TR201618236A2 - Isil i̇şlenebi̇li̇r low-e katman i̇le kaplanmiş altlik - Google Patents

Abstract

Buluş, gün ışığı geçirgen ve ısı yalıtım camı (10) olarak kullanılan, ısıl işlem dayanımı yüksek ve içeriğinde kızılötesi yansıtıcı katmanlar olan bir düşük yayınımlı (low-e) kaplama ile ilgilidir.

Description

TARIFNAME TEKNIK ALAN Bulus, gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami olarak kullanilan, isil islem dayanimi yüksek ve içeriginde kizilötesi yansitici katmanlar olan bir düsük yayinimli (low-e) kaplama ile ilgilidir.

Camlarin optik özelliklerini farklilastiran etmenlerden biri cam yüzeyine yapilan kaplama uygulamalaridir. Kaplama uygulamalarindan biri de vakum ortaminda manyetik alan destekli siçratma yöntemidir. Ozellikle low-e özelligine sahip mimari kaplamalarin üretiminde sik basvurulan bir yöntemdir. Bahsedilen yöntemle kaplanan camlarin görünür, yakin kizilötesi ve kizil ötesi bölgedeki geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde elde edilebilmektedir.

Geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, kaplamali camlarda seçicilik degeri de önemli bir parametredir. Seçicilik, ISO 9050 (2003) standardinda görünür bölge geçirgenlik degerinin solar faktöre orani olarak tanimlanmaktadir. Kaplamalarin seçicilik degerleri de içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman türü, katmanlarin parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde tutulabilmektedir.

U87901781 BZ yayin numarali patentte mekanik ve kimyasal olarak kararli ve temperlenebilir veya isil dayanimi olan bir low-e kaplamali camdan bahsedilmektedir. Söz konusu patente konu low-e katman dizilimi iki gümüslü olup, gümüs katmanlarinin üzerinde NiCr sirasiyla hem oksit hem de metal formunda üst katman arasinda konumlanan birinci ve ikinci ara katman içermektedir. Bahsedilen birinci ara katman çinko kalay oksit ve ikinci ara katman çinko alüminyum oksit içermektedir. Birinci ara katman ve ikinci ara katmanin katman kalinligi ise 40 nm ve 90 nm araligindadir.

BULUSUN KISA AÇIKLAMASI Mevcut bulus ilgili teknik alana yeni avantajlar getirmek üzere, low-e kaplamali cam ile ilgilidir.

Bulusun ana amaci, açisal renk degisimi azaltilmis ve isil islem uygulanabilir bir low-e kaplamali cam ortaya koymaktir.

Bulusun bir diger amaci, kizilötesi yansitici katmanlarin kendisine komsu katmanlarin kristal yapisindan etkilenmesinin önlendigi bir low-e kaplamali cam ortaya koymaktir.

Bulusun bir diger amaci, isil islem sürecinde, kizil ötesi yansitici katmanlarin süreksizliginin önlenmesine destek verecek yapiya sahip bir low-e kaplamali cam ortaya koymaktir.

Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak t'um amaçlari gerçeklestirmek 'üzere mevcut bulus bir altlik üzerine bilhassa bir cam altlik üzerinde birbiri 'üzerine biriktirilerek gelistirilen; . altlik 'üzerinde dogrudan temas edecek sekilde saglanan 15 nm - 22 nm araligindaki bir kalinlikta SixNy içeren bir birinci dielektrik katman; - bahsedilen birinci dielektrik katmanin üzerinde konumlanan 8 nm - 15 nm kalinlik araliginda bir birinci kizilötesi yansitici katman; - bahsedilen birinci kizilötesi katman üzerinde konumlanan 1 nm- 2,4 nm kalinlik araliginda bir birinci bariyer katman; o bahsedilen birinci bariyer katman 'üzerinde konumlanan 8 nm- 15 nm araligindaki bir kalinlikta bir ikinci kizilötesi yansitici katman ve devaminda konumlanan 35 nm - 50 nm araligindaki bir kalinlikta bir 'üst dielektrik yapiya sahip çoklu sayida ince filmi içeren ve isil islenebilir bir low-e kaplamali camdir. Buna göre söz konusu bulusun özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin o birinci dielektrik katman ile birinci kizilötesi yansitici katman arasinda konumlanan ve birinci kizilötesi yansitici katmana dogrudan temas eden 18 nm - 25 nm araliginda bir kalinlikta bir birinci çekirdeklestirici yapi; . ikinci kizilötesi katmana dogrudan temas edecek sekilde altinda konumlanarak kaplandigi camin hedeflenen performans degerlerine ulasmasini saglayan ve en az bir dielektrik katmana sahip toplamda 80 nm - 100 nm araligindaki bir kalinlikta bir orta dielektrik yapi içermesi ve - low-e kaplamali camin, cam tarafi yansima a* ve b* renk degerlerinin 60° ve altindaki bir açida, açili bakisa bagli degisiminin, dik bakisa göre 3 puanin altinda ve negatif bölgede olmasidir. Böylece yukarida belirtilen kalinliktaki katman dizilimi ile açisal renk degisimi düsük olan cam elde edilebilmektedir.

Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, low-e kaplamadaki bahsedilen orta dielektrik yapinin 20 nm - 30 nm araligindaki bir kalinlikta bir ikinci çekirdeklestirici katman içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamadaki bahsedilen ikinci çekirdeklestirici katmanin NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen en az birini içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamada bahsedilen orta dielektrik yapinin SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOX, ZnAIOX, TiOx, ZnOx`den seçilen 20 nm - 35 nm araliginda bir kalinlikta bir ikinci dielektrik katman ve 32 nm - 47 nm araligindaki bir kalinlikta bir üçüncü dielektrik katman içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, low-e kaplamada bahsedilen ikinci dielektrik katman ve bahsedilen üçüncü dielektrik katmanin birbirleri ile dogrudan temas ediyor olmasidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamada üçüncü dielektrik katmanin bir yüzeyinin ikinci çekirdeklestirici katmana temas ediyor olmasidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamadaki üçüncü dielektrik katmanin amorf yapida olmasidir. Böylece ikinci çekirdeklendirici katman yapisinin kristalizasyonunun etkilenmesi ve istenmeyen kalinti gerilimin olusmasi ihtimali azaltilmaktadir. Dolayisi ile ikinci kizilötesi katmanin olmasi gereken kristalografik oryantasyonda büyümesine katkida bulunmaktadir.

Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, low-e kaplamada bahsedilen ikinci çekirdeklestirici katmanin ikinci kizilötesi katmana dogrudan temas etmesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamada bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx'den seçilen en az birini içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamada bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin 18 nm - 25 nm araligindaki bir kalinlikta ZnAlOx katmanini içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamadaki bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin NiCr, NiCrOx, TIOX, ZnAlOx, ZnOxiden seçilen en az ikisini içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamadaki, bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin birinci kizilötesi katmanin bir yüzeyine dogrudan temasta bulunan 0,5 nm - 1,5 nm araligindaki bir kalinlikta sogurucu katmani içermesidir.

Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, üst dielektrik yapinin, 20 nm - 35 nm araliginda bir kalinlikta SiNXOy içeren bir üst dielektrik katman ve bahsedilen üst dielektrik katman altinda konumlanarak delaminasyonunu önleyen 10 nm - 25 nm araligindaki bir kalinlikta ZnAIOxiçeren bir dördüncü dielektrik katman içermesidir.

SEKILIN KISA AÇIKLAMASI Sekil 1' de low-e katman diziliminin genel bir görünümü verilmistir.

Sekil 2' de alternatif yapilanmadaki low-e katman diziliminin genel bir görünümü verilmistir.

SEKILDE VERILEN REFERANS NUMARALARI Cam Low-e kaplama 21 Birinci dielektrik katman 22 Birinci çekirdeklestirici yapi 221 Birinci çekirdeklestirici katman 222 Sogurucu katman 23 Birinci kizilötesi yansitici katman 24 Birinci bariyer katman Orta dielektrik yapi 251 Ikinci dielektrik katman 252 Uçüncü dielektrik katman 253 Ikinci Çekirdeklestirici katman 26 Ikinci kizilötesi yansitici katman 2? Üst dielektrik yapi 271 Ikinci bariyer katman 273 Ust dielektrik katman BULUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI Bu detayli açiklamada bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak örneklerle açiklanmaktadir.

