RU2383043C2 - System and method of protecting microstructure of display matrix using pads in gap inside display device - Google Patents
System and method of protecting microstructure of display matrix using pads in gap inside display device Download PDFInfo
- Publication number
- RU2383043C2 RU2383043C2 RU2005129863/28A RU2005129863A RU2383043C2 RU 2383043 C2 RU2383043 C2 RU 2383043C2 RU 2005129863/28 A RU2005129863/28 A RU 2005129863/28A RU 2005129863 A RU2005129863 A RU 2005129863A RU 2383043 C2 RU2383043 C2 RU 2383043C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- display device
- matrix
- gaskets
- back plate
- substrate
- Prior art date
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims abstract description 165
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 68
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 19
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 78
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 claims description 48
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 12
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 46
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 11
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 9
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 9
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L Magnesium perchlorate Chemical compound [Mg+2].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O MPCRDALPQLDDFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- IRLPACMLTUPBCL-KQYNXXCUSA-N 5'-adenylyl sulfate Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](COP(O)(=O)OS(O)(=O)=O)[C@@H](O)[C@H]1O IRLPACMLTUPBCL-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000528 Na alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000218657 Picea Species 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000532412 Vitex Species 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- OJIJEKBXJYRIBZ-UHFFFAOYSA-N cadmium nickel Chemical compound [Ni].[Cd] OJIJEKBXJYRIBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 235000009347 chasteberry Nutrition 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000002508 contact lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N cyano prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC#N NLCKLZIHJQEMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 239000013536 elastomeric material Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000021715 photosynthesis, light harvesting Effects 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
Область техники, к которой относится изобретениеFIELD OF THE INVENTION
Это изобретение относится к электронным устройствам. Более конкретно это изобретение относится к системе монтажа в корпус и способу защиты микроэлектромеханического устройства от физического повреждения.This invention relates to electronic devices. More specifically, this invention relates to a housing installation system and a method for protecting a microelectromechanical device from physical damage.
Уровень техникиState of the art
Микроэлектромеханические системы (МЭМС) включают в себя микромеханические элементы, исполнительные механизмы и электронику. Микромеханические элементы могут быть созданы с использованием осаждения, травления и/или других процессов микрообработки, которые вытравливают части подложек и/или осажденных слоев материалов или которые добавляют слои для формирования электрических и электромеханических устройств. Один тип МЭМС-устройства называют интерферометрическим модулятором. Интерферометрический модулятор может содержать пару проводящих пластин, одна или обе из которых могут быть прозрачными и/или отражающими полностью или частично и способными к относительному перемещению при приложении соответствующего электрического сигнала. Одна пластина может содержать стационарный слой, осажденный на подложке, другая пластина может содержать металлическую мембрану, отделенную от стационарного слоя посредством воздушного зазора. Такие устройства имеют широкий диапазон применений, и было бы выгодно в данной области техники использовать и/или модифицировать характеристики устройств этих типов так, чтобы их признаки могли быть использованы для улучшения существующих изделий (продуктов) и создания новых изделий, которые еще не были разработаны.Microelectromechanical systems (MEMS) include micromechanical elements, actuators and electronics. Micromechanical elements can be created using deposition, etching and / or other microprocessing processes that etch parts of the substrates and / or deposited layers of materials or which add layers to form electrical and electromechanical devices. One type of MEMS device is called an interferometric modulator. The interferometric modulator may comprise a pair of conductive plates, one or both of which can be transparent and / or reflecting in whole or in part and capable of relative movement when a corresponding electrical signal is applied. One plate may contain a stationary layer deposited on the substrate, the other plate may contain a metal membrane separated from the stationary layer by an air gap. Such devices have a wide range of applications, and it would be advantageous in the art to use and / or modify the characteristics of devices of these types so that their features can be used to improve existing products (products) and create new products that have not yet been developed.
Раскрытие изобретенияDisclosure of invention
Одним вариантом воплощения этого изобретения является устройство отображения (дисплей), содержащее матрицу интерферометрических модуляторов, сформированных на подложке. Этот вариант воплощения включает в себя объединительную пластину и уплотнение, размещенное между подложкой и объединительной пластиной, причем подложка и объединительная пластина плотно скреплены вместе для монтажа матрицы интерферометрических модуляторов в корпус. Между матрицей и объединительной пластиной размещены одна или более прокладок (распорок или разделителей), причем эти одна или более прокладок предохраняют объединительную пластину от контакта с матрицей.One embodiment of this invention is a display device (display) comprising an array of interferometric modulators formed on a substrate. This embodiment includes a backplane and a seal sandwiched between the substrate and the backplane, the backing and backplane being tightly fastened together to mount the matrix of interferometric modulators in the housing. Between the matrix and the backplane, one or more spacers (spacers or dividers) are disposed, these one or more spacers protecting the backplane from contact with the matrix.
Другим вариантом воплощения этого изобретения является способ изготовления устройства отображения. Этот вариант воплощения включает в себя обеспечение наличия матрицы интерферометрических модуляторов на подложке и размещение на этой подложке одной или более прокладок. Этот способ также включает в себя плотное прикрепление объединительной пластины к подложке для формирования устройства отображения, причем эти одна или более прокладок предохраняют объединительную пластину от контакта с матрицей.Another embodiment of this invention is a method of manufacturing a display device. This embodiment includes providing an array of interferometric modulators on the substrate and placing one or more spacers on this substrate. This method also includes tightly attaching the backing plate to the substrate to form the display device, these one or more spacers protecting the backing plate from contact with the matrix.
Еще одним вариантом воплощения этого изобретения является устройство отображения, изготовленное с помощью способа, включающего в себя обеспечение наличия матрицы интерферометрических модуляторов на подложке и размещения одной или более прокладок на этой подложке. Способ изготовления устройства отображения также включает в себя плотное прикрепление объединительной пластины к подложке для формирования устройства отображения, причем одна или более прокладок предохраняют объединительную пластину от контакта с матрицей.Another embodiment of this invention is a display device manufactured using a method including providing an array of interferometric modulators on a substrate and placing one or more spacers on this substrate. The manufacturing method of the display device also includes tightly attaching the backing plate to the substrate to form the display device, wherein one or more spacers protect the backing plate from contact with the matrix.
Еще одним вариантом воплощения этого изобретения является устройство отображения. В этом варианте воплощения устройство отображения включает в себя работающее на пропускание средство для пропускания через него света и модулирующее средство для модулирования света, прошедшего через работающее на пропускание средство. Устройство отображения также содержит покрывающее средство для покрытия модулирующего средства и уплотняющее средство, размещенное между работающим на пропускание средством и покрывающим средством для формирования корпуса. Кроме того, устройство отображения включает в себя распорное средство для предохранения модулирующего средства и покрывающего средства от контакта друг с другом внутри устройства отображения.Another embodiment of this invention is a display device. In this embodiment, the display device includes transmitting means for transmitting light therethrough and modulating means for modulating light transmitted through the transmitting means. The display device also comprises coating means for coating the modulating means and sealing means arranged between the transmission means and the covering means for forming the housing. In addition, the display device includes spacer means for preventing the modulating means and the coating means from contacting each other within the display device.
Краткое описание чертежейBrief Description of the Drawings
Эти и другие аспекты данного изобретения станут более очевидными из последующего описания и из прилагаемых чертежей (не в масштабе), которые предназначены иллюстрировать, а не ограничивать это изобретение.These and other aspects of the present invention will become more apparent from the following description and from the accompanying drawings (not to scale), which are intended to illustrate and not limit this invention.
Фиг.1 представляет собой изометрическую проекцию, изображающую часть дисплея на основе интерферометрических модуляторов согласно одному варианту воплощения, в котором подвижный отражающий слой первого интерферометрического модулятора находится в неактивизированном положении, а подвижный отражающий слой второго интерферометрического модулятора находится в активизированном положении.1 is an isometric view showing a portion of a display based on interferometric modulators according to one embodiment in which the movable reflective layer of the first interferometric modulator is in the inactive position and the movable reflective layer of the second interferometric modulator is in the activated position.
Фиг.2 представляет собой блок-схему системы, показывающую один вариант воплощения электронного устройства, включающего в себя имеющий матрицу 3×3 дисплей на основе интерферометрических модуляторов.FIG. 2 is a block diagram of a system showing one embodiment of an electronic device including an interferometric modulator-based 3 × 3 matrix display.
Фиг.3 представляет собой диаграмму зависимости положений подвижного зеркала от приложенного напряжения для одного примерного варианта воплощения интерферометрического модулятора по Фиг.1.Figure 3 is a diagram of the dependence of the positions of the movable mirror on the applied voltage for one exemplary embodiment of the interferometric modulator of Figure 1.
Фиг.4 представляет собой иллюстрацию набора напряжений строк и столбцов, которые могут использоваться для возбуждения дисплея на основе интерферометрических модуляторов.Figure 4 is an illustration of a set of row and column voltages that can be used to drive a display based on interferometric modulators.
Фиг.5A показывает один примерный кадр отображаемых данных в имеющем матрицу 3×3 дисплее на основе интерферометрических модуляторов по Фиг.2.FIG. 5A shows one exemplary frame of displayed data in a 3 × 3 matrix display based on interferometric modulators of FIG. 2.
Фиг.5B показывает одну примерную временную диаграмму для сигналов строк и столбцов, которые могут использоваться для записи кадра по Фиг.5A.FIG. 5B shows one exemplary timing diagram for row and column signals that can be used to record the frame of FIG. 5A.
Фиг.6A представляет собой поперечное сечение устройства по Фиг.1. Фиг.6B представляет собой поперечное сечение альтернативного варианта воплощения интерферометрического модулятора. Фиг.6C представляет собой поперечное сечение альтернативного варианта воплощения интерферометрического модулятора.6A is a cross section of the device of FIG. 1. 6B is a cross-sectional view of an alternative embodiment of an interferometric modulator. 6C is a cross section of an alternative embodiment of an interferometric modulator.
Фиг.7A и Фиг.7B показывают изображение с пространственным разделением деталей и поперечное сечение одного варианта воплощения корпуса дисплея, содержащего прокладку. Фиг.7C показывает вариант воплощения корпуса дисплея, содержащего утопленную крышку. Фиг.7D показывает вариант воплощения корпуса дисплея, который содержит изогнутую объединительную пластину.FIGS. 7A and 7B show an exploded view and cross section of one embodiment of a display housing comprising a gasket. Fig. 7C shows an embodiment of a display case comprising a recessed cover. Fig. 7D shows an embodiment of a display case that comprises a curved back plate.
Фиг.8A показывает поперечное сечение варианта воплощения утопленной крышки. Фиг.8B показывает поперечное сечение варианта воплощения объединительной пластины, содержащей усиливающие ребра. Фиг.8C показывает поперечное сечение варианта воплощения утопленной крышки, содержащей усиливающие ребра. Фиг.8D и Фиг.8E показывают в поперечном сечении объединительные пластины, содержащие полости, в которых размещается влагопоглотитель.Fig. 8A shows a cross-section of an embodiment of a recessed cover. Fig. 8B shows a cross-section of an embodiment of a back plate containing reinforcing ribs. Fig. 8C shows a cross-section of an embodiment of a recessed cover comprising reinforcing ribs. Fig. 8D and Fig. 8E show, in cross section, back plates containing cavities in which the desiccant is housed.
Фиг.9 показывает поперечное сечение устройства с двойной матрицей, которое содержит две матрицы интерферометрических модуляторов.9 shows a cross section of a dual matrix device that contains two arrays of interferometric modulators.
Фиг.10 показывает поперечное сечение варианта воплощения корпуса дисплея, содержащего влагопоглотитель.10 shows a cross-section of an embodiment of a display case containing a desiccant.
Фиг.11A показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором прокладки располагаются, по существу, упорядоченным образом (с регулярной структурой или рисунком). Фиг.11B показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором прокладки располагаются случайным образом (с произвольным рисунком). Фиг.11C показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором прокладки располагаются около центра матрицы. Фиг.11D показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором прокладки являются более плотными около центра матрицы и менее плотными около периферии. Фиг.11E показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего три концентрические зоны прокладок.11A shows a top view of an embodiment of a device in which the gaskets are arranged in a substantially ordered manner (with a regular structure or pattern). 11B shows a top view of an embodiment of a device in which the gaskets are arranged randomly (with an arbitrary pattern). 11C shows a top view of an embodiment of a device in which gaskets are located near the center of the matrix. 11D shows a top view of an embodiment of a device in which the gaskets are denser near the center of the matrix and less dense near the periphery. 11E shows a top view of an embodiment of a device comprising three concentric zones of gaskets.
Фиг.12A-Фиг.12T показывают варианты воплощения прокладок.12A to 12T show gasket embodiments.
Фиг.13A показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего прокладки, которые простираются на по меньшей мере два столбика в матрице. Фиг.13B показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего прокладки в форме диска, которые простираются на по меньшей мере два столбика в матрице.13A shows a top view of an embodiment of a device comprising gaskets that extend over at least two columns in a matrix. 13B shows a top view of an embodiment of a device comprising disk-shaped gaskets that extend over at least two columns in a matrix.
Фиг.14 показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего прокладки, по меньшей мере, столь же большие по размеру, как и один интерферометрический модуляторный элемент в матрице.FIG. 14 shows a top view of an embodiment of a device comprising gaskets at least as large as one interferometric modulator element in a matrix.
Фиг.15A показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего прокладки, по существу, центрированные над столбиками. Фиг.15B показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором некоторая часть каждой прокладки располагается над столбиком. Фиг.15C показывает вид сверху варианта воплощения устройства, в котором никакая часть никакой прокладки не располагается над каким-либо столбиком.Figa shows a top view of a variant embodiment of a device containing gaskets, essentially centered above the columns. Figv shows a top view of a variant embodiment of the device in which some part of each gasket is located above the column. Fig. 15C shows a top view of an embodiment of a device in which no part of any gasket is located above any column.
Фиг.16 показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего прокладки различных размеров.16 shows a top view of an embodiment of a device comprising gaskets of various sizes.
