SA517381070B1 - نظم لحماية جدران جانبية لخلية تحلل كهربائي - Google Patents

Abstract

يتعلق الاختراع الحالي بتوفير نظام يتضمن خلية حّل بالكهرباء تم تصميمها لاحتجاز حمام إلكتروليت منصهر، حيث يضم الحمام مكون حمام واحد على الأقل، ¬وتتضمن خلية الحّل بالكهرباء: جزء سفلي، وجدار جانبي يتكون بشكل أساسي من مكون الحمام الواحد على الأقل؛ ومادة تغذية تتضمن مكون الحمام الواحد على الأقل إلى حمام الإلكتروليت المنصهر بحيث يكون مكون الحمام الواحد على الأقل مشبعًا بنسبة 30%، حيث، عن طريق مادة التغذية، يكون الجدار الجانبي ثابتًا في حمام الإلكتروليت المنصهر. شكل 6.

Description

نظم لحماية جدران جانبية لخلية تحلل كهريائي ‎Systems of Protecting Electrolysis Cell Sidewalls‏ الوصف الكامل

خلفية الاختراع

على نحو تقليدي؛ يتم إنشاء الجدران الجانبية لخلية تحلل كهربي من مواد موصلة للحرارة لتكوين

حافة مجمدة بامتداد الجدار الجانبي بالكامل (وسطح علوي للحمام) للحفاظ على تكامل الخلية؛

يكشف (برادفورد وآخرون) في البراءة الأمريكية 011660/2004 -1أ عن طريقة وخلية إلكتروليتية

لإنتاج الألومنيوم في خلية إلكتروليتية تحتوي على ألومينا مذابة في إلكتروليت» تشتمل الطريقة على

توفير إلكتروليت ملح مصهور عند درجة حرارة أقل من 900 درجة ‎gia‏ تحتوي على ألومينا مذابة

فيها. تشتمل الخلية على أنودات وكاثودات وحاوية لاحتواء الإلكتروليت» وخزان تم توفيره في اتصال

عن طريق إلكتروليت سائل مع الحاوية لاحتواء الإلكتروليت المصهور. يحتوي ‎endl‏ السفلي من

الحاوية على فتحة واحدة على الأقل للخزان. يتم تمرير التيار الكهريائي عبر الأنودات وعبر 0 الإلكتروليت إلى الكاثودات»؛ مع ترسيب الألومنيوم في الكاثودات وإنتاج الغاز في الأنودات. يتم

تصريف الألومنيوم من الكاثود عبر الفتحة في الأسفل للتجميع في الخزان البعيد عن الحاوية حيث

يتم إجراء التحلل الكهربائي. أثناء التحلل الكهربائي؛ ينتج عن الاضطراب الإلكتروليت المصهور من

تطور الغاز في الأنودات؛ وبالتالي من المفضل إزالة الألومنيوم المصهور إلى موقع أو خزان حيث

لا يتم تعكيره. علاوة على ذلك؛ يعمل تجميع الألومنيوم المصهور في خزان منفصل عن حاوية 5 التحلل الكهربائي على تجنب تلوث الألومينا المصهورة بالألومينا غير المذابة التي تميل إلى الاستقرار

في قاع الحاوية الإلكتروليتية. بالإضافة إلى ذلك؛ يتم حماية الإلكترود من القصر الكهربائي عندما

يتم نقل الحركة إلى لوحة الألومنيوم من خلال القوى الكهرومغناطيسية المتولدة في الخلية. تتصف

إزالة المعدن من منطقة التفاعل الإلكتروليتي بميزة أخرى حيث أنها تسمح بمسافة أقرب بين الأنودات

والكاثودات. تؤدي إزالة المعدن بهذه الطريقة إلى تشغيل خلية أكثر ‎hind‏ لأنه لا يوجد اضطراب 0 أو تداخل كما هو الحال في الخلايا التقليدية عند إزالة المعدن.

يكشف (بيك وآخرون) في البراءة الأمريكية 5006209 ‎I=‏ أنه يمكن اختزال جزيئات الألومينا المقسمة بصورة إلكتروليتية وبدقة إلى الألومنيوم في وعاء اختزال إلكتروليتي به مجموعة من الأنودات غير المستهلكة والموضوعة ‎Gul)‏ ومجموعة من الكاثودات المستقرة في الأبعاد والموضوعة رأسيًا في ترتيب متباعد قريب تبادليًا مع الأنودات. ‎dag‏ مولد فقاعي للغاز يتم وضعه ‎Gal‏ في قاع الوعاء؛ أسفل الكاثودات والمسافات بين كل زوج من الإلكترودات المجاورة. يحتوي الوعاء على حمام إلكتروليت مصهور يتكون من )1( ‎NaF+AIF3‏ أصهرية و(2) ‎KF+AIF3‏ أصهرية و(3) ‎LiF‏ ‏يتم الاحتفاظ بجزيئات الألومينا في تعليق في حمام الإلكتروليت المصهور عن طريق ارتفاع فقاعات الغاز المتولدة في الأنودات وفي مولد فقاعات الغاز أثناء عملية الاختزال. ‎Glass‏ البراءة الأمريكية 3852173 (جاكويس وآخرون) بالاختزال الإلكتروليتي للألومينا إلى معدن 0 الألومنيوم»؛ وبشكل أكثر تحديدًاء إلى عملية هال-هيرولت المعدلة لإنتاج الألومنيوم. تشتمل العملية على: تحلل الألومينا بصورة إلكتروليتية إلى معدن الألومنيوم في حمام إلكتروليت بين أنود كربون وواجهة كاثودية تتكون بين معدن الألومنيوم وحمام الإلكتروليت؛ والحمام (أ) يتكون بالأساس من 3ه ‎«NaF‏ و ‎AIF3‏ و(ب) وجود نسبة وزن ‎NaF‏ إلى ‎AIF3‏ تصل إلى 1:11 مع الحفاظ على الحمام عند درجة حرارة تشغيل فعالة لمنع تقشر الحمام في المناطق البينية بين الحمام ومعدن 5 الألومنيوم» مع احتواء الجزءٍ العلوي من الخلية للحفاظ على سطح الحمام المصهور» وأثناء تغذية الألومينا (أ) بشكل مستمر بالأساس على سطح الحمام المصهور»؛ (ب) يحتوي الألومينا على محتوى مائي فعال لمنع تعفير ‎cas]‏ و(ج) يتعرض أنود الكربون للماء الغازي الناتج من الألوميناء حيث يتم منع تعفير الأنود. الوصف العام للاختراع 0 بمفهوم واسع؛ يتعلق الكشف الحالي بمزايا الجدار الجانبي (على سبيل المثال؛ الجدار الجانبي الداخلي أو واجهة ساخنة) لخلية تحلل كهربي؛ تحمي الجدار الجانبي من الحمام الإلكتروليتي أثناء عمل الخلية (على سبيل ‎(JE‏ معدن منتج في الخلية الإلكتروليتية). وعلى نحو أكثر تحديدًا؛ توفر صفات الجدار الجانبي الداخلي التلامس المباشر مع المعدن؛ والحمام؛ و/ أو البخار في خلية إلكتروليتية في غياب الحافة المجمدة بامتداد الجدار الجانبي الداخلي بالكامل أو ‎ga‏ منه.

على الأقل؛ بواحد أو أكثر من نماذج الجدار الجانبي بالكشف الحالي. في بعض النماذج؛ تم توفير ‎Bale‏ جدار جانبي مستقرة؛ تكون مستقرة (على سبيل المثال غير تفاعلية إلى حد كبير) في الإلكتروليت المصهور (على سبيل المثال؛ حمام الخلية) بالحفاظ على واحد أو أكثر من المكونات في كيمياء الحمام بنسبة تشبع مئوية محددة. في بعض النماذج؛ يتم الحفاظ على كيمياء الحمام من خلال وسيلة تغذية واحدة على الأقل في الخلية ‎lo)‏ سبيل المثال؛ الموجودة بامتداد الجدار الجانبي) وتوفر ‎sale‏ التغذية إلى الخلية ‎Jo)‏ سبيل المثال؛ المحتجزة كراسب حماية موجود بجوار الجدار الجانبي للخلية). في بعض النماذج؛ توضح الحماية إمدادات مكون حمام واحد على الأقل (على سبيل المثال؛ ألومينا) إلى الحمام (على سبيل المثال؛ إلى الحمام بجوار الجدار الجانبي مباشرة). وفي مثال غير حصري؛ بإذابة راسب الحماية ببطء؛ تكون كيمياء الحمام بجوار

0 الجدار الجانبي عند أو بالقرب من التشبع لمكون الحمام هذاء ‎les lig‏ الجدار الجانبي من الذوبان (على سبيل ‎Jaa)‏ الإذابة/ التآكل) بالتفاعل مع الإلكتروليت/ الحمام المصهور. في بعض النماذج؛ تعد نسبة التشبع المئوية للحمام لمكون حمام خاص (على سبيل المثال؛ ألومينا) دالة على تركيز ‎sale‏ التغذية (على سبيل المثال؛ ألومينا) عند ظروف تشغيل الخلية (على سبيل المثال» درجة الحرارة؛ ونسبة الحمام؛ وكيمياء الحمام و/ أو المحتوى).

5 في بعض النماذج؛ توفر الجدران الجانبية بالكشف ‎Jal‏ توفير في الطاقة: على الأقل حوالي 965؛ على الأقل حوالي 9610؛ على الأقل حوالي 9615؛ على الأقل حوالي 9620؛ على الأقل حوالي 5؟ أو على الأقل حوالي 9630؛ على مجموعة المادة الموصلة ‎all‏ التقليدية. في بعض النماذج؛ يكون دفق الحرارة (أي؛ فقد الحرارة من خلال الجدار الجانبي للخلية أثناء تشغيل الخلية): لا يزيد عن حوالي 8 كيلو وات/ متر *؛ ولا يزيد على حوالي 4 كيلو وات/ متر2؛ لا يزيد

0 على حوالي 3 كيلو وات/ متر 2؛ ولا يزيد على حوالي 2 كيلو وات/ متر2؛ ولا يزيد على حوالي 1 كيلو وات/ متر2؛ ولا يزيد على حوالي 0.75 كيلو وات/ متر. في بعض النماذج؛ يكون دفق الحرارة (أي؛ فقد الحرارة من خلال الجدار الجانبي للخلية أثناء تشغيل الخلية): على الأقل حوالي 8 كيلو وات/ متر 2؛ وعلى الأقل حوالي 4 كيلو وات/ متر2؛ على الأقل

حوالي 3 كيلو وات/ متر 2؛ وعلى الأقل حوالي 2 كيلو وات/ متر2؛ وعلى الأقل حوالي 1 كيلو وات/ متر 2؛ وعلى الأقل ‎Joa‏ 0.75 كيلو وات/ متر2. في تباين واضح, تعمل خلايا هول التجارية مع دفق حرارة من خلال الجدار الجانبي بما يتراوح بين حوالي 15-8 كيلو وات/ متر2.

في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير نظام؛ يشتمل على: خلية تحلل كهربي تم تصميمها بحيث تحتفظ بحمام إلكتروليت مصهور؛ وبتضمن الحمام مكون ‎ales‏ واحد على ‎(BY)‏ وتتضمن خلية التحلل الكهربي: جزءًا سفليًا وجدارًا ‎Ula‏ يتكون بصورة أساسية من مكون حمام واحد على الأقل؛ ‎Cua‏ يتميز الجدار الجانبي بسمك مم بما لا يزيد عن 500 مم ومادة تغذية تتضمن مكون ‎plan‏ ‏واحد على الأقل لحمام إلكتروليتي منصهر بحيث يكون مكون الحمام الواحد على الأقل في نطاق

0 تشبع يبلغ 9690؛ حيث؛ من خلال ‎sale‏ التغذية؛ يكون الجدار الجانبي ثابتاً في الحمام الإلكتروليتي المنصهر . في بعض النماذج؛ يكون تشبع مكون الحمام: على الأقل حوالي 9695 تشبع. في بعض النماذج؛ يكون تشبع مكون الحمام: بما لا يتجاوز 90610 جرام تشبع. في بعض ‎oz all‏ يتم قياس نسبة التشبع في مكان لا يزيد عن5.42 1 سم من الجدار الجانبي؛ 5 في بعض النماذج؛ تتألف ‎sale‏ الجدار الجانبي من مواد منتقاة من المجموعة التي تتكون ‎Al: Ge‏ ‎Ke Nasli‏ 4ط ‎Mg: Cas Be: Cs¢‏ أو ‎Sr‏ أو 88 أو 56 أو ‎١‏ أو ها أو مواد تحتوي على ‎«Ce‏ أو ‎Al‏ أو ‎Li‏ أو ‎Na‏ أو ‎K‏ أو ‎Rb‏ أو ‎Cs: Be‏ أو ‎Mg‏ أو ‎Ca‏ أو ‎Sr‏ أو 88 أو ‎Sc‏ أو 7 أو ‎La‏ أو معادن ‎Ce‏ ؛ وأكسيدات ‎Al‏ أو ‎Li‏ أو ‎Na‏ أو ‎K‏ أو ‎Rb‏ أو ‎Cs‏ أو ‎Be‏ أو ‎Mg‏ أو ‎Ca‏ ‏أو ‎Sr‏ أو 88 أو ‎Sc‏ أو 7 أو ‎La‏ أو ‎«Ce‏ وملح هاليد (على سبيل ‎JE‏ 3 فلوريد) ‎Al‏ أو ‎Li‏ أو ‎Na 20‏ أو ‎K‏ أو ‎Rb‏ أو ‎Cs‏ أو ‎Be‏ أو ‎Mg‏ أو ‎Ca‏ أو ‎Sr‏ أو 88 أو ‎Sc‏ أو 7 أو ‎La‏ أو ‎«Ce‏ ‏وأوكسو فلوريد من ‎Al‏ أو ‎Na Li‏ أو ‎K‏ أو ‎Cs Rb‏ أو ‎Be‏ أو ‎Mg‏ أو ‎Ca‏ أو ‎Sr‏ أو 88 أو ‎Sc‏ أو 7 أو ‎La‏ أو ‎Ce‏ وتوليفة منها. في أحد جوانب الكشف ‎all‏ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في علاقة متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت مصهور في اتصال عن طريق السائل مع الأنود والكاثود؛

حيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على كيمياء حمام تتضمن مكون حمام واحد على الأقل؛ وجسم خلية به: ‎ga‏ سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط بالجزءِ السفلي؛ حيث يتم تصميم جسم الخلية بحيث يحتفظ بحمام الإلكتروليت المصهور؛ حيث يتكون الجدار الجانبي بصورة أساسية من مكون حمام واحد على ‎(JY)‏ وبشتمل الجدار الجانبي ‎Wad‏ على: ‎ga‏ جدار جانبي أول؛ تم تصميمه بحيث تتم تهيئته على مجموعة ‎Jie‏ حراري للجدار الجانبي والاحتفاظ بالإلكتروليت؛ ‎gray‏ ‎las‏ جانبي ثاني تم تصميمه ليمتد لأعلى من ‎gall‏ السفلي لجسم الخلية؛ حيث يتباعد جزءٍ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يحدد ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول» ‎Sag‏ ‏الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين الجزءِ الأول والجزء الثاني حوض يحتوي على عرض من 10 مم لا يزيد عن 500 مم؛ حيث يتم تصميم الحوض بحيث يستقبل راسب حماية ويحتفظ براسب 0 الحماية بصورة منفصلة عن قاع الخلية؛ حيث يتم تصميم راسب الحماية للإذابة من الحوض إلى حمام الإلكتروليت المصهور بحيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون حمام واحد على الأقل كافي للحفاظ على ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول ‎ging‏ جدار جانبي ثاني في حمام الإلكتروليت المصهور. في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في ‎Ble‏ ‏5 متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت مصهور في اتصال عن طريق السائل مع الأنود والكاثود؛ حيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على كيمياء حمام تتضمن مكون حمام واحد على الأقل؛ وجسم خلية به: جزء سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط ‎hall‏ السفلي؛ حيث يتم تصميم جسم الخلية بحيث يحتفظ بحمام الإلكتروليت المصهور؛ حيث يتكون الجدار الجانبي بصورة أساسية من مكون حمام واحد على ‎(JY)‏ وبشتمل الجدار الجانبي ‎Wad‏ على: ‎ga‏ جدار جانبي أول؛ تم 0 تصميمه بحيث تتم تهيئته على مجموعة ‎Jie‏ حراري للجدار الجانبي والاحتفاظ بالإلكتروليت؛ وجزءٍ ‎las‏ جانبي ثاني تم تصميمه ليمتد لأعلى من ‎gall‏ السفلي لجسم الخلية؛ حيث يتباعد جزءٍ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يحدد ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول» ‎Sag‏ ‏الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين الجزءِ الأول والجزء الثاني حوض؛ حيث يمتد ‎ga‏ الجدار الثاني لأعلى نسبة إلى قاع للخلية؛ حيث يتداخل جزء الجدار الجانبي الثاني مع ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول

لتقديم ‎aes‏ يتداخل من حوالى 9620 إلى 80 % لإجمالى ارتفاع ‎Lila‏ الخلية؛ وحيث يتم تصميم

الحوض لاستقبال رواسب حماية والاحتفاظ براسب الحماية بشكل منفصل عن قا 2 الخلية.

