SU1666582A1 - Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий - Google Patents
Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий Download PDFInfo
- Publication number
- SU1666582A1 SU1666582A1 SU884489308A SU4489308A SU1666582A1 SU 1666582 A1 SU1666582 A1 SU 1666582A1 SU 884489308 A SU884489308 A SU 884489308A SU 4489308 A SU4489308 A SU 4489308A SU 1666582 A1 SU1666582 A1 SU 1666582A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- thickness
- model
- products
- matrix
- perforated
- Prior art date
Links
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title claims abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 abstract description 4
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 4
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- -1 Polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);disulfamate Chemical compound [Co+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к гальванопластике, в частности к гальванопластическому изготовлению перфорированных изделий. Целью изобретени вл етс повышение количества изделий с одной матрицы. По изобретению изготавливают перфорированную металлическую модель из двух идентичных по форме частей, толщина одной из которых соответствует толщине издели , устанавливают модель на временное основание, заполн ют отверсти в модели диэлектрическим материалом, на основе эпоксидной смолы, причем заполнение осуществл ют на толщину, превышающую толщину модели, после чего временное основание и часть модели соответствующей толщине издели удал ют. Полученнуюб матрицу используют дл получени перфорированных изделий гальваническим осаждением меди, никел , сплава никел - кобальт или др. металлов. С одной матрицы можно получить 90 изделий при сохранении высокой точности их геометрии.
Description
Изобретение относитс к гальванопластике , в частности к гальванопластическому изготовлению металлических перфориро- ванных изделий.
Целью изобретени вл етс повышение количества изделий с одной матрицы.
По изобретению изготавливают составную перфорированную модель из металлического материала, состо щую из двух идентичных по форме частей, из которых по крайней мере одна по толщине соответствует изготавливаемому изделию, устанавливают составную модель на временное основание отверсти в модели заполн ют
диэлектрическим материалом на основе эпоксидной смолы, толщиной, превышающей толщину модели, после чего временное основание и часть модели, соответствующую по толщине изготавливаемому изделию , отдел ют.
Пример. Изготавливали изделие сетчатый модуль электрода дл аккумул торов , представл ющий собой сетчатую пластину толщиной 200 мкм, с квадратными отверсти ми размером 4х 4 мм и рассто нием между центрами отверстий 4,5 мм.
Дл этого изготавливали по негативному фотошаблону с изображением издели
Os ON Ov СЛ 00
ю
методом фотолитографии фоторезистивную матрицу из фоторезиста марки СПФ-2ВЩ. На матрицу наращивали изделие из сплава никель-кобальт толщиной 200 мкм в сульфа- матном электролите никелировани . Состав электролита и режим осаждени были следующими:
Сульфамат никел 340 г/л
Сульфамат кобальта10 г/л
Хлорид никел 5 г/л
Борна кислота30 г/л
Лаурилсульфат натри 0,1 г/л
Температура45°С
Плотность тока1-2 А/дм
Из указанного электролита выращивают по фоторезистивным матрицам детали двух типов: перва соответствует толщине изготавливаемого издели , втора - в несколько раз толще в данном случае - 1 мм. Фоторезистивный слой удал ют химическим путем обработкой в 30%-ном растворе КОН при 50-70°С и детали отдел ют от подложки.
Изготовленные детали совмещают по контуру и покрывают лаком марки ХСЛ, устанавливают модель частью, соответствующей по толщине изготавливаемому изделию, на временное основание из оргстекла , фиксиру ее указанным выше лаком, Устанавливают временное основание с моделью , заливают на высоту 10 мм эпоксидной композицией следующего состава, мае.ч.:
Эпоксидна смола ЭД-20 100 Полиэтиленполмамины 15 После отверждени композиции модель вынимают из опоки, отдел ют временное основание и верхнюю деталь сборной модели механически с промывкой в гор чей воде дл удалени лака. Получают таким образом матрицу, на которую наращивают издели толщиной до 200 мкм из электролитов меднени , никелировани , сплава никель-кобальт и т.п.
Например, детали из никел наращивают следующим образом.
На матрицу нанос т разделительный слой в растворе бихррмата кали 120 г/л в течение 15 мин,
Матрицу промывают в гор чей воде и завешивают в ванну. Состав электролита и режим:
Сульфат никел 340 г/л
Хлорид никел 5 г/л
Борна кислота30 г/л
Лаурилсульфат натри 0,3 г/л Температура50°С
Плотность тока2 А/дм2
Готовую деталь легко отдел ют от матрицы . Таким образом с матрицы было получено 90 шт. изделий с четкой кромкой отверстий - вертикальной стенкой отверстий .
