[go: up one dir, main page]

SE440644B - Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal - Google Patents

Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal

Info

Publication number
SE440644B
SE440644B SE8302737A SE8302737A SE440644B SE 440644 B SE440644 B SE 440644B SE 8302737 A SE8302737 A SE 8302737A SE 8302737 A SE8302737 A SE 8302737A SE 440644 B SE440644 B SE 440644B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
refractive index
intermediate layer
electrically conductive
conductive coating
substrate
Prior art date
Application number
SE8302737A
Other languages
English (en)
Other versions
SE8302737L (sv
SE8302737D0 (sv
Inventor
Roy Gerald Gordon
Original Assignee
Roy Gerald Gordon
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Roy Gerald Gordon filed Critical Roy Gerald Gordon
Publication of SE8302737L publication Critical patent/SE8302737L/sv
Publication of SE8302737D0 publication Critical patent/SE8302737D0/sv
Publication of SE440644B publication Critical patent/SE440644B/sv

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

8302737-5 2 I vissa fall, dvs. nÀr glaset har mycket mörk fÀrgton (exem- pelvis en ljustransmissionsförmÄga av mindre Àn ca 25 %), döljes denna irisens och kan tolereras. Vid de flesta anvÀnd- ningar till vÀggar och fönster till byggnader Àr emellertid den irisenseffekt, som normalt Àr förenad med belÀggningar med mindre Àn ca O,75;1m,estetiskt oacceptabla för mÄnga mÀnniskor (se exempelvis US-patentet 3 710 074, Stewart).
Irisensfùrger Àr ett mycket allmÀnt fenomen för transparenta filmer i tjockleksomrÄdet ca 0,1 till llpm i synnerhet vid tjocklekar under ca 0,85/lm. Olyckligtvis Àr detta exakt det tjockleksomrÄde som Àr av praktisk betydelse för de flesta kommersiella anvÀndningar.d HalvledarbelÀggningar tunnare Àn ca 0,l;nn uppvisar icke interferensfÀrger, men sÄdana tunna belÀggningar har en mÀrkbart sÀmre reflektionsförmÄga för infrarött ljus och en tydligt minskad kapacitet att leda elektricitet.
BelÀggningar tjockare Àn ca l,um uppvisar icke heller synbar irisens vid dagsljusbelysning men sÄ tjocka belÀggningar Àr mycket dyrbarare att tillverka, eftersom större mÀngder be- lÀggningsmaterial erfordras, och den tidrymd som erfordras för avsÀttning av belÀggningen Àr i motsvarande mÄn lÀngre.
Vidare har filmer med tjocklek överstigande l;¿m en benÀgen- het att uppvisa grumlighet, som beror pÄ att ljus sprides frÄn ytoregelbundenheter som Àr större pÄ sÄdana filmer.
SÄdana filmer har Àven en större benÀgenhet att spricka under inverkan av vÀrmespÀnningar pÄ grund av skillnad ifrÄga om vÀrmeutvidgning.
SÄsom en följd av dessa tekniska och ekonomiska begrÀnsningar innefattar sÄ gott som all tidigare kommersiell tillverkning av sÄdana belagda glasföremùl filmer inom tjockleksomrÄdet ca 0,1 till O,3,um, som uppvisar uttalade irisensfÀrger.
SÄ gott som ingen anvÀndning av detta belagda glas för arki- tekturella ÀndamÄl förekommer för nÀrvarande, trots att det skulle vara kostnadseffektivt för att inbespara energi. SÄsom exempel kan vÀrmeförluster genom infraröd strÄlning genom 8302737-5 3 glasomrÀden i en upphettad byggnad uppgÄ till ungefÀr hÀlften av vÀrmeförlusterna genom obelagda fönster. NÀrvaron av irisensfÀrger pÄ dessa belagda glasprodukter Àr ett huvudskÀl till att man icke anvÀnder dessa belÀggningar.
Den första lyckade lösningen pÄ dessa problem anges i US-patenten 4 187 336 och 4 206 252. Dessa patent beskriver metoder och processer varigenom tunna, vanligen l/4-vÄglÀngd, belÀggningar med valda brytningsindex eller gradientbelÀgg- ningar med likartad optisk tjocklek belades pÄ glassubstrat och under den infrarödreflekterande tennoxiden. Det har emellertid blivit önskvÀrt att minska den totala tidrymd som erfordras för framstÀllning av sÄdana belÀggningar. Före- liggande uppfinning Àr baserad pÄ arbete inriktat pÄ att Ästadkomma en sÄdan minskning av belÀggningstiden.
SAMMANDRIÄG AV UPPFINNINGEN Det Ă€r ett Ă€ndamĂ„l med föreliggande uppfinning att Ă„stadkomma medel för att eliminera den synliga irisensen frĂ„n halv- ledande tunna filmbelĂ€ggningar pĂ„ glas, med bibehĂ„llande av dessas önskvĂ€rda egenskaper ifrĂ„ga om transparens inom det synliga omrĂ„det, infrarödreflektionsförmĂ„ga och elektrisk ledningsförmĂąga.
Ett annat ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma de ovan- nÀmnda effekterna utan att öka kostnaden för tillverkningen vÀsentligt över kostnaden för anvÀndning av vanliga irise- rande, infrarödreflekterande filmer.
Ett annat ÀndamÄl med uppfinningen Àr att uppnÄ de ovan- nÀmnda problemlösningarna med ett förfarande, som Àr konti- nuerligt och helt kompatibelt med moderna tillverkningspro- cesser inom glasindustrin.
Ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen Àr att uppnÄ alla de ovannÀmnda mÄlen med produkter, som Àr bestÀndiga och sta- bila mot ljus, kemikalier och mekanisk nötning. 8302737-5 4 Ett annat ÀndamÄl Àr att uppnÄ alla de ovannÀmnda mÄlen med anvÀndning av material, som Àr tillrÀckligt lÀttillgÀngliga och rikligt förekommande för att tillÄta omfattande anvÀnd- ning.
Det Àr ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen att anvÀnda tunna filmer för att undertrycka irisenseffekter utan att tillgripa filmer av ljusabsorberande metallmaterial, sÄsom guld, aluminium, koppar, silver och liknande.
Ett huvudÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma de iri- sensfria konstruktionerna med högre belÀggningshastighet Àn som varit möjligt med fÀrgundertryckande skikt, som tidigare angivits i US-patentet 4 187 336.
Ett nÀrliggande ÀndamÄl Àr att Ästadkomma dessa konstruktio- ner med anvÀndning av mindre mÀngd rÄmaterial, eftersom tunnare belÀggningar anvÀndes.