في بعض النماذج» حيث يتم تصميم راسب الحماية للإذابة من الحوض إلى حمام الإلكتروليت

المصهور بحيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون حمام واحد على الأقل كافي للحفاظ على ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول ‎gag‏ جدار جانبي ثاني في حمام الإلكتروليت

المصهور 0

في بعض النماذج؛ تشتمل الخلية على عضو توجيه؛ ‎Cus‏ يوضع عضو التوجيه بين ‎eda‏ الجدار

الجانبي الأول ‎shag‏ الجدار الجانبي الثاني؛ ‎Cus Waly‏ يتباعد عضو التوجيه جانبيًا فوق الحوض؛

بحيث يتم تصميم عضو التوجيه لتوجيه راسب الحماية إلى الحوض.

يتم تصميم جزءِ الجدار الأول بحيث يتحاذى مع جزءٍ الجدار الجانبي الأول بالنسبة لمجموعة العزل ‎(gall‏ وأيضًا حيث يتم تصميم جزءٍ الجدار الجانبي الثاني ليمتد من الجدار الجانبي في تصميم متدرج؛ وحيث يشتمل جزء الجدار الجانبي الثاني على سطح علوي وسطح جانبي يحدد الجزء المتدرج. في بعض النماذج؛ يكون السطح العلوي لجزء الجدار ‎lal‏ الثاني سطحًا مستويًا. في بعض ‎oz all‏ يتم تصميم السطح العلوي ‎gal‏ الجدار الجانبي كسطح مائلء

5 في بعض النماذج؛ يتم تصميم السطح العلوي مع جزءٍ الجدار الجانبي الأول للتعاون لتحديد وتقديم مساحة مجوفة للاحتفاظ برواسب الحماية فيها. في بعض النماذج؛ تشتمل/تتكون رواسب الحماية على مكون حمام واحد على الأقل. في بعض النماذج؛ تم تحديد الحوض بواسطة قالب تغذية؛ من مادة يتم اختيارها من مكونات في كيمياء الحمام؛ حيث أنه من خلال كيمياء الحمام؛ يتم الحفاظ على ‎QE‏ التغذية في حمام الملح

0 المصهور. في بعض النماذ ج؛ تم تصميم الخلية أو النظام ‎Lad‏ ليشتمل على وسيلة تغذية حيث تم تصميمه ليوفر راسب الحماية في الحوض.

في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير نظام؛ يشتمل على: خلية تحلل كهربي تم تصميمها بحيث

تحتفظ بحمام إلكتروليت مصهور؛ وبتضمن الحمام مكون ‎ales‏ واحد على ‎(BY)‏ وتتضمن خلية

التحلل الكهربي: جزء سفلي (على سبيل المثال؛ كاثود أو وسادة معدنية)؛ ‎lang‏ جانبي يتكون بصورة

أساسية من مكون حمام واحد على الأقل؛ ونظام تغذية؛ تم تشكيله لتوفير مادة تغذية تتضمن مكون حمام واحد على الأقل لحمام إلكتروليتي منصهر بحيث يكون مكون الحمام الواحد على الأقل في

نطاق تشبع يبلغ 965 «¢ حيث؛ من خلال مادة التغذية؛ يكون الجدار الجانبي ثابتاً في الحمام

الإلكتروليتي المنصهر.

في بعض النماذج؛ يشتمل الحمام على مادة تغذية (على سبيل المثال؛ ألومينا) بمحتوى يزيد على

حد تشبعه (على سبيل ‎(Jl‏ بحيث يكون هناك مادة دقائقية موجودة فى الحمام) .

0 في بعض النماذج؛ يشتمل مكون الحمام (على سبيل المثال؛ ألومينا) على متوسط محتوى ‎tales‏ ‏تشبع في حدود حوالي ¢%5 تشبع في حدود حوالي 2?%¢ تشبع في حدود حوالي 1]%¢ تشبع في حدود حوالي 960.5؛ عند التشبع؛ أو أعلى من التشبع (على سبيل المثال» توجد ‎salad)‏ الدقائقية غير المذابة لمكون الحمام في الحمام). في بعض النماذج؛ يكون تشبع مكون الحمام: على الأقل حوالي 9695 من التشبع؛ على الأقل حوالي

5 %96 من التشبع؛ على الأقل حوالي 9697 من التشبع؛ على الأقل حوالي 9698 من التشبع؛ على الأقل حوالي 9699 من التشبع؛ على الأقل حوالي 96100 من التشبع؛ أو أعلى من التشبع (على سبيل المثال؛ توجد المادة الدقائقية غير المذابة لمكون الحمام في الحمام). في بعض ‎oz all‏ يكون تشبع مكون الحمام :الا يزيد على حوالي %95 تشبع؛ لا يزيد على حوالي 6 تشبع؛ لا يزيد على حوالي 9697 تشبع؛ لا يزيد على حوالي 9698 تشبع؛ لا يزيد على حوالي

0 %99 تشبع؛ أو لا يزيد على ‎dss‏ 16100 تشبع. في بعض النماذج؛ يشتمل مكون الجدار الجانبي على نسبة تشبع أعلى من حد معين من التشبع في حمام إلكتروليت (على سبيل المثال ‎٠‏ معايير تشغيل الخلية) . في بعض النماذج؛ (على سبيل ‎(JB‏ حيث يكون مكون الجدار الجانبي هو الألومينا)؛ يتم تحديد تشبع الألومينا (أي؛ متوسط التشبع 96) تحليليًا عن طريق تحليل 160. في بعض النماذج؛ (أي؛

حيث يكون مكون الجدار الجانبي غير ‎clas)‏ على سبيل المثال ‎Rb 3 Ky Nas Li‏ و05 و86 ‎Sc, Ba Sr Ca, Mg‏ ولا ‎Ce),‏ 3 يتم تحديد متوسط التشبع % بواسطة ‎ICP.

XRF (AA‏ و/أو توليفة منهم؛ مع المنهجيات التحليلية الأخرى المقبولة بشكل عام. في بعض النماذج؛ تشتمل الطرق التحليلية لتحديد نسبة التشبع للمادة المستقرة على ‎tha‏ معايرة متعلق بالطريقة التحليلية (على سبيل المثال؛ يتضمن قياس ‎LECO‏ معدل خطأً يزيد بشكل عام أو يقل عن 965).

في بعض النماذج؛ يوجد مكون الجدار الجانبي في الحمام عند متوسط محتوى التشبع: 9670 على الأقل من التشبع: أو 9657 على الأقل من التشبع؛ أو 9680 على الأقل من التشبع؛ أو 9685 على الأقل من التشبع أو 9690 على الأقل من التشبع أو 9695 على الأقل من التشبع و96100 على

الأقل من التشبع (أي؛ مشبع) أو 96105 على الأقل من التشبع (أي؛ أعلى من التشبع).

0 في بعض النماذج؛ يوجد مكون الجدار الجانبي في الحمام عند متوسط محتوى التشبع: لا يزيد على 0 من التشبع: أو لا يزيد على 9657 من التشبع؛ أو لا يزيد على 9680 من التشبع؛ أو لا يزيد على 9685 من التشبع أو لا يزيد على 9690 من التشبع أو لا يزيد على 9695 من التشبع أو لا يزيد على 00 1 % من التشبع (أي 3 مشبع) أو لا يزيد على 05 1 % من التشبع (أي 3 أعلى من التشبع).

5 في بعض النماذج؛ يشتمل مكون الحمام على نسبة مئوية لتشبع محتوى ‎ales‏ تم قياسها كمتوسط طوال الخلية. في بعض النماذج؛ يشتمل مكون الحمام على نسبة مئوية لتشبع محتوى حمام تم قياسها عند موضع بجوار الجدار الجانبي (على سبيل المثال؛ مادة جانبية غير تفاعلية/ لجدار جانبي مستقر). في بعض ‎oz all‏ يكون الموضع المجاور للجدار الجانبي هو الحمام: يلمس الجدار ولا يزيد على

حوالي 2.45 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 5.08 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 6 سم_من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 15.42 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 2 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 25.4 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 8 سم_من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 35.56 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 4 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 45.72 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي

8 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي 55.88 سم من الجدار؛ ما لا يزيد على حوالي

6 سم من الجدار.

في بعض النماذج؛ يكون الموضع المجاور للجدار الجانبي هو الحمام: يلمس الجدار؛ أقل من حوالي

سم من الجدار؛ ما أقل من حوالي 5.08 سم من الجدار؛ ما أقل من حوالي 10.16 سم من 5 الجدار؛ أقل من حوالي 15.42 سم من الجدار؛ أقل من حوالي 20.32 سم من الجدار؛ أقل من

حوالي 25.4 سم من الجدار؛ أقل من حوالي من الجدار؛ أقل من حوالي 35.56 سم من الجدار؛

أقل من حوالي 40.64 سم من الجدار؛ أقل من حوالي 45.72 سم من الجدار؛ أقل من حوالي

8 سم من الجدار؛ أقل من حوالي حوالي 55.88 سم من الجدار ؛ أقل من حوالي 60.96 سم

من الجدار.

0 في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير نظام» يشتمل على: جسم خلية تحلل كهربي تم تصميمها بحيث تحتفظ بحمام إلكتروليت مصهور» ويتضمن الحمام ألومنياء وتشتمل خلية التحلل الكهربي على: جزءِ سفلي (على سبيل المثال؛ كاثود أو وسادة معدنية)؛ وجدار جانبي يتكون بصورة أساسية من ألومنيا؛ ونظام تغذية؛ تم تشكيله لتوفير ‎Bale‏ تغذية تتضمن مكون ‎ales‏ واحد على الأقل لحمام إلكتروليتي منصهر بحيث يكون ‎(gine‏ الحمام من الألومنيا في نطاق تشبع يبلغ 9610 ؛ حيث؛ من

5 خلال محتوى الحمام؛ يكون الجدار الجانبي ثابتاً في الحمام الإلكتروليتي المنصهر. في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في ‎Ble‏ ‏متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت في اتصال عن طريق السائل مع الأنود والكاثود؛ ويكون للحمام كيمياء حمام تشتمل على مجموعة من مكونات الحمام؛ وجسم خلية يشتمل على: جزءِ سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط ‎hall‏ السفلي؛ حيث يتكون الجدار الجانبي بصورة أساسية من: مكون

0 حمام واحد على الأقل في كيمياء الحمام؛ حيث تشتمل كيمياء الحمام على مكون الحمام الواحد على الأقل في تشبع في حدود حوالي 9610 من حد التشبع لهذا ‎(all‏ بحيث أنه من خلال كيمياء الحمام» يتم الحفاظ على الجدار الجانبي عند الواجهة البينية للجدار الجانبي- إلى - الحمام (على سبيل المثال؛ أثناء تشغيل الخلية).

في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في علاقة متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت مصهور في اتصال عن طريق السائل مع الأنود ذي كيمياء حمام؛ وجسم خلية يشتمل على جزء سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط ‎gall‏ السفلي؛ حيث يتم تصميم جسم الخلية ليلامس ويحتفظ بحمام الإلكتروليت المصهور؛ بصورة أكبر حيث يتم إنشاء الجدار الجانبي من مادة تشكل مكون لكيمياء الحمام؛ ووسيلة تغذية تم تصميمها بحيث توفر تغذية تتضمن المكون إلى حمام الإلكتروليت المصهور؛ حيث أنه من خلال وسيلة التغذية؛ يتم الحفاظ على كيمياء الحمام عند أو بالقرب من تشبع المكون بحيث يظل الجدار الجانبي مستقر في إلكتروليت الملح المصهور. في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في ‎Ble‏ ‏0 متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت مصهور في اتصال عن طريق السائل مع الأنود والكاثود؛ حيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على كيمياء حمام تتضمن مكون حمام واحد على الأقل؛ وجسم خلية به: ‎ga‏ سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط بالجزءِ السفلي؛ حيث يتم تصميم جسم الخلية بحيث يحتفظ بحمام الإلكتروليت المصهور؛ حيث يتكون الجدار الجانبي بصورة أساسية من مكون حمام واحد على ‎(JY)‏ وبشتمل الجدار الجانبي ‎Wad‏ على: ‎ga‏ جدار جانبي أول؛ تم 5 تصميمه بحيث تتم تهيئته على مجموعة ‎Jie‏ حراري للجدار الجانبي والاحتفاظ بالإلكتروليت؛ ‎gray‏ ‎las‏ جانبي ثاني تم تصميمه ليمتد لأعلى من ‎sal‏ السفلي لجسم الخلية؛ حيث يتباعد جزءٍ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يحدد ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول» ‎Sag‏ ‏الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين الجزءِ الأول ‎pags ( JE sally‏ حيث يتم تصميم الحموض بحيث يستقبل راسب حماية ويحتفظ براسب الحماية بصورة منفصلة عن قاع الخلية (على سبيل ‎(Jl 0‏ الوسادة المعدنية)؛ حيث يتم تصميم راسب الحماية للإذابة من الحوض إلى حمام الإلكتروليت المصهور بحيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون حمام واحد على الأقل كافي للحفاظ على ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول ‎gag‏ جدار جانبي ثاني في حمام الإلكتروليت المصهور. في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير خلية تحلل كهربي؛ تشتمل على: أنود؛ وكاثود في ‎Ble‏ ‏5 متباعدة عن الأنود؛ وحمام إلكتروليت مصهور في اتصال عن طريق السائل مع الأنود والكاثود؛

حيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على كيمياء حمام تتضمن مكون حمام واحد على الأقل؛ وجسم خلية به: ‎ga‏ سفلي وجدار جانبي واحد على الأقل يحيط بالجزءِ السفلي؛ حيث يتم تصميم جسم الخلية بحيث يحتفظ بحمام الإلكتروليت المصهور؛ حيث يتكون الجدار الجانبي بصورة أساسية من مكون حمام واحد على الأقل؛ ويشتمل الجدار الجانبي ‎Wad‏ على: ‎ge‏ جدار جانبي أول؛ تم تصميمه بحيث تتم تهيئته على مجموعة ‎Jie‏ حراري للجدار الجانبي والاحتفاظ بالإلكتروليت؛ ‎gray‏ ‎las‏ جانبي ثاني تم تصميمه ليمتد لأعلى من ‎gall‏ السفلي لجسم الخلية؛ حيث يتباعد جزءٍ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يحدد جزء الجدار الجانبي الأول» وجزء الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين الجزءِ الأول ‎pags ( JE sally‏ حيث يتم تصميم الحموض بحيث يستقبل راسب حماية ويحتفظ براسب الحماية بصورة منفصلة عن قاع الخلية (على سبيل 0 المثال؛ الوسادة المعدنية)؛ حيث يتم تصميم ‎Cand)‏ الحماية للإذابة من الحوض إلى حمام الإلكتروليت المصهور بحيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون حمام واحد على الأقل كافي للحفاظ على ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول ‎gag‏ جدار جانبي ثاني في حمام الإلكتروليت المصهور؛ وعضو توجيه؛ حيث يوضع عضو التوجيه بين ‎ea‏ الجدار الجانبي الأول وجزءٍ الجدار الجانبي الثاني؛ ‎Cus Lady‏ يتباعد عضو التوجيه جانبيًا فوق الحوض؛ بحيث يتم تصميم عضو

5 التوجيه لتوجيه راسب الحماية إلى الحوض. في بعض النماذج؛ يشتمل الجدار الجانبي على ‎on‏ أول ‎gag‏ ثاني؛ حيث يتم تصميم ‎all‏ الثاني بحيث يتحاذى مع ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول بالنسبة لمجموعة العزل الحراري؛ وأيضًا حيث يتم تصميم جزءٍ الجدار الجانبي الثاني ليمتد من الجدار الجانبي (على سبيل المثال؛ نموذج الجدار الجانبي) في تصميم متدرج؛ حيث يشتمل جزء الجدار الجانبي الثاني على سطح علوي/ أعلى وسطح 0 جانبي يحدد ‎gall‏ المتدرج. في بعض النماذج؛ يتم تصميم السطح العلوي ليوفر سطح على نفس المستوى (على سبيل ‎(Jal‏ مسطح أو ‎Sloe‏ لقاع الخلية)؛ في بعض النماذج؛ يتم تصميم السطح العلوي بحيث يوفر سطح منحدر/ زاوي؛ منحدر نحو ‎ha‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يتعاون جزءٍ الجدار الجانبي الأول والسطح العلوي ‎iad‏ الجدار الجانبي الثاني لتحديد مساحة مجوفة. في بعض ‎ez al‏ يكون الجدار الجانبي المستقر المنحدر مائل نحو مركز الخلية / الوسادة المعدنية (بعيدًا 5 عن الجدار الجانبي). في بعض النماذج؛ تشتمل الخلية على وسيلة تغذية تم تصميمها لتوفير تغذية

— 1 3 —

إلى الخلية؛ والتي يتم احتجازها بامتداد جزءِ على الأقل من السطح العلوي المستوي و/ أو جانب جزء الجدار الجانبي الثاني كراسب حماية. في بعض النماذج؛ تشتمل الخلية على وسيلة تغذية تم تصميمها لتوفر تغذية إلى الخلية؛ والتي يتم احتجازها بامتداد المساحة المجوفة ‎le)‏ سبيل ‎(Jd)‏ سطح علوي لجزءٍ الجدار الجانبي الثاني).

