SE381869B - Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor - Google Patents
Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassorInfo
- Publication number
- SE381869B SE381869B SE7116802A SE1680271A SE381869B SE 381869 B SE381869 B SE 381869B SE 7116802 A SE7116802 A SE 7116802A SE 1680271 A SE1680271 A SE 1680271A SE 381869 B SE381869 B SE 381869B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- bis
- copies
- acrylic
- preparation
- intended
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0387—Polyamides or polyimides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polyamides (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2064742A DE2064742C3 (de) | 1970-12-31 | 1970-12-31 | Photopolymerisierbare Verbindungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE381869B true SE381869B (sv) | 1975-12-22 |
Family
ID=5792741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7116802A SE381869B (sv) | 1970-12-31 | 1971-12-29 | Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3857885A (sv) |
JP (1) | JPS5421726B2 (sv) |
AT (1) | AT327238B (sv) |
BE (1) | BE777426A (sv) |
BR (1) | BR7108650D0 (sv) |
CA (1) | CA991200A (sv) |
CH (1) | CH566026A5 (sv) |
DE (1) | DE2064742C3 (sv) |
FR (1) | FR2121190A5 (sv) |
GB (1) | GB1379230A (sv) |
IT (1) | IT945671B (sv) |
NL (1) | NL7117572A (sv) |
SE (1) | SE381869B (sv) |
SU (1) | SU503554A3 (sv) |
Families Citing this family (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3959100A (en) * | 1973-11-08 | 1976-05-25 | Scm Corporation | Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same |
GR61761B (en) * | 1975-11-12 | 1979-01-09 | Linde Ag | Casting plant |
US4254194A (en) * | 1979-12-03 | 1981-03-03 | Arthur D. Little, Inc. | Screen printing stencils using novel compounds and compositions |
DE3136818C2 (de) * | 1980-09-19 | 1990-08-02 | Hitachi Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske |
JPS5764734A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive element |
DE3740324C2 (de) * | 1987-11-27 | 1994-08-04 | Lohmann Gmbh & Co Kg | N-substituierte Carbonsäureamide, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
ATE433857T1 (de) | 2003-03-26 | 2009-07-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckverfahren und vorsensibilisierte platte |
US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
EP1619023B1 (en) | 2004-07-20 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Image forming material |
US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
US7745090B2 (en) | 2004-08-24 | 2010-06-29 | Fujifilm Corporation | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP4429116B2 (ja) | 2004-08-27 | 2010-03-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
EP1701213A3 (en) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
JP4524235B2 (ja) | 2005-03-29 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP4792326B2 (ja) | 2005-07-25 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4694324B2 (ja) | 2005-09-09 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
ATE471812T1 (de) | 2007-03-23 | 2010-07-15 | Fujifilm Corp | Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
EP1974914B1 (en) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP1975706A3 (en) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2006738B1 (en) | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
JP5247261B2 (ja) | 2007-07-02 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
JP2009069761A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
DE602008001931D1 (de) | 2007-09-28 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | Negatives lichtempfindliches Material und negativer planographischer Druckplattenvorläufer |
JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
ATE526366T1 (de) | 2007-10-31 | 2011-10-15 | Fujifilm Corp | Farbige härtbare zusammensetzung, farbfilter, herstellungsverfahren dafür und festzustand- bildaufnahmevorrichtung |
JPWO2009063824A1 (ja) | 2007-11-14 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 塗布膜の乾燥方法及び平版印刷版原版の製造方法 |
JP5155677B2 (ja) | 2008-01-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、およびその製版方法 |
JP5500831B2 (ja) | 2008-01-25 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版 |
JP5448352B2 (ja) | 2008-03-10 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
KR20090100262A (ko) | 2008-03-18 | 2009-09-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP5398282B2 (ja) | 2008-09-17 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製造方法、及びレリーフ印刷版 |
JP5449898B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5408942B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5535814B2 (ja) | 2009-09-14 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物 |
JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
JP5705584B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
CN103562794B (zh) | 2011-03-28 | 2016-07-13 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制版方法 |
JP5255100B2 (ja) | 2011-07-29 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻型フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法 |
JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
JP6144350B2 (ja) | 2013-09-13 | 2017-06-07 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法、フレキソ印刷版の製版方法、および、レーザー彫刻用樹脂組成物 |
