TW201619541A - 光源模組與光源單元 - Google Patents

Abstract

一種光源模組，包括至少一光學膜片以及光源單元。光源單元設置於至少一光學膜片下，且與至少一光學膜片圍設出一空間。光源單元包括多個發光元件以及多個二次透鏡。發光元件沿一平行於至少一光學膜片的方向排列。二次透鏡對應地配置於發光元件上，且各二次透鏡具有一圖案化反射層。各二次透鏡具有一開光孔半徑R，圖案化反射層的分布範圍與各二次透鏡底部的距離為H，且圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。

Description

光源模組與光源單元

本發明是有關於一種光源模組與光源單元，且特別是有關於一種具有二次透鏡的光源模組與光源單元。

一般而言，發光二極體(Light Emitting Diode,LED)可應用於日常生活中的各式照明裝置以及各種平面顯示器，例如液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)的光源上。

以發光二極體在液晶顯示器領域的應用方面為例，液晶顯示器的背光模組即屬於一種面光源，其基本原理是把線光源或點光源的有效光轉化成高亮度且均勻度良好的面光源。一般而言，以光源位置作為區別，背光模組可分為側入式(side incident type)與直下式(direct type)兩種，其中因為直下式背光模組的結構簡易，且可採用多組光源，而可提供較高的亮度及輝度，因此常應用於大尺寸液晶顯示器的電子產品中。

進一步而言，目前的直下式背光模組會透過二次光學透鏡的配置，以減少發光二極體的數量或是降低光腔高度，但如此 一來，二次光學透鏡的擴散光束能力、發光二極體的數量或是光腔高度都將會影響產品成本的考量。舉例而言，一般的直下式背光模組所搭配的二次透鏡為折射式二次透鏡，其開光角度為±80°，且光腔深度(h，參考圖1)與發光二極體間距(p，參考圖1)的距離比(即h/p ratio)約0.25，也就是當光腔為25毫米時，發光二極體的間距約需要100毫米，而當光腔深度與發光二極體間距的距離比越低時，則二次透鏡的擴散光束能力則需越佳。因此，在使用上述的二次透鏡，並將直下式背光模組更薄型化時，為維持相同的光腔深度與發光二極體間距的距離比，就必須縮小發光二極體之間的間距，如此一來，發光二極體的數量、二次透鏡與表面黏著的加工的成本也會相應增加。因此，如何使直下式背光模組具有良好的均勻度和品味，並兼顧產品成本，實為目前需改善的問題。

中國專利第CN101153982A號揭露一種背光模組，其包括一底板、多個設置於底板的發光二極體及一設置於多個發光二極體上方的光學板。台灣專利公開第201411892號揭露一種透鏡以及反射層。透鏡設置於基板上並罩住發光二極體晶片。反射層設置於透鏡上，用以反射發光二極體晶片的側面所放射的光線。台灣專利公開第201027184號揭露一種包括一反射板、至少一光源及至少一透鏡的背光模組。美國專利第US6814456B1號揭露一種光遮片，其覆蓋於光源產生器上，光遮片包括複數光孔以分散光源。

本發明提供一種光源模組，其具有低成本、薄光腔以及高均勻度的優點。

本發明提供一種光源單元，其具有高均勻度的優點。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。

為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明的一實施例提出一種光源模組。光源模組包括至少一光學膜片以及一光源單元。光源單元設置於至少一光學膜片下，且與至少一光學膜片圍設出一空間。光源單元包括多個發光元件以及多個二次透鏡。發光元件沿一平行於至少一光學膜片的方向排列。二次透鏡對應地配置於發光元件上，且各二次透鏡具有一圖案化反射層。各二次透鏡具有一開光孔半徑R，圖案化反射層的分布範圍與各二次透鏡底部的距離為H，且圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。

