SE465219B - Saett och anordning foer pyrolytisk belaeggning av glas - Google Patents

Description

465 219 för det avsedda ändamålet och att det är kommersiellt önskvärt att bíldningshastigheten för beläggningsmaterialet bör vara tillräcklig för att bygga upp beläggningstjockleken som önskas även då substratet rör sig med ganska hög hastighet såsom t.ex. kan bestämmas av andra processer i tillverkningsschemat.

Olika faktorer som hänför sig till beläggningsförfarandet har funnits ha inflytande på det sätt på vilket beläggningen bildas på substratet och bland dessa kan nämnas materialets fysikaliska fas av vilket beläggningen bildas och det materialets natur, den energi med vilken materialet bringas att komma i kontakt med substratet och temperaturen i belägg- ningskammaren och hos substratet som belägges.

Det är t.ex. känt att hastigheten med vilken beläggningsreak- tionerna äger rum är temperaturberoende. I allmänhet ju högre temperaturen är desto snabbare byggs en beläggning upp och ju finare är den bildade beläggningens kristallstruktur. En jämn fin kristallstruktur är gynnsam för hög beläggningskvalitet och för hållbarhet.

Därmed har tidigare kända sätt sökt att reglera temperaturen på det varma substratet före beläggningsbildningen och åtgär- der har även företagits för att reglera temperaturen på hela omgivningen inom beläggningskammaren.

Föreliggande uppfinning är baserad på vår upptäckt att belägg- ningskvaliteten kraftigt påverkas av en faktor, som hitintills har förbisetts, nämligen temperaturen på atmosfären omedelbart ovanför substratet i zonen där beläggningsbildningen börjar.

Enligt föreliggande uppfinning avses ett pyrolytiskt belägg- ningssätt, i vilket ett varmt glassubstrat i skiv- eller band- form förflyttas i en nedströms riktning under en beläggnings- kammare, som öppnar sig nedåt mot substratet och i vilket en beläggning bildas på den övre ytan av substratet från belägg- ningsmaterial och utmärkes av att temperaturen på gasomgiv- ningen i omedelbar närhet av substratets övre yta, åtminstone 3 465 219 i den zon, där sådan beläggning börjar bildas, regleras genom att mata förvärmd gas i en nedströmsriktning in i kammaren för att inträda i kammaren i kontakt med substratet och bilda ett täckande skikt, som täcker substratet åtminstone så långt som den zonen, att beläggningskammaren är i huvudsak stängd i sin nedströmsände för att förhindra utbyte av atmosfäriskt mate- rial mellan beläggningskammarens nedströmsände och ett område ytterligare nedströms av substratvägen och av att över åt- minstone en del av beläggningskammarens längd flöde av atmo- sfäriskt material förbi substratets sidokanter och mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt under substratet för- hindras.

Möjligheten att reglera den gasformiga omgivningen i kontakt med substratet i zonen där beläggningsbildningen börjar är en faktor som hittills har förbisetts. Vi har funnit att det är mycket lättare att reglera förhållandena i ett sådant täck- skikt med den erforderliga graden av precision än det är att reglera hela omgivningen inom beläggningskammaren och det är därvid möjligt att skapa ett allmänt gasflöde i kontakt med substratet från uppströms om zonen där beläggningsbildningen börjar på sådant sätt, att i den zonen det föreligger ett mikroklimat i kontakt med substratytan, som är mottaglig för beläggningsreaktionerna som skall äga rum. För att göra detta är det nödvändigt att reglera eller modifiera atmosfäriska skiktet, som normalt skulle medbringas in i beläggningskam- maren i kontakt med substratet genom att tillföra förvärmd gas, för att så göra skiktet som täcker glaset gynnsamt be- handlat för beläggningsreaktionerna. Detta skiljer sig sär- skilt från vissa tidigare kända tekniker, där det naturligt medbringade gasskiktet störes genom att rikta kraftiga ström- mar av relativt kall gas mot substratet i uppströmsänden av beläggningskammaren. Vidare på grund av att det är relativt lätt att reglera förhållandena inom täckskiktet, är det rela- tivt lätt att justera de förhållandena, t.ex. att kompenera för mindre variationer i beläggningstjockleken, som avsättes under en kontinuerlig produktionsdrift. 465 219 " Utföríngsformer av uppfinningen i vilket det finns ett allmänt nedströmsflöde av beläggningsmaterial ovanför täckskiktet inom beläggningskammaren är särskilt gynnsamt för bildning av hög- kvalitativa beläggningar på grund av den reglering som sålunda utövas över flödet av reaktanter inom beläggningskammarens atmosfär.

Företrädevis upprätthålles ett allmänt nedströmsflöde av gas utmed beläggningskammaren åtminstone genom att avsuga atmo- sfäriskt material från kammaren i dess nedströmsände. I den utsträckning som nedströmsflödet upprätthålles genom sug- krafter alstrade i en i nedströmsänden placerad avgasledning, kommer krafterna som verkar på gasen i uppströmsänden av be- läggningskammaren och de krafter som utövas av gasflödet i uppströmsänden av den kammaren att vara mera diffusa. Man har funnit att detta befordrar en initiell bildning av ett belägg- ningsskikt, som har en fin och enhetlig kristallstruktur i uppströmsänden av beläggningskammaren. Beläggningskristall- strukturen i skiljeytan glas/beläggning, har kraftigt infly- tande på det sätt återstoden av beläggninstjockleken bygges upp då substratet förflyttas utmed beläggningskammaren och är av största betydelse vid bildning av högkvalitativa belägg- ningar.

Ett sätt enligt föreliggande uppfinning ger de största för- delarna, då det utföres inom en i huvudsak sluten beläggnings- kammare, för att så undvika avbrott i täckskiktet av slump- strömmar. Den mest sannolika källan för sådana slumpströmmar är faktiskt nedströmsänden av beläggningskammaren. Därmed vid speciellt föredragna utföringsformer av uppfinningen är be- läggningskammaren väsentligen sluten i sin nedströmsände för att förhindra utbyte av atmosfäriskt material mellan belägg- ningskammarens nedströmsände och ett ytterligare nedströmsom- råde av substratvägen. Sådan tillstängning kan t.ex. åstadkom- mas genom en avgasledning sträckande sig tvärs över hela bred- den på beläggningskammaren i dess nedströmsände. Användningen av detta särdrag har även den fördelen att undvika varje ut- spädning eller förorening av atmosfären i beläggningskammarens 465 21.9 nedströmsände från det ytterligare nedströmsområdet och det förhindrar beläggningskammaratmosfärens strömmar från att hindra någon ytterligare behandling av substratet och från att avsätta något ytterligare oönskat material på beläggningen nedströms om beläggningskammaren.

Vid särskilt fördelaktiga utföríngsformer av uppfinningen, ut- göres glassubstratet av ett just bildat band av varmt glas och beläggningen bildas efter det att bandet lämnar en bandbild- ningsanläggning och före dess inträde i en kylkanal. Belägg- ninskammaren kan sålunda vara placerad på ett ställe där glaset i alla fall har en temperatur lämplig för att de pyro- lytiska beläggningsreaktionerna skall äga rum, så att kost- nader för omvärmning av glaset till en sådan temperatur und- vikes eller väsentligt minskas. Det är även viktigt att be- läggningen bör äga rum inom en kammare, som är fysiskt skild från bandbildningsanläggningen å ena sidan och kylkanalen å den andra sidan. Om det ej finns någon sådan skillnad och det är vanligt i tidigare kända förslag inom detta område att be- läggningen äger rum inom kylkanalens längd, då skulle atmo- sfäriska förhållandena inom beläggnigskammaren ha en benägen- het att störas av gasströmmar som strömmar från kylkanalen och från bandbildningsanläggningen - sådana strömmar medbringar ofta damm och andra föroreningar, som skulle kunna komma att ingå i beläggningen som defekter - och även skulle det före- ligga en risk att det atmosfäriska strömmarnas mönster i kyl- kanalen skulle störas och därmed leda till mindre gynnsamma kylförhållanden.

Beroende på tryckförhållandena ovanför och under substratet vid beläggningskammaren, kan det föreligga en tendens för atmosfären att strömma uppåt underifrån substratet förbi dess sidor där det skulle kunna utspäda den med beläggningsmaterial bemängda atmosfären ovanför substratet. Detta kan leda till bildning av beläggningsavsättningar, som är tunnare vid substratkanterna än de är över den mittre delen av substratet, med resultat att en viss del av bredden på det belagda substratet uppvisar oacceptabel kvalitet. Alternativt kan det 465 219 finnas en tendens för den beläggningsbemängda atmosfären att strömma under substratet, där det sannolikt skulle avsätta en icke önskad beläggning på dess undre yta. Beroende på de atmo- sfäriska strömmarnas flödesmönster i och under beläggningskam- maren, kan denna icke önskade beläggning vara mer eller mindre regelbunden, men så tunn att det ger anledning till höggradigt misshagliga interferenseffekter, t.ex. kan den vara en mer eller mindre regelbunden beläggning, vars tjocklek avtar mot centrum på substratet eller den kan vara ganska oregelbunden beläggning med ett mönster, som av en del tyckes påminna om markeringarna på ett backgammonbräde. För att minska dessa nackdelar, avses vid särskilt föredragna utföringsformer av uppfinningen att över av åtminstone del av kammarens längd, atmosfäriskt materialflöde förbi sidokanterna på substratet och mellan zonerna vertikalt ovanför och vertikalt nedanför substratet förhindras. Vi har funnit genom att handla på detta sätt, kan den användbara belagda bredden ökas, och detta är särskilt värdefullt då man belägger ett just bildat kontinuer- ligt band av glas. Vi har funnit att det sätt på vilket be- läggningsmaterialet införes i beläggningskammaren ej är kritiskt för beläggningskvalitet, t.ex. kan det införas i ång- fasen.

