SE516722C2 - Förfarande och apparat för plasmabehandling av gas - Google Patents
Förfarande och apparat för plasmabehandling av gasInfo
- Publication number
- SE516722C2 SE516722C2 SE9901527A SE9901527A SE516722C2 SE 516722 C2 SE516722 C2 SE 516722C2 SE 9901527 A SE9901527 A SE 9901527A SE 9901527 A SE9901527 A SE 9901527A SE 516722 C2 SE516722 C2 SE 516722C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- gas
- hollow cathode
- plasma
- discharge plasma
- hollow
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/88—Handling or mounting catalysts
- B01D53/885—Devices in general for catalytic purification of waste gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/063—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating electric heating
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
- F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
- F23J15/022—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material for removing solid particulate material from the gasflow
- F23J15/025—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material for removing solid particulate material from the gasflow using filters
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/4697—Generating plasma using glow discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0801—Controlling the process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0816—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes involving moving electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0826—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear
- B01J2219/083—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear cylindrical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/085—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy creating magnetic fields
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0871—Heating or cooling of the reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0875—Gas
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0892—Materials to be treated involving catalytically active material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2204/00—Supplementary heating arrangements
- F23G2204/20—Supplementary heating arrangements using electric energy
- F23G2204/201—Plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H2245/00—Applications of plasma devices
- H05H2245/10—Treatment of gases
- H05H2245/15—Ambient air; Ozonisers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E20/00—Combustion technologies with mitigation potential
- Y02E20/12—Heat utilisation in combustion or incineration of waste
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
516 722 2 tiskt taget densamma och närmar sig energin för neutrala delar i det partiellt joniserade plasmat. Gastemperaturen år hög, upp till flertalet tusen grader Celsius, därav termen "termiskt" plasma. Det terrniska plasmat är mycket lämpligt för irreversibla termiska behandlingar, t.ex. för förbränning av fast och flytande avfall eller i plasmametallurgi, etc. Beroende emellertid på jämn uppvärmning av alla delar är energiförbrukningen i det termiska plasma typiskt hög. Vid jämviktsförhållanden är de gasformiga produktema av plasmakemiska reaktioner ofta ostabila beroende på nästa lika sannolikhet för omvända kemiska reaktioner. Icke-jämviktsplasma kan enkelt alstras vid reducerat gastryck. Då är frekvensen lägre och beroende på skilda elektron- och jonmassor (elektronmassan är 9,11 x 10-31 kg, protonmassan är 1,67 x 10-27 kg ) kan elektronema uppnå mycket högre kinetisk energi än jonema.
När plasmat alstras genom ett mycket högfrekvent elektromagnetiskt fält, uppnås effekt huvudsakligen genom rörliga elektroner, medan tunga joner inte kan ens följa ändringar i fältet och rör sig endast beroende på sina termiska energier liksom resten av den neutrala gasen. Detta leder till det plasma i vilket de kemiska reaktionerna är mycket effektiva medan bulkmassan gas förblir relativt kall. Icke-jämviktsplasmat noteras därför ofta som "kallt" plasma. Växelverkan mellan högenergielektroner och gas kan producera extremt reaktiva atomer och radikaler, vilka är i stånd att generera efterföljande kemiska reaktioner som inte är tillgängliga vid normala förhållanden. En mycket hög plasmakemisk aktivitet i sådana plasma kan utnyttjas i olika tillämpningar (se till exempel ett pionjärarbete av F. K. McTaggart: "Plasma Chemistry in Electrical Discharges", Elsevier Amsterdam, 1967). Emellertid på grund av nödvändigheten med pump- system, används inte reducerade icke-järnviktsplasma med lågt tryck för behandling av avfall i industriell skala.
En uppdykande teknologi i detta område är icke-jämviktsplasma med atmosfärstryck. Graden av icke-energijämvikt år lägre än i lågtrycksplasma och beror kraftigt på arrangemanget av individuella reaktorer. Frånvaron av pumpar förenklar emellertid alla system väsentligt och tillåter i princip dessas omedelbara tillämpning för stora gaskapaciteter. Å andra sidan är 516 722 3 verkningsgraden för kända system fortfarande inte tillräckligt hög för deras användning i industriell skala. Icke-jämviktsförhållandena vid atmosfärs- tryck kan uppnås på flertalet sätt. Det mest direkta sättet är en injektion av en elektronstråle i gasen. Elektronstrålen med hög effekt växelverkar med gasen och alstrar icke-jämviktsplasma längs sitt inträngningsdjup. En aHvarlig nackdel med metoden år att den verkar endast i ett begränsat utrymme och att inträngningsdjupet vid atmosfärtryck är tämligen kort.
Vidare år elektronkanonsystemet ganska komplicerat och dyrt och det visar inte tillfredsställande hög energiverkningsgrad. Det vanligare sättet för alstring av icke-jämviktsplasma för gasbehandling är ett högspännings- genombrott i gasen i form av många trådlika strömvägar - plasmaström- ningar. En typisk representant år koronaurladdning mellan skarpkantade eller skarpt spetsade elektroder (katod eller anod) och den jordade motelektroden. Vid en högfrekvent generation (storleksordningar från 1 kHz upp till mer än 1 MHz) och hög spänning (10 - 30 kV), kan motelektroden vara täckt med en dielektrisk vägg (barriär) och då arbetar systemet med en barriärurladdning (även "tyst" urladdning).
En annan mycket sofistikerad reaktor är sammansatt av ett axiellt system av åtminstone ett par (typiskt tre par) av knivskarpa elektroder vända mot varandra med skarpa kanter och anslutna till högspänningsgeneratom, se till exempel det franska patentet nr 2639172 (1988) till H. Lesueur et al..
Ljusbågar, mellan elektroder nära tillsammans, glider över de skarpa kanterna mellan motsatta elektroder och även runt det axiella systemet med elektroder som följer fasrörelsen i en 3-fasgenerator.
Alstringen av lokal flödesström i alla system nämnda ovan tillhandahåller lokala icke-jämviktsplasma när resten av gasen förblir "kall". En stor fördel funnen i korona- och barriärurladdningar är en pulsad alstring, se U.S.