Mimari ve otomotive yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi "sputtering” (bundan sonra metinde siçratma yöntemi olarak anilacaktir) yöntemi ile gerçeklestirilmektedir. Bu bulus genel olarak; gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami (10) olarak kullanilan, isil islem dayanimi yüksek olan çift gümüslü low-e kaplamali (20) camlar (10), bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir.

Bu bulusta, bir camin (10) yüzeyine uygulanmak üzere orta seviyede görünür isik geçirgenligine sahip, isil islenebilir ve açisal renk degisimi kabul edilebilir seviyede elde edilecek sekilde tasarlanmis olan bir low-e kaplamali (20) cam (10) elde edebilmek amaci ile siçratma yöntemi kullanilarak cam (10) yüzeyinde konumlanan çoklu sayida metal, metal oksit ve metal nitrür/oksinitrür katmanlarindan olusan bir low-e kaplama (20) gelistirilmistir. Söz konusu katmanlar sirasi ile birbiri üzerine vakum ortaminda biriktirilmektedir. Isil islem olarak temperleme, kismi temperleme, tavlama ve bükme islemlerinden en az biri ve/veya birkaçi birlikte kullanilabilmektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) mimari ve otomotiv cami (10) olarak kullanilabilmektedir.

Gerek üretim kolayligi açisindan, gerekse optik özellikleri açisindan isil islenebilir ideal low-e kaplama (20) dizilimini gelistirmek üzere deneysel çalismalar neticesinde asagidaki veriler tespit edilmistir.

Bulus konusu low-e kaplamada (20) görünür bölgeyi hedeflenen düzeyde geçirip, kizilötesi spektrumda isil radyasyonu yansitmayi (daha az geçirerek) saglayan bir birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve bir ikinci kizilötesi yansitici katmandir (26).

Birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olarak Ag katmani kullanilmaktadir ve isi yayinimi düsüktür.

Bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10) tüm katmanlarin kirma indisleri alinan tek katman ölçümlerinden elde edilen optik sabitler üzerinden hesaplamali yöntemler kullanilarak belirlenmistir. Söz konusu kirma indisleri 550 nm'deki kirma indisi verileridir.

Bulus konusu kaplamada cama (10) temas edecek sekilde en alt katman olarak bir birinci dielektrik katman (21) kullanilmaktadir. Bahsedilen birinci dielektrik katman (21) SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNX katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katman (21) olarak SIXNy katmani kullanilmaktadir. Birinci dielektrik katman (21) olan SixNy katmani difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek sicaklikta kolaylasan alkali iyon gücünü engelleme amacina hizmet etmektedir. Böylece birinci dielektrik katman (21) olan SIXNy katmani kaplamanin (20) isil islem süreçlerine dayanimina destek vermektedir. Birinci dielektrik katman (21) olan SixNy katmaninin kirma indisi için degisim araligi 2.00 ile 2.10 arasindadir. Tercih edilen yapida birinci dielektrik katman (21) olan SIXNy katmaninin kirma indisi için degisim araligi 2,02 ile 2,08 arasindadir.

Birinci dielektrik katman (21) olan SixNy katmani kalinligi 10 nm - 30 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SIXNy katmani kalinligi 15 nm - 22 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIXNy katmani kalinligi 18 - 21 nm araligindadir.

Birinci dielektrik katman (21) olan SiXNy katmani ile birinci kizilötesi yansitici katman (23) olan Ag katmani arasinda en az bir birinci çekirdeklestirici yapi (22) konumlanmaktadir. Tercihen birinci çekirdeklestirici yapi (22) birinci dielektrik katman (21) olan SixNy katmani ile dogrudan temas etmektedir. Birinci çekirdeklestirici yapi (22) NiCr, NiCrOx, TIOX, ZnAIOx, ZnOxiden en az birini içermektedir. Birinci çekirdeklestirici yapi (22) en az bir birinci çekirdeklestirici katman (221) içermektedir. Bahsedilen birinci çekirdeklestirici katman (221) olarak NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx”den biri kullanilmaktadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (221) olarak ZnAIOX kullanilmaktadir.

