TW201537301A - 感光性聚矽氧烷組成物及其應用 - Google Patents

Abstract

本發明係有關一種感光性聚矽氧烷組成物及由該感光性矽氧烷組成物所形成之保護膜，其用於形成TFT基板用平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路之芯材或包覆材，該保護膜具有ITO圖案不易視認與低溫固化佳之特性。該感光性矽氧烷組成物包含：聚矽氧烷(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、選自由熱酸發生劑及熱鹼發生劑所組成之群之至少一種之化合物(C)、無機粒子(D)以及溶劑(E)。

Description

感光性聚矽氧烷組成物及其應用

本發明係有關於一種適用於液晶顯示元件、有機EL顯示元件等之TFT基板用平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路之芯材或包覆材之正型感光性矽氧烷組成物，及由其形成之保護膜、及具有該保護膜之元件。其中，特別是提供一種曝光、顯影後形成之具有ITO圖案不易視認與低溫固化佳之特性之保護膜用正型感光性聚矽氧烷組成物。

近年來，在液晶顯示器或有機電激發光顯示器等領域中，為了可提高清晰度和分辨率，一般係經由增加顯示裝置之開口率而達成(如日本特許第2933879號公報所揭示)。藉由於透明之TFT基板用平坦化膜上形成一保護膜，使像素電極與數據線重疊，是與現有技術相比可提高開口率之方法。

TFT基板用平坦化膜之材料必須具有高耐熱性、高透明性、低誘電性，因此業界通常使用醌二疊氮化合物和酚醛樹脂之組合(如日本特開平第7-98502號公報所揭示)或醌二疊氮化合物和丙烯酸類樹脂之組合(如日本特開平第10-153854及特開2001-281853號公報所揭示)，然而前述材料之耐熱性並不理想，再者，當將基板進行高溫處理時，亦產生固化膜黃化而造成透明度低下之問題。

聚矽氧烷化合物已知為一具有高耐熱性、高透明性、低誘電性之材料。正型聚矽氧烷化合物藉由與醌二疊氮化合物結合，而使其具備感光性，其結合方式為以聚矽氧烷化合物末端具有之酚性烴基與醌 二疊氮化合物結合(如日本特開第2003-255546號公報所揭示)、藉由熱環化加成反應添加羧基和酚性羥基以結合醌二疊氮化合物和矽氧烷聚合物(如日本特許2648969號公報所揭示)。然而這些材料因含有大量之醌二疊氮化合物及存在聚矽氧烷化合物中之酚性烴基，塗膜可能產生白化或於熱固化時產生黃化，而無法作為高透明性之材料。再者，因該等材料之透明性低，而使圖案形成時之靈敏度亦低。此外，該等材料之ITO圖案易視認與高溫固化之要求亦無法令業界所接收。

職是之故，目前業界仍需開發出一種ITO圖案不易視認與低溫固化佳之感光性聚矽氧烷組成物，俾利液晶顯示元件、有機顯示元件之發展。

本發明利用提供特殊聚矽氧烷聚合物、熱酸發生劑或熱鹼發生劑及無機粒子之成分，而得到ITO圖案不易視認與低溫固化佳之感光性聚矽氧烷組成物。

因此，本發明提供一種感光性聚矽氧烷組成物，其包含：聚矽氧烷(A)；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；化合物(C)，其係選自由熱酸發生劑及熱鹼發生劑所組成之群；無機粒子(D)，其中該無機粒子(D)係以第四族元素之氧化物為主成分；以及溶劑(E)；其中該聚矽氧烷(A)係由下列結構式(1)所表示之矽烷化合物經加水分解及部份縮合反應而得之共聚物：Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 結構式(1)

其中： R¹⁰係選自由氫、碳數1至10之烷基、碳數2至10之烯基、碳數6至15之芳香基、含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群，且至少一個R¹⁰係選自由含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群；R¹¹係選自由氫、碳數1至6之烷基、碳數1至6之醯基及碳數6至15之芳香基所組成之群；及w為0、1、2或3。

本發明亦提供一種於一基板上形成薄膜之方法，其包含使用前述之感光性聚矽氧烷組成物施予該基板上。

本發明又提供一種基板上之薄膜，其係由前述之方法所製得。

本發明再提供一種裝置，其包含前述之薄膜。

本發明提供一種感光性聚矽氧烷組成物，其包含：聚矽氧烷(A)；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；化合物(C)，其係選自由熱酸發生劑及熱鹼發生劑所組成之群；無機粒子(D)，其中該無機粒子(D)係以第四族元素之氧化物為主成分；以及溶劑(E)；其中該聚矽氧烷(A)係由下列結構式(1)所表示之矽烷化合物經加水分解及部份縮合反應而得之共聚物：Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 結構式(1)

其中：R¹⁰係選自由氫、碳數1至10之烷基、碳數2至10之烯基、碳數6至15之芳香基、含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基 之氧烷基所組成之群，且至少一個R¹⁰係選自由含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群；R¹¹係選自由氫、碳數1至6之烷基、碳數1至6之醯基及碳數6至15之芳香基所組成之群；及w為0、1、2或3。

聚矽氧烷(A)的種類並沒有特別限制，只要可達到本發明的目的即可。聚矽氧烷(A)較佳可選擇使用矽烷單體(silane monomer)、聚矽氧烷預聚物(siloxane prepolymer)或者矽烷單體與聚矽氧烷預聚物的組合進行聚合(即水解(hydrolysis)及部分縮合(partially condensation))來形成。

其中該聚矽氧烷(A)係由下列結構式(1)所表示之矽烷化合物經加水分解及部份縮合反應而得之共聚物：Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 結構式(1)

其中：R¹⁰係選自由氫、碳數1至10之烷基、碳數2至10之烯基、碳數6至15之芳香基、含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群，且至少一個R¹⁰係選自由含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群；R¹¹係選自由氫、碳數1至6之烷基、碳數1至6之醯基及碳數6至15之芳香基所組成之群；及w為0、1、2或3。

更詳細而言，當結構式(1)中的R¹⁰表示碳數為1至10的烷基時，具體而言，R¹⁰例如是甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正己基或正癸基。又，R¹⁰也可以是烷基上具有其他取代基的烷基，具體而言，R¹⁰例如是三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-胺丙基、3-巰丙基或3-異氰酸丙基。

當結構式(1)中的R¹⁰表示碳數為2至10的烯基時，具體而言，R¹⁰例如是乙烯基。又，R¹⁰也可以是烯基上具有其他取代基的烯基，具體而言，R¹⁰例如是3-丙烯醯氧基丙基或3-甲基丙烯醯氧基丙基。

當結構式(1)中的R¹⁰表示碳數為6至15的芳香基時，具體而言，R¹⁰例如是苯基、甲苯基(tolyl)或萘基(naphthyl)。又，R¹⁰也可以是芳香基上具有其他取代基的芳香基，具體而言，R¹⁰例如是對-羥基苯基(o-hydroxyphenyl)、1-(對-羥基苯基)乙基(1-(o-hydroxyphenyl)ethyl)、2-(對-羥基苯基)乙基(2-(o-hydroxyphenyl)ethyl)或4-羥基-5-(對-羥基苯基羰氧基)戊基(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl)。

此外，結構式(1)中的R¹⁰表示含有酸酐基的烷基，其中烷基較佳為碳數為1至10的烷基。具體而言，所述含有酸酐基的烷基例如是結構式(1-1)至結構式(1-3)所示的基團。值得一提的是，酸酐基是由二羧酸(dicarboxylic acid)經分子內脫水(intramolecular dehydration)所形成的基團，其中二羧酸例如是丁二酸或戊二酸。

再者，結構式(1)中的R¹⁰表示含有環氧基的烷基，其中烷基較佳為碳數為1至10的烷基。具體而言，所述含有環氧基的烷基例如是環氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)或2-(3,4-環氧環己基)乙基(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl)。值得一提的是，環氧基是由二元醇(diol)經分子內脫水所形成的基團，其中二元醇例如是丙二醇、丁二醇或戊二醇。