Patent No. 5,603.893 (1997) till M. Gunderson et al.. Pulsen med hög effekt tillåter snabb pumpning av effekten in i flödena och orsakar kraftigt icke- jämviktsplasma vanligen vid början av pulsen med relaxation in i jämviktsvillkoren beroende på både pulsformen och driftcykeln. Fastän alla 516 722 4 dessa system både i stationära och pulsade områden är mycket avancerade är området där gasen växelverkar med flödena inte tillräckligt tät eller av tillräcklig volym (bulk) för behandling av hela gasen som passerar reaktorzonen. Alstring av icke-jämviktsbulkplasma med atmosfärstryck är möjlig genom mikrovågseffekt. Denna typ av generering baseras på mycket hög frekvens (typiskt 2,45 GHz och högre) kopplat med pumpande av effekt direkt till elektroner. Fastän fördelen med mikrovågssystem är en tätare plasmavolym än i fallet med flöden, är väsentliga nackdelar låg verkningsgrad och kort livstid för mikrovågsgeneratorer och begränsade plasmadimensioner (relaterat till vågledarens storlek). Därför betraktas som allvarligaste kandidater för industriell plasmabehandling vid atmosfärstryck, trots sin diskreta flödeskaraktär, fortfarande vara pulsad korona, pulsad barriärurladdning och den glidande bågen.
Icke-jämviktsplasma med hög grad av aktivering kan alstras vid reducerat tryck genom hålkatoder. Efter deras upptäckt av F. Paschen 1916 har hålkatoder används under lång tid som intensiva ljuskällor för atomspek- troskopi. Experiment av Little och von Engel 1954 uppdagade klart princi- pen för en exceptionell hög plasmatäthet och aktivering i hålkatoder genom så kallad "hålkatodeffekt". Denna effekt grundar sig på en speciell geometri i katoden, där motsatta väggar har samma elektriska potential i förhållande till en gemensam anod. I ett likströmarrangemang (DC) av diodgasur- laddning täcks katodvåggen av mörkt katodområde (cathode dark space) i vilket elektroner emitterade från katodytan accelereras mot anoden. Vid den lämpliga "hålgeometrin" när katodsänkeområdena (cathode fall region) för motsatta katodytor är nåra varandra, kan de ernitterade elektronema möta den motsatta regionen med det lika motsatta elektriska fältet för katod- sänkeområdet. Elektroner repelleras därför tillbaka och undergår oscillationer som benämns "pendelelektronrörelse". Denna slags rörelse leder till inneslutning av elektroner och intensifierar deras växelverkan med gasen närvarande i hålkatoden, vilket dramatiskt befrämjar total verkningsgrad för jonisationen och efterföljande effekter och slutar i ett aktivt plasma med mycket hög densitet. Hålkatoder är i stånd att producera elektronstålar som 516 722 5 har energier jämförbara med katodsänkepotentialen och dessutom är deras extraordinära förmåga redan känd även för alstring av olika plasmakemiska reaktioner för tillämpningar huvudsakligen vid ytbehandling. Vidare, på grund av icke-Maxwellska energifördelningar och existensen av elektron- populationer med hög energi emitterar hålkatodurladdningen en intensiv strålning i regioner med UV ( s 300 nm) och VUV (S 200 nm) i stånd att bryta ner de flesta kemiska bindningar och introducera olika fotokemiska reaktioner.
Jämfört med DC-genereringen av hålkatoden, ger en växelström (AC) och speciellt en radiofrekvent generering (RF) ett antal fördelar. I detta fall är den mest positiva kroppen i systemet gasurladdningsplasmat utanför katoden.
Detta plasma kan substituera en "virtuell anod" och är naturligt flexibel i förhållande till vilken som helst katodgeometri. Som en konsekvens uppför sig hålkatoden som en unipolär urladdning (se t.ex. L. Bárdos et al., Surf.
Coat. Technol. 1996 och 1997). AC-genereringen har även en viktig termisk stabiliseringseffekt.
För att uppfylla villkoren för hålkatodeffekten måste avståndet mellan motsatta väggar i katoden vara med lämpligt förhållande till katodsånkans tjocklek, eller rymdladdningsöverdraget i RF-fallet, för att möjliggöra elektronutväxlingen. En av de viktigaste parametrarna är gastrycket, vilket påverkar både katodregionernas tjocklek och elektronrekombinationen genom kollisioner. Därför drivs hålkatoderna typiskt vid reducerade tryck, lägre än storleksordningen 10 Torr. Mycket nyligen rapporterades de cylindriska mobybdenhålkatodema med sluten ände och med diametrar under 0,1 mm arbeta vid lufttryck av 350 Torr w 50 kPa (K.H. Schoenbach et al., Appl. Phys. lett. 1996). Liknande DC-katoder med diametrar av 0,2 - 0,4 mm och djup 0,5 - 5 mm rapporterades upprätthålla kväveurladdning även över atmosfärstryck (> 750 Torr z 100 kPa), se J .W. Frame et al., Appl. Phys.
Lett., 1997. Xenonurladdningar vid atmosfärstryck genererades i en hålkatod med 0,1 mm diameter av A. Al-Habachi och K.H. Schoenbach (Appl. Phys. Lett. 1998) Dessa hålkatodurladdningar vid likström var i stånd 516 722 6 att producera intensiva UV och VUV eximeremissioner. Grupper av mikro- hålkatodema med sluten ände har använts i UV-lamptillämpningar, se U.S.
Patent No. 5,686,729 (1995) till K.H. Schoenbach et al.
Inga arbeten, arrangemang eller resultat har ännu befunnits publicerade med avseende på användningen av hålkatoder för behandling av flödande gas eller för passivisering av nedsmutsande och giftiga gasblandningar vare sig vid atrnosfärstryck eller vid reducerat tryck. Vidare finns det inga arbeten kända ännu som rapporterar om AC-alstrade hålkatoder eller dithörande reaktorer för detta ändamål vid atrnosfärstryck.
SUMMERING Ett syfte med den föreliggande uppfinningen är därför att komma förbi nackdelarna med den ovan beskrivna teknikens ståndpunkt och tillhanda- hålla ett förfarande och en apparat för plasmabehandling av gas, speciellt för transformering, passivisering och Stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar.
