[go: up one dir, main page]

SE381869B - Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor - Google Patents

Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor

Info

Publication number
SE381869B
SE381869B SE7116802A SE1680271A SE381869B SE 381869 B SE381869 B SE 381869B SE 7116802 A SE7116802 A SE 7116802A SE 1680271 A SE1680271 A SE 1680271A SE 381869 B SE381869 B SE 381869B
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
bis
copies
acrylic
preparation
intended
Prior art date
Application number
SE7116802A
Other languages
English (en)
Inventor
R-J Faust
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of SE381869B publication Critical patent/SE381869B/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0387Polyamides or polyimides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polyamides (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
SE7116802A 1970-12-31 1971-12-29 Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor SE381869B (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2064742A DE2064742C3 (de) 1970-12-31 1970-12-31 Photopolymerisierbare Verbindungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SE381869B true SE381869B (sv) 1975-12-22

Family

ID=5792741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE7116802A SE381869B (sv) 1970-12-31 1971-12-29 Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor

Country Status (14)

Country Link
US (1) US3857885A (sv)
JP (1) JPS5421726B2 (sv)
AT (1) AT327238B (sv)
BE (1) BE777426A (sv)
BR (1) BR7108650D0 (sv)
CA (1) CA991200A (sv)
CH (1) CH566026A5 (sv)
DE (1) DE2064742C3 (sv)
FR (1) FR2121190A5 (sv)
GB (1) GB1379230A (sv)
IT (1) IT945671B (sv)
NL (1) NL7117572A (sv)
SE (1) SE381869B (sv)
SU (1) SU503554A3 (sv)

Families Citing this family (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3959100A (en) * 1973-11-08 1976-05-25 Scm Corporation Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same
GR61761B (en) * 1975-11-12 1979-01-09 Linde Ag Casting plant
US4254194A (en) * 1979-12-03 1981-03-03 Arthur D. Little, Inc. Screen printing stencils using novel compounds and compositions
DE3136818C2 (de) * 1980-09-19 1990-08-02 Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
JPS5764734A (en) * 1980-10-08 1982-04-20 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element
DE3740324C2 (de) * 1987-11-27 1994-08-04 Lohmann Gmbh & Co Kg N-substituierte Carbonsäureamide, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
ATE433857T1 (de) 2003-03-26 2009-07-15 Fujifilm Corp Flachdruckverfahren und vorsensibilisierte platte
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
EP1619023B1 (en) 2004-07-20 2008-06-11 FUJIFILM Corporation Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
US7745090B2 (en) 2004-08-24 2010-06-29 Fujifilm Corporation Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP4429116B2 (ja) 2004-08-27 2010-03-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4524235B2 (ja) 2005-03-29 2010-08-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4694324B2 (ja) 2005-09-09 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
EP1974914B1 (en) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate
EP1975706A3 (en) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
EP2006738B1 (en) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5247261B2 (ja) 2007-07-02 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
JP2009069761A (ja) 2007-09-18 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版の製版方法
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
DE602008001931D1 (de) 2007-09-28 2010-09-09 Fujifilm Corp Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
ATE526366T1 (de) 2007-10-31 2011-10-15 Fujifilm Corp Farbige härtbare zusammensetzung, farbfilter, herstellungsverfahren dafür und festzustand- bildaufnahmevorrichtung
JPWO2009063824A1 (ja) 2007-11-14 2011-03-31 富士フイルム株式会社 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法
JP5155677B2 (ja) 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、およびその製版方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5398282B2 (ja) 2008-09-17 2014-01-29 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製造方法、及びレリーフ印刷版
JP5449898B2 (ja) 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5408942B2 (ja) 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
JP5705584B2 (ja) 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
CN103562794B (zh) 2011-03-28 2016-07-13 富士胶片株式会社 平版印刷版的制版方法
JP5255100B2 (ja) 2011-07-29 2013-08-07 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP6144350B2 (ja) 2013-09-13 2017-06-07 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、フレキソ印刷版の製版方法、および、レーザー彫刻用樹脂組成物
JP6387614B2 (ja) 2014-01-09 2018-09-12 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法およびインクセット
JP2015131398A (ja) 2014-01-09 2015-07-23 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置、インクセットおよび三次元造形物
JP6273849B2 (ja) 2014-01-15 2018-02-07 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置およびインクセット
JP2015168111A (ja) 2014-03-05 2015-09-28 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174338A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174272A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置および三次元造形物
JP2015174339A (ja) 2014-03-14 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP2015174361A (ja) 2014-03-17 2015-10-05 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP6458346B2 (ja) 2014-03-18 2019-01-30 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置および三次元造形物の製造方法
JP2015182434A (ja) 2014-03-26 2015-10-22 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JP6454977B2 (ja) 2014-03-26 2019-01-23 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造装置
JP2016010870A (ja) 2014-06-27 2016-01-21 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法および三次元造形物
TW201609934A (zh) 2014-07-01 2016-03-16 精工愛普生股份有限公司 三維造形用組合物、三維造形物之製造方法及三維造形物
JP6515557B2 (ja) 2015-02-04 2019-05-22 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物製造用部材、三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物
JPWO2023042716A1 (sv) * 2021-09-17 2023-03-23
JPWO2023042715A1 (sv) * 2021-09-17 2023-03-23