Отклонение размера от исходного не превышает 0,02 мм при изготовлении перфорированных изделий с использованием матрицы, полученной способом фотолитографии . Количество полученных изделий не
превышает 500, а в случае использовани плоской матрицы с чередованием провод щих и непровод щих участков ухудшаетс и точность геометрии получаемых изделий. Указанные выше преимущества позвол т
Claims (1)
- использовать изобретение дл изготовлени перфорированных сложнопрофильных изделий различного назначени . Формула изобретени Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий, включающий изготовление неметаллической модели с отверсти ми, соответствующими перфорации издели и заполнение отверстий диэлектрическимматериалом, отличающийс тем, что, с целью повышени изделий с одной матрицы , металлическую модель выполн ют из двух идентичных по форме частей, толщина одной из которых соответствует толщинеиздели , устанавливают модель на временное основание и в качестве диэлектрического материала дл заполнени отверстий берут состав на основе эпоксидной смолы, причем заполнение осуществл ют на толщину , превышающую толщину модели, после чего временное основание и часть модели, соответствующей толщине издели , отдел ют.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884489308A SU1666582A1 (ru) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU884489308A SU1666582A1 (ru) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1666582A1 true SU1666582A1 (ru) | 1991-07-30 |
Family
ID=21402133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU884489308A SU1666582A1 (ru) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1666582A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2525004C2 (ru) * | 2009-03-13 | 2014-08-10 | Ниварокс-Фар Са | Форма для гальванопластики и способы ее изготовления |
-
1988
- 1988-10-03 SU SU884489308A patent/SU1666582A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР Мг 645990, кл. С 25 D 1/10, 1977. В чеславов П.М., Вол нюк Г,А. Электролитическое формование. Л.: Машиностроение, 1979, с. 20-22. Авторское свидетельство СССР № 72558, кл. С 25 D 1/10, 1946. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2525004C2 (ru) * | 2009-03-13 | 2014-08-10 | Ниварокс-Фар Са | Форма для гальванопластики и способы ее изготовления |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4971665A (en) | Method of fabricating orifice plates with reusable mandrel | |
CA1247552A (en) | Process of electroforming a metal product and an electroformed metal product | |
CA1078324A (en) | Method for producing regular electronickel or s nickel rounds from electroplating baths giving highly stressed deposits | |
Bacher et al. | Fabrication of LIGA mold inserts | |
JPH0253518B2 (ru) | ||
US3853714A (en) | Process for electroforming microparts having hollow interiors | |
US3577330A (en) | Process for producing electrorefined nickel having controlled size | |
US3726770A (en) | Electrodeposition process for producing perforated foils with raised portions at the edges of the holes | |
JPH06220683A (ja) | 三次元形状の型用電鋳殻及びその製造方法 | |
SU1666582A1 (ru) | Способ изготовлени матрицы дл гальванопластического получени перфорированных изделий | |
US3649474A (en) | Electroforming process | |
US3445348A (en) | Cellular structure and method of manufacture | |
CN107891255B (zh) | 一种电沉积应力测试片及其制作方法 | |
WO2006112696A2 (en) | Method for electroforming a studded plate and a copy die, electroforming die for this method, and copy die | |
US3560349A (en) | Method of electroforming containers having openings with thick sections at the openings | |
KR910010149B1 (ko) | 전기야금 공정용 전극 | |
CN85100323A (zh) | 生产电铸零件的模具制造法 | |
US3316158A (en) | Foam metal construction and a method for making it | |
US3715286A (en) | Electrorefined nickel of controlled size | |
SU1285067A1 (ru) | Способ нанесени гальванических покрытий на внутреннюю поверхность сквозных полостей изделий | |
CA1081160A (en) | Anodized steel cathode blanks | |
JP2840666B2 (ja) | スクリーン印刷用メッシュ、並びにその製造方法 | |
KR100337007B1 (ko) | 손톱미용줄판의 제조방법 | |
CS214917B1 (cs) | Způsob výroby velkoplošných tvarově složitých povrchů | |
US4169017A (en) | Method of making an electroforming mandrel |