Enligt en första aspekt i enlighet med den föreliggande uppfmningen inne- fattar ett förfarande för plasmabehandling av gas stegen med en flödande gas som skall behandlas via en hålkatod med ett hälkatodurladdnings- plasma som alstras av en generator kopplad till hålkatoden och till en motelektrod. Gasen undergår växelverkan med oscillerande elektroner i hålkatodurladdningsplasmat alstrat i gasen eller i en blandning av gasen och en yttre gas, vid vilket den yttre gasen intensifierar en ultraviolett strålning och /eller plasmakemiska reaktioner. Hålkatodurladdningsplasmat våxelverkar även med hålkatodens innerväggar som har en temperatur under sin smältpunkt, varvid innervägarna kan ha en katalytisk effekt och även kan frigöra delar som gynnar plasmakemiska reaktioner i hålkatod- urladdningsplasmat. Efter att ha behandlats i hålkatodurladdningsplasmat kommer gasen att flöda ut som en transformerad gas. 516 722 i' Enligt en andra aspekt i enlighet med den föreliggande uppfinningen visas en apparat för plasmabehandling av gas i enlighet med förfarandet enligt den föreliggande uppfinningen, speciellt för transformering, passivisering och Stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar. Apparaten innefattar generatororgan, partikelfilterorgan, halvledarbestyckat katalysatororgan och organ för uppvärmning och/ eller kylning. Apparaten består av åtminstone en hålkatod kopplad till organet för uppvärmning och/ eller kylning, varvid katoden har en längd som är längre än avståndet mellan motsatta väggar och är placerad för alstring av ett hälkatodurladdningsplasma med hjälp av generatorn kopplad till hålkatoden och en motelektrod. Motelektroden är placerad som ett inlopp för gasen som skall behandlas i hålkatodurladd- ningsplasmat alstrat i gasen eller en blandning av gasen och en yttre gas, varvid partikelfiltret år kopplat med organen placerade i motelektroden för filtrering av gasen som skall behandlas. Filtret är installerat uppströms gasen före hålkatoden och en utsläckningselektrod kopplad med organet för uppvärmning och/ eller kylning- är installerad nedströms en transformerad gas efter hålkatoden och den halvledarbestyckade katalysatorn för ytterligare behandling av den transfonnerade gasen.
Kännetecknen för det föreliggande förfarandet fastställs av det oberoende patentkravet 1 och en ytterligare utföringsforrn fastställs det beroende patentkravet 2, medan kännetecknen för en apparat i enlighet med den föreliggande uppfinningen fastställs genom det oberoende patentkravet 3.
Ytterligare utföringsformer av den föreliggande apparaten fastställs genom de oberoende patentkraven 4 till 11.
KORT BESKRIVNING AV RITNINGARNA Syften, egenskaper och fördelar med den föreliggande uppfmningen som indikerats ovan kommer att bli uppenbara ur beskrivningen av uppfinningen som ges i samband med de bifogade ritningarna i vilka: Fig. 1 är en schematisk representation av förfarandet för plasma- behandling av gas, speciellt för transformering och Stabilisering av Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 Fig. 5 Fig. 6 Fig. 7 516 722 8 nedsmutsande och giftiga blandningar i enlighet med den föreliggande uppfmningen, är en schematisk vy av en utföringsform av en apparat för plasmabehandling av gas, speciellt för transformering, passivisering och Stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar i enlighet med förfarandet beskrivet i den föreliggande uppfinningen, demonstrerar olika geometrier fór integrerade system med hålkatoder för behandling av gas i apparaten enligt den föreliggande uppfinningen, visar i en schematisk vy ett tvärsnitt av ett integrerat system med cylindriska hålkatoder inriktade med ett komplimetârt system som bildar avslutningar med skarpa kanter för att möjliggöra initiering och underhåll av hålkatodurladdningsplasmat, visar i en schematisk vy ett tvärsnitt av ett integrerat system av hålkatoder med konisk form inriktade med ett komplimetårt system som har en uppsättning skarpa koner centrerade i hålkatodema för att möjliggöra initiering och underhåll av hålkatodurladdnings- plasmat, visar i en schematisk vy ett tvärsnitt av ett integrerat system av hålkatoder med motsatt system skarpa spetsar anordnade vid en utsläckningselektrod för att möjliggöra initiering och underhåll av hålkatodurladdningsplasmat, visar i en schematisk vy ett integrerat system av hålkatoder med ett partikelfllter anordnat som en motelektrod, samt 516 722 <2 I Fig. 8 visar slutligen i en schematisk vy en apparat i enlighet med den föreliggande uppfinningen där en transformerad gas används för , efterföljande behandling av ytor.
DETALJERAD BESKRIVNING Med hänvisning till Fig. 1 kommer förfarandet i enlighet med den förelig- gande uppfinningen att beskrivas. En gas 1 som skall behandlas flyter genom en hålkatod 2 med ett hålkatodurladdningsplasma 3 alstrat av en generator 4 kopplad till hålkatoden och till en motelektrod 5. Gasen 1 undergår växelverkan med oscillerande elektroner 6 i hålkatodurladdnings- plasmat. Plasmat genereras i den inkommande gasen som skall behandlas eller i en blandning av denna gas och en yttre gas 7. Den yttre gasen kan släppas in för att intensifiera en ultraviolett strålning och/ eller plasma- kemiska reaktioner. Typiska exempel kan vara en eximergas (från eng.: excited dimer), som bildar ett lätt bundet exciterat molekylärt tillstånd av komplex som inte äger ett stabilt grundtillstånd. Förutom halogen-Mimers", till exempel jod, 12, eller klorid C12 kan även ädelgaser som xenon, Xe, eller argon, Ar eller deras blandningar användas för att forma eximerkomplex i plasmatillstånd (se B. Gellert och U. Kogelschatz, Appl. Phys. B52, 1991).