為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明的一實施例提出一種光源單元，包括一發光元件以及一二次透鏡。二次透鏡對應地配置於發光元件上，且二次透鏡具有一圖案化反射層，其中二次透鏡具有一開光孔半徑R，圖案化反射層的分布範圍與二次透鏡底部的距離為H，且圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。

在本發明的一實施例中，上述的各二次透鏡為折射式二次透鏡，且圖案化反射層設置在各二次透鏡的上表面的周圍。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<R。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的分布範圍與各二次透鏡中心的距離為X，且圖案化反射層的分布範圍符合4/5R<X<R。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的形狀為環狀。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層具有多個開孔。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層具有多個不規則圖案，且這些不規則圖案以環繞二次透鏡中心的方式排列。

在本發明的一實施例中，上述的各二次透鏡為反射式二次透鏡，且圖案化反射層覆蓋各二次透鏡的上表面。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的分布範圍符合1/2R<H<3/2R。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層分佈在距離各二次透鏡中心為2R處的範圍內。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層具有可撓性。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層具有至少 一開孔，且至少一開孔的面積與圖案化反射層的表面積的比值落在20%至90%之間。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的至少一開孔的數量為多個，這些開孔的排列方式呈圓對稱。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的至少一開孔的數量為多個，這些開孔呈不規則排列。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層的反射率介於50%~100%。

在本發明的一實施例中，上述的圖案化反射層為白反射層、銀反射層、蒸鍍反射金屬或噴墨反射材料。

在本發明的一實施例中，上述的光源模組還包括一擴散板，位於至少一光學膜片與光源單元之間。

基於上述，本發明的實施例可達到下列優點或功效的至少其中之一。本發明的實施例的光源模組與光源單元將可藉由二次透鏡及圖案化反射層的配置來達到光型分佈的補償與提升出光的均勻度，並可縮減光腔的所需深度，以達到薄型化的效果。此外，由於光源模組具有薄型化的體積，因此可以降低機構件的成本，而且，在改善出光面均勻度的同時，對於光學膜、擴散板、發光元件等各項部材選用的自由度亦隨之增加，而有助於進行相關光學設計時的彈性。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

100、400‧‧‧光源模組

110‧‧‧光學膜片

120、420‧‧‧光源單元

121‧‧‧發光元件

122、422‧‧‧二次透鏡

122a、422a‧‧‧上表面

122b、422b‧‧‧底部

130‧‧‧擴散板

140‧‧‧反射單元

C1、C2、C3‧‧‧配光曲線

CA‧‧‧開孔

D1‧‧‧方向

h‧‧‧光腔深度

H、H1、H2、H3、H4、X、X1、X2‧‧‧距離

HO‧‧‧孔洞

M‧‧‧二次透鏡中心

p‧‧‧間距

PR‧‧‧圖案化反射層

R‧‧‧開光孔半徑

RP‧‧‧不規則圖案

S‧‧‧側邊

圖1是本發明一實施例的一種光源模組的剖面示意圖。

圖2A是圖1的一種光源單元的剖面示意圖。

圖2B是圖1的一種光源模組的不同二次透鏡的配光曲線的數據模擬圖。

圖3A至圖3C是圖1的不同圖案化反射層的俯視示意圖。

圖4是本發明另一實施例的一種光源模組的剖面示意圖。

圖5是圖4的一種光源單元的剖面示意圖。

圖6A至圖6B是圖4的不同圖案化反射層的俯視示意圖。

有關本發明的前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式的一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。

圖1是本發明一實施例的一種光源模組的剖面示意圖。請參照圖1，本實施例的光源模組100包括至少一光學膜片110(圖1繪示三片光學膜片110為例)、一光源單元120、一擴散板130以及一反射單元140。光源單元120包括多個發光元件121以及多 個二次透鏡122。在其他實施例中，光源單元120可包括一個發光元件121以及一個二次透鏡122，本發明不以此為限。在本實施例中，發光元件121例如是發光二極體(LED)，反射單元140例如為一白色反射片。

