SU949855A1 - Устройство дл облучени электронами - Google Patents
Устройство дл облучени электронами Download PDFInfo
- Publication number
- SU949855A1 SU949855A1 SU782579452A SU2579452A SU949855A1 SU 949855 A1 SU949855 A1 SU 949855A1 SU 782579452 A SU782579452 A SU 782579452A SU 2579452 A SU2579452 A SU 2579452A SU 949855 A1 SU949855 A1 SU 949855A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- magnet
- plane
- electron
- width
- cathode
- Prior art date
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Изобретение относитс к ускорител м электронов простого действи , в частности дл радиационной технологии .
Подавл кнцее большинство выходных устройств ускорителей выполн етс по принципу сканировани сфокусиррванного электронного пучка системой катушек
Однако данные устройства такого типа имеют ограничение по ширине зоны облучени , так как при сканировании на большие углы возникает значительна неравномерность облучени , прежде всего вследствие потерь в фольге выпускного окна по кра м зоны облучени .
Известно также устройство дл облучени электронами, содержащее О-образный отклон ющий магнит и электрон ный источник с накаливаемым 12.
Известное устройство обеспечивает наиболее прот женную зону облучени , .равную длине О-образного магнита. Однако это устройство с бегущим полем вл етс сложным, так как, во-первых, оказываетс сложной схема питани электромагнитного бегущего пол и, во-вторых, работа на переменном поле
Вызывает дополнительное усложнение камеры развертки, поскольку необходимо принимать меры по устранению вли ни стенок камеры на работу электромагнита в режиме переменного пол .
Цель изобретени - упрощение устройства , достижение предельно возможной ширины пол облучени и возможность регулировани ширины пол облу10 чени .
Поставленна цель достигаетс тем, что магнит выполнен как магнит стационарного пол , ось электронного пучка от источника наклонена к вход15 ной плоскости магнита, а катод выполнен линейным и расположенным в средней плоскости магнита.
Кроме того, в устройство введен по крайней мере второй магнит стацио20 нарного пол , входна плоскость которого наклонена к пучку первого магнита.
Причем магнит выполнен вращаемым вокруг оси, перпендикул рно средней
25 плоскости магнита и снабжен регул тором индукции в рабочем зазоре магнита .
На фиг. 1 схематически показано предлагаемое устройство, общий вид;
Claims (2)
- 30 на фиг. 2 - траектории электронов от источника до обрабатываемой поверхности; на фиг. 3 - вариант Выполнени О-образного электромагнита, показанного со стороны входной плоскости} на фиг. 4 - вариант выполнени предлагаемого устройства с двум отклони ющими магнитами. Электронный источник с линейным катодом 1 формирует с помощью фокуси рующего 2 и ускор ющего электродов 3 ленточный пучок 4. Пучок направлен наклонно к входной плоскости магнита и находитс в ее средней плоскости между полюсами 5 и б. После отклонени пучок направл етс на обрабатывающийобъект 7, например рулонный материал, перемещаемый в направлении показанном стрелкой. В варианте с двум отклон ющими магнитами (Фиг.4) пучок из первого направл етс наклон но к плоскости второго магнита с пол сами 5,б и далее на обрабатываемый 1атериал. Ленточный пучЬк 4 рассматривают ка совокупность линейных пучков (фиг.2) которые пересекают входную плоскость магнита под одним и тем же углом. Между полюсами магнита кажды. пучок движетс по окружности с радиусом кривизны Р f CH). где Е - энерги электронов; Н - напр женность магнитного Подбором индукции в зазоре, например изменением тока возбуждени электромагнита при заданной энергии частиц и ширине его полюсов, обеспечивают траектории электронов на выходе, перпендикул рные выходной Плоскости электромагнита, поверхнос ти фольги и поверхности обрабатываемого объекта. Одинаковый угол вхождени частиц ленточного пучка в магнит обеспечивает автоматически равномерное расширение пучка на длину L l/sinoL, где 1 - длина катода; оС- угол входа. Отклон ющий магнит может быть выполнен простой формы в виде 0-обр ного электромагнита (фиг. 3) с обмо кой посто нного тока 8 (лобовые час обмотки не показаны). Такие магниты широко примен ютс в ускорительной технике и их конструирование не пред ставл ет принципиальных трудностей. Поскольку дл стационарного режима магнитопровод может быть выполнен из стальных блоков, он может выполн ть функции части биологической защиты радиационной установки. Кроме того, с переходом на ускор ющую систему с