結構式(1)中的R¹⁰表示含有環氧基的烷氧基，其中烷氧基較佳為碳數為1至10的烷氧基。具體而言，所述含有環氧基的烷氧基例如是環氧丙氧基丙基(glycidoxypropyl)或2-環氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)。

另外，當結構式(1)的R¹¹表示碳數為1至6的烷基時，具體而言，R¹¹例如是甲基、乙基、正丙基、異丙基或正丁基。當結構式(1)中的R¹¹表示碳數為1至6的醯基時，具體而言，R¹¹例如是乙醯基。當結構式(1)中的R¹¹表示碳數為6至15的芳香基時，具體而言，R¹¹例如是苯基。

在結構式(1)中，w為0至3的整數。當w表示2或3時，多個R¹¹可為相同或不同；當w表示1或2時，多個R¹¹可為相同或不同。

在結構式(1)中，當w=0時，表示矽烷單體為四官能性矽烷單體(亦即具有四個可水解基團的矽烷單體)；當w=1時，表示矽烷單體為三官能性矽烷單體(亦即具有三個可水解基團的矽烷單體)；當w=2時，表示矽烷單體為二官能性矽烷單體(亦即具有二個可水解基團的矽烷單體)；並且當w=3時，則表示矽烷單體為單官能性矽烷單體(亦即具有一個可水解基團的矽烷單體)。值得一提的是，所述可水解基團是指可以進行水解反應並且與矽鍵結基團，舉例來說，可水解基團例如是烷氧基、醯氧基(acyloxy group)或苯氧基(phenoxy group)。

矽烷單體例如是： (1)四官能性矽烷單體：四甲氧基矽烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基矽烷(tetraethoxysilane)、四乙醯氧基矽烷(tetraacetoxysilane)、或四苯氧基矽烷等(tetraphenoxy silane)；(2)三官能性矽烷單體：甲基三甲氧基矽烷(methyltrimethoxysilane簡稱MTMS)、甲基三乙氧基矽烷(methyltriethoxysilane)、甲基三異丙氧基矽烷(methyltriisopropoxysilane)、甲基三正丁氧基矽烷(methyltri-n-butoxysilane)、乙基三甲氧基矽烷(ethyltrimethoxysilane)、乙基三乙氧基矽烷(ethyltriethoxysilane)、乙基三異丙氧基矽烷(ethyltriisopropoxysilane)、乙基三正丁氧基矽烷(ethyltri-n-butoxysilane)、正丙基三甲氧基矽烷(n-propyltrimethoxysilane)、正丙基三乙氧基矽烷(n-propyltriethoxysilane)、正丁基三甲氧基矽烷(n-butyltrimethoxysilane)、正丁基三乙氧基矽烷(n-butyltriethoxysilane)、正己基三甲氧基矽烷(n-hexyltrimethoxysilane)、正己基三乙氧基矽烷(n-hexyltriethoxysilane)、癸基三甲氧基矽烷(decyltrimethoxysilane)、乙烯基三甲氧基矽烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基矽烷(vinyltriethoxysilane)、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(3-acryoyloxypropyltrimethoxysilane)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(3-methylacryloyloxypropyltrimethoxysilane,MPTMS)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(3-methylacryloyloxypropyltriethoxysilane)、苯基三甲氧基矽烷(phenyltrimethoxysilane,PTMS)、苯基三乙氧基矽烷(phenyltriethoxysilane,PTES)、對-羥基苯基三甲氧基矽烷(p-hydroxyphenyltrimethoxysilane)、1-(對-羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷(1-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane)、2-(對-羥基苯基)乙基三甲 氧基矽烷(2-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane)、4-羥基-5-(對-羥基苯基羰氧基)戊基三甲氧基矽烷(4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyltrimethoxysilane)、三氟甲基三甲氧基矽烷(trifluoromethyltrimethoxysilane)、三氟甲基三乙氧基矽烷(trifluoromethyltriethoxysilane)、3,3,3-三氟丙基三甲氧基矽烷(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane)、3-胺丙基三甲氧基矽烷(3-aminopropyltrimethoxysilane)、3-胺丙基三乙氧基矽烷(3-aminopropyltriethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane)、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷(2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane)、3-巰丙基三甲氧基矽烷(3-mercaptopropyltrimethoxysilane)、2-環氧丙烷基丁氧基丙基三苯氧基矽烷(2-oxetanylbutoxypropyltriphenoxysilane)，以及由東亞合成所製造的市售品：2-環氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基矽烷(2-oxetanylbutoxypropyltrimethoxysilane(商品名TMSOX-D)、2-環氧丙烷基丁氧基丙基三乙氧基矽烷(2-oxetanylbutoxypropyltriethoxysilane(商品名TESOX-D)、3-(三苯氧基矽基)丙基丁二酸(3-triphenoxysilyl propyl succinic anhydride)、由信越化學所製造之市售品：3-(三甲氧基矽基)丙基丁二酸酐(3-trimethoxysilyl propyl succinic anhydride)(商品名X-12-967)、由WACKER公司所製造之市售品：3-(三乙氧基矽基)丙基丁二酸酐(3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride)(商品名GF-20)、3-(三甲氧基矽基)丙基戊二酸酐(3-(trimethoxysilyl)propyl glutaric anhydride，TMSG)、3-(三乙氧基矽基)丙基戊二酸酐(3-(triethoxysilyl)propyl glutaric anhydride)、或3-(三苯氧基矽基)丙基戊二酸酐(3-(triphenoxysilyl)propyl glutaric anhydride)；(3)二官能性矽烷單體：二甲基二甲氧基矽烷 (dimethyldimethoxysilane簡稱DMDMS)、二甲基二乙氧基矽烷(dimethyldiethoxysilane)、二甲基二乙醯氧基矽烷(dimethyldiacetyloxysilane)、二正丁基二甲氧基矽烷[di-n-butyldimethoxysilane]、二苯基二甲氧基矽烷(diphenyldimethoxysilane)、二異丙氧基-二(2-環氧丙烷基丁氧基丙基)矽烷(diisopropoxy-di(2-oxetanylbutoxypropyl)silane，簡稱DIDOS]、二(3-環氧丙烷基戊基)二甲氧基矽烷[di(3-oxetanylpentyl)dimethoxy silane]、(二正丁氧基矽基)二(丙基丁二酸酐)[(di-n-butoxysilyl)di(propyl succinic anhydride)]、或(二甲氧基矽基)二(乙基丁二酸酐)[(dimethoxysilyl)di(ethyl succinic anhydride)]；或(4)單官能性矽烷單體：三甲基甲氧基矽烷(trimethylmethoxysilane)、三正丁基乙氧基矽烷(tri-n-butylethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基二甲基甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基二甲基乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane)、二(2-環氧丙烷基丁氧基戊基)-2-環氧丙烷基戊基乙氧基矽烷(di(2-oxetanylbutoxypentyl)-2-oxetanylpentylethoxysilane)、三(2-環氧丙烷基戊基)甲氧基矽烷(tri(2-oxetanylpentyl)methoxy silane)、苯氧基矽基三丙基丁二酸酐(phenoxysilyltripropyl succinic anhydride)、或甲基甲氧基矽基二乙基丁二酸酐(methoxysilyldiethyl succinic anhydride)等。所述的各種矽烷單體可單獨使用或組合多種來使用。

聚矽氧烷(A)較佳為包括由結構式(1-4)所表示的聚矽氧烷預聚物： 其中，在結構式(1-4)中，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立表示氫原子、碳數為1至10的烷基、碳數為2至6的烯基或碳數為6至15的芳香基。R¹²及R¹⁵各自獨立表示氫原子、碳數為1至6的烷基、碳數為1至6的醯基或碳數為6至15的芳香基。x表示1至1000的整數。

結構式(1-4)中，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立表示碳數為1至10的烷基，舉例來說，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立為甲基、乙基或正丙基等。結構式(1-4)中，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立表示碳數為2至10的烯基，舉例來說，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立為乙烯基、丙烯醯氧基丙基或甲基丙烯醯氧基丙基。結構式(1-4)中，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立表示碳數為6至15的芳香基，舉例來說，R¹³、R¹⁴、R¹⁶及R¹⁷各自獨立為苯基、甲苯基或萘基等。值得注意的是，所述烷基、烯基及芳香基中任一者可選擇地具有取代基。