Ett ytterligare ÀndamÄl Àr att tillÄta ett vittomfattande val av rÄmaterial för anvÀndning för tillverkning av de er- forderliga belÀggningarna genom att undvika de system som krÀver val av reaktionskomponenter, vilka Àr kombinerbara i samtidig belÀggning av blandade reaktionsprodukter för Ästad- kommande av instÀllbara eller variabla brytningsindexvÀrden.
Ett annat ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma en glas- konstruktion, som innefattar ett kompoundmaterial, vari en yttre belÀggning framstÀlles av en infrarödreflekterande yta med-en tjocklek av ca O,7;¿m eller mindre och varvid en inre belÀggning bildar medel för att (a) minska grumlingen eller slöjbildningen pÄ det belagda glaset och samtidigt och obe- roende (b) minska irisensen hos glaskonstruktionen med hjÀlp av koherent addition av reflekterat ljus.
Ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma en glaskonstruktion med de icke-iriserande egenskaper som nÀmnes i det föregÄende, vilken konstruktion kÀnnetecknas av en steg- 8302737-5 5 vis, eller gradvis, förÀndring av belÀggningens sammansÀtt- ning mellan glas och luft.
Uppfinningen definieras nÀrmare i de bifogade patent- kraven.
Uppfinningen utnyttjar bildning av tvÄ eller fler mycket tunna skikt av transparent material mellan glaset och den halvledande filmen. Detta mellanskikt Àr mycket tunnare Àn de som tidigare angivits ha irisensundertryckande anvÀndbar- het. Dessa skikt bildar ett intermediÀrt, irisensundertryc- kande mellanskikt. Med lÀmpliga val av tjocklek och bryt- ningsindexvÀrden har det visat sig att irisensfÀrgerna kan göras alltför svaga för att de flesta mÀnskliga iakttagare skall kunna upptÀcka dem och med sÀkerhet alltför svaga för att störa omfattande kommersiell anvÀndning Àven för arki- tekturella tillÀmpningar. LÀmpliga material för dessa mellan- skikt anges Àven i det följande liksom processer för fram- stÀllning av dessa skikt.
I de utföringsformer av uppfinningen som beskrivas hÀri har mellanskiktet nÀrmare glasytan högre brytningsindex, under det att mellanskiktet lÀngre bort frÄn glasytan har lÀgre brytningsindex. Denna ordningsföljd för brytningsindex Àr den motsatta ordningen i förhÄllande till den som anvÀndes i de fÀrgundertryckande skikt, som tidigare angivits i US- -patentet 4 187 336. Genom omkastning av ordningsföljden har uppfinnaren gjort den överraskande iakttagelsen, att fÀrgundertryckning kan Ästadkommas med anvÀndning av tunnare skikt Àn de som erfordras för tidigare kÀnda konstruktioner.
Enligt en föredragen utföringsform av uppfinningen anvĂ€ndes tvĂ„ mellanskikt, vardera med en optisk tjocklek av approxima- tivt en tolftedel (l/l2) av en synlig vĂ„glĂ€ngd av ca 5000 Ă„ngström i vakuum. Det första mellanskiktet, det skikt som Ă€r nĂ€rmare glaset, har ett högt brytningsindex av ungefĂ€r samma vĂ€rde som den funktionella halvledarbelĂ€ggningen (exem- pelvis av tennoxid). Detta skikt som Ă€r nĂ€rmast glaset kan i 8302737-5 6 sjĂ€lva verket utgöras av tennoxid. NĂ€sta mellanskikt mellan det första mellanskiktet och den funktionella halvledarbelĂ€gg- ningen har ett lĂ„gt brytningsindex av ungefĂ€r lika med bryt- ningsindex för glas (n=l,5). Den totala optiska tjockleken av de tvĂ„ mellanskikten Ă€r sĂ„lunda ca en sjĂ€ttedel (l/6) av en synlig vĂ„glĂ€ngd. “Optisk tjocklek" Ă€r tjockleken av mate- rialet multiplicerat med dess brytningsindex.
De tidigare beskrivna konstruktionerna för fÀrgundertryckande krÀvde ett minimum av en fjÀrdedel (1/4) av en synlig vÄg- lÀngd och vissa krÀvde en halv (l/2) eller mer. Konstruk- tionen enligt uppfinningen ökar sÄlunda tillverkningshastig- heten med minst 50 % och minskar rÄmaterialförbrukningen med minst 33 %.
Enligt en annan utföringsform av uppfinningen Àr brytnings- index hos mellanskiktet nÀrmare glaset vÀsentligen högre Àn brytningsindex hos den funktionella halvledarbelÀggningen.
Den totala optiska tjockleken hos de tvÄ mellanskikten Àr dÀrför Àven mindre Àn ca en sjÀttedel (1/6) av en synlig vÄglÀngd.
Enligt ytterligare en annan utföringsform Àr brytningsindex hos mellanskiktet nÀrmare den funktionella belÀggningen vÀsentligen lÀgre Àn brytningsindex för glaset. Den totala optiska tjockleken hos de tvÄ mellanskikten Àr Àven mindre Àn ca en sjÀttedel (l/6) av en synlig vÄglÀngd.
Med “vĂ€sentligen högre" och "vĂ€sentligen lĂ€gre" i de före- gĂ„ende tvĂ„ styckena avses en avvikelse frĂ„n brytningsindex för halvledarbelĂ€ggningen, som gör det möjligt att variera den totala verkliga tjockleken hos belĂ€ggningen i respons till de olika brytningsindexvĂ€rdena. SĂ„lunda kan exempelvis "vĂ€sentligen samma" brytningsindex uppfattas sĂ„som plus eller minus 0,1 brytningsindexenhet, under det att avvikelser frĂ„n denna norm kan beskrivas sĂ„som vĂ€sentligen lĂ€gre eller vĂ€sent- ligen högre. 8302737-5 7 "Ca l/6 vĂ„glĂ€ngd" definierade en oregelbunden och varierande zon (bĂ€st exemplifierad med hĂ€nvisning till figur 2), som Ă€r vĂ€sentligen mindre Ă€n l/4 vĂ„glĂ€ngd ifrĂ„ga om tjocklek. I praktiken varierar den verkliga tjockleken hos mellanskikte- belĂ€ggningen lĂ€mpligen frĂ„n ca 30 till 60 nm beroende pĂ„ det system som anvĂ€ndes och det fĂ€rgindex som Ă€r acceptabelt.
Enligt en mindre föredragen utföringsform har bÄda mellan- skikten intermediÀra vÀrden ifrÄga om brytningsindex mellan brytningsindex för glaset och för den funktionella belÀgg- ningen. Den totala optiska tjockleken i detta fall Àr Ànnu mindre Àn ca en fjÀrdedel (1/4) av en synlig vÄglÀngd.
Approximativa formler för den optiska tjockleken hos mellan- skikten anges i det följande: Den optiska tjockleken hos mellanskiktet nĂ€rmare glaset Ă€r approximativt d = (1/720)cos-1 lĂŻrlz + r22 - r32)/2rlr27 l i enheter av en synlig vĂ„glĂ€ngd (O,5;Âżm), varvid Fresnel- -reflektionamplituderna anges med Il = (ÜJJ-ngj/(nl-'fngq (nl-nz)/(nl+n2) (nc-nzj/ (nc+n2) H H t» N I I uttryckt i brytningsindexvĂ€rden: ng = brytningsindex för glaset, nl = brytningsindex för mellanskiktet nĂ€rmare glaset, n2 = brytningsindex för mellanskiktet nĂ€rmare den funktionella halvledarbelĂ€ggningen och nc = brytningsindex för den funktionella halvledar- belĂ€ggningen.