في بعض النماذج؛ تشتمل القاعدة على مكون حمام واحد على الأقل. في بعض النماذج؛ يشتمل راسب الحماية على مكون حمام واحد (واحد على الأقل). في بعض النماذج؛ يشتمل راسب الحماية على مكونين حمام على الأقل. في بعض النماذج؛ يمتد راسب الحماية من الحوض ووصولاً إلى سطح علوي على الأقل من حمام الإلكتروليت.

0 في بعض النماذج؛ تشتمل الخلية ‎Wad‏ على عضو ‎Cus cong‏ يوضع عضو التوجيه بين ‎Sa‏ ‏الجدار الجانبي الأول ‎ging‏ الجدار الجانبي الثاني؛ وأيضًا حيث يتم وضع عضو التوجيه فوق قاعدة ‎Lady (gal‏ حيث يتم تصميم عضو التوجيه كي يقوم بتوجيه راسب الحماية إلى الحوض؛ في بعض ‎oz all‏ يتكون عضو التوجيه من مادة مستقرة (على سبيل المثال » ‎sala‏ غير تفاعلية فى الحمام و/ أو طور البخار).

في ‎a‏ النماذ جٍ يتم إنشاء عضو التوجيه من مادة موجودة في كيمياء الحمام » بحيث أنه من خلال كيمياء الحمام؛ يتم الحفاظ على عضو التوجيه في إلكتروليت الملح المصهور. فى بعض ‎oz all‏ تم تحديد قاعدة الحوض بواسطة قالب تغذية؛ حيث يتم إنشاء قالب التغذية من ‎sale‏ يتم اختيارها من مكونات في كيمياء الحمام؛ حيث أنه من خلال كيمياء الحمام؛ يتم الحفاظ على قالب التغذية في حمام الملح المصهور. في بعض النماذج؛ يشتمل قالب التغذية على مادة

0 مستقرة (مادة غير تفاعلية). في بعض النماذج؛ يشتمل قالب التغذية على ألومينا. فى بعض ‎oz all‏ تشتمل الخلية ‎Wad‏ على وسيلة تغذية (على سبيل المثال؛ جهاز تغذية) تم في بعض النماذج؛ يتم ربط جهاز التغذية بجسم الخلية؛

— 4 1 — في أحد جوانب الكشف الحالي؛ تم توفير طريقة؛ تشتمل على: تمرير تيار بين أنود وكاثود من خلال حمام إلكتروليت مصهور لخلية إلكتروليتية؛ وتغذية مادة تغذية إلى الخلية الإلكتروليتية لإمداد حمام الإلكتروليت المصهور بمكون حمام واحد على الأقل؛ حيث تكون التغذية بمعدل كافى للحفاظ على محتوى حمام لمكون الحمام الواحد على الأقل حتى حدود 9695 تشبع؛ ومن خلال خطوة التغذية؛ الحفاظ على جدار جانبي للخلية الإلكتروليتية المنشأة من مادة تتضمن مكون الحمام الواحد على الأقل. فى بعض الجوانب»؛ تتضمن الطريقة: بصورة مصاحبة للخطوة الأولى؛ الحفاظ على الحمام عند درجة حرارة لا تتجاوز 980 درجة مئوية؛ حيث تكون الجدران الجانبية للخلايا خالية إلى حد كبير من وجود حافة مجمدة. 0 في بعض النماذج؛ تتضمن الطريقة استهلاك راسب الحماية للإمداد بأيونات معدنية إلى الحمام الإلكتروليتي؛ في بعض النماذج؛ تتضمن الطريقة إنتاج منتج معدني من مكون حمام واحد على الأقل. يمكن الجمع بين سمات متنوعة للجوانب المخترعة الملحوظة سابقًا لإنتاج أجهزة؛ وتجميعات؛ وطرق مرتبطة بإنتاج معدن رئيسي في خلايا إلكتروليتية عند درجة حرارة منخفضة (على سبيل المثال» أقل من 980 درجة ‎(Lge‏ ‏تم توضيح تلك الجوانب» والمزاياء والصفات الحديثة للاختراع وغيرها ‎Wha‏ في المواصفات التالية وستتضح لأصحاب المهارة في المجال بعد فحص الوصف التالي والأشكال؛ أو يمكن معرفتها بواسطة إجراء ا لاختراع. من خلال النماذج المتنوعة للكشف ‎Mall‏ يتم استبدال الجدار الجانبي للخلية الإلكتروليتية؛ جزئيًا. 0 شرح مختصر للرسومات الشكل 1 يوضح منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية جدار جانبي ثابت (على سبيل المثال؛ ‎sale‏ غير تفاعلية) وفقًا للكشف الحالي.

— 1 5 —

الشكل 2 يوضح منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية جزءِ جدار

جانبي أول وجزءِ جدار جانبي ‎(SB‏ مع وسيلة تغذية توفر راسب حماية بين أجزاء الجدار الجانبي؛

‎Ga,‏ للكشف الحالى؛

‏الشكل 3 يوضح منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية جزءِ جدار

‏5 جانبي أول ‎ging‏ جدار جانبي ثاني مع وسيلة تغذية توفر راسب حماية بين أجزاء الجدار الجانبي

‏وتتضمن عضو توجيه 3 ‎Lg‏ للكشف الحالى .

‏يوضح الشكل 4 منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية جدار جانبي

‏له جزأي جدار جانبي مستقرين؛ ويتم تصميم جزء الجدار الجانبي الأول وجزء الجدار الجانبي الثاني

‏بحيث يرتبطا بمجموعة العزل الحراري؛ ‎Cua‏ يمتد ‎oda‏ الجدار الجانبي الثاني ‎lad‏ وراء ‎gia‏ الجدار الجانبي ‎J‏ لأول (على سبيل المثال ؛ يتم التصميم بحيث يوفر تصميم متدرج/ ممتد) ‘ ‎Gg‏ للكشف

‏الحالى.

‏يوضح الشكل 5 منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية جدار جانبي

‏له جزأي جدار جانبي مستقرين؛ ويتم تصميم ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول وجزء الجدار الجانبي الثاني

‏بحيث يرتبطا بمجموعة العزل الحراري؛ حيث يمتد ‎oda‏ الجدار الجانبي الثاني ‎lad‏ وراء ‎gia‏ الجدار الجانبي ‎J‏ لأول (على سبيل المثال ؛ يتم التصميم بحيث يوفر تصميم متدرج/ ممتد) ¢ ويتضمن ‎aly‏

‏حماية توفره وسيلة تغذية؛ ‎Ga,‏ للكشف الحالى

‏يوضح الشكل 6 منظر جانبي تخطيطي لنموذج آخر لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ويكون للخلية

‏جدار ‎als‏ له جزأي جدار جانبي مستقرين» ويتم تصميم ‎ein‏ الجدار الجانبي الأول وجزءٍ الجدار

‏الجانبي الثاني بحيث يرتبطا بمجموعة العزل الحراري؛ حيث يمتد جزءٍ الجدار الجانبي الثاني فيما وراء جزء الجدار الجانبي الأول (على سبيل المثال يتم التصميم بحيث يوفر تصميم متدرج/ ممتد)

‏ويتضمن راسب حماية توفره وسيلة تغذية؛ ‎Eg‏ للكشف الحالي؛

‏يوضح الشكل 7 منظر جانبي تخطيطي لخلية تحلل كهربي أثناء عملهاء ‎la,‏ للكشف الحالي (على

‏سبيل المثال؛ الجدار الجانبي النشط هو واحد أو أكثر من نماذج الكشف الحالي).

— 1 6 —

الشكل 8 هو رسم بياني يوضح معدل ذوبان ألومينا (متر/ الثانية) في حمام إلكتروليتي ونسبة تشبع

ألومينا المئوية؛ تم تخطيطه عند خمسة (5) خطوط درجة حرارة مختلفة (750م 800 م؛ 850 م؛

(+9505 ¢» 900

الشكل 9 عبارة عن رسم بياني يوضح درجة حرارة ودفق حرارة الحمام؛ وعامل التبريد؛ وحافة المخرج

كدالة على الزمن.

توضح الأشكال من 10أ-ح منظر جانبي مقطوع لزوايا متنوعة لراسب الحماية وقاع/ قاعدة الحوض

(يسمى أحيانًا قالب تغذية) أسفل راسب الحماية. تم توضيح زوايا متنوعة لراسب الحماية ‎gh)‏ نحو

‎oa‏ الجدار الجانبي الثاني» بزاوية نحو جزءٍ الجدار الجانبي الأول» ومسطح؛ وزاوي؛ وما إلى ذلك).

‏علاوة على ذلك»؛ تم توضيح زوايا متنوعة ‎fo lal‏ قاعدة الحوض (بزاوية نحو جزء الجدار الجانبي 0 الثاني؛ بزاوية نحو جزءٍ الجدار الجانبي الأول ومسطح؛ وزاوي؛ وما إلى ذلك).

‏توضح الأشكال من 11أ-د منظر جانبي مقطوع جزئي لتصميمات متنوعة لقمة الرف و/ أو ‎a‏

‏الجدار الجانبي الثاني. يوضح الشكل 111 تصميم عرضي؛ء بزاوية نحو مركز الخلية (لتعزيز تجفيف

‏الخلية) ‎٠.‏ يوضح الشكل 11ب تصميم عرضي 3 بزاوية نحو الجدار الجانبي (لتعزيز احتجاز مادة

‏التغذية في راسب الحماية) ‎٠‏ يوضح الشكل 11 ‎z‏ تصميم زاوي (على سبيل المثال؛ موجه) ‎٠‏ يوضح 5 الشكل 11د منطقة منحنية أو مقوسة في أعلى جزءِ للرف أو ‎ga‏ جدار جانبي ثاني.

‏الوصف التفصيلى:

‏يمكن الإشارة الآن بالتفصيل إلى الأشكال المصاحبة؛ التي تساعد على الأقل في توضيح النماذج

‏ذات الصلة للاختراع الحالي.

‏على النحو المستخدم في الطلب ‎oad)‏ يعني ‎dad‏ كهربي" أي عملية تجلب تفاعل ‎Shas‏ عن 0 طريق تمرير تيار كهربي خلال مادة. في بعض النماذج؛ يحدث التحلل الكهربي حيث يتم اختزال

‏أنواع معدن في خلية تحلل كهربية لإنتاج منتج معدني. تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية للتحلل

‏الكهربي؛ إنتاج معدن أولي. تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية لمعادن منتجة إلكتروليتيًا: معادن

‏أرضية نادرة؛ ومعادن غير حديدية (على سبيل ‎JE‏ النحاس النيكل 3 ‎FER‏ الماغنسيوم؛

‏الرصاص» التيتانيوم» الألومنيوم» ومعادن أرضية نادرة).

— 7 1 — على النحو المستخدم في الطلب الحالي يعني "خلية تحلل كهربي" وسيلة لإنتاج تحلل كهربي . في ‎a‏ النماذ ‎‘z‏ تتضمن خلية التحلل الكهربي ‘ وعاء صهرء أو خط من وحدات الصهر (على سبيل المثال» أوعية متعددة). في أحد الأمثلة غير الحصرية؛ تتم تهيئة خلية التحلل الكهربي بإلكترودات؛ التي تعمل كموصل؛ ويمكن أن يدخل تيار من خلالها أو يخرج من وسط غير معدني (على سبيل المثال؛ حمام إلكتروليت).

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "إلكترود" إلكترودات مشحونة ‎age‏ (على سبيل

المثال» أنودات) أو إلكترودات مشحونة بالسلب (على سبيل المثال؛ كاثودات). على النحو المستخدم في الطلب ‎cad)‏ يعني "أنود" الإلكترود الموجب (أو ‎(Akl‏ الذي يدخل بواسطته التيار إلى خلية إلكتروليتية. في بعض النماذج» يتم إنشاء الأنودات من مواد موصلة

للكهرياء. تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية لمواد الأنود: المعادن؛ وسباتك المعدن؛ وأكاسيد؛ ومواد خزفية؛ وسبائك خزفية؛ وكربون؛ وتوليفات منها. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يتضمن 'تجميعة أنود' واحد أو أكثر من الأنودات المتصلة بمادة حاملة. في بعض النماذج؛ تتضمن تجميعة الأنود: الأنودات؛ والمادة الحاملة (على سبيل المتال» قالب مقاوم للحرارة ومواد أخرى مقاومة للحمام)؛ وعمل الناقل الكهربي.

5 على النحو المستخدم في الطلب الحالى؛ يعني ‎"dla sald‏ عضو يحافظ على جسم (أجسام) أخرى في موضعها. في بعض النماذج؛ تكون المادة الحاملة هي البنية التي تحتفظ بالأنود (الأنودات) في موضعها. في أحد النماذج؛ تسهل المادة الحاملة الاتصال الكهربي لعمل الناقل الكهربي للأنود (الأنودات). في أحد النماذج؛ يتم إنشاء المادة الحاملة من مادة مقاومة للهجوم من الحمام الأكال. على سبيل ‎JE‏ يتم إنشاء المادة الحاملة من ‎ile sala‏ وتتضمن على سبيل ‎sale «JEL‏ مقاومة

0 للحرارة. في بعض النماذج؛ يتم توصيل عدة أنودات ‎Ae)‏ سبيل المثال؛ ميكانيكيًا وكهربيًا) بالمادة الحاملة (على سبيل المثال» مرتبطة بحيث يمكن إزالتها بعد ذلك)؛ ويمكن ضبطها ويمكن ‎lead)‏ أو خفضهاء أو تحريكها في الخلية. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير "عمل ناقل كهربي" إلى الوصلات الكهربية لواحد أو أكثر من المكونات. على سبيل المثال» يمكن أن يكون للأنود؛ ‎easily‏ و/ أو مكونات الخلية الأخرى

— 1 8 —

عمل ناقل كهربي لتوصيل المكونات ‎Cae‏ في بعض النماذ ‎z‏ ¢ يتضمن عمل الناقل الكهربي موصلات

مسمارية في الأنودات؛ وأسلاك توصيل الأنودات و/ أو الكاثودات؛ ودوائر كهربية ل (أو بين) مكونات

الخلية المتنوعة؛ وتوليفات منها.