Фиг.17A показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего сеточную прокладку. Фиг.17B показывает вид сверху варианта воплощения устройства, содержащего сеточную прокладку, которая является более плотной в центре, чем на периферии. Фиг.17C показывает вид сверху цельной прямоугольной прокладки. Фиг.17D показывает вид сверху цельной диагональной прокладки.17A shows a top view of an embodiment of a device comprising a grid spacer. FIG. 17B shows a top view of an embodiment of a device comprising a grid spacer that is denser in the center than in the periphery. Fig.17C shows a top view of a solid rectangular strip. Fig.17D shows a top view of a solid diagonal strip.
Фиг.18A показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего пленочную прокладку. Фиг.18B показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего пленочную прокладку с неплоским поперечным сечением. Фиг.18C показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего пленочную прокладку в виде мешка.Fig. 18A shows a cross section of an embodiment of a device comprising a film spacer. FIG. 18B shows a cross section of an embodiment of a device comprising a film pad with a non-planar cross section. Fig. 18C shows a cross-section of an embodiment of a device comprising a bag-shaped film pad.
Фиг.19 показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего множество пленочных прокладок.19 shows a cross section of an embodiment of a device comprising a plurality of film gaskets.
Фиг.20A-Фиг.20D показывают в поперечном сечении реакцию прокладки с треугольным поперечным сечением согласно одному варианту воплощения на приложенное усилие. Фиг.20E показывает вариант воплощения прокладки с более тонкой верхней частью и более толстой нижней частью. Фиг.20F показывает поперечное сечение варианта воплощения прокладки с двумя областями, которые различным образом реагируют на приложенное усилие.Figa-Fig.20D show in cross section the reaction of the gasket with a triangular cross section according to one variant embodiment of the applied force. Fig. 20E shows an embodiment of a gasket with a thinner upper part and a thicker lower part. Fig. 20F shows a cross-section of an embodiment of a gasket with two regions that respond differently to the applied force.
Фиг.21A показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, в котором прокладка простирается между матрицей и объединительной пластиной. Фиг.21B показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, в котором прокладка контактирует с матрицей, но не с объединительной пластиной. Фиг.21C показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, в котором прокладка контактирует с объединительной пластиной, но не с матрицей.21A shows a cross-section of an embodiment of a device in which a spacer extends between a matrix and a backplate. FIG. 21B shows a cross section of an embodiment of a device in which the gasket is in contact with the matrix, but not with the backplane. Fig. 21C shows a cross section of an embodiment of a device in which the gasket is in contact with the backplate, but not with the matrix.
Фиг.22A показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего цельные прокладки, сформированные поверх столбиков интерферометрических модуляторов. Фиг.22B показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего цельные прокладки, сформированные поверх столбиков интерферометрических модуляторов различных высот, и вторую прокладку, размещенную на этих цельных прокладках. Фиг.22C показывает поперечное сечение варианта воплощения устройства, содержащего цельные прокладки, сформированные поверх столбиков интерферометрических модуляторов, и вторую прокладку, которая захватывает цельные прокладки.22A shows a cross section of an embodiment of a device comprising integral gaskets formed over columns of interferometric modulators. Fig. 22B shows a cross-section of an embodiment of a device comprising integral gaskets formed over columns of interferometric modulators of various heights and a second gasket placed on these integral gaskets. Fig. 22C shows a cross-section of an embodiment of a device comprising integral gaskets formed over columns of interferometric modulators and a second gasket that grips the integral gaskets.
Фиг.23 представляет собой блок-схему технологических операций, показывающую вариант воплощения способа изготовления смонтированного в корпусе электронного устройства, которое устойчиво к физическому повреждению.23 is a flowchart showing an embodiment of a method of manufacturing an electronic device mounted in a housing that is resistant to physical damage.
Фиг.24 представляет собой блок-схему технологических операций, показывающую вариант воплощения способа защиты электронного устройства от физического повреждения.24 is a flowchart showing an embodiment of a method for protecting an electronic device from physical damage.
Фиг.25A и 25B представляют собой блок-схемы системы, показывающие вариант воплощения устройства визуального отображения, содержащего множество интерферометрических модуляторов.25A and 25B are system block diagrams showing an embodiment of a visual display device comprising a plurality of interferometric modulators.
Подробное описание конкретных вариантов воплощенияDetailed Description of Specific Embodiments
Электронные устройства являются восприимчивыми к повреждению в результате физических воздействий, например падений, скручивания, ударов, сжатия и тому подобного. Некоторые устройства являются более чувствительными к повреждению, чем другие. Например, устройства с движущимися частями являются восприимчивыми к смещению или поломке одной или более из движущихся частей. Некоторые устройства на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС) являются особенно чувствительными к физическим воздействиям из-за точных размеров составляющих их деталей. Следовательно, такие устройства обычно монтируют в корпусе для уменьшения или предотвращения нежелательных контактов, которые могут нанести повреждения устройству.Electronic devices are susceptible to damage due to physical influences, such as falls, twisting, shock, compression, and the like. Some devices are more susceptible to damage than others. For example, devices with moving parts are susceptible to displacement or breakage of one or more of the moving parts. Some devices based on microelectromechanical systems (MEMS) are especially sensitive to physical influences due to the exact dimensions of their component parts. Therefore, such devices are typically mounted in a housing to reduce or prevent unwanted contacts that may cause damage to the device.
В некоторых случаях сам корпус искажается или деформируется внешними силами, которые служат причиной того, что детали корпуса контактируют и в некоторых случаях повреждают или ухудшают работу смонтированного в корпусе устройства. Соответственно, предлагается система монтажа в корпус для электронных устройств, включая МЭМС-устройства, которая включает в себя прокладки, выполненные с возможностью предотвращения или уменьшения контактов деталей в смонтированном в корпусе устройстве, которые имеют вероятность повредить это электронное устройство. В некоторых вариантах воплощения прокладки выполнены с возможностью предотвращения или уменьшения повреждений, возникающих в результате контактов между матрицей интерферометрических модуляторов и объединительной пластиной системы монтажа в корпус для этого устройства. Следовательно, в некоторых вариантах воплощения смонтированный в корпусе дисплей, содержащий одну или более прокладок, является более тонким, чем эквивалентный смонтированный в корпусе дисплей, изготовленный без прокладок, так как прокладки позволяют размещать объединительную пластину ближе к матрице интерферометрических модуляторов, как обсуждается ниже.In some cases, the case itself is distorted or deformed by external forces, which cause the case parts to come into contact and in some cases damage or impair the operation of the device mounted in the case. Accordingly, there is provided a mounting system in a housing for electronic devices, including MEMS devices, which includes gaskets configured to prevent or reduce the contacts of parts in a device mounted in the housing that are likely to damage this electronic device. In some embodiments, the gaskets are configured to prevent or reduce damage resulting from contacts between the matrix of interferometric modulators and the backplane of the housing mounting system for this device. Therefore, in some embodiments, a housing-mounted display comprising one or more gaskets is thinner than an equivalent housing-mounted display made without gaskets, since the gaskets allow the backplane to be placed closer to the matrix of interferometric modulators, as discussed below.
МЭМС-устройства на основе интерферометрических модуляторов, раскрываемые здесь, являются применимыми в производстве устройств отображения (дисплеев). В некоторых вариантах воплощения дисплей содержит матрицу интерферометрических модуляторов, сформированных на подложке, тем самым давая устройство, которое является относительно тонким по сравнению с его длиной и/или шириной. Некоторые варианты воплощения таких конструкций восприимчивы к отклонению или деформации усилием, имеющим составляющую, нормальную к поверхности этого устройства. Некоторые варианты воплощения таких конструкций являются восприимчивыми к деформации при скручивании. Специалистам в данной области должно быть понятно, что при прочих равных условиях отклонение или деформация будут увеличиваться с увеличением длины и/или ширины этого устройства.MEMS devices based on interferometric modulators disclosed herein are applicable in the manufacture of display devices (displays). In some embodiments, the display comprises an array of interferometric modulators formed on the substrate, thereby providing a device that is relatively thin compared to its length and / or width. Some embodiments of such structures are susceptible to deflection or deformation by a force having a component normal to the surface of this device. Some embodiments of such structures are susceptible to torsional deformation. Specialists in this field should be clear that, ceteris paribus, the deviation or deformation will increase with increasing length and / or width of this device.
Усилия, которые имеют вероятность вызвать такие отклонения и/или деформации, не являются необычными в портативных электронных устройствах. Такие усилия возникают, например, в вариантах применения, связанных с сенсорным экраном, или в интерфейсах, основанных на использовании пера. Более того, для пользователей является обычным касаться или нажимать на поверхность дисплея, например, при указании какого-либо изображения на дисплее компьютера. Непреднамеренный контакт с дисплеем также происходит, например, на дисплее мобильного телефона в кармане или кошельке пользователя.Efforts that are likely to cause such deviations and / or deformations are not unusual in portable electronic devices. Such efforts arise, for example, in applications related to the touch screen, or in interfaces based on the use of a pen. Moreover, it is common for users to touch or press on the surface of a display, for example, when specifying any image on a computer display. Inadvertent contact with the display also occurs, for example, on the display of a mobile phone in a user's pocket or wallet.
Последующее подробное описание направлено на определенные конкретные варианты воплощения этого изобретения. Однако настоящее изобретение может быть воплощено множеством различных способов. В этом описании делается ссылка на чертежи, причем сходные части всюду обозначаются с помощью сходных ссылочных позиций. Как будет видно из последующего описания, это изобретение может быть реализовано в любом устройстве, которое выполнено с возможностью отображения изображения, в движении ли (например, видео), или в статике (например, неподвижное изображение, фотография), будь то текст или картинка. Более конкретно, предполагается, что это изобретение может быть реализовано в или связано с самыми разнообразными электронными устройствами, такими как, но не ограничиваясь этими, мобильные телефоны, беспроводные устройства (радиоустройства), персональные цифровые секретари (ПЦС или PDA), ручные или портативные компьютеры, приемники/навигаторы Глобальной системы позиционирования (ГСП или GPS), съемочные камеры, MP3-плееры, видеокамеры, игровые консоли (пульты), наручные часы, настенные или напольные часы, будильники, калькуляторы, телевизионные мониторы, дисплеи с плоским экраном, компьютерные мониторы, автомобильные дисплеи (например, дисплей одометра (т.е. счетчика пройденного пути) и т.д.), органы управления и/или дисплеи кабин пилотов, дисплей съемочной камеры (например, дисплей камеры заднего вида в транспортном средстве), электронные фотоаппараты, электронные доски объявлений, рекламные щиты или вывески, дорожные знаки, проекторы, архитектурные конструкции, средства монтажа в корпус и эстетические конструкции (например, дисплеи для отображения изображений на ювелирных изделиях). МЭМС-устройства с конструкцией, аналогичной описываемым здесь, также могут быть использованы в приложениях, не использующих дисплеи, таких как, например, в электронных коммутирующих устройствах.The following detailed description is directed to certain specific embodiments of this invention. However, the present invention can be embodied in many different ways. In this description, reference is made to the drawings, wherein like parts are denoted everywhere by like reference numerals. As will be seen from the following description, this invention can be implemented in any device that is capable of displaying an image whether in motion (e.g., video), or in static (e.g., still image, photograph), whether it is text or a picture. More specifically, it is contemplated that this invention may be practiced in or associated with a wide variety of electronic devices, such as, but not limited to, mobile phones, wireless devices (radio devices), personal digital assistants (PDAs or PDAs), handheld or laptop computers , receivers / navigators of the Global Positioning System (GPS or GPS), filming cameras, MP3 players, video cameras, game consoles (consoles), watches, wall or floor clocks, alarm clocks, calculators, television e monitors, flat-screen displays, computer monitors, car displays (e.g., odometer display (i.e. trip meter), etc.), cockpit controls and / or displays, camera display (e.g. display rear view cameras in a vehicle), electronic cameras, electronic bulletin boards, billboards or signs, road signs, projectors, architectural structures, mounting means in a case and aesthetic structures (for example, displays for displaying images on jewelry spruce). MEMS devices with a design similar to those described here can also be used in applications that do not use displays, such as, for example, in electronic switching devices.
Один вариант воплощения дисплея на основе интерферометрических модуляторов, содержащего интерферометрический МЭМС-элемент дисплея, показан на Фиг.1. В этих устройствах пиксели находятся либо в ярком, либо в темном состоянии. В ярком («включенном» или «открытом») состоянии элемент дисплея отражает большую часть падающего видимого света к пользователю. Находясь в темном («выключенном» или «закрытом») состоянии, элемент дисплея отражает мало падающего видимого света к пользователю. В зависимости от варианта воплощения свойства отражения света «включенного» и «выключенного» состояний могут меняться на противоположные. МЭМС-пиксели могут быть выполнены с возможностью отражения преимущественно на выбранных цветах, делая возможным создание цветного дисплея в дополнение к черно-белому.One embodiment of a display based on interferometric modulators comprising an interferometric MEMS display element is shown in FIG. In these devices, the pixels are either in bright or dark state. In a bright (“on” or “open”) state, the display element reflects most of the incident visible light to the user. Being in a dark (“off” or “closed”) state, the display element reflects little incident light visible to the user. Depending on the embodiment, the light reflection properties of the “on” and “off” states can be reversed. MEMS pixels can be configured to reflect primarily on selected colors, making it possible to create a color display in addition to black and white.
Фиг.1 представляет собой изометрическую проекцию, изображающую два соседних пикселя в ряду пикселей визуального дисплея, причем каждый пиксель содержит интерферометрический МЭМС-модулятор. В некоторых вариантах воплощения дисплей на основе интерферометрических модуляторов содержит матрицу-строк/столбцов из этих интерферометрических модуляторов. Каждый интерферометрический модулятор включает в себя пару отражающих слоев, располагающихся на изменяемом и управляемом расстоянии друг от друга с образованием резонансной оптической полости с по меньшей мере одним изменяемым линейным размером. В одном варианте воплощения один из отражающих слоев может перемещаться между двумя положениями. В первом положении, указываемом здесь как неактивизированное состояние, подвижный слой располагается на относительно большом расстоянии от зафиксированного (неподвижного) частично отражающего слоя. Во втором положении подвижный слой располагается более близко к частично отражающему слою. Падающий свет, который отражается от этих двух слоев, интерферирует конструктивно или деструктивно в зависимости от положения подвижного отражающего слоя, давая либо полностью отражающее или неотражающее состояние для каждого пикселя.Figure 1 is an isometric view depicting two adjacent pixels in a row of pixels of a visual display, each pixel containing an interferometric MEMS modulator. In some embodiments, the interferometric modulator display comprises a row / column matrix of these interferometric modulators. Each interferometric modulator includes a pair of reflective layers located at a variable and controlled distance from each other with the formation of a resonant optical cavity with at least one variable linear size. In one embodiment, one of the reflective layers can move between two positions. In the first position, indicated here as an inactive state, the movable layer is located at a relatively large distance from the fixed (fixed) partially reflective layer. In the second position, the movable layer is located closer to the partially reflective layer. The incident light that is reflected from these two layers interferes constructively or destructively depending on the position of the moving reflective layer, giving either a fully reflective or non-reflective state for each pixel.