Eximergas orsakar eximerstrålning typiskt i regioner med UV och VUV frambringat inuti hålkatodurladdningsplasmat. Denna strålning kan vara istånd att förstöra de flesta kemiska bindningar och den yttre gasen kan därför spela rollen av en "in-situ" gaskatalysator i hålkatodurladdnings- plasmat under behandlingen av gasen. Hålkatodurladdningsplasmat växel- verkar med hålkatodens innerväggar 8, som kan bli heta på grund av jonbombardemang och måste behållas under sin smältpunkt. Innerväggar- nas yta kan ha en katalytisk effekt om katodmaterialet eller en väggbelägg- ning väljs på riktigt sätt. Typiskt katalytiskt material är platina, Pt, men även andra metaller och oxider kan väljas beroende på förväntad katalytisk effekt. På grund av jonbombardemang kan även hålkatodens innerväggar frigöra väggdelar 9 som främjar plasmakemiska reaktioner i hålkatodurladd- ningsplasmat. Denna typ av katalys kan vara synnerligen viktig i en total verkningsgrad för gasbehandlingen i hålkatodurladdningsplasmat i enlighet 516 722 IO med den föreliggande uppfinningen. Efter att ha behandlats i hålkatod- urladdningsplasmat flyter gasen ut som en transformerad gas 10.
Med hänvisning till Fig. 2 kommer att beskrivas en utföringsform av apparaten för plasmabehandling av gas i enlighet med förfarande beskrivet i den föreliggande uppfinningen. Åtminstone en hålkatod 2 används och är kopplad till organet 20 för uppvärmning och/ eller kylning och har en längd 1 1 längre än ett avstånd mellan motsatta väggar 8. Ett lämpligt förhållande mellan denna längd ll och avståndet mellan väggarna 8D (bredd) skall överstiga en faktor två. Den passande bredden för katoden kunde företrädesvis vara mindre än l mm. Väggarna 8 kunde antingen vara sammansatta av eller överdragna med ett katalysatormaterial. Katoden är placerad för generering av ett hålkatodurladdningsplasma 3. Detta plasma alstras av en generator 4 kopplad till hålkatoden och en motelektrod 5, varvid motelektroden fördelaktigt kunde tjäna som ett inlopp för en gas l som skall behandlas. Även om både DC- och AC-generatorer kan användas skall för ändamålet med denna uppfmning en AC-generator tillhandahålla effekt med hög frekvens. Högre frekvenser, till exempel radiofrekvenscr upp till 100 MHz är gynnsamma för alstring av icke-jämviktsplasma, i vilket endast elektroner är i stånd att följa ändringar i fältet och absorbera dess energi. Pulsad effekt år också lämplig för alstring av kemiskt aktivt icke- jåmviktsplasma. Hålkatodurladdníngsplasmat alstras antingen i gasen som skall behandlas eller i en blandning av denna gas och en yttre gas 7.
Partikelfiltret 15 kan installeras i motelektroden och är placerat för mekanisk filtrering av gasen 1. Partikelfiltret är kopplat med organet för uppvärmning och/ eller kylning. Förvärmning av gasen genom filtret kan fördelaktigt öka kemiska reaktioner under gasbehandlingen i hålkatodur- laddningsplasmat. En släckelektrod 13 är installerad nedströms gasen efter hålkatoden. Släckelektroden är placerad för att sakta ner kemiska reaktioner i gasen som flödar efter behandlingen i hålkatodurladdningsplasmat och för att stabilisera en del resulterande produkter. Släckelektrodens temperatur är mycket viktig och elektroden är därför kopplad till organet för uppvärmning och/ eller kylning. Den halvledarbestyckade katalysatorn ^l4 är 516 722 II placerad för ytterligare behandling av den transformerade gasen som flödar från hålkatodurladdningsplasmat. Ett parameterdetektorsystem 18 kan installeras för detektion av parametrar för hålkatodurladdningsplasmat, till exempel via optisk emission. Detektorn kan användas via en lämplig återkopplingselektronikkrets för styrning av generatom 4. Vidare kan ett utloppsparameterdetektorsystem 19 installerat i den transforrnerade gasen 10 användas i ett avancerat arrangemang för styrning av partikelfiltrets optimala temperatur, respektive hålkatoden och släckelektroden. Behand- lingen av gas 1 i hälkatodurladdningsplasmat 3 kan förstärkas genom ett magnetiskt fält alstrat av magneter 2 1.
Med hjälp av figurerna 3 till 8 kommer ett antal utföringsformer för den föreliggande apparaten att diskuteras. Med hänvisning till Fig. 3 kommer ett första exempel att beskrivas, som hänför sig till förfarandet och apparaten i enlighet med den föreliggande uppfinningen visad i Fig. 1 och Fig. 2. Den schematiska figuren visar olika lärnpliga geometrier för integrerade system 22 med hålkatoder 2 för behandling av gas. Fig. 3(a) visar cylindriskt system med en grupp av cylindriska hålkatoder. Fig. 3(b) visar ett rektangulärt system med rektangulära hålkatoder. Notera att en sådan geometri kan sättas ihop som ett flerskiktssystem av metallgaller. Fig. 3(c) visar det cylindriska systemet med en grupp av parallella rektangulära hålkatoder.
Fig. 3(d) visar rektangulära system med parallella rektangulära hålkatoder.
Fig. 3(e) är ett cylindriskt system med koncentriska hålkatoder och slutligen är Fig. 3(í) ett cylindriskt system med en insatt struktur ort av plan metallfolie och lindad metallfolie placerade ovanpå varandra och rullade till en cylinderform.
Med hänvisning till Fig. 4 kommer en utföringsforrn att beskrivas som hänför sig till förfarandet och apparaten i enlighet med den föreliggande uppfm- ningen. En schematisk figur visar ett tvärsnitt av ett integrerat system 22 av cylindriska hålkatoder inriktade med ett komplimetärt system 23 som bildar katodavslutningar med skarpa kanter. Båda systemen kan tillverkas och inriktas genom standarmetoder i mikromekanik. De skarpa kanterna i, 516 7.22 12 förstärker alstringen av urladdningen vid höga gastryck, till exempel genom bildandet av en plasmafackla som möjliggör initieringen och underhållet av hålkatodurladdningsplasmat.
Med hänvisning till Fig. 5 kommer en annan utföringsform att beskrivas, som hänför sig till förfarandet och apparaten i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Den schematiska figuren visar ett tvärsnitt av ett integrerat system 22 med hålkatoder 2 med konisk form inriktade med ett kompletterande system 23 med en uppsättning skarpa koner centrerade i hålkatoderna. Båda systemen kan tillverkas och inriktas genom standard- metoder i mikromekanik. De skarpa konerna producerar hög elektrisk fältintensitet och möjliggör initiering och underhåll av hålkatodurladd- ningsplasmat.