JP6387614B2 (ja) | 2014-01-09 | 2018-09-12 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法およびインクセット |
JP2015131398A (ja) | 2014-01-09 | 2015-07-23 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置、インクセットおよび三次元造形物 |
JP6273849B2 (ja) | 2014-01-15 | 2018-02-07 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置およびインクセット |
JP2015168111A (ja) | 2014-03-05 | 2015-09-28 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JP2015174338A (ja) | 2014-03-14 | 2015-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JP2015174272A (ja) | 2014-03-14 | 2015-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置および三次元造形物 |
JP2015174339A (ja) | 2014-03-14 | 2015-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JP2015174361A (ja) | 2014-03-17 | 2015-10-05 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JP6458346B2 (ja) | 2014-03-18 | 2019-01-30 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置および三次元造形物の製造方法 |
JP2015182434A (ja) | 2014-03-26 | 2015-10-22 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JP6454977B2 (ja) | 2014-03-26 | 2019-01-23 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造装置 |
JP2016010870A (ja) | 2014-06-27 | 2016-01-21 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
TW201609934A (zh) | 2014-07-01 | 2016-03-16 | 精工愛普生股份有限公司 | 三維造形用組合物、三維造形物之製造方法及三維造形物 |
JP6515557B2 (ja) | 2015-02-04 | 2019-05-22 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物製造用部材、三次元造形物製造装置、三次元造形物の製造方法および三次元造形物 |
JPWO2023042716A1 (sv) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | ||
JPWO2023042715A1 (sv) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 |
-
1970
- 1970-12-31 DE DE2064742A patent/DE2064742C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-12-21 NL NL7117572A patent/NL7117572A/xx not_active Application Discontinuation
- 1971-12-27 JP JP375872A patent/JPS5421726B2/ja not_active Expired
- 1971-12-28 US US00213170A patent/US3857885A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-12-28 IT IT55028/71A patent/IT945671B/it active
- 1971-12-28 BE BE777426A patent/BE777426A/xx unknown
- 1971-12-28 CH CH1907771A patent/CH566026A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-28 AT AT1119171A patent/AT327238B/de not_active IP Right Cessation
- 1971-12-29 SU SU1731657A patent/SU503554A3/ru active
- 1971-12-29 CA CA131,211A patent/CA991200A/en not_active Expired
- 1971-12-29 SE SE7116802A patent/SE381869B/sv unknown
- 1971-12-29 BR BR8650/71A patent/BR7108650D0/pt unknown
- 1971-12-30 GB GB6072371A patent/GB1379230A/en not_active Expired
- 1971-12-31 FR FR7147712A patent/FR2121190A5/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2064742B2 (de) | 1979-06-07 |
DE2064742C3 (de) | 1980-02-07 |
DE2064742A1 (sv) | 1972-08-03 |
JPS5421726B2 (sv) | 1979-08-01 |
BR7108650D0 (pt) | 1973-05-17 |
GB1379230A (en) | 1975-01-02 |
FR2121190A5 (sv) | 1972-08-18 |
CA991200A (en) | 1976-06-15 |
SU503554A3 (ru) | 1976-02-15 |
BE777426A (fr) | 1972-06-28 |
US3857885A (en) | 1974-12-31 |
AT327238B (de) | 1976-01-26 |
NL7117572A (sv) | 1972-07-04 |
ATA1119171A (de) | 1975-04-15 |
IT945671B (it) | 1973-05-10 |
CH566026A5 (sv) | 1975-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE381869B (sv) | Substituerade bis-akryl- och bis-metakrylsyraamider avsedda att anvendas for framstellning av kopieringsmassor | |
SE397677B (sv) | Forfarande for framstellning av en alfa-dipeptidlagalkylester av l-asparaginsyra | |
SE388422B (sv) | Forfarande for reduktion av theabin | |
SE399701B (sv) | Forfarande for framstellning av hydroxyalkyldiamin | |
JPS57131761A (en) | Manufacture of aminophenylcycloamidine and salts of same | |
SE416302B (sv) | Forfarande for framstellning av foreningar tillhorande dihydrolysergsyra- och dihydroisolysergsyraserien | |
JPS5444663A (en) | Manufacture of aminophenyllcycloamidine and its salts | |
SE394436B (sv) | Forfarande for framstellning av 7-halogen-linkomyciner | |
BE769862A (fr) | Cyanopyrazines et composes apparentes | |
SE385011B (sv) | Forfarande for framstellning av alfa-linkosaminider | |
SE389105B (sv) | Forfarande for framstellning av vissa angivna ketaziner | |
SE395897B (sv) | Forfarande for framstellning av 7beta-acylamido-3-metyl-cef-3-em-4-karbonsyror | |
SE406195B (sv) | Forfarande for framstellning av bensocykloheptaisokinolinderivat samt syraadditionssalter derav | |
SE408418B (sv) | Forfarande for framstellning av 5-fluor-pyrimidiner | |
SE392611B (sv) | Forfarande for framstellning av antrakinonkarboxylsyra | |
IT946159B (it) | Azocoloranti e procedimento per la loro preparazione | |
IT945769B (it) | Composti di poliamidammonio loro preparazione ed impiego | |
IT1043831B (it) | Monoidrossifenilcarbinoli procedimente per la loro preparazione e loro impiego | |
IT969055B (it) | 1 2 4 ossadiazoli e procedimento per la loro preparazione | |
SE380795B (sv) | Forfarande for framstellning av tiokarbamider | |
SE405359B (sv) | Bensisotiazolinforeningar avsedda att anvendas for framstellning av motsvarande bensisotiazolforeningar | |
IT941461B (it) | Ossadiazoli e procedimento per la loro preparazione | |
SE382046B (sv) | Forfarande for framstellning av 1-aryloxi-2-propanol | |
IL37030A0 (en) | New 21-substituted 17-aza-steroids and salts thereof and preparation of these compounds | |
IT943704B (it) | Confosti antrachinonici loro preporazione e loro impiego |