Изображенная часть матрицы пикселей на Фиг.1 включает в себя два соседних интерферометрических модулятора 12a и 12b. В интерферометрическом модуляторе 12a с левой стороны подвижный и сильно отражающий слой 14a показан в неактивизированном положении на заданном расстоянии от зафиксированного частично отражающего слоя 16a. В интерферометрическом модуляторе 12b с правой стороны подвижный сильно отражающий слой 14b показан в активизированном положении рядом с зафиксированным частично отражающим слоем 16b.The illustrated pixel matrix portion of FIG. 1 includes two adjacent
Фиксированные слои 16a, 16b являются электрически проводящими, частично прозрачными и частично отражающими и могут быть изготовлены, например, посредством осаждения одного или более слоев, каждый из хрома и оксида индия-олова, на прозрачную подложку 20. Слои наносятся с рисунком в виде параллельных полос и могут формировать электроды строк в устройстве отображения, как дополнительно описывается ниже. Подвижные слои 14a, 14b могут быть сформированы в виде последовательности параллельных полос осажденного металлического слоя или слоев (ортогональных к электродам 16a, 16b строк), осажденного(ых) поверх столбиков 18 и промежуточного удаляемого материала, осажденного между столбиками 18. Когда удаляемый материал вытравливается, деформируемые металлические слои отделены от зафиксированных металлических слоев некоторым определенным воздушным зазором 19. Для деформируемых слоев может использоваться высоко проводящий и отражающий материал, такой как алюминий, и эти полосы могут формировать электроды столбцов в устройстве отображения.The
В отсутствие приложенного напряжения между слоями 14a, 16a остается полость 19, и деформируемый слой находится в механически ненапряженном («расслабленном») состоянии, как показано с помощью пикселя 12a на Фиг.1. Однако, когда к выбранным строке и столбцу прилагается разность потенциалов, конденсатор, образовавшийся на пересечении электродов строки и столбца в соответствующем пикселе, становится заряженным, и электростатические силы стягивают электроды вместе. Если напряжение является достаточно высоким, подвижный слой деформируется и принудительно придвигается к зафиксированному слою (на зафиксированный слой может быть осажден диэлектрический материал, который на этой фигуре не показан, чтобы предотвращать замыкание и управлять отделяющим их расстоянием), как показано с помощью пикселя 12b с правой стороны на Фиг.1. Поведение является одним и тем же независимо от полярности прилагаемой разности потенциалов. Таким образом, активация строк/столбцов, которая может управлять отражающим и неотражающим состояниями пикселя, во многих отношениях является аналогичной активации, используемой в стандартных жидкокристаллических дисплеев (ЖКД или LCD) и дисплеев на основе других технологий.In the absence of an applied voltage, a
На фигурах с Фиг.2 по Фиг.5B показан один примерный процесс и система для использования матрицы интерферометрических модуляторов в применении к дисплею. Фиг.2 представляет собой блок-схему системы, показывающую один вариант воплощения электронного устройства, которое может включать в себя аспекты этого изобретения. В примерном варианте воплощения электронное устройство включает в себя процессор 21, который может быть любым однокристальным или многокристальным микропроцессором общего назначения, таким как ARM, Pentium®, Pentium II®, Pentium III®, Pentium IV®, Pentium® Pro, 8051-ым, MIPS®, Power PC®, ALPHA®, или любым микропроцессором специального назначения, таким как процессор цифровых сигналов, микроконтроллер или матрица программируемых логических элементов. Как является стандартным в данной области техники, процессор 21 может быть выполнен с возможностью исполнения одного или более программных модулей. В дополнение к исполнению операционной системы, процессор может быть выполнен с возможностью исполнения одного или более программных приложений, включая Web-браузер, телефонное приложение, программу электронной почты или любое другое программное приложение.In the figures of FIG. 2 to FIG. 5B, one exemplary process and system for using an array of interferometric modulators as applied to a display is shown. FIG. 2 is a block diagram of a system showing one embodiment of an electronic device, which may include aspects of this invention. In an exemplary embodiment, the electronic device includes a
В одном варианте воплощения процессор 21 также выполнен с возможностью связывания с контроллером 22 матрицы. В одном варианте воплощения контроллер 22 матрицы включает в себя схему 24 возбуждения строк и схему 26 возбуждения столбцов, которые подают сигналы на матрицу 30 пикселей. Поперечное сечение матрицы, проиллюстрированной на Фиг.1, показано линиями 1-1 на Фиг.2. Для интерферометрических МЭМС-модуляторов протокол активации строк/столбцов может использовать преимущество наличия свойства гистерезиса у этих устройств, показанного на Фиг.3. Может требоваться, например, разность потенциалов в 10 вольт для того, чтобы заставить подвижный слой деформироваться из неактивизированного состояния в активизированное состояние. Однако, когда от этой величины напряжение уменьшается, подвижный слой сохраняет свое состояние по мере того, как напряжение падает назад ниже 10 вольт. В иллюстративном варианте воплощения по Фиг.3 подвижный слой не «освобождается» полностью до тех пор, пока напряжение не упадет ниже 2 вольт. Таким образом, имеется некоторый диапазон напряжения, примерно 3 до 7 В в примере, показанном на Фиг.3, где существует диапазон («окно») прилагаемого напряжения, внутри которого устройство является устойчивым либо в неактивизированном, либо в активизированном состоянии. Оно называется здесь как «окно гистерезиса» или «окно устойчивости». Для матрицы дисплея, имеющей характеристики гистерезиса согласно Фиг.3, протокол активации строк/столбцов может быть разработан так, что во время стробирования строки пиксели в стробируемой строке, которые должны активизироваться, подвергаются воздействию разности напряжения в примерно 10 вольт, а пиксели, которые должны остаться невозбужденными, подвергаются воздействию разности напряжения, близкой к нулю вольт. После строб-импульса пиксели подвергаются воздействию разности потенциалов устойчивого состояния в примерно 5 вольт, так что они остаются в том состоянии, в которое строковый строб-импульс их поместил. После записи каждый пиксель находится при разности потенциалов внутри «окна устойчивости», составляющего 3-7 вольт в этом примере. Этот признак делает конструкцию пикселей, показанную на Фиг.1, устойчивой при одних и тех же условиях прилагаемого напряжения либо в активизированном, либо в неактивизированном предварительно существующем состоянии. Так как каждый пиксель интерферометрического модулятора, в активизированном или неактивизированном состоянии, является, по существу, конденсатором, образованным зафиксированным и подвижным отражающими слоями, это устойчивое состояние может поддерживаться при напряжении внутри окна гистерезиса при почти полном отсутствии рассеяния энергии. Если прилагаемый потенциал является фиксированным, то в пиксель, по существу, не течет никакой ток.In one embodiment,
В обычных приложениях кадр дисплея может быть создан посредством назначения набора электродов столбцов в соответствии с желаемым набором активизированных пикселей в первой строке. Затем к электроду строки 1 прилагается строковый импульс, активизируя пиксели, соответствующие назначенным шинам столбцов. Назначенный набор электродов столбцов затем изменяется, чтобы соответствовать желаемому набору активизированных пикселей во второй строке. Затем импульс прилагается к электроду строки 2, активизируя соответствующие пиксели в строке 2 в соответствии с назначенными электродами столбцов. Пиксели строки 1 импульсом строки 2 не затрагиваются, и остаются в том состоянии, в которое они были установлены в течение импульса строки 1. Это может повторяться для всей последовательности строк последовательным образом с тем, чтобы произвести кадр. В общем, кадры обновляются и/или корректируются новыми отображаемыми данными путем непрерывного повторения этого процесса при некотором желаемом количестве кадров в секунду. Широкое многообразие протоколов для управления электродами строк и столбцов матриц пикселей для воспроизведения кадров изображения в дисплее также хорошо известно и может быть использовано в сочетании с настоящим изобретением.In conventional applications, a display frame can be created by assigning a set of column electrodes in accordance with the desired set of activated pixels in the first row. Then, a line pulse is applied to the
Фиг.4, Фиг.5A и Фиг.5B показывают один возможный протокол активации для создания кадра изображения в дисплее на основе матрицы 3×3 по Фиг.2. Фиг.4 показывает возможный набор уровней напряжения столбцов и строк, которые могут использоваться для пикселей, демонстрирующих гистерезисные кривые по Фиг.3. В варианте воплощения по Фиг.4 активизация пикселя включает в себя установку соответствующего столбца на -Vсмещения и соответствующей строки на +∆V, что может соответствовать -5 вольтам и +5 вольтам соответственно. Снятие возбуждения пикселя выполняется посредством установки соответствующего столбца на FIG. 4, FIG. 5A and FIG. 5B show one possible activation protocol for creating an image frame in a display based on the 3 × 3 matrix of FIG. 2. Figure 4 shows a possible set of voltage levels of columns and rows that can be used for pixels showing hysteresis curves of Figure 3. In the embodiment of FIG. 4, activating a pixel includes setting the corresponding column to -V offsets and the corresponding row to + ∆V, which may correspond to -5 volts and +5 volts, respectively. Pixel excitation is performed by setting the corresponding column to
+Vсмещения и соответствующей строки на то же +∆V, производя разность потенциалов на пикселе в ноль вольт. В тех строках, где напряжение строки поддерживается на нуле вольт, пиксели являются устойчивыми в том состоянии, в котором они были исходно, независимо от того, находится ли столбец при +Vсмещения или -Vсмещения.+ V bias and the corresponding row by the same + ∆V, producing a potential difference per pixel of zero volts. In those rows where the voltage of the string is maintained at zero volts, the pixels are stable in the state in which they were originally, regardless of whether the column is at + V bias or -V bias .
Фиг.5B представляет собой временную диаграмму, показывающую последовательность сигналов строк и столбцов, прилагаемых к матрице 3×3 по Фиг.2, которые дают в результате конфигурацию дисплея, показанную на Фиг.5A, где активизированные пиксели являются неотражающими. До записи кадра, показанного на Фиг.5A, пиксели могут быть в любом состоянии, и в этом примере все строки находятся при 0 вольт, а все столбцы находятся при +5 вольт. При этих прилагаемых напряжениях все пиксели являются устойчивыми в их существующих активизированных или неактивизированных состояниях.FIG. 5B is a timing chart showing a sequence of row and column signals applied to the 3 × 3 matrix of FIG. 2, which result in the display configuration shown in FIG. 5A, where the activated pixels are non-reflective. Before recording the frame shown in FIG. 5A, the pixels can be in any state, and in this example, all rows are at 0 volts, and all columns are at +5 volts. With these applied voltages, all pixels are stable in their existing activated or non-activated states.
В кадре по Фиг.5A пиксели (1,1), (1,2), (2,2), (3,2) и (3,3) являются активизированными. Чтобы достичь этого, в течение «времени включения шины» для строки 1 столбцы 1 и 2 устанавливаются на -5 вольт, а столбец 3 устанавливается на +5 вольт. Это не изменяет состояние каких-либо пикселей, так как все пиксели остаются в 3-7-вольтном окне устойчивости. Строка 1 затем стробируется посредством импульса, который идет от 0 вверх к 5 вольт и назад к нулю. Это активизирует пиксели (1,1) и (1,2) и снимает возбуждение с пикселя (1,3). Никакие другие пиксели в матрице не затрагиваются. Чтобы задать желательным образом строку 2, столбец 2 устанавливается на -5 вольт, а столбцы 1 и 3 устанавливаются на +5 вольт. Тот же строб-импульс, прилагаемый к строке 2, затем активизирует пиксель (2,2) и снимает возбуждение с пикселей (2,1) и (2,3). Опять, никакие другие пиксели матрицы не затрагиваются. Строка 3 задается аналогично посредством установки столбцов 2 и 3 на -5 вольт и столбца 1 - на +5 вольт. Строб строки 3 устанавливает пиксели строки 3, как показано на Фиг.5A. После записи кадра потенциалы строк равны нулю, а потенциалы столбцов могут оставаться либо на +5, либо на -5 вольтах, и тогда дисплей является устойчивым в конфигурации по Фиг.5A. Следует принять во внимание, что та же процедура может применяться для матриц из десятков или сотен строк и столбцов. Следует также принять во внимание, что синхронизация, последовательность и уровни напряжений, используемые для выполнения активации строк и столбцов, могут широко варьироваться в рамках общих принципов, очерченных выше, и вышеописанный пример является только иллюстративным, и с настоящим изобретением может использоваться любой способ активации, основанный на напряжении.In the frame of FIG. 5A, pixels (1,1), (1,2), (2,2), (3,2), and (3,3) are activated. To achieve this, during “bus turn-on time” for
Подробности конструкции интерферометрических модуляторов, которые работают в соответствии с принципами, изложенными выше, могут широко варьироваться. Например, Фиг.6A-Фиг.6C показывают три различных варианта воплощения конструкции подвижных зеркал. Фиг.6A представляет собой поперечное сечение варианта воплощения по Фиг.1, где полоса металлического материала 14 осаждена на ортогонально простирающиеся опоры 18. На Фиг.6B подвижный отражающий материал 14 прикреплен к опорам только в углах, на привязях 32. На Фиг.6C подвижный отражающий материал 14 свешивается с деформируемого слоя 34. Этот вариант воплощения имеет преимущества, так как конструктивная компоновка и материалы, используемые для отражающего материала 14, могут быть оптимизированы по оптическим свойствам, а конструктивная компоновка и материалы, используемые для деформируемого слоя 34, могут быть оптимизированы по желаемым механическим свойствам. Производство различных типов интерферометрических устройств описывается в многообразных опубликованных документах, включая, например, опубликованную заявку на патент США 2004/0051929. Для производства вышеописанных конструкций может использоваться широкое многообразие хорошо известных технологий, включая последовательность из этапов осаждения материала, шаблонирования и травления.The design details of interferometric modulators that operate in accordance with the principles set forth above can vary widely. For example, FIGS. 6A-6C show three different embodiments of the design of movable mirrors. Fig. 6A is a cross-sectional view of the embodiment of Fig. 1, where the strip of
Фиг.7A и Фиг.7B показывают изображение с пространственным разделением деталей и поперечное сечение одного варианта воплощения смонтированного в корпусе электронного устройства 700, содержащего подложку 710, матрицу 720 интерферометрических модуляторов 722, одну или более прокладок 730, уплотнение 740 и объединительную пластину 750. Как лучше всего видно на Фиг.7B, устройство 700 имеет первую сторону 702 и вторую сторону 704. Подложка 710 имеет первую поверхность 712 и вторую поверхность 714. На второй поверхности 714 подложки сформирована матрица 720 интерферометрических модуляторов. В показанном варианте воплощения объединительная пластина 750 прикреплена к подложке 710 с помощью уплотнения 740. Между матрицей 720 и объединительной пластиной 750 размещаются одна или более прокладок 730. Также в этом описании на Фиг.7A показаны оси x, y и z, и на Фиг.7B оси y и z.FIGS. 7A and 7B show an exploded view and cross-section of one embodiment of an
Подложка 710 и интерферометрические модуляторы 722 описаны более детально выше. Кратко, подложка 710 является любой подложкой, на которой может быть сформирован интерферометрический модулятор 722. В некоторых вариантах воплощения устройство 700 отображает изображение, видимое с первой стороны 702, и, соответственно, подложка 710 является, по существу, прозрачной и/или полупрозрачной. Например, в некоторых вариантах воплощения подложка выполнена из стекла, диоксида кремния (кварца) и/или оксида алюминия. В других вариантах воплощения подложка 710, по существу, не является прозрачной и/или полупрозрачной, например, в устройстве 700, которое отображает изображение, видимое со второй стороны 704, или в устройстве 700, которое не отображает видимого изображения. В некоторых вариантах воплощения первая поверхность 712 подложки дополнительно содержит одну или более дополнительных структур, например, одну или более структурных, защитных и/или оптических пленок.