Dessa formler förutsÀtter att den inversa kosinusfunktionen Àr uttryckt i grader.
Den optiska tjockleken hos mellanskiktet nĂ€rmare den funk- tionella halvledarbelĂ€ggningen anges approximativt med ;"Âżf-85Û2737'5 8 _ .fl _ 2 -2 _ 2 dz - (1/720)cos ,,[Yr2 + r3 rl )/2r2r3].
De tvĂ„â€skikttjocklekar, som förutsĂ€ges med dessa enkla form- ,~ler, Ă€r endast approximativa, eftersom de försummar sĂ„dana ;:effekter;som optisk dispersion, ytojĂ€mnhet, multipla reflek- tioner och den icke-linjĂ€ra naturen av fĂ€rgseendet. Nume- riska berĂ€kningar kan inkludera dessa effekter och sĂ„lunda ge merĂŻrealistiska förutsĂ€gelser av optimala belĂ€ggningstjock- lekar; .Den kvantitativa basen för dessa numeriska vĂ€rde- ringaraanges i~nĂ€sta sektion och vissa numeriska resultat anges i följande sektion.1 En förenande aspekt av dessa olika utföringsformer Ă€r att de alla utnyttjar en tunn halvledarbelĂ€ggning arrangerad kongruent med en andra belĂ€ggning, som bildar medel för att vĂ€sentligt minska irisering genom att innefatta minst tvĂą ytterligare grĂ€nsytbildande medel, med massan av den andra belĂ€ggningen, för reflektion och brytning av ljus pĂ„ sĂ„dant sĂ€tt, att detta mĂ€rkbart interfererar med eller pĂ„verkar observationen av iriseringsfĂ€rger.
METODER OCH ANTAGANDEN Det antages vara önskvÀrt, pÄ grund av fÀrgperceptionens subjektiva natur, att ge en diskussion av metoder och anta- ganden, som har anvÀnts för vÀrdering av föreliggande upp- finning. Det bör fastslÄs att tillÀmpningen av en stor del av den teori som diskuteras nedan Àr av retrospektiv art, eftersom informationen nödvÀndigtvis tillhandahÄlles-till- bakablickande, dvs. av en person med kÀnnedom om den beskriv- na uppfinningen.
För att.göra en lÀmplig kvantitativ vÀrdering av olika möj- liga konstruktioner, som undertrycker iriseringsfÀrger, berÀknades intensiteten av sÄdana fÀrger med anvÀndning av optiska data och fÀrgperceptionsdata. Vid denna diskussion antages filmskikten vara plana, med likformig tjocklek och likformigt brytningsindex i varje skikt. Brytningsindexför- 8302737-5 9 Àndringarna antages vara abrupta vid planens grÀnsytor mellan intill varandra liggande filmskikt. Verkliga brytningsindex- vÀrden anvÀndes, motsvarande försumbara absorptionsförluster i skikten. Reflektionskoefficienterna Àr vÀrderade för nor- malt infallande plana ljusvùgor.
Med anvÀndning av de ovan angivna antagandena och förutsÀtt- ningarna berÀknas amplituderna för reflektion och transmission frÄn varje grÀnsyta med Fresnel-formler. DÀrefter summeras dessa amplituder med beaktande av de fasskillnader, som ùstadkommes genom fortplantning genom de relevanta skikten.
Dessa resultat har visat sig vara ekvivalenta med Airy- -formeln (se exempelvis Optics of Thin Films av F. Knittl, Wiley and Sons, New York, 1976) för multipel reflektion och interferens i tunna filmer, nÀr dessa formler tillÀmpas pÄ samma fall som diskuteras hÀr.
Den berÀknade intensiteten för reflekterat ljus har obser- verats variera med vùglÀngden och förstÀrkes sÄlunda i vissa fÀrger mer Àn i andra. För berÀkning av den reflekterade fÀrg som ses av en iakttagare Àr det önskvÀrt att först specificera spektralfördelningen av det infallande ljuset.
För detta Ă€ndamĂ„l kan man anvĂ€nda “International Commission on Illumination Standard Illuminant C", som approximerar normal dagsljusbelysning. Spektralfördelningen av det reflek- terade ljuset Ă€r produkten av den berĂ€knade reflektions- koefficienten och spektrum för Illuminant C. FĂ€rgton och fĂ€rgmĂ€ttnad vid betraktande i reflektion av en mĂ€nsklig iakttagare berĂ€knas dĂ€refter frĂ„n detta reflekterade spektrum med anvĂ€ndning av de likformiga fĂ€rgskalorna, sĂ„som de som Ă€r tidigare kĂ€nda. En anvĂ€ndbar skala Ă€r den som anges av Hunter i Food Technology, vol. Zl, sid. 100-105, 1967. Denna skala har anvĂ€nts för hĂ€rledande av det samband som nu skall beskrivas.
Resultaten av berĂ€kningarna, för varje kombination av bryt- ningsindexvĂ€rden och tjockleksvĂ€rden hos skikten, Ă€r ett par tal, dvs. "a" och "b". "a" representerar röd (om positiv) 8302737-5 10 eller grön (om negativ) fĂ€rgton, under det att "b" beskriver en gul (om positiv) eller blĂ„ (om negativ) fĂ€rgton. Dessa fĂ€rgtonsresultat Ă€r anvĂ€ndbara vid kontroll av berĂ€kningarna mot observerbara fĂ€rger hos provstycken, inkluderande sĂ„dana enligt uppfinningen. Ett enda tal, “c", representerar “fĂ€rg- mĂ€ttnaden": c=(a2 + b2)l/2. Detta fĂ€rgmĂ€ttnadsindex, “c", Ă€r direkt relaterat till ögats förmĂ„ga att upptĂ€cka de besvĂ€rliga irisensfĂ€rgtonerna. NĂ€r mĂ€ttnadsindex Ă€r under ett visst vĂ€rde, kan man icke se nĂ„gon fĂ€rg i det reflekte- rade ljuset. Det numeriska vĂ€rdet av denna tröskelmĂ€ttnad för observerbarhet beror pĂ„ den speciella likformiga fĂ€rg- skala som anvĂ€ndes och pĂ„ betraktningsbetingelserna och graden av belysning (se exempelvis R.S. Hunter, The Measure- ment of Appearance, Wiley and Sons, New York, 1975, för en senare översikt över numeriska fĂ€rgskalor).
För faststÀllande av en basis för jÀmförelse av konstruk- tioner genomfördes en första serie av berÀkningar för simule- ring av ett enkelt halvledarskikt pÄ glas. Brytningsindex för halvledarskiktet antogs vara 2,0, vilket Àr ett vÀrde som approximerar tennoxid- eller indiumoxidfilmer, vilka bÄda kan vara funktionella halvledarfilmer som anvÀndes enligt uppfinningen. VÀrdet 1,52 anvÀndes för glassubstratet, detta Àr ett vÀrde som Àr typiskt för kommersiellt fönsterglas.