結構式(1-4)中，R¹²及R¹⁵各自獨立表示碳數為1至6的烷基，舉例來說，R¹²及R¹⁵各自獨立為甲基、乙基、正丙基、異丙基或正丁基。結構式(1-4)中，R¹²及R¹⁵各自獨立表示碳數為1至6的醯基，舉例來說，例如是乙醯基。結構式(1-4)中，R¹²及R¹⁵各自獨立表示碳數為6至15的芳香基，舉例來說，例如是苯基。值得注意的是，上述烷基、醯基及芳香基中任一者可選擇地具有取代基。

結構式(1-4)中，x為1至1000的整數，x較佳為3至300的整數，並且x更佳為5至200的整數。當x為2至1000的整數時，R¹³各自為相同或不同基團，且R¹⁷各自為相同或不同基團。

結構式(1-4)所示的聚矽氧烷預聚物例如是1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二矽氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙氧基二矽氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二矽氧烷或者由吉來斯特(Gelest)公司製造的末端為矽烷醇的聚矽氧烷(Silanol terminated polydimethylsiloxane)的市售品(商品名如DM-S12(分子量400至700)、DMS-S15(分子量1500至 2000)、DMS-S21(分子量4200)、DMS-S27(分子量18000)、DMS-S31(分子量26000)、DMS-S32(分子量36000)、DMS-S33(分子量43500)、DMS-S35(分子量49000)、DMS-S38(分子量58000)、DMS-S42(分子量77000)或PDS-9931(分子量1000至1400))。結構式(1-4)所示的聚矽氧烷預聚物可單獨使用或組合多種來使用。

值得一提的是，矽烷單體可與聚矽氧烷預聚物組合使用，且兩者混合比率並無特別限制。矽烷單體與聚矽氧烷預聚物的矽原子莫耳數比較佳為100：0.01至50：50。

此外，聚矽氧烷(A)可由所述的矽烷單體及/或聚矽氧烷預聚物經由共聚合來製備，或組合二氧化矽(silicon dioxide)粒子經由共聚合反應來製備。

二氧化矽粒子的平均粒徑並無特別的限制。平均粒徑的範圍為2nm至250nm，較佳為5nm至200nm，且更佳為10nm至100nm。

二氧化矽粒子例如是由觸媒化成公司所製造的市售品(商品名如OSCAR 1132(粒徑12nm；分散劑為甲醇)、OSCAR 1332(粒徑12nm；分散劑為正丙醇)、OSCAR 105(粒徑60nm；分散劑為γ-丁內酯)、OSCAR 106(粒徑120nm；分散劑為二丙酮醇)等)、由扶桑化學公司所製造的市售品(商品名如Quartron PL-1-IPA(粒徑13nm；分散劑為異丙酮)、Quartron PL-1-TOL(粒徑13nm；分散劑為甲苯)、Quartron PL-2L-PGME(粒徑18nm；分散劑為丙二醇單甲醚)或Quartron PL-2L-MEK(粒徑18nm；分散劑為甲乙酮)等)或由日產化學公司所製造的市售品(商品名如IPA-ST(粒徑12nm；分散劑為異丙醇)、EG-ST(粒徑12nm；分散劑為乙二醇)、IPA-ST-L(粒徑45nm；分散劑為異丙醇)或IPA-ST-ZL(粒徑100nm；分散劑為異丙醇))。二氧化矽粒子可單獨使用或組合多種來使用。

二氧化矽粒子可與矽烷單體及/或聚矽氧烷預聚物組合使用，且 混合比率並無特別限制。二氧化矽粒子與聚矽氧烷預聚物的矽原子莫耳數比率較佳為1%至50%。

一般而言，矽烷單體、聚矽氧烷預聚物及/或二氧化矽粒子的聚合反應(即水解及部分縮合)是以下列方驟來進行：在矽烷單體、聚矽氧烷預聚物及/或二氧化矽粒子的混合物中添加溶劑、水，且可選擇性地添加觸媒(catalyst)；以及於50℃至150℃下加熱攪拌0.5小時至120小時，且可進一步藉由蒸餾(distillation)除去副產物(醇類、水等)。

上述聚合反應所使用的溶劑並沒有特別限制，且所述溶劑可與本發明的聚矽氧烷組成物所包括的溶劑(E)相同或不同。基於矽烷單體、聚矽氧烷預聚物及/或二氧化矽粒子的總量為100克，溶劑的含量較佳為15克至1200克；更佳為20克至1100克；且再更佳為30克至1000克。

基於矽烷單體、聚矽氧烷預聚物及/或二氧化矽粒子的可水解基團為1莫耳，上述聚合反應所使用的水(亦即用於水解的水)為0.5莫耳至2莫耳。

上述聚合反應所使用的觸媒沒有特別的限制，且較佳為選自酸觸媒(acidic catalyst)或鹼觸媒(basic catalyst)。酸觸媒例如是鹽酸(hydrochloric acid)、硝酸(nitric acid)、硫酸(sulfuric acid)、氫氟酸(hydrofluoric acid)、草酸(oxalic acid)、磷酸(phosphoric acid)、醋酸(acetic acid)、三氟醋酸(trifluoroacetic acid)、蟻酸(formic acid)、多元羧酸(polybasic carboxylic acid)或其酸酐、或者離子交換樹脂(ion-exchange resin)等。鹼觸媒例如是二乙胺(diethylamine)、三乙胺(triethylamine)、三丙胺(tripropylamine)、三丁胺(tributylamine)、三戊胺(tripentylamine)、三己胺(trihexylamine)、三庚胺(triheptylamine)、三辛胺(trioctylamine)、二乙醇胺(diethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、氫氧化鈉(sodium hydroxide)、氫氧化鉀 (potassium hydroxide)、含有胺基的具有烷氧基的矽烷或離子交換樹脂等。

基於矽烷單體、聚矽氧烷預聚物及/或二氧化矽粒子的總量為100克，上述聚合反應所使用的觸媒的含量較佳為0.005克至15克；更佳為0.01克至12克；且再更佳為0.05克至10克。

基於安定性(stability)的觀點，聚矽氧烷(A)較佳為不含副產物(如醇類或水)及觸媒。因此，可選擇性地將聚合反應後的反應混合物進行純化(purification)來獲得的聚矽氧烷(A)。純化的方法無特別限制，較佳為可使用疏水性溶劑(hydrophobic solvent)稀釋反應混合物。接著，將上述疏水性溶劑與反應混合物轉移至分液漏斗(separation funnel)。然後，以水洗滌數回有機層，再以旋轉蒸發器(rotary evaporator)濃縮上述有機層，以除去醇類或水。另外，可使用離子交換樹脂除去觸媒。

根據本發明之該聚矽氧烷(A)，其中R¹⁰若無包含至少一含含有酸酐基的烷基、含有環氧基的烷基或含有環氧基的烷氧基，會有ITO圖案易視認及低溫固化不佳的問題。

根據本發明之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的種類沒有特別的限制，可使用一般所使用的鄰萘醌二疊氮磺酸酯。所述鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)可為完全酯化(completely esterify)或部分酯化(partially esterify)的酯類化合物(ester-based compound)。

鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)較佳為由鄰萘醌二疊氮磺酸(o-naphthoquinonediazidesulfonic acid)或其鹽類與羥基化合物反應來製備。鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)更佳為由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與多元羥基化合物(polyhydroxy compound)反應來製備。

鄰萘醌二疊氮磺酸例如是鄰萘醌二疊氮-4-磺酸、鄰萘醌二疊氮-5-磺酸或鄰萘醌二疊氮-6-磺酸等。此外，鄰萘醌二疊氮磺酸的鹽類例 如是鄰萘醌二疊氮磺醯基鹵化物(diazonaphthoquinone sulfonyl halide)。

所述羥基化合物例如是：(1)羥基二苯甲酮類化合物(hydroxybenzophenone-based compound)，例如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4'-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羥基二苯甲酮、2,4,5,3',5'-五羥基二苯甲酮或2,3,4,3',4',5'-六羥基二苯甲酮等。