具體而言，如圖1所示，在本實施例中，發光元件121設置於光源模組100的底部，且發光元件121例如設置於一基板(未標示)上，基板例如為電路板，二次透鏡122對應地配置於發光元件121上，而反射單元140設置於基板上。發光元件121沿一平行於至少一光學膜片110的方向D1排列。反射單元140沿平行於方向D1上亦具有複數孔洞HO，複數孔洞HO的位置乃是對應各發光元件121與各二次透鏡122，以露出各發光元件121與各二次透鏡122。在本實施例中，各二次透鏡122為折射式二次透鏡。一般而言，折射式二次透鏡可使入射光束二次折射產生大角度變化的出射光束，因而可以增加光束的散射程度。換言之，折射式二次透鏡一般在開光角度±75°~±80°有出光極大值，即在開光角度±75°~±80°有最大亮度。其中開光角度定義為垂直方向D1的方向為0°，平行方向D1的方向為±90°。然而，習知的折射式二次透鏡為了爭取到更高的開光角度，而將光束往大角度拓展的同時，也會將中心亮度壓抑住，而容易使得當光源模組100具有較低的光腔時，光束的混光距離不足產生了中心暗點的問題。以下將搭配圖2A，針對本實施例的光源模組100如何藉由配置在二次透鏡122的上表面122a的圖案化反射層PR來達到光形補償的手段進行進 一步的說明。

圖2A是圖1的一種光源單元的剖面示意圖。請參照圖2A，具體而言，在本實施例中，各二次透鏡122具有一圖案化反射層PR，且圖案化反射層PR設置在各二次透鏡122的上表面122a的周圍。舉例而言，在本實施例中，圖案化反射層PR例如為白反射層、銀反射層。更詳細而言，在本實施例中，白反射層的材料可為二氧化鈦(TiO₂)或硫酸鋇(BaSO₄)，但本發明不以此為限。在其他實施例中，圖案化反射層PR的材料亦可為銀、鋁等蒸鍍反射金屬，或是噴墨反射材料，而可藉由噴墨或印刷等製程形成於各二次透鏡122的上表面122a。此外，在本實施例中，圖案化反射層PR的反射率介於50%~100%。應注意的是，此處的數值範圍皆僅是做為例示說明之用，其並非用以限定本發明。

具體而言，如圖2A所示，在本實施例中，各二次透鏡122具有一開光孔半徑R，在此，開光孔半徑R的定義為二次透鏡122的上表面122a(出光面)的半徑，即上表面122a投影在光學膜片110(參照圖1)且平行方向D1上的長度的一半。圖案化反射層PR的分布範圍與各二次透鏡122底部122b的距離為H，且圖案化反射層PR的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。更詳細而言，如圖2A所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的分布範圍分布在距離H1與距離H2之間，其中距離H1例如等於1/3R、距離H2例如等於R，因此圖案化反射層PR的分布範圍符合1/3R<H<R。圖案化反射層PR的分布範圍與各二次透鏡122中心M的距離為X， 且圖案化反射層PR的分布範圍符合4/5R<X<R。更詳細而言，如圖2A所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的分布範圍分布在距離X1與距離X2之間，其中距離X1例如等於4/5R、距離X2例如小於R，因此圖案化反射層PR的分布範圍符合4/5R<X<R。 另外，在本實施例中，開光孔半徑R的大小例如是落在7毫米至8.5毫米之間，圖案化反射層PR的分布範圍與各二次透鏡122底部122b距離H的大小例如是落在6毫米至8毫米之間。應注意的是，此處的數值範圍皆僅是做為例示說明之用，其並非用以限定本發明。