De berÀknade fÀrgmÀttnadsvÀrdena Àr avsatta pÄ figur 1 sÄsom en funktion av halvledarfilmens tjocklek. FÀrgmÀttnaden visar sig vara hög för reflektioner frÄn filmer med tjocklek inom omrùdet 0,1 till 0,5 pm. För filmer tjockare Àn 0,5 pm minskar fÀrgmÀttnaden med ökande tjocklek. Dessa resultat Àr i överensstÀmmelse med kvalitativa observationer pÄ verkliga filmer. De uttalade oscillationerna beror pÄ den varierande kÀnsligheten hos ögat för olika spektralvÄglÀngder. Var och en av topparna motsvarar en viss fÀrg, sÄsom markerats pÄ kurvan (R=rött, Y=gult, G=grönt, B=blÄtt).
Med anvÀndning av dessa resultat faststÀlldes det minsta observerbara vÀrdet för fÀrgmÀttnad med följande experiment: Tennoxidfilmer med kontinuerligt varierande tjocklek, upp 8302737-5 ll till ca l,5;un, avsattes pÄ glasplattor genom oxidation av tetrametyltennùnga. Tjockleksprofilen faststÀlldes med en temperaturvariation frÄn ca 450°C till 500°C tvÀrs över glas- ytan. Tjockleksprofilen uppmÀttes dÀrefter genom observa- tion av interferensrÀnderna under monokromatiskt ljus. Vid observation under diffust dagsljus uppvisade filmerna inter- ferensfÀrger pÄ de korrekta positioner som visas pÄ figur l.
De delar av filmerna som hade tjocklekar av större Àn O,85;¿m uppvisade ingen observerbar interferensfÀrg i diffust dags- ljus. Den gröna topp som berÀknats ligga vid en tjocklek av 0,88 pm kunde icke ses. TröskelvÀrdet för observerbarhet Àr dÀrför över 8 för dessa fÀrgenheter. Likaledes kunde det berÀknade blÄ toppvÀrdet vid 0,03/Lm icke ses, varför trös- keln Àr över ll fÀrgenheter, det berÀknade vÀrdet för denna topp. En svag röd topp vid O,8lWum kunde emellertid ses under goda observationsbetingelser, exempelvis med anvÀndning av en bakgrund av svart sammet och inga fÀrgade föremÄl i synfÀltet som reflekterades, sÄ att tröskelvÀrdet Àr under 13 fÀrgenheter som berÀknas för denna fÀrg. FrÄn dessa undersökningar kunde man sluta att tröskeln för observation av reflekterad fÀrg Àr mellan ll och 13 fÀrgenheter pÄ denna skala, varför ett vÀrde av l2 enheter har valts för att representera tröskeln för observerbarhet av reflekterad fÀrg under observationsbetingelser i dagsljus. Med andra ord upptrÀder en fÀrgmÀttnad av mer Àn 12 enheter sÄsom en synlig fÀrgad irisens, under det att en fÀrgmÀttnad av mindre Àn l2 enheter ses sÄsom neutral.
Det antages att det kommer att finnas ringa motstÄnd mot kommersialisering av produkter med fÀrgmÀttnadsvÀrden av 13 eller lÀgre. Det Àr emellertid vÀsentligt föredraget att vÀrdet Àr 12 eller lÀgre och, sÄsom framgÄr utförligare av det följande, synes det icke finnas nÄgot praktiskt skÀl varför de mest fördelaktiga produkterna enligt uppfinningen, exempelvis sÄdana som utmÀrkes av helt fÀrgfria ytor, dvs. under ca 8, icke kan tillverkas ekonomiskt. I sjÀlva verket kan fÀrgmÀttnadsvÀrden under 5 erhÄllas med tillÀmpning av uppfinningen. 8302737-5 12 Ett vÀrde av 12 eller mindre anger en reflektion, som icke, förvrÀnger fÀrgen hos ett reflekterat föremÄl pÄ ett obser-, verbart sÀtt. Detta tröskelvÀrde av 12 enheter antages sÄsom en kvantitativ standard, med vilken man kan_vÀrdera förmÄga eller oförmÄga hos olika flerskiktskonstruktioner att under- trycka irisensfÀrgerna.
LÄMPLIGA MATERIAL En stor mĂ„ngfald transparenta material kan vĂ€ljas för fram- stĂ€llning av produkter, som uppfyller de förutnĂ€mnda krite- rierna genom bildning av anti-iriserande underbelĂ€ggnings- skikt. Olika metalloxider och -nitrider samt blandningar dĂ€rav har de korrekta optiska egenskaperna betrĂ€ffande trans- parens och brytningsindex. I tabell A anges vissa material som har höga brytningsindexvĂ€rden lĂ€mpade för framstĂ€llning av mellanskiktet nĂ€rmare glaset. 'Tabell B anger vissa mate- rial som har lĂ„ga brytningsindexvĂ€rden och Ă€r lĂ€mpade för bildning av mellanskiktet nĂ€rmare den funktionella halv- ledarbelĂ€ggningen. FilmbrytningsindexvĂ€rden varierar nĂ„got med avsĂ€ttningsmetoden och betingelserna som anvĂ€ndes.
Tabell A BelĂ€ggningsmaterial med högt brytningsindex Material Formel BrytningsindeĆĄ Tennoxid Sn02 2,0 Kiselnitrid Si3N4 2,0 Kiselmonoxid SiO ca 2 Zinkoxid ZnO 2,0 Indiumoxid In203 2,0 Nioboxid Nb205 2,1 Tantaloxid Ta2O5 2,1 Hafniumoxid HfO2 2,1 Zirkoniumoxid ZrO2 2,1 Ceriumoxid Ce02 2,2 Zinksulfid ZnS 2,3 Titanoxid TiO2 2,5 8302737-5 13 Tabell B BelĂ€ggningsmaterial med lĂ„gt brytningsindex §atgrial Formel Brytningsindex Kiseldioxid - SiO2 1,46 Silikonpolymer [1CH3)2SiQ]n 1,4 Magnesiumfluorid MgF2 1,38 Kryolit _ Na3AlF6 1,33 NUMERISKA BERÄKNINGAR AV FÄRGUNDERTRYCKANDE Ett exempel pĂ„ intensiteten av reflekterade fĂ€rger, sĂ„som en funktion av totala mellanskiktstjockleken, och av den funk- tionella tennoxidbelĂ€ggningens tjocklek visas pĂ„ figur 2.
Totala mellanskiktstjockleken anges under en punkt i figur 2 och den funktionella tennoxidtjockleken anges till vĂ€nster om denna. Om fĂ€rgmĂ€ttnadsindex Ă€r större Ă€n 12, antager vitt ljus efter reflektion den fĂ€rg som anges med bokstavskoden (R=rött, Y=gult, G=grönt och B=blĂ„tt). Om fĂ€rgmĂ€ttnadsindex Ă€r 12 eller lĂ€gre, Ă€r det belagda glaset fĂ€rglöst i den betydelsen att vitt ljus som reflekteras frĂ„n ytan fort- farande förefaller vitt; ingen bokstavskod anges pĂ„ figur 2 för dessa kombinationer av tjocklekar, för vilka iriserings- fĂ€rg effektivt undertryckes. Den speciella fĂ€rgkartan pĂ„ figur 2 Ă€r berĂ€knad vid antagande att mellanskiktet nĂ€rmare glaset har ett brytningsindex av 2,0 och mellanskiktet lĂ€ngre bort frĂ„n glaset har ett brytningsindex av 1,45 samt att den optiska tjockleken hos de tvĂą skikten kvarligger inom för- hĂ„llandet O,89:l,O, nĂ€r den totala mellanskiktstjockleken varieras inom figuren. (Ett slöj- eller grumlingsinhiberande skikt med brytningsindex 1,45 antages Ă€ven vara avsatt först pĂ„ glaset, med optisk tjocklek 0,14 i förhĂ„llande till det totala mellanskiktet. Detta slöj- eller grumlingsinhiberande skikt har emellertid endast en ringa effekt pĂ„ fĂ€rgunder- trycknadskonstruktionen, eftersom dess brytningsindex Ă€r sĂ„ nĂ€ra brytningsindex för basglaset. Tjockleken hos detta slöj- eller grumlingsinhiberande skikt Ă€r inkluderat i den totala mellanskiktstjockleken pĂ„ figur 2). 