[go: up one dir, main page]

SU1314401A1 - Method of cutting monocrystal ingots - Google Patents

Method of cutting monocrystal ingots Download PDF

Info

Publication number
SU1314401A1
SU1314401A1 SU853909697K SU3909697K SU1314401A1 SU 1314401 A1 SU1314401 A1 SU 1314401A1 SU 853909697 K SU853909697 K SU 853909697K SU 3909697 K SU3909697 K SU 3909697K SU 1314401 A1 SU1314401 A1 SU 1314401A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cutting
abrasive
tool
plane
ingot
Prior art date
Application number
SU853909697K
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Дмитрий Николаевич Гулидов
Виталий Юрьевич Харламов
Борис Львович Эйдельман
Владимир Михайлович Звероловлев
Владимир Леонидович Приходько
Юрий Васильевич Щуркин
Original Assignee
Московский институт электронной техники
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московский институт электронной техники filed Critical Московский институт электронной техники
Application granted granted Critical
Publication of SU1314401A1 publication Critical patent/SU1314401A1/en

Links

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к обработке материалов резанием, в частности к резке слитков полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза или сфарелита на пластины. Целью изобретени   вл етс  повышение качества отрезаемых пластин за счет уменьшени  их прогиба. Способ заключаетс  в том, что примен ют режущий инструмент, содержащий на разных сторонах режущей кромки абразивные зерна разного размера и/или разной твердости. Слиток полупроводникового материала, у которого по образующей сделан базовый срез, ориентируют по плоскости (110), закрепл ют его на станке так, чтобы базовый срез располагалс  перпендикул рно направлению рабочей подачи режущего инструмента. Тогда направление абразивного воздействи  на одной стороне отрезаемой пластины будет идти вдоль 112 , а на другой - вдоль I12j. Инструмент устанавливают так, чтобы движение более крупного абразива происходило по плоскости Ll l 2 , § (Л 00 N NThe invention relates to the processing of materials by cutting, in particular, to the cutting of ingots of semiconductor materials with a diamond-like or safarelit-type lattice into plates. The aim of the invention is to improve the quality of cut plates by reducing their deflection. The method consists in using a cutting tool containing abrasive grains of different size and / or hardness on different sides of the cutting edge. An ingot of semiconductor material, in which a base cut is made along a generatrix, is oriented along the plane (110), is fixed on the machine so that the base cut is arranged perpendicular to the direction of the working feed of the cutting tool. Then the direction of the abrasive effect on one side of the cut plate will go along 112, and on the other along I12j. The tool is installed so that the movement of a larger abrasive occurs on the plane Ll l 2, § (L 00 N N

Description

1one

Изобретение относитс  к обработке материалов резанием и может быть использовано дл  разделени  слитков монокристаллических полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза сфалерита на нластины.The invention relates to the processing of materials by cutting and can be used for the separation of ingots of single-crystal semiconductor materials with a sphalerite diamond type lattice into nlastinas.

Цель изобретени  - повышение качества пластин после резки за счет уменьшени  их деформации, экономи  материала за счет уменьшени  суммарной глубины нарушенных слоев.The purpose of the invention is to improve the quality of the plates after cutting by reducing their deformation, saving the material by reducing the total depth of the broken layers.

Способ реализуетс  при разделении монокристаллических слитков полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза и сфалерита на пластины по плоскости (111) или разориентирован- ной от нее но оси lTO. Способ включает ориентированное закрепление монокристаллического слитка так, что абразивное воздействие режущей кромки инструмента совпадает с направлением типа . Резку слитка провод т инструментом, режуща  кромка которого содержит абразивные зерна разного размера и/или разной твердое ,ти на разных сторонах отрезного инструмента . Слиток располагают при ориентировании так, чтобы при резке направление движени  более крупного или твердого абразива совпадало с плоскостью 112, а более мелкого или менее твердого - с llZ.The method is implemented by separating single-crystal ingots of semiconductor materials with a diamond and sphalerite-type grating into plates along the (111) plane or the lTO axis disoriented from it. The method includes oriented fixing of the single-crystal ingot so that the abrasive effect of the cutting edge of the tool coincides with the direction of the type. The ingot cutting is carried out with a tool, the cutting edge of which contains abrasive grains of different sizes and / or different hard grains on different sides of the cutting tool. The ingot is positioned when oriented so that when cutting, the direction of movement of the larger or harder abrasive coincides with the plane 112, and the smaller or less hard plane coincides with llZ.

