SU1727215A1 - Shf chamber for heating of dielectric materials - Google Patents
Shf chamber for heating of dielectric materials Download PDFInfo
- Publication number
- SU1727215A1 SU1727215A1 SU904815381A SU4815381A SU1727215A1 SU 1727215 A1 SU1727215 A1 SU 1727215A1 SU 904815381 A SU904815381 A SU 904815381A SU 4815381 A SU4815381 A SU 4815381A SU 1727215 A1 SU1727215 A1 SU 1727215A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- heating
- longitudinal section
- chamber
- microwave
- opv
- Prior art date
Links
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к технике СВЧ нагрева. Цель изобретени - уменьшение уровн паразитного излучени при обеспечении нагрева сыпучих продуктов. СВЧ-ка- мера дл нагрева диэлектриков содержиv двз отрезка пр моугольного; волновода (ОПВ) 1, 4, имеющих общую узкую стенку, о которой выполнен продольный разрез 3, п широких стенках ОПВ 1,4 выполнены также продольные разрезы 2, 6. СВЧ-энергию поз буждают в ОПВ 1,- в Котором размещают нагреваемый диэлектрик. Паразитное излучение через продольный разрез 3 попадает в ОП.В 4, из которого имеет место паразитное излучение через продольный разрез 6. 2 ил.This invention relates to a microwave heating technique. The purpose of the invention is to reduce the level of spurious radiation while ensuring the heating of bulk solids. Microwave chamber for heating dielectrics containing a rectangular piece; waveguide (OPV) 1, 4, having a common narrow wall, which is made of a longitudinal section 3, n wide walls of OPV 1.4, longitudinal sections 2, 6 are also made. Microwave energy is induced in OPV 1, - in which the heated dielectric . Spurious radiation through a longitudinal section 3 enters the OP.V 4, from which parasitic radiation takes place through a longitudinal section 6. 2 Il.
Description
Изобретение относитс к СВЧ-технике и может использоватьс при термической обработке диэлектрических материалов.The invention relates to microwave technology and can be used in the heat treatment of dielectric materials.
Цель изобретени -уменьшение уровн паразитного излучени при обеспечении нагрева сыпучих продуктов.The purpose of the invention is to reduce the level of parasitic radiation while ensuring the heating of bulk solids.
На фиг. 1 приведена конструкци СВЧ-ка- меры дл нагрева диэлектриков; на фиг. 2 - вариант СВЧ-камеры.FIG. 1 shows the design of a microwave chamber for heating dielectrics; in fig. 2 - variant of the microwave camera.
СВЧ-камера дл нагрева диэлектриков содержит отрезок пр моугольного волновода 1. Разрезы 2, 3 выполнены в середине широкой стенки отрезка пр моугольного волновода и в узкой стенке. Камера снабжена дополнительным отрезком пр моугольного волновода 4, имеющим с ним общую узкую стенку. При этом разъемна часть камеры может иметь форму, крышки 5 или в случае выполнени линий разреза 6 дополнительного пр моугольного волновода 4 в середине нижней широкой стенки разьемна камера имеет сдвижную стенку (см. фиг. 2).The microwave chamber for heating dielectrics contains a segment of a rectangular waveguide 1. Cuts 2, 3 are made in the middle of the wide wall of a segment of a rectangular waveguide and in a narrow wall. The camera is equipped with an additional segment of a rectangular waveguide 4 having a common narrow wall with it. In this case, the detachable part of the chamber may have a shape, a cover 5, or in the case of making cut lines 6 of an additional rectangular waveguide 4 in the middle of the lower wide wall, the split chamber has a sliding wall (see Fig. 2).
СВЧ-камера дл нагрева диэлектриков работает следующим образом.The microwave chamber for heating dielectrics operates as follows.