8302737-'5 14 Av fĂ€rgkartan pĂ„ figur 2 kan man t.ex. sluta sig till att en funktionell tennoxidbelĂ€ggning med tjockleken O,2,um kan göras fĂ€rglös genom anvĂ€ndning av en total mellanskiktstjocklek nĂ„gonstans mellan 0,034 och 0,055,um. PĂą liknande sĂ€tt varierar för en funktionell tennoxidbelĂ€ggning med tjockleken O,3;Âżm den effektiva mellanskiktstjockleken frĂ„n 0,050 till 0,064 pm. För en tennoxidtjocklek av 0,4 ,um ger det bredare intervallet 0,034 till 0,068;1m mellanskiktstjocklek fĂ€rg- undertryckning. Godtycklig mellanskiktstjocklek mellan 0,050 och 0,055;un undertrycker fĂ€rg för alla funktionella tennoxidtjocklekar större Ă€n 0,l4,ïŹ‚m.
FÖRFARANDE FÖR FRAMSTÄLLNING AV FILMER Alla dessa filmer kan framstĂ€llas genom samtidig vakuumför- Ă„ngning av de lĂ€mpliga materialen för en lĂ€mplig blandning.
För belÀggning av stora omrÄden, exempelvis fönsterglas, Àr kemisk ùngavsÀttning (CVD) vid normalatmosfÀrstryck enklare och mindre dyrbar. CVD-metoden krÀver emellertid lÀmpliga flyktiga föreningar för beredning av varje material. De mest lÀmpliga kÀllorna för CVD Àr gaser vid rumstemperatur. Kisel och germanium kan avsÀttas med CVD frÄn sÄdana gaser som silan, SiH4, dimetylsilan (CH3)2SiH2 och german (GeH4).
VÀtskor som Àr tillrÀckligt flyktiga vid rumstemperatur Àr nÀstan lika lÀtthanterliga som gaser, tetrametyltenn Àr en sÄdan kÀlla för CVD av tennföreningar, under det att (C2H5)2SiH2 och SiCl4 Àr flyktiga vÀtskeformiga kÀllor för kisel. PÄ likartat sÀtt erbjuder trimetylaluminium och dimetylzink samt dessas högre alkylhomologer flyktiga kÀllor iför dessa metaller. Mindre lÀtthanterliga men fortfarande anvÀndbara kÀllor för CVD Àr fasta material eller vÀtskor, som Àr flyktiga_vid viss temperatur över rumstemperatur men fortfarande under den temperatur vid vilken de reagerar till bildning av avsatta filmer. Exempel pÄ den sistnÀmnda kate- gorin Àr acetylacetonater av aluminium, gallium, indium och zink (Àven benÀmnda 2,4-pentandionater), aluminiumalkoxider, sÄsom aluminiumisopropoxid och aluminiumetylat, samt zink- propionat. För magnesium Àr inga lÀmpliga föreningar kÀnda, 8302737-5 15 som Àr flyktiga under avsÀttningstemperaturen, varför CVD- -processer icke antages vara tillÀmpbara för framstÀllning av magnesiumfluoridfilmer.
Typiska betingelser under vilka metalloxidfilmer med gott resultat bildats genom kemisk ÄngavsÀttning Àr sammanstÀllda i tabell C. Typiskt nÀrvarar organometallÀngan i mÀngder av ca l % (av volymen) i luft. De filmer som bildas pÄ detta sÀtt uppvisar god vidhÀftning till bÄde glassubstratet och till efterföljande belÀggningsskikt av tennoxid eller indium- oxid. BrytningsindexvÀrdena för filmerna uppmÀtes lÀmpligen genom att man upptager det synliga reflektionsspektrum sÄsom en funktion av vÄglÀngden. LÀget och höjderna av maxima och minima i den reflekterade intensiteten kan relateras till brytningsindex för den avsatta filmen.
J! 8302737-5 16 Tabell C Vissa flyktiga oxiderbara organometallföreningar, som Àr lÀmpade för avsÀttning av metalloxidskikt, samt blandade metalloxidskikt med oxiderande gaser, sÄsom 02 eller N20 H 0 \o m ~4 m u1.> w nu w' l-' |-' l-l N F' U) F' vb F' UI l-' ON i-P \l I-' Ê Förening siH4 (cH3)2siH2 (c2H5)2siH2 (cH3)2siHsiH(cH3)2 GeH4 (cH3)3A1 A1(oc2H5)3 A1(oc3H7) 3 Al(c5H7o2)3 Ga(c5H7o2)3 In(C5H702)3 (CH3)2Zn Zn(c3n5o2)2 (CH3)4Sn Ta(oc4H9)5 Ti(oc3H7)4 Zr(0C4H9)4 Hf (oc 4119 ) 4 Förùngnings- temperatur ( C) gas vid 20 gas vid 20 20 20 gas vid 20 20 200-300 200-220 200-220 200-220 200-220 20 200-250 20 150-250 100-150 200-250 200-250 AvsÀttnings- temperatur ( C) 300-500 400-600 400-600 400-600 300-450 400-650 400-650 400f600 500-650 350-650 300-600 100-600 450-650 450-650 400-600 400-600 400-600 400-600 Metoder för belÀggning av hett glas med denna oorganiska belÀggning anges i US-patenten 4 187 336 och 4 265 974 och uppgifterna i dessa Àr avsedda att utgöra en del av förelig- gande beskrivning, liksom pÄ andra stÀllen i tidigare kÀnd litteratur.
De belÀggningar som pÄföres med de hÀri beskriv- na processerna kan pÄföras med anvÀndning av samma metoder med undantag av den nödvÀndiga regleringen av belÀggnings- tiden för Ästadkommande av de förhÄllandevis tunna belÀgg- ningar som anvÀndes enligt uppfinningen.
SLÖJ- ELLER GRÜMLINGSPROBLEMET NĂ€r dessa belĂ€ggningar provades pĂ„ vanligt fönsterglas 8302737-5 17 ("soda-kalk" eller "mjukt" glas), uppvisade mĂ„nga av de er- hĂ„llna belĂ€ggningarna avsevĂ€rd slöjbildning eller ljussprid- ning. NĂ€r det skikt som först pĂ„föres pĂ„ mjukt glas Ă€r amorft och utgöres av SiO2, Si3N4 eller GeO2 eller blandningar dĂ€rav, Ă€r belĂ€ggningen fri frĂ„n slöja oberoende av vilka de efter- följande skikten Ă€r. Al2O3 ger Ă€ven klara belĂ€ggningar, förutsatt att detta Ă€mne pĂ„föres i amorf form, lĂ€mpligen under en temperatur av ca 55000. Om det ursprungliga skiktet innehĂ„ller stora andelar Ga2O3, ZnO, In203 eller SnO2, Ă€r slöjbildning sannolik.