Интерферометрические модуляторы 722 относятся к любому типу. В некоторых вариантах воплощения интерферометрический модулятор 722 содержит механический слой 724, отдаленный от подложки 710 и расположенный близко к объединительной пластине 750. Как обсуждается более детально ниже, в некоторых вариантах воплощения механический слой 724 является восприимчивым к физическому повреждению.
В показанных вариантах воплощения уплотнение 740 прикрепляет объединительную пластину 750 к подложке 710. Для обозначения уплотнения 740 здесь также используется термин «проходящая по периметру опора». В варианте воплощения, показанном на Фиг.7B, уплотнение 740 также служит для того, чтобы поддерживать заданное расстояние между объединительной пластиной 750 и подложкой 710. В варианте воплощения, показанном на Фиг.7C, уплотнение 740' не имеет дистанцирующей функции. В некоторых вариантах воплощения уплотнение не дает или не выделяет в виде газа какого-либо летучего соединения, например углеводородов, кислот, аминов и тому подобного. В некоторых вариантах воплощения уплотнение является частично или, по существу, полностью непроницаемым для воды в жидком состоянии и/или водяного пара. В некоторых вариантах воплощения уплотнение является частично или, по существу, полностью непроницаемым для воздуха и/или других газов. В некоторых вариантах воплощения уплотнение является жестким. В других вариантах воплощения уплотнение является эластичным или упругим. В других вариантах воплощения уплотнение содержит как жесткие, так и эластичные или упругие детали. В некоторых вариантах воплощения уплотнение содержит один или более клеев, совместимых с подложкой и/или объединительной пластиной. Клей или клеи относятся к любому подходящему типу, известному в данной области техники. В некоторых вариантах воплощения один или более клеев являются чувствительными к давлению. В некоторых вариантах воплощения один или более клеев являются термически отверждаемыми. В некоторых вариантах воплощения один или более клеев являются отверждаемыми ультрафиолетовым (УФ) излучением. В некоторых вариантах воплощения уплотнение термически соединено с подложкой и/или объединительной пластиной. В некоторых вариантах воплощения уплотнение прикреплено к подложке и/или объединительной пластине механически. В некоторых вариантах воплощения используется комбинация способов прикрепления уплотнения к подложке и/или объединительной пластине. В некоторых вариантах воплощения уплотнения нет, например там, где подложка напрямую прикрепляется к объединительной пластине, например, с помощью термической сварки.In the shown embodiments, the
Уплотнение содержит любой подходящий материал например, металлы, сталь, нержавеющую сталь, латунь, титан, магний, алюминий, медь, олово, свинец, цинк, припой, полимерные смолы, эпоксидные смолы, полиамиды, полиалкены, сложные полиэфиры, полисульфоны, полистирол, полиуретаны, полиакрилаты, цианакрилаты, акриловые эпоксидные смолы, силиконы, резины, полиизобутилен, неопрен, полиизопрен, сополимер бутадиена и стирола, парилен, отверждаемые УФ-излучением клеи, керамики, стекло, диоксид кремния (кварц), оксид алюминия и их смеси, сополимеры, сплавы и/или композиты. В некоторых вариантах воплощения уплотнение дополнительно содержит армирование, например, волокна, сетку и/или полотно, например, стекло, металл, углерод, бор, углеродные нанотрубки и подобное. В некоторых вариантах воплощения выбранный материал уплотнения является частично или, по существу, полностью водонепроницаемым. Соответственно, в некоторых вариантах воплощения уплотнение является полугерметичным или герметичным уплотнением. В некоторых вариантах воплощения уплотнение имеет толщину менее примерно 50 мкм, например, от примерно 10 мкм до примерно 30 мкм. В некоторых вариантах воплощения уплотнение имеет ширину от примерно 0,5 мм до примерно 5 мм, например, от примерно 1 мм до примерно 2 мм.The seal contains any suitable material such as metals, steel, stainless steel, brass, titanium, magnesium, aluminum, copper, tin, lead, zinc, solder, polymer resins, epoxies, polyamides, polyalkenes, polyesters, polysulfones, polystyrene, polyurethanes , polyacrylates, cyanoacrylates, acrylic epoxies, silicones, rubbers, polyisobutylene, neoprene, polyisoprene, butadiene-styrene copolymer, parylene, UV curable adhesives, ceramics, glass, silicon dioxide (quartz), alumina and mixtures thereof, copolymers, alloys and / or composites. In some embodiments, the seal further comprises reinforcing, for example, fibers, a mesh and / or web, for example, glass, metal, carbon, boron, carbon nanotubes, and the like. In some embodiments, the selected seal material is partially or substantially completely waterproof. Accordingly, in some embodiments, the seal is a semi-hermetic or hermetic seal. In some embodiments, the seal has a thickness of less than about 50 microns, for example, from about 10 microns to about 30 microns. In some embodiments, the seal has a width of from about 0.5 mm to about 5 mm, for example, from about 1 mm to about 2 mm.
Возвращаясь к Фиг.7A и Фиг.7B, ниже описывается вариант воплощения способа изготовления показанного уплотнения 740 с использованием отверждаемой УФ-излучением эпоксидной смолы. Эпоксидную смолу наносят на объединительную пластину 750 и/или подложку 710 с использованием средств, известных в данной области техники, например посредством печати. Тип и количество эпоксидной смолы выбирают заранее для обеспечения уплотнения 740 с желаемой шириной, толщиной и свойствами влагопроницаемости. Объединительную пластину 750 и подложку 710 сводят вместе, и отверждают эпоксидную смолу посредством облучения с помощью подходящего источника УФ-излучения. Обычная эпоксидная смола отверждается при использовании мощности УФ-излучения в примерно 6000 мДж/см2. Некоторые варианты воплощения также включают в себя прокаливание после отверждения при температуре примерно 80°C.Returning to FIG. 7A and FIG. 7B, an embodiment of a method for manufacturing the shown
Объединительная пластина 750 также называется здесь «крышкой» или «объединительной платой». Эти термины не предназначены ограничивать положение объединительной пластины 750 внутри устройства 700 или ориентацию самого устройства 700. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 защищает матрицу 720 от повреждения. Как обсуждалось выше, некоторые варианты воплощения интерферометрического модулятора 722 имеют потенциальную возможность быть поврежденными в результате физических воздействий. Следовательно, в некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 защищает матрицу 720 от контакта с инородными объектами и/или другими деталями в аппарате, содержащем матрицу 720, например. Более того, в некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 защищает матрицу 720 от других воздействий окружающей среды, например влажности, влаги, пыли, изменений в давлении окружающей атмосферы и тому подобного.The
В тех вариантах воплощения, в которых устройство 700 отображает изображение, видимое со второй стороны 704, объединительная пластина 750 является, по существу, прозрачной и/или полупрозрачной. В других вариантах воплощения объединительная пластина 750 является, по существу, непрозрачной и/или полупрозрачной. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 выполнена из материала, который не дает или не выделяет в виде газа какого-либо летучего соединения, например углеводородов, кислот, аминов и тому подобного. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 является, по существу, непроницаемой для воды в жидком состоянии и/или водяного пара. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 является, по существу, непроницаемой для воздуха и/или других газов. Подходящие материалы для объединительной пластины 750 включают в себя, например, металлы, сталь, нержавеющую сталь, латунь, титан, магний, алюминий, полимерные смолы, эпоксидные смолы, полиамиды, полиалкены, сложные полиэфиры, полисульфоны, полистирол, полиуретаны, полиакрилаты, парилен, керамики, стекло, диоксид кремния (кварц), оксид алюминия, а также их смеси, сополимеры, сплавы, композиты и/или комбинации. Примеры подходящих композиционных материалов включают в себя композитные пленки, доступные для приобретения от компании Vitex Systems (г. Сан-Хосе (San Jose), шт. Калифорния, США). В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 дополнительно содержит армирование, например, волокна и/или полотно, например, стекло, металл, углерод, бор, углеродные нанотрубки и тому подобное.In those embodiments in which the
В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 является, по существу, жесткой (несгибаемой). В других вариантах воплощения объединительная пластина 750 является гибкой, например, имеет вид фольги или пленки. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 деформируется в заданную конфигурацию до и/или во время сборки смонтированной в корпусе структуры 700. Как будет обсуждаться более детально ниже, в некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 является элементом в системе, предназначенным для предотвращения повреждения матрицы 710.In some embodiments, the
Объединительная пластина 750 имеет внутреннюю поверхность 752 и внешнюю поверхность 753. В некоторых вариантах воплощения внутренняя поверхность и/или внешняя поверхность объединительной пластины дополнительно содержат одну или более дополнительных структур, например структурную, защитную, механическую и/или оптическую пленку или пленки.The
В варианте воплощения, показанном на Фиг.7B, объединительная пластина 750 является, по существу, плоской. Фиг.7C показывает вариант воплощения устройства 700', в котором внутренняя поверхность 752' объединительной пластины является утопленной, тем самым формируя фланец 754' по периметру объединительной пластины 750'. Объединительная пластина с этой конфигурацией называется здесь «утопленной крышкой».In the embodiment shown in FIG. 7B, the
Фиг.7D показывает в поперечном сечении вариант воплощения смонтированного в корпусе устройства 700", содержащего изогнутую или прогнутую объединительную пластину 750". В показанном варианте воплощения прокладки 730" размещены рядом c периферией матрицы 720", которая находится относительно ближе к объединительной пластине 750", и, следовательно, с большей вероятностью будут контактировать с объединительной пластиной 750" и выдерживать повреждение. Другие варианты воплощения содержат другую конфигурацию одной или более прокладок. Прокладки обсуждаются более детально ниже. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750" заранее формуется в изогнутую конфигурацию. В других вариантах воплощения изогнутая форма объединительной пластины 750" формируется с помощью изгибания или деформирования, по существу, плоского исходного материала во время сборки монтируемого в корпус устройства 700". Например, в некоторых вариантах воплощения на подложке 710" формируют матрицу 720" интерферометрических модуляторов, как описано выше. Материал уплотнения, например отверждаемую УФ-излучением эпоксидную смолу, наносят на периферию, по существу, плоской объединительной пластины 750", которая является более широкой и/или более длинной, чем подложка 710". Объединительную пластину 750" деформируют, например с помощью сжатия, до желаемого размера и размещают на подложке 710". Эпоксидную смолу отверждают, например, с использованием УФ-излучения для формирования уплотнения 740".Fig. 7D shows in cross section an embodiment of a
Другие варианты воплощения объединительной пластины показаны на Фиг.8A-Фиг.8C. Фиг.8A показывает утопленную крышку 850, в которой внутренняя поверхность 852 является вогнутой. В показанном варианте воплощения внутренняя поверхность 852 и внешняя поверхность 853 не параллельны. Следовательно, утопленная крышка 850 является более тонкой в центре 858, чем по краю 859. Специалисты в данной области должны понимать, что возможны другие варианты ее выполнения. Показанный вариант воплощения содержит периферийный фланец 854, который задает минимальное расстояние между подложкой и внутренней поверхностью 852 объединительной пластины в виде утопленной крышки. В некоторых вариантах воплощения периферийный фланец 854 образует, по существу, непрерывную структуру вокруг периферии утопленной крышки 850. В других вариантах воплощения периферийный фланец 854 не является непрерывным. Другие варианты воплощения не содержат периферийного фланца. На Фиг.8B объединительная пластина 850 содержит усиливающие ребра 856 на своей внешней поверхности 853. В других вариантах воплощения усиливающие ребра находятся на внутренней поверхности 852 или на обеих поверхностях объединительной пластины. В некоторых вариантах воплощения усиливающая структура имеет другую форму, например решетки или сот. Некоторые варианты воплощения содержат комбинацию этих признаков. Например, Фиг.8C показывает вариант воплощения утопленной крышки 850 с вогнутой внутренней поверхностью 852 и усиливающими ребрами 856 на внешней поверхности 853. Некоторые варианты воплощения раскрытых объединительных пластин демонстрируют улучшенные свойства, например прочность, массу, стоимость, жесткость, прозрачность, легкость производства и тому подобное.Other embodiments of the backplane are shown in FIGS. 8A-8C. 8A shows a recessed
Фиг.8D и Фиг.8E показывают в поперечном сечении объединительные пластины, содержащие одну или более полостей, выполненных с возможностью содержания влагопоглотителя. Фиг.8D показывает вариант воплощения объединительной пластины 850, содержащей полость 857, сформированную на внутренней поверхности 852 объединительной пластины, т.е. между объединительной пластиной и матрицей. Влагопоглотитель 855 размещается в полости 857. Фиг.8E показывает вариант воплощения объединительной пластины 850 в виде утопленной крышки, содержащей две полости 857, в которых размещается влагопоглотитель 855. В вариантах воплощения, показанных на Фиг.8D и Фиг.8E, влагопоглотитель 855, по существу, не выступает за пределы внутренней поверхности 852 объединительной пластины. Соответственно, те же прокладки, обсуждаемые ниже, могут использоваться где угодно между матрицей и объединительной пластиной. Линейные размеры полостей 857 выбираются в соответствии с факторами, известными в данной области техники, например, свойствами влагопоглотителя, количеством влагопоглотителя, которое должно использоваться, количеством влаги, которая должна поглощаться, объемом устройства, механическими свойствами объединительной пластины и тому подобным. Подходящие влагопоглотители и способы прикрепления влагопоглотителя к объединительной пластине обсуждаются ниже. Специалистам в данной области должно быть понятно, что в других вариантах воплощения полости 857 имеют другую конфигурацию, например, длину, ширину, толщину и/или форму. Полости 857 изготовляют посредством любого способа, известного в данной области техники, например травления, чеканки (тиснения), штамповки, гравировки, механической обработки, шлифования, фрезерования, пескоструйной обработки, формования под давлением, усадки и тому подобного. В некоторых вариантах воплощения углубления создают посредством выполнения неутопленных частей объединительной пластины 859, например, с использованием клея, сварки, плавки, спекания и тому подобного. Например, в некоторых вариантах воплощения суспензию стекла разбрызгивают на или формуют на объединительной пластине, и эту суспензию плавят или спекают для формирования полости. Специалисты в данной области должны понимать, что комбинации этих способов также подходят для изготовления объединительных пластин с любыми из здесь описываемых признаков, например объединительных пластин, показанных на Фиг.7A-Фиг.7D и Фиг.8A-Фиг.8E.Fig.8D and Fig.8E show in cross section of the back plate containing one or more cavities configured to contain a desiccant. Fig. 8D shows an embodiment of a
Обращаясь снова к Фиг.7B, уплотнение 740 простирается между подложкой 710 и объединительной пластиной 750. В некоторых вариантах воплощения подложка 710, объединительная пластина 750 и уплотнение 740 вместе, по существу, полностью окружают (т.е. заключают в оболочку или корпус) матрицу 720. В некоторых вариантах воплощения образованный ими корпус 706 является, по существу, непроницаемым для воды в жидком состоянии, водяного пара и/или частиц, например, грязи или пыли. В некоторых вариантах воплощения корпус 706 является, по существу, герметично и/или полугерметично уплотненным.Referring again to FIG. 7B, a