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "كاثود" الإلكترود السالب أو الطرف الذي يخرج

بواسطته التيار من خلية إلكتروليتية. في بعض النماذج؛ يتم إنشاء الكاثودات من مادة موصلة

للكهرياء ‎٠.‏ تتضمن بعض ‎١‏ لأمثلة غير الحصرية لمادة الكاثود : كربون 6 سبيكة خزفية؛ مادة (مواد (

خزفية؛ ومادة (مواد) معدنية؛ وتوليفات منها. في أحد النماذج؛ يتم إنشاء الكاثود من مركب بوريد

معدن انتقالء على سبيل المثال» 1182 . فى بعض ‎oz all‏ يتم توصيل الكاثود كهربيًا من خلال

قاع الخلية (على سبيل المثال» ذراع مجمّع تيار وعمل ناقل كهربي). في بعض الأمثلة غير الحصرية؛ يتم إنشاء الكاثودات ‎HE‏ 12 مواد مركبة ‎T1B2-C‏ « نيتريد بورون»؛ وبوريدات الزيركونيوم؛

وبوريدات هافنيوم؛ وجرافيت؛ وتوليفات منها.

على النحو المستخدم فى الطلب الحالى» يشير "تجميعة كاثود" إلى الكاثود (على سبيل المثال؛ قالب

كاثود) وذراع مجمّع ‎Hall‏ وعمل الناقل الكهربي وتوليفات منها.

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير 'ذراع مجمّع التيار" إلى ذراع يقوم بتجميع التيار من 5 الخلية. في أحد الأمثلة غير الحصرية؛ ‎ash‏ ذراع مجمّع التيار بتجميع التيار من الكاثود ونقل التيار

إلى عمل الناقل الكهربي ‎any‏ التيار من النظام

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير "حمام إلكتروليت" إلى حمام مسال به نوع واحد على

الأقل من المعدن المراد اختزاله (على سبيل المثال» من خلال عملية تحلل كهربي)؛ وهناك مثال

غير حصري لتركيبة ‎ales‏ الإلكتروليت يتضمن: ‎NaF-AIF3‏ (في خلية تحلل كهربي من 0 الألومنيوم) ‎(CF2 (AIF3 (NaF‏ 0972 اناء جا ؛ وتوليفات منها- مع ألومينا مذابة,

على النحو المستخدم في الطلب الحالى؛ يعني ‎spend‏ أنه فى صورة متدفقة (على سبيل ‎(Jill‏

سائل) من خلال تطبيق الحرارة. على سبيل المثال غير الحصري؛ يكون الحمام الإلكتروليتي هو

صورة مصهورة (على سبيل المثال؛ على الأقل حوالي 750 م). في مثال ‎GAT‏ يكون المنتج المعدني

الذي يشكل قاع الخلية (على سبيل المثال» يسمى أحيانًا 'وسادة ‎("dies‏ في صورة مصهورة.

في بعض ‎lal‏ تكون درجة حرارة تشغيل حمام الإلكتروليت المصهور/ الخلية: على الأقل حوالي 0م؛ على الأقل حوالي 800 م؛ على الأقل حوالي 850 م؛ على الأقل حوالي 900 م؛ على ‎J)‏ حوالي 950 م؛ على الأقل حوالي 975 م. في بعض النماذج؛ تكون درجة حرارة تشغيل الحمام الإلكتروليتي المصهور/ الخلية: لا تزيد عن حوالي 750 م؛ لا تزيد عن حوالي 800 م؛ لا تزيد عن حوالي 850 م؛ لا تزيد عن حوالي 900 م؛ لا تزيد عن حوالي 950 م؛ لا تزيد عن حوالي 980 م. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني 'منتج معدني" المنتج الذي يتم إنتاجه بالتحلل الكهربي؛ في أحد النماذج؛ يشكل المنتج المعدني قاع خلية تحلل كهربي كوسادة معدنية. تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية للمنتجات المعدنية: ألومنيوم؛ ‎(JS‏ ماغنسيوم؛ النحاس» الزنك» ومعادن أرضية نادرة؛ على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "جدار جانبي" جدار خلية تحلل كهربي. في بعض 0 التنماذج, يمتد الجدار الجانبي بطريقة بارامترية حول قاع الخلية ويمتد لأعلى من قاع الخلية لتحديد جسم خلية التحلل الكهربي وتحديد الحجم الذي يتم فيه إبقاء حمام الإلكتروليت. في بعض النماذج؛ يتضمن الجدار الجانبي: غلاف ‎(als‏ ومجموعة ‎Jie‏ حراري؛ وجدار داخلي. في بعض النماذج؛ يتم تصميم الجدار الداخلي وقاع الخلية بحيث يلامسا ويحتجزا بحمام الإلكتروليت المصهور»؛ ومادة التغذية التي يتم توصيلها إلى الحمام (أي؛ لدفع التحلل الكهربي) والمنتج المعدني (على سبيل المثال؛ 5 الوسادة المعدنية). في بعض ‎or Sail‏ يتضمن الجدار الجانبي (الجدار الجانبي الداخلي) جزء جدار جانبي غير تفاعلي (على سبيل ‎JO‏ جزءِ جدار جانبي ثابت)؛ على النحو المستخدم في الطلب ‎(Jal‏ يعني "عرضي" زاوية بين السطحين. في بعض النماذج؛ يمكن أن تقوم الأسطح بعمل زاوية حادة أو منفرجة. في بعض النماذج؛ يتضمن العرضي زاوية عند أو تساوي الزاوية المتعامدة أو بدون زاوية تقريبًاء أي الأسطح التي تبدو متصلة (على سبيل ‎(Jaa‏ ‏0 180 ) - في بعض النماذج؛ يكون جزءِ من الجدار الجانبي (الجدار الداخلي) عرضيء أو بزاوية نحو قاع الخلية. في بعض النماذج؛ يكون الجدار الداخلي الكامل عرضي نحو قاع الخلية. في بعض النماذج؛ يكون لمادة الجدار الجانبي الثابت جزءِ علوي مائل (أي مائل نحو الوسادة المعدنية/ مركز الخلية (للمساعدة في تجفيف المنتج المعدني إلى قاع الخلية).

في بعض النماذج؛ يكون الجدار بالكامل عرضي. في بعض النماذج؛ يكون ‎oda‏ من الجدار ‎eye)‏

الجدار الجانبي الأول؛ ‎hag‏ الجدار الجانبي الثاني؛ والرف؛ والحوض؛ وعضو التوجيه) عرضي (أو

مائل؛ ‎gh‏ منحن؛ مقؤّس).

في بعض النماذج؛ يكون الجدار بالكامل عرضي. في بعض النماذج؛ يكون الرف عرضي. في

بعض النماذج؛ يكون ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني عرضي. في بعض النماذج؛ يكون الجدار بالكامل

عرضي. دون التقيد بأي نظرية أو آلية خاصة؛ من المعتقد أنه بتصميم الجدار الجانبي ‎ga)‏ الجدار

الجانبي الأول ‎gis‏ الجدار الجانبي الثاني؛ الحوض» أو الرف) بطريقة عرضية؛ يصبح من الممكن

تعزيز بعض صفات الخلية أثناء التشغيل (على سبيل المثال؛ التجفيف المعدني؛ اتجاه مادة التغذية

إلى الخلية/ نحو قاع الخلية). في مثال غير حصري؛ بتوفير جدار جانبي عرضي؛ يتم تصميم 0 الجدار الجانبي لتعزيز التقاط مادة التغذية إلى راسب حماية في حوض أو رف (على سبيل المثال؛

بزاوية نحو أو يتم تصميمه لتعزيز تجفيف المعدن إلى قاع الخلية).

في بعض النماذج؛ يكون ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول عرضي (بزاوية/ منحدر) ولا يكون جزءِ الجدار

الجانبي الثاني مائل. في بعض النماذج؛ لا يكون ‎eda‏ الجدار الجانبي الأول مائل ويكون ‎gia‏ الجدار

الجانبي الثاني مائل. في بعض النماذج؛ يكون كل من جزءٍ الجدار الجانبي الأول ‎gag‏ الجدار 5 الجانبي الثاني عرضي ‎fash)‏ مائل).

في بعض النماذج؛ تكون القاعدة (أو قالب التغذية) عرضية (مائلة أو زاوية). في بعض النماذج؛

يكون الجزءِ العلوي للرف/ الحوض أو ‎gia‏ الجدار الجانبي الثاني ‎eile‏ بزاوية؛ مسطح؛ أو عرضي؛

أو منحني؛

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني 'زاوية ‎las‏ زاوية الجدار الجانبي الداخلي بالنسبة لقاع الخلية التي يتم قياسها بالدرجات. على سبيل المثال؛ تشير زاوية جدار صفر درجة إلى زاوية

عمودية (أو بدون زاوية). في بعض النماذج؛ تشتمل زاوية الجدار على: زاوية (ثيتا) من صفر درجة

إلى حوالي 30 درجة؛ في بعض النماذج؛ تشتمل زاوية الجدار على زاوية (ثيتا) من صفر درجة إلى

حوالي 60 درجة. في بعض النماذج؛ تشتمل زاوية الجدار على زاوية (ثيتا) من صفر درجة إلى

حوالي 85 درجة.

— 2 1 —

في بعض النماذج؛ تكون زاوية الجدار (ثيتا): على الأقل حوالي 5 ؛ على الأقل حوالي 10 ؛ على الأقل حوالي 15 ؛ على الأقل حوالي 20 ؛ على الأقل حوالي 25 ؛ على الأقل حوالي 30 ؛ على الأقل حوالي 35 ؛ على الأقل حوالي 40 ؛ على الأقل حوالي 45 ؛ على الأقل حوالي 50 ؛ على الأقل حوالي 55 ؛ على الأقل حوالي 60. في بعض النماذج؛ تكون زاوية الجدار (ثيتا): لا تزيد على حوالي 5 ؛ لا تزيد على حوالي 10 ؛ لا تزيد على حوالي 15 ؛ لا تزيد على حوالي 20 ؛ لا تزيد على حوالي 25 ؛ لا تزيد على حوالي 30 ؛ لا تزيد على حوالي 35 ؛ لا تزيد على حوالي 0 ؛ لا تزيد على حوالي 45 ؛ لا تزيد على حوالي 50 ؛ لا تزيد على حوالي 55 ؛ أو لا تزيد على

حوالي 60. على النحو المستخدم في الطلب الحالي 13 يعني "غلاف خارجي" جزءٍ غطاء حماية خارجي للجدار

0 الجانبي. في أحد النماذج؛ يكون الغلاف الخارجي هو غطاء الحماية للجدار الداخلي لخلية التحلل الكهربى فى أمثلة غير حصرية 13 يتم إنشاء الغلاف الخارجى من مادة صلبة تحيط بالخليط (على سبيل المثال؛ الصلب). على النحو المستخدم في الطلب ‎dal‏ يعني ‎ga’‏ الجدار الجانبي الأول" ‎gia‏ من الجدار الجانبي الداخلى.

5 على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "جزءٍ الجدار الجانبي الثاني جزءِ ‎DAT‏ من الجدار الجانبي الداخلي. في بعض النماذج؛ يكون ‎gall‏ الثاني على مسافة (على سبيل المثال؛ ‎elie‏ ‏طوليًا) من الجزءِ الأول. في مثال غير حصري؛ يكون ‎gin‏ الجدار الجانبي الثاني هو عضو قائم له طول وعرض» حيث يتباعد ‎gall‏ الثاني عن ‎all‏ الأول؛ في بعض النماذج؛ يتعاون الجزء الثاني مع ‎eal)‏ الأول لاحتجاز مادة أو جسم (على سبيل المثال؛ في بعض ‎ez lal)‏ يكون الجزء الثاني ذي طول متصل؛ بينما في نماذج أخرى»؛ يختلف ارتفاع الجزء الثاني. في أحد النماذج؛ يتم إنشاء الجزء الثاني من ‎sale‏ مقاومة للبيئة الأكالة للحمام وتقاوم المنتج المعدني (على سبيل المثال؛ الوسادة المعدنية)؛ وبالتالي؛ لا تنكسر أو ‎delim‏ في الحمام. فى بعض الأمثلة غير الحصرية؛ يتم إنشاء الجدار من: ‎«Al?0j, 1182, 1182-6, SiC, 5131/4, BN,‏

— 2 2 — مكون حمام عند أو بالقرب من التشبع في كيمياء الحمام (على سبيل المثال؛ ألومينا)؛ وتوليفات منها. في بعض النماذج؛ يتم صب ‎gia)‏ الثاني» أو ضغطه بالحرارة؛ أو تلبده إلى البعد المفضل؛ أو كثافة نظرية؛ أو مسامية؛ وما إلى ذلك. في بعض النماذج؛ يتم تأمين الجزء الثاني بواحد أو أكثر من مكونات الخلية لإبقاء ‎gall‏ الثانى فى موضعه. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "عضو التوجيه" عضو يتم تصميمه لتوجيه جسم أو مادة بطريقة خاصة. فى بعض النماذ ‎‘z‏ تتم تهيئة عضو التوجيه وتصميمه بحيث يتم توجيه مادة تغذية إلى حوض (على سبيل المثال؛ للاحتجاز في الحوض كراسب حماية). في بعض النماذج؛ يتم تعليق عضو التوجيه في الخلية بين جزء الجدار الجانبي الأول وجزءِ الجدار الجانبي الثاني؛ 0 وفوق الحوض لتوجيه تدفق ‎sale‏ التغذية إلى الحوض. في بعض النماذج؛ يتم إنشاء عضو التوجيه من مادة (مكون حمام واحد على الأقل) موجودة في كيمياء الحمام عند أو بالقرب من التشبع؛ بحيث أنه يتم إبقاء عضو التوجيه في الحمام . في بعض ‎«zz dail‏ يتم تصميم عضو التوجيه ‎Jail‏ إطار (على سبيل المثال ؛» من ‎Bale‏ مقاومة لحمام) حيث يتم تصميم ‎J‏ لإطار لضبط عضو التوجيه فى الخلية ‎sf)‏ تحربيك عضو التوجيه ‎Gils‏ (على سبيل المثال» لأعلى أو أسفل بالنسبة لارتفاع الخلية) 5 و/ أو تحريك عضو التوجيه ‎Woh‏ (على سبيل المثال؛ اليسار أو اليمين بالنسبة للحوض/ قاع الخلية). في بعض النماذج, يتم اختيار بعد و/ أو موضع عضو التوجيه بحيث يعزز تصميم خاص لراسب الحماية و/ أو نموذج تدفق مادة تغذية محدد مسبقًا إلى الحوض. في بعض النماذج؛ يتم ريط عضو التوجيه بتجميعة الأنود. في بعض النماذج؛ يتم ربط عضو التوجيه بالجدار الجانبي للخلية؛ في 0 بعض النماذج؛ يتم ربط عضو التوجيه بوسيلة التغذية (على سبيل المثال؛ الإطار الذي يحفظ وسيلة التغذية في موضعها. في أمثلة غير حصرية » يشتمل عضو التوجيه على لوح » ‎(ual‏ قالب» صورة عضو مطوّل 3 وتوليفات منها ‎٠.‏ تتضمن بعض ‎J‏ لأمثلة غير الحصرية لمواد عضو التوجيه : مواد أنود : ‎SiC‏ و/أو ‎«SIN‏ و/ أو مكونات موجودة فى الحمام عند أو بالقرب من التشبع بحيث يتم إبقاء عضو التوجيه في الحمام,

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني 'متباعد ‎"sh‏ وضع جسم بعيدًا عن جسم آخر

بالنسبة للطول.