Det första anti-iriserande skikt som avsĂ€ttas pĂ„ en fönster- glasyta Ă€r lĂ€mpligen amorft, snarare Ă€n kristallint, ifrĂ„ga om strukturen. DĂ€refter kan de pĂ„förda skikten vara av poly- kristallin form utan att orsaka nĂ„gon slöjbildning. ÅSKÅDLIGGÖRANDE EXEMPEL PÅ UPPFINNINGEN I denna beskrivning och pĂ„ ritningsfigurerna visas och beskri- ves en föredragen utföringsform av uppfinningen och föreslĂ„s olika alternativ och modifikationer dĂ€rav, men det Ă€r givet att dessa icke Ă€r avsedda att vara uttömmande och att andra förĂ€ndringar och modifikationer kan göras inom ramen för uppfinningen. Dessa förslag Ă€r valda och inkluderade för Ă„skĂ„dliggörande för att fackmĂ€n skall förstĂ„ uppfinningen bĂ€ttre liksom dennas principer och vara i stĂ„nd att modifie- ra och förverkliga uppfinningen i olika former sĂ„som passar bĂ€st med hĂ€nsyn till betingelserna i det speciella fallet.
Med de mycket tunna belÀggningarna enligt uppfinningen Àr det svÄrt att Ästadkomma precis plan avskÀrning av de olika mellanskiktskomponenterna. Till följd dÀrav Àr vid mÄnga utföringsformer av uppfinningen de erhÄllna belÀggningarna mycket lika en stegvis belÀggning eller gradientbelÀggning med koncentration av material med högre brytningsindex nÀrmare glaset. I samband med uppfinningen kan dÀrför sÄdana med gradient och stegvis uppbyggda mellanskiktssystem, vilka Àr omvÀndningen (vad betrÀffar brytningsindexgradienten) av de 8302737-5 18 som anges i de tidigare US-patenten 4 187 336 och 4 206 252, uppfattas sÄsom mekaniska och optiska ekvivalenter med det tvÄ-mellanskikt-komponentsystem som beskrives hÀri.
Kiseldioxid-silikonterminologin i följande exempel anvÀndes för att beskriva vissa tunna skikt endast pÄ grund av att analys med ESCA~(elektronspridning för kemisk analys)-metoder och Anger-analysmetoder visar nÀrvaron av kol i belÀggningen.
Detta anger att vissa av de kisel-kolbindningar som antages nÀrvara under belÀggningsprocessen kvarstannar i belÀggningen.
NÀrvaron av kolet antages emellertid icke vara funktionellt betydelsefullt. En kiseldioxidbelÀggning med lÀmpligt bryt- ningsindex och lÀmplig tjocklek Àr den optiska och mekaniska ekvivalenten till de belÀggningar som beskrives hÀri sÄsom kiseiaioxia-s iiikonbelÀggningar . i Det bör Àven observeras att den fluorhaltiga gas, som anvÀn- des vid beredning av tennoxidmellanskiktsbelÀggning, icke anvÀndes för att ge elektrisk ledningsförmÄga Ät belÀggningen, eftersom denna funktion vanligen icke erfordras för de huvud- sakligen arkitekturella anvÀndningar, för vilka produkten Àr avsedd. Icke desto mindre har det visat sig att avsÀttnings- hastigheten för tennoxiden Àr vÀsentligt högre, nÀr gas av Freon-typ anvÀndes.
RITNINGSFIGURERNA Figur l Àr ett diagram som ÄskÄdliggör variationen av berÀk- nad fÀrgintensitet för olika fÀrger med halvledarfilmens tjocklek.
Figur 2 visar grafiskt irisenskaraktÀren eller avsaknaden dÀrav för olika belÀggningstjocklekar av tennoxid (sÄsom ett mellanskikt nÀrmare glaset) i ett sÄdant system som beskrives i exempel 2.
Figur 3 ÄskÄdliggör ett fönster 36 utfört av en halvledarfilm 26, glas 22 och tvÄ mellanbelÀggningar enligt följande: 8302737-5 19 BelÀggning 30 med tjockleken 0,018;unnÊd ett högt brytnings- index av ca 2,0. BelÀggning 32 har tjockleken 0,028/Lm och har ett lÄgt brytningsindex av ca 1,45. BelÀggning 30 be- redes av godtyckligt av de material som anges i tabell A.
BelÀggning 32 beredes av nÄgot av de material som anges i tabell B.
Exempel 1.
Genom upphettning av pyrexglas (brytningsindex ca 1,47) till ca 600°C och förbiledning av reaktionskomponentgasblandning över detta belades glaset med följande skikt: a) Ett skikt av tennoxid med en tjocklek av ca 18 nm pÄfördes med anvÀndning av en blandning innehÄllande 1,5 % tetrametyltenn, 3,0 % bromotrifluormetan och resten torr luft under ca en sekund. b) DÀrefter avsattes ca 28 nm av ett kise1dioxid-silikon- blandningsskikt (brytningsindex ca 1,45) med anvÀndning av en gasblandning innehÄllande 0,4 % tetrametyldisilan och resten torr luft under ca fem sekunder. c) Slutligen avsattes ett fluordopat tennoxidskikt med en tjocklek av ca 200 nm med anvÀndning av samma gasblandning som vid avsÀttning a) men med en tidsexponering av ca lO sekunder.
Det pÄ detta sÀtt beredda provstycket hade ett vÀsentligen fÀrglöst utseende i reflekterat och transmitterat ljus.
Exemgel 2.
Förfarandet enligt exempel 1 genomfördes pÄ ett provstycke av soda-kalkfloatglas med det ytterligare steget att man först belÀgger glaset med ett tunt skikt (ca 10 nm tjocklek) av en kiseldioxid-tetrametyldisilan i luft under ca en sekund.
Resultat likartade med exempel 1 erhÄlles. NÀr detta första skyddsskikt utelÀmnas, har soda-kalkglasprover belagda enligt exempel 1 ett grumlat utseende. 8302737-5 20 Figur 2 visar vidare hur variationer ifrÄga om tennoxidtjock- leken pÄverkar de optiska egenskaperna hos mellanskiktet.
Den typ av profil som visas pÄ figur 2 Àr typisk för mellan- skiktssystem enligt uppfinningen.
Exempel 3 och 4.
Titandioxid (brytningsindex ca 2,5) anvÀndes i stÀllet för mellanbelÀggningen av tennoxid i exempel 1 och 2. AvsÀtt- ning a) ersÀttes med följande: a) Ett skikt av titandioxid med en tjocklek av ca 8 nm avsÀttes frÄn en gasblandning innehÄllande 0,2 % titaniso- propoxidÄnga i torr kvÀve sÄsom bÀrargas under fem sekunder.
Resultat för exempel 3 och 4 likvÀrdiga med de vid exempel l resp. 2 erhölls.
Exempel 5.
Kiselnitrid (brytningsindex ca 2,0) anvÀndes i stÀllet för mellanbelÀggningen av tennoxid enligt exempel l. AvsÀtt- ningen a) ersÀttes med följande: a) Ett skikt av kiselnitrid med en tjocklek av ca 18 nm avsÀttes frÄn en gasblandning innehÄllande 0,2 % silan, l,5 % hydrazin samt resten kvÀve under ca 20 sekunder.
Denna behandling upprepas med anvÀndning av soda-kalkglas, ett slöj- eller grumlingsfritt utseende erhÄlles Àven utan ett skyddsskikt av kiseldioxid-silikon.
Det bör observeras att patentkraven i det följande Àr avsedda att innefatta alla generiska och specifika sÀrdrag för upp- i finningen sÄsom denna beskrivits och alla uttryck för om- V fÄngst av uppfinningen som kan tÀnkas falla dÀremellan.