(2)羥基芳基類化合物(hydroxyaryl-based compound)，例如由結構式(2-1)所示的羥基芳基類化合物：

其中，在結構式(2-1)中，R¹⁸及R¹⁹各自獨立表示氫原子、鹵素原子或碳數為1至6烷基；R²⁰、R²¹、R²⁴各自獨立表示氫原子或碳數為1至6的烷基；R²²、R²³、R²⁵、R²⁶、R²⁷、R²⁸各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至6的烷基、碳數為1至6的烷氧基、碳數為1至6的烯基或環烷基(cycloalkyl)；h、i及y各自獨立表示1至3的整數；z表示0或1。

具體而言，結構式(2-1)所示的羥基芳基類化合物例如是三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥 基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯或1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯。

(3)(羥基苯基)烴類化合物((hydroxyphenyl)hydrocarbon compound)，例如由結構式(2-2)所示的(羥基苯基)烴類化合物：

其中，結構式(2-2)中，R²⁹及R³⁰各自獨立表示氫原子或碳數為1至6的烷基；j及k各自獨立表示1至3的整數。

具體而言，結構式(2-2)所示的(羥基苯基)烴類化合物例如是2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2',4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷或雙(2,4-二羥基苯基)甲烷等。

(4)其他芳香族羥基類化合物，例如是苯酚(phenol)、對-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、對苯二酚、雙酚A、萘酚、鄰苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羥基苯甲酸、或者部分酯化或部分醚化(etherify)的3,4,5-三羥基苯甲酸等。

羥基化合物較佳為1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮或其組合。羥基化合物可單獨使用或組合多種來使用。

鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物的反應通常在二氧雜環己烷(dioxane)、氮-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)或乙醯胺(acetamide)等有機溶劑中進行。此外，上述反應較佳為在三乙醇胺、鹼金屬碳酸鹽或鹼金屬碳酸氫鹽等鹼性縮合劑(condensing agent)進行。

鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度(degree of esterification)較佳為50%以上，亦即以羥基化合物中的羥基總量為100mol%計，羥基化合物中有50mol%以上的羥基與鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類進行酯化反應。鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度更佳為60%以上。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)之使用量為5至35重量份；較佳為5重量份至30重量份；且更佳為10重量份至30重量份。

根據本發明之該化合物(C)，係選自由熱酸發生劑及熱鹼發生劑所組成之群，且上述熱酸產生劑或熱鹼發生劑可單獨使用或混合多種而使用。

根據本發明之該熱酸發生劑包含離子性熱酸發生劑及非離子性 熱酸發生劑。

該離子性熱酸發生劑較佳係不含有重金屬或鹵素離子。

該離子性熱酸發生劑之具體例為鋶鹽：如三苯基鋶、1-二甲硫基萘、1-二甲硫基-4-羥基萘、1-二甲硫基-4,7-二羥基萘、4-羥基苯基二甲基鋶、芐基-4-羥基苯基甲基鋶、2-甲基芐基-4-羥基苯基甲基鋶、2-甲基芐基-4-乙醯基苯基甲基鋶、2-甲基芐基-4-苯甲醯基苯基甲基鋶等之甲磺酸鹽、三氟甲磺酸、樟腦磺酸、對甲苯磺酸、六氟膦酸鹽、市售之芐基鋶鹽如SI-60、SI-80、SI-100、SI-110、SI-145、SI-150、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-145L、SI-150L、SI-160L、SI-180L(均為三新化學工業(股)製)。

該非離子型熱酸產生劑例如，含鹵素化合物、重氮甲烷化合物、碸化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物、磷酸酯化合物、磺醯亞胺化合物、磺化苯並三唑類化合物等。

該含鹵素化合物如鹵代基團的烴化合物、鹵代基的雜環化合物及其類似物，較佳為1,1-雙(4-氯苯基)-2,2,2-三氯乙烷、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-萘基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪。

該重氮甲烷化合物如雙(三氟甲基磺醯基)重氮甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(苯基磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲苯基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲苯磺醯基)重氮甲烷、雙(對氯苯基)重氮甲烷、甲基磺醯基-對甲苯磺醯基重氮甲烷、環己基磺醯基(1,1-二甲基乙基磺醯)重氮甲烷、雙(1,1-二甲基乙基磺醯)重氮甲烷、苯基磺醯基(苯甲醯基)重氮甲烷。

該碸化合物如β-酮碸化合物、β-磺醯基化合物、二芳基碸化合物等；較佳為4-三苯甲醯甲基碸、三甲苯基苯甲醯甲基碸、雙(苯基磺醯基)甲烷、4-氯苯基-4-甲基苯基碸。

該磺酸酯化合物，如烷基磺酸酯、鹵代烷基磺酸酯、芳基磺酸 酯、亞胺基磺酸酯；較佳為苯偶姻甲苯磺酸酯(benzoin tosylate)、焦棓酚甲磺酸酯、硝基芐基-9,10-二乙氧基蒽-2-磺酸酯、2,6-二硝基苯磺酸鈉及市售亞胺基磺酸酯，例如PAI-101、PAI-106(綠化學株式會社製造)、CGI-1311(Ciba Specialty Chemicals公司製造)。

該羧酸酯化合物如羧酸鄰硝基芐基酯及其類似物。

該磺醯亞胺化合物如N-(三氟甲基磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名SI-105，綠化學株式會社製造)、N-(樟腦磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名SI-106，綠化學株式會社製造)、N-(4-甲基苯磺醯氧基)琥珀醯亞胺(商品名SI-101，綠化學株式會社製造)、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)琥珀醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(樟腦磺醯基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(2-氟苯基磺醯氧基)鄰苯二甲醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺(商品名PI-105，綠化學株式會社製造)、N-(樟腦磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、4-(甲基苯磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)二苯基馬來醯亞胺、N-(苯基磺醯氧基)雙環[2.2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺(商品名NDI-100，綠化學株式會社製造)、N-(4-甲基苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺(商品名NDI-101，綠化學株式會社製造)、N-(三氟甲磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺(商品名NDI-105，綠化學株式會社製造)、N-(九氟丁磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-二醯亞胺(商品名NDI-109，綠化學株式會社製造)、N-(樟腦磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-二醯亞胺(商品名NDI-106，綠化學株式會社製造)、N-(樟腦磺醯基)-7-氧雜二環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)-7-氧雜二環 [2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(4-甲基苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(4-甲基苯磺醯氧基)-7-氧雜二環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)-7-氧雜雙環[2.2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯基)-7-氧雜二環[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧醯亞胺、N-(樟腦磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧醯亞胺N-(4-甲基苯磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧醯亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)二環[2.2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)雙環[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧酸醯亞胺、N-(三氟甲基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺(商品名NAI-105，綠化學株式會社製造)、N-(樟腦磺醯氧基)萘二醯亞胺(商品名NAI-106，綠化學株式會社製造)、N-(4-甲基苯磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺(商品名NAI-101，綠化學株式會社製造)、N-(苯基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺(商品名NAI-100，綠化學株式會社製造)、N-(2-三氟甲基苯磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(4-氟苯基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(五氟乙基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(七氟丙基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(九氟丁基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺(商品名NAI-109，綠化學株式會社製造)、N-(乙基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(丙基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(丁基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺(商品名NAI-1004，綠化學株式會社製造)、N-(戊基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(己基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(庚基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(辛基磺醯氧基)萘基二羧醯亞胺、N-(壬基磺醯氧基)萘二醯亞胺。

其他熱酸發生劑如1-(4-正丁氧基-1-萘基)四氫噻吩鎓三氟甲烷磺酸酯(1-(4-n-butoxy-1-naphthalenyl)tetrahydrothiophenium trifluoromethanesulfonate)、1-(4,7-二正丁氧基-1-萘基)四氫噻吩鎓三氟甲烷磺酸酯(1-(4,7-dibutoxy-1-naphthalenyl)tetrahydrothiophenium trifluoromethanesulfonate)之四氫噻吩鹽。

根據本發明之該熱鹼發生劑之具體例為過渡金屬錯合物類、醯基肟類。該過渡金屬錯合物類如溴基十五烷銨高氯酸鈷、溴基十五烷甲胺高氯酸鈷、溴基十五烷丙胺高氯酸鈷、六銨高氯酸鈷、六甲胺高氯酸鈷、六溴丙胺高氯酸鈷及其類似物。