В некоторых вариантах воплощения внутренняя поверхность 752 объединительной пластины контактирует с матрицей 720. В некоторых вариантах воплощения внутренняя поверхность 752 не контактирует с матрицей 720. В некоторых вариантах воплощения зазор или свободное пространство между внутренней поверхностью 752 объединительной пластины и матрицей 720 составляет, по меньшей мере, примерно 10 мкм. В некоторых предпочтительных вариантах воплощения зазор составляет от примерно 30 мкм до примерно 100 мкм, например, примерно 40 мкм, 50 мкм, 60 мкм, 70 мкм, 80 мкм или 90 мкм. В некоторых вариантах воплощения зазор составляет более 100 мкм, например, 0,5 мм, 1 мм или более. В некоторых вариантах воплощения зазор или свободное пространство между внутренней поверхностью 752 объединительной пластины и матрицей 720 не является постоянным.In some embodiments, the
Фиг.9 показывает вариант воплощения смонтированного в корпусе устройства 900, содержащего первую подложку 910a, на которой сформирована первая матрица 920a интерферометрических модуляторов 922a, и вторую подложку 910b, на которой сформирована вторая матрица 920b интерферометрических модуляторов 922b. Устройство с этой конфигурацией также называют здесь «устройством c двойной матрицей». Такое устройство может рассматриваться как устройство, в котором объединительная пластина заменена на вторую матрицу интерферометрических модуляторов. Соответственно, смонтированное в корпусе устройство 900 способно одновременно отображать первое изображение на первой матрице 920a и второе изображение - на второй матрице 920b. Смонтированное в корпусе устройство 900 также содержит уплотнение 940, как описано выше. Между первой матрицей 920a и второй матрицей 920b размещены одна или более прокладок 930 любого подходящего типа, раскрываемого здесь.Fig. 9 shows an embodiment of a housing-mounted
Вариант воплощения 1000, показанный на Фиг.10, содержит матрицу 1020 интерферометрических модуляторов, сформированных на подложке 1010. Объединительная пластина 1050 в виде утопленной крышки и уплотнение 1040 вместе с подложкой 1010 формируют полость или замкнутое пространство 1006, в котором размещаются одна или более прокладок 1030. В показанном варианте воплощения объединительная пластина 1050 содержит одну или более отдельных блоков влагопоглотителя 1055. Влагопоглотитель поддерживает уменьшенную влажность внутри замкнутого пространства 1006. В некоторых вариантах воплощения упаковка с влагопоглотителем 1055 прикрепляется к внутренней поверхности 1052 объединительной пластины, например, с использованием клея, термически и/или механически. Подходящие упаковки, в которых влагопоглотитель содержится подходящим образом, известны в данной области техники, включая, например, контейнер с сеточной поверхностью, перфорированный контейнер, мешочек, выполненный из проницаемого полотна или переплетного материала, и тому подобное. В других вариантах воплощения упаковка является листом из подходящего материала, прикрепленного к объединительной пластине, например, с использованием чувствительного к давлению клея. В некоторых вариантах воплощения упаковка является непылеобразующей, т.е. устойчивой к выделению пыли. В некоторых вариантах воплощения влагопоглотитель внедрен (заделан) в инертный носитель, например полимерную смолу, и эта сборка прикрепляется к внутренней поверхности 1052. В некоторых вариантах воплощения влагопоглотитель 1055 напрямую прикрепляется к внутренней поверхности 1052 объединительной пластины. В некоторых вариантах воплощения материал, из которого изготовлена объединительная пластина 1050, содержит влагопоглотитель. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина содержит слой нанесенного влагопоглотителя. Например, в некоторых вариантах воплощения на объединительную пластину 1050 наносят жидкий влагопоглотитель или влагопоглотитель, растворенный или находящийся во взвешенном состоянии в подходящей жидкости, и затем прокаливают его, тем самым формируя слой влагопоглотителя на объединительной пластине 1050. В других вариантах воплощения влагопоглотитель смешивают с неотвержденной полимерной смолой, и эту смесь наносят на объединительную пластину 1050 и отверждают.The
Влагопоглотитель представляет собой любой подходящий влагопоглотитель, известный в данной области техники, например оксиды металлов, оксид кальция, оксид бария, ангидрид борной кислоты, пентаоксид фосфора, сульфаты металлов, сульфат кальция, сульфат магния, сульфат натрия, металлы, натрий, сплав свинца/натрия, гидриды металлов, борогидрид натрия, гидрид натрия, гидрид лития-алюминия, силикагель, активированный оксид алюминия, цеолиты, молекулярные сита, фосфор, соли металлов, перхлорат магния, хлорид цинка, углеродные нанотрубки, а также их комбинации.A desiccant is any suitable desiccant known in the art, for example, metal oxides, calcium oxide, barium oxide, boric acid anhydride, phosphorus pentoxide, metal sulfates, calcium sulfate, magnesium sulfate, sodium sulfate, metals, sodium, lead / sodium alloy , metal hydrides, sodium borohydride, sodium hydride, lithium aluminum hydride, silica gel, activated alumina, zeolites, molecular sieves, phosphorus, metal salts, magnesium perchlorate, zinc chloride, carbon nanotubes, as well as x combinations.
Возвращаясь к Фиг.7A и Фиг.7B, как обсуждалось выше, в некоторых вариантах воплощения устройство 700 деформируется при приложении внешнего усилия. Специалисты в данной области должны понимать, что в некоторых вариантах воплощения деформация приведет в результате к относительному или различному перемещению матрицы 720 и объединительной пластины 750. В некоторых вариантах воплощения усилия, которые, вероятно, будут встречаться при нормальном использовании устройства 700, например, при производстве устройства 700, при установке устройства 700 в какой-либо аппарат или при нормальном применении устройства 700, являются недостаточными для того, чтобы вызвать контактирование матрицы 720 с объединительной пластиной 750. Как обсуждалось выше, некоторые детали интерферометрического модулятора 722, например механический слой 724, являются восприимчивыми к повреждению при физическом контакте. Следовательно, в этих вариантах воплощения объединительная пластина 750 вряд ли повредит матрицу 720 и/или интерферометрические модуляторы 722 в этой матрице при нормальном применении.Returning to FIG. 7A and FIG. 7B, as discussed above, in some embodiments,
В других вариантах воплощения усилия, которые, вероятно, будут встречаться при нормальном применении устройства 700, являются достаточными для того, чтобы вызвать контактирование матрицы 720 с объединительной пластиной 750, обычно - в центре или рядом с центром объединительной пластины 750 и матрицы 720. Например, специалистам в данной области должно быть понятно, что при всех других остающихся равными условиях, по мере того, как длина и/или ширина устройства 700 увеличиваются (вдоль осей x и/или y, как показано на Фиг.7A), относительное перемещение матрицы 720 и объединительной пластины 750 также будет увеличиваться. Длина и/или ширина устройства 700 будут увеличиваться, например, с увеличением размера и/или количества интерферометрических модуляторов 722 в матрице 720. В некоторый момент усилие, которое, вероятно, будет встречаться при нормальном применении устройства 700, вызовет относительное перемещение, которое заставит некоторую часть матрицы 720 контактировать с объединительной пластиной 750, тем самым потенциально повреждая один или более интерферометрических модуляторов 722 в данном устройстве. В некоторых вариантах воплощения увеличенной вероятности контакта между матрицей 720 и объединительной пластиной 750 противодействуют с помощью увеличения расстояния между матрицей 720 и объединительной пластиной 750. В некоторых вариантах воплощения увеличенной вероятности контакта между матрицей 720 и объединительной пластиной 750 противодействуют с помощью увеличения жесткости устройства 700, например, подложки 710, объединительной пластины 750 и/или уплотнения 740. Способы увеличения жесткости известны в данной области техники и включают в себя, например, увеличение жесткости какой-либо детали, модификацию линейных размеров какой-либо детали, изменение формы или профиля какой-либо детали, введение армирования и тому подобное.In other embodiments, the forces that are likely to occur with the normal use of
В некоторых вариантах воплощения увеличенной вероятности контакта между матрицей 720 и объединительной пластиной 750 противодействуют с помощью увеличения расстояния между матрицей 720 и внутренней поверхностью 752 объединительной пластины. В некоторых вариантах воплощения устройства используется объединительная пластина 850, как показано на Фиг.8A, внутренняя поверхность 852 которой является вогнутой, тем самым увеличивая расстояние между центром 858 объединительной пластины и матрицей 820. Обращаясь к Фиг.7B, увеличение расстояния между внутренней поверхностью объединительной пластины 752 и матрицей 720 имеет тенденцию увеличивать толщину устройства 700, особенно в том случае, если детали в устройстве также выполняются более толстыми, чтобы увеличить жесткость. В некоторых вариантах применения более толстое устройство 700 является нежелательным.In some embodiments, the increased likelihood of contact between the
Соответственно, некоторые варианты воплощения устройства 700 содержат одну или более прокладок 730, размещенных между матрицей 720 и объединительной пластиной 750. Прокладка(и) 730 выполнена(ы) с возможностью предотвращения и/или уменьшения контакта между матрицей 720 и объединительной пластиной 750, когда устройство 700 подвергается воздействию деформирующего усилия, тем самым предотвращая и/или уменьшая повреждение интерферометрических модуляторов 722. В некоторых вариантах воплощения объединительная пластина 750 содержит неровности или рельефные элементы, например, усиливающие ребра и/или упаковки влагопоглотителя, как описано выше. Прокладки 730 предотвращают контакт неровности или рельефного элемента с механическим слоем 724 матрицы, либо непосредственно (например, контакт рельефного элемента с прокладкой), либо опосредованно (например, некоторая другая часть объединительной пластины контактирует с прокладкой, предотвращая контакт рельефного элемента с механическим слоем 724). В некоторых из этих вариантов воплощения поверхность прокладки 720, ближайшая к матрице 720, является, по существу, гладкой. В некоторых вариантах воплощения прокладки 730 распределяют приложенное усилие, тем самым уменьшая вероятность того, что это усилие повредит какой-либо конкретный интерферометрический модулятор 722. Например, в некоторых вариантах воплощения прокладка 730 распределяет приложенное усилие на столбики 726 интерферометрических модуляторов, тем самым защищая механический слой 724. В некоторых вариантах воплощения прокладка 730 уменьшает или предотвращает повреждение, возникающее в результате относительного поперечного или касательного движения матрицы 720 и объединительной пластины 750, например, посредством скольжения и/или качения. Например, в некоторых из этих вариантов воплощения прокладка 730 содержит одну или более поверхностей с низким трением. В некоторых вариантах воплощения прокладка имеет круглое поперечное сечение, например, представляет собой сферу или стержень. Как обсуждается более детально ниже, в некоторых вариантах воплощения прокладка или прокладки 730 являются упругими, тем самым поглощающими и/или распределяющими приложенное усилие. Более того, даже если усилие было таким, что должно повредить некоторое множество интерферометрических модуляторов 722 в матрице 720, в некоторых вариантах воплощения повреждение, распределенное по матрице 720, является менее заметным для пользователя, чем повреждение, сконцентрированное в некоторой конкретной области матрицы 720. В других вариантах воплощения прокладка 730 спроектирована так, чтобы сконцентрировать повреждение на малом количестве интерферометрических модуляторов, например, посредством использования одной или более прокладок 730 некоторого конкретного размера и/или формы. Например, в некоторых вариантах воплощения матрица 720 содержит избыточные пиксели, так что выведение из строя какого-либо отдельного пикселя является незаметным для конечного пользователя. Соответственно, в этих вариантах воплощения прокладка 730 концентрирует повреждение на одиночном пикселе, нежели на группе близлежащих пикселей, которые были бы заметны конечному пользователю.Accordingly, some embodiments of the
Фиг.11A представляет собой вид сверху устройства 1100, показывающий относительное размещение прокладок и матрицы. Как обсуждалось выше, в некоторых вариантах воплощения прокладки контактируют с матрицей, в других вариантах воплощения прокладки контактируют с объединительной пластиной, и в других вариантах воплощения прокладки контактируют и с матрицей, и с объединительной пластиной. Устройство 1100 содержит множество прокладок 1130, расположенных по существу упорядоченным образом поверх матрицы 1120 интерферометрических модуляторов, сформированных на подложке 1110. В показанном варианте воплощения прокладки 1130 располагаются, по существу, над столбиками 1126 интерферометрических модуляторов. Как показано на Фиг.11A, на которой столбики 1126 показаны штриховой линией как невидимые, в показанном варианте воплощения прокладка 1130 размещена не над каждым столбиком 1126. В некоторых вариантах воплощения прокладки 1130 размещаются поверх матрицы 1120. В некоторых вариантах воплощения прокладки 1130 размещаются в пространстве 110 между матрицей 1120 и уплотнением 1140. В некоторых вариантах воплощения прокладки 1130 размещаются как поверх матрицы 1120, так и в пространстве 1110 между матрицей 1120 и уплотнением 1140. Специалистам в данной области должно быть понятно, что возможны другие расстановки и/или рисунки размещения прокладок 1130.11A is a plan view of an
Фиг.11B показывает вид сверху другого варианта воплощения устройства 1100, в котором прокладки 1130 размещаются, по существу, случайным образом поверх матрицы 1120. В варианте воплощения устройства 1100, показанного на Фиг.11C, прокладки 1130 предусмотрены около центра матрицы 1120, но не возле периферии. Вариант воплощения устройства 1100, показанного на Фиг.11D, содержит более плотное размещение прокладок 1130 около центра матрицы 1120 и более редкое размещение около периферии. Вариант воплощения устройства 1100, показанного на Фиг.11E, содержит три концентрические зоны прокладок 1130 с возрастающей плотностью в направлении к центру матрицы 1120. Специалистам в данной области должно быть понятно, что возможны другие варианты размещения.11B shows a top view of another embodiment of a
Прокладки имеют любые подходящие размер и форму и выполнены из любого подходящего материала. В некоторых вариантах воплощения все прокладки относятся к одному и тому же типу. Другие варианты воплощения содержат прокладки различных типов, например, различных размеров, форм и/или из разных материалов. Конкретные линейные размеры для некоторой прокладки будут зависеть от факторов, известных в данной области техники, включая материал, из которого сделана прокладка, свободное пространство между матрицей и объединительной пластиной, предполагаемое применение дисплея в корпусе и тому подобное. В некоторых вариантах воплощения толщина прокладки является сходной со свободным пространством между матрицей и объединительной пластиной. В других вариантах воплощения толщина прокладки меньше, чем свободное пространство между матрицей и объединительной пластиной. Линейные размеры свободного пространства обсуждались выше.Gaskets have any suitable size and shape and are made of any suitable material. In some embodiments, all gaskets are of the same type. Other embodiments include gaskets of various types, for example, various sizes, shapes and / or from different materials. The specific linear dimensions for some gasket will depend on factors known in the art, including the material from which the gasket is made, the free space between the matrix and the backplate, the intended use of the display in the housing, and the like. In some embodiments, the thickness of the gasket is similar to the free space between the matrix and the backplate. In other embodiments, the thickness of the gasket is less than the free space between the matrix and the backplate. The linear dimensions of free space are discussed above.