Claims (21)

8302737~5 ßl PATENTKRAV
1. l. Förfarande för framstÀllning av ett icke-iriserande, transparent föremÄl av den tYP^ som innefattar a) ett transparent substrat, b) en infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggning pÄ detta och c) ett iriseringsundertryckande mellanskikt mellan substratet och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen, varvid förfaran- det k À n n e t e c k n a s av att det sÄsom steg innefattar att man mellan den infrarödref- lekterande eller elektriskt ledande belÀggningen och det transparenta substratet Ästadkommer ett mellanskikt av tvÄ mellanskiktskomponenter genom att l) nÀrmast substratet pÄföra en belÀggning av en första mellanskiktskomponent av material med förhÄllandevis högt brytningsindex, 2) pÄ materialet med förhÄllandevis högt bryt ningsindex pÄföra en överbelÀggning av en andra mellanskiktskomponent av material med förhÄllandevis lÄgt brytningsindex och 3) avsluta tillvÀxten av mellanskiktskomponenter- na vid sÄdan tjocklek att de kombinerade mel- ' lanskiktskomponenterna bildar ett iriserings~ undertryckande medel samt den totala optiska tjockleken hos mellanskiktskomponenterna Àr ca l/6 av en 500 nm konstruktionsvÄglÀngd.
2. Förfarande enligt patentkrav l, k À n n e t e c k - n a t dÀrav, att den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen och den första mellanskiktskomponenten har i huvudsak samma brytningsindex.
3. Förfarande enligt patentkrav 2, k À n n e t e c k ~ n a t dÀrav, att den infrarödreflekterande eller elektriskt 8302737-5 22 ledande belÀggningen och den första mellanskiktskomponenten bÄda utgöres av tennoxidbaserade belÀggningar.
4. Förfarande enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att den första mellanskikts- komponenten har ett brytningsindex, som Àr vÀsentligen högre Àn brytningsindex för den infrarödreflekterande eller elekt- riskt ledande belÀggningen.
5. Förfarande enligt nÄgot av patentkraven l-3, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den första mellanskiktskomponen- ten har ett brytningsindex, som Àr vÀsentligen lÀgre Àn bryt- ningsindex för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen.
6. Förfarande enligt nÄgot av patentkraven l-3, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att mellanskiktskomponenterna har brytningsindexvÀrden, som ligger mellan brytningsindex för substratet och för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen.
7. Förfarande enligt nĂ„got av föregĂ„ende patentkrav, k Ă€ n n e t e c k n a t dĂ€rav, att den optiska tjockleken dl hos mellanskiktskomponenten nĂ€rmast substratet Ă€r ca fl/720) cos_l Zlrlz + r22 - r32)/2rlr2/ vari den optiska tjockleken dz av mellanskiktskcmponenten nĂ€rmare det infrarödreflekterande skiktet Ă€r ca (l/720) cos_l Åïrzz + r32 - rlz)/2r2r3] för en konstruktionsvĂ„glĂ€ngd av 500 nm, och varvid rl = (nl-ng)/(nl+ng) 2 = (“1'“2V(n1+“2) r3 = (nc-nz)/(nc+n2) och varvid Il g brytningsindex för substratet, 830273745 23 n = brytningsindex för mellanskiktskomponenten nĂ€rmast substratet, n2 = brytningsindex för mellanskiktskomponenten nĂ€rmast den infrarödreflekterande eller elekt- riskt ledande belĂ€ggningen och n = brytningsindex för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belĂ€ggningen.
8. Förfarande enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att brytningsindexvÀrdena och de optiska tjockleksvÀrdena för substratet, mellanskiktskompo- nenten och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen vÀljes sÄ att de ger ett fÀrgmÀttnadsvÀrde under ca l2.
9. Förfarande enligt nÄgot av patentkraven l-7, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att brytningsindexvÀrdena och de optiska tjockleksvÀrdena för substratet, mellanskiktskompo- nenterna och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen vÀljes sÄ att de ger ett fÀrgmÀttnads- vÀrde under ca 8.
10. Förfarande enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, varvid en av de iriseringsundertryckande mellanskiktskompo- nenterna Àr ett skikt av tennoxid med en maximitjocklek av ca l/6 av en vÄglÀngd, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att det sÄsom steg'innefattar att man bereder en mellanskiktskomponent av tennoxid genom reaktion av en blandning innehÄllande en mycket ringa mÀngd fluorhaltig gas, en organotennförening och syre, varvid den fluorhaltiga gasen verkar sÄsom ett medel för att öka avsÀttningshastigheten av tennoxiden.
11. ll. Förfarande enligt patentkrav 10, k À n n e t e c k - n a t dÀrav, att den fluorhaltiga gasen Àr en bromfluormetan- förening.
12. Icke-iriserande, transparent, skiktformigt föremÄl innefattande 8302737-5 24 a) ett transparent substrat, b) en infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggning och c) ett iriseringsundertryckande mellanskikt mellan substratet och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen, k À n n e - t e c k n a t dÀrav, att föremÄlet innefattar, mellan den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen och det transparenta subst- ratet, ett iriseringsundertryckande mellanskikt bestÄende vÀsentligen av tvÄ komponenter: 1) en första mellanskiktskomponent av material med förhÄllandevis högt brytningsindex nÀrmast substratet, _ 2) över materialet med förhÄllandevis högt bryt- ningsindex en andra mellanskiktskomponent av material med förhÄllandevis lÄgt brytnings- index och 3) varvid de kombinerade mellanskiktskomponenter- na hos detta iriseringsundertryckande medel har en total optisk tjocklek av ca l/6 av en 500 nm konstruktionsvÄglÀngd.
13. l3. FöremÄl enligt patentkrav 12, k À n n e t e c k - n a t dÀrav, att den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen och de första mellanskiktskomponenterna har i huvudsak samma brytningsindex.
14. FöremÄl enligt patentkrav 12 eller 13, k À n n e - t e c k n a t dÀrav, att den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen och den första mellanskikts- komponenten bÄda utgöres av tennoxidbaserade belÀggningar.
15. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 12-14, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den första mellanskiktskomponen- ten har ett brytningsindex, som Àr vÀsentligt högre Àn bryt- ningsindex för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen. 8302737-5 25
16. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 12-14, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den första mellanskiktskomponen- ten har ett brytningsindex, som Àr vÀsentligt lÀgre Àn bryt- ningsindex för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen.
17. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 12-14, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att mellanskiktskomponenterna har brytningsindexvÀrden, som ligger mellan brytningsindex för substratet och för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen.
18. FöremĂ„l enligt nĂ„got av patentkraven 12-17, k Ă€ n - n e t e c k n a t dĂ€rav, att den optiska tjockleken dl hos mellanskiktskomponenten nĂ€rmast substratet Ă€r ca (i/vzo) C051 ïŹ‚rlz + f; + rfvzrlrz] varvid den optiska tjockleken dl av mellanskiktet nĂ€rmast det infrarödreflekterande eller elektriskt ledande skiktet Ă€r ca (1/720) cos_l ÅTr22 + r33 - rlz)/2r2r37 för en konstruktionsvĂ„glĂ€ngd av 500 nm, och varvid rl = (nl-ng)/(nl+ng) r2 = (nl-nz)/(nl+n2) r3 = (nc-nz)/(nc+n2) och varvid ng = brytningsindex för substratet, nl = brytningsindex för mellanskiktet nĂ€rmast substratet, n2 = brytningsindex för mellanskiktet nĂ€rmast den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belĂ€ggningen och n = brytningsindex för den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belĂ€ggningen.
19. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 12-18, k À n - 8302737-5 26 n e t e c k n a t dÀrav, att brytningsindexvÀrdena och de optiska tjockleksvÀrdena för substratet, mellanskiktskomponen- terna och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen vÀljes sÄ att de ger ett fÀrgmÀttnadsvÀrde under ca l2.
20. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven l2-l8, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att brytningsindexvÀrdena och de optiska tjockleksvÀrdena för substratet, mellanskiktskomponen- terna och den infrarödreflekterande eller elektriskt ledande belÀggningen vÀljes sÄ att de ger ett fÀrgmÀttnadsvÀrde under ca 8.
21. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 12-18, k À n ~ n e t e c k n a t dÀrav, att det Àr fritt frÄn metalliska komponenter eller fÀrgade komponenter, som fungerar primÀrt genom absorption av synligt ljus.
SE8302737A 1981-09-14 1983-05-13 Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal SE440644B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US30212681A 1981-09-14 1981-09-14