如此一來，接近二次透鏡122邊緣處的部分大角度的光束將可經由圖案化反射層PR反射，並且因此可被回收至二次透鏡122的中心M後出光，而可有效達到光分佈的補償，解決中心暗點的問題。舉例而言，以採用同一二次透鏡122的32吋的光源模組100為例，在未設置本實施例的圖案化反射層PR時，其所採用的二次透鏡122的擴散光束能力可使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比(h/p ratio)約0.25，亦即當發光元件121間距p為85毫米的條件下，合理的光腔深度h應為21.25毫米。但在設置本實施例的圖案化反射層PR時，光腔深度h可縮減為18毫米，亦即二次透鏡122的擴散光束能力可藉由設置圖案化反射層PR而提升，並使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比縮減為0.21。應注意的是，此處的數值範圍皆僅是做為例示說明之用，其並非用以限定本發明。

此外，如圖2B所示，配光曲線C1表示可使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比約0.25的未設有圖案化反射層PR的二次透鏡122，配光曲線C2表示可使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比約0.25的設有圖案化反射層PR的二次透鏡122，配光曲線C3表示可使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比約0.30的未設有圖案化反射層PR的另一種二次透鏡。相較於未設有圖案化反射層PR的二次透鏡122的配光曲線C1，設有圖案化反射層PR的二次透鏡122的配光曲線C2，具有較高的中心亮度，而可有效達到光分佈的補償。並且，相較於可使光腔深度h與發光元件121間距p的距離比約0.3的未設有圖案化反射層PR的另一種二次透鏡的配光曲線C3而言，設有圖案化反射層PR的二次透鏡122的配光曲線C2在大角度範圍的光分布仍可維持銳利的曲線，而可使大部分光束往大角度出射。應注意的是，此處的數值範圍皆僅是做為例示說明之用，其並非用以限定本發明。

另一方面，請再次參照圖1，光源單元120設置於至少一光學膜片110下，且與至少一光學膜片110以及反射單元140圍設出一空間，而形成了光源模組100的光腔。此外，擴散板130位於至少一光學膜片110與光源單元120之間。

具體而言，請參照圖1，在本實施例中，反射單元140及擴散板130配置於來自光源單元120的光束的傳遞路徑上，且光源單元120分佈於擴散板130的一側。進一步而言，當光束自二次透鏡122出光後，光束會傳遞至擴散板130。更進一步而言， 當光束被傳遞擴散板130處時，直下式光源模組100將可透過擴散板130使光束分佈均勻化，並藉由光學膜片110來修正出光方向，以提升直下式光源模組100的正向輝度。

如此一來，本實施例的光源模組100將可藉由二次透鏡122及圖案化反射層PR的配置來達到光型分佈的補償與提升出光的均勻度，並可縮減光腔的所需深度，以達到薄型化的效果。此外，由於光源模組100具有薄型化的體積，因此可以降低機構件的成本，而且，在改善出光面均勻度的同時，對於光學膜片110、擴散板130、發光元件121等各項部材選用的自由度亦隨之增加，而有助於進行相關光學設計時的彈性。

以下將搭配圖3A至圖3C，針對圖案化反射層PR的形狀的可能型態進行進一步地解說。

圖3A至圖3C是圖1的不同圖案化反射層的俯視示意圖。舉例而言，如圖3A所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的形狀可為環狀。在其他實施例中，圖案化反射層PR亦可具有多個開孔CA(如圖3B所示)，或是具有多個不規則圖案RP，且這些不規則圖案RP以環繞二次透鏡122中心的方式排列(如圖3C所示)，但本發明不以此為限。此領域具通常知識者當可依製程簡便等實際需求來採用適當圖案的圖案化反射層PR，以使光形最佳化，在此就不再贅述。