Размер основной фракции абразивны зерен на разных сторонах инструмента должен находитьс  в соотношении 1:0,4-1:0,6, В качестве твердого абразива берут алмаз, а в качестве м гкого - сапфир, или корунд. После установки круга относительно слитка производ т его резку .The size of the main fraction of abrasive grains on different sides of the tool should be in the ratio of 1: 0.4-1: 0.6. Diamond is taken as a solid abrasive, and sapphire, or corundum as a soft abrasive. After setting the circle relative to the ingot, it is cut.

Глубина деформированной области существенным образом зависит от кристаллографической ориентации направлени  абразивного воздействи . При на- правлении движени  абразивных частиц вдоль достигаетс  максимальна  склерометрическа  твердость, а минимальна  соответствует противоположному направлению типа ll2j.The depth of the deformed area substantially depends on the crystallographic orientation of the direction of the abrasive effect. With the direction of movement of the abrasive particles along, maximum sclerometric hardness is achieved, and the minimum corresponds to the opposite direction of type ll2j.

Если вдоль хрупкого направлени  типа ll2J движутс  более крутгные или твердые абразивные зерна, а вдол более пластичного направлени  типа 1121 - более мелкие или менее твердые абразивные зерна, глубина нарушений выравниваетс  и пластины не подвергаютс  излишнему короблению. Так как согласно экспериментальньмIf more blunt or hard abrasive grains move along brittle directions such as ll2J, and smaller or less hard abrasive grains go along with a more ductile direction like 1121, the depth of the breaks is equalized and the plates are not subject to excessive distortion. Since according to the experimental

данным глубина нарушенного сло  на различных сторонах пластин, отрезанных с вектором абразивного воздействи  ll2j, отличаетс  на 40-60%, тоthe depth of the broken layer on different sides of the plates, cut with the abrasive vector ll2j, differs by 40-60%,

размер основных фракций абразивных зерен также должен находитьс  в соотношении 1:0,4-1:0,6,the size of the main fractions of the abrasive grains should also be in the ratio of 1: 0.4-1: 0.6,

Если в качестве абразивных материалов использовать разнотипный абразив: алмаз и корунд или сапфир, то дл  достижени  однородности приповерхностных нарушений оптимальное . Соотношение размеров основных фракций абразивных зерен должно лежатьIf a different type of abrasive is used as abrasive materials: diamond and corundum or sapphire, then to achieve uniformity of near-surface irregularities is optimal. The size ratio of the main fractions of the abrasive grains should lie

в интервале 1:1-1:О,8.in the range of 1: 1-1: O, 8.

Применение режущего инструмента с абразивными зернами различной твердости наиболее целесообразно дл  резки слитков пластичных полупроводниковых материалов, в частности, некоторых соединений А В , поскольку в этом случае снилсаетс  максимальна  глубина нарушений приповерхностных областей отрезаемых пластин. Кроме того, использование данного инструмента позвол ет снизить себестоимость процесса резки, так как в качестве абразивных зерен меньшей твердости могут быть использованы отходы производства подложек сапфира при нарезании последних из монокристаллов.The use of cutting tools with abrasive grains of varying hardness is most appropriate for cutting ingots of plastic semiconductor materials, in particular, some AB compounds, since in this case the maximum depth of violations of the surface areas of the cut plates is reduced. In addition, the use of this tool allows to reduce the cost of the cutting process, since the production waste of sapphire substrates can be used as abrasive grains of lower hardness when cutting the latter out of single crystals.