Bulusun bir diger yapilanmasinda birinci çekirdeklestirici yapi (22) olarak ZnAlOX katmani (221) ve bir sogurucu katman (222) birlikte kullanilmaktadir. Tercih edilen yapilanmada sogurucu katman (222) NiCr içermektedir. Birinci çekirdeklestirici yapi (22) olarak birinci çekirdeklestirici katman (221) ile birlikte sogurucu katmanin da araligindadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici yapisinda (22) birinci çekirdeklestirici katmani (221) ile birlikte sogurucu katman da (222) kullanilmasi durumunda kalinligi 0.9 nm - 1.2 nm araligindadir. Çekirdeklestirici yapi (22) içerisinde sogurucu katman (222) olarak tercihen metalik NiCr kullanilmasi durumunda birinci kizilötesi yansitici katman (23) olan Ag katmaninin adhezyon özelliklerini iyilestirerek kaplamanin (20) dayaniminin iyilesmesine destek vermektedir.

Birinci çekirdeklestirici katman (221) kalinligi 15 nm - 25 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (221) kalinligi 18 nm - 23 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (221) kalinligi 19 nm - 22 nm arasindadir. Birinci çekirdeklestirici yapi (22) toplamda 15 nm - 28 nm araliginda bir kalinliga sahiptir. Bulusun bir uygulamasinda birinci çekirdeklestirici yapi (22) toplamda 18 nm - 25 nm araliginda bir kalinliga sahiptir.

Tercihen birinci çekirdeklestirici yapi (22) toplamda 20 nm - 24 nm araliginda bir kalinliga sahiptir.

Birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katmani (26) arasinda konumlanarak birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katmani (26) birbirinden ayiran ve low-e katman (20) diziliminin hedeflenen performansa ulasmasini saglayan bir orta dielektrik yapisi (25) mevcuttur. Bahsedilen orta dielektrik yapisi (25) en az bir dielektrik katman içermektedir. Bulusun bir uygulamasinda orta dielektrik yapisi (25) en az bir dielektrik katman ile birlikte dielektrik katman komsulugunda konumlanan en az bir ikinci çekirdeklestirici katman (253) içermektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman (253) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOX”den en az birini içermektedir. Tercihen ikinci çekirdeklestirici katman (253) olarak ZnAIOX kullanilmaktadir. Bulusun tercih edilen uygulamasinda orta dielektrik katman yapisi (25) SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx” den seçilen en az iki dielektrik katman içermektedir.

Seçilen iki dielektrik katman birbirleri ile temas etmektedir. Orta dielektrik yapisi (25) bir ikinci dielektrik katman (251); bir üçüncü dielektrik katman (252) ve ikinci çekirdeklestirici katmani (253) birlikte içermektedir. Orta dielektrik yapisi (25) ikinci kizilötesi yansitici katmani (28) olan Ag katmanina dogrudan temas edecek sekilde konumlanmaktadir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda ikinci dielektirik katman Bahsedilen orta dielektrik yapisinin (25) içermis oldugu dielektrik katmanlarin kalinliklari ve yapilari ayri ayri optimize edilerek cam (10) tarafi ve kaplama tarafi yansima ve renk degerleri hedeflenen degerlerin elde edilmesi konusunda daha fazla seçenek olusturmaktadir. Orta dielektrik yapinin (25) sandviç formunda olmasi hedeflenen yansima ve renk degerlerinin optimize edilebilmesi saglamasinin yaninda ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olan Ag katmaninin optoelektronik özelliklerinin iyilestirilmesi için gereklidir.