圖4是本發明另一實施例的一種光源模組的剖面示意圖。圖5是圖4的一種光源單元的剖面示意圖。請參照圖4與圖5， 本實施例的光源模組400與二次透鏡422與圖1的光源模組100與二次透鏡122類似，而差異如下所述。在本實施例中，光源單元420的各二次透鏡422為反射式二次透鏡。一般而言，反射式二次透鏡是運用入射光束在其內發生的全反射來實現擴散出射光束角度的目的。換言之，反射式二次透鏡一般在開光角度±80°~±100°有出光極大值，且特別在開光角度±90°仍有超過50%的亮度。然而，由於其出射光束中的一部分光束以較大角度從二次透鏡的水平側面出射，因此當雜散光束被反射回二次透鏡422的中央時，亦容易在二次透鏡的中央處產生亮點現象。以下將針對本實施例的光源模組400如何藉由配置在二次透鏡422的上表面422a的圖案化反射層PR來達到光形補償的手段進行進一步的說明。

如圖5所示，圖案化反射層PR覆蓋各二次透鏡422的上表面422a，並且，圖案化反射層PR具有可撓性，因此圖案化反射層PR的側邊S可向下彎折或向上彎折。由於發光元件121經二次透鏡422所反射的光形可能在水平或垂直方向的分布並不一致，因此藉由調整圖案化反射層PR的側邊S來反射不同方向的光束，而可針對水平或垂直方向的光形進行修整，進而可獲得所需的光形。

詳細而言，如圖5所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。更詳細而言，如圖5所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的分布範圍分布在距離H3與距離 H4之間，其中距離H3例如等於1/2R、距離H4例如等於3/2R，因此圖案化反射層PR的分布範圍符合1/2R<H<3/2R。並且，圖案化反射層PR分佈在距離各二次透鏡422中心M為2R處的範圍內。另外，在本實施例中，開光孔半徑R的大小例如是落在6毫米至8.5毫米之間，圖案化反射層PR的分布範圍與各二次透鏡422底部距離H的大小例如是落在6毫米至8毫米之間。應注意的是，此處的數值範圍皆僅是做為例示說明之用，其並非用以限定本發明。

如此，將可有效提升出光的均勻度，並可縮減光腔的所需深度，以達到薄型化的效果。舉例而言，以採用光腔深度為15毫米的反射式透鏡422的光源模組400為例，當將光腔深度縮減到12.5毫米時，將不可避免地會存在亮點，而配置了本實施例的圖案化反射層PR之後，將可有效提升出光的均勻度，而可消除亮點。

圖6A至圖6B是圖4的不同圖案化反射層的俯視示意圖。在本實施例中，圖案化反射層PR具有至少一開孔CA，且至少一開孔CA的面積與圖案化反射層PR的表面積的比值落在20%至90%之間。如圖6A所示，在本實施例中，圖案化反射層PR的至少一開孔CA的數量為多個(圖6A繪示二個開孔CA為例)，這些開孔CA的排列方式呈圓對稱，但本發明不以此為限。在其他實施例中，圖案化反射層PR的開孔CA亦可呈不規則排列(如圖6B所示)。此領域具通常知識者當可依製程簡便等實際需求來採用適 當圖案的圖案化反射層PR，以使光形最佳化，在此就不再贅述。此外，在本實施例中，圖案化反射層PR除可使用蒸鍍、鍍膜或印刷等製程形成在二次透鏡422上外，亦可將圖案化反射層PR製作為一立體結構，解決在二次透鏡422表面處理仍無法改良畫面的問題。

另一方面，由於光源模組400具有薄型化的體積，因此可以降低機構件的成本，而且，在改善出光面均勻度的同時，對於光學膜片110、擴散板130、發光元件121等各項部材選用的自由度亦隨之增加，而有助於進行相關光學設計時的彈性。此外，光源模組400亦可藉由擴散板130以及光學膜片110的設置，來提升光源模組400出光的均勻度以及正向輝度。因此，亦可使得光源模組400達到與光源模組100類似的功效及優點，在此就不予贅述。

