SU1314401A1 - Method of cutting monocrystal ingots - Google Patents
Method of cutting monocrystal ingots Download PDFInfo
- Publication number
- SU1314401A1 SU1314401A1 SU853909697K SU3909697K SU1314401A1 SU 1314401 A1 SU1314401 A1 SU 1314401A1 SU 853909697 K SU853909697 K SU 853909697K SU 3909697 K SU3909697 K SU 3909697K SU 1314401 A1 SU1314401 A1 SU 1314401A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cutting
- abrasive
- tool
- plane
- ingot
- Prior art date
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 4
- 239000010431 corundum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к обработке материалов резанием, в частности к резке слитков полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза или сфарелита на пластины. Целью изобретени вл етс повышение качества отрезаемых пластин за счет уменьшени их прогиба. Способ заключаетс в том, что примен ют режущий инструмент, содержащий на разных сторонах режущей кромки абразивные зерна разного размера и/или разной твердости. Слиток полупроводникового материала, у которого по образующей сделан базовый срез, ориентируют по плоскости (110), закрепл ют его на станке так, чтобы базовый срез располагалс перпендикул рно направлению рабочей подачи режущего инструмента. Тогда направление абразивного воздействи на одной стороне отрезаемой пластины будет идти вдоль 112 , а на другой - вдоль I12j. Инструмент устанавливают так, чтобы движение более крупного абразива происходило по плоскости Ll l 2 , § (Л 00 N NThe invention relates to the processing of materials by cutting, in particular, to the cutting of ingots of semiconductor materials with a diamond-like or safarelit-type lattice into plates. The aim of the invention is to improve the quality of cut plates by reducing their deflection. The method consists in using a cutting tool containing abrasive grains of different size and / or hardness on different sides of the cutting edge. An ingot of semiconductor material, in which a base cut is made along a generatrix, is oriented along the plane (110), is fixed on the machine so that the base cut is arranged perpendicular to the direction of the working feed of the cutting tool. Then the direction of the abrasive effect on one side of the cut plate will go along 112, and on the other along I12j. The tool is installed so that the movement of a larger abrasive occurs on the plane Ll l 2, § (L 00 N N
Description
1one
Изобретение относитс к обработке материалов резанием и может быть использовано дл разделени слитков монокристаллических полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза сфалерита на нластины.The invention relates to the processing of materials by cutting and can be used for the separation of ingots of single-crystal semiconductor materials with a sphalerite diamond type lattice into nlastinas.
Цель изобретени - повышение качества пластин после резки за счет уменьшени их деформации, экономи материала за счет уменьшени суммарной глубины нарушенных слоев.The purpose of the invention is to improve the quality of the plates after cutting by reducing their deformation, saving the material by reducing the total depth of the broken layers.
Способ реализуетс при разделении монокристаллических слитков полупроводниковых материалов с решеткой типа алмаза и сфалерита на пластины по плоскости (111) или разориентирован- ной от нее но оси lTO. Способ включает ориентированное закрепление монокристаллического слитка так, что абразивное воздействие режущей кромки инструмента совпадает с направлением типа . Резку слитка провод т инструментом, режуща кромка которого содержит абразивные зерна разного размера и/или разной твердое ,ти на разных сторонах отрезного инструмента . Слиток располагают при ориентировании так, чтобы при резке направление движени более крупного или твердого абразива совпадало с плоскостью 112, а более мелкого или менее твердого - с llZ.The method is implemented by separating single-crystal ingots of semiconductor materials with a diamond and sphalerite-type grating into plates along the (111) plane or the lTO axis disoriented from it. The method includes oriented fixing of the single-crystal ingot so that the abrasive effect of the cutting edge of the tool coincides with the direction of the type. The ingot cutting is carried out with a tool, the cutting edge of which contains abrasive grains of different sizes and / or different hard grains on different sides of the cutting tool. The ingot is positioned when oriented so that when cutting, the direction of movement of the larger or harder abrasive coincides with the plane 112, and the smaller or less hard plane coincides with llZ.
Размер основной фракции абразивны зерен на разных сторонах инструмента должен находитьс в соотношении 1:0,4-1:0,6, В качестве твердого абразива берут алмаз, а в качестве м гкого - сапфир, или корунд. После установки круга относительно слитка производ т его резку .The size of the main fraction of abrasive grains on different sides of the tool should be in the ratio of 1: 0.4-1: 0.6. Diamond is taken as a solid abrasive, and sapphire, or corundum as a soft abrasive. After setting the circle relative to the ingot, it is cut.
Глубина деформированной области существенным образом зависит от кристаллографической ориентации направлени абразивного воздействи . При на- правлении движени абразивных частиц вдоль достигаетс максимальна склерометрическа твердость, а минимальна соответствует противоположному направлению типа ll2j.The depth of the deformed area substantially depends on the crystallographic orientation of the direction of the abrasive effect. With the direction of movement of the abrasive particles along, maximum sclerometric hardness is achieved, and the minimum corresponds to the opposite direction of type ll2j.