Söyle ki; Orta dielektrik yapinin (25) tek ve kalin bir katmandan olusmasi halinde amorf olmasi hedeflenen orta dielektrik yapinin (25) isil islem etkisi ile kismen ve/veya tamamen kristalin bir yapi gösterme olasiligi artmaktadir. Ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olan Ag ile dogrudan temasta olan çekirdeklestirici olarak kullanilan katman, kendisinin diger yüzeyine temas eden katman üzerinde büyürken, büyüdügü katmanin kristalizasyonundan olasi olumsuz etkilenmemesi için büyüdügü bu katmanin amorf yapida olmasi tercih edilmektedir. Bulusta ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olan Ag katmani ile ikinci çekirdeklestirici katman ZnAlOx'in diger yüzeyine üçüncü dielektrik katman (252) olan amorf yapidaki SIXNy temas etmektedir. Böylece kristalin uyumsuzluk gibi bir problem ve dolayisi ile ikinci çekirdeklestirici katman (253) yapisinin kristalizasyonunun etkilenmesi ve istenmeyen kalinti gerilimin olusmasi ihtimali azaltilabilir. Ikinci çekirdeklestirici katman (253) özelindeki hassasiyet, ikinci kizilötesi katmanin (26) olmasi gereken kristalografik oryantasyonda büyümesini saglamaktadir. Orta dielektrik yapi (25) toplamda 75 nm- 105 nm araliginda bir kalinliga sahiptir. Tercih edilen uygulamada orta dielektrik yapi (25) toplamda 80 nm- 100 nm araliginda bir kalinliga sahiptir.

Daha da tercihen orta dielektrik yapi (25) toplamda 88 nm- 98 nm araliginda bir kalinliga sahiptir.

Ikinci kizilötesi yansitici katman (26) üzerinde bir üst dielektrik yapi (27) konumlanmaktadir. Bahsedilen 'üst dielektrik yapi (27) ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olan Ag katmani komsulugunda konumlanan bir ikinci bariyer katman (271); bir dördüncü dielektrik katman (272) ve bir üst dielektrik katman (273) içermektedir. Dördüncü dielektrik katman (272) ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, SIOX, SixNy, TiOx, ZnOx'den en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada dördüncü dielektrik katman (272) olarak ZnAIOx kullanilmaktadir. Dördüncü dielektrik katman (272) olan ZnAlOx katmani kalinligi 10 nm - 25 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada dördüncü dielektrik katman (272) olan ZnAlOx katmani kalinligi 13 nm - 20 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada dördüncü dielektrik katman (272) olan ZnAlOx katmani kalinligi 15 nm - 18 nm arasindadir. Birbiri üzerine kaplanan en az üç katman içeren üst dielektrik yapi (27) kalinligi toplamda 35 nm - 50 nm araligindadir. Tercihen üst dielektrik yapi (27) toplamda 38 nm - 48 nm araligindaki bir kalinliktadir.

Orta dielektrik yapi (25) içerigindeki ikinci dielektrik katman (251) olan ZnAlOx katmani kalinligi 20 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (251) olan ZnAIOx katmani kalinligi 23 nm - 31 nm arasindadir.

Daha da tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (251) olan ZnAlOX katmani kalinligi 26 nm - 29 nm arasindadir. Birinci çekirdeklestirici katman (221), ikinci dielektrik katman (251), ikinci çekirdeklestirici katman (253) ve dördüncü dielektrik katman (272) olarak kullanilan ZnAIOX için kirma indisi araligi 1.98- 2,08'dir. Tercih edilen yapilanmada birinci çekirdeklestirici katman (221), ikinci dielektrik katman (251), ikinci çekirdeklestirici katman (253) ve dördüncü dielektrik katman (272) olarak kullanilan ZnAlOx için kirma indisi araligi 2,0 - 2,06idir.

Bahsedilen üçüncü dielektrik katman (252) olarak SixNy, TINX, ZrNx katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada üçüncü dielektrik katman (252) olarak SixNy katmani kullanilmaktadir. Uçüncü dielektrik katman (252) olan SixNy katmani kalinligi 32 nm - 47 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada üçüncü dielektrik katman (252) olan SixNy katmani kalinligi 35 nm - 45 nm arasindadir.