Med hänvisning till Fig. 6 kommer ytterligare en utföringsforrn att beskrivas, som hänför sig till förfarandet och apparaten i enlighet med den föreliggande uppfinningen. Den schematiska figuren visar ett tvärsnitt av ett integrerat system 22 med hålkatoder med ett motsatt system skarpa spetsar 25 arrangerade vid slâckelektroden 13. Slåckelektroden är i detta fall arrangerad som en motelektrod kopplad till generatorns 4 motpol. En hög spänning pålagd mellan varje spets 25 och kanterna av en motsatt vänd hålkatod 2 orsakar gasgenombrott och kan alstra trådforrniga urladdningar av en koronatyp. Denna urladdning möjliggör iriitiering och underhåll av hålkatodurladdningsplasmat. Vidare kan systemet arbeta som ett hybrid- plasmasystem med hålkatod- och koronaurladdningar för behandling av gasen. Den transforrnerade gasen 10 kommer att flöda genom ett system av hål 26 som tillhandahålls i släckelektroden 13.
Med hänvisning till Fig. 7 kommer ytterligare en utföringsform att beskrivas som hänför sig till förfarandet och apparaten i enlighet med uppfinningen.
Den schematiska figuren visar en enkel schematisk vy av ett integrerat system 22 med hålkatoder med partikelfiltret anordnat som motelektrod och kopplat till generatorn 4. Det skall noteras att förutom hylsan 5, i 516 722 /3 släckelektroden 13 (se Fig. 6) och partikelfiltret kan motelektroden även ha rollen som en halvledarbestyckad katalysator 14 (visad i Fig. 2), eller alla V respektive komponenter tillsammans eller deras kombinationer.
Slutligen med hänvisning till Fig. 8 kommer att beskrivas ett exempel pä användning av förfarandet och apparaten i enlighet med den föreliggande uppfinningen för behandling av ytor. Den schematiska figuren visar en enkel schematisk vy av ett arrangemang liknande det i Fig. 7, där den transformerade gasen är en plasmaaktiverad gas lämplig för efterföljande behandling av en yta 27 vänd mot det integrerade systemet 22 med hålkatoder 2 nedströms gasflödet. I detta fall kan släckelektroden 13 och den halvledarbestyckade katalysatorn (visad i Fig. 2) utelämnas. Ytan 27 kan vara i fast eller flytande tillstånd. Emellertid kan även beaktas en behandling av "gasfomiiga ytor" (t.ex. andra gaser) med den transformerade gasen 10 från apparaten i enlighet med den föreliggande uppfinningen.
Det uppñnningsmåssiga förfarandet samt apparaten för plasmabehandling av gas, speciellt för transfonnering, passivisering och stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar är fördelaktig för att tillämpas vid rengöring av stora mängder rökgaser från industriell produktion, till exempel, när arrangerad i multimodulära system av filter. Enstaka moduler med integrerade system med hålkatoder tillverkade med mikromekanik- teknologi är lämpliga för plasmaefterbehandlíng av avgaser från motorer som dieselmotorer, turbiner, etc. Gasbehandlingen i enlighet med uppfinningen kan även användas för produktion av aktiverad gas för efterföljande behandling av stationära eller rörliga ytor. Plasmafilter i enlighet med uppfinningen kan även tjäna i slutliga eller integrerade rengöringssteg vid konventionella rengörings- och filtersystem.
Det kommer att inses av fackmannen att olika modifikationer och ändringar kan göras av den föreliggande uppfinningen utan avsteg från dess ande- mening och omfattning som definieras av de bifogade patentkraven.
Claims (11)
1. Förfarande för plasmabehandling av gas, speciellt för transfor- mering, passivisering och Stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar, vid gastryck överstigande 100 Torr, kännetecknat av stegen: införande av en flödande gas (l) som skall behandlas via en hålkatod försedd med en motelektrod (5), alstring av ett hålkatodurladdningsplasma (3) med en generator (4) kopplad till en hålkatod (2) varvid den flödande gasen (1) kommer att undergå växelverkan med oscillerande elektroner (6) i hålkatodurladd- ningsplasmat som alstras i den flödande gasen, styrning av hålkatodurladdningsplasmats växelverkan med hål- katodens innerväggar (8), varvid innerväggarna har en temperatur under sin smältpunkt, varigenom innerväggarna kan tillhandahålla en katalytisk effekt och även kan frigöra väggdelar (9) som gynnar plasmakemiska reaktioner i hålkatodurladdningsplasmat, uttömning av den flödande gasen som en transformerad gas (10) efter att ha behandlats i hålkatodurladdningsplasmat.
2. Förfarande enligt krav 1, kännetecknat av det ytterligare steget att blanda den flödande gasen (1) som skall behandlas med en yttre gas (7) för att erhålla en lämplig blandnig av gas, varvid den yttre gasen intensifierar ultraviolett strålning och/ eller plasmakemiska reaktioner.
3. Apparat för plasmabehandling av gas, speciellt för transformering, passivisering och Stabilisering av nedsmutsande och giftiga blandningar, innefattande generatororgan, partikelfilterorgan, halvledarbestyckat kata- lysatororgan och organ för uppvärmning och/ eller kylning, kännetecknad av att apparaten innefattar åtminstone en hålkatod (2) ansluten till ett första organ (20) för uppvärmning och/ eller kylning, varvid hålkatoden har en längd (ll) längre än ett avstånd (12) mellan motstående väggar (8) och placerad för alstring av ett hålkatodurladdningsplasma (3) med hjälp av generatororganet (4) kopplat till hålkatoden och till en motelektrod (5), samt 10 l5 20 25 30 51615722 * motelektroden vidare är placerad som ett inloppsorgan för en flödande gas (1) som skall behandlas i hålkatodurladdningsplasmat alstrat i denna flödande gas, partikelfilterorganet (15) är kopplat till ett andra organ (16) för uppvärmning och / eller kylning som är placerat i motelektroden för filtrering av den flödande gasen som skall behandlas, varvid filterorganet är installerat uppströms den flödande gasen för hålkatoden samt en släckelektrod (13) kopplad till ett ytterligare organ (17) för uppvärmning eller kylning installerat nedströms en transformerad flödande gas (10) efter hålkatoden och en halvledarbestyckad katalysator (14) för ytterligare behandling av den transformerade flödande gasen.