Ett beläggningsmaterial duschas emellertid företrädesvis nedåt och i nedströmsriktningen. Detta underlättar utmatningen av fbeläggningsmaterialet under det att det erbjuder relativt liten störning av täckskiktet, emedan förångat material kommer redan att ha viss rörelseenergi i nedströmsriktningen. Det förlänger även det duschade materialets bana jämfört med vertikal duschning från samma höjd och medger därför mera tid för beläggningsmaterialet att behandlas i beläggningskammaren innan det kommer i kontakt med substratet.

Det föredrages att en beläggningslösníng duschas nedåt in i beläggningskammaren och genom täckskiktet, eftersom detta i högre grad underlättar hantering av stora mängder beläggnings- material som erfordras för att bilda tjocka beläggningar, sär- skilt på sig snabbt rörande substrat. Uppfinningen kan sålunda 465 219 användas för bildning av beläggningar med ganska höga tjock- lekar, t.ex. tjocklekar på 500nm eller mer.

Det är känt att det finns vissa nackdelar förenade med belägg- ningsteknik i flytande fas enligt tidigare känd teknik. Vid sådana tidigare kända tekniker är det mycket svårt att undvika fläckning av den bildade beläggningen beroende på stänk från de duschade små dropparna, då de slår emot substratet. Även då vanliga beläggningstekniker i flytande fas användes, kan kontakt mellan de vanligen stora kvantiteterna beläggningslös- ning som duschas och det varma substratet ge anledning till avsevärda svårigheter, särskilt då beläggningen avsättes på ett just bildat band av varmt glas, emedan det stör en efter- följande kylningsbehandling. Resultatet av detta är att glaset kyles dåligt och i en del fall låses kvarvarande spänningar i glasbandet efter kylning och göres svårt att skära och kan även vara så att det förorsakar bräckage då det skäres till skivor.

För att minska eller eliminera dessa problem avser vissa sär- skilda fördelaktiga utföringsformer av uppfinningen att en duschningszon i beläggningskammaren uppvärmes för att för- orsaka förångning av del av beläggningsmaterialet innan det når substratet för att bemänga atmosfären i sådan zon med för- ångad beläggningslösning; lösningen duschas med tillräcklig energi för att säkerställa säkert anslag av kvarvarande duschat eläggningsmaterial mot substratet för att påbörja be- läggning av substratytan och atmosfären bemängd med belägg- ningsmaterial i ångfasen bringas att strömma i nedströmsrikt- ningen från duschningszonen utmed och i kontakt med den be- lagda substratytan under en kontakttid av åtminstone 10 sekunder, varefter restmaterial i beläggningsmaterialbemängda strömmen ledes bort från substratet.

Vid användning av detta särdrag är det möjligt för en given utmatningshastighet på beläggningsmaterialet att minska styrkan på de strömmar, som kommer att slå an mot glaset i zonen där beläggningsbildníngen börjar. Det är särskilt värde- 465 219 fullt att minska störningar i det täckande atmosfärskiktet i kontakt med substratet och kan leda till bildning av en be- läggning av mycket hög kvalitet. Man finner att en relativt liten kvantitet av det utmatade materialet kan intränga i täckskiktet för bestämt anslag mot glaset, så att täckskiktet kan förbli i stor utsträckning ostört.

Ett sådant sätt är värdefullt för bildning av beläggningar, som uppvisar låg och jämn låg disighet. Detta är särskilt överraskande eftersom det hittills har ansetts nödvändigt att avlägsna beläggningsmaterial och reaktionsproduktångor från substratet så snabbt som möjligt - kontakttider av mellan 2 och 5 sekunder är vanliga i tidigare kända sätt - just för att minska risken för falska avsättningar från dessa ångor, som skulle leda till en ökning i disighet.

Skälen varför användningen av ett sådant sätt skulle gynna bättre beläggningskvalitetsstandard är ej helt klara. En möj- lig förklaring är att en väsentlig del av beläggningens tjock- lek bygges upp från ett beläggningsmaterial i ångfas då substratet förflyttar sig genom passagedelen av beläggnings- kammaren. Ångfasbeläggningstekniker är kända att gynna en fin och enhetlig kristallstruktur i beläggningen. Men detta för- klarar ej varför tillämpningen av sådana utföringsformer av denna uppfinning skulle resultera i bildningen av en belägg- ning, som har en vida mer regelbunden tjocklek än som kan er- hållas genom användning av de vanliga beläggningssätten i ång- fas. En annan möjlig förklaring är att fastän endast en liten andel av beläggningstjockleken bildas från beläggningsmaterial i ångfas, föreligger det en behandling av den just bildade huvuddelen av beläggningen under kontakttiden av åtminstone 10 sekunder under vilken substratet exponeras för beläggnings- ånga, så att kristallstrukturen i beläggningen kan modifieras på ett sätt som är gynnsamt för beläggningskvaliteten och sär- skilt att exponering av den just bildade beläggningen för be- läggningsånga möjliggör eventuella små porer i beläggningen att fyllas och sålunda ge anledning till en hårdare och mera kompakt och vädermotståndskraftig beläggning. 465 219 T.ex. kan föreliggande uppfinning med fördel kombineras med den uppfinning som beskrives i vår brittiska patentansökan 853lH23, inlämnad 20 december 1985, vilken ansökan beskriver och gör anspråk på ett sätt att pyrolytiskt bilda en metall- föreningsbeläggning på en övre yta av ett varmt glassubstrat i skiv- eller bandform under dess transport i en nedströmsrikt- ning utmed en väg genom en beläggningskammare, där åtminstone en ström av beläggningslösníng duschas nedåt mot substratet och utmärkes av att en duschningszon i beläggníngskammaren uppvärmes för att förorsaka förångning av del av beläggnings- materialet före det når substratet och bemänga atmosfären i sådan zon med förångat beläggningsmaterial, lösningen duschas med tillräcklig energi för att säkerställa bestämt anslag av kvarvarande duschat beläggningsmaterial mot substratet för att initiera beläggning av substratytan och atmosfär bemängd med beläggningsmaterial i ångfas bringas att strömma i nedströms riktning från duschningszonen utmed och i kontakt med den be- lagda substratytan under en kontakttid av åtminstone 10 sekunder, varefter kvarvarande mateíal i den med beläggnings- material bemängda strömmen ledes bort från substratet.

Vid vissa andra särskilt föredragna utföringsformer av uppfin- ningen för att bilda en metalloxidbeläggning matas belägg- ningsmateríal och oxiderande gas kontinuerligt in i en bland- ningszon i vilken beläggningsmaterialet och oxiderande gas bringas samman utan att vara i kontakt med substratet och där de utsättes för blandningskrafter för att så skapa en atmosfär omfattande en intim blandning av beläggningsånga och oxide- rande gas och en ström av sådan blandning bringas att strömma kontinuerligt från blandningszonen in i och utmed en passage mot vilken substratytan är exponerad. Återigen minskar detta störning av täckskiktet genom det ut- matade beläggningsmaterialet. Det är faktiskt överraskande att gastäckskiktet över substratet ej verkar som en skärm, och förhindrar sådan ångbemängd atmosfär från att bilda en belägg- ning på glaset. Men en mycket högkvalitativ beläggning kan bildas på detta sätt, förmodligen på grund av att beläggnings- 10 465 219 ångorna kan blandas in i täckskiktet i huvudsak utan att störa dess allmänna flöde.

Det är särskilt överraskande att en sådan blandning ej innebär för tidig bildning av beläggninsreaktionsprodukter, som skulle matas utmed passagen ovanför substratet och falla som falska avsättningar och bilda defekter på eller i beläggningen. Det är även överraskande att bildning av en intim blandning av be- läggningsmaterial och en oxiderande atmosfär inom blandning- zonen och att därefter bringa den blandningen att strömma ut- med passagen i kontakt med substratet är tillräcklig för att uppnå en beläggning, som är väsentligen fri från oförutsebara variationer i dess tjocklek och att det precisa sätt på vilket beläggningsmaterialet införes i beläggningskammaren ej är kritiskt för att uppnå sådan regelbundenhet i tjocklek. Det är värt att anmärka att i motsats till vad som kan förväntas, en sådan blandning lämnar tillräckligt med icke reagerat belägg- ningsmaterial tillgängligt för bildning av en beläggning på substratet, då det materialet strömmar i ångfas nedströms ut- med passagen. Detta står helt i motsats till vad som utlärts inom den tidigare kända tekniken inom detta område.

Vare, därmed hur som helst, vi har funnit att sådana särskilt föredragna utföringsformer av föreliggande uppfinning under- lättar bildningen av beläggningar av hög och jämn kvalitet och möjliggör att bilda sådana beläggningar i en mera regelbunden tjocklek än som hitintills varit möjligt.

Sådana utföringsformer av uppfinningen erbjuder även särskilda fördelar vid bildning av relativt tjocka beläggningar, t.ex. de som har en tjocklek över U00nm. Vi har funnit att snabbt avlägsnande av den ångbemängda atmosfären ej är ett krav för en väsentlig defektfri beläggning, så att mer tid kan medges för att bygga upp beläggningen till en önskad tjocklek.