綜上所述，本發明之實施例可達到下列優點或功效之至少其一。本發明的實施例的光源模組與光源單元將可藉由二次透鏡及圖案化反射層的配置來達到光型分佈的補償與提升出光的均勻度，並可縮減光腔的所需深度，以達到薄型化的效果。此外，由於光源模組具有薄型化的體積，因此可以降低機構件的成本，而且，在改善出光面均勻度的同時，對於光學膜片、擴散板、發光元件等各項部材選用的自由度亦隨之增加，而有助於進行相關光學設計時的彈性。

惟以上所述者，僅為本發明的較佳實施例而已，當不能 以此限定本發明實施的範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作的簡單等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露的全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明的權利範圍。

100‧‧‧光源模組

110‧‧‧光學膜片

120‧‧‧光源單元

121‧‧‧發光元件

122‧‧‧二次透鏡

130‧‧‧擴散板

140‧‧‧反射單元

D1‧‧‧方向

h‧‧‧光腔深度

p‧‧‧間距

PR‧‧‧圖案化反射層

HO‧‧‧孔洞

Claims (18)

1. 一種光源模組，包括：至少一光學膜片；以及一光源單元，設置於該至少一光學膜片下，且與該至少一光學膜片圍設出一空間，該光源單元包括：多個發光元件，該些發光元件沿一平行於該至少一光學膜片的方向排列；以及多個二次透鏡，對應地配置於該些發光元件上，且各該二次透鏡具有一圖案化反射層，其中各該二次透鏡具有一開光孔半徑R，該圖案化反射層的分布範圍與各該二次透鏡底部的距離為H，且該圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。
2. 如申請專利範圍第1項所述的光源模組，其中各該二次透鏡為折射式二次透鏡，且該圖案化反射層設置在各該二次透鏡的上表面的周圍。
3. 如申請專利範圍第2項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<R。
4. 如申請專利範圍第2項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的分布範圍與各該二次透鏡中心的距離為X，且該圖案化反射層的分布範圍符合4/5R<X<R。
5. 如申請專利範圍第2項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的形狀為環狀。
6. 如申請專利範圍第2項所述的光源模組，其中該圖案化反射層具有多個開孔。
7. 如申請專利範圍第2項所述的光源模組，其中該圖案化反射層具有多個不規則圖案，且該些不規則圖案以環繞該二次透鏡中心的方式排列。
8. 如申請專利範圍第1項所述的光源模組，其中各該二次透鏡為反射式二次透鏡，且該圖案化反射層覆蓋各該二次透鏡的上表面。
9. 如申請專利範圍第8項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的分布範圍符合1/2R<H<3/2R。
10. 如申請專利範圍第8項所述的光源模組，其中該圖案化反射層分佈在距離各該二次透鏡中心為2R處的範圍內。
11. 如申請專利範圍第8項所述的光源模組，其中該圖案化反射層具有可撓性。
12. 如申請專利範圍第8項所述的光源模組，其中該圖案化反射層具有至少一開孔，且該至少一開孔的面積與該圖案化反射層的表面積的比值落在20%至90%之間。
13. 如申請專利範圍第12項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的該至少一開孔的數量為多個，該些開孔的排列方式呈圓對稱。
14. 如申請專利範圍第12項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的該至少一開孔的數量為多個，該些開孔呈不規則排列。
15. 如申請專利範圍第1項所述的光源模組，其中該圖案化反射層的反射率介於50%~100%。
16. 如申請專利範圍第1項所述的光源模組，其中該圖案化反射層為白反射層、銀反射層、蒸鍍反射金屬或噴墨反射材料。
17. 如申請專利範圍第1項所述的光源模組，還包括：一擴散板，位於該至少一光學膜片與該光源單元之間。
18. 一種光源單元，包括：一發光元件；以及一二次透鏡，對應地配置於該發光元件上，且該二次透鏡具有一圖案化反射層，其中該二次透鏡具有一開光孔半徑R，該圖案化反射層的分布範圍與該二次透鏡底部的距離為H，且該圖案化反射層的分布範圍符合1/3R<H<3/2R。