該醯基肟如丙醯乙醯氧丁基肟、丙醯二苯甲酮肟、丙醯丙酮肟、丁醯苯乙酮肟、丁醯二苯甲酮肟、丁醯丙酮肟、己二醯苯乙酮肟、己二醯二苯甲酮肟、己二醯丙酮肟、丙烯醯苯乙酮肟、丙烯醯基二苯甲酮肟、丙烯醯基丙酮肟等。

另一方面，根據本發明之該熱鹼產生劑較佳係包含下列結構式(3)所示之化合物或其鹽類衍生物及/或下列結構式(4)所示之化合物及/或下列結構式(5)所示之化合物：

其中：m表示2至6之整數；及R³¹、R³²各自獨立表示氫原子、碳數1至8之烷基、碳數1至6之可具有取代基之羥烷基、或碳數2至12之二烷基胺基。

較佳地，m表示3至5之整數。

於本發明之具體例中，R³¹、R³²為各自獨立表示的氫原子；碳數1至8之烷基，可例如但不限於：甲基、乙基、異丙基、正丁基、叔丁 基或正己基等；碳數1至6之可具有取代基之羥烷基，可例如但不限於：烴甲基、2-羥乙基、2-羥丙基、2-羥基異丙基、3-羥基-叔丁基或6-羥基己基等；或碳數2至12之二烷基胺基，可例如但不限於：二甲基胺基、甲基乙基胺基、二乙基胺基、二異丙基胺基、叔丁基甲基胺基或二正己基胺基等。

該結構式(3)所示之化合物或其鹽類衍生物之較佳具體例為1,5-二氮雜雙環[4.3.0]壬-5-烯(DBN)、1,5-二氮雜雙環[4.4.0]癸-5-烯、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU)、5-羥基丙基-1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯或5-二丁基胺基-1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯、或Aporo公司之製品：U-CAT® SA810、U-CAT® SA831、U-CAT® SA841、U-CAT® SA851、U-CAT® 5002；更佳為DBN、U-CAT® SA851或U-CAT® 5002。

其中：R³³、R³⁴、R²⁴及R³⁶各自獨立表示氫原子、碳數1至8之可具有取代基之烷基、碳數3至8之可具有取代基之環烷基、碳數1至8之可具有取代基之烷氧基、碳數2至8之可具有取代基之烯基、碳數2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基；R³⁷及R³⁸各自獨立表示氫原子、碳數1至8之可具有取代基之烷基、碳數3至8之可具有取代基之環烷基、碳數1至8之可具有取代基之烷氧基、碳數2至8之可具有取代基之烯基、碳數2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基、或彼此結合形成可具有取代基之單環、或彼此結合形成可具有取代基之多環； R³⁹表示碳數1至12之可具有取代基之烷基、碳數3至12之可具有取代基之環烷基、碳數2至12之可具有取代基之烯基、碳數2至12之可具有取代基之炔基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之芳基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之芳烷基或可具有取代基之雜環基，但R³⁹之碳原子總數為12以下。

其中：R³³、R³⁴、R³⁵及R³⁶、R³⁷及R³⁸之定義如結構式(4)所示；R⁴⁰表示碳數1至12之可具有取代基之亞烷基、碳數3至12之可具有取代基之亞環烷基、碳數2至12之可具有取代基之亞烯基、碳數2至12之可具有取代基之亞炔基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之亞芳基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之亞芳烷基或可具有取代基之雜環基，但R⁴⁰之碳原子總數為12以下。

該結構式(4)及(5)所示之化合物之較佳具體例為如{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}甲基胺、{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}丙基胺、{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}己基胺、{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}環己胺、{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}苯胺、{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}哌啶、雙{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}己二胺、雙{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}苯二胺、雙{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}甲苯二胺、雙{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}-二胺基二苯基甲烷、雙{[(2-硝基芐基)氧基]羰基}哌嗪、{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}-甲胺、{[(2、6-二硝基芐基)氧基]羰基}丙基胺、{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}己基胺、{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}環己胺、{[(2、 6-二硝基芐基)氧基]羰基}苯胺、{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}哌啶、雙{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}己二胺、雙{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}苯二胺、雙{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}甲苯二胺、雙{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}二胺基二苯基甲烷、雙-{[(2,6-二硝基芐基)氧基]羰基}哌嗪等之鄰硝基芐基胺基甲酸酯類；如{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}甲基胺、{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}丙基胺、{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}己基胺、{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}環己基胺、{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}苯胺、{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}哌啶、雙{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}己二胺、雙{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}苯二胺、雙{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}甲苯二胺、雙{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}二胺基二苯基甲烷、雙{[(α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基)氧基]羰基}哌嗪等之α,α-二甲基-3,5-二甲氧基芐基胺基甲酸酯類；及如N-(異丙氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(異丙氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(異丙氧基羰基)二異丙基胺、N-(異丙氧基羰基)吡咯烷、N-(異丙氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(異丙氧基羰基)氮雜環丁烷、N-(1-乙基丙氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(1-乙基丙氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(1-乙基丙氧基羰基)二異丙胺、N-(1-乙基丙氧基羰基)吡咯烷、N-(1-乙基丙氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(1-乙基丙氧基羰基)-氮雜環丁烷、N-(1-丙基丁氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(1-丙基丁氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(1-丙基丁氧基羰基)二異丙基胺、N-(1-丙基丁氧基羰基)吡咯烷、N-(1-丙基丁氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(1-丙基丁氧基羰基)-氮雜環丁 烷、N-(環戊氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(環戊氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(環戊氧基羰基)二異丙胺、N-(環戊氧基羰基)吡咯烷、N-(環戊氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(環戊氧基羰基)-氮雜環丁烷、N-(環己基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(環己基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(環己基羰基)二異丙胺、N-(環己基羰基)吡咯烷、N-(環己基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(環己基羰基)-氮雜環丁烷、N-(叔丁氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(叔丁氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(叔丁氧基羰基)二異丙胺、N-(叔丁氧基羰基)吡咯烷、N-(叔丁氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(叔丁氧基羰基)-氮雜環丁烷、N-(芐氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(芐氧基羰基)-2,2,6,6-四甲基哌啶、N-(芐氧基羰基)二異丙胺、N-(芐氧基羰基)吡咯烷、N-(芐氧基羰基)-2,5-二甲基吡咯烷、N-(芐氧基羰基)-氮雜環丁烷或1,4-雙(N,N'-二異丙基胺基羰基氧基)環己烷；更佳為N-(異丙氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(1-乙基丙氧基羰基)二異丙胺、N-(環戊氧基羰基)-2,6-二甲基哌啶、N-(芐氧基羰基)吡咯烷或1,4-雙(N,N'-二異丙基胺基羰基氧基)環己烷等之其他化合物。

其他熱鹼發生劑如2-硝基芐基環己基胺基甲酸酯(2-nitrobenzyl cyclohexylcarbamate)或O-胺基甲醯基羥胺醯胺(O-carbamoylhydroxyamines amide)。

於本發明之具體例中，基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該化合物(C)之使用量為0.01至3重量份；較佳為0.03至2.8重量份，更佳為0.05至2.5重量份。若無使用該化合物(C)時，會有ITO圖案易視認及低溫固化不佳的問題。

根據本發明之該以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)的種類沒有特別的限制，無機粒子(D)中的氧化物包括氧化鈦、氧化 鋯、氧化鉿、氧化鑪或由這些金屬氧化物與氧化矽或氧化錫所形成的複合粒子。就所形成的保護膜之低溫固化的觀點而言，氧化物較佳為氧化鈦或氧化鋯，亦即，以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)的第四族元素較佳為鈦或鋯。