T.ex. kan föreliggande uppfinning med fördel kombineras med uppfinningen som beskrives i vår brittiska patentansökan 853lü2H, inlämnad 20 december 1985, vilken patentansökning be- 11 45: 24.9 skriver- och gör anspråk på ett sätt att pymlytiskt bilda en metalloxidbeläggning på en övre yta av ett varmt glassubstrat i skiv- eller bandform under dess transport i en nedströms- riktning utmed en väg, som leder under en sig nedåt öppnande beläggningskammare, vid vilket sätt beläggningen bildas från beläggningsånga och en oxiderande gas, som matas i nedströms- riktningen utmed en passage av beläggningskammaren för vilken substratytan exponeras, och utmärkes av att beläggnings- material och oxiderande gas kontinuerligt matas in i en bland- ningszon i vilken beläggningsmaterialet och oxiderande gas bringas tillsammans utan kontakt med substratet och i vilken de underkastas blandningkrafter och så skapa en atmosfär om- fattande en intim blandning av beläggningsånga och oxiderande gas och en ström av sådan blandning bringas att strömma kontinuerligt från blandningszonen in i och utmed passagen i kontakt med substratets övre yta.

Företrädesvis har den gas som bildar täckskiktet förvärmts i större utsträckning än den skulle kunna förvärmas genom värme- överföring från substratet enbart. Det har befunnits särskilt gynnsamt för en hög och jämn beläggningskvalitet att tempera- turen på gaserna inom täckskiktet bör vara hög för att skapa bästa möjliga förhållanden för beläggningsbildningens början.

Detta befordrar även en snabb beläggningsuppbyggnadshastighet.

Ett av de problem på vilken mycken forskning har riktats är variationerna i beläggningstjocklek tvärs över bredden på substratet som belägges. Som ett särskilt exempel på detta problem har man funnit, att då man belägger ett varmt just bildat band av plant glas, att kanterna på bandet belägges med en mindre tjocklek än den mittre bandremsan. Därmed uppfyller dessa kantdelar ej de önskade kvalitetsstandardena och behand- las som skrot. Vi har redan hänvisat till utspädningen av för- beläggníngsmaterialet på sidorna av beläggningskammaren som varande en möjlig orsak till detta fenomen. Forskning på senare tid har lett till slutsatsen att detta även beror på temperaturolikheter tvärs över substratets bredd som belägges.

Det är t.ex. känt att material inom beläggningskammaren har '12 465 219 tendens att svalna mera ju närmare det är sidoväggarna på kam- maren .

Vid särskilt fördragna utföringsformer av uppfinningen har gasen som bildar sidokantdelar på täckskiktet förvärmts i större utsträckning än den har förvärmts i mitten. Såsom angetts föreligger en naturlig värmeförlust inom beläggnins- kammarens sidoväggar och hos någon passage som leder till den kammaren och användningen av detta särdrag åstadkommer en värmebarriär som möjliggör att värmeförlusten kompenseras. Som ett särskilt exempel på fördelarna som kan uppnås genom an- vändningen av detta föredragna särdrag enligt föreliggande uppfinning, har vi lagt märke till att då man belägger ett just bildat band av varmt glas, även om glaset inträder i be- läggningskammaren med en i huvudsak jämn temperaturprofil över dess bredd vid frånvaro av särskild reglering av atmosfären i kontakt med bandet och zonen där beläggningsbíldningen börjar, kan så mycket som en sjättedel av bandbredden på vardera sido- kanten vara av oacceptabel kvalitet och därmed är en tredjedel av totala bandbredden användbar endast som skärvmaterial.

Genom att använda detta särdrag har vi funnit att den använd- bara belagda bredden kan ökas och under optimala driftförhål- landen är det användbara produktutbytet ej begränsat så mycket genom beläggningskvalitet vid bandkanterna som av själva glas- kvaliteten vid dessa kanter. Man bör komma ihåg att beroende på olika faktorer, några centimeter på varje kant av ett glas- band har oregelbunden och oacceptabel optisk kvalitet och måste under alla förhållanden kasseras eller användas som skärv. Åtminstone över substratets sidokanter uppvärmes med fördel gasen i täckskiktet till en temperatur högre än motsvarande hos underliggande kantdelar på substratet. Användningen av detta särdrag resulterar i bildning av en beläggning med för- bättrad optisk kvalitet och hållbarhet och bättre jämnhet i tjockleken, åtminstone på substratets kanter och befordrar kompensation av värmeförlust genom sådana sidoväggar. 13 465 219 ~ Företrädesvis inträder gasen för att bilda täckskiktet belägg- ningskammarens uppströmsände från en intilliggande förkammare.

Detta är ett mycket enkelt sätt att säkerställa förverkligan- det av ett täckskikt av gas, som täcker substratet och som sedan kan medbringas av substratet för att fortsätta i kontakt därmed åtminstone så långt som zonen vid vilken bildningsbe- läggningen börjar. Uppströmsänden på förkammaren är före- trädesvis i huvudsak stängd för att så förhindra flöde av gas in i den förkammaren uppströms ifrån, t.ex. från en bandbild- ningsanläggning, och så att en buffertzon skapas från vilken gas kan matas för att underhålla täckskiktet.

Gasförvärmningen åstadkommes med fördel åtminstone delvis i förkammaren och ovanför substratets nivå. Detta underlättar direkt reglering av temperaturen på gasen som inträder i be- läggningskammaren från förkammaren.

Gas inom förkammaren kan uppvärmas där på något lämpligt sätt, med företrädesvis åstadkommas gasförvärmning i förkammaren medelst brännare, eftersom detta befunnits mest effektivt och medger en lätt och noggrann reglering av värmningen med ett snabbt svar på någon justering av värmningsreglagen.

Förvärmd gas blåses företrädesvis uppåt in på sidorna av för- kammaren underifrån substratets nivå. Detta befordrar kompensation för sidovärmeförluster vid substratets nivå, under det att det har en gynnsam effekt på atmosfäriska för- hållandena som föreligger i förkammaren ovanför substratet, särskilt emedan det tenderar att förhindra kall luft att in- träda genom sidoväggarna vid förkammaren.

Alternativt eller dessutom vid några särskilt föredragna ut- föríngsformer av uppfinningen blåses förvärmd gas in i förkam- maren från nivån ovanför substratet. Detta befinnes befordra ett nedströmsflöde av gas in i och genom beläggningskammaren och det är särskilt fördelaktigt i utföringsformer av uppfin- ningen där förkammaren ej är stängd i dess uppströmsände. lä 465 219 Alternativt eller dessutom är det väldigt fördelaktigt att förvärmd gas blåses nedåt in i förkammaren och sådan gas hind- ras från att strömma ned förbi sidokanterna på substratet.

Detta är ett annat lämpligt sätt att införa förvärmd gas i förkammaren för att reglera atmosfäriska förhållande ovanför substratet.

Vi har redan omnämnt önskvärdheten att utöva reglering på temperaturen i gastäcket, särskilt för att kompensera värme- förluster genom sidoväggarna i beläggningskammaren. Som ett alternativ eller dessutom sätt att utföra sådan kompensation vid några föredragna utföringsformer av uppfinningen använder man sig av att volymflödeshastigheten på gas som bildar täck- skiktet regleras olika tvärs över substratets bredd. Över en väsenlig del av kammarens höjd upprätthålles med för- del atmosfäriskt material i en allmän nedströmsflödesriktning delvis genom att skjuta in en gasström i gaskammaren i ned- strömsriktningen. Användningen av detta särdrag är särskilt gynnsam för att befordra ett allmänt nedströmsflöde av atmo- sfäriskt material inom beläggningskammaren, under det att det atmosfäriska trycket inom kammaren hålles vid en nivå så att det föreligger liten eller ingen tendens för yttre atmo- sfäriskt material att sugas in i kammaren genom eventuella springor i dess väggar, t.ex. beroende på sugning i dess ned- strömsände.

Företrädesvis införes åtminstone en hjälpström av förvärmd gas i beläggningskammaren för att strömma i nedströmsriktningen i eller intill täckskiktet och genom zonen vid vilken belägg- ningsbildningen börjar. En sådan hjälpgasström har fördelen av att öka nedströmsflödesenergin på täckskiktet och/eller att skydda det mot slumpströmmar inom kammaren. Användningen av en sådan ström medger även en relativt fin reglering av tempera- turen och/eller flödeshastigheten på täckskiktet som helhet.

En särskild viktig användning för ett sätt enligt uppfinningen är vid bildning av tennoxidbeläggningar med användning av 15 465 219 tenn(II)klorid som beläggningsmaterial. Tennoxidbelägg- ningarna, som minskar utstrålningen med avseende på långvågig infraröd strålning från ytorna på glasskivor på vilka de an- bringas, användes i stor utsträckning för att minska värme- överföringen från förglasade konstruktioner. Detta är givetvis endast ett exempel på ändamålet för vilket sättet kan an- vändas. Som ett annat exempel kan sättet användas för att bilda en beläggning av titandioxid, av en beläggning av en blandning av oxider, såsom en blandning av kobolt, järn och kromoxider.

Föreliggande uppfinning innefattar även en anordning för att pyrolytiskt bilda en beläggning av en metallförening på en övre yta av ett varmt glassubstrat i skiv- eller bandform, om- fattande en transportanordning för transport av sådant substrat utmed en väg i nedströmsriktningen, en takkonstruk- tion begränsande en beläggningskammare, som öppnar sig nedåt mot vägen och en anordning för att utmata beläggningsmaterial in i kammaren, kännetecknad av att uppströms om beläggnings- kammaren finnes en förkammare, som står i förbindelse med be- läggningskammaren via en inträdesspringa, som delvis begränsas av substratvägen och via vilken gas kan bringas att strömma in i beläggningskammaren för att bilda (då anordningen är i drift) ett täckskikt med en reglerad temperatur, vilket täcker substratets övre yta utmed en första del av kammarens längd och av att en anordning finnes för reglerbar uppvärmning av gasen, som bildar täckskiktet, av att en krökt avgassamlare eller en barriärvägg finnes ovanför substratvägen och sträcker sig tvärs över hela bredden och i huvudsak stänger kammarens nedströmsände och av att över åtminstone en del av kammarens längd en anordning finnes för att hindra flöde av atmosfäriskt material förbi sidorna av substratvägen och mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt nedanför den vägen.