Подходящие материалы для прокладок включают в себя жесткие материалы и/или эластомерные материалы. В некоторых вариантах воплощения прокладки содержат материал, способный поглощать по меньшей мере часть приложенного к ней усилия, например, посредством деформации. В некоторых вариантах воплощения прокладка является упругой и, по существу, возвращается к своей исходной форме после того, как снято деформирующее усилие. В других вариантах воплощения прокладка навсегда деформируется при поглощении приложенного к ней усилия. Примеры подходящих материалов включают в себя металлы, сталь, нержавеющую сталь, латунь, титан, магний, алюминий, полимерные смолы, эпоксидные смолы, полиамиды, полиалкены, полифторалкены, сложные полиэфиры, полисульфоны, полистирол, полиуретаны, полиакрилаты, керамики, стекло, диоксид кремния (кварц), оксид алюминия, а также их смеси, сополимеры, сплавы и/или композиты. В некоторых вариантах воплощения прокладка является композитом, например, содержащим сердцевину из одного материала и покрытие из другого. В некоторых вариантах воплощения прокладка содержит сердцевину из жесткого материала, например металла, и покрытие из эластомерного материала, например полимерной смолы. В некоторых вариантах воплощения, в которых изображение является видимым через объединительную пластину, прокладки являются прозрачными или полупрозрачными. В некоторых вариантах воплощения прокладки являются электрически проводящими.Suitable gasket materials include rigid materials and / or elastomeric materials. In some embodiments, the gaskets comprise a material capable of absorbing at least a portion of the force exerted thereon, for example, by deformation. In some embodiments, the spacer is resilient and substantially reverts to its original shape after the deforming force is removed. In other embodiments, the gasket is permanently deformed upon absorption of the force applied thereto. Examples of suitable materials include metals, steel, stainless steel, brass, titanium, magnesium, aluminum, polymer resins, epoxies, polyamides, polyalkenes, polyfluoroalkenes, polyesters, polysulfones, polystyrene, polyurethanes, polyacrylates, ceramics, glass, silicon dioxide (quartz), alumina, and also mixtures thereof, copolymers, alloys and / or composites. In some embodiments, the spacer is a composite, for example, comprising a core of one material and a coating of another. In some embodiments, the gasket comprises a core of rigid material, such as metal, and a coating of elastomeric material, such as polymer resin. In some embodiments, in which the image is visible through the backplane, the spacers are transparent or translucent. In some embodiments, the gaskets are electrically conductive.
В некоторых вариантах воплощения прокладки содержат влагопоглотитель любого типа, известного в данной области техники, например оксиды металлов, оксид кальция, оксид бария, ангидрид борной кислоты, пентаоксид фосфора, сульфаты металлов, сульфат кальция, сульфат магния, сульфат натрия, металлы, натрий, сплав свинца/натрия, гидриды металлов, борогидрид натрия, гидрид натрия, гидрид лития-алюминия, силикагель, активированный оксид алюминия, цеолиты, молекулярные сита, фосфор, соли металлов, перхлорат магния, хлорид цинка, углеродные нанотрубки, а также их комбинации. В некоторых вариантах воплощения прокладка, по существу, содержит влагопоглотитель. В других вариантах воплощения прокладка содержит композит, в котором влагопоглотитель является компонентом. В некоторых вариантах воплощения влагопоглотитель распределен по всему композиту. В других вариантах воплощения влагопоглотитель концентрируется в одной части прокладки, например в сердцевине. Другой компонент или компоненты в этом композите являются любым подходящим материалом, например материалами, раскрытыми выше в качестве подходящих для прокладки. В некоторых вариантах воплощения, например в вариантах воплощения, в которых прокладка содержит сердцевину из влагопоглотителя, другой материал, например покрытие над влагопоглотителем, является материалом, который является проницаемым для воды и/или водяного пара, тем самым облегчая поглощение воды влагопоглотителем. В некоторых вариантах воплощения покрытие содержит одно или более отверстий, например, выполненных посредством истирания покрытия или в ходе процесса производства прокладки, чтобы сделать возможным контакт между влагопоглотителем в сердцевине и окружающей атмосферой.In some embodiments, the gaskets comprise a desiccant of any type known in the art, for example, metal oxides, calcium oxide, barium oxide, boric acid anhydride, phosphorus pentoxide, metal sulfates, calcium sulfate, magnesium sulfate, sodium sulfate, metals, sodium, alloy lead / sodium, metal hydrides, sodium borohydride, sodium hydride, lithium aluminum hydride, silica gel, activated alumina, zeolites, molecular sieves, phosphorus, metal salts, magnesium perchlorate, zinc chloride, carbon nanotubes and as well as combinations thereof. In some embodiments, the pad substantially comprises a desiccant. In other embodiments, the pad comprises a composite in which the desiccant is a component. In some embodiments, the desiccant is distributed throughout the composite. In other embodiments, the desiccant is concentrated in one part of the pad, for example, in the core. The other component or components in this composite are any suitable material, for example materials disclosed above as being suitable for laying. In some embodiments, for example in embodiments in which the pad comprises a desiccant core, another material, for example a coating over the desiccant, is a material that is permeable to water and / or water vapor, thereby facilitating the absorption of water by the desiccant. In some embodiments, the coating comprises one or more holes, for example, made by abrading the coating or during the gasket manufacturing process, to allow contact between the desiccant in the core and the surrounding atmosphere.
Прокладки изготавливают с использованием способов, известных в данной области техники, которые будут зависеть от факторов, известных в данной области техники, включая материал или материалы, из которых сделаны прокладки, размер и форму прокладок, допустимые отклонения на размеры прокладок. В некоторых вариантах воплощения прокладки наносят в виде текучей среды, например жидкости, геля и/или пасты, которые затем отверждают с образованием прокладок. Примеры подходящих материалов текучих сред включают в себя, например, клеи и фоторезисты. Специалистам в данной области должно быть понятно, что условия отверждения зависят от конкретного материала и включают в себя термическое отверждение, светоотверждение, отверждение УФ-излучением и/или радиационное отверждение.Gaskets are made using methods known in the art that will depend on factors known in the art, including the material or materials from which the gaskets are made, the size and shape of the gaskets, tolerances for the size of the gaskets. In some embodiments, the pads are applied in the form of a fluid, such as a liquid, gel and / or paste, which are then cured to form pads. Examples of suitable fluid materials include, for example, adhesives and photoresists. Specialists in this field should be clear that the curing conditions depend on the specific material and include thermal curing, light curing, curing by UV radiation and / or radiation curing.
В других вариантах воплощения прокладки изготовляют заранее. Варианты воплощения заранее изготовленных прокладок показаны на Фиг.12E-Фиг.12T. Специалистам в данной области должно быть понятно, что показанные формы являются иллюстративными и что возможны другие формы. Например, в некоторых вариантах воплощения прокладки имеют неправильную форму. В некоторых вариантах воплощения прокладки являются, по существу, сплошными. В других вариантах воплощения прокладки содержат одну или более пустот. Например, в некоторых вариантах воплощения прокладка содержит одну или более полых областей. В некоторых вариантах воплощения прокладка содержит множество пустот, например пенопласт с открытыми порами или закрытыми порами. Сферические и в форме стержня прокладки, показанные на Фиг.12D и Фиг.12I соответственно, являются доступными для приобретения в стекле, кварце и/или полистироле. Например, стеклянные прокладки в форме стержня являются доступными для приобретения от Nippon Electric Glass Co. (Otsu, Shiga, Japan) в диаметрах от примерно 1,5 мкм до примерно 60 мкм. Пластиковые сферические прокладки являются доступными для приобретения, например, от Sekisui Chemical Co. (Osaka, Japan) в диаметрах от примерно 5 мкм до примерно 350 мкм. В некоторых вариантах воплощения используются такие прокладки по причинам доступности для приобретения, единообразия и/или стоимости. Другие формы, например квадраты и круги, также легко изготовляются и используются в других вариантах воплощения.In other embodiments, the pads are made in advance. Embodiments of prefabricated gaskets are shown in FIG. 12E-FIG. 12T. Specialists in this field should be clear that the forms shown are illustrative and that other forms are possible. For example, in some embodiments, the gaskets are irregular in shape. In some embodiments, the gaskets are substantially continuous. In other embodiments, the gaskets comprise one or more voids. For example, in some embodiments, the gasket comprises one or more hollow regions. In some embodiments, the spacer comprises a plurality of voids, such as open cell or closed cell foam. Spherical and rod-shaped gaskets shown in Fig. 12D and Fig. 12I, respectively, are commercially available in glass, quartz and / or polystyrene. For example, rod-shaped glass pads are commercially available from Nippon Electric Glass Co. (Otsu, Shiga, Japan) in diameters from about 1.5 microns to about 60 microns. Plastic spherical gaskets are commercially available, for example, from Sekisui Chemical Co. (Osaka, Japan) in diameters from about 5 microns to about 350 microns. In some embodiments, such gaskets are used for reasons of affordability, uniformity and / or value. Other shapes, such as squares and circles, are also easily manufactured and used in other embodiments.