Если вдоль хрупкого направлени типа ll2J движутс более крутгные или твердые абразивные зерна, а вдол более пластичного направлени типа 1121 - более мелкие или менее твердые абразивные зерна, глубина нарушений выравниваетс и пластины не подвергаютс излишнему короблению. Так как согласно экспериментальньмIf more blunt or hard abrasive grains move along brittle directions such as ll2J, and smaller or less hard abrasive grains go along with a more ductile direction like 1121, the depth of the breaks is equalized and the plates are not subject to excessive distortion. Since according to the experimental
данным глубина нарушенного сло на различных сторонах пластин, отрезанных с вектором абразивного воздействи ll2j, отличаетс на 40-60%, тоthe depth of the broken layer on different sides of the plates, cut with the abrasive vector ll2j, differs by 40-60%,
размер основных фракций абразивных зерен также должен находитьс в соотношении 1:0,4-1:0,6,the size of the main fractions of the abrasive grains should also be in the ratio of 1: 0.4-1: 0.6,
Если в качестве абразивных материалов использовать разнотипный абразив: алмаз и корунд или сапфир, то дл достижени однородности приповерхностных нарушений оптимальное . Соотношение размеров основных фракций абразивных зерен должно лежатьIf a different type of abrasive is used as abrasive materials: diamond and corundum or sapphire, then to achieve uniformity of near-surface irregularities is optimal. The size ratio of the main fractions of the abrasive grains should lie
в интервале 1:1-1:О,8.in the range of 1: 1-1: O, 8.
Применение режущего инструмента с абразивными зернами различной твердости наиболее целесообразно дл резки слитков пластичных полупроводниковых материалов, в частности, некоторых соединений А В , поскольку в этом случае снилсаетс максимальна глубина нарушений приповерхностных областей отрезаемых пластин. Кроме того, использование данного инструмента позвол ет снизить себестоимость процесса резки, так как в качестве абразивных зерен меньшей твердости могут быть использованы отходы производства подложек сапфира при нарезании последних из монокристаллов.The use of cutting tools with abrasive grains of varying hardness is most appropriate for cutting ingots of plastic semiconductor materials, in particular, some AB compounds, since in this case the maximum depth of violations of the surface areas of the cut plates is reduced. In addition, the use of this tool allows to reduce the cost of the cutting process, since the production waste of sapphire substrates can be used as abrasive grains of lower hardness when cutting the latter out of single crystals.
II
Claims (1)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU853909697A SU1314400A1 (en) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | Method of cutting monocrystal ingots |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1314401A1 true SU1314401A1 (en) | 1987-05-30 |
Family
ID=21182329
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU853909697K SU1314401A1 (en) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | Method of cutting monocrystal ingots |
SU853909697A SU1314400A1 (en) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | Method of cutting monocrystal ingots |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU853909697A SU1314400A1 (en) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | Method of cutting monocrystal ingots |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (2) | SU1314401A1 (en) |
-
1985
- 1985-06-13 SU SU853909697K patent/SU1314401A1/en active
- 1985-06-13 SU SU853909697A patent/SU1314400A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 991877, кл. Н 01 L 21/302, 1981. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SU1314400A1 (en) | 1987-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7464702B2 (en) | Method of producing III-nitride substrate | |
US4445300A (en) | Method for grinding flat plates | |
US4697489A (en) | Ultramicrotome tool | |
JPH0443228B2 (en) | ||
EP1484792A1 (en) | Method for grinding rear surface of semiconductor wafer | |
SU1314401A1 (en) | Method of cutting monocrystal ingots | |
US10957597B2 (en) | Semiconductor substrate die sawing singulation systems and methods | |
JP2003159642A (en) | Work cutting method and multi-wire saw system | |
JPS629864A (en) | Machining method by multi-blade saw | |
JP2002075923A (en) | Machining method of silicon single-crystal ingot | |
GB2149330A (en) | Machining of workpieces consisting of brittle/friable materials | |
JP3625408B2 (en) | Machining method using multi-wire saw | |
US20020033171A1 (en) | Holding unit for semiconductor wafer sawing | |
US4187827A (en) | Process for multiple lap cutting of solid materials | |
SU1622141A1 (en) | Method of cutting monocrystalline ingots of semiconductors into plates | |
US6390889B1 (en) | Holding strip for a semiconductor ingot | |
SU1735023A1 (en) | Cutting tool for splitting semiconductor plates into crystals | |
SU990539A1 (en) | Diamond tool for working stone-like materials | |
SU1127920A1 (en) | Method for treating single crystals | |
JPS6427859A (en) | Method for grinding hard and brittle material | |
RU2103166C1 (en) | Method of tile production | |
RU2032248C1 (en) | Method of separation of single-crystal ingots into laminations | |
SU1761521A2 (en) | Method of cutting monocrystals | |
SU1699781A1 (en) | Method for diamond cutting of hard and brittle materials | |
RU2167055C1 (en) | Method for cutting of monocrystals and other brittle materials |