SU1452471A3

SU1452471A3 - Способ гравировани электронным лучом растровых чеек различных размеров на поверхности печатной формы и устройство дл его осуществлени

Info

Publication number: SU1452471A3
Application number: SU823496070A
Authority: SU
Inventors: Байсвенгер Зигфрид
Original assignee: Др-Инж. Рудольф Хелль Гмбх (Фирма)
Priority date: 1981-10-10
Filing date: 1982-09-28
Publication date: 1989-01-15
Also published as: DK444082A; DE3175839D1; EP0076868B1; JPS5872450A; JPS6255987B2; ATE24985T1; EP0076868A1; US4471205A; DD204180A5

Abstract

Изобретение относитс к полиграфическому оборудованию дл гравировани печатных форм и может быть использовано в других област х техники дл сварки, сверлени , гравировани и нагрева электронным лучом. Целью изобретени вл етс обеспечение стабильности гравировани . Одновременно с фокусировкой электронного луча в зоне поверхности печатной формы регулируют масштаб изображени источника зар женных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации. Размер изображени исто тика зар дов устанавливают пропорционально размеру растровой чейки. Электронный луч диафрагмируют до получени практически пр моугольного распределени плотности мощности луча на поверхности. Устройство содержит три длиннофокусные линзы, две динамические линзы, размещенные в первой и третьей длиннофокусных линзах, и апертурную диафрагму . 2 с. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил. i О) С

Description

ел

ю

см

Изобретение относитс к полиграфическому оборудованию дл гравировани печатных форм и может быть использовано в других област х техники дл сварки, сверлени , гравировани и нагрева электронным лучом.

Цель изобретени - обеспечение , стабильности гравировани .

На фиг. 1 представлена схема устройства дл осуществлени способа; на фиг. 2 и 3 - схема гравировани и график распределени плотности луч при гравировании больших растровьгх чеек; на,фиг. 4 и 5 - то же, при гравировании малых растровых чеек.

. Устройство дл гравировани электронным лучом растровых чеек различных размеров на поверхности печатной формы содержит (фиг. 1) длиннофокус- ные линзы I, 2 и 3 и апертурную диафрагму 4, размещенные по ходу электроного луча между источником 5 электронов и печатной формой 6. В линзах 1 и 3 размещены динамические линзы 7 и 8.

Способ реализуют следующим образо При возбуждении линзы 7 измен етс на незначительную величину рассто ние изображени от первой длинно- фокусной линзы 1. Масштаб изображени комбинации линз 1 и 7 при этом также измен етс на незначительную величину . Так как изображение источника 5 электронов с помощью комбинации линз 1 и 7 представл ет объект второй ко- роткофокусной линзы 2, то незначительное осевое смещение первого промежуточного изображени ведет к большому изменению масштаба изображени линзы 2. Масштаб изображени комбинации линз 3 и 8 измен етс из-за смещени второго промежуточного изобра- жени на небольшую величину. Возни- кающа из-за этого ошибка в положении фокуса на поверхности печатной формы 6 может компенсироватьс путем регулировки динамической линзы 8. . Пример. Если линза 1 уменьшает в три.раза и линза 7 не возбуждаетс , то втора короткофокусна линза 2 может быть отрегулирована так, что она образует масштаб изображени , равный 1. Если линза 3 затем образует масштаб изображени , равный 4, то общее уменьшение равно 12. На фиг. I получающийс ход луча изображен сплошными лини ми. Если возбудить теперь размещенную в линзе

0

1 линзу 7, то первое промежуточное изображение становитс ближе к комбинации линз 1 и 7. Одновременно становитс больше рассто ние второй короткофокусной линзы 2 от объекта. Это означает, что короткофокусна линза 2 имеет теперь при неизменном возбуждении масштаб изображени , например, равный 3. Общий масштаб уменьшени устройства изменилс в результате до 36. Получающийс ход луча изображен на фиг. 1 пунктирной линией.

Если за короткофокусной линзой 2 размещаетс апертурна диафрагма 4, то дополнительно осуществл етс модул ци масштаба изображени , а также модул ци энергии излучени . Благодар этому можно гравировать с почти одинаковой плотностью мощности как малые, так и большие- чейки.

Услови фокусировки в точке воздействи луча показаны дл больших чеек на фиг. 2 и 3, дл малых чеек - на фиг. 4 и 5.

На фиг. 3 и 5 обозначены: L - плотность мощности излучени ; г - радиус в точке воздействи .На фиг.2- 5 даны размеры в качестве примерных данных.

Изобретение обеспечивает очень быстрое изменение масштаба изображени . Врем регулировки при переходе от сильного к слабому уменьшению и наоборот составл ет приблизительно 1 МКС.

Форму

ла изобретени

. эп д

50

5

1. Способ гравировани электронным лучом растровьк чеек различных размеров на поверхности печатной формы, заключающийс в том, что растровые чейки изготавливают путем воздействи посто нно направленного на поверхность дефокусируемого электронного луча, фо1 усируют его в зоне поверхности и регулируют длительность его воздействи , отличающийс тем, что, с целью обеспечени стабильности гравировани , одновременно с фокусированием регулируют масштаб изображени источника зар женных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации, причем размер изображени источника зар женШ /////////////// / Фие.1

//777,

М

Фив. 2

Л

Фиг. 5

///////)(// ///,

Фие.Н

Claims

Формула изобретения

1. Способ гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы, заключающийся в том, что растровые ячейки изготавливают путем воздействия постоянно направленного на поверхность дефокусируемого электронного луча, фокусируют его в зоне поверхности и регулируют длительность его воздействия, отличающийся тем, что, с целью обеспечения стабильности гравирования, одновременно с фокусированием регулируют масштаб изображения источника заряженных частиц на поверхности печатной формы в зависимости от заданной тоновой градации, причем размер изображения источника заряжен3 пых частиц устанавливают пропорционально размеру растровой ячейки.
2. Способ по π. 1, отличающийся тем, что удаленные от оси лучи диафрагмируют до получения почти прямоугольного распределения плотности мощности как для больших, так и для малых растровых ячеек.
3. Устройство для гравирования электронным лучом растровых ячеек различных размеров на поверхности печатной формы, содержащее источник электронов и размещенную по направле нию электронного луча основную систе му линз, отличающееся 5 тем, что, с целью обеспечения стабильности гравирования, оно снабжено по меньшей мере двумя дополнительными системами линз и апертурной диафрагмой, при этом дополнительные сис10 темы линз и апертурная диафрагма размещены последовательно по направлению электронного луча между источником электронов и основной системой линз. .

Фиг.1

I

Фие. У