В некоторых вариантах воплощения прокладка содержит один или более выступов и/или углублений, например, как показано на Фиг.12N-Фиг.12T. В некоторых вариантах воплощения выступы и/или углубления захватывают структуру или рельефный элемент на матрице и/или объединительной пластине, как обсуждается более детально ниже. В некоторых вариантах воплощения выступы и/или углубления конструируют таким образом, чтобы поглощать, по меньшей мере, некоторую часть приложенного к устройству усилия. Например, некоторые варианты воплощения содержат пружины, как показано на Фиг.12P-Фиг.12S. Некоторые варианты воплощения содержат выступы, как показано на Фиг.12N, Фиг.12O и Фиг.12T, которые обсуждаются более детально ниже. Вариант воплощения, показанный на Фиг.12T, содержит как выступы 1232, так и углубления 1234.In some embodiments, the gasket comprises one or more protrusions and / or recesses, for example, as shown in FIG. 12N-FIG. 12T. In some embodiments, the protrusions and / or recesses capture a structure or a relief element on the matrix and / or backplane, as discussed in more detail below. In some embodiments, the protrusions and / or recesses are designed to absorb at least some of the force exerted on the device. For example, some embodiments include springs, as shown in FIG. 12P-FIG. 12S. Some embodiments include protrusions, as shown in FIG. 12N, FIG. 12O, and FIG. 12T, which are discussed in more detail below. The embodiment shown in FIG. 12T includes both
В варианте воплощения, показанном в виде сверху на Фиг.13A, прокладка 1330 простирается на по меньшей мере два столбика 1326 матрицы 1320 интерферометрических модуляторов. В показанном варианте воплощения самый короткий диаметр D прокладки 1330 равен, по меньшей мере, примерно двум расстояниям d между столбиками 1326, и это гарантирует, что прокладка всегда простирается на по меньшей мере два столбика 1326. В некоторых вариантах воплощения расстояние d составляет от примерно 30 мкм до примерно 80 мкм, например, примерно 30 мкм, 40 мкм, 50 мкм, 60 мкм или 80 мкм. В других вариантах воплощения расстояние d является большим, например, вплоть до 1 мм или вплоть до 5 мм. Как обсуждалось выше, в некоторых вариантах воплощения матрица 1320 содержит интерферометрические модуляторы 1322 с различными линейными размерами, например, величинами по ширине, и, следовательно, расстояние между столбиками 1326 для соседних интерферометрических модуляторов 1322 не является равномерным. Следовательно, в некоторых вариантах воплощения линейный размер D равен, по меньшей мере, самому большому расстоянию между внешними столбиками 1326 соседних интерферометрических модуляторов 1322. Один вариант воплощения такого размещения показан на Фиг.13B, в котором столбики 1326' имеют иную конструкцию, чем столбики, показанные на Фиг.13A, и прокладки 1330' имеют форму диска.In the embodiment shown in a plan view in FIG. 13A, the
В варианте воплощения, показанном на Фиг.14, прокладка 1430 является, по меньшей мере, столь же большой по размеру, как интерферометрический модулятор 1422 и, следовательно, размещается, по меньшей мере, поверх одного столбика 1426. В показанном варианте воплощения прокладка 1430 является перфорированным квадратом. Размеры интерферометрических модуляторов обсуждались выше.In the embodiment shown in FIG. 14, the
В варианте воплощения, показанном на Фиг.15A, каждая прокладка 1530, по существу, центрирована поверх столбика 1526. В варианте воплощения, показанном на Фиг.15B, по меньшей мере часть каждой прокладки 1530 располагается поверх столбика 1526. В вариантах воплощения, показанных на Фиг.15C, никакая часть каждой прокладки 1530 не располагается над каким-либо столбиком 1526. Другие не показанные варианты воплощения включают в себя любую комбинацию этих вариантов размещения.In the embodiment shown in FIG. 15A, each
Вариант воплощения устройства 1600, показанного на Фиг.16, содержит прокладки 1630 различных размеров, размещенные, по существу, поверх всей матрицы 1620.An embodiment of the
Некоторые варианты воплощения содержат одну или более цельных прокладок, либо используемых отдельно, либо в комбинации с другими прокладками, раскрываемыми здесь. Фиг.17A показывает вариант воплощения устройства 1700, которое содержит прокладку 1730 в виде сетки, размещенной над центральной частью матрицы 1720. Фиг.17B показывает вариант воплощения устройства 1700, которое содержит сеточную прокладку 1730, которая является более плотной около центра, чем около периферийной части. Фиг.17C показывает вариант воплощения устройства 1700, в котором прокладка 1730 является, грубо говоря, открытым прямоугольником, по существу, центрированным поверх матрицы 1720. Фиг.17D показывает вариант воплощения устройства 1700, в котором прокладка 1730, по существу, определяется диагоналями матрицы 1720. В некоторых вариантах воплощения прокладка является более толстой в одной или более областях и более тонкой в одной или более областях. Например, в некоторых вариантах воплощения прокладка является более толстой в центральной области и более тонкой по периферии. В некоторых вариантах воплощения прокладка 1730 содержит влагопоглотитель, как обсуждалось выше. Например, в некоторых вариантах воплощения прокладка 1730 содержит сердцевину из влагопоглотителя, окруженную внешним слоем, например, полимерной смолой. В других вариантах воплощения влагопоглотитель внедрен в материал прокладки.Some embodiments comprise one or more integral gaskets, either used alone or in combination with other gaskets disclosed herein. FIG. 17A shows an embodiment of a
Вариант воплощения 1800, показанный на Фиг.18A, содержит прокладку 1830 в виде пленки, размещенной между матрицей 1820 и объединительной пластиной 1850. В показанном варианте воплощения прокладка 1830 выходит за пределы матрицы 1820. В других вариантах воплощения прокладка 1830 не выходит за пределы матрицы 1820. В некоторых вариантах воплощения прокладка 1830 имеет, по существу, одинаковую протяженность с матрицей 1820. В других вариантах воплощения прокладка 1830 не покрывает всю матрицу 1820.The
В некоторых вариантах воплощения пленка является, по существу, плоской пленкой. В некоторых вариантах воплощения пленка имеет толщину от примерно 5 мкм до примерно 50 мкм, например, от примерно 10 мкм до примерно 20 мкм. В других вариантах воплощения пленка является более толстой. В некоторых вариантах воплощения пленка является достаточно толстой для того, чтобы, по существу, заполнять пространство между матрицей и объединительной пластиной. В некоторых вариантах воплощения пленка содержит упругий материал, например пенопласт. В некоторых вариантах воплощения пенопласт имеет покрытие, например непроницаемый полимер, которое в некоторых вариантах воплощения содержит перфорированные отверстия. В других вариантах воплощения пленка имеет другую форму. Фиг.18B показывает прокладку 1830' в виде пленки с неплоским поперечным сечением, например, волнистым или в форме «контейнера с ячейками для яиц», которая при сжатии поглощает по меньшей мере некоторую часть деформирующего усилия между матрицей 1820' и объединительной пластиной 1850'. Специалистам в данной области должно быть понятно, что неплоская пленка является более толстой, чем соответствующая плоская пленка. В некоторых вариантах воплощения пленочная прокладка содержит области с изменяющимися свойствами, например толщиной, составом (например, композиты), выступами, углублениями и тому подобным. В других вариантах воплощения одна или обе лицевые стороны пленки дополнительно содержит дополнительные прокладки, как описано выше, например, прокладки, показанные на Фиг.12A-Фиг.12T. В некоторых вариантах воплощения пленка и прокладки сформированы как единое целое (заодно). В других вариантах воплощения прокладки и пленка изготавливают отдельно и соединяют на отдельном этапе. В некоторых вариантах воплощения пленку перфорируют. Например, некоторые варианты воплощения прокладок, показанные на Фиг.17A и Фиг.17B, являются перфорированными пленками. Фиг.18C показывает вариант воплощения, в котором прокладка 1830" является запечатанным мешочком, заключающим в себе некоторый объем газа и размещенным между матрицей 1820" и объединительной пластиной 1850". Специалистам в данной области должно быть понятно, что конкретная пленка, выбранная для какого-либо применения, будет зависеть от факторов, включающих в себя толщину этой пленки, ее механические свойства, ее форму и конфигурацию, свободное пространство между матрицей и объединительной пластиной и ожидаемое применение дисплея в таком корпусе.In some embodiments, the film is a substantially flat film. In some embodiments, the film has a thickness of from about 5 microns to about 50 microns, for example, from about 10 microns to about 20 microns. In other embodiments, the film is thicker. In some embodiments, the film is thick enough to substantially fill the space between the matrix and the backing plate. In some embodiments, the film comprises an elastic material, such as foam. In some embodiments, the foam has a coating, for example an impermeable polymer, which in some embodiments contains perforated holes. In other embodiments, the film has a different shape. Fig. 18B shows a gasket 1830 'in the form of a film with a non-planar cross section, for example, wavy or in the form of a "container with egg cells", which when compressed absorbs at least some of the deforming force between the matrix 1820' and the backplate 1850 '. Specialists in this field should be clear that the non-planar film is thicker than the corresponding flat film. In some embodiments, the film pad comprises regions with varying properties, such as thickness, composition (e.g., composites), protrusions, recesses, and the like. In other embodiments, one or both of the faces of the film further comprises additional spacers, as described above, for example, the spacers shown in FIGS. 12A-12T. In some embodiments, the film and gaskets are formed as a single unit (at the same time). In other embodiments, the spacers and film are manufactured separately and combined in a separate step. In some embodiments, the film is perforated. For example, some of the gasket embodiments shown in FIG. 17A and FIG. 17B are perforated films. Fig. 18C shows an embodiment in which the
В некоторых вариантах воплощения пленка содержит влагопоглотитель. В некоторых вариантах воплощения пленка является влагопоглотителем. В других вариантах воплощения пленка, например пленка полимерной смолы, пропитана влагопоглотителем. В еще других вариантах воплощения пленка содержит тонкий слой влагопоглотителя, который инкапсулируется, например, с использованием полимерной смолы.In some embodiments, the film comprises a desiccant. In some embodiments, the film is a desiccant. In other embodiments, a film, for example a polymer resin film, is impregnated with a desiccant. In still other embodiments, the film comprises a thin layer of desiccant that is encapsulated, for example, using a polymer resin.
Некоторые варианты воплощения содержат плоскую пленочную прокладку в контакте с матрицей или ее частью для распределения усилий по большей площади. В некоторых вариантах воплощения одну или более других прокладок, как раскрывается здесь, размещают между пленкой и объединительной пластиной и/или между пленкой и матрицей, например, любые из прокладок, описанные выше.Some embodiments comprise a flat film pad in contact with the matrix or part thereof to distribute forces over a larger area. In some embodiments, one or more other spacers, as disclosed herein, is placed between the film and the backing plate and / or between the film and the matrix, for example, any of the spacers described above.
Фиг.19 показывает вариант воплощения 1900, содержащий множество пленочных прокладок 1930, размещенных между матрицей 1920 и объединительной пластиной 1950. Пленочные прокладки таковы, как описано выше. Некоторые варианты воплощения содержат комбинацию плоской пленочной прокладки и неплоской пленочной прокладки, например, с плоской пленочной прокладкой, контактирующей с матрицей 1920, как описано выше. Некоторые варианты воплощения содержат по меньшей мере две неплоские пленочные прокладки, размещенные так, что прокладки не вкладываются друг в друга, например, пару волнистых пленок, размещенных с волнистостями под прямыми углами. Некоторые варианты воплощения содержат по меньшей мере две неплоские пленочные прокладки с размещенной между ними плоской пленочной прокладкой, тем самым предохраняя неплоские прокладки от вкладывания друг в друга.FIG. 19 shows an
В некоторых вариантах воплощения прокладка или некоторая ее часть имеет форму, сконструированную для обеспечения дифференцированной реакции на прилагаемое усилие, например прокладка или ее часть с треугольным поперечным сечением. Пример части прокладки показан на Фиг.12T как выступ 1232. Треугольная часть прокладки показана на Фиг.20A. Треугольная часть относительно восприимчива к малым деформациям, как показано на Фиг.20B, но становится все более трудной для деформирования, как показано на Фиг.20C и Фиг.20D. Фиг.20E показывает другой вариант воплощения, в котором прокладка 2032 имеет две области, каждая из которых имеет различную реакцию на прилагаемое усилие: более тонкую верхнюю часть 2032a и более толстую нижнюю часть 2034b. В варианте воплощения, показанном на Фиг.20F, прокладка 2030' также имеет две области реакции: верхнюю область 2032', которая имеет относительно больший объем пор, и нижнюю область 2034', которая имеет относительно меньший объем пор. В некоторых вариантах воплощения прокладка содержит композит, который обеспечивает дифференцированную реакцию.In some embodiments, the gasket, or some portion thereof, is shaped to provide a differentiated response to the applied force, for example, the gasket or part thereof with a triangular cross section. An example of a gasket portion is shown in FIG. 12T as a
В некоторых вариантах воплощения одна или более прокладок прикреплены к матрице. В других вариантах воплощения одна или более прокладок прикреплены к объединительной пластине. В других вариантах воплощения одна или более прокладок прикреплены как к матрице, так и к объединительной пластине. В других вариантах воплощения первое множество из одной или более прокладок прикреплено к матрице, и второе множество из одной или более прокладок прикреплено к объединительной пластине. В других вариантах воплощения одна или более прокладок не прикреплены ни к матрице, ни к объединительной пластине. В вариантах воплощения, в которых прокладка прикреплена к матрице и/или объединительной пластине, эту прокладку прикрепляют с использованием любого способа, известного в данной области техники, например, с использованием клея, механически и/или с помощью сварки.In some embodiments, one or more shims are attached to the matrix. In other embodiments, one or more shims are attached to the backplate. In other embodiments, one or more spacers are attached to both the matrix and the backplane. In other embodiments, the first plurality of one or more spacers is attached to the matrix, and the second plurality of one or more spacers is attached to the backplane. In other embodiments, one or more spacers are not attached to either the matrix or the backplane. In embodiments in which the gasket is attached to the matrix and / or backplane, this gasket is attached using any method known in the art, for example using glue, mechanically and / or by welding.