氧化鈦同時存在銳鈦礦型(Anatase)和金紅石型(Rutile)兩種結晶形式，其中，因為金紅石型具有高折射率與優異的耐光性而為較佳。

氧化鈦可以使用市售氧化鈦粒子，例如是NanoTek TiO₂(分散劑為甲基異丁基酮，銳鈦礦型，由日本C.I.Kasei製造)、批號：S111109(分散劑為乙氧基乙醇，金紅石型，由韓國NanoCMS製造)、Red Lake系列(分散劑為甲醇，銳鈦礦型，由日本日揮觸媒化成製造)、TS系列(分散劑為甲基乙基酮，金紅石型，由Tayca製造)。所述氧化鋯可以使用市售氧化鋯粒子，例如是HXU-120JC(分散劑為甲基乙基酮，由日本大阪水泥有限公司(Osaka Cement Co.)製造)。

以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)可為粉末形式或是將氧化物顆粒分散於分散介質中的分散溶膠形式。所述分散介質例如是甲醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、N-甲基-2-吡咯烷酮、丙二醇單甲基醚或乙氧基乙醇等。

以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)之粒徑分布為1nm至75nm。當無機粒子(D)之粒徑分布於上述範圍內時，ITO圖案更不易視認。當粒徑小於1nm時，所形成的保護膜容易發生二次凝集，並可能產生白化；當粒徑大於75nm時，則可能影響所形成的保護膜表面之均勻性。無機粒子(D)之粒徑分布較佳為3nm至50nm；更佳為5nm至30nm。粒徑的測量方法可為習知測量方法，例如藉由動態光散射儀(photon correlation spectroscopy，PCS)量測。

當感光性聚矽氧烷組成物不含以第四族元素的氧化物為主成分的無機粒子(D)時，會有低溫固化不佳的問題。基於該聚矽氧烷(A)之 使用量為100重量份，該無機粒子(D)之使用量為30至200重量份；較佳為35重量份至180重量份；更佳為40重量份至150重量份。

根據本發明之溶劑(E)的種類沒有特別的限制。溶劑(E)例如是含醇式羥基(alcoholic hydroxy)的化合物或含羰基(carbonyl group)的環狀化合物等。

含醇式羥基的化合物例如是丙酮醇(acetol)、3-羥基-3-甲基-2-丁酮(3-hydroxy-3-methyl-2-butanone)、4-羥基-3-甲基-2-丁酮(4-hydroxy-3-methyl-2-butanone)、5-羥基-2-戊酮(5-hydroxy-2-pentanone)、4-羥基-4-甲基-2-戊酮(4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone)(亦稱為二丙酮醇(diacetone alcohol,DAA))、乳酸乙酯(ethyl lactate)、乳酸丁酯(butyl lactate)、丙二醇單甲醚(propylene glycol monomethyl ether)、丙二醇單乙醚(propylene glycol monoethyl ether,PGEE)、丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate,PGMEA)、丙二醇單正丙醚(propylene glycol mono-n-propyl ether)、丙二醇單正丁醚(propylene glycol mono-n-butyl ether)、丙二醇單第三丁醚(propylene glycol mono-t-butyl ether)、3-甲氧基-1-丁醇(3-methoxy-1-butanol)、3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇(3-methyl-3-methoxy-1-butanol)或其組合。值得注意的是，含醇式羥基的化合物較佳為二丙酮醇、乳酸乙酯、丙二醇單乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯或其組合。所述含醇式羥基的化合物可單獨使用或組合多種來使用。

含羰基的環狀化合物例如是γ-丁內酯(γ-butyrolactone)、γ-戊內酯(γ-valerolactone)、δ-戊內酯(δ-valerolactone)、碳酸丙烯酯(propylene carbonate)、氮-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)、環己酮(cyclohexanone)或環庚酮(cycloheptanone)等。值得注意的是，含羰基的環狀化合物較佳為γ-丁內酯、氮-甲基吡咯烷酮、環己酮或其組合。含羰基的環狀化合物可單獨使用或組合多種來使用。

含醇式羥基的化合物可與含羰基的環狀化合物組合使用，且其重量比率沒有特別限制。含醇式羥基的化合物與含羰基的環狀化合物的重量比值較佳為99/1至50/50；更佳為95/5至60/40。值得一提的是，當在溶劑(E)中，含醇式羥基的化合物與含羰基的環狀化合物的重量比值為99/1至50/50時，聚矽氧烷(A)中未反應的矽烷醇(silanol,Si-OH)基不易產生縮合反應而降低貯藏安定性(storage stability)。此外，由於含醇式羥基的化合物以及含羰基的環狀化合物與鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的相容性佳，因此於塗佈成膜時不易有白化的現象，可維持保護膜的透明性。

在不損及本發明的效果的範圍內，亦可以含有其他溶劑。所述其他溶劑例如是：(1)酯類：醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯、3-甲氧基-1-醋酸丁酯或3-甲基-3-甲氧基-1-醋酸丁酯等；(2)酮類：甲基異丁酮、二異丙酮或二異丁酮等；或者(3)醚類：二乙醚、二異丙醚、二正丁醚或二苯醚等。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該溶劑(E)之使用量為100至1000重量份；較佳為150重量份至800重量份；且更佳為200重量份至600重量份。

根據本發明的聚矽氧烷組成物可選擇性地進一步添加添加劑(F)，具體而言，添加劑(F)例如是增感劑(sensitizer)、密著助劑(adhesion auxiliary agent)、界面活性劑(surfactant)、溶解促進劑(solubility promoter)、消泡劑(defoamer)或其組合。

增感劑的種類並無特別的限制。增感劑較佳為使用含有酚式羥基(phenolic hydroxy)的化合物，例如是：(1)三苯酚型化合物(trisphenol type compound)：如三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,3,5- 三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷或雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷等；(2)雙苯酚型化合物(bisphenol type compound)：如雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、2,3,4-三羥基苯基-4'-羥基苯基甲烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2',4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(3-氟基-4-羥基苯基)-2-(3'-氟基-4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷或2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基-3',5'-二甲基苯基)丙烷等；(3)多核分枝型化合物(polynuclear branched compound)：如1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯或1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯等；(4)縮合型苯酚化合物(condensation type phenol compound)：如1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷等；(5)多羥基二苯甲酮類(polyhydroxy benzophenone)：如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4'-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4-三羥基-2'-甲基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羥基 二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯甲酮或2,3,4,3',4',5'-六羥基二苯甲酮等；或(6)上述各種類含有酚式羥基的化合物的組合。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該增感劑之使用量為5至50重量份；較佳為8重量份至40重量份；且更佳為10重量份至35重量份。

密著助劑例如是三聚氰胺(melamine)化合物及矽烷系化合物等。密著助劑的作用在於增加由光硬化性聚矽氧烷組成物所形成的保護膜與被保護的元件之間的密著性。

三聚氰胺的市售品例如是由三井化學製造的商品名為Cymel-300或Cymel-303等；或者由三和化學製造的商品名為MW-30MH、MW-30、MS-11、MS-001、MX-750或MX-706等。

當使用三聚氰胺化合物做為密著助劑時基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該三聚氰胺化合物之使用量為0重量份至20重量份；較佳為0.5重量份至18重量份；且更佳為1.0重量份至15重量份。

矽烷系化合物例如是乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基二甲基甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷或由信越化學公司製造的市售品(商品名如KBM403)等。

當使用矽烷系化合物作為密著助劑時，基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該矽烷系化合物之使用量為0重量份至2重量份； 較佳為0.05重量份至1重量份；且更佳為0.1重量份至0.8重量份。

界面活性劑例如是陰離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑、兩性界面活性劑、聚矽氧烷系界面活性劑、氟系界面活性劑或其組合。

界面活性劑的實例包括(1)聚環氧乙烷烷基醚類(polyoxyethylene alkyl ethers)：聚環氧乙烷十二烷基醚等；(2)聚環氧乙烷烷基苯基醚類(polyoxyethylene phenyl ethers)：聚環氧乙烷辛基苯基醚、聚環氧乙烷壬基苯基醚等；(3)聚乙二醇二酯類(polyethylene glycol diesters)：聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬酸酯等；(4)山梨糖醇酐脂肪酸酯類(sorbitan fatty acid esters)；以及(5)經脂肪酸改質的聚酯類(fatty acid modified poly esters)；及(6)經三級胺改質的聚胺基甲酸酯類(tertiary amine modified polyurethanes)等。界面活性劑的市售商品例如是KP(由信越化學工業製造)、SF-8427(由道康寧東麗聚矽氧股份有限公司(Dow Corning Toray Silicone Co.,Ltd.)製造)、Polyflow(由共榮社油脂化學工業製造)、F-Top(由得克姆股份有限公司製造(Tochem Products Co.,Ltd.)製造)、Megaface(由大日本印墨化學工業(DIC)製造)、Fluorade(由住友3M股份有限公司(Sumitomo 3M Ltd.)製造)、Surflon(由旭硝子製造)、SINOPOL E8008(由中日合成化學製造)、F-475(由大日本印墨化學工業製造)或其組合。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該界面活性劑之使用量為0.5重量份至50重量份；較佳為1重量份至40重量份；且更佳為3至30重量份。