пучком, наклоненным под малым углом к горизонту, сокращаетс вертикальный размер радиационной установки , что также приводит к уменьшению размеров и веса защиты, а также веса опорных конструкционных элементов, Во врем эксплуатации радиационной установки возникает необходимость облучени материалов разной ширины, при этом необходимо соответствующее изменение ширины пол облучени . Предлагаемое устройство осуществл ет указанную регулировку простым поворотом магнита в плоскости ленточного пучка с изменением угла входа, при этом перпендикул рное траектории электронов к плоскости фольги обеспечиваетс регулировкой индукции в рабочем зазоре магнита, например регулировкой тока возбуждени обмотки. Формула изобретени 1.Устройство дл облучени электронами , содержащее О-образный отклон ющий магнит и электронный источник с накаливаемым катодом, отличающеес тем, что, с целью упрощени устройства, магнит выполнен как магнит стационарного пол , ось электронного пучка от источника наклонена к входной плоскости магнита, а катод выполнен линейным и расположенным в средней плоскости магнита. 2.Устройство по П.1, о т л и чающеес тем, что, с целью Достижени предельно возможной ширины пол облучени , в устройство введен по крайней мере второй магнит стационарного пол , входна плоскость которого наклонена к пучку первого магнита. 3.Устройство по П.1, отличающеес тем, что, с целью возможности регулировани ширины пол облучени , магнит выполнен вращаемым вокруг оси, перпендикул рной средней плоскости магнита, и снабжен регул тором индукции в рабочем зазоре магнита. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Патент США №3469139,кп.313-74. опублик. 1969.
- 2.Авторское свидетельство СССР № 516329, кл, Н 05 Н, 1975 (прототип ) .
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782579452A SU949855A1 (ru) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | Устройство дл облучени электронами |
DD22931281A DD161019A3 (de) | 1978-02-24 | 1981-04-16 | Vorrichtung fuer die bestrahlung mittels elektronen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782579452A SU949855A1 (ru) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | Устройство дл облучени электронами |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU949855A1 true SU949855A1 (ru) | 1982-08-07 |
Family
ID=20748800
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782579452A SU949855A1 (ru) | 1978-02-24 | 1978-02-24 | Устройство дл облучени электронами |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD161019A3 (ru) |
SU (1) | SU949855A1 (ru) |
-
1978
- 1978-02-24 SU SU782579452A patent/SU949855A1/ru active
-
1981
- 1981-04-16 DD DD22931281A patent/DD161019A3/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD161019A3 (de) | 1984-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7639785B2 (en) | Compact scanned electron-beam x-ray source | |
EP0473097B1 (en) | System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning | |
US4767930A (en) | Method and apparatus for enlarging a charged particle beam | |
JP3475253B2 (ja) | 原子及び分子イオンで表面を照射するために有用な振動磁場をワーキング・ギャップにおいて生成するためのシステム及び方法 | |
US4367411A (en) | Unitary electromagnet for double deflection scanning of charged particle beam | |
US3193717A (en) | Beam scanning method and apparatus | |
US4063098A (en) | Beam scanning system | |
US4845370A (en) | Magnetic field former for charged particle beams | |
TW463534B (en) | Method and system of reducing axial beam focusing | |
JP3736343B2 (ja) | 直流電子ビーム加速装置およびその直流電子ビーム加速方法 | |
US4281251A (en) | Scanning beam deflection system and method | |
WO2006134677A1 (ja) | 照射野形成装置 | |
US3351731A (en) | Method and apparatus for treating material with a charged beam | |
US2941077A (en) | Method of enlarging and shaping charged particle beams | |
US4075496A (en) | Charged particle irradiation apparatus | |
SU949855A1 (ru) | Устройство дл облучени электронами | |
US3459988A (en) | Cyclotron having charged particle and electron beams | |
US3120609A (en) | Enlargement of charged particle beams | |
US10850132B2 (en) | Particle therapy system | |
JP4650382B2 (ja) | 荷電粒子ビーム加速器及びその荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射システム | |
Curtis et al. | Linac H-beam operation and uses at Fermilab | |
US2904720A (en) | Ion accelerator | |
US4737726A (en) | Charged particle beam storage and circulation apparatus | |
US4893058A (en) | Array electron accelerator | |
US3174084A (en) | Electron beam delection system |