En sådan anordning är särskilt lämplig för bildning av hög- kvalitativa beläggningar med regelbunden tjocklek vid kontinuerligt sätt, t.ex. vid ett sätt såsom ovan beskrivits.

Anordningen kan vara placerad på något lämpligt ställe. En 465 219 16 sådan anordning är särskilt fördelatkig genom att den medger reglering av förhållanden i den zon, där beläggningsbildningen börjar, vilket annars är svårt att modifiera.

Avgasledning är med fördel placerad med en eller flera inlopp i nedströmsänden av beläggningskammaren. Avgasledning placerad där är utomordentligt gynnsam för att alstra sugkrafter att verka på gasen vid uppströmsänden av beläggningskammaren för att upprätthålla ett allmänt nedströmsflöde av material i be- läggningskammaren, under det att man säkerställer att det inte finns någon död zon inom kammaren, där korrosivt beläggnings- material eller reaktionsprodukter kan samlas och att krafterna som utövas på atmosfären vid uppströmsänden av den kammaren kommer att vara ganska diffusa. Man har funnit att detta tenderar att minska någon som helst störning på de atmo- sfäriska strömmarna som existerar i uppströmsänden av belägg- ningskammaren.

Vid de flesta föredragna utföringsformerna av uppfinningen, finnes en krökt avgassamlare, som sträcker sig tvärs över huvuddelen av substratvägen i nedströmsänden av beläggnings- kammaren, vilken delvis begränsar åtminstone ett avgasled- ningsinlopp. En sådan anordning är av enkel konstruktion och är lätt att placera. Användningen av en krökt samlare är sär- skilt värdefull vid styrning av material som skall sugas jämnt in i avgasledningsinloppet och hjälper till att undvika svall av baktryck där, vilket skulle kunna avbryta atmosfäriska strömmarna i passagen. Det är särskilt önskvärt att använda en samlare som sträcker sig tvärs över beläggningskammarens fulla bredd och som är justerbar i höjd ovanför substratvägen, t.ex. medelst en vridbar montering, för att så uppnå maximal stäng- ning av beläggningsstationens nedströmsände.

Vid särskilt föredragna utföringsformer av uppfinningen, är en barriärvägg anordnad ovanför substratväggen, och sträcker sig tvärsöver fulla bredden på och i huvudsak stängande nedströms- änden av beläggningskammaren. En sådan barriärvägg kan exempel vara anordnad medelst en sådan avgassamlare. Detta är ett mycket enkelt sätt att säkerställa att ändringar i förhållan- den omedelbart nedströms om beläggningskammarens slut ej kom- mer att ha någon direkt verkan på förhållanden inom belägg- níngskammaren och vice versa.

Vid särskilt föredragna utföringsformer av uppfinningen är be- läggningsstationen placerad mellan utträdet från en bandbild- ningsanläggníng och inträdet till en kylkanal. Då detta ut- föres, finner man att glaset kan nå beläggningsstationen vid en temperatur, som är eller nära intill den som erfordras för att de pyrolytiska beläggningsreaktionerna skall äga rum. Där- med behöver man vid användning av detta särdrag ej ytterligare värmningsanordningar, såsom skulle erfordras för att höja tempertauren på glaset som skall beläggas från rumstemperatur. Över åtminstone en del av kammarens längd finnes med fördel en anordning för att förhindra flöde av atmosfäriskt material förbi sidorna på substratvägen och mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt under den vägen. Ett sådant icke önskat flöde av atmosfäriskt material skulle kunna förorsaka oregel- bunden avsättning av beläggningsmaterial på övre och/eller undre ytan av substratet, särskilt vid dess sidokanter.

Det föredrages särskilt att beläggningsmaterialutmatnings- anordningen är anordnad att duscha en flytande beläggningslös- ning nedåt och i nedströmsríktningen. En sådan är en mycket enkel anordning för utmatning av relativt stora mängder be- läggningsmaterial, såsom kan erfordras för bildning av ganska tjocka beläggningar och det medger sådan utmatning utan att avbryta det allmänna flödet av atmosfäriskt material utmed be- läggningskammaren i nedströmsriktningen, såsom är gynnsamt för bildning av högkvalitativa beläggningar.

Vid sådana utföringsformer föredrages det särskilt att sådan duschningsanordning är placerad att duscha beläggningslös- ningen in i en duschningszon i beläggningskammaren från en höjd ovanför substratvägen av åtminsone 75 cm; värmningsanord- ningar finnes för att tillföra värme till duschningszonen; 465 219 18 takkonstruktionen begränsar en passagedel av beläggninskam- maren, som leder nedströms från duschningszonen och ger be- läggningskammaren en total längd av åtminstone 2 meter; och att anordningar finnes för att alstra sugkrafter på atmo- sfäriskt material inom sådan passage för att underlätta för sådant material att strömma utmed substratvägen till passagens nedströmsände och att inträda i avgasledningen för att leda sådant material bort från substratvägen.

En anordning som uppvisar dessa särdrag är särskilt användbar.

Sådan anordning är mera ekonomisk att driva än vanlig ångbe- läggningsanordning där allt beläggningsmaterial måste förångas före kontakt med glaset och den är enklare att konstruera än kända duschningsanordningar, särskilt på grund av att proble- men som sammanhänger med stänk och medbringande av stora mängder duschlösning bort från zonen, där beläggningen bildas, lätt kan undvikas genom att säkerställa att den värme som levereras är tillräcklig för att förånga en väsentlig del av det dusbeläggningsmaterialet.

Vid användning av sådan anordning har vi funnit det mycket lättare att bilda beläggningar med hög optisk kvalitet och jämn struktur pålitligt och reproducerbart, även vid höga be- läggningsbíldningshastigheter och utan att framkalla höga värmespänningar i glaset. Särskilt har vi funnit det mycket lättare att bilda beläggningar som har en låg och jämn låg disighetsfaktor.

Givetvis bör för att uppnå sådan reproducerbar hög belägg- ningskvalitet apparaten användas på ett lämpligt sätt, men kombinationen av anordningens särdrag såsom angetts ovan är särskilt gynnsam för att underlätta reglering av förhållanden inom beläggningskammaren. För att uppnå dessa goda resultat har vi funnit att då man använder anordningen är det bäst att reglera förhållanden så att en väsenlig del av beläggningslös- ningen förångas innan den genomtränger täckskiktet för att kontakta substratet, så att täckskiktet ej mycket störes av duschmaterialet och så att atmosfären inom duschningszonen _19 465 219 blir bemängd med beläggningsånga som sedan suges utmed pas- sagen där den förblir i kontakt med substratet.

Man har hittills trott att det är nödvändigt att utmata be- läggningslösningen från ett ställe nära substratet, en dusch- ningshöjd av 30 cm eller mindre är vanlig för att ej förbe- läggningsmaterialet skall få tid att reagera med atmosfären inom beläggningskammaren och bilda reaktíonsprodukter, som skulle kunna avsätta sig på substratet och bildar defekter på beläggningen. Man har även ansett det nödvändigt att utsuga överskottsbeläggningsmaterial och reaktionsprodukter bort från substratet så snart som möjligt, återigen för att förhindra falsk avsättning på substratet och beläggningskammarlängder av 60 cm till 100 cm är representativa för de som återfinnes i den tidigare kända tekniken.

Skälen till varför användningen av sådan anordning skulle gynna hög beläggnínskvalitetstandard är ej helt klar men faktum kvarstår att med hjälp av sådan anordning är vi i stånd att bilda beläggningar med en mera jämn och lägre disighets- faktor än som har varit möjligt tidigare. De bildade belägg- níngarna kan ha en hög optisk kvalitet och en regelbunden och förutserbar tjocklek. Vidare genom att använda sådan anordning är vi i stånd att bilda dessa beläggningar på glassubstrat snabbare och därför till större tjocklekar eller på sig snabbare rörande substrat, än som vi hittills varit i stånd till.

Detta representerar faktiskt ett radikalt avsteg från den tidigare kända teknikens läror inom området pyrolytisk belägg- ningsanordning och det bildar föremål för uppfinningen som be- skrives i vår nämnda brittiska patentansökan, vilken beskriver och gör anspråk på anordning för att pyrolytiskt bilda en metallföreningsbeläggning på en övre yta av ett varmt glas- substrat i skiv- eller bandform omfattande transportanord- ningar för att transportera ett sådant substrat i en ned- strömsriktning utmed en väg, en beläggningsstation omfattande en takkonstruktion, som begränsar en beläggningskammare, som 20 465 219 öppnar sig nedåt över till vägen och anordning för att duscha beläggningslösning in i kammaren nedåt mot substratet, och ut- märkes av att duschningsanordningen är placerad att duscha be- läggningsmaterialet in i en duschningszon i beläggningskam- maren från en höjd ovanför substratsvägen av åtminstone 75 cm, värmningsanordningar finnes för att tillföra värme till dusch- ningszonen; takkonstruktionen begränsar en passagedel i be- läggningskammaren, som leder nedströms från duschningszonen och ger beläggninskammaren en total längd av åtminstone 2 meter; och anordningar finnes för att alstra sugkrafter på atmosfäriskt material inom sådan passage för att underlätta sådant material att strömma utmed substratvägen till ned- strömsänden av passagen och inträda i avgasledning för att leda sådant material bort från substratvägen.