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE8302737L SE8302737L (sv) 1983-05-13
SE8302737D0 SE8302737D0 (sv) 1983-05-13
SE440644B true SE440644B (sv) 1985-08-12

Family

ID=23166368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE8302737A SE440644B (sv) 1981-09-14 1983-05-13 Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal

Country Status (1)

Country Link
SE (1) SE440644B (sv)

Also Published As

Publication number Publication date
SE8302737L (sv) 1983-05-13
SE8302737D0 (sv) 1983-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4419386A (en) Non-iridescent glass structures
US4377613A (en) Non-iridescent glass structures
US4187336A (en) Non-iridescent glass structures
US4308316A (en) Non-iridescent glass structures
US4206252A (en) Deposition method for coating glass and the like
US4440822A (en) Non-iridescent glass structures
GB2031756A (en) Non-iridescent glass structures and processes for their production
US4971843A (en) Non-iridescent infrared-reflecting coated glass
RU2120919C1 (ru) ĐĄĐżĐŸŃĐŸĐ± ĐżĐŸĐ»ŃƒŃ‡Đ”ĐœĐžŃ зДрĐșĐ°Đ» Đž зДрĐșĐ°Đ»ĐŸ
SE445449B (sv) Forfarande och anordning for kontinuerlig beleggning av ett transparent substrat av glas eller liknande samt genom forfarandet erhallen transparent glasprodukt
US4965093A (en) Chemical vapor deposition of bismuth oxide
GB2136316A (en) Coated Glazing Materials
SE440644B (sv) Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal
CA1264996A (en) Non-iridescent infrared-reflecting coated glass
JPS6339535B2 (sv)
US4294193A (en) Apparatus for vapor coating a moving glass substrate
CA1132012A (en) Non-iridescent glass structures
FI72613B (fi) Icke-iriserande glasstrukturer, foerfarande foer framstaellning av dessa och anvaendning av dessa.
SE434634B (sv) Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad
IE47982B1 (en) Non-iridescent glass structures and processes for their production
NL7810509A (nl) Niet-iriserende glasstructuren.
CA1147139A (en) Deposition method
NO144139B (no) Anordning dannet av minst en gjennomsiktig glassplate med et uorganisk belegg av et materiale som reflekterer infraroed straaling
DK154896B (da) Struktur dannet af mindst en transparent glasplade med en uorganisk belaegning, som reflekterer infraroed straaling
US4954367A (en) Vapor deposition of bis-tributyltin oxide

Legal Events

Date Code Title Description
NAL Patent in force

Ref document number: 8302737-5

Format of ref document f/p: F

NUG Patent has lapsed

Ref document number: 8302737-5

Format of ref document f/p: F