Daha da tercih edilen uygulamada üçüncü dielektrik katman (252) olan SIXNy katmani kalinligi 37 nm - 41 nm arasindadir.

Ikinci çekirdeklestirici katman (253) olan ZnAIOX katmani kalinligi 20 nm - 30 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci çekirdeklestirici katman (253) olan ZnAIOx katmani kalinligi 21 nm - 28 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ikinci çekirdeklestirici katman (253) olan ZnAIOX katmani kalinligi 23 nm - 27 nm arasindadir.

Bulus konusu mimari kullanima yönelik olan low-e kaplamali (20) Ürünler için hedeflenen geçirgenlik ve yansima degerlerini elde edebilmek birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliklari 7 nm - 17 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliklari 8 nm -15 nm arasindadir. Daha spesifik olarak hem hedeflenen performans degerine ulasilmasi hem de istenilen renk özellikleri ve görünür bölgede düsük içe ve disa yansima degerleri elde edilebilmesi için birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliklari 10 nm - 12 nm araligindadir. Hedeflenen seçicilik ve optik performansin yakalanmasi için ürünün gümüs içeren iki ayri kizilötesi yansitici katmana sahip olmasi gerekmektedir. Birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliginin bir birine orani 0,7 ile 1,4 arasindadir. Tercihen birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliginin bir birine orani 0,8 ile 1,2 arasindadir.

Hedeflenen performans degeri tek cam (10) olarak 6 mm alt cam (10) kullanimi için isil islem öncesi görünür bölge geçirgenlik degeri %45 ile %65 arasinda olmasi tercih edilmektedir. Daha tercihen, %50 ile %60 arasinda, daha tercih edilen bir yapida ise %52 ile %58 arasinda olmalidir. Tek cam (10) olarak 6 mm alt cam (10) kullanimi için isil islem öncesi direkt günes enerjisi geçirgenligi degeri %20 ile %40 arasinda olmasi tercih edilmektedir. Daha tercihen, %24 ile %34 arasinda, daha tercih edilen bir yapida ise %26 ile %33 arasinda olmalidir. Ayrica tüm diger dielektrik katmanlarin optimizasyonu ile de bu performansin elde edilmesi desteklenmelidir.

Bulus konusu low-e kaplamada (20) bir birinci bariyer katmani (24) ve bir ikinci bariyer katmani (271) mevcuttur. Bahsedilen birinci bariyer katmani (24), bahsedilen ikinci bariyer katmani (271) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katmani (24) olarak NiCrOX kullanilmaktadir. Yine tercihen ikinci bariyer katmani (271) olarak NiCrOX kullanilmaktadir.

Birinci bariyer katman (24) olan NiCrOX katmani kalinligi 1,0 nm - 2,4 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katman (24) olan NiCrOX katmani kalinligi 1,4 nm - 2.0 nm araligindadir. Ikinci bariyer katman (271) olan NiCrOx katmani kalinligi 1,2 nm - 2,6 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci bariyer katman (271) olan NiCrOX katmani kalinligi 1,6 nm - 2.2 nm araligindadir.

Birinci bariyer katman (24) ve ikinci bariyer katman (271) olarak kullanilan NiCrOX katmanlari; birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) olan Ag katmanlarindan sonra gelen katmanlarin üretimi için kullanilan proses gazlarindan Ag katmanlarinin etkilenmemesi için kullanilmaktadir. Ayni zamanda NiCrO,< katmanlari, Ag katmanlarindan sonra gelecek dielektrik katmanlar arasindaki metalik ve dielektrik geçisinde yapisal uyumu saglayarak isil islem öncesi olasi yapisma zayifligini bertaraf etmektedir. Ayrica NiCrOX katmanlari, isil islem ve/veya temper süreçlerinde Ag katmanlarinin oksitlenerek yapisal bozulmaya ugramasini engellemektedir.