في بعض النماذج؛ يعني متباعد ‎Usk‏ (أي؛ جزء الجدار الجانبي الثاني من ‎ga‏ الجدار الجانبي

الأول- أو الحوض): على الأقل 1 بوصة؛ على الأقل 1/ 2/1 ‎dian‏ على الأقل 2 بوصة؛ على الأقل 2 14 بوصة؛ على الأقل 3 بوصة؛ على الأقل 3 بوصة؛ على الأقل 3 14 بوصة؛ على

الأقل 4 بوصة؛ على الأقل 4 2/1 بوصة؛ على الأقل 5 ‎das‏ على الأقل 5 14 ‎dan‏ على

الأقل 6 بوصة؛ على الأقل 6 14 بوصة؛ على الأقل 7 بوصة؛ على الأقل 7 14 بوصة؛ على

الأقل 8 ‎VZ\‏ ؛ على الأقل 9 بوصة؛ على الأقل 9 14 بوصة؛ على الأقل 10 بوصة؛ على الأقل

0 14 بوصة؛ على الأقل 11 بوصة؛ على الأقل 11 14 بوصة؛ على الأقل 12 بوصة.

0 في بعض النماذج؛ يعني متباعد ‎Wek‏ (أي؛ ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني من ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول- أو الحوض): ما لا يزيد على 1 بوصة؛ ما لا يزيد على 2.54 سم ؛ ما لا يزيد على 5.8 سم ؛ ما لا يزيد على 2 ‎2١‏ ؛ ما لا يزيد على 7.62 سم ؛ ؛ ما لا يزيد على 4 بوصة؛ ما لا يزيد على 10.16 سم ؛ ما لا يزيد على 12.7 سم ؛ ؛ ما لا يزيد على 15.42 سم ‎١‏ ؛ ما لا يزيد على 17.78 سم ؛ ما لا يزيد على 17.78 سماا/ا ؛ ما لا يزيد على 20.32؛ ما لا يزيد على

5 20.32 سم ؛ ما لا يزيد على 22.86 سم ؛ ما لا يزيد على 22.86 سم ‎Vil‏ ؛ ما لا يزيد على ‎aw 25.4‏ ما لا يزيد على 25.4 سم ‎bc A‏ لا يزيد على 27.94 سم ,72 ؛ أو ما لا يزيد على 30.48 سم . على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني 'متباعد ‎"ils‏ وضع جسم واحد بعيدًا عن جسم آخر ‎Lad‏ يتعلق بالعرض؛

0 في بعض النماذج؛ يتم وضع جزء الجدار الجانبي الأول على مسافة محددة من جزء الجدار الجانبي الثاني لتحديد الحوض (أي له عرض حوض). في بعض النماذج؛ يكون عرض الحوض من 10 مم إلى ما لا يزيد عن 500 مم. في بعض النماذج؛ يكون عرض الحوض من 50 مم إلى مالا يزيد على 200 ‎cae‏ وفي بعض النماذج؛ يكون عرض الحوض من 75 مم إلى ما لا يزيد على 150 مم.

في بعض النماذج؛ يكون الحوض (على سبيل المثال» عرض الحوض): 10 مم على الأقل أو 20 مم على الأقل أو 30 مم على الأقل أو 70 مم على الأقل أو 80 مم على الأقل أو 90 مم على الأقل أو 100 مم على الأقل أو 110 مم على الأقل أو 120 مم على الأقل أو 130 مم على الأقل أو 140 مم على الأقل أو 150 مم على الأقل أو 160 مم على الأقل أو 170 مم على الأقل أو 180 مم على الأقل أو 190 مم على الأقل أو 200 مم على الأقل أو 210 مم على الأقل أو 220 مم على الأقل أو 230 مم على الأقل أو 240 مم على الأقل أو 250 مم على الأقل أو 260 مم على الأقل أو 270 مم على الأقل أو 280 مم على الأقل أو 290 مم على الأقل أو 300 مم على الأقل أو 310 مم على الأقل أو 320 مم على الأقل أو 330 مم على الأقل أو 340 مم على الأقل أو 350 مم على الأقل أو 360 مم على الأقل أو 370 مم على 0 الأقل أو 380 مم على الأقل أو 390 مم على الأقل أو 400 مم على الأقل أو 410 مم على الأقل أو 420 مم على الأقل أو 430 مم على الأقل أو 440 مم على الأقل أو 450 مم على الأقل أو 460 مم على الأقل أو 470 مم على الأقل أو 480 مم على الأقل أو90 مم على الأقل أو 500 مم على الأقل. في بعض النماذج؛ يكون الحوض (على سبيل ‎(JE‏ عرض الحوض): لا يزيد على 10 مم لا 5 يزيد على 20 مم؛ لا يزيد على 30 ‎ae‏ لا يزبد على 40 ‎cae‏ لا يزيد على 50 مم؛ لا يزيد على 0 مم لا يزيد على 70 مم؛ لا يزيد على 80 مم؛ لا يزيد على 90 مم. لا يزيد عن 100 مم؛ لا يزيد عن 110 ‎tas‏ لا يزيد عن 120 مم؛ لا يزيد عن 130 مم؛ لا يزيد عن 140 ‎tas‏ يزيد عن 150 مم؛ لا يزيد عن 160 مم؛ 170 مم؛ لا يزيد عن 180 مم؛ لا يزيد عن 190 مم؛ لا يزيد عن 200 مم؛ لا يزيد عن 210؛ لا يزيد عن 220 مم؛ لا يزيد عن 230 مم؛ لا يزيد عن 240 ‎tas‏ لا يزيد عن 240 ‎fae‏ لا يزيد عن 250 مم؛ لا يزيد عن 260 مم؛ لا يزيد عن 270 مم؛ لا يزيد عن 280 مم؛ لا يزيد عن 290 مم؛ لا يزيد عن 300 مم؛ لا يزيد عن 0 مم؛ لا يزيد عن 320 مم؛ لا يزيد عن 330 مم؛ لا يزيد عن 340 مم؛ لا يزيد عن 350 مم؛ لا يزيد عن 360 مم؛ لا يزيد عن 370 ‎tas‏ لا يزيد عن 380 مم؛ لا يزيد عن 390 مم؛ لا يزيد عن 400 مم؛ لا يزيد عن 410 مم؛ لا يزيد عن 420 مم؛ لا يزيد عن 420 مم؛ لا يزيد عن 430

مم؛ لا يزيد عن 440 مم؛ لا يزيد عن 450 مم؛ لا يزيد عن 460 مم؛ لا يزيد عن 470 مم؛ لا يزيد عن 480 مم؛ لا يزيد عن 490 مم؛ لا يزيد عن 500 مم. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "على الأقل" أكثر من أو يساوي. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "ما لا يزيد على" أقل من أو يساوي؛

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني ‎‘Gaga!‏ وعاء لاحتجاز شيء ما. في أحد النماذج؛ يتم تحديد الحوض ‎gan‏ الجدار الجانبي الأول ‎gag‏ الجدار الجانبي الثاني؛ والقاعدة (أو قاع الخلية). في بعض النماذج؛ يحتجز الحوض راسب الحماية. في بعض النماذج؛ يحتجز الحوض مادة تغذية فى صورة ‎aly‏ حماية؛ بحيث يتم تصميم الحوض ليمنع حركة راسب الحماية داخل الخلية (أي؛ إلى الوسادة المعدنية و/ أو جزءٍ الإلكترود للخلية)؛

0 في بعض النماذج؛ يشتمل الحوض على مادة (مكون حمام واحد على الأقل) موجود في كيمياء الحمام عند أو بالقرب من التشبع؛ بحيث يتم إبقاؤه في الحمام. وفي بعض النماذج؛ يتسم الحوض ‎Wad‏ بأن له ارتفاعاً (على سبيل المثال؛ بالنسبة للجدار الجانبي). للحمام/ البخار على: على الأقل 4/1 بوصة؛ على الأقل 2/1 ‎dag‏ على الأقل 4/3 بوصة؛ على 5 الأقل 1 بوصة؛ على الأقل 1 بوصة؛ على الأقل 17/96 ‎dias‏ على الأقل 1 و4/3 بوصة؛ على الأقل 2 ‎dag‏ على الأقل 2 14 بوصة؛ على الأقل 2 ‎W‏ بوصة؛ على الأقل 2 و4/3 بوصة؛ على الأقل 3 بوصة؛ على الأقل 3 3#*" ‎JA‏ بوصة؛ على الأقل 3 و4/3 بوصة؛ على الأقل 4 ‎das‏ على ‎J‏ لأقل 4 17 ‎das‏ على ‎J‏ لأقل 4 ‎dag V% n‏ 3 على ‎J‏ لأقل 4 4/3 ‎dag‏ 3 على الأقل 5 بوصة؛ على الأقل 5 14 بوصة؛ على الأقل 5 14 بوصة؛ على الأقل 4/355 بوصة؛ 0 أو على الأقل 6 بوصة. في بعض النماذج؛ يشتمل ارتفاع الحوض على: على الأقل 6 بوصة؛ على الأقل 12 بوصة؛ على الأقل 18 بوصة؛ على الأقل 24 بوصة؛ أو على الأقل 30 ‎ag‏ ‏في نماذج غير حصرية؛ ارتفاع الحوض (كما تم قياسه من قاع الخلية إلى الواجهة البينية بين الحمام/ البخار 3 يشتمل على : ما لا يزيد على 1 /4 ‎diag‏ ما لا يزيد على 2/1 بوصة » ما لا يزيد

بوصة؛ ما لا يزيد على 1 و4/3 بوصة؛ ما لا يزيد على 2 بوصة؛ ما لا يزيد على 2 14 ‎dan‏ ‏ما لا يزيد على 2 14 بوصة؛ ما لا يزيد على 2 و4/3 بوصة؛ ما لا يزيد على 3 بوصة؛ ما لا يزيد على 3 و14 بوصة؛ ما لا يزيد على 3 4/3 بوصة؛ ما لا يزيد على 3 و4/3 بوصة؛ ما لا يزيد على 4 بوصة؛ ما لا يزبد على 4 14 بوصة؛ ما لا يزيد على 4 و14 بوصة؛ ما لا يزيد على 4 و4/3 بوصة؛ ما لا يزيد على 5 بوصة؛ ما لا يزيد على 5 14 بوصة؛ ما لا يزبد على 5 4/3 بوصة؛ أو ما لا يزيد على 6 بوصة. وفي بعض النماذج؛ يشتمل ارتفاع الحوض على: ما لا يزيد على 6 بوصة؛ ما لا يزيد على 12 بوصة؛ ما لا يزيد على 18 بوصة؛ ما لا يزيد على 24 بوصة؛ أو ما لا يزيد على 30 بوصة. في بعض النماذج؛ يمتد ‎ga‏ الجدار الداخلي الثاني لأعلى (أي؛ نسبة إلى قاع الخلية)؛ حيث يتداخل 0 جزءٍ الجدار الداخلي الثاني للمسافة المحددة مع ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول (أي؛ لتحديد ‎gia‏ حيث يتداخل كل من جزئي الجدار الجانبي؛ 'تداخل الحوض" المشترك"). في بعض النماذج؛ يكون تداخل الحوض قابلاً لتحديد الكمية من خلال التداخل نسبة إلى ارتفاع جدار الخلية بالكامل (على سبيل المثال» المعبر ‎die‏ بالنسبة). في بعض ‎or all‏ يتداخل الحوض من 160 إلى ما لا يزيد عن 9690 من ارتفاع جدا ‎dal)‏ بالكامل. في بعض النماذج؛ يتداخل الحوض من %20 إلى ما لا يزيد عن 5 %80 من ارتفاع جدا الخلية بالكامل. في بعض النماذج, يتداخل الحوض من 9640 إلى ما لا يزيد عن 9660 من ارتفاع جدا الخلية بالكامل. في بعض النماذج؛ يكون تداخل الحوض: 960 (أي لا يوجد تداخل)؛ أو 965 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9610 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9615 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9620 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9625 على الأقل من ارتفاع 0 الجدار بالكامل؛ أو 9630 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9635 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9640 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9645 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9650 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9655 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9660 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9665 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو 9670 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل أو 9675 على الأقل من ارتفاع

الجدار بالكامل أو 9680 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل أو 9685 على الأقل من ارتفاع ‎land)‏ بالكامل أو 9690 على الأقل من ارتفاع الجدار بالكامل» في بعض النماذج؛ يكون تداخل الحوض: 960 (أي لا يوجد تداخل)؛ أو لا يزيد عن 965 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9610 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9615 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9620 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9625 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9630 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9635 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9640 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9645 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9650 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9655 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9660 من ارتفاع الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9665 من ارتفاع 0 الجدار بالكامل؛ أو لا يزيد عن 9670 من ارتفاع الجدار بالكامل أو لا يزيد عن 9675 من ارتفاع الجدار بالكامل أو لا يزيد عن 9680 من ارتفاع الجدار بالكامل أو لا يزيد عن 9685 من ارتفاع الجدار بالكامل أو لا يزيد عن 9690 من ارتفاع الجدار بالكامل. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير 'راسب حماية" إلى تراكم ‎Bale‏ تحمي جسم أو مادة آخرين. على سبيل المثال غير الحصري؛ يشير 'راسب حماية" إلى ‎sale‏ التغذية التي يتم احتجازها 5 في الحوض. في بعض النماذج؛ تكون رواسب الحماية عبارة عن؛ مادة صلبة؛ صورة دقائقية؛ حماً؛ ملاط؛ و/ أو توليفات منها. في بعض النماذج؛ تتم إذابة راسب الحماية في الحمام (على سبيل المثال؛ بواسطة الطبيعة الأكالة للحمام) و/ أو يتم استهلاكه من خلال العملية الإلكتروليتية. في بعض النماذج؛ يتم احتجاز راسب الحماية في الحوض»؛ بين ‎gr‏ ‏الجدار الجانبي الأول وجزء الجدار الجانبي الثاني. في بعض النماذج؛ يتم تصميم راسب الحماية 0 بحيث يدفع الوسادة المعدنية (المعدن المصهور) بعيدًا عن الجدار الجانبي؛ وبالتالي حماية الجدار الجانبي من الواجهة البينية بين الحمام-المعدن. في بعض النماذج؛ تتم إذابة راسب الحماية من خلال الحمام لتوفير تشبع عند أو بالقرب من جدار الخلية والذي يحافظ على مادة الجدار الجانبي مستقرة/ دون تفاعل (أي؛ مكونة من مكون حمام عند أو بالقرب من التشبع). في بعض النماذج؛ يشتمل راسب الحماية على زاوية ترسب (على سبيل المثال؛ يشكّل ‎andy‏ الحماية شكلاً عند تجميعه 5 في الحوض)؛ بما يكفي لحماية الجدار الجانبي وتوفير مادة تغذية إلى الحمام للذويان.

على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني التعبير ‎sald’‏ تغذية" مادة يتم الإمداد بها للمساعدة في دفع العملية بصورة أكبر. على سبيل المثال وليس الحصر؛ تكون مادة التغذية عبارة عن أكسيد معدن يدفع الإنتاج الإلكتروليتي لتراب أرضي و/ أو المعادن غير الحديدية (على سبيل المثال؛ المنتجات المعدنية) في خلية تحلل كهربي. في بعض النماذج؛ تقوم مادة التغذية حين إذابتها أو استهلاكها بصورة أخرى؛ بإمداد بالحمام الإلكتروليتي بمادة بدء إضافية يتم إنتاج الأكسيد المعدني منها من خلال الاختزال في الخلية؛ مما يشكل منتج معدني. في بعض النماذج؛ يكون لمادة التغذية وظيفتين غير حصريتين: (1) التغذية بالظروف التفاعلية للخلية لإنتاج منتج معدني؛ و(2) تكوين راسب تغذية في القناة بين الجدار عند الجدار الجانبي الداخلي لحماية الجدار الجانبي الداخلي من بيئة الحمام الأكالة. في بعض النماذج؛ تشتمل مادة التغذية على ألومينا في خلية تحلل كهربي من

0 الألومنيوم. تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية لمادة التغذية في صهر الألومنيوم: ألومينا على درجة الانصهار ‎(SGA)‏ ألوميناء ألومنيوم مسطح؛ وتوليفات منها. عند صهر المعادن الأخرى (غير الألومنيوم)؛ يتم التعرف على مواد التغذية الخاصة بدفع تلك التفاعلات بسهولة ‎hy‏ للوصف الحالي. في بعض النماذج؛ تكون مادة التغذية ذات حجم كافي وكثافة للحركة من الواجهة البينية بين الحمام-الهواء؛ من خلال الحمام وإلى الحوض لتكوين راسب حماية.

