[go: up one dir, main page]

RU2688809C1 - Liquid crystal panel and method of its manufacturing - Google Patents

Liquid crystal panel and method of its manufacturing Download PDF

Info

Publication number
RU2688809C1
RU2688809C1 RU2018126194A RU2018126194A RU2688809C1 RU 2688809 C1 RU2688809 C1 RU 2688809C1 RU 2018126194 A RU2018126194 A RU 2018126194A RU 2018126194 A RU2018126194 A RU 2018126194A RU 2688809 C1 RU2688809 C1 RU 2688809C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
photoresistive
sublayer
layer
display panel
substrate
Prior art date
Application number
RU2018126194A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Юэцзюнь ТАН
Original Assignee
Ухань Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ухань Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд filed Critical Ухань Чайна Стар Оптоэлектроникс Текнолоджи Ко., Лтд
Application granted granted Critical
Publication of RU2688809C1 publication Critical patent/RU2688809C1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/02—Materials and properties organic material
    • G02F2202/022—Materials and properties organic material polymeric
    • G02F2202/023—Materials and properties organic material polymeric curable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

FIELD: image forming devices.SUBSTANCE: invention relates to the technology of liquid crystal displays. Display panel comprises an upper substrate, a lower substrate, a photoresist layer between the upper substrate and the lower substrate. Display panel has a transmission region and a reflection region having a reflective layer inside the photoresist layer. Reflecting layer divides the photoresistive layer into a first photoresistive sublayer and a second photoresistive sublayer. First photoresist sublayer is located between the reflecting layer and the lower substrate. Second photoresistive sublayer is located between the reflecting layer and the upper substrate. Beams of light in the transmission area pass through the photoresistive layer, wherein light beams in the reflection region pass through the first photoresistive sublayer or the second photoresistive sublayer twice.EFFECT: device provides saturation of transmission area and reflection area.12 cl, 5 dwg

Description

1. ОБЛАСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ1. SCOPE OF THE INVENTION

Настоящее изобретение относится к технологии жидкокристаллических дисплеев и, более конкретно, к дисплейной панели и способу ее изготовления.The present invention relates to the technology of liquid crystal displays and, more specifically, to the display panel and method of its manufacture.

2. ОПИСАНИЕ УРОВНЯ ТЕХНИКИ2. DESCRIPTION OF THE LEVEL OF TECHNOLOGY

LCD являются наиболее популярными дисплеями. LCD могут включать трансфлективные LCD и отражающие LCD с точки зрения применяемых источников света. Источник света трансфлективного LCD представляет собой заднюю подсветку. Только 5% лучей света применяются после прохождения лучей света через поляризаторы и жидкокристаллическую панель. Энергопотребление задней подсветки может быть увеличено для увеличения яркости трансфлективных LCD. Когда оптическая плотность окружающего света больше, чем лучей света, испускаемых из LCD, возможно, что глаза человека не способны увидеть содержимое, отображаемое на LCD. Отражающие LCD осуществляют отображение за счет окружающего света и, таким образом, могут работать только в дневное время или при достаточном окружающем свете, то есть, отражающие LCD не могут работать в ночное время или при слабом окружающем свете. Поэтому, были разработаны трансфлективные LCD. В трансфлективных LCD в качестве источника света применяют заднюю подсветку и окружающий свет в соответствии с условиями окружения. LCDs are the most popular displays. LCDs can include transflective LCDs and reflective LCDs in terms of the light sources used. The transflective LCD's light source is a backlight. Only 5% of the light rays are applied after passing the light rays through the polarizers and the liquid crystal panel. Backlight power consumption can be increased to increase the brightness of transflective LCDs. When the optical density of ambient light is greater than the rays of light emitted from an LCD, it is possible that a person’s eyes are not able to see the contents displayed on the LCD. Reflective LCDs perform display due to ambient light and, thus, can only work during daytime or with sufficient ambient light, i.e., reflective LCDs cannot operate at night or with weak ambient light. Therefore, transflective LCDs have been developed. In transflective LCDs, the backlight and the ambient light are used as the light source in accordance with the environmental conditions.

Что касается обычного трансфлективного LCD, лучи света, испускаемые из области передачи источника задней подсветки, проходят через фоторезистивный слой один раз. В области отражения окружающий свет может проходить через фоторезистивный слой дважды во время процессов падения и отражения. Таким образом, насыщение области отражения может быть слишком высоким, и скорость передачи света области отражения может быть снижена. Насыщение области передачи несовместимо с насыщением области отражения. Таким образом, насыщение области передачи и области отражения не могут соответствовать техническим характеристикам и требованиям продукции.As for the conventional transflective LCD, the rays of light emitted from the transmission area of the backlight source pass through the photoresistive layer once. In the reflection area, ambient light can pass through the photoresistive layer twice during the processes of incidence and reflection. Thus, the saturation of the reflection region may be too high, and the light transmission rate of the reflection region may be reduced. Saturation of the transmission area is incompatible with saturation of the reflection area. Thus, the saturation of the transmission region and the reflection region cannot correspond to the technical characteristics and requirements of the products.

КРАТКОЕ ИЗЛОЖЕНИЕ СУЩНОСТИ ИЗОБРЕТЕНИЯSUMMARY OF THE INVENTION

Цель настоящего изобретения заключается в предоставлении дисплейной панели и способе ее изготовления для преодоления проблемы несовместимого насыщения лучами света в области передачи и области отражения касательно трансфлективной жидкокристаллической панели.The purpose of the present invention is to provide a display panel and method of its manufacture to overcome the problem of incompatible saturation of light in the field of transmission and reflection areas regarding transflective liquid crystal panel.

В одном аспекте дисплейная панель содержит: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой; дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды; дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке; и отражающий слой представляет собой металлический отражающий слой. In one aspect, the display panel comprises: an upper substrate, a lower substrate, a photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate; The display panel contains a transfer area and a reflection area having a reflective layer inside the photoresistive layer, while the reflective layer separates the photoresistive layer into the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer, the first photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the lower substrate, the second photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate, the light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, while the light rays in the reflection region pass through he first or the second photoresist underlayer photoresist underlayer twice; the display panel is a one-sided display panel, the display panel further comprises a light source located on the lower substrate facing the upper substrate, the photoresistive layer is located on the lower substrate, and the reflecting surface of the reflective layer is facing the upper substrate; and the reflective layer is a metallic reflective layer.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.The first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material, and the thickness of the second photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer.

В другом аспекте дисплейная панель содержит: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой; дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды.In another aspect, the display panel comprises: an upper substrate, a lower substrate, a photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate; The display panel contains a transfer area and a reflection area having a reflective layer inside the photoresistive layer, while the reflective layer separates the photoresistive layer into the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer, the first photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the lower substrate, the second photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate, the light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, while the light rays in the reflection region pass through he first or the second photoresist underlayer photoresist underlayer twice.

При этом дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке.In this case, the display panel is a one-sided display panel, the display panel further comprises a light source located on the lower substrate facing the upper substrate, the photoresistive layer is located on the lower substrate, and the reflecting surface of the reflective layer is facing the upper substrate.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.The first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material, and the thickness of the second photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer.

При этом дисплейная панель представляет собой двустороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на одной стороне нижней подложки, обращенной от верхней подложки, и фоторезистивный слой расположен на верхней подложке, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к нижней подложке.In this case, the display panel is a double-sided display panel, the display panel further comprises a light source located on one side of the lower substrate facing the upper substrate, and the photoresistive layer is located on the upper substrate, and the reflecting surface of the reflective layer faces the lower substrate.

При этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала, и толщина первого фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.In this case, the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of one material, and the thickness of the first photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer.

В другом аспекте способ изготовления дисплейных панелей включает: образование первой подложки, имеющей область передачи и область отражения; образование первого фоторезистивного подслоя на первой подложке; образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения; образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой составляют фоторезистивный слой; расположение второй подложки в соответствии с первой подложкой, при этом фоторезистивный слой находится между первой подложкой и второй подложкой; и при этом лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через второй фоторезистивный подслой дважды.In another aspect, a method of manufacturing display panels includes: forming a first substrate having a transmission area and a reflection area; the formation of the first photoresistive sublayer on the first substrate; the formation of a reflective layer on the first photoresistive sublayer in the reflection region; the formation of the second photoresistive sublayer on the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer on the reflective layer, while the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer constitute the photoresistive layer; the location of the second substrate in accordance with the first substrate, while the photoresistive layer is between the first substrate and the second substrate; and at the same time the light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the second photoresistive sublayer twice.

Способ дополнительно включает: расположение источника света на наружной стороне первой подложки или второй подложки.The method further includes: the location of the light source on the outer side of the first substrate or the second substrate.

При этом этап образования отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения дополнительно включает: образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения, и отражающая поверхность отражающего слоя обращена от первого фоторезистивного подслоя. In this case, the step of forming the reflective layer in the first photoresistive sublayer in the reflection region further includes: the formation of a reflective layer in the first photoresistive sublayer in the reflection region, and the reflecting surface of the reflective layer is facing away from the first photoresistive sublayer.

При этом этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина фоторезистивного слоя, образованного первым фоторезистивным подслоем и вторым фоторезистивным подслоем, вдвое больше толщины второго фоторезистивного подслоя, и первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала.The step of forming the second photoresistive sublayer further includes: the formation of the second photoresistive sublayer in the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer in the reflective layer, while the thickness of the photoresistive layer formed by the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer is twice the thickness of the second photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer is twice the thickness of the second photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer is twice the thickness of the second photoresistive sublayer sublayer, and the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material.

При этом этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина и материал первого фоторезистивного подслоя и второго фоторезистивного подслоя различаются, при этом насыщение лучами света в области передачи, проходящими через фоторезистивный слой, и насыщение лучами света в области отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой дважды, одинаковые.The formation of the second photoresistive sublayer further includes: the formation of the second photoresistive sublayer in the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer in the reflective layer, while the thickness and material of the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer differ, while the saturation of light rays in the transmission areas passing through the photoresistive layer, and the saturation of light rays in the reflection area passing through the second photoresistive sublayer twice same.

С учетом вышеописанного, дисплейная панель содержит верхнюю подложку, нижнюю подложку и фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой. Дисплейная панель может быть разделена на область передачи и область отражения. Область отражения дополнительно содержит отражающий слой внутри фоторезистивного слоя. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и нижней подложкой, и фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и верхней подложкой. Лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды. В результате разделения фоторезистивного слоя на два фоторезистивных подслоя с помощью отражающего слоя лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.In view of the above, the display panel comprises an upper substrate, a lower substrate and a photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate. The display panel can be divided into a transmission area and a reflection area. The reflection area additionally contains a reflective layer inside the photoresistive layer. The reflective layer divides the photoresistive layer into a first photoresistive sublayer and a second photoresistive sublayer. The first photoresistive sublayer is between the reflective layer and the lower substrate, and the photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate. The light rays in the reflection region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the first photoresistive sublayer or the second photoresistive sublayer twice. As a result of the separation of the photoresistive layer into two photoresistive sublayers using a reflective layer, the light rays in the reflection region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the photoresistive sublayer twice. The thickness of the photoresistive sublayer is less than the thickness of the photoresistive layer. Thus, the saturation of the transmission region and the saturation of the reflection region can be compatible.

КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВBRIEF DESCRIPTION OF GRAPHIC MATERIALS

На фиг. 1 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии с первым вариантом осуществления.FIG. 1 shows a schematic view of a display panel in accordance with a first embodiment.

На фиг. 2 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии со вторым вариантом осуществления.FIG. 2 shows a schematic view of a display panel in accordance with a second embodiment.

На фиг. 3 показана блок-схема, изображающая способ изготовления дисплейной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.FIG. 3 is a flow chart depicting a method of manufacturing a display panel in accordance with one embodiment.

На фиг. 4 показан схематический вид дисплейной панели, изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3.FIG. 4 is a schematic view of a display panel manufactured according to the manufacturing method of FIG. 3

На фиг. 5 показан схематический вид другой дисплейной панели изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3.FIG. 5 is a schematic view of another display panel manufactured according to the manufacturing method of FIG. 3

ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ ВАРИАНТОВ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯDETAILED DESCRIPTION OF EMBODIMENTS

Варианты осуществления настоящего изобретения будут описаны далее более подробно со ссылкой на прилагаемые графические материалы, на которых показаны варианты осуществления настоящего изобретения.Embodiments of the present invention will be described in more detail below with reference to the accompanying graphic materials, which show embodiments of the present invention.

На фиг. 1 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии с первым вариантом осуществления. Дисплейная панель 100 содержит верхнюю подложку 11, нижнюю подложку 12, фоторезистивный слой 13 и отражающий слой 14.FIG. 1 shows a schematic view of a display panel in accordance with a first embodiment. The display panel 100 includes an upper substrate 11, a lower substrate 12, a photoresistive layer 13 and a reflective layer 14.

Как правило, подложка дисплейной панели может содержать стеклянную подложку и тонкопленочные транзисторы (TFT), расположенные на стеклянной подложке. Фоторезистивный слой также называется слоем цветового фильтра. Отражающий слой, как правило, применяют в отражающей дисплейной панели. Другие части дисплейной панели 100 могут быть представлены специалистами в уровне техники и поэтому далее опущены.Typically, the display panel substrate may comprise a glass substrate and thin film transistors (TFTs) located on a glass substrate. The photoresistive layer is also called the color filter layer. The reflective layer is typically used in a reflective display panel. Other parts of the display panel 100 may be represented by those skilled in the art and are therefore omitted hereinafter.

Дисплейная панель 100 является трансфлективной и содержит область 101 передачи и область 102 отражения. Отражающий слой 14 расположен в области 102 отражения и внутри фоторезистивного слоя 13. Отражающий слой 14 разделяет фоторезистивный слой 13 на первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132. Первый фоторезистивный подслой 131 находится между отражающим слоем 14 и нижней подложкой 12, и второй фоторезистивный подслой 132 находится между отражающим слоем 14 и верхней подложкой 11. Отражающий слой 14 изготовлен из отражающих материалов, таких как Al, Ag и Cu. Способ изготовления металлических материалов является простым, и отражающий эффект является хорошим. В примере может быть применена алюминиевая фольга. Общий вес, отражающий эффект и растяжимость алюминия являются хорошими и подходящими для процесса изготовления отражающего слоя.The display panel 100 is transflective and contains a transmission area 101 and a reflection area 102. The reflective layer 14 is located in the reflection region 102 and inside the photoresistive layer 13. The reflective layer 14 divides the photoresistive layer 13 into a first photoresistive sublayer 131 and a second photoresistive sublayer 132. The first photoresistive sublayer 131 is located between the reflective layer 14 and the lower substrate 12, and the second photoresistive sublayer 132 is located between the reflective layer 14 and the upper substrate 11. The reflective layer 14 is made of reflective materials such as Al, Ag and Cu. The method of making metallic materials is simple and the reflective effect is good. In the example, aluminum foil can be applied. The total weight, reflective effect and extensibility of aluminum are good and suitable for the manufacturing process of the reflective layer.

Лучи света в области 101 передачи проходят через фоторезистивный подслой 13. Когда отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена к первому фоторезистивному подслою 131, лучи света в области 102 отражения проходят через первый фоторезистивный подслой 131 дважды. Когда отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена ко второму фоторезистивному подслою 132, лучи света в области 102 отражения проходят через второй фоторезистивный подслой 132 дважды. The light rays in the transmission region 101 pass through the photoresistive sublayer 13. When the reflecting surface 141 of the reflective layer 14 faces the first photoresistive sublayer 131, the light rays in the reflection region 102 pass through the first photoresistive sublayer 131 twice. When the reflective surface 141 of the reflective layer 14 faces the second photoresistive sublayer 132, the light rays in the reflection region 102 pass through the second photoresistive sublayer 132 twice.

При этих двух условиях лучи света в области 102 отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя 13. Таким образом, насыщение области 102 отражения и насыщение области 101 передачи может быть совместимым.Under these two conditions, the light rays in the reflection area 102 pass through the photoresistive sublayer twice. The thickness of the photoresistive sublayer is less than the thickness of the photoresistive layer 13. Thus, the saturation of the reflection region 102 and the saturation of the transmission region 101 may be compatible.

В варианте осуществления дисплейная панель 100 представляет собой одностороннюю дисплейную панель. Отражающий слой 15 расположен на одной стороне нижней подложки 12, обращенной от верхней подложки 11, фоторезистивный слой 13 расположен на нижней подложке 12, при этом отражающая поверхность 141 отражающего слоя 14 обращена к верхней подложке 11. Источник 15 света выполнен в виде заднего источника света для области 101 передачи. Лучи света от отражающего слоя 15 проходят через фоторезистивный слой 13 и затем наблюдаются глазами человека. Лучи света от отражающего слоя 15 не могут проходить через область 102 отражения, то есть область 102 отражения может испускать только свет, вызванный окружающим светом. Конкретно, окружающий свет проходит через второй фоторезистивный подслой 132 и отражается отражающим слоем 14. Отраженные лучи света снова проходят через второй фоторезистивный подслой 132, чтобы наблюдаться глазами человека. In an embodiment, the display panel 100 is a one-sided display panel. The reflective layer 15 is located on one side of the lower substrate 12 facing away from the upper substrate 11, the photoresistive layer 13 is located on the lower substrate 12, while the reflective surface 141 of the reflective layer 14 faces the upper substrate 11. The light source 15 is designed as a rear light source for transmission area 101. Rays of light from the reflective layer 15 pass through the photoresistive layer 13 and then are observed by human eyes. Rays of light from the reflective layer 15 cannot pass through the reflection area 102, i.e., the reflection area 102 can emit only light caused by ambient light. Specifically, ambient light passes through the second photoresistive sublayer 132 and is reflected by the reflective layer 14. The reflected light rays again pass through the second photoresistive sublayer 132 to be observed by human eyes.

Материал и толщина фоторезистивного слоя могут влиять на насыщение лучами света. Для получения совместимого насыщения для области 102 отражения и области 101 передачи материал первого фоторезистивного подслоя 131 и второго фоторезистивного подслоя 132 является одинаковым. В дополнение, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H2) составляет только половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H0).The material and thickness of the photoresistive layer can affect the saturation of the rays of light. To obtain compatible saturation for the reflection region 102 and the transmission region 101, the material of the first photoresistive sublayer 131 and the second photoresistive sublayer 132 is the same. In addition, the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ) is only half the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ).

Когда толщина отражающего слоя 14 (H) меньше, чем толщина фоторезистивного слоя 13 (H0), толщиной отражающего слоя 14 (H) можно пренебречь. То есть толщина фоторезистивного слоя 13 (H0) равна сумме толщины первого фоторезистивного подслоя 131 (H1) и толщины второго фоторезистивного подслоя 132 (H2), т. е. H0=H1+H2. Толщина первого фоторезистивного подслоя 131 (H1) выполнена равной толщине второго фоторезистивного подслоя 132 (H2), т. е. H1=H2. Таким образом, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H2) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H0).When the thickness of the reflective layer 14 (H) is less than the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ), the thickness of the reflective layer 14 (H) can be neglected. That is, the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ) is equal to the sum of the thickness of the first photoresistive sublayer 131 (H 1 ) and the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ), that is, H 0 = H 1 + H 2 . The thickness of the first photoresistive sublayer 131 (H 1 ) is made equal to the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ), i.e. H 1 = H 2 . Thus, the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ) is half the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ).

Когда толщина отражающего слоя 14 (H) больше и ей нельзя пренебречь, толщина фоторезистивного слоя 13 (H0)= H1+H2+H. В итоге, толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H2) равна половине толщины фоторезистивного слоя 13 (H0), т. е. H0=2×H2. Соотношение между H1 и H2：2×H2= H1+H2+H. То есть H2= H1 +H. Согласно этому соотношению первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132 образованы так, что толщина второго фоторезистивного подслоя 132 (H2) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 13 (H0).When the thickness of the reflective layer 14 (H) is larger and cannot be neglected, the thickness of the photoresistive layer is 13 (H 0 ) = H 1 + H 2 + H. As a result, the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ) is equal to half the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ), i.e. H 0 = 2 × H 2 . The ratio between H 1 and H 2 : 2 × H 2 = H 1 + H 2 + H. That is, H 2 = H 1 + H. According to this relationship, the first photoresistive sublayer 131 and the second photoresistive sublayer 132 are formed so that the thickness of the second photoresistive sublayer 132 (H 2 ) is half the thickness of the photoresistive layer 13 (H 0 ).

Можно понять, что первый фоторезистивный подслой 131 и второй фоторезистивный подслой 132 могут быть изготовлены из разных материалов. В дополнение, толщина первого фоторезистивного подслоя 131 и второго фоторезистивного подслоя 132 может быть соответствующим образом выполнена так, что насыщение лучами света в области 101 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 13, и насыщение лучами света в области 102 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 132 дважды, может быть одинаковым.It can be understood that the first photoresistive sublayer 131 and the second photoresistive sublayer 132 can be made of different materials. In addition, the thickness of the first photoresistive sublayer 131 and the second photoresistive sublayer 132 can be appropriately performed so that the saturation of the rays of light in the transmission area 101 passing through the photoresistive layer 13 and the saturation of the rays of light in the reflection area 102 passing through the second photoresistive sublayer 132 twice may be the same.

Как показано на фиг. 1, следует отметить, что толщина ячейки дисплейной панели 100 в отношении области 101 передачи и области 102 отражения является одинаковой. При реальном применении толщина ячейки может быть разной. На фиг. 1, одинаковая толщина ячейки в отношении области 101 передачи и области 102 отражения является только одним примером, то есть толщина ячейки области 101 передачи и области 102 отражения не ограничена этим. Для дисплейных панелей, в которых область передачи и область отражения выполнены с разной толщиной, изложенная выше конфигурация фоторезистивного слоя также может быть применена.As shown in FIG. 1, it should be noted that the cell thickness of the display panel 100 with respect to the transmission region 101 and the reflection region 102 is the same. In actual use, the cell thickness may be different. FIG. 1, the same cell thickness with respect to the transmission area 101 and the reflection area 102 is just one example, that is, the thickness of the cell of the transmission area 101 and the reflection area 102 is not limited to this. For display panels in which the transmission area and the reflection area are made with different thicknesses, the above configuration of the photoresistive layer can also be applied.

На фиг. 2 показан схематический вид дисплейной панели в соответствии со вторым вариантом осуществления. Дисплейная панель 200 содержит верхнюю подложку 21, нижнюю подложку 22, фоторезистивный слой 23 между верхней подложкой 21 и нижней подложкой 22 и отражающий слой 24.FIG. 2 shows a schematic view of a display panel in accordance with a second embodiment. The display panel 200 includes an upper substrate 21, a lower substrate 22, a photoresistive layer 23 between the upper substrate 21 and the lower substrate 22, and a reflective layer 24.

Дисплейная панель 200 содержит область 201 передачи и область 202 отражения. Отражающий слой расположен в области 202 отражения и внутри фоторезистивного слоя 23. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой 231 и второй фоторезистивный подслой 232. Первый фоторезистивный подслой 231 находится между отражающим слоем 24 и нижней подложкой 22, и второй фоторезистивный подслой 232 находится между отражающим слоем 24 и верхней подложкой 21.The display panel 200 includes a transmission area 201 and a reflection area 202. The reflective layer is located in the reflection region 202 and inside the photoresistive layer 23. The reflective layer divides the photoresistive layer into a first photoresistive sublayer 231 and a second photoresistive sublayer 232. The first photoresistive sublayer 231 is between the reflective layer 24 and the lower substrate 22, and the second photoresistive sublayer 232 is between reflective layer 24 and the upper substrate 21.

Конструкция дисплейной панели 200 по существу такая же, как конструкция дисплейной панели 100. Разница между дисплейной панелью 100 и дисплейной панелью 200 заключается в том, что дисплейная панель 200 представляет собой двустороннюю дисплейную панель. Источник 25 света расположен на одной стороне нижней подложки 22, обращенной от верхней подложки 21. Фоторезистивный слой 23 расположен на верхней подложке 21, отражающая поверхность 241 отражающего слоя 24 обращена к нижней подложке 22. Лучи света от области 202 отражения проходят через фоторезистивный подслой 231 дважды.The design of the display panel 200 is essentially the same as that of the display panel 100. The difference between the display panel 100 and the display panel 200 is that the display panel 200 is a two-sided display panel. The light source 25 is located on one side of the lower substrate 22 facing away from the upper substrate 21. The photoresistive layer 23 is located on the upper substrate 21, the reflecting surface 241 of the reflecting layer 24 faces the lower substrate 22. The rays of the light from the reflection area 202 pass through the photoresistive sublayer 231 twice .

По отношению к дисплейной панели 200 источник 25 света выполнен в виде заднего источника света для области 201 передачи. Лучи света проходят через нижнюю подложку 22 и наблюдаются глазами человека. По отношению к области 202 отражения источник 25 света выполнен в виде переднего источника света. Лучи света от источника 25 света входят через нижнюю подложку 22, достигают фоторезистивный подслой 231 и отражаются отражающим слоем 24. Отраженные лучи света проходят через фоторезистивный подслой 231 и затем наблюдаются глазами человека.With respect to the display panel 200, the light source 25 is designed as a rear light source for the transmission area 201. Rays of light pass through the lower substrate 22 and are observed by human eyes. With respect to the reflection region 202, the light source 25 is designed as a front light source. The light rays from the light source 25 enter through the lower substrate 22, reach the photoresistive sublayer 231 and are reflected by the reflective layer 24. The reflected light rays pass through the photoresistive sublayer 231 and then are observed by human eyes.

Подобным образом, фоторезистивный подслой 231 может быть изготовлен из такого же материала, что и второй фоторезистивный подслой 232, при этом толщина первого фоторезистивного подслоя 231 (H1) составляет половину толщины фоторезистивного слоя 23 (H0).Similarly, the photoresistive sublayer 231 may be made of the same material as the second photoresistive sublayer 232, and the thickness of the first photoresistive sublayer 231 (H 1 ) is half the thickness of the photoresistive layer 23 (H 0 ).

Можно понять, что первый фоторезистивный подслой 231 и второй фоторезистивный подслой 232 могут быть изготовлены из разных материалов. В дополнение, толщина первого фоторезистивного подслоя 231 и второго фоторезистивного подслоя 232 может быть соответствующим образом выполнена так, что насыщение лучами света в области 101 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 23, и насыщение лучами света в области 102 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 232 дважды, может быть одинаковым.It can be understood that the first photoresistive sublayer 231 and the second photoresistive sublayer 232 can be made of different materials. In addition, the thickness of the first photoresistive sublayer 231 and the second photoresistive sublayer 232 can be appropriately performed so that the saturation of the rays of light in the transmission region 101 passing through the photoresistive layer 23, and the saturation of the rays of light in the reflection region 102 passing through the second photoresistive sublayer 232 twice may be the same.

С учетом вышеописанного, дисплейная панель содержит верхнюю подложку, нижнюю подложку и фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой. Дисплейная панель может быть разделена на область передачи и область отражения. Область отражения дополнительно содержит отражающий слой внутри фоторезистивного слоя. Отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и нижней подложкой, и фоторезистивный подслой находится между отражающим слоем и верхней подложкой. Лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды. В результате разделения фоторезистивного слоя на два фоторезистивных подслоя с помощью отражающего слоя лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через фоторезистивный подслой дважды. Толщина фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.In view of the above, the display panel comprises an upper substrate, a lower substrate and a photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate. The display panel can be divided into a transmission area and a reflection area. The reflection area additionally contains a reflective layer inside the photoresistive layer. The reflective layer divides the photoresistive layer into a first photoresistive sublayer and a second photoresistive sublayer. The first photoresistive sublayer is between the reflective layer and the lower substrate, and the photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate. The light rays in the reflection region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the first photoresistive sublayer or the second photoresistive sublayer twice. As a result of the separation of the photoresistive layer into two photoresistive sublayers using a reflective layer, the light rays in the reflection region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the photoresistive sublayer twice. The thickness of the photoresistive sublayer is less than the thickness of the photoresistive layer. Thus, the saturation of the transmission region and the saturation of the reflection region can be compatible.

На фиг. 3 показана блок-схема, изображающая способ изготовления дисплейной панели в соответствии с одним вариантом осуществления.FIG. 3 is a flow chart depicting a method of manufacturing a display panel in accordance with one embodiment.

На фиг. 4 показан схематический вид дисплейной панели, изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3. На фиг. 5 показан схематический вид другой дисплейной панели изготовленной согласно способу изготовления по фиг. 3. Разница между фиг. 4 и 5 заключается только в конфигурации источника света и поэтому ссылочные позиции, касающиеся дисплейной панели, являются одинаковыми.FIG. 4 is a schematic view of a display panel manufactured according to the manufacturing method of FIG. 3. In FIG. 5 is a schematic view of another display panel manufactured according to the manufacturing method of FIG. 3. The difference between FIG. 4 and 5 is only in the configuration of the light source and therefore the reference positions relating to the display panel are the same.

Способ изготовления по фиг. 3 включает следующие этапы. The manufacturing method of FIG. 3 includes the following steps.

В блоке S301 образование первой подложки.In block S301, the formation of the first substrate.

Первая подложка 31 содержит область 301 передачи и область 302 отражения. То есть, изготовленная дисплейная панель 300 содержит область 301 передачи и область 302 отражения.The first substrate 31 comprises a transmission region 301 and a reflection region 302. That is, the fabricated display panel 300 includes a transmission area 301 and a reflection area 302.

В блоке S302 образование первого фоторезистивного подслоя на первой подложке.In block S302, the formation of the first photoresistive sublayer on the first substrate.

Первый фоторезистивный подслой 321 образуют на первой подложке 31.The first photoresistive sublayer 321 is formed on the first substrate 31.

В блоке S303 образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения.In block S303, the formation of a reflective layer on the first photoresistive sublayer in the reflection region.

Отражающий слой 33 образуют на первом фоторезистивном подслое 321 области 302 отражения.The reflective layer 33 is formed on the first photoresistive sublayer 321 of the reflection region 302.

В блоке S304 образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и отражающем слое, при этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой образуют фоторезистивный слой.In block S304, the formation of the second photoresistive sublayer on the first photoresistive sublayer in the transmission region and the reflective layer, the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer forming the photoresistive layer.

Второй фоторезистивный подслой 322 образуют на первом фоторезистивном подслое 321 в области 301 передачи и на отражающем слое 33. Первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 образуют фоторезистивный слой 32.The second photoresistive sublayer 322 is formed on the first photoresistive sublayer 321 in the transmission area 301 and on the reflective layer 33. The first photoresistive sublayer 321 and the second photoresistive sublayer 322 form the photoresistive layer 32.

Если первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 изготовлены из одного материала, толщина фоторезистивного слоя 32 вдвое больше толщины второго фоторезистивного подслоя 322.If the first photoresistive sublayer 321 and the second photoresistive sublayer 322 are made of the same material, the thickness of the photoresistive layer 32 is twice the thickness of the second photoresistive sublayer 322.

Если первый фоторезистивный подслой 321 и второй фоторезистивный подслой 322 изготовлены из разных материалов, может быть выполнена разная толщина в соответствии с разными материалами. Таким образом, насыщение лучами света в области 301 передачи, проходящими через фоторезистивный слой 32, такое же, как насыщение лучами света в области 302 отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой 322 дважды.If the first photoresistive sublayer 321 and the second photoresistive sublayer 322 are made of different materials, different thickness can be made according to different materials. Thus, the saturation with the rays of light in the transmission region 301 passing through the photoresistive layer 32 is the same as the saturation with the rays of light in the reflection region 302 passing through the second photoresistive sublayer 322 twice.

В блоке S305 расположение второй подложки в соответствии с первой подложкой. Фоторезистивный слой находится между первой подложкой и второй подложкой.In block S305, the arrangement of the second substrate in accordance with the first substrate. The photoresistive layer is between the first substrate and the second substrate.

Вторую подложку 34 располагают в соответствии с первой подложкой 31. То есть первая подложка 31 и вторая подложка 34 образуют ячейку, и пространство между двумя подложками заполняют жидкими кристаллами. Фоторезистивный слой 32 находится между первой подложкой 31 и второй подложкой 34.The second substrate 34 is arranged in accordance with the first substrate 31. That is, the first substrate 31 and the second substrate 34 form a cell, and the space between the two substrates is filled with liquid crystals. The photoresistive layer 32 is located between the first substrate 31 and the second substrate 34.

В блоке S306 источник света располагают на наружной стороне первой подложки или второй подложки.In block S306, the light source is located on the outside of the first substrate or the second substrate.

Когда источник 35 света располагают на наружной стороне первой подложки 31, как показано на фиг. 4, дисплейная панель 300 представляет собой односторонний дисплей. Лучи света от области 301 передачи входят в первую подложку 31, проходят через фоторезистивный слой 32 и испускаются через вторую подложку 34. Лучи света от области 302 отражения входят из второй подложки 34. Будучи отраженными отражающим слоем 33, лучи света проходят через второй фоторезистивный подслой 322 дважды и затем испускаются через вторую подложку 34. Благодаря конфигурации второго фоторезистивного подслоя 322 в блоке S304, насыщение области 301 передачи и области 302 отражения является совместимым. Дисплейная панель 300 на фиг. 4 соответствует вышеизложенной дисплейной панели 100.When the light source 35 is placed on the outside of the first substrate 31, as shown in FIG. 4, the display panel 300 is a one-way display. The light rays from the transmission area 301 enter the first substrate 31, pass through the photoresistive layer 32 and are emitted through the second substrate 34. The light rays from the reflection area 302 enter from the second substrate 34. Being reflected by the reflective layer 33, the light rays pass through the second photoresistive sublayer 322 twice and then emitted through the second substrate 34. Due to the configuration of the second photoresistive sublayer 322 in the S304 block, the saturation of the transmission area 301 and the reflection region 302 is compatible. The display panel 300 in FIG. 4 corresponds to the foregoing display panel 100.

Когда источник 35 света расположен на наружной стороне второй подложки 34, как показано на фиг. 5, дисплейная панель 300 представляет собой двусторонний дисплей. Лучи света от области 301 передачи входят во вторую подложку 34, проходят через фоторезистивный слой 32 и испускаются через первую подложку 31. Лучи света от области 302 отражения входят из второй подложки 34. Будучи отраженными отражающим слоем 33, лучи света проходят через второй фоторезистивный подслой 322 дважды и затем испускаются через источник 35 света, так что насыщение области 301 передачи и области 302 отражения является совместимым. Дисплейная панель 300 на фиг. 5 соответствует вышеизложенной дисплейной панели 200.When the light source 35 is located on the outside of the second substrate 34, as shown in FIG. 5, the display panel 300 is a two-sided display. The light rays from the transmission region 301 enter the second substrate 34, pass through the photoresistive layer 32 and are emitted through the first substrate 31. The light rays from the reflection region 302 enter from the second substrate 34. Being reflected by the reflective layer 33, the light rays pass through the second photoresistive sublayer 322 twice and then emitted through the light source 35, so that the saturation of the transmission region 301 and the reflection region 302 is compatible. The display panel 300 in FIG. 5 corresponds to the foregoing display panel 200.

С учетом вышеописанного, в способе изготовления последовательно образуют первый фоторезистивный подслой, отражающий слой и второй фоторезистивный подслой. Первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой образуют фоторезистивный слой, так что отражающий слой находится внутри фоторезистивного слоя. Лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через второй фоторезистивный подслой дважды. Толщина второго фоторезистивного подслоя меньше, чем толщина фоторезистивного слоя. Таким образом, насыщение области передачи и насыщение области отражения может быть совместимым.In view of the above, in the manufacturing method, a first photoresistive sublayer, a reflective layer and a second photoresistive sublayer are successively formed. The first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer form a photoresistive layer, so that the reflective layer is inside the photoresistive layer. The light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the second photoresistive sublayer twice. The thickness of the second photoresistive sublayer is less than the thickness of the photoresistive layer. Thus, the saturation of the transmission region and the saturation of the reflection region can be compatible.

Считается, что настоящие варианты осуществления и их преимущества будут понятны из вышеизложенного описания, а также очевидно, что в них могут быть внесены различные изменения без отхода от сущности и объема настоящего изобретения или без ущерба для всех его материальных преимуществ, при этом описанные выше примеры представляют собой лишь предпочтительные или иллюстративные варианты осуществления настоящего изобретения.It is believed that the present embodiments and their advantages will be clear from the foregoing description, and it is also obvious that various changes can be made without departing from the essence and scope of the present invention or without prejudice to all its material advantages, with the examples described above representing are only preferred or illustrative embodiments of the present invention.

Claims (28)

1. Дисплейная панель, содержащая:1. A display panel containing: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой;the upper substrate, the lower substrate, the photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate; при этом дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды;wherein the display panel contains a transmission region and a reflection region having a reflective layer inside the photoresistive layer, while the reflective layer separates the photoresistive layer into the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer, the first photoresistive sublayer between the reflective layer and the lower substrate, the second photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate, the rays of light in the transmission region pass through the photoresistive layer, while the rays of light in the region of reflection pass through the first or second photoresist underlayer photoresist underlayer twice; дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке; и the display panel is a one-sided display panel, the display panel further comprises a light source located on the lower substrate facing the upper substrate, the photoresistive layer is located on the lower substrate and the reflecting surface of the reflective layer is facing the upper substrate; and отражающий слой представляет собой металлический отражающий слой. the reflective layer is a metallic reflective layer. 2. Дисплейная панель по п. 1, отличающаяся тем, что первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.2. The display panel according to claim 1, characterized in that the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material and the thickness of the second photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer. 3. Дисплейная панель, содержащая:3. A display panel containing: верхнюю подложку, нижнюю подложку, фоторезистивный слой между верхней подложкой и нижней подложкой;the upper substrate, the lower substrate, the photoresistive layer between the upper substrate and the lower substrate; дисплейная панель содержит область передачи и область отражения, имеющую отражающий слой внутри фоторезистивного слоя, при этом отражающий слой разделяет фоторезистивный слой на первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой, первый фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и нижней подложкой, второй фоторезистивный подслой расположен между отражающим слоем и верхней подложкой, лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, при этом лучи света в области отражения проходят через первый фоторезистивный подслой или второй фоторезистивный подслой дважды.The display panel contains a transfer area and a reflection area having a reflective layer inside the photoresistive layer, while the reflective layer separates the photoresistive layer into the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer, the first photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the lower substrate, the second photoresistive sublayer is located between the reflective layer and the upper substrate, the light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, while the light rays in the reflection region pass through he first or the second photoresist underlayer photoresist underlayer twice. 4. Дисплейная панель по п. 3, отличающаяся тем, что дисплейная панель представляет собой одностороннюю дисплейную панель, дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на нижней подложке, обращенной от верхней подложки, фоторезистивный слой расположен на нижней подложке и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к верхней подложке.4. The display panel according to claim 3, wherein the display panel is a one-sided display panel, the display panel further comprises a light source located on the lower substrate facing the upper substrate, the photoresistive layer is located on the lower substrate and the reflecting surface of the reflective layer is facing to the upper substrate. 5. Дисплейная панель по п. 4, отличающаяся тем, что первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала и толщина второго фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.5. The display panel according to claim 4, characterized in that the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material and the thickness of the second photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer. 6. Дисплейная панель по п. 3, отличающаяся тем, что дисплейная панель представляет собой двустороннюю дисплейную панель, при этом дисплейная панель дополнительно содержит источник света, расположенный на одной стороне нижней подложки, обращенной от верхней подложки, и фоторезистивный слой расположен на верхней подложке и отражающая поверхность отражающего слоя обращена к нижней подложке.6. The display panel according to claim 3, wherein the display panel is a double-sided display panel, wherein the display panel further comprises a light source located on one side of the lower substrate facing the upper substrate, and the photoresistive layer is located on the upper substrate and the reflecting surface of the reflective layer is facing the bottom substrate. 7. Дисплейная панель по п. 6, отличающаяся тем, что первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала и толщина первого фоторезистивного подслоя составляет половину толщины фоторезистивного слоя.7. The display panel according to claim 6, characterized in that the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer are made of the same material and the thickness of the first photoresistive sublayer is half the thickness of the photoresistive layer. 8. Способ изготовления дисплейных панелей, включающий:8. A method of manufacturing display panels, including: образование первой подложки, имеющей область передачи и область отражения;the formation of the first substrate having a transmission region and a reflection region; образование первого фоторезистивного подслоя на первой подложке;the formation of the first photoresistive sublayer on the first substrate; образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения;the formation of a reflective layer on the first photoresistive sublayer in the reflection region; образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, и при этом первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой составляют фоторезистивный слой;the formation of the second photoresistive sublayer on the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer on the reflective layer, and the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer constitute the photoresistive layer; расположение второй подложки в соответствии с первой подложкой, при этом фоторезистивный слой находится между первой подложкой и второй подложкой; иthe location of the second substrate in accordance with the first substrate, while the photoresistive layer is between the first substrate and the second substrate; and при этом лучи света в области передачи проходят через фоторезистивный слой, и лучи света в области отражения проходят через второй фоторезистивный подслой дважды.the light rays in the transmission region pass through the photoresistive layer, and the light rays in the reflection region pass through the second photoresistive sublayer twice. 9. Способ изготовления по п. 8, отличающийся тем, что способ дополнительно включает:9. The method of manufacture according to claim. 8, characterized in that the method further includes: расположение источника света на наружной стороне первой подложки или второй подложки.the location of the light source on the outer side of the first substrate or the second substrate. 10. Способ изготовления по п. 8, отличающийся тем, что этап образования отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения дополнительно включает:10. A method of manufacturing according to claim. 8, characterized in that the step of forming a reflective layer on the first photoresistive sublayer in the reflection region further includes: образование отражающего слоя на первом фоторезистивном подслое в области отражения, при этом отражающая поверхность отражающего слоя обращена от первого фоторезистивного подслоя. the formation of a reflective layer on the first photoresistive sublayer in the reflection region, with the reflecting surface of the reflective layer facing away from the first photoresistive sublayer. 11. Способ изготовления по п. 8, отличающийся тем, что этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает:11. The method of manufacture according to claim. 8, characterized in that the step of forming the second photoresistive sublayer further includes: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина фоторезистивного слоя, образованного первым фоторезистивным подслоем и вторым фоторезистивным подслоем, вдвое больше толщины второго фоторезистивного подслоя и первый фоторезистивный подслой и второй фоторезистивный подслой изготовлены из одного материала.the formation of the second photoresistive sublayer on the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer on the reflective layer, while the thickness of the photoresistive layer formed by the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer is twice the thickness of the second photoresistive sublayer and the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer from one material. 12. Способ изготовления по п. 8, отличающийся тем, что этап образования второго фоторезистивного подслоя дополнительно включает:12. The method of manufacture according to claim. 8, characterized in that the step of forming the second photoresistive sublayer further includes: образование второго фоторезистивного подслоя на первом фоторезистивном подслое в области передачи и образование второго фоторезистивного подслоя на отражающем слое, при этом толщина и материал первого фоторезистивного подслоя и второго фоторезистивного подслоя различаются, при этом насыщение лучами света в области передачи, проходящими через фоторезистивный слой, и насыщение лучами света в области отражения, проходящими через второй фоторезистивный подслой дважды, одинаковые. the formation of the second photoresistive sublayer in the first photoresistive sublayer in the transmission area and the formation of the second photoresistive sublayer in the reflective layer, the thickness and material of the first photoresistive sublayer and the second photoresistive sublayer differ, and the saturation of light rays in the transmission region passing through the photoresistive layer and saturation rays of light in the field of reflection, passing through the second photoresistive sublayer twice, are the same.
RU2018126194A 2015-12-18 2015-12-30 Liquid crystal panel and method of its manufacturing RU2688809C1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510967826.XA CN105467656A (en) 2015-12-18 2015-12-18 Display panel and manufacturing process thereof
CN201510967826.X 2015-12-18
PCT/CN2015/099740 WO2017101163A1 (en) 2015-12-18 2015-12-30 Display panel and process for manufacturing same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2688809C1 true RU2688809C1 (en) 2019-05-22

Family

ID=55605519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2018126194A RU2688809C1 (en) 2015-12-18 2015-12-30 Liquid crystal panel and method of its manufacturing

Country Status (5)

Country Link
KR (1) KR20180094092A (en)
CN (1) CN105467656A (en)
GB (1) GB2562186A (en)
RU (1) RU2688809C1 (en)
WO (1) WO2017101163A1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113608380B (en) * 2021-07-30 2022-09-27 惠科股份有限公司 Double-sided display panel, display device and driving method
CN113741096B (en) * 2021-08-31 2022-03-22 惠科股份有限公司 Double-sided display panel
CN113741088B (en) * 2021-08-31 2022-08-05 惠科股份有限公司 Double-sided display panel
CN113741087B (en) * 2021-08-31 2022-09-02 惠科股份有限公司 Double-sided display panel
CN115167029B (en) * 2022-07-01 2023-11-28 Tcl华星光电技术有限公司 Display module and manufacturing method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030160914A1 (en) * 2002-02-26 2003-08-28 Kyoung-Su Ha Color filter substrate for transflective liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US6801274B2 (en) * 2001-09-19 2004-10-05 Seiko Epson Corporation Color filter substrate, manufacturing method thereof, liquid crystal device, and electronic apparatus
US6909482B2 (en) * 2002-12-11 2005-06-21 General Electric Company Display substrate with reflective color filters

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI251109B (en) * 2002-10-25 2006-03-11 Toppoly Optoelectronics Corp Dual display LCD structure
CN200941140Y (en) * 2005-11-22 2007-08-29 比亚迪股份有限公司 Semi-reflecting colour optical filter, colour filter film and LCD device
CN100405169C (en) * 2006-09-21 2008-07-23 友达光电股份有限公司 Semi-penetration reflection type display
CN101551543B (en) * 2008-04-03 2011-08-31 群康科技(深圳)有限公司 Half-transmitting and half-reflecting type liquid crystal display panel
CN202748576U (en) * 2012-09-06 2013-02-20 北京京东方光电科技有限公司 Half-transmitting half-reflecting liquid crystal panel and display device
CN104199213A (en) * 2014-08-18 2014-12-10 京东方科技集团股份有限公司 Transflective liquid crystal display panel and liquid crystal display

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6801274B2 (en) * 2001-09-19 2004-10-05 Seiko Epson Corporation Color filter substrate, manufacturing method thereof, liquid crystal device, and electronic apparatus
US20030160914A1 (en) * 2002-02-26 2003-08-28 Kyoung-Su Ha Color filter substrate for transflective liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US6909482B2 (en) * 2002-12-11 2005-06-21 General Electric Company Display substrate with reflective color filters

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017101163A1 (en) 2017-06-22
GB2562186A (en) 2018-11-07
KR20180094092A (en) 2018-08-22
CN105467656A (en) 2016-04-06
GB201811678D0 (en) 2018-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2688809C1 (en) Liquid crystal panel and method of its manufacturing
US20100020272A1 (en) Mirror effect liquid crystal display device using reflection polarizer
EP2793074A3 (en) Color liquid crystal panel, method for manufacturing the same, and color liquid crystal display device employing the same
JP2000330102A5 (en)
US9494820B2 (en) Glossy display substrate and glossy display apparatus
JP2001318377A (en) Liquid crystal display device
TW200841111A (en) Off-axis projection system
WO2017092125A1 (en) Reflective liquid crystal display
JP2001083508A (en) Display device and electronic device using the same
TWI235268B (en) Dual display structure and driving method
TW200701475A (en) Liquid crystal display and method of manufacturing of a tft array panel of the same
US20070070270A1 (en) Display
US9448434B2 (en) Liquid crystal display panel and method for driving the same
CN100405169C (en) Semi-penetration reflection type display
US9891468B2 (en) Reflective liquid crystal display panel and display device
CN102998835B (en) Liquid crystal display device having a plurality of pixel electrodes
CN205484895U (en) Liquid crystal display screen structure
US10795203B2 (en) Reflective liquid crystal display device having a composite layer formed on a side of the backlight unit away from the display panel
CN2914134Y (en) Micro-reflecting liquid crystal display
US20170248819A1 (en) Liquid crystal panels and liquid crystal displays
CN1321343C (en) Structure of transflective liquid crystal display
US20160377917A1 (en) Liquid crystal panel and the manufacturing method thereof
EP1582912A4 (en) Liquid crystal display unit
KR100291916B1 (en) Reflective type LCD
TW200519417A (en) Color filter substrate and method fabricating the same, electro-optical device and electronic equipment