消泡劑的實例包括Surfynol MD-20、Surfynol MD-30、EnviroGem AD01、EnviroGem AE01、EnviroGem AE02、Surfynol DF110D、Surfynol 104E、Surfynol 420、Surfynol DF37、Surfynol DF58、Surfynol DF66、Surfynol DF70以及Surfynol DF210(由氣體產 品(Air products)製造)等。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該消泡劑之使用量為1重量份至10重量份；較佳為2重量份至9重量份；且更佳為3重量份至8重量份。

溶解促進劑的實例包括氮-羥基二羧基醯亞胺化合物(N-hydroxydicarboxylic imide)以及含酚式羥基的化合物。溶解促進劑例如是鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)中所使用的含酚式羥基的化合物。

基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該溶解促進劑之使用量為1重量份至20重量份；較佳為2重量份至15重量份；且更佳為3重量份至10重量份。

根據本發明之聚矽氧烷組成物例如是以下列方式來製備：將聚矽氧烷(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、化合物(C)、無機粒子(E)以及溶劑(E)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時，可添加添加劑(F)。

本發明亦提供一種於一基板上形成薄膜之方法，其包含使用前述之感光性聚矽氧烷組成物施予該基板上。

本發明又提供一種基板上之薄膜，其係由前述之方法所製得。

根據本發明之該薄膜，其較佳係為液晶顯示元件或有機電激發光顯示器中TFT基板用之平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路之芯材或包覆材之保護膜

本發明再提供一種裝置，其包含前述之薄膜。

以下將詳細描述保護膜的形成方法，其依序包括：使用光硬化性聚矽氧烷組成物來形成預烤塗膜、對預烤塗膜進行圖案化曝光、藉由鹼顯影移除未曝光區域以形成圖案；以及進行後烤處理以形成保護膜。

-形成預烤塗膜-

藉由迴轉塗布、流延塗布或輥式塗布等塗布方式，在被保護的元件(以下稱為基材)上塗佈上述溶液狀態的光硬化性聚矽氧烷組成物，以形成塗膜。

上述基材可以是用於液晶顯示裝置的無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、硬質玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃，以及附著有透明導電膜的此等玻璃者，或是用於光電變換裝置(如固體攝影裝置)的基材(如：矽基材)。

形成塗膜之後，以減壓乾燥方式去除光硬化性聚矽氧烷組成物的大部分有機溶劑，然後以預烤(pre-bake)方式將殘餘的有機溶劑完全去除，使其形成預烤塗膜。

上述減壓乾燥及預烤的操作條件可依各成份的種類、配合比率而異。一般而言，減壓乾燥乃在0托至200托的壓力下進行1秒鐘至60秒鐘，並且預烤乃在70℃至110℃溫度下進行1分鐘至15分鐘。

-圖案化曝光-

以具有特定圖案的光罩對上述預烤塗膜進行曝光。在曝光過程中所使用的光線，以g線、b線、i線等紫外線為佳，並且用來提供紫外線的設備可為(超)高壓水銀燈及金屬鹵素燈。

-顯影-

將上述經曝光的預烤塗膜浸漬於溫度介於23±2℃的顯影液中，進行約15秒至5分鐘的顯影，以去除上述經曝光的預烤塗膜的不需要的部分，藉此可在基材上形成具有預定圖案的保護膜的半成品。上述顯影液例如是氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、矽酸鈉、甲基矽酸鈉(sodium methylsilicate)、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲銨(,THAM)、氫氧化四乙銨、膽鹼、吡咯、呱啶，或1,8-二氮雜二環-(5,4,0)-7-十一烯等鹼性化合物。

值得一提的是，顯影液的濃度太高會使得特定圖案損毀或造成 特定圖案的解析度變差；濃度太低會造成顯影不良，導致特定圖案無法成型或者曝光部分的組成物殘留。因此，濃度的多寡會影響後續光硬化性聚矽氧烷組成物經曝光後的特定圖案的形成。顯影液的濃度範圍較佳為0.001wt%至10wt%；更佳為0.005wt%至5wt%；再更佳為0.01wt%至1wt%。本發明的實施例是使用2.38wt%的氫氧化四甲銨的顯影液。值得一提的是，即使使用濃度更低的顯影液，本發明光硬化性聚矽氧烷組成物也能形成良好的微細化圖案。

-後烤處理-

用水清洗基材(其中基材上有預定圖案的保護膜的半成品)，以清除上述經曝光的預烤塗膜的不需要的部分。然後，用壓縮空氣或壓縮氮氣乾燥上述具有預定圖案的保護膜的半成品。最後以加熱板或烘箱等加熱裝置對上述具有預定圖案的保護膜的半成品進行後烤(post-bake)處理。加熱溫度設定在100℃至250℃之間，使用加熱板時的加熱時間為1分鐘至60分鐘，使用烘箱時的加熱時間則為5分鐘至90分鐘。藉此，可使上述具有預定圖案的保護膜的半成品的圖案固定，以形成保護膜。

茲以下列實例予以詳細說明本發明，唯並不意謂本發明僅侷限於此等實例所揭示之內容。

<合成例>

聚矽氧烷(A-1)之合成例

在一容積500毫升的三頸燒瓶中，加入0.30莫耳的甲基三甲氧基矽烷(以下簡稱MTMS)、0.65莫耳的苯基三甲氧基矽烷(以下簡稱PTMS)、0.05莫耳的3-(三乙氧基矽基)丙基丁二酸酐(以下簡稱GF-20)以及200克的丙二醇單乙醚(以下簡稱PGEE)，並於室溫下一邊攪拌一邊於30分鐘內添加草酸水溶液(0.40克草酸/75克水)。接著，將燒瓶浸漬於30℃的油浴中並攪拌30分鐘。然後，於30分鐘內將油浴升溫至 120℃。待溶液的溫度降到105℃時，持續加熱攪拌進行聚合6小時。再接著，利用蒸餾方式將溶劑移除，即可獲得聚矽氧烷(A-1)。聚矽氧烷(A-1)的原料種類及其使用量如表1所示。

聚矽氧烷聚合物(A-2)至(A-7)之合成例

聚矽氧烷聚合物(A-2)至(A-7)之合成例與前述聚矽氧烷聚合物(A-1)類似，其中，矽烷單體及聚矽氧烷之種類及使用量如表1所示。惟其中溶劑、草酸之使用量、反應溫度及聚縮合之反應時間與前述聚矽氧烷聚合物(A-1)不同，亦示於表1，可得聚矽氧烷聚合物(A-2)至(A-7)。

<實施例>

感光性聚矽氧烷組成物實施例1

使用前述合成例所得之聚矽氧烷(A-1)100重量份、5重量份之1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯與鄰萘醌二疊氮-5-磺酸所形成之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(以下簡稱B-1)、0.01重量份之NDI-105(以下簡稱C-1)、50重量份之TiO₂，平均粒徑13.14nm(以下簡稱D-1)加入溶劑丙二醇甲醚醋酸酯(以下簡稱E-1)100重量份後，以搖動式攪拌器，加以溶解混合，即可調製而得感光性樹脂組成物，該感光性樹脂組成物以下記之各測定評價方式進行評價，所得結果如表2所示。