5 على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير 'متوسط حجم الجسيم” إلى متوسط حجم مجموعة من الجسيمات المفردة؛ في بعض النماذج؛ مادة التغذية في صورة دقائقية (صلبة) لها متوسط حجم جسيم. في أحد النماذج؛ يكون متوسط حجم جسيم مادة التغذية كبير بالقدر الكافي بحيث يترسب إلى قاع الخلية (على سبيل المثال؛ ولا يتم تعليقه في الحمام أو "يطفو" في الحمام). في أحد النماذج؛ يكون متوسط حجم الجسيم صغير بالقدر الكافي بحيث تكون هناك مساحة متكافئة لتحدث تفاعلات

0 السطح/ الذوبان (على سبيل المثال؛ معدل الاستهلاك). على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "معدل التغذية" كمية خاصة (أو مقدار) تغذية متعلق بوحدة زمنية. على سبيل المثال غير الحصري»؛ يكون معدل التغذية هو معدل إضافة مادة التغذية إلى الخلية. في بعض النماذج؛ يعد حجم و/ أو موضع راسب الحماية دالة على معدل التغذية. في بعض النماذج؛ يكون معدل التغذية ثابت. في نموذج ‎AT‏ يمكن ضبط معدل التغذية. في بعض

5 النماذج؛ تكون التغذية متصلة. في بعض النماذج؛ تكون التغذية غير متصلة.

— 9 2 — على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "معدل الاستهلاك" كمية خاصة (أو مقدار) من استخدام المادة فيما يتعلق بوحدة زمنية. في أحد النماذج؛ يكون معدل الاستهلاك هو معدل استهلاك مادة التغذية بواسطة خلية التحلل الكهربي (على سبيل المثال؛ بواسطة الحمام؛ و/ أو الاستهلاك في بعض النماذج؛ يكون معدل التغذية ‎dof‏ من معدل الاستهلاك. في بعض النماذج؛ تتم تهيئة معدل التغذية بحيث يوفر راسب حماية فوق الواجهة البينية للحمام -الهواء . على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير 'وسيلة تغذية' (يسمى أحيانًا جهاز تغذية) إلى جهاز يقوم بإدخال ‎sale‏ (على سبيل المثال؛ تغذية) إلى شيء ما. في أحد النماذج» يكون جهاز التغذية ‎Ble‏ عن جهاز يقوم بتغذية ‎sale‏ التغذية إلى خلية التحلل الكهربي. في بعض النماذج؛ يكون جهاز

0 التغذية ‎(JT‏ أو يدوي؛ أو توليفة منها. في أمثلة غير حصرية؛ يكون جهاز التغذية عبارة عن جهاز تغذية مسدل أو جهاز تغذية خانق. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير "جهاز تغذية مسدل" إلى جهاز تغذية يتحرك بامتداد الجدار ‎PEN)‏ (على سبيل المتال؛ بمسار) لتوزيع مادة التغذية؛ في أحد النماذج؛ يتم ربط جهاز التغذية المسدل بحيث يمكن تحريكه ليتحرك بامتداد جدار جانبي واحد على الأقل بخلية التحلل الكهربي.

5 على النحو المستخدم في الطلب الحالى؛ يشير "جهاز التغذية الخانق" إلى جهاز تغذية ثابت على جدار جانبي لتوزيع مادة التغذية إلى الخلية. في بعض النماذج؛ يتم ربط جهاز التغذية بالجدار الجانبي بواسطة جهاز ربط. تتضمن الأمثلة غير الحصرية حاصرات وما إلى ذلك. في بعض النماذج؛ يكون جهاز التغذية آلي. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يشير "آلي" إلى إمكانية التشغيل على حدة (على سبيل المثال؛ كما هو الحال مع ماكينة أو تحكم في كمبيوتر).

0 في بعض النماذج؛ يكون جهاز التغذية يدوي. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ يعني "يدوي" يتم تشغيله بواسطة الجهود البشرية. على النحو المستخدم في الطلب ‎Jal‏ يشير "قالب تغذية" إلى مادة تغذية فى صورة صلبة (على سبيل ‎JE‏ مصبوية؛ ملبدة أو تم كبسها على الساخن أو توليفات منها) . فى بعض ‎oz all‏

تشتمل قاعدة ‎pagal)‏ على قالب تغذية. في أحد الأمثلة غير الحصرية؛ يتم صنع قالب التغذية من ألومينا. على النحو المستخدم في الطلب الحالي؛ تعني كلمة 'ثابت" مادة غير فعالة بشكل عام و/أو تحتفظ بخصائصها في بيئة ما. في بعض النماذج؛ تكون ‎sale‏ الجدار الجانبي ثابتة (غير فعالة؛ كما هو موضح أدناه) في بيئة الخلية الإلكتروليتية؛ مع الأخذ في الاعتبار ظروف الخلية ومعايير التشغيل؛ مع عدم التقيد بأي نظرية أو آلية خاصة؛ إذا تم الحفاظ على بيئة الخلية/البقاء على ثباتها (على سبيل المثال؛ بما في ذلك الاحتفاظ ‎sale‏ التغذية في الخلية عند تشبع لنظام الخلية الخاص) وتم تشبيع الحمام؛ فإن ‎sale‏ الجدار الجانبي تكون ثابتة فعليًا بحيث لا تتفاعل أو تتحلل في الحمام. ومع ذلك يصعب الحفاظ على الخلية الإلكتروليتية التشغيلية؛ إن لم يكن مستحيلاً؛ عند معايير تشغيل 0 الخلية الثابتة؛ ‎Bla‏ لأن الخلية التشغيلية تتسم بتغير ثابت (على الأقل بقدر تقليل ‎sale‏ التغذية إلى منتج معدني عن طريق الكيمياء الكهربائية). مع عدم التقيد بأي نظرية أو آلية خاصة؛ يُعتقد ‎ob‏ ‏دفق درجة الحرارة متغير (نظرًا لأن الدفق الحالي لأي تغير عملية آخر سيغير درجة حرارة الخلية/الحمام)؛ دفق التغذية متغير ‎(ly‏ حتى مع التوزيع المحسن» لأن مواقع التغذية المختلفة و/أو معدلات التغذية سيؤثر على الذويان (أي المواد الصلبة) في الخلية؛ ويوجد بالطرق والأدوات التحليلية 5 _لتحديد الكمية والتحكم في عمليات الخلية بعض الأخطاء القابلة لعزوها إلى معايرة حدود الذويان (على سبيل المثال» طرق ‎LECO‏ المستخدمة لتحديد محتوى الألومينا في الخلية لها نطاق خطأً يزيد أو يقل عن %5( في بعض النماذج, لا تتفاعل أو تتحلل المواد الصلبة و/أو مواد الجدار الجانبي غير التفاعلي (على سبيل المثال؛ عندما يكون الحمام عند تشبع هذه المادة الخاصة). في النماذج الأخرى؛ تخضع المواد 0 الصلة و/أو المواد غير التفاعلية لمقدار قليل من التحلل (أي؛ في إطار حدد محدد مسبقًا)؛ حيث لا تخفق ‎sale‏ الجدار الجانبي الخلية أثناء تشغيل الخلية والتحلل الكهربي (أي؛ يحتفظ بالإلكتروليت المصهور). في هذا النموذج؛ نظرًا ‎OY‏ محتوى ‎sale‏ التغذية في الحمام (أي؛ قابل للتحديد الكمية بمعدل 96 من التشبع) يختلف بشكل حتمي كوظيفة لتشغيل الخلية؛ فإن الذويان يتوقف أو يبدأ و/أو معدل التحلل لمادة الجدار الجانبي الصلبة ينخفض أو يزداد. في بعض النماذج؛ يتم الحفاظ على 5 الجدار الجانبي الثابت عن طريق تضمين التحلل. في بعض النماذج؛ يتم تضمين التحلل في نطاق

الحدود المقبولة (على سبيل المثال؛ مقادير و/أو لا يوجد تحلل) عن طريق معدل تغذية متحكم فيه و/أو مواقع تغذية (على سبيل ‎(JB‏ للتأثير على نسبة تشبع ‎sale‏ التغذية في الحمام). في بعض النماذج؛ تعتبر الكاتيونات لمواد المكون هذه ‎Ky Na)‏ و40ا و05 و86 و09 و08 ‎Sry‏ ‏و88 و56 ولا ‎Las‏ و68) من الناحية الكهروكيميائية أقل ندرة من المعدن الذي تم إنتاجه؛ حيث 5 .لم يتم استهلاكها أثناء التحلل الكهربي. وبعبارة أخرى؛ نظرًا لأن القدرة الاحتمالية الكهروكيميائية لهذه المواد ‎ST‏ سلبية من الألمونيوم؛ في خلية إلكتروليتية من الألمونيوم؛ فإن هذه المواد من ذات احتمالية اختزال أكثر انخفاضًا. يشير "الجدار الجانبي غير التفاعلي" إلى جدار جانبي يتم إنشاؤه أو يتكون من (على سبيل المثال؛ يكون مغطى ب ) مادة مستقرة (على سبيل المثال؛ غير تفاعلية؛ خاملة؛ مستقرة من حيث الأبعاد؛ و/ أو محفوظة) في حمام الإلكتروليت المصهور عند درجات حرارة تشغيل 0 الخلية ‎le)‏ سبيل المثال» فوق 750 م إلى ما لا يزيد على 980 م)؛ في بعض النماذج؛ يتم الحفاظط على مادة الجدار الجانبي غير التفاعلية في الحمام بسبب كيمياء الحمام. في بعض النماذج؛ تكون مادة الجدار الجانبي غير التفاعلية مستقرة في حمام الإلكتروليت طالما أن الحمام يشتمل على مادة الجدار الجانبي غير التفاعلية كمكون حمام في تركيز عند أو بالقرب من حد التشبع في الحمام. في بعض النماذج؛ تشتمل مادة الجدار الجانبي غير التفاعلية على مكون واحد على الأقل موجود في كيمياء الحمام. في بعض النماذج؛ يتم الحفاظ على كيمياء الحمام بواسطة التغذية بمادة تغذية إلى الحمام؛ ‎lly‏ إبقاء كيمياء الحمام عند أو بالقرب من التشبع لمادة الجدار الجانبي غير التفاعلية؛ وبالتالي الحفاظ على مادة الجدار الجانبي في الحمام تتضمن بعض الأمثلة غير الحصرية لمواد الجدار الجانبي غير التفاعلية: ‎Al‏ أو ‎LI‏ أو ‎Na: K‏ ؛ طن ؛ 058 ؛ 86 ؛ 109 ؛ 08 ؛ 58 ؛ 88 ؛ 56 ؛ 7 ؛ ‎tla‏ أو مواد تحتوي على ‎«Ce‏ وتوليفات منها. في بعض ‎ez Sail)‏ تكون المادة غير التفاعلية هي أكسيد من الأمثلة المذكورة سابقًا. في بعض النماذج؛ تكون المادة غير التفاعلية هي ملح هاليد و/ أو فلوريد من الأمثلة المذكورة سابقًا. في بعض ‎er Sail‏ تكون المادة غير التفاعلية هي أوكسو فلوريد من الأمثلة المذكورة سابقًا. في بعض النماذج؛ تكون المادة غير التفاعلية هي صورة معدن نقي من الأمثلة المذكورة سابقًا. في بعض النماذج؛ يتم اختيار المادة غير التفاعلية لتكون ‎sale‏ (على سبيل ‎(Mg «Ca (Jul‏ لها قدرة كهربية كيميائية 5 أعلى من (على سبيل المثال؛ كاتيونات لتلك المواد تكون أكثر ندرة من الناحية الكهروكيميائية من)

المنتج المعدني الذي يتم إنتاجه (على سبيل ‎Al) (Jud)‏ ويكون تفاعل مادة الجدار الجانبي غير التفاعلية أقل تفضيلاً (من الناحية الكهروكيميائية) من تفاعل اختزال الألومينا إلى الألومنيوم. في بعض النماذج؛ يتم صنع الجدار الجانبي غير التفاعلي من مواد يمكن صبها. في بعض النماذج؛ يتم صنع الجدار الجانبي غير التفاعلي من مواد ملبدة. في بعض النماذج؛ يحتوي الجدار الجانبي على سمك من 3 مم إلى ما لا يزيد على 500 مم. في بعض النماذج؛ يكون ‎clad‏ الجدار الجانبي هو: على الأقل 3 مم؛ أو على الأقل 5 مم؛ أو على الأقل 10 مم؛ أو على الأقل 10 مم؛ أو على الأقل 15 مم؛ أو على الأقل 20 مم؛ أو على الأقل 5 مم؛ أو على الأقل 30 مم أو على الأقل 35 مم؛ أو على الأقل 40 مم؛ أو على الأقل 45 مم؛ أو على الأقل 50 مم؛ أو على الأقل 55 مم؛ أو على الأقل 60 مم؛ أو على الأقل 65 مم؛ أو 0 على الأقل 70 مم؛ أو على الأقل 75 مم؛ أو على الأقل 80 مم؛ أو على الأقل 85 مم؛ أو على الأقل 90 مم؛ أو على الأقل 95 مم؛ أو على الأقل 100 مم. في بعض النماذج؛ يكون ‎clad‏ الجدار الجانبي هو: على الأقل 100 مم؛ أو على الأقل 125 ‎tan‏ ‏أو على الأقل 150 مم؛ أو على الأقل 175 مم؛ أو على الأقل 200 مم؛ أو على الأقل 225 مم؛ أو على الأقل 250 مم؛ أو على الأقل 275 مم أو على الأقل 300 ‎tae‏ أو على الأقل 325 مم؛ 5 أو على الأقل 350 مم؛ أو على الأقل 375 مم؛ أو على الأقل 400 مم؛ أو على الأقل 425 مم؛ أو على الأقل 450 مم؛ أو على الأقل 475 مم؛ أو على الأقل 500 مم. في بعض النماذج؛ يكون سُمك الجدار الجانبي هو: لا يزيد على 3 مم؛ أو لا يزيد على 5 مم؛ أو لا يزيد على 10 ‎tae‏ أو لا يزيد على 15 مم؛ أو لا يزيد على 20 مم؛ أو لا يزيد على 25 مم؛ أو لا يزيد على 30 مم؛ أو لا يزيد على 35 مم؛ أو لا يزيد على 40 مم؛ أو لا يزيد على 45 مم؛ أو 0 لا يزيد على 50 مم؛ أو لا يزيد على 55 مم؛ أو لا يزيد على 60 مم؛ أو أو لا يزيد على 65 مم؛ أو لا يزيد على 70 مم؛ أو لا يزيد على 75 مم؛ أو لا يزيد على 80 مم؛ أو لا يزيد على 85 مم؛ أو لا يزيد على 90 مم؛ أو لا يزيد على 95 مم؛ أو لا يزيد على 100 مم. في بعض النماذج؛ يكون سُمك الجدار الجانبي هو: لا يزيد على 100 مم؛ أو لا يزيد على 125 مم؛ أو لا يزيد على 150 مم؛ أو لا يزيد على 175 مم؛ أو لا يزيد على 200 مم؛ أو لا يزيد على

— 3 3 — 225 مم ¢ أو لا يزيد على 250 مم ¢ أو لا يزيد على 275 مم ¢ أو لا يزيد على 300 مم ¢ أو لا يزيد على 325 ‎tan‏ أو لا يزيد على 350 ‎tan‏ أو لا يزيد على 375 ‎tan‏ أو لا يزيد على 400 ‎tan‏ أو أو لا يزيد على 425 ‎tan‏ أو لا يزيد على 450 ‎tan‏ أو لا يزيد على 475 ‎tan‏ أو لا يزيد على 0 مم. في بعض النماذج؛ يتميز الجدار الجانبي الثابت بسمك يتراوح بين 3 مم إلى ما لا يزيد عن 500

مم. في بعض النماذج؛ يتميز الجدار الجانبي الثابت بسمك يتراوح ما بين 50 مم وما لا يزيد على 0 مم. في بعض النماذج؛ يتميز الجدار الجانبي الثابت بسمك يتراوح ما بين 100 مم إلى ما لا يزيد عن 300 مم. في بعض النماذج؛ يتميز الجدار الجانبي الثابت بسمك يتراوح ما بين 150 مم وما لا يزيد عن 250 مم.