В камеру, отключенную QT генератора (на чертеже не показан) со сн той крышкой 5 о волновод 1 помещают диэлектрик, подлежащий обработке. Закрывают крышку 5 и включают генератор. Максимальный уровень паразитного излучени имеет место через разрез 3, расположенный в узкой стенке. Это излучение, попада в дополнительный волновод 4, возбуждает основной .гип волны , котора имеет минимальное излучение в окружающую среду через линию 6 разреза дополнительного волноводл 4, расположенную в середине его широкой стенки.При необходимости контрол состо ни A dielectric to be processed is placed into the chamber turned off by the QT generator (not shown in the drawing) with the cover 5 removed from the waveguide 1. Close the cover 5 and turn on the generator. The maximum level of spurious radiation occurs through incision 3 located in a narrow wall. This radiation, entering an additional waveguide 4, excites the main wave, which has minimal radiation into the environment through line 6 of the additional waveguide 4, located in the middle of its wide wall.
обрабатываемого диэлектрического материала , перва лини продольного разреза дополнительного волновода может быть выполнена в его нижней широкой стенке.the processed dielectric material, the first longitudinal section of the additional waveguide can be made in its lower wide wall.
Предлагаема СВЧ-камера обеспечивает ее безопасную эксплуатацию и оперативное открывание при заполнении и контроле.The proposed microwave camera ensures its safe operation and quick opening during filling and control.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904815381A SU1727215A1 (en) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | Shf chamber for heating of dielectric materials |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU904815381A SU1727215A1 (en) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | Shf chamber for heating of dielectric materials |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1727215A1 true SU1727215A1 (en) | 1992-04-15 |
Family
ID=21508917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU904815381A SU1727215A1 (en) | 1990-04-17 | 1990-04-17 | Shf chamber for heating of dielectric materials |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1727215A1 (en) |
-
1990
- 1990-04-17 SU SU904815381A patent/SU1727215A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент US Ms 3440383, кл. Н 05 В 9/06, 1969. Архангельский Ю.С. и Дев ткин И.И. Сверхчастотные нагревательные установки дл интенсификации технологических процессов. ИЗд. Саратовского ун-та, 1983, с. 115-117. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE59006392D1 (en) | Cooking appliance. | |
ATE14962T1 (en) | ADDITIONAL DEVICE FOR MICROWAVE OVEN. | |
US2856497A (en) | Dielectric matching devices | |
DE3065604D1 (en) | Temperature stabilized high frequency oscillator | |
JPS52103735A (en) | High-frequency heater | |
US3218429A (en) | Dielectric heating apparatus | |
IT8122817A0 (en) | DIELECTRIC CAVITY PLANAR OSCILLATOR OPERATING AT MICROWAVE FREQUENCY. | |
SU1727215A1 (en) | Shf chamber for heating of dielectric materials | |
SE9201786L (en) | Microwave oven | |
AU6230990A (en) | Microwave spectrometer | |
GB2007949A (en) | Microwave oven | |
GB1506612A (en) | Microwave energy oven seal | |
SE7905219L (en) | PROCEDURE AND DEVICE FOR DIELECTRIC HEATING BY MICROWAVE ENERGY | |
NO892519D0 (en) | IMPROVEMENT OF MICROWAVE HEATING. | |
SU1316645A1 (en) | Apparatus for continuous mcw-treatment of products | |
NO822129L (en) | PROCEDURE FOR THE DRYING OF WATER SOLID FUEL. | |
SU1044260A1 (en) | Apparatus for ulf treatment of food products | |
IT215738Z2 (en) | CONTAINER FOR COOKING OR HEATING OF VIVANDE WITH VARIABLE POSITIONABLE INTERIOR SEPARATORS. | |
JPS5299448A (en) | High-frequency heating device | |
FR2606577B1 (en) | DEVICE FOR THE RAPID HEATING OF A DIELECTRIC PRODUCT BY MICROWAVE | |
SE9103163D0 (en) | COVER AND PROCEDURE BEFORE ITS DISPOSAL | |
JPS6417399A (en) | Plasma processing equipment | |
JPS5513196A (en) | Container for sterilizing sludge at low temperature | |
JPS54162244A (en) | High-frequency heating device | |
SE8102750L (en) | high-frequency |