Vid en del föredragna utföringsformer av uppfinningen omfattar beläggningskammaren en passage utmed vilken beläggningsånga och oxiderande gas kan ledas nedströms i kontakt med den övre substratytan under substratets transport och i vilken det finns en anordning som begränsar en blandningszon i vilken förbeläggningsmaterial och oxiderande gas kan bringas tillsam- mans utan kontakt med substratet och blandas till att bilda en atmosfär omfattande en intim blandning av beläggningsånga och oxiderande gas, varvid blandningszonen står i förbindelse med passagen för att medge en ström av sådan intim blandning att strömma utmed passagen från blandningszonen.

En sådan anordning är särskilt lämpad för bildning av hög- kvalitativa beläggningar, som är väsentligen fria från oförut- sägbara tjockleksvariationer, vid höga beläggningsbildnings- hastigheter och vid en kontinuerlig process.

Detta medger återigen minskad störning av täckskiktet från det utmatade beläggningsmaterialet och en mycket högkvalitativ be- läggning kan bildas med användning av denna anordning, förmod- ligen på grund av att beläggningsångorna kan blandas in i täckskiktet i huvudsak utan att störa dess allmänna flöde. 21 465 219 Som ett exempel på sådana utföringsformer, kan en anordning enligt föreliggande uppfinning med fördel även inbegripa en eller flera särdrag av den anordning som visas i vår nämnda brittiska patentansökan, vilken ansökan beskriver och gör an- språk på anordning för att användas vid pyrolytisk bildning av en metalloxidbeläggning på en övre yta av ett varmt glas- substrat i skiv- eller bandform, där anordningen omfattar transportanordning för att transportera ett sådant substrat i en nedströmsriktning utmed en väg och en takkonstruktion som begränsar en beläggningskammare, vilken öppnar sig nedåt över till vägen och omfattar en passage utmed vilken beläggnings- ånga och oxiderande gas kan ledas nedströms i kontakt med en sådan övre substratyta under substratets transport och ut- märker sig av att det finns en anordning som begränsar en blandningszon i vilken beläggningsmaterial och oxiderande gas kan bringas samman ur kontakt med substratet och blandas för att bilda en atmosfär omfattande en intim blandning av belägg- ningsånga och oxiderande gas, varvid blandningszonen står i förbindelse med passagen för att medge en ström av sådan intim blandning av strömmar utmed passagen från blandningszonen.

Det föredrages särskilt att takkonstruktionen uppvisar en markerad sänkning i höjd ovanför substratvägen i nedströms- riktningen för att därvid strypa nedströmsflödet av ånga från utmatningszonen för beläggningsmaterial in i beläggningskam- maren. Användningen av detta särdrag medger en relativt hög uppströmsutmatningszon för att ge gott om rum för god bland- ning av det utmatade beläggningsmaterialet in i atmosfären inom den zonen och vilken kan tjäna som en reservoar för be- läggningsmaterialångor, som sedan tvingas att strömma ned mot substratet för att blandas med täckskiktet och strömma utmed och mot nedströmsänden på beläggningskammaren i en koncentre- rad och jämn ström, som är gynnsam för bildning av belägg- ningsmaterial ur ångfasen.

Företrädesvís är gasförvärmningsanordningen reglerbar för att i olika utsträckning värma gasen som bildar olika delar av täckskiktet utmed substratvägens bredd. Detta medger en finare 22 465 219 reglering av temperaturen på gasen, som kommer att utgöra täckskiktet.

Gasförvärmningsanordningen är med fördel reglerbar för att värma gasen som bildar sídokantdelar av täckskiktet i en större utsträckning än gasen som utgör centrala delarna av skiktet. Detta är gynnsamt särskilt för att medge kompensering för den ökade kylningen av atmosfären inom beläggningskam- maren, som äger rum intill kammarens sidoväggar, för att så befordra att en bredare remsa av substratet, belägges till önskad tjocklek.

Vid föredragna utföringsformer av uppfinningen omfattar skiljeväggen ovanför inträdesspringan en grind för att justera inträdesspringans öppning. Detta ger ett ytterligare medel att reglera förhållandena i gastäckskiktet, som strömmar i belägg- ningskammaren, t.ex. för att variera hastigheten på sådant gasflöde för att passa rådande förhållanden under utmatnings- zonen för beläggningsmaterialet.

Företrädesvis är en sådan grind konstruerad i oberoende rör- ligt anordnade sektioner för att justera inträdesspringöpp- ningen olika tvärs över substratvägens bredd, så att sådan reglering kan åstadkommas oberoende vid olika ställen tvärs över substratets väg, t.ex. vid upptäckt av tjockleksvaria- tioner i den bildade beläggningen.

Vid särskilt föredragna utdragna utföringsformer av uppfin- ningen finnes en anordning för att uppvärma atmosfären inom förkammaren ovanifrån över substratvägens nivå. Detta är en mycket enkel anordning för att direkt påverka temperaturen i täckskiktet av atmosfär i kontakt med substratets övre yta inom förkammaren.

Sådan förkammarvärmninganordning omfattar med fördel brännare, eftersom detta medger mycket verksam värmníngsverkan, enkel justerbarhet, och snabbt svar på varje justering. '23 465 219 Anordningar finnes företrädesvis för att blåsa förvärmd gas in i förkammaren. Detta medger att gasen kan blåsas in i förkam- maren utan eller med minskad värmeförlust till ett substrat däri och det innebär att en tillräcklig tillförsel av gas för att bilda täckskiktet kan tillföras från en mindre förkammare.

Anordningar finnes med fördel för att blåsa förvärmd gas uppåt in i sidorna på förkammaren från under substratvägens nivå.

Detta är en mycket lämplig och verksam anordning för att kompensera värmeförlust genom förkammarens sidoväggar.

Anordning finnes företrädesvis för att blåsa förvärmd gas in i förkammaren i nedströmsriktningen från över substratvägens nivå. Detta är ett annat lämpligt sätt att blåsa förvärmd gas in i förkammaren och det har den ytterligare fördelen att be- fordra ett allmänt nedströmsflöde av gas in i och genom be- läggningskammaren.

Vid vissa föredragna utföringsformer av uppfinningen finnes anordning för att blåsa förvärmd gas nedåt in i förkammaren och för att hindra sådan gas från att strömma ned förbi sido- kanterna på substratvägen. Detta är ännu ett annat lämpligt sätt att blåsa förvärmd gas in i förkammaren för att reglera atmosfären omedelbart ovanför substratspåret.

Vid vissa föredragna utföringsformer av uppfinningen har för- kammaren ett tak, som sluttar nedåt mot överdelen på inträdes- springan. Detta befordrar ett jämnt flöde av gas in i och genom inträdesspringan för att bilda täckskiktet i kontakt med ett substrat på vägen.

Anordning finnes med fördel för att skjuta in en ström av gas i kammaren i nedströmsriktningen för att upprätthålla ett all- mänt nedströmflöde av atmosfärsikt material eller en väsenlig del av kammarens höjd. Sådan anordning hjälper till att upp- rätthålla det atmosfäriska trycket inom beläggningskammaren, och därmed minska sannolikheten att några slumpströmmar av luft kommer att dra in i den kammaren genom dess väggar för 465 219 2"; att störa det önskade mönstret av atmosfäriska strömmar däri och ett sådant allmänt nedströmsflöde hjälper även till att hålla täckskiktet av atmosfär ned mot substratet.

Företrädesvis finnes en anordning för att utmata åtminstone en hjälpström av förvärmd gas in i beläggningskammaren för att strömma i nedströmsriktning i eller intill täckskiktet och genom zonen i vilken beläggningsbildningen börjar. En hjälp- gasström kan därvid alstras för att förstärka täckskiktet och/eller för att skydda det mot slumpströmmar, som kan före- ligga inom kammaren. Användningen av en sådan ström medger även en relativt fin reglering av temperaturen och/eller flödeshastigheten på täckskiktet som helhet.

Uppfinningen kommer nu att beskrivas mera detaljerat med hän- visning till de bifogade schematiska ritningarna över olika föredragna utföringsformer av anordningen enligt uppfinningen och som exempel på specifika sätt enligt uppfinningen utförda med användning av sådan anordning.

På ritningarna visar fig. l till 3 en tvärsektions sidovy av en utföringsform av en beläggningsanordning enligt uppfin- ningen och fig. U visar slutligen en sektion tagen utmed linjen IV-IV i fig. 3.

FIGUR l I fig. l omfattar en anordning för att pyrolytiskt bilda en metallföreningsbeläggning på en övre yta av ett uppvärmt glas- substrat l i skiv- eller bandform transportanordning såsom rullar 2 för att transportera ett substrat i en nedströmsrikt- ning 3 utmed en väg även betecknad med hänvisningsbeteckningen l. Vägen l leder under en beläggningsstation H omfattande en takkonstruktion 5, som begränsar en beläggningskammare 6, vilken öppnar sig nedåt mot substratvägen 1 och ett duschmun- stycke schematiskt visat vid 7 för att duscha en ström av be- läggningslösning in i kammaren 6, i en riktning 8 nedåt mot substratet l. zs 465 219 Duschmunstycket 7 är placerat för att duscha strömmen av be- läggningslösning in i en duschningszon i beläggningskammaren 6. I den visade utföringsformen är duschmunstycket 7 placerat för att duscha beläggningsmaterial, t.ex. från en höjd av åtminstone 75 cm ovanför substratvägen l och företrädesvis åtminstone 1,2 meter och är av en typ väl känd i och för sig.

Munstycket är anordnat att duscha beläggningslösningen i rikt- ningen 8 nedåt mot substratet l och i nedströmsriktningen 3 och är rörligt fram och tillbaka utmed ett spår (ej visat) tvärs över substratvägens bredd.