感光性聚矽氧烷組成物實施例2至11

與前述感光性聚矽氧烷組成物實施例1類似，以表2所示之各成分及使用量，以搖動式攪拌器，加以溶解混合，即可調製而得感光性樹脂組成物實施例2至11。

感光性聚矽氧烷組成物比較例1至7

與前述感光性聚矽氧烷組成物實施例1類似，以表3所示之各成分及使用量，以搖動式攪拌器，加以溶解混合，即可調製而得感光性樹脂組成物比較例1至7。

感光性聚矽氧烷組成物比較例8

比較例8的感光性聚矽氧烷組成物是一種負型感光性組成物。詳細而言，比較例8的感光性聚矽氧烷組成物是藉由將100重量份的聚矽氧烷(A-7)、3質量份的1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3基]-乙酮-1-(o-乙醯基肟)(1-[9-Ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-ethanone-1-(o-acetyloxime))，商品名IRGACURE OXE02，由旭化成化學股份有限公司製造，作為自由基聚合起始劑)、二乙二醇乙基甲基醚(作為溶劑)、乙二醇單丁基醚(作為溶劑)、0.2重量份的聚矽氧烷系 界面活性劑SH8400(由道康寧東麗聚矽氧股份有限公司製造)均勻地混合來製備。值得注意的是，由比較例8的感光性聚矽氧烷組成物所形成的保護膜與素玻璃基材之間的視認性與低溫固化皆為“X”。

OG保護正光阻之形成

於素玻璃基板(100x100x0.7mm)上以旋轉塗佈方式得到約2μm之塗膜，接續以110℃預烤2分鐘後，在曝光機與塗膜間置入正光阻用光罩，並以曝光機之紫外光照射塗膜，其能量為100mJ/cm²。將曝光後的塗膜浸漬於23℃之2.38%之TMAH水溶液60秒，除去曝光之部分。以清水清洗後，再以曝光機直接照射顯影後之塗膜，其能量為200mJ/cm²。最後以230℃後烤60分鐘，可獲得素玻璃基板上之保護膜。

<評價方式>

視認性：

將感光性樹脂組成物，於含ITO圖案層的玻璃基板上以旋轉塗佈方式塗佈，在110℃下預烤2分鐘，可得到約2μm之預烤塗膜。在曝光機與塗膜間置入正光阻用光罩，並以曝光機(曝光機型號AG500-4N；M&R Nano Technology製)之紫外光照射塗膜，利用100mJ/cm²的紫外光進行照射後，再以2.38%TMAH水溶液，於23℃下予以顯影1分鐘，將基板上曝光部份的塗膜除去，然後以純水洗淨得到圖案後，再以曝光機直接照射圖案，其能量為200mJ/cm²。以230℃後烤60分鐘後，以目視觀察。

◎：無法視認出ITO膜

○：隨觀測角度變化，可稍微視認出ITO膜

×：可直接視認出ITO膜

低溫固化：

於素玻璃基板(100x100x0.7mm)上以旋轉塗佈方式得到約2μm之塗膜，接續以110℃預烤2分鐘後，在曝光機與塗膜間置入正光阻用光罩，接著以曝光機之紫外光照射塗膜，將曝光後的塗膜浸漬於23℃之2.38%之TMAH水溶液60秒，除去曝光之部分。以清水清洗後，再以曝光機直接照射顯影後之塗膜，其能量為200mJ/cm²。最後以180℃後烤60分鐘，可獲得素玻璃基板上之保護膜。

將保護膜以鉛筆硬度計(Mitsubishi/P-247)量測，測量砝碼重為500g，移動速率為0.5mm，以不同硬度之鉛筆在保護膜上以六個角度各劃1公分長，當六條線中有兩條以上(包含兩條)畫出刻痕即判不合格。以下述基準作為評價：

◎：鉛筆硬度≧4H

○：鉛筆硬度=3H

△：鉛筆硬度=2H

X：鉛筆硬度≦1H

上述實施例僅為說明本發明之原理及其功效，而非限制本發明。習於此技術之人士對上述實施例所做之修改及變化仍不違背本發明之精神。本發明之權利範圍應如後述之申請專利範圍所列。

Claims (10)

1. 一種感光性聚矽氧烷組成物，其包含：聚矽氧烷(A)；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；化合物(C)，其係選自由熱酸發生劑及熱鹼發生劑所組成之群；無機粒子(D)，其中該無機粒子(D)係以第四族元素之氧化物為主成分；以及溶劑(E)；其中該聚矽氧烷(A)係由下列結構式(1)所表示之矽烷化合物經加水分解及部份縮合反應而得之共聚物：Si(R¹⁰)_W(OR¹¹)_4-W 結構式(1)其中：R¹⁰係選自由氫、碳數1至10之烷基、碳數2至10之烯基、碳數6至15之芳香基、含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群，且至少一個R¹⁰係選自由含酸酐基之烷基、含環氧基之烷基及含環氧基之氧烷基所組成之群；R¹¹係選自由氫、碳數1至6之烷基、碳數1至6之醯基及碳數6至15之芳香基所組成之群；及w為0、1、2或3。
2. 根據請求項第1項之感光性聚矽氧烷組成物，其中，基於該聚矽氧烷(A)之使用量為100重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)之使用量為5至35重量份；該化合物(C)之使用量為0.01至3重量份；該無機粒子(D)之使用量為30至200重量份；該溶劑(E)之使用量為100至1000重量份。
3. 根據請求項1之感光性聚矽氧烷組成物，其中該熱酸發生劑係選 自由鋶鹽、含鹵素化合物、重氮甲烷化合物、碸化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物、磷酸酯化合物、磺醯亞胺化合物、磺化苯並三唑類化合物及其組合所組成之群。
4. 根據請求項1之感光性聚矽氧烷組成物，其中該熱鹼發生劑係選自由過渡金屬錯合物類、醯基肟類、下列結構式(3)所示之化合物或其鹽類衍生物、下列結構式(4)所示之化合物、下列結構式(5)所示之化合物及其組合所組成之群： 其中：m表示2至6之整數；及R³¹、R³²各自獨立表示氫原子、碳數1至8之烷基、碳數1至6之可具有取代基之羥烷基、或碳數2至12之二烷基胺基； 其中：R³³、R³⁴、R²⁴及R³⁶各自獨立表示氫原子、碳數1至8之可具有取代基之烷基、碳數3至8之可具有取代基之環烷基、碳數1至8之可具有取代基之烷氧基、碳數2至8之可具有取代基之烯基、碳數2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基；R³⁷及R³⁸各自獨立表示氫原子、碳數1至8之可具有取代基之烷基、碳數3至8之可具有取代基之環烷基、碳數1至8之可具有取 代基之烷氧基、碳數2至8之可具有取代基之烯基、碳數2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之雜環基、或彼此結合形成可具有取代基之單環；或彼此結合形成可具有取代基之多環；及R³⁹表示碳數1至12之可具有取代基之烷基、碳數3至12之可具有取代基之環烷基、碳數2至12之可具有取代基之烯基、碳數2至12之可具有取代基之炔基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之芳基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之芳烷基或可具有取代基之雜環基，但R³⁹之碳原子總數為12以下； 其中：R³³、R³⁴、R³⁵及R³⁶、R³⁷及R³⁸之定義如結構式(4)所示；及R⁴⁰表示碳數1至12之可具有取代基之亞烷基、碳數3至12之可具有取代基之亞環烷基、碳數2至12之可具有取代基之亞烯基、碳數2至12之可具有取代基之亞炔基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之亞芳基、可具有碳數之1至3之烷基取代基之亞芳烷基或可具有取代基之雜環基，但R⁴⁰之碳原子總數為12以下。
5. 根據請求項1之感光性聚矽氧烷組成物，其中該無機粒子(D)中，第四族元素係為鈦或鋯。
6. 根據請求項1之感光性聚矽氧烷組成物，其中該無機粒子(D)之粒徑大小係為1nm至60nm。
7. 一種於一基板上形成薄膜之方法，其包含使用根據請求項1至6中任一項之感光性聚矽氧烷組成物施予該基板上。
8. 一種基板上之薄膜，其係由請求項7之方法所製得。
9. 根據請求項8之薄膜，其係為液晶顯示元件或有機電激發光顯示器中TFT基板用之平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路之芯材或包覆材之保護膜。
10. 一種裝置，其包含根據請求項8或9之薄膜。