4. Apparat enligt krav 3, kännetecknad av att den flödande gasen (1) som går in i hålkatoden blandas med en yttre gas (7), vilken intensifierar ultraviolett strålning och/ eller plasmakemiska reaktioner.
5. Apparat enligt krav 3 eller 4, kännetecknad av ett parameterdetektorsystem (18) arrangerat för detektion av parametrar för hålkatodurladdningsplasmat och för styrning av generator- organet (4), samt ett utloppsparameterdetektorsystem (19) i den transformerade flödande gasen (10) för styrning av generatororganet (4).
6. Apparat enligt krav 5, kännetecknad av att ett magnetfält alstras av ett magnetorgan (21), för ytterligare förstärkning av hålkatodurladdnings- plasmat (3).
7. Apparat enligt något av föregående krav 5 eller 6, kännetecknad av att åtminstone ett integrerat system (22) innefattande hålkatoder är installerat i motelektroden (5).
8. Apparat enligt något av krav 7, kännetecknad av att det integrerade systemet (22) är inriktat med åtminstone ett komplementärt 10 20 516 722 16 o n o o n u | ø n oo system (23) som bildar katodavslutningar med skarpa kanter för möjliggörande av initialisering och underhåll av hålkatodurladdnings- plasmat.
9. Apparat enligt krav 8, kännetecknad av att hålkatoder i det integrerade systemet är inriktade med det komplementära systemet som bildar skarpa koner (24) centrerade i hålkatoderna för möjliggörande av initialisering och underhåll av hålkatodurladdningsplasmat.
10. Apparat enligt något av föregående krav 8 eller 9, kännetecknad av att en släckelektrod (13) tillhandahålls med hjälp av skarpa spetsar vända mot hålkatoderna och möjliggörande initialisering och underhåll av hålkatodurladdningsplasmat, släckelektroden (13) vidare är försedd med hål för ett gasutflöde (26), samt släckelektroden är kopplad till generatororganet.
11. Apparat enligt något av krav 10, kännetecknad av att partikel- filterorganet (15) är kopplat till generatororganet (4) för att tjäna som motelektrod tillsamman med eller istället för motelektroden (5).
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE9901527A SE516722C2 (sv) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | Förfarande och apparat för plasmabehandling av gas |
US09/303,574 US6238629B1 (en) | 1999-04-28 | 1999-05-03 | Apparatus for plasma treatment of a gas |
SE0000167A SE516336C2 (sv) | 1999-04-28 | 2000-01-20 | Apparat för plasmabehandling av ytor |
JP2000614707A JP4699614B2 (ja) | 1999-04-28 | 2000-04-27 | プラズマ処置理方法及び装置 |
EP00925836A EP1177714B1 (en) | 1999-04-28 | 2000-04-27 | Method and apparatuses for plasma treatment |
PCT/SE2000/000791 WO2000065887A1 (en) | 1999-04-28 | 2000-04-27 | Method and apparatuses for plasma treatment |
AU44464/00A AU4446400A (en) | 1999-04-28 | 2000-04-27 | Method and apparatuses for plasma treatment |
US09/825,330 US6524538B2 (en) | 1999-04-28 | 2001-04-04 | Method and apparatus for plasma treatment of gas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE9901527A SE516722C2 (sv) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | Förfarande och apparat för plasmabehandling av gas |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE9901527D0 SE9901527D0 (sv) | 1999-04-28 |
SE9901527L SE9901527L (sv) | 2000-10-29 |
SE516722C2 true SE516722C2 (sv) | 2002-02-19 |
Family
ID=20415383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE9901527A SE516722C2 (sv) | 1999-04-28 | 1999-04-28 | Förfarande och apparat för plasmabehandling av gas |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6238629B1 (sv) |
SE (1) | SE516722C2 (sv) |
Families Citing this family (75)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002292273A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-08 | Canon Inc | プラズマ反応装置及びプラズマ反応方法 |
EP1361437A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-12 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | A novel biological cancer marker and methods for determining the cancerous or non-cancerous phenotype of cells |
US20060062930A1 (en) * | 2002-05-08 | 2006-03-23 | Devendra Kumar | Plasma-assisted carburizing |
US7465362B2 (en) * | 2002-05-08 | 2008-12-16 | Btu International, Inc. | Plasma-assisted nitrogen surface-treatment |
US20050233091A1 (en) * | 2002-05-08 | 2005-10-20 | Devendra Kumar | Plasma-assisted coating |
US7498066B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-03-03 | Btu International Inc. | Plasma-assisted enhanced coating |
US7494904B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-02-24 | Btu International, Inc. | Plasma-assisted doping |
US7638727B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-12-29 | Btu International Inc. | Plasma-assisted heat treatment |
US7445817B2 (en) * | 2002-05-08 | 2008-11-04 | Btu International Inc. | Plasma-assisted formation of carbon structures |
US7560657B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-07-14 | Btu International Inc. | Plasma-assisted processing in a manufacturing line |
US20060228497A1 (en) * | 2002-05-08 | 2006-10-12 | Satyendra Kumar | Plasma-assisted coating |
US20060233682A1 (en) * | 2002-05-08 | 2006-10-19 | Cherian Kuruvilla A | Plasma-assisted engine exhaust treatment |
US20060057016A1 (en) * | 2002-05-08 | 2006-03-16 | Devendra Kumar | Plasma-assisted sintering |
US20060237398A1 (en) * | 2002-05-08 | 2006-10-26 | Dougherty Mike L Sr | Plasma-assisted processing in a manufacturing line |
US7497922B2 (en) * | 2002-05-08 | 2009-03-03 | Btu International, Inc. | Plasma-assisted gas production |
CN1304103C (zh) * | 2002-05-08 | 2007-03-14 | 达纳公司 | 等离子体辅助碳结构的形成 |