Low-e kaplamanin (20) son katmani bir üst dielektrik katmandir (273). Ust dielektrik katman (273) olarak SiOx katmani ve TIC)( katmanlarinin birlikte kullanilmasi durumunda isil islem sonrasinda low-e kaplamanin (20) mekanik dayanimi zayiflamakta ve low-e kaplama (20) yüzeyinde mikro çizikler olusmaktadir.

Ust dielektrik katman (273) olarak SiOxNy katmaninin tercih edildigi ve bir ikinci bariyer katman (271) olan NiCrOX ile dogrudan temas halinde olacak sekilde kullanildigi durumda, NiCrOX katmani ile SiOxNy katmani birbirleriyle uyumsuz davranis göstermekte ve isil islem sonrasinda delaminasyon gerçeklesmektedir.

Bu amaçla patente konu olan low-e kaplamada (20) bulunan ikinci bariyer katman (271) olan NiCrOX katmani ile üst dielektrik katman (273) olan SiOxNy arasina bir dördüncü dielektrik katman (272) eklenerek katmanlar arasi yapisma performansi artirilmistir. Dördüncü dielektrik katman (272) olarak ZnAlOX katmani kullanilmaktadir.

Ust dielektrik katman (273) olarak SIXNy katmani yerine SIOXNy katmani kullanildigi durumda, SiOxNy katmaninin kirma indisi SixNy katmanindan daha düsük oldugu için ayni optik davranis daha kalin bir SIOXNy katmani ile elde edilebilmektedir.

Böylece daha kalin bir üst dielektrik katman (273) kullanilarak kaplamanin mekanik dayanimi artirilmaktadir. Ust dielektrik katman (273) olan SiOxNy katmani kalinligi nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada `üst dielektrik katman (273) olan SIOXNy katmani kalinligi 21 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIOXNy katmani kalinligi 23 nm - 28 nm degerindedir.

Tablo 1.6 mm kalinlikli alt cam (10) 'üzerine yapilan low-e kaplamanin (20) isil islem sonrasinda farkli bakis açilarinda ölçülen cam (10) tarafi (R9) renk degerleri 8° 30° 45° 60° R9I a* -O,9 -2,5 -3,6 -2,3 Delta (A) a* -1,6 -2,7 -1,4 Delta (A) b* 2,2 2,6 -1,0 Yukarida anlatilan katman dizilimi ile elde edilen low-e kaplamanin (20) 6 mm alt cam (10) yüzeyine uygulanmasi sonucu, isil islem sonrasi elde edilen renk degerleri Tablo 1”de verilmektedir. Tablo 1'de Rga* ve Rgb* kodlari cam (10) tarafi renk degerlerini göstermektedir. 6 mm alt cam (10) üzerine bahsedilen low-e kaplamanin (20) uygulandigi örnek, isil islem sonrasinda cam (10) tarafindan (kaplamasiz olan yüzeyinden) yapilan ölçümden yola çikarak hesaplanan yansima a* ve b* degerleri açiya bagli olarak 60 derece dahil negatif bölgede bu bulus dahilinde elde edilebilmektedir. Söz konusu cam (10) tarafi yansima renk a* ve b* degerlerinin açili bakisa bagli degisimi, dik bakisa göre 3 puanin altinda ve negatif bölgededir.

Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir.

Claims (15)

