[go: up one dir, main page]

SU410700A1 - Solid ion source - Google Patents

Solid ion source

Info

Publication number
SU410700A1
SU410700A1 SU1797071A SU1797071A SU410700A1 SU 410700 A1 SU410700 A1 SU 410700A1 SU 1797071 A SU1797071 A SU 1797071A SU 1797071 A SU1797071 A SU 1797071A SU 410700 A1 SU410700 A1 SU 410700A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
ion source
sample
solid ion
source
cathode
Prior art date
Application number
SU1797071A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Д.Х. Абдрашитова
В.Г. Бабаев
М.Б. Гусева
Original Assignee
Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова filed Critical Московский Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Государственный Университет Им.М.В.Ломоносова
Priority to SU1797071A priority Critical patent/SU410700A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU410700A1 publication Critical patent/SU410700A1/en

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

1one

Изобретение огноситс  к плазменным ионрым источникам и предназначено дл  получени  интенсивных направленных потоков ионов газов и твердых тел (, полупроводников ,диэлектриков).The invention is flame retardant to plasma ion sources and is intended to produce intense directional flows of gas ions and solids (semiconductors, dielectrics).

Известны ионные источники, содержащие накальный катод в виде спирали или пр мой нити, расположенный в объеме разр да, магнитную катушку, электроды-отражатели и образец ионизируемого вещества, подвергающийс  катодному распылению. Эти источники не обеспечивают высокоэффективного использовани  вещества, поскольку режим, при котором разр д горит в парах чистого металла (режим самораспылени ) и источник генерирует в основном ионы металла, реализуетс  при давлении около торр, когда осцилл ции электронов фактически отсутствуют . Кроме того, у этих источников {низка стабильность рабочих режимов.Ion sources are known that contain a spiral cathode or straight filament cathode located in the discharge volume, a magnetic coil, reflector electrodes, and a sample of an ionizable substance undergoing cathodic sputtering. These sources do not provide highly efficient use of the substance, since the mode in which the discharge burns in pure metal vapors (self-spraying mode) and the source generates mainly metal ions is realized at a pressure around Torr, when electron oscillations are virtually absent. In addition, these sources {low stability of operating conditions.

В предложенном источнике ионов это уст- ран етс  за счет , что распыл емый образец выполн етс  в виде закрытого с одной стороны полого цилиндра, внутри котороrg соосно образцу закреплен катод. Отверотие эмиссии ионов располагаетс  в отража;теле , установленном против открытого -торца цилиндрического образца. В источнике создаетс  неоднородное магнитное поле типа ловушки.In the proposed ion source, this is eliminated due to the fact that the sprayed sample is made in the form of a hollow cylinder closed on one side, inside which the cathode is fixed coaxially with the sample. The ion emission hole is located in the reflection body mounted against the open-face of a cylindrical sample. A non-uniform trap-type magnetic field is created at the source.

Иа чертеже показан предложенный источ ,ник ионов.The drawing shows the proposed source of ions.

/ - Он содер; ит накальный катод 1, распыд емый образец 2, анод 3, отражатель ;(кругла  пластинка) 4 с эмиссионным oi берЪтием 5, выт гивающий электрод (эко-. гтрактор) 6, магнитную катушку 7./ - He contained; um filament cathode 1, sputtered sample 2, anode 3, reflector; (round plate) 4 with emission oi peak 5, drawing electrode (eco- tractor) 6, magnetic coil 7.

Катод 1 размещен внутри :распыл емОго образца 2. Анод 3 находитс  на таком рассто нии , при котором исключаетс  возмож .ность электрического пробо  на образец. Отражател ми электронов в источнике  вл ютс  с одной стороны узел образец-катод , а с другой - кругла  пластинка 4, имеюща  отверстие 5 дл  отбора ионов, за которым находитс  экстрактор 6 ионно-оптической системы. Магнитна  катушка 7 соз ,дает однородное магнитное поле, вектор напр женности которого параллелен оси ио гочника ,The cathode 1 is located inside: the spray of the sample 2. The anode 3 is at such a distance that prevents the possibility of electrical breakdown of the sample. The electron reflectors in the source are, on the one hand, the sample-cathode assembly, and on the other, a circular plate 4, which has an opening 5 for the selection of ions, behind which is an extractor 6 of the ion-optical system. The magnetic coil 7 cos, gives a uniform magnetic field, the intensity vector of which is parallel to the axis of the source,

SU1797071A 1972-06-16 1972-06-16 Solid ion source SU410700A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1797071A SU410700A1 (en) 1972-06-16 1972-06-16 Solid ion source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1797071A SU410700A1 (en) 1972-06-16 1972-06-16 Solid ion source

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU410700A1 true SU410700A1 (en) 1976-05-25

Family

ID=20517956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1797071A SU410700A1 (en) 1972-06-16 1972-06-16 Solid ion source

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU410700A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3970892A (en) Ion plasma electron gun
RU2168233C2 (en) Cathode for spraying or electric-arc evaporation (alternatives) and device for coating or ion-beam implantation of substrates
TR199701749A2 (en) That's why it's so good
GB1039691A (en) Vacuum coating and ion bombardment apparatus
US4412153A (en) Dual filament ion source
EP0054959A1 (en) Beam mode fluorescent lamp
SU410700A1 (en) Solid ion source
US5144143A (en) Device for the ionization of metals having a high melting point, which may be used on ion implanters of the type using ion sources of freeman or similar type
GB684710A (en) Improvements relating to high vacuum pumps
US3610985A (en) Ion source having two operative cathodes
RU2631553C2 (en) Magnetron spray system with electron injection
US4004172A (en) Gas discharge electron gun for generating an electron beam by means of a glow discharge
US3784858A (en) Ion sources
US4752667A (en) Apparatus and particularly duoplasmatron usable for ionizing a gas and process for using said apparatus
JPH02250237A (en) Ion source device
Rudat et al. New on-source miniature atomic FAB and alkali ion SIMS sources
KR900010921A (en) Ultra-thin soft X-ray generator and construction method
US3514666A (en) Charged particle generator yielding a mono-energetic ion beam
US3614510A (en) Nonthermionic cathode discharge devices
US3073987A (en) Electron discharge device with getter
US3475650A (en) Frequency-modulation tube with an ion getter pump
SU368807A1 (en) Electric arc evaporator
SU1102408A1 (en) Ion-getter pump
GB1061453A (en) Hollow gas arc discharge
SU307666A1 (en) Electric arc metal evaporator