AU2002325215A1 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-11 | Leonhard Kurz Gmbh And Co. Kg | Method of decorating large plastic 3d objects |
DE10243269A1 (de) * | 2002-09-18 | 2004-03-25 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Abgasnachbehandlung und Vorrichtung hierzu |
US20040223882A1 (en) * | 2002-09-27 | 2004-11-11 | Ulrich Bonne | Micro-plasma sensor system |
US20050035085A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Stowell William Randolph | Apparatus and method for reducing metal oxides on superalloy articles |
JP2006000699A (ja) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Canon Inc | ガス処理方法およびその装置 |
US20080118410A1 (en) * | 2004-10-28 | 2008-05-22 | Takatoshi Furukawa | Exhaust Gas Cleaner |
US20080129208A1 (en) * | 2004-11-05 | 2008-06-05 | Satyendra Kumar | Atmospheric Processing Using Microwave-Generated Plasmas |
US7740810B2 (en) * | 2004-12-14 | 2010-06-22 | Carrier Corporation | Photocatalyst protection |
US20060153747A1 (en) * | 2005-01-13 | 2006-07-13 | Carrier Corporation | Gas treatment adsorption-oxidation system |
US7594935B2 (en) * | 2005-02-15 | 2009-09-29 | Warila Jeffery W | Prosthetic device contouring and alignment method and apparatus |
US7502109B2 (en) | 2005-05-17 | 2009-03-10 | Honeywell International Inc. | Optical micro-spectrometer |
NO326571B1 (no) * | 2005-06-16 | 2009-01-12 | Sinvent As | Fremgangsmate og reaktor for fremstilling av karbon nanoror |
US20090308730A1 (en) * | 2005-07-29 | 2009-12-17 | Shah S Ismat | Hollow cathode plasma source for bio and chemical decotaminiation of air and surfaces |
US7622088B2 (en) * | 2005-09-15 | 2009-11-24 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Rapid activation catalyst system in a non-thermal plasma catalytic reactor |
KR100719900B1 (ko) * | 2005-11-11 | 2007-05-18 | 한국기계연구원 | 농축 플라즈마 방식 배출입자 처리장치 |
KR100853428B1 (ko) * | 2005-11-30 | 2008-08-21 | 주식회사 엘지화학 | 회전식 플라즈마를 이용한 가스전환장치 |
DE102006011312B4 (de) | 2006-03-11 | 2010-04-15 | Fachhochschule Hildesheim/Holzminden/Göttingen - Körperschaft des öffentlichen Rechts - | Vorrichtung zur Plasmabehandlung unter Atmosphärendruck |
US8444924B2 (en) * | 2006-05-26 | 2013-05-21 | Florida State University Research Foundation, Inc. | Gliding arc electrical discharge reactors with improved nozzle configuration |
US7919053B2 (en) * | 2006-05-26 | 2011-04-05 | Radu Burlica | Pulsed gliding arc electrical discharge reactors |
CN100405879C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-23 | 清华大学 | 基于双气体源的大气压放电冷等离子体发生器 |
DE102006027853B4 (de) * | 2006-06-16 | 2012-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas sowie Verwendung derselben |
GB0612814D0 (en) | 2006-06-28 | 2006-08-09 | Boc Group Plc | Method of treating a gas stream |
US8618436B2 (en) | 2006-07-14 | 2013-12-31 | Ceramatec, Inc. | Apparatus and method of oxidation utilizing a gliding electric arc |
CN100559546C (zh) * | 2006-11-21 | 2009-11-11 | 财团法人工业技术研究院 | 中空式阴极放电装置 |
ITMI20070350A1 (it) * | 2007-02-23 | 2008-08-24 | Univ Milano Bicocca | Metodo di lavorazine a plasma atmosferico per il trattamento dei materiali |
US8350190B2 (en) * | 2007-02-23 | 2013-01-08 | Ceramatec, Inc. | Ceramic electrode for gliding electric arc |
MY154004A (en) * | 2007-05-23 | 2015-04-30 | Southwest Res Inst | Plasma immersion ion processing fro coating of hollow substrates |
US8784657B2 (en) * | 2007-08-07 | 2014-07-22 | Drexel University | Plasma discharge self-cleaning filtration system |
WO2009133189A1 (en) * | 2008-05-02 | 2009-11-05 | Oerlikon Trading Ag, Truebbach | Plasma processing apparatus and method for the plasma processing of substrates |
US7621985B1 (en) * | 2008-05-24 | 2009-11-24 | Adventix Technologies Inc. | Plasma torch implemented air purifier |
US9175381B2 (en) * | 2008-07-09 | 2015-11-03 | Southwest Research Institute | Processing tubular surfaces using double glow discharge |
KR20100032278A (ko) * | 2008-09-17 | 2010-03-25 | 이택홍 | 삼불화붕소 가스의 제조방법 |
CN101752171B (zh) * | 2008-12-10 | 2011-12-07 | 财团法人工业技术研究院 | 阴极放电装置 |
TWI392521B (zh) * | 2009-01-06 | 2013-04-11 | Spencer Szu-Ping Kuo | 電漿火炬空氣淨化器 |
CA2653581A1 (en) * | 2009-02-11 | 2010-08-11 | Kenneth Scott Alexander Butcher | Migration and plasma enhanced chemical vapour deposition |
KR101775608B1 (ko) | 2010-01-21 | 2017-09-19 | 파워다인, 인코포레이티드 | 탄소질 물질로부터의 스팀의 발생 방법 |
CN102026468A (zh) * | 2010-11-23 | 2011-04-20 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 一种介质阻挡电晕放电反应器 |
FR2971433A1 (fr) * | 2011-02-14 | 2012-08-17 | Thibaud Cedric Olivier Emin | Dispositif de separation de gaz a partir de corps chimiques composes |
US8753725B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-06-17 | Southwest Research Institute | Method for plasma immersion ion processing and depositing coatings in hollow substrates using a heated center electrode |
US20120255678A1 (en) * | 2011-04-11 | 2012-10-11 | Lam Research Corporation | Multi-Frequency Hollow Cathode System for Substrate Plasma Processing |
CN102382763A (zh) * | 2011-12-20 | 2012-03-21 | 北京思清源生物科技有限公司 | 一种等离子体微生物诱变育种设备 |
RU2496283C1 (ru) * | 2012-03-11 | 2013-10-20 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) | Генератор широкоаппертурного потока газоразрядной плазмы |
US8870735B2 (en) * | 2012-05-17 | 2014-10-28 | Strategic Environmental & Energy Resources, Inc. | Waste disposal |
EP2874739B1 (en) * | 2012-07-18 | 2018-12-26 | Atlantic Hydrogen Inc. | Electromagnetic energy-initiated plasma reactor systems and methods |
US9677431B2 (en) | 2012-09-05 | 2017-06-13 | Powerdyne, Inc. | Methods for generating hydrogen gas using plasma sources |
