卻模組。
11. 如請求項1之資料中心冷卻系統，其中該非傳導冷卻劑包括一介電冷卻劑。
12. 一種用於冷卻一資料中心中之電子熱產生裝置之方法，其包括： 將複數個伺服器托盤總成圍封於由一第一容器界定之一體積中，該等伺服器托盤總成之各者包括： 複數個電子熱產生裝置，及 一浸沒冷卻系統，其安裝至該複數個電子熱產生裝置之一或多者且與該複數個電子熱產生裝置之一或多者傳導熱接觸，該浸沒冷卻系統包括與該一或多個電子熱產生裝置熱連通之一工作流體； 將該複數個伺服器托盤總成浸沒於一非傳導冷卻劑之一液相中； 操作該一或多個電子熱產生裝置以產生熱； 將該所產生熱從該一或多個電子熱產生裝置傳遞至該浸沒冷卻系統之該工作流體；及 將該所產生熱從該浸沒冷卻系統之該工作流體傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相。
13. 如請求項12之方法，其進一步包括： 將該所產生熱傳遞至含於安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸之該浸沒冷卻系統之一蒸汽腔之一內體積中之該工作流體； 使用該所傳遞熱將該工作流體之一液相之至少一部分蒸發為該工作流體之一汽相；及 使該汽相從該內體積循環至一或多個冷凝器管中，該一或多個冷凝器管定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之該液相熱接觸。
14. 如請求項13之方法，其中使該汽相從該內體積循環至一或多個冷凝器管中包括： 使該汽相循環通過敞開至該內體積之一特定冷凝器管之一入口； 使該汽相循環通過該特定冷凝器管之一u形流動路徑； 藉由將熱傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相而使該u形流動路徑中之該汽相之至少一部分冷凝；及 使該經冷凝部分循環通過該特定冷凝器管之一出口且至該內體積中。
15. 如請求項14之方法，其中使該汽相循環通過該u形流動路徑包括至少部分基於將該汽相芯吸通過該u形流動路徑而使該汽相循環。
16. 如請求項13之方法，其進一步包括： 將該所產生熱傳遞至含於安裝至該一或多個電子熱產生裝置且與該一或多個電子熱產生裝置傳導熱接觸之該浸沒冷卻系統之一蒸汽腔之一內體積中之該工作流體； 使用該所傳遞熱將該工作流體之一液相之至少一部分蒸發為該工作流體之一汽相；及 使用該工作流體之該汽相中之熱使含於至少一個熱管道中之一製冷劑之一液相之至少一部分蒸發，該至少一個熱管道定位成與該蒸汽腔之一內體積內之該工作流體熱接觸且與該非傳導冷卻劑之該液相熱接觸；及 將來自該經蒸發製冷劑之熱傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相。
17. 如請求項13之方法，其進一步包括透過定位於該一或多個電子熱產生裝置與該蒸汽腔之間且與其等傳導熱接觸之一熱介面材料傳遞來自該一或多個電子熱產生裝置之熱。
18. 如請求項13之方法，其進一步包括使用耦合至該蒸汽腔及該伺服器托盤總成之一或多個偏置部件將該蒸汽腔推向該一或多個電子熱產生裝置。
19. 如請求項12之方法，其進一步包括： 將該第一容器圍封於一第二容器之一第二體積中，該非傳導冷卻劑填充該第一體積及該第二體積之至少一部分； 密封該非傳導冷卻劑之該液相以與一周圍環境隔絕； 將來自該複數個電子熱產生裝置之一熱負載傳遞至該非傳導冷卻劑之該液相； 在該第一體積與該第二體積之間形成一氣流路徑；及 將來自該第一體積之空氣之一部分通過該氣流路徑、通過該第二體積排放至該周圍環境。
20. 如請求項12之方法，其中該第二容器包括一底座及從該底座垂直延伸之一煙囪，該底座包括該第二體積之一第一部分且該煙囪包括與該第一部分流體連通之該第二體積之一第二部分。
21. 如請求項20之方法，其進一步包括： 在該煙囪之一頂部部分中冷卻空氣與該非傳導冷卻劑之一汽相之一第一部分之一混合物以將該汽相之該第一部分冷凝為該非傳導冷卻劑之該液相； 在該煙囪之一中間部分中冷卻該非傳導冷卻劑之該汽相之一第二部分以將該汽相之該第二部分冷凝為該非傳導冷卻劑之該液相；及 在該煙囪之一底部部分中過冷卻該非傳導冷卻劑之該液相。
22. 如請求項20之方法，其進一步包括將一冷卻流體供應至定位於該煙囪中之一冷卻模組。
23. 如請求項12之方法，其中該非傳導冷卻劑包括一單相非傳導冷卻劑，該方法進一步包括： 使該非傳導液體冷卻劑之一過冷卻液相從該第二體積之一底部部分循環至該第二體積之一頂部部分；及 使該頂部部分中之該過冷卻液體在定位於該第二體積中之一冷卻模組上方循環。
24. 如請求項12之方法，其中該第二容器包括一人類可佔用外殼，且該第二體積包括一人類可佔用工作空間。
25. 如請求項12之方法，其中該非傳導冷卻劑包括一介電冷卻劑。
26. 一種沈浸式伺服器托盤總成，其包括： 一主機板； 至少一個硬體處理器，其耦合至該主機板；及 一浸沒冷卻系統，其安裝至該處理器且與該處理器傳導熱接觸，該浸沒冷卻系統包括與該處理器熱連通之一工作流體，其中該主機板、該處理器及該浸沒冷卻系統經組態以沈浸於一介電冷卻液體中。
27. 如請求項26之沈浸式伺服器托盤總成系統，其中該浸沒冷卻系統包括： 一外殼，其安裝至該處理器且與該處理器傳導熱接觸；及 一或多個冷凝器管，其或其等定位成與該外殼之一內體積內之該工作流體熱接觸且從該外殼延伸，其中該一或多個冷凝器管之各者經組態以沈浸於該介電冷卻液體中。
28. 如請求項27之沈浸式伺服器托盤總成，其中該冷凝器管包括： 一入口，其敞開至該內體積； 一出口，其敞開至該內體積；及 一導管，其在該入口與該出口之間，該導管從該內體積延伸穿過該外殼之一壁且至該外殼外部。
29. 如請求項28之沈浸式伺服器托盤總成，其進一步包括定位於該導管之至少一部分中之一毛細結構。
30. 如請求項27之沈浸式伺服器托盤總成，其進一步包括定位於該處理器與該外殼之間且與其等傳導熱接觸之一相變材料。

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