Vid den visade utföringsformen finnes en värmningsanordning för att tillföra värme till duschningszonen. Sådan värmnings- anordning omfattar nedåt riktade strålvärmare 10 anordnade i taket på duschningszonen 9. Ledning ll finnes för att utmata en ström av förvärmd gas in i duschningszonen 9 i en riktning för att skära den duschade strömmen 8 av beläggningsmaterial.

Ledningen ll har sitt utmatningsmunstycke 12 placerat i den övre halvan av höjden mellan duschmunstycket 7 och substratet 1 och är anordnat att utmata gasströmmen uppströms om belägg- ningsmaterialets duschutmatningsaxel. Utmatningsmunstycket 12 har en mindre bredd än substratvägen l och föres fram och tillbaka tvärs över duschningszonen i tandem med duschmun- stycket 7. Gas utmatad från munstycket 12 är från början riktat i huvudsak horisontellt, tvärs över strömmens 7 av små droppar tvärgående väg för att upprätthålla en cirkulation av gas inom duschningszonen 9.

Den utmatade gasen är lämpligen luft, förvärmd t.ex. till en genomsnittstemperatur i området 300'C till 600°C. Värmarna 10 förorsakar förångning av del av strömmen av duschade små drop- par under deras resa mot substratet l och den så bildade ångan medbringas i strömmen av förvärmd luft som utmatas från mun- stycket 12.

Takkonstruktionen 5 begränsar en passagedel 13 i beläggnings- kammaren 6, som leder nedströms från duschningszonen 9 och ger beläggningskammaren 6 en total längd av åtminstone 2 meter och 465 219 26' företrädesvis en längd av åtminstone 5 meter. I den visade ut- föringsformen inbegriper takkonstruktionen 5 en bryggvägg lä över substratvägen, som går nedåt i huvudsak vertikalt för att begränsa en utträdesspringa 15 i nedströmsänden av duschnings- zonen, och skiljer den zonen från passagen och passagen l3 har en höjd som avtar i nedströmsriktningen från ett maximivärde till utträdesspringan 15. Höjden på utträdesspringan 15 är mindre än hälften av höjden mellan duschmunstycket 7 och substratet l.

I nedströmsänden på passagen 13, suges atmosfäriskt material in i avgasledningen 16 som är försedd med ett inlopp 17, del- vis begränsat av en krökt avgassamlare 18, som sträcker sig ovanför substratets väg l tvärs över hela passagens bredd och i huvudsak stänger till dess nedströmsände för att så väsent- ligen förhindra flöde av atmosfäriskt material in i eller ut ur beläggningskammaren 6 i passagens 13 nedströmsände. Sådan samlare 18 kan valfritt monteras vridbart så att den kan justeras för minimispel i förhållande till substratet l. I nedströmsänden av passagen 13 avsuges atmosfäriskt material även in i sidoavgasledning 19 placerad på vardera sidan om be- läggningskammaren för att underlätta sidospridning av det atmosfäriska materialet som strömmar utmed beläggningskam- maren. Sådan sidoavgasledning 19 sträcker sig faktiskt utmed i huvudsak hela längden på passagen väl in i duschningszonen, nästan upp till dess uppströmsände för att förhindra belägg- ningsångor från att strömma under substratvägen 1.

Beläggningsstationen 4 är placerad mellan utträdet från en bandbildningsanläggning (ej visad), t.ex. en floatvanna och inträde till en kylkanal 20.

En passage från bandbildningsanläggningen till beläggningskam- maren 6 har ett tak 2l och beläggningskammarens uppströmsände bestämmes av en ändvägg 22 från vilken en ändgrind 23 sticker ned och medger spel för substratet l att passera in i belägg- ningskammaren via en ínträdesspringa ZN. 27 465 219 Uppströms om grinden 23 finns en förkammare 25 i vilken värm- ningsanordningar 26 finnes. Sådan värmningsanordning kan vara strålvärmningsanordning och en eller flera brännare eller kan såsom visas omfatta en fenförsedd radiator. En takdel 27 sticker ner från passagetaket och uppströmsändväggen 22 i be- läggningskammaren och bildar ett tak för förkammaren 25, som sluttar nedåt mot inträdesspringan 2H till beläggningskammaren.

Vid drift kommer en halvnaturlig ström av gas att dragas in i uppströmsänden på beläggningskammaren 6 från förkammaren 25, så att gasomgívningen i den omedelbara närheten av den övre ytan på substratet l åtminstone i zonen i vilken beläggnings- bildningen börjar, regleras genom förvärmd gas som matas in i nedströmsriktningen 3 in i kammaren 6 för att inträda i kam- maren i kontakt med substratet l och bilda ett täckskikt, som täcker substratet åtminstone så långt som kontaktzonen med be- läggningsmaterialet.

Verkan av ändväggen 22 och grinden 23 är att reglera höjden på strömmen av atmosfäriskt material, som strömmar in i belägg- ningskammaren 6 från uppströmsriktningen och bildar täckskik- tet, som täcker bandet, så att atmosfäriska förhållanden inom området, där beläggningsbildning börjar lättare kan regleras.

Exempel l Vid en specifik praktisk utföringsform av anordningen, som visas i fig. l är beläggningskammaren 6 något över 3 meter bred för att upptaga glasband med en bredd upp till omkring 3 meter. Takkonstruktionen 5 ovanför duschningszonen 9 i belägg- ningskammaren är just över en meter ovanför bandvägens l nivå och duschningsmunstycket till utmatningsmunstycket 7 för små droppar är nära det takets nivå. Munstycket 7 är anordnat att utmata en konisk ström av små droppar i en riktning 8 i en vinkel av H5' mot det horisontella. Bryggväggen lä vid dusch- ningszonens 9 nedströmsände är skild från beläggningskammarens uppströms ändvägg 22 med ett avstånd av 2,2 meter. Passagen 13 har en höjd som minskar från H0 cm vid utträdesspringan 15 28 465 219 till 25 centimeter vid sin nedströmsände. Längden på den pas- sagen är H,5 meter.

Denna anordning är särskilt konstruerad för bildning av tenn- oxidbeläggningar med utgångspunkt från en lösning av tenn(II)- -klorid som beläggningsmaterial.

Vid användning av sådan anordning bildades en tennoxidbelägg- ning 750 nm tjock på ett 6 mm tjockt floatglasband, som för- flyttades med en hastighet av 8,5 m/min. Glaset inträdde i be- läggningskammaren vid en temperatur av 600'C och beläggnings- materialet som användes var en vattenlösning av tenn(II)- -klorid innehållande ammoniumbiflourid för att dopa jonerna i beläggningen. Denna lösning duschades från munstycket med en hastighet av 220 l/timme under det att munstycket fördes fram och tillbaka tvärs över bandets väg.

Strålníngsvärmare i taket på duschningszonen påkopplades och luft matades genom munstycket 12 med en hastighet av 6000 Nm3/min och ett temperatur av Ä00°C. Som resultat för- ångades en del av strömmen av beläggningsmaterial och lämnade endast en del att fortsätta för definitivt anslag mot glaset.

Den sålunda bildade beläggningsângan medbringades i strömmen av förvärmd luft, som utmatades från munstycket 12, för att strömma genom utträdesspringan 15 och utmed passagen 13 till avgasledningen. I detta exempel användes således även uppfin- ningen bekskriven i vår brittiska patentansökning nr 8531M23.

Sugkrafter alstrades i avgasledningen 16, 19 för att avlägsna omkring 100 000 m3/timme av atmosfäriskt material från be- läggningskammaren till en genomsnittlig temperatur av omkring 350'C sålunda indragande ett täckskikt av gas förvärmd medelst värmare 26 och täckande substratet. Sådan förvärmning åstad- koms genom att uppvärma en fenförsedd radiator till rödvärme.

Dessutom tenderade sidoavsugare 19 att draga in atmosfäriskt material från under bandets nivå varigenom sålunda utbyte av atmosfäriskt material förhindrades mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt under bandvägen. 29 465 219 Man fann att detta gav en exceptionellt fin reglering av atmo- sfären omedelbart ovanför substratet i området där belägg- ningen började bildas. Detta befanns var särskilt gynnsamt genom att ge en regelbunden beläggning av önskad tjocklek och i att det ökade den bredd på bandet över vilken beläggningen bildades till den önskade tjockleken.

Den bildade beläggningen hade som resultat en fin kristall- struktur vid skiljeytan glas/beläggning, vilket befordrade en högkvalitativ jämn beläggningsstruktur och därmed goda optiska kvaliteter och inneslutningen av beläggningsreaktionsprodukter som skulle leda till defekter tenderade att undvikas.

FIGUR 2 I fig. 2 har delar som tjänar analoga funktioner med dem som visas i fig. 1 givits motsvarande hänvisningsbeteckningar.

I duschningszonen 9 vid uppströmsänden av beläggningskammaren 6 saknades värmarna 10 och gasutmatningsledningen ll. En gas- utmatningsledning 27 med en utmatningsspringa 28 sträckande sig över hela bredden på beläggningskammaren finnes för utmat- ning av ytterligare beläggníngsmaterial i ångfas att med- bringas i strömmen av små droppar.

Nedströms om utträdesspringan 15 under bryggväggen lä fort- satte takkonstruktionen 5 och begränsar en passagedel 13 av beläggningskammaren 6, som återigen har minskande höjd.

Taket 5 i passagen 13 är av porös konstruktion och ovanpå denna är en samlingskammare 29 monterad, som kan fyllas med förvärmd luft via ledning 30, för att så införa sådan värmd luft genom taket på passagen 13 och bilda ett barriärskikt mot korrosion av taket där och mot kondensation av beläggnings- ångor på taket.

