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TW201323889A - 電波暗室 - Google Patents

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TW201323889A
TW201323889A TW100146200A TW100146200A TW201323889A TW 201323889 A TW201323889 A TW 201323889A TW 100146200 A TW100146200 A TW 100146200A TW 100146200 A TW100146200 A TW 100146200A TW 201323889 A TW201323889 A TW 201323889A
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TW
Taiwan
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peripheral wall
anechoic chamber
absorbing material
wall
antenna
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Application number
TW100146200A
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English (en)
Inventor
Ten-Chen Ho
Original Assignee
Hon Hai Prec Ind Co Ltd
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Abstract

一種電波暗室,包括周壁及底面,該周壁內表面鋪設有吸波材料,吸波材料表面形成緊密排列的尖錐部。所述周壁包括銜接在一起的第一周壁及第二周壁,該第一周壁呈半圓柱形殼體狀,且第一周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端沿第一周壁的徑向延伸而指向第一周壁的中心軸。該第二周壁呈半球形殼體狀,該第二周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端垂直沿第二周壁的徑向延伸而指向第二周壁的球心。

Description

電波暗室
本發明涉及電磁相容領域,尤其涉及一種電波暗室。
一般的電磁相容(Electromagnetic Compatibility,EMC)測試需要使用電波暗室作為測試場地。通常地,電波暗室分為全電波暗室及半電波暗室。全電波暗室的內表面完全鋪滿吸波材料,半電波暗室則有一部分內表面覆蓋吸波材料。通常的電波暗室為矩形體結構。該吸波材料一般為表面具有多個尖錐突起的鐵氧體和聚氨酯泡沫材料。電波暗室內可以放置需要進行EMC測試的電磁輻射源,例如電腦等電子裝置。當吸波材料表面的尖錐形突起垂直正對待測的電磁輻射源時,該吸波材料對於待測物產生的電磁波具有最大的吸收率。但是,傳統的電波暗室由於受到形狀限制,很難使其內表面鋪設的吸波材料表面形成的全部或絕大多數尖錐形突起同時垂直正對待測對電磁輻射源,較難獲得足夠大的電磁波吸收率。
有鑒於此,有必要提供一種具有較高吸波率的電波暗室。
一種電波暗室,包括周壁及底面,該周壁內表面鋪設有吸波材料,吸波材料表面形成緊密排列的尖錐部。所述周壁包括銜接在一起的第一周壁及第二周壁,該第一周壁呈半圓柱形殼體狀,且第一周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端沿第一周壁的徑向延伸而指向第一周壁的中心軸。該第二周壁呈半球形殼體狀,該第二周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端垂直沿第二周壁的徑向延伸而指向第二周壁的球心。該電波暗室放置待測電子裝置及天線,用於進行EMC測試。
所述電波暗室通過將第一周壁與第二周壁設計為半圓柱形殼體狀及半球型殼體狀,使周壁表面鋪設的吸波材料表面形成的絕大多數尖錐部的頂端可以垂直正對待測電子裝置及天線。這樣,當待測電子裝置及天線產生非必要電磁波輻射至周壁時,吸波材料能最大程度地吸收這些電磁波,降低電磁波的非必要反射率,確保測試結果的準確性,從而提高了該電波暗室作為實驗室的精准度。
請參閱圖1,本發明較佳實施例的電波暗室100為半電波暗室,其包括周壁10、底面20、旋轉台30以及天線40。所述電波暗室100的周壁10罩設於底面20上並與底面20共同圍成一個封閉的容置空間110。旋轉台30及天線40均位於底面20上,同時容置於該容置空間110內部,該旋轉台30與天線40之間相隔一定距離放置。該電波暗室100可用於測試電腦、電視機或電冰箱等電磁輻射源的EMC品質。本實施例中以測試一待測電腦50的EMC品質為例進行說明。所述周壁10包括依次銜接在一起的第一周壁12、第二周壁14及第三周壁(圖未示)。該第一周壁12大致呈半圓柱形殼體狀,該第二周壁14大致呈半球形殼體狀,第三周壁可為平板狀,該第一周壁12與第三周壁分別連接于第二周壁14的兩端。該周壁10內部表面鋪滿吸波材料16,吸波材料16表面形成緊密排列的尖錐部162,用於吸收電磁波。該第一周壁12內表面的吸波材料16表面形成的尖錐部162頂端沿著第一周壁12的徑向延伸,從而都指向該第一周壁12的中心軸。該第二周壁14內表面的吸波材料16表面形成的尖錐部162頂端沿著第二周壁14的徑向延伸,從而都指向該第二周壁的球心。該第三周壁內表面的吸波材料16表面形成的尖錐部162頂端沿著指向該容置空間110。這樣可以使絕大多數尖錐部162的頂端沿著半圓柱面或半球面的徑向指向該容置空間110的中心位置。
較佳地,該旋轉台30位於本實施例電波暗室100的第二周壁14下方中央位置。該旋轉台30上承載一測試桌32。所述待測電腦50放置於該測試桌32上。所述天線40放置于第一周壁12下方中央位置且對準該待測電腦50。所述天線40的接收部具有一定的高度,從而被置於該第一周壁12的半圓柱面結構中心。這樣,鋪設于第一周壁12內表面的吸波材料16表面形成的絕大多數尖錐部162的頂端亦均垂直正對該天線40的接收部。
請參閱圖2,所述測試桌32具有一定的高度,從而被放置於測試桌32的待測電腦50大致處於第二周壁14半球面結構中心。這樣,鋪設于第二周壁14內表面的吸波材料16表面形成的絕大多數尖錐部162的頂端均可垂直正對該待測電腦50。
在該電波暗室100內進行EMC測試時,當開啟待測電腦50使其工作時,該天線40接收該待測電腦50產生的工作信號並轉換為電信號,供接收機(圖未示)讀值,檢測待測電腦50對空間輻射出的工作信號強度。待測電腦50產生的雜訊及其他測試所不需要的電磁波輻射至周壁10時,可被吸波材料16吸收,從而避免被反射到天線40而對測試造成干擾。本實施例中的第二周壁14內表面吸波材料16的絕大多數尖錐部162的頂端垂直正對待測電腦50,當電磁波輻射至周壁10時,該等吸波材料16可最大程度地吸收這些電磁波,以降低電磁波的非必要反射率,提高測試結果的準確性,可以減小電磁干擾測試中場地歸一化衰減(Normalized Site Attenuation,NSA)偏離。另外,該第一周壁12內表面吸波材料16的絕大多數尖錐部162的頂端垂直正對天線40的接收部,可以盡可能地吸收天線40產生的不必要的電磁波,例如因共振而產生的電磁輻射,從而進一步提高測試結果的準確性。
所述電波暗室100通過將第一周壁12與第二周壁14設計為半圓柱形殼體狀及半球型殼體狀,使周壁10內表面鋪設的吸波材料16表面形成的絕大多數尖錐部162的頂端可以垂直正對待測電腦50及天線40。這樣,當待測電腦50及天線40產生非必要電磁波輻射至周壁10時,吸波材料16能最大程度地吸收這些電磁波,降低電磁波的非必要反射率,確保測試結果的準確性,從而提高了該電波暗室100作為實驗室的精准度。
可以理解的是,對於本領域的普通技術人員來說,可以根據本發明的技術構思做出其他各種相應的改變與變形,而所有這些改變與變形都應屬於本發明權利要求的保護範圍。
100...電波暗室
110...容置空間
10...周壁
12...第一周壁
14...第二周壁
16...吸波材料
162...尖錐部
20...底面
30...旋轉台
32...測試桌
40...天線
50...待測電腦
圖1為本發明較佳實施例的電波暗室的示意圖。
圖2為圖1所示電波暗室的部分截面圖。
100...電波暗室
110...容置空間
10...周壁
12...第一周壁
14...第二周壁
16...吸波材料
162...尖錐部
20...底面
30...旋轉台
32...測試桌
40...天線
50...待測電腦