0 المثال: دراسة محدودة النطاق: التغذية الجانبية: تم إتمام اختبارات محدودة النطاق لتقييم التحات - ‎JK‏ لخلية تحلل كهربي من الألومنيوم. أبدت اختبارات التحات - التآكل أن الألومينا؛ ومواد الكروميا- ألومينا قد تمت مهاجمتها بصورة مفضلة عند الواجهة البينية للحمام- المعدن. علاوة على ذلك؛ تم تحديد أن معدل التحات - التأكل عند الواجهة البينية للحمام-المعدن يتصاعد بصورة كبيرة عندما يكون تركيز تشبع الألومينا منخفض

5 (على سبيل المثال؛ أقل من 95 96)؛ مع حاجز فيزيائي لمواد التغذية؛ أي لزيادة تغذية تركيز تشبع الألوميناء يتم تشغيل الحاجز (على سبيل المثال جسيمات ألومينا) للحفاظ على الألومينا مشبعة عند الواجهة البينية للحمام-المعدن لحماية الجدار الجانبي من الإذابة بواسطة الحمام. على ذلك؛ تتم حماية الجدار الجانبي عند الواجهة البينية للحمام-المعدن من الهجوم الأكال-التحات وتم الحفاظ على تركيز تشبع الألومنيوم عند حوالي 9698 بالوزن. بعد إجراء التحلل الكهربي لفترة زمنية ماء تم

فحص الجدار الجانبي وظل سليم. المثال: اختبار النطاق التجريبي؛ ...التغذية الجانبية الآلية باستخدام جهاز تغذية دوّار تم تشغيل خلية هول واحدة باستمرار لمدة حوالي 700 ساعة مع حوض بامتداد الجدار الجانبي حول محيط الخلية (على سبيل المثال؛ من خلال جهاز تغذية دوّار) ‎٠‏ تضمن جهاز التغذية قادوس؛ ودتم التدوير بامتداد الجدار الجانبي لتغذية الجدار الجانبي بالكامل (بامتداد جدار جانبي واحد)؛ تمت

— 4 3 — التغذية بمادة تغذية لألومينا مسطحة إلى الخلية عند موضع يتم احتجازه في الحوض بواسطة جهاز تغذية آلى. بعد إتمام التحلل الكهربي؛ تم فحص الجدار الجانبي ووجد أنه سليم (أي؛ تمت حماية الجدار الجانبي بواسطة التغذية الجانبية). المثال: اختبار الوعاء الكامل في التغذية الجانبية (يدوية)

تم تشغيل اختبار نطاق تجاري على تغذية الجدار الجانبي باستمرار لفترة زمنية (على سبيل المثال؛ على الأقل شهر واحد) مع حوض بامتداد الجدار الجانبي من خلال التغذية اليدوية. تمت التغذية بمادة تغذية لألومينا مسطحة إلى الخلية ‎Gan‏ عند موضع بجوار الجدار الجانبي بحيث يتم احتجاز الألومينا في حوض في الخلية؛ يوجد بجوار الجدار الجانبي. أوضحت قياسات نموذج الجدار الجانبي أدنى تحات- ‎(SE‏ للجدار الجانبي فوق ‎(pagal)‏ وأوضحت قياسات نموذج الحوض أن الحوض قد

0 حافظ على سلامته طوال تشغيل الخلية؛ على ذلك؛ قامت ألومينا التى تمت تغذيتها يدوبًا بحماية الواجهة البينية للمعدن - الحمام للجدار الجانبي للخلية من التآكل- التحات. تم إجراء تحليل للخلية لتوضيح نهائي لما سبق. مثال - متوسط معدل تشبع من ‎Lies‏ مقابل الحد الأقصى لمعدل التآكل (معدل ‎(Obs‏ ‏تم تشغيل خمس ‎WIS‏ كهروالكيتروليتية (أي؛ الخلايا 1 - 5) لفترة من الوقت لإنتاج

5 الألمونيوم في محدودة نطاق؛ وكانت كل خلية بنفس الحجم ولها نفس مادة الجدار الجانبي (على سبيل المثال؛ الألومنيا) بدون قضبان في الجدران الجانبية؛ حيث يكون لكل خلية نفس المادة (الحمام) الإليكتروليتية المصهورة. تم تشغيل كل خلية عند متوسط مختلف لنسبة التشبع من الألومنيا في الحمام؛ حيث تتراوح الخلايا من متوسط %85.5 من التشبع (الخلية 0 إلى %89.92 من التشبع (الخلية 5( . تم الحصول على القياسات في كل خلية (على سبيل المثال في وضع بامتداد سطح

0 الجدار الجانبي) لتحديد معدل ذوبان للجدار الجانبي من ‎cling)‏ ويتم توفير الحد الأقصى لمعدل التآكل (مم/سنويًا) في الجدول أدناه. تدعم البيانات الاتجاه الذي كلما زاد متوسط التشبع؛ قل الحد الأقصى لمعدل ‎JST‏ يوضح الجدول أنه عندما كان متوسط التشيع 96 في نطاق 962 من التشبع (أي؛ الخلية 5)؛ فإن الحد الأقصى لمعدل التآكل (معدل الذوبان) كان أقل من ذلك مقارنة بالخلية 1 (أي 31.97 مم/ سنويًا مقابل 75.77 ‎fae‏ سنويًا)؛ الذي يعمل عند 9685.5 من التشبع.

— 5 3 — متوسط نسبة التشبع والحد الأقصى لمعدل التشبع (معدل الذويان) مم/سنويًا للخلايا 5-1. الخلية متوسط نسبة التشبع الحد الأقصى لمعدل التاكل

١ ‏ض إْ‎ ١ ١

َ ض | | | ض ا ا

7 ض ) | | ض 1

ض ‎i)‏ ا ا ض إْ ‎١‏

- | 1 ض مثال - متوسط معدل تشبع من الألومنيا مقابل الحد الأقصى لمعدل التآكل (معدل الذوبان) تم تشغيل ثلاث خلايا كهروالكيتروليتية ‎(gl)‏ الخلايا 5 - -7) لفترة من الوقت لإنتاج ألومنيوم في محدودة النطاق. تم تشغيل الخلايا 5 - 7 لإنتاج ألومينيوم من الألومنيا (مادة تغذية)

ولكل خلية جدار جانبي ونفس مادة الحمام (الإلكتروليت المصهور). كانت الخليتان 5 و6 بنفس الحجم (وكانت الخلايا 6-1 بنفس الحجم)؛ بينما كانت الخلية 7 خلية تجريبية أكبر من الخلايا 6-1). تحتوي الخلية 7 على ما لا يقل عن قضيب ‎candy‏ بالإضافة إلى مادة جدار جانبي من الألومنيا. بالنسبة للخلايا 7-5 تم تحديد تشبع الألومنيوم عن طريق قياسات تحليلية 0 كل 4 ساعات (على سبيل المثال؛ قياسات 60]). بالنسبة للخلية 5؛ تم إكمال تغذية الألومنيا (التحكم في التشبع)

— 3 6 —

يدويًا (على سبيل المثال» عبر مراقبة بصرية للحمام)؛ بينما تمت أتمتة تغذية الألومنيا للخلايا 6

‎Je) © 8‏ سبيل المثال؛ عند ما لا يقل عن قياس ‎LECO‏ تم تضمينه في نظام مؤتمت).

‏تم تشغيل الخلايا الثلاث لفترات مختلفة من الوقت قبل التعطيل. أثناء

‏التشغيل» تمت إضافة الألومنيا إلى الخلية 5 بناء على الفحص المرئي (على سبيل ‎Jia)‏ إشارة

‏لحدث 'تغذية زائدة' وإشارة ضبابية لحدث 'تغذية منخفضة").

‏تمت تغذية الخلايا 6 و7 بناء على معايير نظام تحكم مؤتمت؛ بما فى ذلك

‎LECO ‏قياسات‎

‏بالنسبة للخلايا 7-5؛ تم تشغيل كل خلية عند متوسط نسبة تشبع مختلفة من الألومنيا في الحمام؛ 0 حيث تراوحت الخلايا من متوسط 96101.7 من التشبع (الخلية 5) إلى 9699.8 من التشبع (الخلية

‏0 . تم الحصول على القياسات في كل خلية (على سبيل المثال + عند وضع بامتداد سطح الجدار

‏الجانبي) لتحديد معدل ذويان الجدار الجانبي للألومنيا بتقدم تشغيل الخلية. لكل خلية؛ يتم تقديم

‏متوسط نسبة التشيع (الألومنيا) بالإضافة إلى الحد الأقصى لمعدل التآكل (معدل الذوبان) مم/ ‎Gigs‏

‏في الجدول أدناه. تم الحصول على متوسط قيم نسبة التشبع عن طريق قياسات ‎(LECO‏ التي لديها خطأ محتمل بما يزيد/يقل عن 965. في هذا ‎(Jal‏ تم تشغيل كل خلية بمتوسط نسبة تشبع 96 كان

‏أقرب أو أعلى قليلاً من حد تشبع الألومنيا (كحاسوب ل) نظام الخلية ‎Gy‏ لمعايير التشغيل. في كل

‏خلية؛ تمت ملاحظة نفايات في مرة أو أخرى؛ حيث سيتم تجميع النفايات (الألومونيا التي تستقر من

‏الحمام) تجاه القاع في الحالة التي يتم فيها تشغيل الخلية لفترة طويلة من الوقت مع محتوبات

‏الألومونيا فوق حد التشبع (أي؛ لنظام الخلية ومعايير التشغيل الخاص بها). تم تقييم معدلات التآكل 0 للخلية 7 في جفاف القضيب (إضافة إلى واجهة/سطح الجدار الجانبي) وتمت ملاحظة؛ كما هو

‏متوقع؛ أن متوسط معدل التآكل الذي تم قياسه في القضيب أكبر منه في الواجهة بالنسبة للخلية 7.

‏تمت ملاحظة أن الخلية 5 من المثال السابق مثلما هى فى الخلية 5 فى هذا المثال؛ ولكن تمت

‏زيادة متوسط التشبع 96 (أي؛ من 9698.92 إلى %101.7(

— 7 3 — متوسط نسبة التشبع والحد الأقصى لمعدل ‎JST‏ (معدل الذوبان) مم/ سنويًا للخل ايا7-5. ‎all‏ الأقصى لمعدل التاكل الخلية ‏ امتوسط| نسبةا (مم/سنوتًا) التشبع 75 101 45.72 . | . 100.1 119.38 مثال - متوسط معدل تشبع من الألومنيا مقابل الحد الأقصى لمعدل التآكل (معدل الذوبان) كانت الخلية 8 نفس حجم الخلية 7 في المثال السابق ‎lo)‏ سبيل ‎(JU‏ خلية محدودة النطاق الأكبر ‎clans‏ مع ما لا يقل عن قضيب واحد ومادة جدار جانبي من الألومنيا). تم تشغيل الخلية في عدد من الأيام بمتوسط تشبع يصل إلى 1698.5 وأثناء هذا الوقت؛ تم تسجيل عدد من قياسات ‎JS‏ بامتداد جزءِ محدد من نفس القضيب فى الخلية. بالنسبة للخلية 8 التى تعمل بمعدل 9698.5 من تشبع ‎J‏ لألومنيا مع جدران أ لألومنيا + تم احتساب معدل التأكل فى القضيب. بعد التشغيل لعدة أيام عند متوسط تشبع يصل إلى 9698.5؛ تم تشغيل الخلية 8 لعدة ‎abl‏ عند متوسط تشبع 9698 أثناء هذه الفترة يتم تسجيل عدد قياسات التآكل. مرة أخرى؛ تم احتساب معدلات ‎SE 0‏ القضيب لنفس الخلية؛ التي تعمل عند 9698 من تشبع الألومنيوم. يتم تقديم متوسط نسب التشبع والحد الأقصى لمعدلات ‎JST‏ في الجدول أدناه. تمت ملاحظة أنه تم تشغيل الخلية 8 لمدة شهر بمتوسط تشبع 5 . %98 مقارنة بتشغيلها عند متوسط تشبع 98 96 ‎٠‏ من الجدول أدناه يتضح أنه عن طريق تشغيل الخلية بمتوسط تشبع يصل إلى أعلى 960.5؛ فإن معدل ‎JBI‏ في القضيب كان أقل من نصف معدل التأكل ذي المتوسط المنخفض للتشبع (معدل الذوبان) (أيء 109.73 5 مماسنوتًا مقابل 241.40 مم/سنوتا).

متوسط نسبة التشبع والحد الأقصى لمعدل التآكل في القضيب (معدل الذويان) الخلية 8

متوسط. نسبةاالحد الأقصى لمعدل التأكل ‏ في

م ا بينما قد تم وصف النماذج المتنوعة للاختراع الحالي بالتفصيل؛ غير أنه يتضح لأصحاب المهارة في المجال إمكانية حدوث تعديلات وعمليات تهيئة لتلك النماذج. الأرقام المرجعية؛ الخلية 10( أنود 12؛ كاثود 14؛ حمام إلكتروليت 16؛ وسادة معدنية 18؛ جسم

خلية 20 عمل نقل كهربي 22 تجميعة الأنود 24؛ ‎ghd‏ مجمع التيار 40؛ الجدار الجانبي نشط 30 الجدار الجانبي 38 (على سبيل يتضمن الجدار الجانبي النشط ومجموعة العزل الحراري) القاع 32 الغلاف الخارجي 34 0 قالب التغذية 60 الواجهة البينية للحمام-الهواء 26 الواجهة البينية للمعدن-الحمام 28.

Claims (1)

1. عناصر الحماية 1 - نظام لانتاج ‎١‏ لألومنيوم ‎aluminum‏ » يشتمل على: خلية تحلل كهربي ‎electrolysis cell‏ )10( مهيأة للاحتفاظ بحمام إلكتروليت مصهور (16)؛ يضم الحمام (16) ألومينا كمكون حمام واحد؛ خلية التحلل الكهربي (10) تتضمن: أنود ‎anode‏ )12(¢ كاثود ‎cathode‏ )14( في علاقة متباعدة عن الأنود (12)؛ جزء سفلي من خلية (32)؛ و جدار جانبي (38) يتكون بالأساس من مكون حمام واحد ويسمك يتراوح ما بين 3 ملي ‎sie‏ و500 ملي مترء حيث يكون التدفق الحراري عبر الجدار الجانبي )38( للخلية (10) أثناء عملية الخلية أقل من حوالي 4 كيلو واط/م2؛ وحيث يحدد الجدار الجانبي (38) ما يلي: 0 جزءِ جدار جانبي أول تم تهيئته ليتلاءم في حزمة حرارية للجدار الجانبي (38) ويحتفظ بحمام الإلكتروليت ‎electrolyte bath‏ (16)؛ و جه جدار جانبي ثان تم تهيئته ليمتد لأعلى من ‎sal‏ السفلي للخلية (32)؛ حيث يتداخل ‎Ga‏ ‏الجدار الجانبي الثاني لمسافة مع جزء الجدار الجانبي الأول؛ راسب ‎sale‏ تغذية تم الاحتفاظ بها بجوار الجدار الجانبي (38)؛ حيث تتضمن مادة التغذية مكون 5 حمام واحد؛ طبقة من ‎ales‏ الإلكتروليت ‎electrolyte bath‏ المصهور ‎molten‏ غير القريبة من الجدار الجانبي؛ حيث يكون تشبع مكون الحمام في الطبقة في نطاق %90 تشبع؛ و ‎Cun‏ من خلال راسب ‎sale‏ التغذية؛ يكون الجدار الجانبي ‎Gals‏ في ‎alas‏ الإلكتروليت ‎electrolyte‏ ‎bath‏ المصهور ‎molten‏ .

   2- النظام ‎Uy‏ لعنصر الحماية 1؛ حيث يكون تشبع مكون الحمام ما بين حوالي %95 و96100 = 3- النظام ‎la,‏ لعنصر الحماية 1 حيث تقع طبقة حمام الإلكتروليت المصهور ‎molten electrolyte‏ ‎Sbath 5‏ نطاق 15.24 سم (6 بوصة) من الجدار الجانبي.