Utmed passagens 13 längd finnes skärmar 31 vid varje sida av beläggningskammaren, som skjuter ut inåt från sidoväggarna på 465 219 3° beläggningskammaren och över kanterna på substratet l. Dessa skärmar sträcker sig över hela längden på substratvägen som upptas av passagen och sådana skärmar sträcker sig hela vägen till uppströmsänden på förkammaren 25 med avbrott endast i området där de skulle skära strömmen 8 av beläggningsmaterial.

Under uppströmsänden 22 i beläggningskammaren 6 är den verti- kala grinden 23 som visas i fig. l ersatt av en vridbar grind 32, som medger en variabel ínträdesspringa ZÄ, så att hastig- heten med vilken atmosfäriskt material kan dragas in i belägg- ningskammaren från förkammaren 25 för att bilda ett täckskikt där täckande glaset kan regleras lättare. Dessutom finnes en gasutmatningsledning 33 för att utmata förvärmd gas nedåt in i förkammaren för att bilda skiktet av atmosfäriskt material omedelbart ovanför substratet l upp till åtminstone zonen där strömmen av beläggninsmaterial slår an mot glaset. Uppströms- änden av förkammaren är i huvudsak tillsluten av en barriär- vägg 3U.

Anordningen 35 finnes för att utmata gas i substratets l om- givning för att så bilda en kontinuerlig ström som strömmar i nedströmsriktningen 3 under varje kant på substratväggen l och utmed åtminstone del av väglängden som upptas av beläggnings- kammaren 6.

Utmatningsanordningen 35 för utmatning av gas under bandet om- fattar Ä samlingskammare 36 placerade två och två och sträckande sig tvärs över i huvudsak beläggningsstationens H hela bredd. I överdelen av varje samlingskammare 36 är en springa 37 utformad begränsad av en avböjningsläpp 38 så att gas insprutad genom springorna 37 riktas i nedströmsriktningen 3 utmed beläggníngsstationen Ä. Springorna 37 sträcker sig över varje samlingskammares 36 hela längd tvärs över belägg- ningsstationen H. Om så önskas kan sådana springor ersättas av ett flertal munstycken på avstånd från varandra. Såsom visas i fig. 2 är en avböjningsplatta 39 Placerad ovanför samlings- kamrarna 36, så att den injicerade gasen ej utmatas direkt mot substratet l. Samlingskamrarna 36 kan matas med förvärmd gas 31: 465 219 från båda sidor om beläggningsstatíonen U, t.ex. från värme- växlare. Luft kan användas som den utmatade gasen och denna kan lätt värmas genom värmeväxlíng med avgaser från ugnen.

Sådan gas förvärmes företrädesvis till inom 50'C av substratets temperatur då det senare inträder i beläggnings- kammaren 6.

Gas som utmatas under substratet 1 kan avlägsnas från substratets l omgivning genom valfri avgasledning H0 och denna kan vara placerad med sitt inlopp sträckande sig tvärs över under substratvägen t.ex. placerad i överensstämmelse med av- gasinloppet 17 ovanför vägen.

Nära uppströmsänden på beläggningskammaren, just ovanför substratets nivå finnes en hjälpgasutmatningsledning ül för utmatning av förvärmd gas in i kammaren intill substratet att strömma i nedströmsriktningen för att förstärka täckskiktet som matas in i beläggningskammaren förbi grinden 32 för att ytterligare behandla atmosfären i kontakt med substratet, där den först kontaktas av beläggningsmaterialet.

Exempel 2 Anordningen enligt fig. 2 användes för att bilda en tennoxid- beläggning av samma tjocklek som i exempel l på ett glasband av samma tjocklek och som rörde sig med samma hastighet. Be- läggníngsmaterialet som användes var tenn(IV)klorid upplöst i dimetylformamid och detta utmatades från ett duschmunstycke 7 placerat 75 cm ovanför bandet och lutat 30' mot det horison- tella. Tenn(IV)klorídånga utmatades från springan 28. Ångorna som bildades i duschningszonen 9 sögs utmed passagen 13 enbart genom avgasledningen 16 genom frontalsugning och med en hastighet för att ge en beläggning av önskad tjocklek.

Glaset inträdde i beläggningskammaren 6 vid en temperatrur av 600°C och luft förvärmd till 600°C utmatades med en hastighet av 3000 Nm3/timme in i förkammaren 25 från ledningen 33 för att strömma in i beläggningskammaren som ett täckskikt täckande glaset. 465 219 32 Atmosfäriskt material inom duschningszonen 9 blev intimt blandat och ett kontinuerligt flöde av ångbemängd atmosfär drogs utmed passagen 13 i kontakt med substratets yta på vilken beläggningen bildades.

Luft förvärmd till 550'C utmatades med en hastighet av 3000 Nm3/timme från utmatníngsanordningar 35 belägna under substratvägen.

Detta gav även utomordentliga resultat uttryckt i bredden på bildad jämn högkvalitativ beläggning.

FIGURER 3 Och N I fig. 3 och H har delar som tjänar analoga funktioner med dem som visas i fig. l och 2 återigen givits motsvarande hänvis- ningsbeteckningar.

I utföringsformen enligt fig. 3 och Ä är takkonstruktionen 5 över passagen 3 horistontell, så att passagen har en enhetlig höjd, höjden på utträdesspringan 15, utefter hela sin längd.

I nedströmsänden av passagen 13 saknas avgasledning 16 och nedströmsänden på passagen är i huvudsak tillstängd av en barriärvägg H2 istället för av avgassamlaren 18.

Förkammaren 25 är skild från beläggningskammren 6 av en skärm- vägg H3 som sticker ner från dess tak 21 och skärmväggen H3 i sin tur uppbär en vertikalt rörlig grind HH, som kan vara upp- byggd av ett flertal sektioner tvärs över beläggningskammarens 6 bredd för att medge dífferentiell öppning av inträdes- springan 2H. Såsom visas i fig. U är de nedre hörnen på grinden UH bortskurna såsom vid H5 för att medge en ökad gas- volymflödeshastighet in i beläggninskammarens sidor och luckor H6 finnes för att justera öppningen i dessa nedre hörn.

Fläktar 47 är anordnade under förkammaren 25 för att blåsa förvärmd luft uppåt förbi kanterna på substratets l väg och en 33 465 219 ytterligare fläkt H8 är anordnad att blåsa förvärmd luft in i förkammaren uppströms ifrån, mellan dess uppströms skärmvägg 3Ä och substratet l.

Värmare H9 t.ex. brännare finnes i förkammaren och så som visas i fig. U är dessa värmare anordnade att lämna mera värme vid förkammarens sidor än vid dess mitt.

Exempel 3 Anordningen enligt fig. 3 och U användes för att bilda en H0Onm tjock beläggning av fluordopad tennoxid på ett band av 5 mm floatglas, som rörde sig med 8,5 m/min för att inträda i beläggningskammare vid en temperatur av 600'C.

Beläggningsmaterialet som användes var en lösning av tenn- klorid innehållande ammoniumbiflourid för att tillhandahålla dopningsjoner i beläggningen. Denna lösning duschades från munstycket med en hastighet av 120 l/timme under ett tryck av 23 bar, under det att munstycket föres fram och tillbaka med en hastighet av 23 cykler/min.

Luft förvärmd till 600°C utmatades i förkammaren 25 från fläktarna 47 och H8 och drogs sedan in i beläggningskammaren för att bilda ett täckskikt täckande glaset. Sugning ovanför nivån på substratet utfördes med en hastighet av 60 OOO M3/timme vid omkring 350°C för att upprätthålla ett allmänt nedströmsflöde av material inom beläggningskammaren.

Strålningstakvärmare lO påkopplades för att förånga belägg- ningsmaterialet under dess förflyttning mot substratet. På grund av turbulensen orsakad av den fram och återgående rörelsen på duschmunstycket och den duschade strömmen av be- läggningsmaterial, blev det föràngade materialet intimt blan- dat med luft í duschningszonen 9 och denna ångbemängda atmo- sfär drogs ned till utträdesspringan 15 och utmed passagen 13.

Beläggningsångan blandade sig med atmosfärtäckskiktet i kon- takt med glaset och en beläggning av önskad tjocklek avsattes. 31-; 465 219 Sålunda använder man sig vid detta exempel även av uppfin- ningen beskriven i vår brittiska patentansökan nr 8531424 in- lämndad 20 december 1985.

Luft förvärmd till 550°C utmatades med en hastighet av 3000 Nm3/timme från utmatningsanordningen 35 belägen under substratvägen.

Förkammaren 25 inbegrep brännare H9 för att förvärma atmo- sfären däri. Dessa brännare medger luften att uppvärmas enligt någon önskad temperaturprofil, t.ex. i större utsträckning vid förkammarens sidor.

Den bildade beläggningen genom sättet enligt detta exempel var av utomordentligt hög kvalitet och jämnhet över i huvudsak hela bredden på bandet.

Exemgel H till 6 Vid en variant av var och en av de föregående exemplen an- vändes anordningen för att bilda en beläggning på glas, som skurits till skivor och därefter omvärmts varvid sättet i övriga avseenden var liknande.

Liknande resultat uttryckta i beläggningens kvalitet uppnåddes.

Claims (28)

1. S35 465 219 Patentkrav l. Sätt vid pyrolytisk beläggning, där ett varmt glassubstrat i skiv- eller bandform förflyttas i en nedströmsriktning under en beläggningskammare, som är öppen nedåt mot substratet och där en beläggning bildas på den övre ytan av substratet från beläggningsmaterial, k ä n n e t e c k n a t av att tempera- turen på gasomgivningen i omedelbar närhet av substratets övre yta, åtminstone i den zon, där sådan beläggning börjar bildas, regleras genom att mata förvärmd gas i en nedströmsriktning in i kammaren för att inträda i kammaren i kontakt med substratet och bilda ett täckande skikt, som täcker substratet åtminstone så långt som den zonen, att beläggningskammaren är i huvudsak stängd i sin nedströmsände för att förhindra utbyte av atmo- sfäriskt material mellan beläggningskammarens nedströmsände och ett område ytterligare nedströms av substratvägen och av att över åtminstone en del av beläggningskammarens längd flöde av atmosfäriskt material förbi substratets sidokanter och mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt under substratet förhindras.