1. ISTEMLER
2. . Bir altlik üzerine bilhassa bir cam (10) altlik 'üzerine biriktirilerek gelistirilen; altlik 'üzerinde dogrudan temas edecek sekilde saglanan 15 nm - 22 nm araligindaki bir kalinlikta SixNy içeren bir birinci dielektrik katman (21); bahsedilen birinci dielektrik katmanin (21) 'üzerinde konumlanan 8 nm - 15 nm kalinlik araliginda bir birinci kizilötesi yansitici katman (23); bahsedilen birinci kizilötesi katman (23) üzerinde konumlanan 1,0 nm- 2,4 nm kalinlik araliginda bir birinci bariyer katman (24); bahsedilen birinci bariyer katman (24) 'üzerinde konumlanan 8 nm- 15 nm araligindaki bir kalinlikta bir ikinci kizilötesi yansitici katman (26) ve devaminda konumlanan 35 nm - 50 nm araligindaki bir kalinlikta bir 'üst dielektrik yapiya (27) sahip çoklu sayida ince filmi içeren ve isil islenebilir bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen low-e kaplamanin (20) birinci dielektrik katman (21) ile birinci kizilötesi yansitici katman (23) arasinda konumlanan ve birinci kizilötesi yansitici katmana (23) dogrudan temas eden 18 nm - 25 nm araliginda bir kalinlikta bir birinci çekirdeklestirici yapi (22); ikinci kizilötesi katmana (23) dogrudan temas edecek sekilde altinda konumlanarak kaplandigi camin (10) hedeflenen performans degerlerine ulasmasini saglayan ve en az bir dielektrik katmana sahip toplamda 80 nm - 100 nm araligindaki bir kalinlikta bir orta dielektrik yapi (25) içermesi ve low-e kaplamali (20) camin (10), cam (10) tarafi yansima a* ve b* renk degerlerinin, 60° ve altindaki bir açida, açili bakisa bagli degisiminin, dik bakisa göre 3 puanin altinda ve negatif bölgede olmasidir.
3. . Istem 1Je göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) bahsedilen orta dielektrik yapinin (25) 21 nm - 28 nm araligindaki bir kalinlikta bir ikinci çekirdeklestirici katman (253) içermesidir.
4. . Istem 2'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) bahsedilen ikinci çekirdeklestirici katmanin (253) NiCr,
5. NiCrOx, TIOX, ZnAlOx, ZnOX'den seçilen en az birini içermesidir.
6. . Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) bahsedilen orta dielektrik yapinin (25) SixNy, TiNx, ZrNx,
7. ZnSnOx, ZnAlOx, SIOXNy, TiOX, ZnOx'den seçilen 23 nm - 31 nm araliginda bir kalinlikta bir ikinci dielektrik katmani (251) ve 35 nm - 45 nm araligindaki bir kalinlikta bir üçüncü dielektrik katmani (252) içermesidir.
8. . Istem 4'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamada (20) bahsedilen ikinci dielektrik katman (251) ve bahsedilen üçüncü dielektrik katmanin (252) birbirleri ile dogrudan temas ediyor olmasidir. . istem 5'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamada (20) üçüncü dielektrik katmanin (252) bir yüzeyinin ikinci çekirdeklestirici katmana (253) temas ediyor olmasidir. . istem B'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) üçüncü dielektrik katmanin (252) amorf yapida olmasidir. . istem 2'ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamada (20) bahsedilen ikinci çekirdeklestirici katmanin (253) ikinci kizilötesi katmana (26) dogrudan temas etmesidir. . istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin (22) NiCr,
9. NiCrOx, TIOX, ZnAIOX, ZnOx”den seçilen en az birini içermesidir.
10. 10.Istem 'l'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamada (20) bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin (22) 18 nm - 23 nm araligindaki bir kalinlikta ZnAlOX katmanini (221) içermesidir.
11. 11.Istem 'l'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamada (20) bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin (22) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx*den seçilen en az ikisini içermesidir.
12. 12.Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20), bahsedilen birinci çekirdeklestirici yapinin (22) birinci kizilötesi katmanin (23) bir yüzeyine dogrudan temasta bulunan 0,5 nm - 1,5 nm araligindaki bir kalinlikta bir sogurucu katman (222) içermesidir.
13. 13.Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen sogurucu katmanin (222) NiCr içermesidir.
14. 14.Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamanin (20) 'üst dielektrik yapinin (27), 21 nm - 30 nm araliginda bir kalinlikta SINXOy içeren bir üst dielektrik katman (273) ve bahsedilen 'üst dielektrik katman (273) altinda konumlanarak delaminasyonunu önleyen 13 nm - 20 nm araligindaki bir kalinlikta ZnAlOx içeren bir dördüncü dielektrik katman (272) içermesidir.
15. 15.Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; low-e kaplamadaki (20) birinci kizilötesi yansitici katman (23) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (26) kalinliginin bir birine oraninin 0,8 ile 1,2 arasinda olmasidir.