   4- النظام وفقًا لعنصر الحماية 1؛ حيث تتألف مادة الجدار الجانبي من مواد منتقاة من المجموعة التي تتكون من: ام؛ نا ‎¢Rb ¢K ¢Na‏ 05؛ ‎¢Sr «Ca «Mg ¢Be‏ 88؛ ‎La ¢Y ¢Sc‏ أو مواد تحتوي على 06؛ ‎¢Al‏ ناء؛ ‎¢K ¢Na‏ ط8ا؛ ‎¢Cs‏ 86؛ ‎¢Sr «Ca ¢Mg‏ 88؛ ‎¢Sc‏ 7؛ ‎tla‏ أو معادن ‎:Ce 5‏ لم؛ نا فلا >ا؛ ‎tMg Be (Cs «Rb‏ 08؛ ‎¢Sr‏ 88؛ ‎«Sc‏ 7؛ 8ا؛ أو أكاسيد 06؛ ملح ‏هاليدي من ‎tAl‏ نا؛ ‎‘Rb ¢K (Na‏ 05؛ ‎¢Y «Sc «Ba ¢Sr «Ca :Mg Be‏ 8ا؛ أو ‎«Ce‏ أوكسو ‏فلوريد من ‎¢Al‏ ناء؛ ‎¢Na‏ >ا؛ ‎¢La ¢Y «Sc «Ba «Sr «Ca «Mg «Be ¢«Cs ¢Rb‏ أو ‎¢Ce‏ وتوليفات منها. ‏0 5 - النظام وفقًا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتباعد ‎eda‏ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول بحيث يحدد ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول؛ وجزء الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين ‎eal‏ الأول والجزء الثاني حوضا يتراوح عرضه ما بين 10 ملي ‎sie‏ و500 ملي مترء يتم تصميم الحوض بحيث يستقبل راسب حماية ويحتفظ براسب الحماية بصورة منفصلة عن الجزءٍ السفلي من الخلية؛ حيث يتم تصميم راسب الحماية للإذابة من الحوض إلى ‎alas‏ الإلكتروليت المصهور ‎molten‏ ‎electrolyte bath 5‏ بحيث يشتمل ‎ales‏ الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون حمام واحد كافي للحفاظ على ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول وجزءِ جدار جانبي ثان في حمام الإلكتروليت المصهور

   ‎.molten electrolyte bath‏ 6 - النظام وفقًا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتباعد ‎gis‏ الجدار الجانبي الثاني طوليًا عن جزءٍ الجدار ‏0 الجانبي الأول بحيث يحدد ‎gia‏ الجدار الجانبي الأول؛ وجزء الجدار الجانبي الثاني؛ وقاعدة بين الجزء الأول ‎sally‏ الثاني حوضا؛ حيث يمتد ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني إلى موقع أعلى بالنسبة إلى ‎gall‏ السفلي من الخلية؛ بحيث يتداخل ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني مع ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول لتقديم تداخل حوض يتراوح بين حوالي 9620 إلى 9680 من إجمالي ارتفاع جدار الخلية؛ وحيث يتم تصميم الحوض بحيث يستقبل راسب حماية ويحتفظ براسب الحماية بصورة منفصلة عن ‏5 الجزء السفلي من الخلية.

   7 - النظام ‎Gg‏ لعنصر الحماية 6( حيث يتم تصميم راسب الحماية للإذابة من الحوض إلى حمام الإلكتروليت المصهور بحيث يشتمل حمام الإلكتروليت المصهور على مستوى من مكون ‎ples‏ واحد كافي للحفاظ على ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول وجزءِ جدار جانبي ثان في حمام الإلكتروليت المصهور

   ‎.molten electrolyte bath‏ 8 - النظام وفقًا لعنصر الحماية ‎oF‏ يشتمل كذلك على عضو توجيه تم وضعه بين جزءٍ الجدار الجانبي الأول وجزء الجدار الجانبي الثاني؛ يتم تباعد عضو التوجيه ‎Gila‏ أعلى الحوض؛ بحيث يتم تصميم عضو التوجيه لكي يوجه راسب الحماية إلى الحوض. 0 9 - النظام ‎Gg‏ لعنصر الحماية 7؛ حيث يتم تصميم ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني لكي يتحاذى مع ‎ga‏ الجدار الجانبي الأول ‎Lad‏ يتعلق بحزمة العزل الحرارية؛ حيث يتم تصميم ‎oda‏ الجدار الجانبي الثاني لكي يمتد من الجدار الجانبي في تصميم متدرج؛ و ‎Cus‏ يشتمل ‎oda‏ الجدار الجانبي الثاني على سطح علوي وسطح جانبي يحدد ‎gall‏ المتدرج. 5 10 - النظام ‎By‏ لعنصر الحماية 9 حيث يكون السطح العلوي من ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني سطحًا مستويًا ‎planar surface‏ . 1- النظام وفقًا لعنصر الحماية 9 حيث يكون السطح العلوي من ‎ga‏ الجدار الجانبي الثاني سطحًا ‎deposit therein asic‏ . 2- النظام ‎Gy‏ لعنصر الحماية 11 حيث يتم تصميم السطح العلوي بالتوليف مع جزءٍ الجدار الجانبي الأول للتعاون وتقديم مساحة مجوفة تم تصميمها للاحتفاظ براسب الحماية فيها. 3- النظام ‎Gig‏ لعنصر الحماية 6؛ حيث يشتمل راسب الحماية على مكون حمام واحد.

   — 2 4 — 14 - النظام ‎By‏ لعنصر الحماية 6 حيث يتم تحديد الحوض بواسطة قالب تغذية تم تكوينه من مادة تم اختيارها من مكونات في كيمياء الحمام» حيث أنه من خلال كيمياء الحمام؛ يتم الحفاظ على قالب التغذية في حمام الملح المصهور ‎molten salt bath‏ . 15- النظام وفقًا لعنصر الحماية 6 حيث تشتمل كذلك على وسيلة تغذية تم تصميمها لتوفير راسب الحماية في الحوض ‎trough‏ .

   ٠ 4 3 ٠ CT Cs ‏م‎ a 1 1 i J { ‏الواجهة‎ ‎x a 1 we a ‏تبعت او اج مول الجدار الجانبي م‎ ‏الحمام.. الهواء ; مم العزل‎ 1 0 § Ne ; ‏الجدار الجانيي المستقر -س_ | أ‎ : rd 0 — Lo | ‏الوسادة المعدنية‎ \ ‏قاع الخلية‎ ‏الواجهة البينية للحمام..‎ ‏المعدن‎ ‎١ ‏الشكل‎

   ٠ 4 4 ٠ 1 dad) Yaad en = GEIR ‏الواجهة البينية بين‎ : 1 ‏الحمام- الهواء اداء ب‎ ‏عد العا‎ aaa [aa ‏جهاز‎ | 'ْ ‏مجموعة العزل‎ a J SE ‏الحراري‎ 1 & ‏ا‎ |0000 [ee ‏جزء الجدار الجانبي الأول‎ i yo . oo) SEE ‏ست‎ ‏ا‎ | | J ‏الجدار الجانبي المستفن‎ NE gaa ‏راسب‎ ‎HE EE ‏ل‎ ‎| | / em ‏جزء الجدار الجانبي‎ I 1 ‏الثاني‎ ‏قاع الخلية‎ AT oie : ‏الواجهة البينية للحمام‎ ‏المعدن‎ ‏الشكل ؟‎

   ‎٠ 4 5 —‏ ‎TTT‏ ‏أجهاز التفذية جزء الجدار الجانبي الأول ‎TET‏ الجدار الجانبي ‎Sale‏ الجدار الجاثبي الثابتة } الع الي ام 2 إ يب عي الواجهة البينية بين م 1 مجموعة العزل ‎andl _ 0‏ يط ف 0 انب الحمام- الهواء سس ‎١‏ الحراري عضر ب ‎ry‏ ] بم للم التوجية ‎we‏ 4 { | ْ راسب الحماية و لط ] ' جزء الجدار الجانبي سس ‎i 5 i &‏ | : الثاني ‎J‏ ات ض الوسادة المعدنية ‎i‏ . . ٍ قاع الخلية الواجهة البينية للحمام المعدن الشكل ؟

   — 6 4 — الواجهة 1 ‎Chit 4 iad‏ الحمام- الهواء 0 م :ٍ مجموعة العزز الجدار الحراز العزل الجانبي سس ‎EI ١‏ جزع الجدار الجانبي الأول ‎oo‏ م ٍّ جزء الجدار الجانبي الثاني امل \ ض ‎i‏ لوساد ‎a‏ قاع الخلية الواجهة البينية للحمام.. المعدن الشكل ؛

   — 7 4 — الجذان الجانبي الوا جهة البينية بين ٍ جهاز التغذية / الحمام- الهواء ~~ مجموعة العزل ‎١ J /‏ الحراري جزء الجدار ‎dial‏ | , ‎i‏ ‎rd‏ جزء الجداز الجانبي راسب الحماية الثاني ‎J ——‏ أ الوسادة ‎ \ '‏ المعدنية | ! قاع الخلية الواجهة البينية للحمام المعدن الشكل *

   — 8 4 — الجدار الجانبي الواجهة البينية بين اجهاز التغذية | 1 الحمام- الهواء ليا مر مجموعة العزل ‎gil Nf‏ جزء الجدار الجانبي الأول حس_ م 1 _راسب الحماية جزء الجدار الجانبي 7 7-0 ض الثاني ‎J‏ ض سسا رسلا و ض سه ب _\ الوسادة المعدلية ض } فاع الخلية الواجهة البينية للحمام المعدن الشكل ؟

   A + ‏ا‎ ‎- ‎{ - SR — .

   i. ‏ا‎ a Eis Wi | i 3 : ie by > ‏ا 1 ا‎ 0 i 7 2, ‏لل 0 لا‎ ‏ريس مج‎ | | Zon ‏الحا بد ا ب امور‎ 4 . - at 3 to ‏ب‎ 1 Fes i ] N te 0 fo ‏إْ‎ ‎J I ‏مس‎ eae) ; \ CL Ye ْ ‏را‎ © ofp : i FREE fa i ‏ب‎ i ‏تت‎ ERE { ‏إْ‎ ‎ِ | | 0 i > ; i AIR ES CUTTY ‏له‎ ‎4 1 H Cn Ad gobs codons 1 1 i HA AS HE 1 i PRN H 1 . 4 ‏ا‎ 1 BY : ‏اتنس‎ 7 8 H PALE 1 : ody | > 1 J ‏ام‎ | DO J Ns ‏ا‎ ‎| TT i ‏ا‎ ‎1 1 H FR 3 ‏أ‎ bo ir 4 ‏إ‎ i EE ‏الثم‎ SR a SE Te ‏الححححت الوح انج رجا‎ EEE 4 i Hos 1g 0 } i Ln k 8 a 3 i pads ‏ا ل لا‎ - = Nd [Find = ENE LIER AF oH a 1 hoi ‏ا ار الا‎ 0 i NG JA ‏ا الت ا‎ ‏يال‎ Loh a 8 ْ' { he : Ra fd dy ‏د‎ Ni : . ‏ا 8 إُ‎ 1 ‏إْ اا دل الا‎ ‏إْ 7 ل تاي سح الي يا‎ ‏اللي‎ ‏بيرهت‎ 2 RE ‏ا م م‎ k ! ‏جنبينسيي بيس‎ 0 ge) N ot ‏ل‎ 0 N ‏ا 114 بم ال‎ oh, 0 - ‏ا ا ال‎ N ANE ‏اللا‎ ‎Nee ‏وى سرحي‎ ‏اا ادي زاح ها‎ 1 ‏الا 1 بين لاا‎ oo Pg Eu SEE Fo ‏م‎ 8 6 Sv ] - ho ds 5 ho. 3 ‏ا ل‎ 0 i Delyify 1 0 ; [fy he vi : Le <0 ‏سق‎ i i 1 ! NRC EPC EERIE ; i od bd ef Yd ‏ا شو‎ ‏شاه‎ 1 ) 4 ‏اش‎ ‎Be

   — 5 0 — 10-60-4203 رويسم‎ alas ‏معدل ذوبان ألومينا في‎ ‏مراع حت“‎ : = : ‏معدل لويان الومينا في جمام مهو‎ ‏حرق باه‎ NoF-AF3=~CaFa~8503 ّ : rosso ‏إْ 8 8 ل و‎ fh IE J, SE = A aa maa a ‏ا‎ 0 fos 1

   ET. BRA . : ‏بي‎ = TRE ‏ر+‎ i Set KY 3 Ny ‏سد‎ — i 83 ١ Tn SEE ‏لك لحت‎ 0 55 4 LIE “1h 1 & ‏بس : اذ‎ = Ba ~~. 3 ‏اال‎ ~~. A US ‏ا اا :ّ بم ب يل قر‎ > 3 REN Sa 3 ‏لسع‎ a Tos ‏الم‎ 38 TT ‏ان ب لاد الا‎ 3 Se : Rie ™~ Non; ™~. X QR ERE Te a ~~. CO we i NS SN + ‏ل ال + اعد ايج تجا‎ os > ‏ا‎ N ees — RET Tog a ‏اله‎ ~~, & ‏ا باو( :. ا لا اانا‎ > ‏لزاع ايه ارسي الما ير .م كط‎ Te Ta ¥ ‏اناا حا‎ Tra, Soa Men, : ‏اال ذا من‎ ‏ذا ا الا ا‎ + ‏بجح ب يج‎ ro aS, Se ML 8 3 ‏اي‎ an ST 1 ” rar oe, i 3 t SRR [XE TA SE SS SE SO NY SE UO FOE SE SEs: i Roy, ‏حيار‎ AR 3. 3. SEN ‏نسية تشيع الؤمينا المناؤية‎ A ‏الشكل‎

   — 5 1 — ‏جرارة الحعلين وعامل‎ 30055 1 a ‏درجة‎ : ‏التبريد والحافة كدالة على الزين‎ ‏ااا اناا ااا ا‎ oe - $ ‏د َ 5 > ب‎ 1 x ) : ‏درجة جزارة التتفام‎ ga ade -

   Le. ‏محم‎ = Wonk 3 : 0 1 E rR Fa , 3 3 on a eee 3 ¢ hu ” © he. a Cae J £ 3 3 7 ‏عامل تيريد المخرج‎ on ‏درجة‎ 5 2 ‏ب وب مده‎ ag 3 ْ' ‏ا‎ ‏ا إٍ) ان‎ ‏ب‎ ] E er? 3 8 di “4 8 Fou bh ) : i 0 8 You 33 Cha ‏ب‎ ‎: Fs ‏اد‎ dn i a me it ‏سس‎ mmm % ¥ pe ‏دقق الحرارة خلال الحافة‎ 3 LY & 1 FJ = ‏م بين ل‎ 3 1 3 ‏وبا‎ fd ‏ا‎ ٍ ٍِ fp ‏حير‎ 3 ‏ا‎ SE TH cco ‏مسالسللللسلساملا تت‎ STII SUA SUSU TOUT SOUT SU SE SATO SON SUNN SPU NR CH + © Re YE Yh ‏الزمن (بالدقيقة)‎ ‏الشكل ؟‎

   ‎Saad ej‏ لل الجانبي الأول 4 ‎ited 3 |‏ الحماية ‎Aw‏ ‏ايحا 2 انس ‎ae‏ اا ا 1 جزء ‎had‏ الا [ الثاني ‎Ra SE‏ الشكل ١1ه‏ الشكل ‎EEN‏ ‎wo |‏ | : 8 لي 0 الشخل ‎ate‏ الشكل ١٠ب‏ ‎Slat‏ >< ‎a,‏ ‏الشكل ماج 4 كل ‎٠١‏

   -5 3 — Hy ‏الشكل‎ ‎why ‏الشكل‎ ‎ARE: ‏الشكزٍ‎ ‎3١ ‏الشكل‎

   لاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا ‎Sued Authority for intallentual Property‏ ‎RE‏ .¥ + \ ا 0 § 8 ‎Ss o‏ + < م ‎SNE‏ اج > عي كي الج ‎TE I UN BE Ca‏ ‎a‏ ةا ‎ww‏ جيثة > ‎Ld Ed H Ed - 2 Ld‏ وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها ‎of‏ سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. ‎Ad‏ ‏صادرة عن + ب ب ‎٠.‏ ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب ‎101١‏ .| لريا ‎1*١ v=‏ ؛ المملكة | لعربية | لسعودية ‎SAIP@SAIP.GOV.SA‏