Claims (8)

  1. 一種電波暗室,包括周壁及底面,該周壁內表面鋪設有吸波材料,吸波材料表面形成緊密排列的尖錐部,其改良在於:所述周壁包括銜接在一起的第一周壁及第二周壁,該第一周壁呈半圓柱形殼體狀,且第一周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端沿第一周壁的徑向延伸而指向第一周壁的中心軸;該第二周壁呈半球形殼體狀,該第二周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部的頂端垂直沿第二周壁的徑向延伸而指向第二周壁的球心。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之電波暗室,其中所述周壁還包括第三周壁,該第一周壁與第三周壁分別連接于第二周壁的兩端。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之電波暗室,其中所述第一周壁、第二周壁、第三周壁與底面包圍形成一密閉的容置空間。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之電波暗室,其中所述周壁內表面鋪設的吸波材料表面形成的尖錐部均指向該容置空間。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之電波暗室,其中所述容置空間內設置有旋轉台、測試桌、待測物及天線,旋轉台放置於底面上,測試桌放置於旋轉臺上且用於放置待測電子裝置。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之電波暗室,其中所述旋轉台與天線之間間隔一預定距離,該天線對準該待測物。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之電波暗室,其中所述天線位於該第一周壁的半圓柱面結構中心位置。
  8. 如申請專利範圍第5項所述之電波暗室,其中所述旋轉台位於該第二周壁的半球面結構中心位置。
TW100146200A 2011-12-09 2011-12-14 電波暗室 TW201323889A (zh)

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