2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t av att ett allmänt nedströmsflöde av gas utmed beläggningskammaren åt- minstone delvis upprätthålles genom att avsuga atmosfäriskt material från kammaren i dess nedströmsände.

3. Sätt enligt krav l eller 2, k ä n n e t e c k n a t av att glassubstratet utgöres av ett just bildat band av varmt glas och att beläggningen bildas efter det att bandet lämnar en bandbildningsanläggning och före dess inträde i en kylkanal. Ä.

4. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t av att en beläggningslösning duschas nedåt in i belägg- ningskammaren och genom täckskiktet.

5. Sätt enligt krav 4, k ä n n e t e c k n a t av att en duschningszon i beläggningskammaren uppvärmes för att för- orsaka förångning av del av beläggningsmaterialet före det att 16 465 219 det når substratet för att bemänga atmosfären i sådan zon med förångad beläggningslösning; lösningen duschas med tillräcklig energi för att säkerställa säkert anslag av kvarvarande be- läggningsmaterial mot substratet för att initiera beläggning av substratytan; och att atmosfär bemängd med beläggnings- material i ångfas bringas att strömma in i nedströmsriktningen från duschningszonen utmed och i kontakt med den belagda substratytan under en kontaktid av åtminstone 10 sekunder, och varefter kvarvarande material av den med beläggningsmaterial bemängda strömmen ledes bort från substratet.

6. Sätt enligt något av kraven 1 - 3, för att bilda en metall- oxidbeläggning, k ä n n e t e c k n a t av att beläggnings- material och oxiderande gas kontinuerligt matas in i en bland- ningszon i vilken beläggningsmaterialet och oxiderande gas bringas tillsammans utan kontakt med substratet och i vilken de underkastas blandníngskrafter för att så skapa en atmosfär omfattande en intim blandning av beläggningsånga och oxide- rande gas och en ström av en sådan blandning bringas att strömma kontinuerligt från blandningszonen in i och utmed en passage för vilken substratytan är exponerad.

7. Sätt enligt något av föregånde krav, k ä n n e t e c k - n a t av att gasen som bildar täckskiktet, förvärmts i större utsträckning än den skulle kunna förvärmas till genom värme- överföring från enbart substratet.

8. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t av att gasen som bildar sidokantdelar av täckskiktet förvärmts i högre utsträckning än i dess mitt.

9. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t av att gasen för att bilda täckskiktet inträder i upp- strömsänden till beläggningskammaren från en intilliggande förkammare.

10. Sätt enligt krav 9, k ä n n e t e c k n a t av att för- värmning av gasen utföres åtminstone delvis i förkammaren och från över substratets nivå. Q 37 465 219

11. ll. Sätt enligt något av av föregående krav, k ä n n e - t e c k n a t av att volymflödeshastigheten på gas, som bildar täckskiktet, regleras differentiellt tvärs över substratets bredd.

12. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t av att över en väsentlig del av kammarens höjd atmo- sfäriskt material upprätthålles i ett allmänt nedströmsflöde, delvis av att skjuta in en ström av gas i kammaren i ned- strömsriktningen.

13. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t av att åtminstone en hjälpström av förvärmd gas införes i beläggningskammaren att strömma i nedströmsriktningen i eller intill täckskiktet och genom zonen vid vilken belägg- ningsbildningen börjar. lä.

14. Anordning för att pyrolytiskt bilda en beläggning av en metallförening på en övre yta av ett varmt glassubstrat (l) i skiv- eller bandform, omfattande en transportanordning (2) för transport av sådant substrat utmed en väg (1) i nedströmsrikt- ningen (3), en takkonstruktion (5) begränsande en beläggnings- kammare (6), som öppnar sig nedåt mot vägen (1) och en anord- ning (7) för att utmata beläggningsmaterial in i kammaren (6), k ä n n e t e c k n a d av att uppströms om belägg- ningskammaren (6) finnes en förkammare (25), som står i för- bindelse med beläggningskammaren (6) via en inträdesspringa (24), som delvis begränsas av substratvägen (1) och via vilken gas kan bringas att strömma in i beläggningskammaren (6) för att bilda (då anordningen är i drift) ett täckskikt med en reglerad temperatur, vilket täcker substratets (l) övre yta utmed en första del av kammarens (6) längd och av att en anordning (26) finnes för reglerbar uppvärmning av gasen, som bildar täckskiktet, av att en krökt avgassamlare (18) eller en barriärvägg (H2) finnes ovanför substratvägen (l) och sträcker sig tvärs över hela bredden och i huvudsak stänger kammarens (6) nedströmsände och av att över åtminstone en del av kam- marens längd en anordning (19, 31) finnes för att hindra flöde 465 219 ° av atmosfäriskt material förbi sidorna av substratvägen (1) och mellan zoner vertikalt ovanför och vertikalt nedanför den vägen (1).

15. Anordning enligt krav lä, k ä n n e t e c k n a d av att en avgasledning (16) är placerad med ett eller flera inlopp (19) i beläggningskammarens (6) nedströmsände.

16. Anordning enligt något av kraven lä - 15, k ä n n e - t e c k n a d av att beläggningsstationen är placerad mellan utträdet från en bandbildningsanläggning och inträde till en kylkanal (20).

17. Anordning enligt något av kraven lä - 16, k ä n n e - t e c k n a d av att beläggníngsmaterialmatningsanordningen (7) är anordnad att duscha en flytande beläggningslösning ned- åt och i nedströmsriktníngen (3).

18. Anordning enligt krav 17, k ä n n e t e c k n a d av att duschanordningen (7) är placerad att duscha beläggnings- materiallösningen in i en duschníngszon i beläggningskammaren (6) från en höjd ovanför substratvägen (1) av åtminstone 75 cm, värmningsanordningar (10) är anordnade för att tillföra värme till duschningszonen; takkonstruktionen (5) begränsar en passagedel (13) av beläggningskammaren, som leder nedströms från duschningszonen och ger beläggningskammaren (6) en total längd av åtminstone 2 meter, och av att anordningar (17) fin- nes för att alstra sugkrafter på atmosfäriskt material inom sådan passage för att underlätta för sådant material att strömma utmed substratvägen till nedströmsänden av passagen (13) och inträda i avgasledningen (16) för att leda sådant material bort från substratvägen (1).

19. Anordning enligt något av kraven lä - 17, k ä n n e - t e c k n a d av att beläggningskammaren (6) omfattar en pas- sage (l3) utmed vilken en beläggningsånga och oxiderande gas kan ledas nedströms i kontakt med en övre yta på substratet (1) under substratets transport och där anordningar (lä) fin- 39 465 219 nes som begränsar en blandningszon i vilken beläggnings- material och oxiderande gas kan bringas samman utan kontakt med substratet, och blandas för att bilda en atmosfär omfat- tande en intim blandning av beläggningsånga och oxiderande gas, varvid blandníngszonen (9) står i förbindelse (15) med passagen (13) för att medge en ström av en sådan intim bland- ning att strömma utmed passagen (13) från blandningszonen (9).

20. Anordning enligt något av kraven lä - 19, k ä n n e - t e c k n a d av att gasförvärmningsanordningen (26) är reglerbar för att i olika utsträckning värma gasen, som bildar olika delar av täckskiktet tvärs över substratvägens (l) bredd.

21. Anordning enligt krav lä - 20, k ä n n e t e c k n a d av att skiljeväggen (23) ovanför inträdesspringan (2U) omfat- tar en grind (32, UH) för att justera inträdesspringans (2ü) öppning.

22. Anordning enligt krav 21, k ä n n e t e c k n a d av att en sådan grind (32, HH) är konstruerad i oberoende från var- andra rörliga sektioner för att justera öppningen för in- trädesspringan (24) olika tvärs över substratvägens (1) bredd.

23. Anordning enligt något av kraven lü - 22, k ä n n e - t e c k n a d av att anordningar (H9) finnes för att värma atmosfären inom förkammaren (25) från ovan substratvägens nivå. 2U.

24. Anordning enligt något av kraven 14 - 23, k ä n n e - t e c k n a d av att anordningar (47) finnes för att blåsa förvärmd gas uppåt in i sidorna på förkammaren (25) från under substratvägens nivå.

25. Anordning enligt något av kraven lä - 24, k ä n n e - t e c k n a d av att anordningar (H8) finnes för att blåsa förvärmd gas in i förkammaren in i nedströmsriktningen från ovan substratvägens nivå.

26. Anordning enligt något av kraven lü - 25, k ä n n e - HO 465 219 t e c k n a d av att anordningar (Ä8, 31) finnes för att dels blåsa förvärmd gas nedåt in i förkammaren (25) och för att dels hindra sådan gas att strömma ned förbi sidokanterna på substratvägen (1).

27. Anordning enligt något av kraven lä - 26, k ä n n e - t e c k n a d av att anordning (H8) finnes för att skjuta in en gasström i kammaren i nedströmsriktning för att upprätt- hålla ett allmänt nedströmsflöde av atmosfäriskt material över en väsentlig del av kammarens (25) höjd.

28. Anordning enligt något av kraven lä - 27, k ä n n e - t e o k n a d av att anordningar (41) finnes för att utmata åtminstone en hjälpström av förvärmd gas in i beläggningskam- maren (6) att strömma i nedströmsriktningen i eller intill täokskiktet och genom zonen i vilken beläggningsbildning börjar.