US9458740B2 (en) | 2012-09-05 | 2016-10-04 | Powerdyne, Inc. | Method for sequestering heavy metal particulates using H2O, CO2, O2, and a source of particulates |
EP2893326A4 (en) | 2012-09-05 | 2016-05-18 | Powerdyne Inc | PROCESSES FOR PRODUCING FUEL BY MEANS OF HIGH VOLTAGE ELECTRIC FIELDS |
KR20150053781A (ko) | 2012-09-05 | 2015-05-18 | 파워다인, 인코포레이티드 | 고전압 전기장 방법을 사용하는 연료 생성 |
WO2014039719A1 (en) | 2012-09-05 | 2014-03-13 | Powerdyne, Inc. | Fuel generation using high-voltage electric fields methods |
EP2904221A4 (en) | 2012-09-05 | 2016-05-18 | Powerdyne Inc | METHOD FOR GENERATING H2O, CO2, O2 AND A CARBON FACTORY MATERIAL |
US9561486B2 (en) | 2012-09-05 | 2017-02-07 | Powerdyne, Inc. | System for generating fuel materials using Fischer-Tropsch catalysts and plasma sources |
US9121540B2 (en) | 2012-11-21 | 2015-09-01 | Southwest Research Institute | Superhydrophobic compositions and coating process for the internal surface of tubular structures |
US9272238B1 (en) * | 2013-05-10 | 2016-03-01 | Truman Bonds | Plasma generation through ceramic substrate |
BR102014026134B1 (pt) * | 2014-10-20 | 2022-09-27 | Universidade Federal De Santa Catarina | Processo e reator de plasma para tratamento termoquímico de superfície de peças metálicas |
CN106975349B (zh) * | 2017-04-20 | 2019-09-06 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种射频等离子体—催化剂协同作用反应装置 |
EP3931146B1 (en) * | 2019-02-26 | 2024-04-03 | Maat Energy Company | Device and method for improving specific energy requirement of plasma pyrolyzing or reforming systems |
RU2711344C1 (ru) * | 2019-06-10 | 2020-01-16 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ") | Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода |
WO2021022384A1 (en) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | Greenbound Industrial Technologies Inc. | Method and apparatus for cracking hydrocarbons |
FR3115180B1 (fr) * | 2020-10-14 | 2022-11-04 | Peter Choi | Appareil de génération de plasma |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2639172A1 (fr) | 1988-11-17 | 1990-05-18 | Electricite De France | Dispositif de generation de plasmas basse temperature par formation de decharges electriques glissantes |
CA2075789C (en) * | 1992-08-11 | 1998-12-22 | Amir Salama | Inner electrode for an ozone generator, ozone generator containing said electrode and method of use of said ozone generator |
US5492678A (en) * | 1993-07-23 | 1996-02-20 | Hokushin Industries, Inc. | Gas-cleaning equipment and its use |
FR2718550B1 (fr) | 1994-04-11 | 1996-07-26 | Leroux Gilles Sa | Dispositif de comptage de produits. |
US5686789A (en) | 1995-03-14 | 1997-11-11 | Osram Sylvania Inc. | Discharge device having cathode with micro hollow array |
US5603893A (en) | 1995-08-08 | 1997-02-18 | University Of Southern California | Pollution treatment cells energized by short pulses |
US5855856A (en) * | 1996-03-19 | 1999-01-05 | Ozone Sterilization Products, Inc. | Ozone generator and method for ozone generation |
GB9615859D0 (en) * | 1996-07-29 | 1996-09-11 | Boc Group Plc | Processes and apparatus for the scrubbing of exhaust gas streams |
-
1999
- 1999-04-28 SE SE9901527A patent/SE516722C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1999-05-03 US US09/303,574 patent/US6238629B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-04-04 US US09/825,330 patent/US6524538B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE9901527L (sv) | 2000-10-29 |
US6524538B2 (en) | 2003-02-25 |
SE9901527D0 (sv) | 1999-04-28 |
US6238629B1 (en) | 2001-05-29 |
US20010020582A1 (en) | 2001-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE516722C2 (sv) | Förfarande och apparat för plasmabehandling av gas | |
EP1177714B1 (en) | Method and apparatuses for plasma treatment | |
Becker et al. | Microplasmas and applications | |
Eliasson et al. | Nonequilibrium volume plasma chemical processing | |
Nehra et al. | Atmospheric non-thermal plasma sources | |
Kunhardt | Generation of large-volume, atmospheric-pressure, nonequilibrium plasmas | |
Kogelschatz et al. | From ozone generators to flat television screens: history and future potential of dielectric-barrier discharges | |
Bardos et al. | Plasma processes at atmospheric and low pressures | |
Kogelschatz | Applications of microplasmas and microreactor technology | |
Lomaev et al. | Excilamps: efficient sources of spontaneous UV and VUV radiation | |
Kogelschatz | Filamentary, patterned, and diffuse barrier discharges | |
Foest et al. | Microplasmas, an emerging field of low-temperature plasma science and technology | |
Puchkarev et al. | Energy efficient plasma processing of gaseous emission using a short pulse discharge | |
US20060165555A1 (en) | System, method, and apparatus for an intense ultraviolet radiation source | |
JP4378592B2 (ja) | 放電発生装置の制御方法 | |
US7521026B2 (en) | Field-enhanced electrodes for additive-injection non-thermal plasma (NTP) processor | |
JP4923364B2 (ja) | 反応性ガス発生装置 | |
CN201099636Y (zh) | 一种三相交流滑动弧非平衡等离子体污水处理装置 | |
KR20080057257A (ko) | 열 에너지 생성 방법 | |
Akishev et al. | Special issue on recent developments in plasma sources and new plasma regimes | |
Mizuno et al. | Plasma catalysis systems | |
Du et al. | Electrical and spectral characteristics of a hybrid gliding arc discharge in air–water | |
Boulos et al. | Basic concepts of plasma generation | |
Pessoa et al. | Hollow cathode discharges: low and high-pressure operation | |
Chukhlantsev | Development of plasma-generating devices and history of plasma utilization |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |