[go: up one dir, main page]

RU2471542C1 - Способ термической обработки алмазов - Google Patents

Способ термической обработки алмазов Download PDF

Info

Publication number
RU2471542C1
RU2471542C1 RU2011120503/05A RU2011120503A RU2471542C1 RU 2471542 C1 RU2471542 C1 RU 2471542C1 RU 2011120503/05 A RU2011120503/05 A RU 2011120503/05A RU 2011120503 A RU2011120503 A RU 2011120503A RU 2471542 C1 RU2471542 C1 RU 2471542C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
temperature
cell
diamond
heating
pressure
Prior art date
Application number
RU2011120503/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2011120503A (ru
Inventor
Николай Александрович Николаев
Original Assignee
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики высоких давлений им. Л.Ф. Верещагина Российской академии наук (ИФВД РАН)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики высоких давлений им. Л.Ф. Верещагина Российской академии наук (ИФВД РАН) filed Critical Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики высоких давлений им. Л.Ф. Верещагина Российской академии наук (ИФВД РАН)
Priority to RU2011120503/05A priority Critical patent/RU2471542C1/ru
Publication of RU2011120503A publication Critical patent/RU2011120503A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2471542C1 publication Critical patent/RU2471542C1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способам, используемым при работе с повышенным давлением и вызывающим физическую модификацию веществ. Способ термической обработки алмазов коричневого цвета в камере высокого давления включает размещение алмаза в реакционной ячейке в среде, передающей давление, подъем давления в камере с последующим нагревом реакционной ячейки и ее охлаждением, при этом термическую обработку проводят при давлении в камере 3-6 ГПа, а нагрев реакционной ячейки с алмазом осуществляют при скорости подъема температуры 10-50°С/с до температуры в диапазоне 2000-2350°С путем пропускания электрического тока через нагреватель в ячейке от программируемого источника мощности электропитания с учетом релаксации температуры в ячейке в процессе нагрева, причем для указанного учета предварительно определяют постоянную времени релаксации температуры в ячейке. После подъема температуры осуществляют охлаждение ячейки путем отключения мощности нагрева, формируя короткий по времени импульс нагрева алмаза в зоне температур выше 2000°С с суммарным временем нахождения алмаза в этой зоне менее 30 секунд. Учет релаксации температуры в ячейке для скорости подъема температуры VT из диапазона 10-50°С/с и для предварительно определенного значения постоянной времени релаксации температуры в ячейке τ осуществляют заданием в программируемом источнике питания значения максимальной температуры нагрева на величину τVT выше значения максимальной температуры термической обработки из диапазона 2000-2350°С. Изобретение обеспечивает изменение цвета низкосортных природных алмазов коричневого цвета без их заметной графитизации и получение алмазов высокого ювелирного качества. 1 з.п. ф-лы, 5 ил., 3 пр.

Description

Изобретение относится к способам, используемым при работе с повышенным давлением и вызывающим физическую модификацию веществ. Предлагаемый способ предназначен для изменения цвета алмазов и улучшения их качества, в частности для изменения коричневого цвета природных кристаллов алмаза под действием высоких температур при высоком давлении в области метастабильного существования алмаза на фазовой диаграмме углерода.
Известен метод улучшения механических свойств CVD-алмаза (его трещиностойкости) путем отжига при температурах в диапазоне 1100-2200°С в инертной атмосфере при низком давлении в течение короткого периода времени, который уменьшают с увеличением температуры отжига так, чтобы предотвратить графитизацию указанного алмаза (Anthony et al. Method for enhancing the toughness of CVD diamond. - US Patent Number: 5451430, Int. Cl.: B05D 3/02. Date of Patent: Sep.19, 1995). В методе установлена связь между параметрами термической обработки: температурой отжига и предельной продолжительностью отжига, при которой еще обеспечивается сохранность алмаза. Например, для температуры около 1600°С продолжительность отжига должна составлять менее 10 минут, а для температуры около 1900°С - менее 15 секунд. В этом методе термическую обработку алмаза проводят в области термодинамической стабильности графита на фазовой диаграмме углерода без применения аппаратов высокого давления, и она направлена только на снятие неоднородных напряжений в кристаллической решетке CVD-алмаза, возникающих при его выращивании, а не на изменение цвета природных алмазов.
Известен способ отжига монокристалла алмаза, полученного CVD-методом при больших скоростях роста монокристалла, с целью улучшения его оптической чистоты путем нагревания алмаза до заданной температуры, составляющей по крайней мере 1500°С, при давлении, равном по крайней мере 4 ГПа (Hemley et al. Annealing single crystal Chemical Vapor Deposition diamonds. US Patent Application Publication No.: 2007/0290408, Int. Cl.: B29C 71/02. Pub. Date: Dec. 20, 2007). Согласно описанию изобретения выращенные при больших скоростях роста CVD-алмазы могут приобретать коричневый цвет, но при высокотемпературной обработке в реакционной ячейке аппарата высокого давления (при температуре 1800-2900°С, давлении 5-7 ГПа и времени выдержки 1-60 минут) они могут быть превращены в бесцветные монокристаллы алмаза. В этом методе процесс отжига проводят в области термодинамической стабильности графита на фазовой диаграмме углерода или в области термодинамической стабильности алмаза вблизи линии равновесия графит-алмаз на диаграмме. Метод позволяет достичь более высоких температур отжига по сравнению с предыдущим аналогом, поскольку термообработку алмаза проводят при высоких давлениях. Но вопрос о предотвращении возможной графитизации алмаза при обработке в области его метастабильного состояния в описании изобретения не рассматривается. Отмечается только, что реакционную ячейку следует охлаждать перед разгрузкой аппарата для того, чтобы алмаз не стал графитом. Основной недостаток метода заключается в том, что он предназначен только для отжига искусственных CVD-алмазов, имеющих, как правило, небольшие размеры.
Наиболее близким техническим решением к заявляемому изобретению является способ изменения цвета окрашенных природных алмазов (Vagarali et al. High pressure/high temperature production of colorless and fancy-colored diamonds. - US Patent No.: 7323156 B2, Int. Cl. C01B 31/06, B01J 3/08. Date of Patent: Jun. 29, 2008), который может быть использован для получения алмазов высокого ювелирного качества из низкосортных природных алмазов коричневого цвета. В способе применяют аппарат высокого давления и высокой температуры, а параметры термобарической обработки кристаллов алмаза (давление, температура и время) могут изменяться в широких пределах: давление - от 10 до 200 кбар, температура - от 1500 до 3500°С, время выдержки - от 30 секунд до 96 часов. Вес природного алмаза может находиться в пределах от 0,1 до 100 каратов. В способе реакционную ячейку с запрессованным в капсулу алмазом подвергают действию повышенного давления и повышенной температуры или в области стабильности графита на фазовой диаграмме углерода в течение времени, достаточного для изменения цвета алмаза без значительной его графитизации, или выше линии равновесия алмаз-графит в области стабильности алмаза на фазовой диаграмме углерода, где нет ограничений на длительность высокотемпературного этапа процесса отжига. (Линию равновесия алмаз-графит на фазовой диаграмме углерода можно задать уравнением: Р=19,4+0,025 Т, где давление Р измеряется в килобарах, а температура Т - в градусах Цельсия; так что на координатной плоскости с осями Т и Р выше этой линии находится область стабильного существования алмаза, а ниже этой линии находится область стабильного существования графита. Фазовый переход графит-алмаз имеет широкие области метастабильного сосуществования фаз по обе стороны от линии равновесия на диаграмме.) В описании изобретения отмечается, что работа в области стабильности графита чувствительна к временному фактору и следует тщательно контролировать тот период времени, в течение которого алмаз подвергают высокотемпературному нагреву в этой области. Период должен быть достаточно длительным, для того чтобы цвет алмаза улучшился, но не настолько длительным, чтобы алмаз при обработке графитизировался. Допускается частичная графитизация алмаза, а при значительной графитизации в описании изобретения предлагают сравнивать уменьшение цены алмаза от потери его массы с увеличением его цены, достигаемой в результате изменения его цвета, чтобы не оказаться в проигрыше.
Основным недостатком способа является то, что в способе при обработке кристаллов алмаза в области стабильности графита не учитывают влияние скорости нагрева ячейки и характера релаксации температуры в камере при изменении мощности нагрева на достигаемую температуру в ячейке и на длительность того периода времени, при котором алмаз находится в высокотемпературной зоне обработки. В способе отсутствует возможность определения или контроля температуры в ячейке при кратковременном нагреве, что повышает риск графитизации кристаллов алмаза. (Ниже при описании сущности изобретения поясняется, каким образом можно охарактеризовать релаксацию температуры в реакционной ячейке камеры высокого давления при изменении мощности нагрева.)
Настоящее изобретение направлено на повышение надежности процесса термической обработки природных алмазов коричневого цвета в аппаратах высокого давления в области стабильности графита на фазовой диаграмме углерода.
Это достигается тем, что процесс проводят при давлении в диапазоне 3-6 ГПа, а нагрев реакционной ячейки камеры высокого давления осуществляют при скоростях подъема температуры 10-50°С/с до температуры в диапазоне 2000-2350°С путем пропускания электрического тока через нагреватель ячейки от программируемого источника питания с учетом релаксации температуры в ячейке и последующим за подъемом температуры резким охлаждением ячейки путем отключения мощности нагрева, формируя короткий по времени импульс нагрева алмаза с суммарным временем нахождения алмаза в зоне температур выше 2000°С менее 30 секунд. По типам термической обработки предлагаемый способ относится к процессам закалки материалов, сопровождаемым их резким охлаждением, а не к процессам отжига материалов, сопровождаемым их выдержкой при высокой температуре и медленным охлаждением. Предлагаемый способ решает задачу кратковременного высокотемпературного нагрева алмаза с изменением его цвета и без его графитизации в камере высокого давления с большим реакционным объемом. Верхняя граница применяемых давлений обусловлена тем, что способ осуществляют в камерах большого объема, в которых создание давлений выше 6 ГПа экономически невыгодно. Нижняя граница диапазона применяемых давлений, 3 ГПа, обусловлена возможной графитизацией алмаза при высоких температурах при меньших давлениях. Нижняя граница температурного диапазона определена экспериментально, при температурах ниже 2000°С, как правило, наблюдали лишь частичное ослабление коричневого цвета кристаллов алмаза, относящихся по физической классификации к типу IIа. При температурах выше 2350°С наблюдали поверхностную графитизацию кристаллов алмаза или почернение инородных включений, которые могут присутствовать внутри кристаллов. Нижняя граница скоростей подъема температуры обусловлена тем, что при малых скоростях, менее 10°С/с, может существенно увеличиваться время нахождения обрабатываемого кристалла алмаза в зоне высоких температур, что повышает риск графитизации, а большие скорости нагрева (более 50°С/с) реакционной ячейки в камерах большого объема реализуются только при слишком мощных источниках электропитания. Ограничение на суммарное время (30 секунд) нахождения алмаза в зоне температур выше 2000°С связано с высоким риском поверхностной графитизации алмаза, наблюдаемой при более длительном пребывании кристаллов алмаза в этой зоне. Способ требует проведения предварительной калибровки камеры по температуре в квазистационарном режиме и определения постоянной времени температурной релаксации в ней. Этот существенный параметр, характерное время температурной релаксации в камере, от которого зависит температура в реакционной ячейке при кратковременном нагреве, не принимался во внимание ранее при термобарической обработке алмазов в аппаратах высокого давления.
Сущность изобретения поясняется чертежами и графиками, фиг.1-5.
На фиг.1 в поперечном разрезе представлены аппарат высокого давления (его центральная часть) и конструкция реакционной ячейки, которые применяли для процесса термобарической обработки кристаллов алмаза по предлагаемому способу. (Подробную информацию об используемом аппарате можно найти в описании изобретения: Николаев Н.А., Шалимов М.Д. «Устройство для создания сверхвысокого давления и температуры», патент РФ №1332598, от 02.02.1993.) Аппарат имеет расположенные друг против друга профилированные матрицы 1 и 1', выполненные из твердого сплава. Между матрицами расположен контейнер 2, изготовленный из литографского камня. В центральное отверстие контейнера помещена реакционная ячейка, содержащая трубчатый графитовый нагреватель 3, внешнюю теплоизолирующую втулку 4 и внутренние теплоизолирующие таблетки 5 и 5', спрессованные из смеси порошков NaCl и ZrO2; внутри нагревателя находится цилиндрическая капсула 6, в которую при изготовлении прессованием из порошка гексагонального нитрида бора помещен кристалл алмаза 7. Нагреватель 3 контактирует с молибденовыми дисками 8 и 8', а далее с матрицами 1 и 1' через токоподводящие стальные элементы 9 и 9', так что подачу электрической мощности на нагреватель 3 можно осуществлять через матрицы 1 и 1' устройства. Сверху и снизу ячейка имеет теплоизолирующие шайбы 10 и 10', изготовленные из литографского камня. Контейнер 2 окружен наружным кольцом 11, выполненным из пластичного материала, например фторопласта.
На фиг.2 представлен вариант сборки реакционной ячейки в аппарате высокого давления с термопарой 12, схема регистрации показаний термопары с помощью вольтметра 13 и схема подачи электрического тока к нагревателю 3 от программируемого источника мощности нагрева 14. Термопара предназначена для измерения температуры внутри реакционной ячейки при проведении предварительной калибровки камеры высокого давления по температуре, определения зависимости температуры от мощности нагрева. С помощью термопары также определяют постоянную времени температурной релаксации в ячейке, проводя запись показаний термопары, например, при ступенчатом изменении мощности нагрева. Спай термопары 12 находится внутри реакционного объема, а ее выходящие из ячейки провода проходят сквозь электроизолирующие корундовые трубки 15 и 15', которые предохраняют от контакта провода термопары с графитовым нагревателем 3. Остальные обозначения фиг.2 соответствуют позициям фиг.1. Материалами для термопары служат проволоки из платино-родиевых сплавов (термопара Pt30%Rh-Pt6%Rh).
На фиг.3 приведены примеры экспериментальных данных, полученных в аппарате высокого давления с внутренним объемом реакционной ячейки ~3,6 см3 при давлении ~4 ГПа: а) - градуировочная кривая зависимости температуры от мощности нагрева в реакционной ячейке, б) - зависимость температуры в реакционной ячейке после отключения мощности нагрева, кривая релаксации температуры в ячейке от ~940°С до комнатной температуры (принимаемой за ноль, поскольку холодный спай термопары находился при комнатной температуре). Данные градуировки на фиг.3а) до ~1800°С получены с помощью термопары в квазистационарном режиме измерений (с выдержкой по времени в каждой точке измерения до получения стационарных значений температуры при фиксированной мощности нагрева), а выше по температуре получены с помощью регистрации плавления оксида алюминия (точка на графике при 2053°С) и металлического ниобия (точка на графике при 2470°С). Экспериментальные данные по релаксации температуры представлены на фиг.3б) точками, сплошная кривая является результатом регрессионного анализа этих данных. На вставке графика приведена формула кривой температура-время, T(t)=938,8 ехр(-t/30,94), и значение квадрата коэффициента корреляции, R2=0,9992, который очень близок к единице. Приведенный график показывает, что релаксация температуры в реакционной ячейке при ступенчатом отключении мощности нагрева с высокой точностью описывается экспоненциальной функциональной зависимостью температуры от времени вида:
T(t)=T0exp(-t/τ),
где Т0 - начальное значение температуры (во время отключения мощности нагрева при t=0), а τ - постоянная времени релаксации температуры, которой можно характеризовать переходной процесс. В рассматриваемом случае τ≈30,9 секунды. Для понимания сущности изобретения здесь поясняется, что означает понятие постоянной времени релаксации температуры в реакционной ячейке аппарата высокого давления и как значение этой постоянной можно определить экспериментально. Заметим, что при ступенчатом включении мощности нагрева температура в ячейке с высокой точностью описывается выражением:
T(t)=Tm[1-exp(-t/τ)],
где Tm - значение температуры, которое устанавливается в ячейке при длительной выдержке заданной мощности нагрева (когда t>>τ и exp(-t/τ)<<1). В литературе может встречаться иное название и обозначение постоянной времени релаксации. Так, аналогичное выражение в качестве приближения для температуры в камере при ступенчатом включении мощности нагрева дает рассмотрение задачи нестационарной теплопроводности, приведенное в книге: Синтез минералов, В.Е.Хаджи, Л.И.Цинобер, Л.М.Штеренлихт и др. - М.: Недра, 1987 (см. том 1, стр.332), где постоянная времени релаксации температуры названа «тепловой постоянной камеры» и обозначена через α. Полученное там решение задачи теплопроводности указывает на существенную зависимость постоянной времени релаксации от размеров реакционной ячейки в различных по объему камерах высокого давления (постоянная времени релаксации температуры пропорциональна квадрату высоты реакционной ячейки и составляет, как правило, десятки секунд). Отметим, что в соответствии с вышеприведенной формулой за время t, равное τ, температура в ячейке при ступенчатом включении мощности нагрева достигает ~63,2% от Tm, а за время t, равное 3τ, - достигает ~95% от Тm. Учет температурной «инерционности» ячейки после изменения (или во время изменения) мощности нагрева при определении получаемой температуры в ней необходим для временных промежутков нагрева в высокотемпературной зоне, сравнимых по длительности с величиной 3τ. (В предлагаемом изобретении высокотемпературной зоной считается диапазон температуры от 2000 до 2350°С.)
На фиг.4 представлены расчетные кривые температуры в ячейке камеры высокого давления в зависимости от времени (тонкие линии) при действии на нагреватель различных импульсов нагрева: а) - импульса прямоугольной формы, б) - импульса треугольной формы и в) - импульса пилообразной формы (формы импульсов обозначены жирными линиями). Линии температурного отклика на импульсы получены с учетом температурной релаксации в ячейке на задаваемые изменения мощности нагрева при длительности импульсов, равной 3,33τ (для импульса треугольной формы - это длительность симметричной его половины). Приведенные графики поясняют сущность изобретения, они свидетельствуют о необходимости учета температурной релаксации при задании температуры в ячейке по мощности нагрева. При проведении процесса кратковременного высокотемпературного нагрева кристаллов алмаза в аппарате высокого давления отдается предпочтение схеме нагрева, показанной на фиг.4в), для которой пик получаемой температуры на графике является более выраженным по сравнению с пологими температурными максимумами других схем нагрева. На практике при использовании для нагрева программируемого источника питания, как правило, задается скорость подъема температуры в ячейке, VT, и значение максимальной температуры, Тm, по градуировочной кривой квазистационарного режима. Расчеты показывают, что если учитывать температурную релаксацию, то максимумы задаваемой температуры и реально получаемой температуры в ячейке могут значительно отличаться друг от друга. Для схемы нагрева, показанной на фиг.4в), разность значений максимальных температур, ΔТm, (пиковых значений задаваемой и получаемой температур на графике) определяется формулой:
ΔТm=τVT.
А для схемы нагрева с симметричным треугольным пиком задаваемой температуры, фиг.4б), разность максимумов задаваемой и получаемой температур будет соответствовать формуле:
ΔТm=τVТℓn2.
Более конкретно это может означать следующее. Если, например, мы хотим достичь в ячейке температуры, равной 2100°С, при τ=30,9 с и VT=20°С/с, то при использовании схемы нагрева, показанной на фиг.4в), мы должны задать по градуировочной кривой значение максимальной температуры на ~618°С больше, равное ~2718°С, а при использовании схемы нагрева, показанной на фиг.4б), - значение максимальной температуры на ~428°С больше, равное ~2528°С.
На фиг.5 представлена общепринятая (см., например, страницу Википедии http://en.wikipedia.org/wiki/Diamond) упрощенная фазовая диаграмма углерода, на которой для пояснения сущности изобретения заштрихована зона, предназначенная для обработки природных алмазов коричневого цвета по предлагаемому способу. Зона находится ниже линии равновесия графит-алмаз в области термодинамической стабильности графита и метастабильного существования алмаза.
Ниже приведены примеры применения настоящего изобретения. В примерах для термобарической обработки алмазов использовали аппарат высокого давления с профилированными матрицами и конструкцию реакционной ячейки, описанных выше и представленных на фиг.1. Обработку алмазов в примерах проводили при давлении ~4 ГПа. Внутренний объем реакционной ячейки составлял ~3,6 см3. Для этой ячейки при указанном давлении с использованием термопары Pt30%Rh-Pt6%Rh в сборке, представленной на фиг.2, предварительно в квазистационарном режиме измерений была получена зависимость температуры от мощности нагрева, представленная на фиг.3а), и по данным изменения температуры в ячейке при ступенчатом отключении мощности нагрева, фиг.3б), было определено значение постоянной времени релаксации температуры в ячейке τ, которое составило ~ 30,9 с. Нагрев ячейки осуществляли с помощью программируемого цифрового источника электрического питания: Digital DC Power Supply XDC 10-600, Xantrex Technology Inc., у которого собственное время нарастания (длительность фронта) импульса при ступенчатом изменении мощности составляло менее 100 миллисекунд.
Пример 1. Алмаз светло-коричневого цвета, относящийся к типу IIа, весом 3,08 каратов и имеющий обточку граней в форме «маркиза» с размерами 16,77×6,68×4,91 мм, помещали в реакционную ячейку камеры высокого давления (в соответствии со сборкой деталей, представленных на фиг.1). Затем в камере с помощью гидравлического пресса создавали давление ~ 4 ГПа и после этого осуществляли термическую обработку алмаза по схеме нагрева, представленной на фиг.4в), от программируемого источника мощности электрического питания со скоростью подъема температуры, равной 15°С/с, до максимальной температуры, равной по величине 2670°С и заданной по мощности нагрева в соответствии с кривой градуировки камеры по температуре, представленной на фиг.3а). После достижения заданного максимума температуры источник нагрева автоматически отключался. В этом процессе с учетом температурной релаксации в ячейке достигалась температура, равная ~2206°С (поскольку она меньше задаваемой на величину ΔТm=τVT=30,9×15≈464°С), а общее время нахождения кристалла алмаза в высокотемпературной зоне, при температурах выше температуры 2000°С, составило ~17 секунд. После разгрузки камеры алмаз извлекали из ячейки. В результате термобарической обработки алмаз превратился в неокрашенный почти бесцветный кристалл. На небольших участках поверхности кристалла образовались следы его графитизации.
Пример 2. Бриллиант светло-коричневого цвета, относящийся к типу IIа, весом 4,33 каратов и имеющий форму «маркиза» с размерами 18,17×8,32×5,01 мм, помещали в реакционную ячейку камеры высокого давления в соответствии со сборкой деталей, представленных на фиг.1. Затем в камере с помощью гидравлического пресса создавали давление ~4 ГПа и после этого осуществляли термическую обработку алмаза по схеме нагрева, представленной на фиг.4в), от программируемого источника мощности электрического питания со скоростью подъема температуры, равной 10°С/с, до максимальной температуры, равной по величине 2410°С и заданной по мощности нагрева. После достижения заданного максимума температуры источник нагрева автоматически отключался. В этом процессе с учетом температурной релаксации в ячейке достигалась температура, равная ~2101°С, а общее время нахождения кристалла алмаза в высокотемпературной зоне, при температурах выше температуры 2000°С, составило ~ 12 секунд. После разгрузки камеры алмаз извлекали из капсулы ячейки. В результате термобарической обработки бриллиант превратился в почти бесцветный кристалл цветовой группы Н по шкале, разработанной Геммологическим институтом Америки (GIA).
Пример 3. Два коричневого цвета алмаза, один, относящийся к типу IIа, весом 4,01 каратов и имеющий форму «груши» с размерами 13,57×8,58×5,63 мм, а другой, относящийся к типу IаАВ, весом 3,39 каратов и имеющий также форму «груши» с размерами 13,92×7,88×4,93 мм, помещали в одну реакционную ячейку и одновременно подвергали термической обработке по схеме нагрева, представленной на фиг.4в), при давлении 4,2 ГПа. От программируемого источника мощности электрического питания задавалась скорость подъема температуры, равная 15°С/с, и максимальное значение температуры по калибровочной кривой, равное 2570°С. После достижения заданного максимума температуры источник питания автоматически отключался. В этом процессе с учетом температурной релаксации в ячейке достигалась температура, равная ~2106°С, а общее время нахождения кристаллов алмаза в высокотемпературной зоне, при температурах выше температуры 2000°С, составило ~9 секунд. После разгрузки камеры алмазы извлекали из капсулы реакционной ячейки. В результате термической обработки один кристалл алмаза превратился в почти бесцветный, а другой приобрел яркий зелено-желтый цвет.
В некоторых случаях в результате применения предлагаемого способа термической обработки алмазов кристаллы алмаза темно-коричневого цвета, относящиеся к типу IIа, приобретали розовый цвет. А большинство алмазов с коричневыми оттенками цвета, относящихся по физической классификации к типам IаА или IаАВ, приобретали после обработки желтый, желто-зеленый или зеленый цвета. Предлагаемое изобретение позволяет проводить высокотемпературную термическую обработку алмазов в камерах высокого давления большого объема с размещением в реакционной ячейке нескольких образцов или одного крупного кристалла алмаза весом до 20 каратов.
Учет температурной релаксации при быстром нагреве и быстром охлаждении ячейки позволяет формировать короткие по времени импульсы нагрева алмаза в высокотемпературной зоне, где происходит изменение коричневого цвета кристаллов, и избегать при этом графитизации алмаза в области метастабильного состояния алмаза на фазовой диаграмме углерода.

Claims (2)

1. Способ термической обработки алмазов коричневого цвета в камере высокого давления, включающий размещение алмаза в реакционной ячейке в среде, передающей давление, подъем давления в камере с последующим нагревом реакционной ячейки и ее охлаждением, отличающийся тем, что термическую обработку проводят при давлении в камере 3-6 ГПа, а нагрев реакционной ячейки с алмазом осуществляют при скорости подъема температуры 10-50°С/с до температуры в диапазоне 2000-2350°С путем пропускания электрического тока через нагреватель в ячейке от программируемого источника мощности электропитания с учетом релаксации температуры в ячейке в процессе нагрева, причем для указанного учета предварительно определяют постоянную времени релаксации температуры в ячейке, и последующим за подъемом температуры охлаждением ячейки путем отключения мощности нагрева, формируя короткий по времени импульс нагрева алмаза в зоне температур выше 2000°С с суммарным временем нахождения алмаза в этой зоне менее 30 с.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что учет релаксации температуры в ячейке для скорости подъема температуры VТ из диапазона 10-50°С/с и для предварительно определенного значения постоянной времени релаксации температуры в ячейке τ осуществляют заданием в программируемом источнике питания значения максимальной температуры нагрева на величину τVT выше значения максимальной температуры термической обработки из диапазона 2000-2350°С.
RU2011120503/05A 2011-05-24 2011-05-24 Способ термической обработки алмазов RU2471542C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011120503/05A RU2471542C1 (ru) 2011-05-24 2011-05-24 Способ термической обработки алмазов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2011120503/05A RU2471542C1 (ru) 2011-05-24 2011-05-24 Способ термической обработки алмазов

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011120503A RU2011120503A (ru) 2012-11-27
RU2471542C1 true RU2471542C1 (ru) 2013-01-10

Family

ID=48805955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011120503/05A RU2471542C1 (ru) 2011-05-24 2011-05-24 Способ термической обработки алмазов

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2471542C1 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040146451A1 (en) * 1997-10-17 2004-07-29 General Electric Co. High pressure/high temperature production of colorless and fancy-colored diamonds
RU2281350C2 (ru) * 2004-10-21 2006-08-10 Юрий Борисович Ткаченко Способ обработки окрашенных алмазов и бриллиантов для обесцвечивания и снятия напряжений
RU2293603C2 (ru) * 2000-03-31 2007-02-20 Элемент Сикс Текнолоджиз (Пти) Лтд. Способ изменения цвета алмаза при высокой температуре и высоком давлении
RU2293601C2 (ru) * 2000-03-31 2007-02-20 Элемент Сикс Текнолоджиз (Пти) Лтд. Способ изменения цвета алмаза при высокой температуре и высоком давлении

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040146451A1 (en) * 1997-10-17 2004-07-29 General Electric Co. High pressure/high temperature production of colorless and fancy-colored diamonds
RU2293603C2 (ru) * 2000-03-31 2007-02-20 Элемент Сикс Текнолоджиз (Пти) Лтд. Способ изменения цвета алмаза при высокой температуре и высоком давлении
RU2293601C2 (ru) * 2000-03-31 2007-02-20 Элемент Сикс Текнолоджиз (Пти) Лтд. Способ изменения цвета алмаза при высокой температуре и высоком давлении
RU2281350C2 (ru) * 2004-10-21 2006-08-10 Юрий Борисович Ткаченко Способ обработки окрашенных алмазов и бриллиантов для обесцвечивания и снятия напряжений

Also Published As

Publication number Publication date
RU2011120503A (ru) 2012-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Sakwe et al. Optimization of KOH etching parameters for quantitative defect recognition in n-and p-type doped SiC
KR101893278B1 (ko) SiC 종결정의 가공 변질층의 제거 방법, SiC 종결정, 및 SiC 기판의 제조 방법
Li et al. FEM simulations and experimental studies of the temperature field in a large diamond crystal growth cell
CN102323288B (zh) 锆合金相变点的测定方法
Kim-Hak et al. Microwave sintering and thermoelectric properties of p-type (Bi0. 2Sb0. 8) 2Te3 powder
JP2016041636A (ja) 多結晶シリコン棒の製造方法および多結晶シリコン棒
RU2471542C1 (ru) Способ термической обработки алмазов
Chang et al. Effect of cooling rate on transformation temperature measurements of Ti50Ni50 alloy by differential scanning calorimetry and dynamic mechanical analysis
GB2471907A (en) A method of treating diamond
Ringwood et al. Apparatus for phase transformation studies at high pressures and temperatures
CN112469851A (zh) 在单晶硅锭生产期间确定杂质积累的多个样品棒生长
CN105970134B (zh) 电流高通量制备金属凝固和热处理试样的装置和方法
Hu et al. Multiseed method for high quality sheet cubic diamonds synthesis: an effective solution for scientific research and commercial production
Li et al. Influence of carbon convection field on high quality large single crystal diamonds morphology under high pressure and high temperature
Lanin et al. Thermal shock resistance and thermal-mechanical processing of sapphire
Baker et al. High-pressure Seebeck coefficients and thermoelectric behaviors of Bi and PbTe measured using a Paris-Edinburgh cell
Li et al. The regulating effect of cooling water temperature on the axial growth rate of large single crystal diamond under HPHT conditions
CN104884683B (zh) SiC单晶的制造方法
RU2752346C1 (ru) Способ получения сверхтвёрдых материалов
Senoo et al. Quenching method for vacancy study of metals under very high pressure
Windsheimer et al. Inductive melting in cold wall crucible: technology and applications
Kudyakova et al. Structure, microhardness and thermal conducting properties of the high-pressure high-temperature-treated Al–Ti–N materials
US20230357025A1 (en) Process for isothermal diamond annealing for stress relaxation and optical enhancement by radiative heating
CN109880976A (zh) 一种小型快速磁场退火炉
Roebuck et al. Characterisation of Nimonic 90 by the use of miniaturised multiproperty mechanical and physical tests

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200525