II

Claims (1)

Формула изобретени Invention Formula Способ резв:и монокристаллических слитков полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза и сфалеритаThe way rezv: and single-crystal ingots of semiconductor materials with a lattice such as diamond and sphalerite Q на пластины по плоскости (111) или разориентированной от нее по оси , при котором ориентируют и закрепл ют монокристаллический слиток таким образом, чтобы абразивное воз действие режущей кромки инструмента совпадало с направлением типа 112 и режут слиток отрезным абразивным инструментом, отличающийс  тем, что, с целью повышени  чества отрезаемых пластин за счетQ onto the plates along the (111) plane or axially misoriented from it, in which the single-crystal ingot is oriented and fixed so that the abrasive effect of the cutting edge of the tool coincides with the type 112 direction and cuts the ingot with a cutting abrasive tool, characterized in that in order to increase the quality of cut plates due to уменьшени  их прогиба, резку провод  инструментом, содержаш м на разных сторонах абразивные зерна разного . размера и/или разной твердости, приreducing their deflection; cutting the wire with a tool containing abrasive grains of different sizes on different sides. size and / or different hardness, with 55 этом слиток при ориентировании располагают так, чтобы направление движени  более крупного или более твердого абразива совпадало с плоскостью 1 12J , причем размер основньпс55 this ingot during orientation is positioned so that the direction of movement of the larger or more solid abrasive coincides with the plane 1 12J, and the size of the base 313144014313144014 фракций абразивных зерен берут из качестве менее твердого - сапфир или соотношени  1:0,4-1:0,6, в качестве корунд с соотношением эернистостей твердого абразива берут алмаз, а в 1:1 - 1:0,8.fractions of abrasive grains are taken from less hard - sapphire or 1: 0.4-1: 0.6 ratio, diamond is taken as corundum with the ratio of hardness of hard abrasive, and 1: 0.8 in 1: 1.
SU853909697K 1985-06-13 1985-06-13 Method of cutting monocrystal ingots SU1314401A1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853909697A SU1314400A1 (en) 1985-06-13 1985-06-13 Method of cutting monocrystal ingots

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1314401A1 true SU1314401A1 (en) 1987-05-30

Family

ID=21182329

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853909697K SU1314401A1 (en) 1985-06-13 1985-06-13 Method of cutting monocrystal ingots
SU853909697A SU1314400A1 (en) 1985-06-13 1985-06-13 Method of cutting monocrystal ingots

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853909697A SU1314400A1 (en) 1985-06-13 1985-06-13 Method of cutting monocrystal ingots

Country Status (1)

Country Link
SU (2) SU1314401A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 991877, кл. Н 01 L 21/302, 1981. *

Also Published As

Publication number Publication date
SU1314400A1 (en) 1987-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7464702B2 (en) Method of producing III-nitride substrate
US4445300A (en) Method for grinding flat plates
US4697489A (en) Ultramicrotome tool
JPH0443228B2 (en)
EP1484792A1 (en) Method for grinding rear surface of semiconductor wafer
SU1314401A1 (en) Method of cutting monocrystal ingots
US10957597B2 (en) Semiconductor substrate die sawing singulation systems and methods
JP2003159642A (en) Work cutting method and multi-wire saw system
JPS629864A (en) Machining method by multi-blade saw
JP2002075923A (en) Machining method of silicon single-crystal ingot
GB2149330A (en) Machining of workpieces consisting of brittle/friable materials
JP3625408B2 (en) Machining method using multi-wire saw
US20020033171A1 (en) Holding unit for semiconductor wafer sawing
US4187827A (en) Process for multiple lap cutting of solid materials
SU1622141A1 (en) Method of cutting monocrystalline ingots of semiconductors into plates
US6390889B1 (en) Holding strip for a semiconductor ingot
SU1735023A1 (en) Cutting tool for splitting semiconductor plates into crystals
SU990539A1 (en) Diamond tool for working stone-like materials
SU1127920A1 (en) Method for treating single crystals
JPS6427859A (en) Method for grinding hard and brittle material
RU2103166C1 (en) Method of tile production
RU2032248C1 (en) Method of separation of single-crystal ingots into laminations
SU1761521A2 (en) Method of cutting monocrystals
SU1699781A1 (en) Method for diamond cutting of hard and brittle materials
RU2167055C1 (en) Method for cutting of monocrystals and other brittle materials