Also Published As

Publication number Publication date
DE2064742B2 (de) 1979-06-07
DE2064742C3 (de) 1980-02-07
DE2064742A1 (sv) 1972-08-03
JPS5421726B2 (sv) 1979-08-01
BR7108650D0 (pt) 1973-05-17
GB1379230A (en) 1975-01-02
FR2121190A5 (sv) 1972-08-18
CA991200A (en) 1976-06-15
SU503554A3 (ru) 1976-02-15
BE777426A (fr) 1972-06-28
US3857885A (en) 1974-12-31
AT327238B (de) 1976-01-26
NL7117572A (sv) 1972-07-04
ATA1119171A (de) 1975-04-15
IT945671B (it) 1973-05-10
CH566026A5 (sv) 1975-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE381869B (sv) Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor
SE397677B (sv) Forfarande for framstellning av en alfa-dipeptidlagalkylester av l-asparaginsyra
SE388422B (sv) Forfarande for reduktion av theabin
SE399701B (sv) Forfarande for framstellning av hydroxyalkyldiamin
JPS57131761A (en) Manufacture of aminophenylcycloamidine and salts of same
SE416302B (sv) Forfarande for framstellning av foreningar tillhorande dihydrolysergsyra- och dihydroisolysergsyraserien
JPS5444663A (en) Manufacture of aminophenyllcycloamidine and its salts
SE394436B (sv) Forfarande for framstellning av 7-halogen-linkomyciner
BE769862A (fr) Cyanopyrazines et composes apparentes
SE385011B (sv) Forfarande for framstellning av alfa-linkosaminider
SE389105B (sv) Forfarande for framstellning av vissa angivna ketaziner
SE395897B (sv) Forfarande for framstellning av 7beta-acylamido-3-metyl-cef-3-em-4-karbonsyror
SE406195B (sv) Forfarande for framstellning av bensocykloheptaisokinolinderivat samt syraadditionssalter derav
SE408418B (sv) Forfarande for framstellning av 5-fluor-pyrimidiner
SE392611B (sv) Forfarande for framstellning av antrakinonkarboxylsyra
IT946159B (it) Azocoloranti e procedimento per la loro preparazione
IT945769B (it) Composti di poliamidammonio loro preparazione ed impiego
IT1043831B (it) Monoidrossifenilcarbinoli procedimente per la loro preparazione e loro impiego
IT969055B (it) 1 2 4 ossadiazoli e procedimento per la loro preparazione
SE380795B (sv) Forfarande for framstellning av tiokarbamider
SE405359B (sv) Bensisotiazolinforeningar avsedda att anvendas for framstellning av motsvarande bensisotiazolforeningar
IT941461B (it) Ossadiazoli e procedimento per la loro preparazione
SE382046B (sv) Forfarande for framstellning av 1-aryloxi-2-propanol
IL37030A0 (en) New 21-substituted 17-aza-steroids and salts thereof and preparation of these compounds
IT943704B (it) Confosti antrachinonici loro preporazione e loro impiego