В вариантах воплощения с использованием клея один или более клеев наносят на матрицу и/или объединительную пластину, используя любой способ, известный в данной области техники, например литографический способ, струйную печать, контактную печать и тому подобное. Затем прокладку или прокладки накладывают на этот клей. В некоторых вариантах воплощения клей наносят на прокладку, которую затем накладывают на матрицу и/или объединительную пластину, например, с помощью разбрызгивания, прокатывания, индивидуального нанесения и тому подобного. В других вариантах воплощения прокладки помещают во взвешенном состоянии в жидкость, содержащую клей. Суспензию с прокладками наносят на матрицу, и жидкость удаляют, например, с помощью выпаривания. Примеры подходящих жидкостей включают в себя низшие спирты, например, метанол, этанол и изопропанол, а также другие летучие жидкости, например, ацетон, метиловый t-бутиловый эфир и этилацетат. Как обсуждалось выше, в некоторых вариантах воплощения прокладки накладывают на пленку, которую затем накладывают на матрицу и/или объединительную пластину. В некоторых вариантах воплощения прокладка выполнена заодно с матрицей или объединительной пластиной, как описывается более детально ниже. Прокладки прикрепляют к объединительной пластине с использованием, по существу, аналогичных способов.In embodiments using glue, one or more adhesives is applied to the matrix and / or backplane using any method known in the art, for example, lithography, inkjet printing, contact printing and the like. Then a gasket or gaskets are applied to this adhesive. In some embodiments, the adhesive is applied to a gasket, which is then applied to the matrix and / or backplane, for example, by spraying, rolling, individual application, and the like. In other embodiments, the spacers are suspended in a liquid containing glue. A pad suspension is applied to the matrix, and the liquid is removed, for example, by evaporation. Examples of suitable liquids include lower alcohols, for example, methanol, ethanol and isopropanol, as well as other volatile liquids, for example, acetone, methyl t-butyl ether and ethyl acetate. As discussed above, in some embodiments, the spacers are applied to the film, which is then applied to the matrix and / or backplane. In some embodiments, the spacer is integral with the matrix or backplane, as described in more detail below. The gaskets are attached to the backplane using essentially the same methods.
В некоторых вариантах воплощения одну или более прокладок не прикрепляют к матрице или объединительной пластине. Например, в некоторых вариантах воплощения с использованием больших прокладок, например сеточных прокладок, показанных Фиг.17A и Фиг.17B, прокладок, показанных на Фиг.17C и Фиг.17D, и/или пленочных прокладок, показанных на Фиг.18A-Фиг.18C и Фиг.19, прокладки просто размещают на матрице и/или объединительной пластине при сборке монтируемого в корпус устройства.In some embodiments, one or more of the spacers is not attached to the matrix or backplane. For example, in some embodiments using large spacers, such as the grid spacers shown in FIG. 17A and FIG. 17B, the spacers shown in FIG. 17C and FIG. 17D, and / or the film spacers shown in FIG. 18A-FIG. 18C and FIG. 19, gaskets are simply placed on the matrix and / or backplane when assembling the device mounted in the housing.
В тех вариантах воплощения, в которых прокладки являются более маленькими, например, с размерами в диапазоне от микрометра до сотен микрометров, прокладки легко размещаются с помощью диспергирования их в текучем носителе и нанесения этих диспергированных прокладок на матрицу и/или объединительную пластину, например, с помощью разбрызгивания и/или покрытия методом центрифугирования. В некоторых вариантах воплощения текучий носитель представляет собой жидкость, которая легко удаляется, например, в вакууме и/или с помощью нагревания. Примеры подходящих жидкостей известны в данной области техники и включают в себя низшие спирты (например, метанол, этанол, изопропанол), углеводороды (например, пропан, бутан, пентан), галогенированные (галогенозамещенные) соединения (например, фторуглероды, хлорфторуглероды, гидрохлорфторуглероды, хлоруглероды, гидрохлоруглероды), простые эфиры (например, метиловый трет-бутиловый эфир, диэтиловый эфир, тетрагидрофуран), сложные эфиры (например, этилацетат), кетоны (например, ацетон) и их комбинации. В других вариантах воплощения текучая среда является газом, например воздухом или азотом. В некоторых вариантах воплощения прокладки имеют тенденцию оставаться на месте после того, как удален растворитель, даже при отсутствии добавленного клея.In those embodiments in which the gaskets are smaller, for example, with sizes ranging from micrometers to hundreds of micrometers, the gaskets are easily placed by dispersing them in a fluid carrier and applying these dispersed gaskets to the matrix and / or backplane, for example, by spraying and / or coating by centrifugation. In some embodiments, the fluid carrier is a liquid that is easily removed, for example, in vacuum and / or by heating. Examples of suitable liquids are known in the art and include lower alcohols (e.g., methanol, ethanol, isopropanol), hydrocarbons (e.g., propane, butane, pentane), halogenated (halogen-substituted) compounds (e.g., fluorocarbons, chlorofluorocarbons, hydrochlorofluorocarbons, chlorocarbons , hydrochlorocarbons), ethers (e.g. methyl tert-butyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran), esters (e.g. ethyl acetate), ketones (e.g. acetone), and combinations thereof. In other embodiments, the fluid is a gas, for example, air or nitrogen. In some embodiments, the pads tend to remain in place after the solvent has been removed, even in the absence of added glue.
В некоторых вариантах воплощения прокладки накладывают, по существу, только поверх матрицы, например, с помощью маскирования (т.е. накладывания маски) той области, на которой формируется уплотнение, во время наложения прокладок. В других вариантах воплощения прокладки накладывают поверх матрицы, а также других частей устройства, например поверх той области, на которой формируется уплотнение. В некоторых из этих вариантов воплощения прокладки также определяют толщину уплотнения, тем самым обеспечивая равномерную толщину уплотнения. Например, введение прокладок размером 20 мкм внутрь уплотнения и контактирование подложки и объединительной пластины с этими прокладками обеспечивают толщину уплотнения, равную 20 мкм.In some embodiments, the pads are applied essentially only over the matrix, for example, by masking (i.e. masking) the area on which the seal is formed during the application of the pads. In other embodiments, the spacers are applied over the matrix, as well as other parts of the device, for example over the area on which the seal is formed. In some of these embodiments, the gaskets also determine the thickness of the seal, thereby ensuring a uniform thickness of the seal. For example, inserting 20 microns spacers into the seal and contacting the substrate and the backplate with these spacers provide a thickness of 20 microns.
Как показано на Фиг.21A, в некоторых вариантах воплощения одна или более прокладок 2130 простирается между матрицей 2120 и объединительной пластиной 2150. В варианте воплощения, показанном на Фиг.21B, прокладка 2130' контактирует с матрицей 2120', но не контактирует с объединительной пластиной 2150'. В варианте воплощения, показанном на Фиг.21C, прокладка 2130" контактирует с объединительной пластиной 2150", но не контактирует с матрицей 2120". Некоторые варианты воплощения содержат комбинацию этих конфигураций.As shown in FIG. 21A, in some embodiments, one or
Вариант воплощения, показанный на Фиг.22A, аналогичен устройству, показанному на Фиг.6C. В варианте воплощения 2200 прокладки 2230 выполнены заодно с матрицей 2220 интерферометрических модуляторов. В показанном варианте воплощения прокладки 2230 сформированы поверх столбиков 2226 интерферометрических модуляторов 2222. В некоторых вариантах воплощения процесс формирования прокладок 2230 является тонкопленочным процессом и объединен с процессом формирования интерферометрических модуляторов 2222, например, как раскрыто выше и в патенте США №5835255. В некоторых вариантах воплощения материал прокладок осаждают на механический слой 2224 перед удалением «расходуемого» (удаляемого) материала (не показан) в процессе производства интерферометрических модуляторов 2222. Прокладки 2230 наносят с рисунком и вытравливают из материала прокладок с использованием способов, известных в данной области техники. Специалистам в данной области должно быть понятно, что конкретный способ будет зависеть от факторов, включающих в себя конкретный используемый материал прокладок, другие материалы, используемые в производстве интерферометрических модуляторов 2222, геометрии интерферометрических модуляторов 2222 и тому подобного.The embodiment shown in FIG. 22A is similar to the device shown in FIG. 6C. In an
В некоторых вариантах воплощения формирование прокладок 2230 объединено с последовательностью технологических операций процесса формирования интерферометрических модуляторов, например процесса, раскрытого в патенте США №5835255. Например, слой (не показан) материала прокладок осаждают на механический слой 2224 перед удалением удаляемого материала (не показан), занимающего полость между зеркалами. Затем слой прокладок травят для формирования индивидуальных прокладок 2230. В некоторых вариантах воплощения слой прокладок наносят с рисунком и травят так, что формируется проход, обеспечивающий сообщением по газу с каждой полостью в матрице 2220 интерферометрических модуляторов. Затем, посредством удаления через этот проход удаляемого материала, формируют полость.In some embodiments, the formation of
В некоторых вариантах воплощения цельные прокладки изготавливают из твердого материала с хорошим поддержанием формы, который не легко сжать. В некоторых вариантах воплощения этот материал выбирают из группы, состоящей из металлов, оксидов, нитридов, фоторезистов, других органических материалов, нанесенного центрифугированием стекла и их комбинаций. В некоторых вариантах воплощения прокладки являются электрически проводящими. Специалистам в данной области должно быть понятно, что аналогичные процессы являются применимыми и при изготовлении цельных прокладок на внутренней поверхности объединительной пластины.In some embodiments, the integral gaskets are made from a solid material with good shape maintenance that is not easy to compress. In some embodiments, this material is selected from the group consisting of metals, oxides, nitrides, photoresists, other organic materials, applied by centrifugation of glass, and combinations thereof. In some embodiments, the gaskets are electrically conductive. Specialists in this field should be clear that similar processes are applicable in the manufacture of solid gaskets on the inner surface of the backplane.
Как показано на Фиг.22B, в некоторых вариантах воплощения матрица 2220' содержит интерферометрические модуляторы 2222' различной высоты. В показанном варианте воплощения первые прокладки 2230' компенсируют разности высот, тем самым обеспечивая равномерную платформу, поддерживающую вторые прокладки 2260' любого типа, раскрытого выше. В некоторых вариантах воплощения вторые прокладки 2260' прикрепляют к первым прокладкам. В других вариантах воплощения вторые прокладки 2260' не прикрепляют к первым прокладкам. В варианте воплощения, показанном на Фиг.22C, вторая прокладка 2260" содержит углубления 2234", которые захватывают первые прокладки 2230".As shown in FIG. 22B, in some embodiments, the array 2220 'comprises interferometric modulators 2222' of varying heights. In the shown embodiment, the first gaskets 2230 'compensate for height differences, thereby providing a uniform platform supporting the second gaskets 2260' of any type disclosed above. In some embodiments, second spacers 2260 'are attached to the first spacers. In other embodiments, the second gaskets 2260 'are not attached to the first gaskets. In the embodiment shown in FIG. 22C, the
Фиг.23 представляет собой блок-схему последовательности технологических операций, показывающую способ производства монтируемого в корпус электронного устройства со ссылкой на конструкцию, показанную на Фиг.7A и Фиг.7B. На этапе 2310 получают подложку 710, на которой был сформирован интерферометрический модулятор 722. В некоторых вариантах воплощения интерферометрический модулятор 722 является частью матрицы 720 интерферометрических модуляторов 722. На этапе 2220 получают объединительную пластину 750. На этапе 2230 между интерферометрическим модулятором 722 и объединительной пластиной 750 размещают одну или более прокладок 730. На этапе 2240 между подложкой 710 и объединительной пластиной 750 формируют уплотнение 740.FIG. 23 is a flowchart showing a manufacturing method of a body-mounted electronic device with reference to the structure shown in FIG. 7A and FIG. 7B. At
В некоторых вариантах воплощения продуктом такого процесса производства является панель, содержащая множество смонтированных в корпусе дисплеев. Затем из этой панели вырезают индивидуальные смонтированные в корпусе дисплеи. В процессе производства множество матриц интерферометрических модуляторов формируют на единичной подложке («материнском стекле»), как обсуждалось выше. Получают лист, содержащий множество объединительных пластин (обычно равных по количеству матрицам интерферометрических модуляторов), имеющих такие размеры и так расположенных в пространстве, чтобы совпадать с интерферометрическими матрицами. Между подложкой и объединительной пластиной размещают прокладки, как обсуждалось выше. Между каждой матрицей и объединительной пластиной формируют уплотнения, как обсуждалось выше, тем самым формируя панель, содержащую множество матриц интерферометрических модуляторов. Из этой панели вырезают индивидуальные смонтированные в корпусе дисплеи с использованием любого способа, известного в данной области техники, например, с помощью скрайбирования.In some embodiments, the product of such a manufacturing process is a panel comprising a plurality of mounted displays. Then, individual displays mounted in the housing are cut from this panel. In the manufacturing process, many interferometric modulator matrices are formed on a single substrate (“mother glass”), as discussed above. A sheet is obtained containing a plurality of back plates (usually equal in number to the matrices of interferometric modulators) having such dimensions and so arranged in space to coincide with the interferometric matrices. Between the substrate and the backing plate, spacers are placed as discussed above. Seals are formed between each matrix and the backplane, as discussed above, thereby forming a panel containing a plurality of matrices of interferometric modulators. Individual displays mounted in the housing are cut from this panel using any method known in the art, for example, by scribing.
Фиг.24 представляет собой блок-схему последовательности технологических операций, показывающую способ защиты электронного устройства со ссылкой на конструкцию, показанную на Фиг.7A и Фиг.7B. На этапе 2410 получают устройство, содержащее интерферометрический модулятор 722, сформированный на подложке 710, и объединительную пластину 750. На этапе 2420 между интерферометрическим модулятором 722 и объединительной пластиной 750 размещают одну или более прокладок.Fig. 24 is a flowchart showing a method of protecting an electronic device with reference to the structure shown in Fig. 7A and Fig. 7B. At 2410, an apparatus is obtained comprising an
ПРИМЕР 1EXAMPLE 1
На стеклянной подложке с размерами 680 мм × 880 мм изготовляют шесть матриц интерферометрических модуляторов с размерами 250 мм × 300 мм. Очищают и сушат стеклянный лист из шести утопленных крышек, 7 мм в толщину, 252 мм × 302 мм, углубление 0,3 мм. В углубления наносят тонкую пленку с влагопоглотителем CaO (Hi Cap 2800, Cookson, London, UK), полностью отверждают и подготавливают. По объединительной пластине равномерно разбрызгивают суспензию прокладок в форме стержней из полистирола диаметром 10 мкм (Sekisui Chemical Co., Osaka, Japan) в изопропаноле с концентрацией 1% по объему, чтобы обеспечить 2%-ное покрытие прокладками поверхности. Области уплотнения между углублениями не покрывают маской. Изопропанол удаляют с помощью нагревания при 100°C в течение 5 секунд. На периферии объединительных пластин в форме утопленных крышек наносят слой отверждаемой УФ-излучением эпоксидной смолы (H5516, Nagase, Tokyo, Japan), и лист выравнивают над подложкой. К листу прикладывают давление с тем, чтобы обеспечить слой эпоксидной смолы со средней толщиной 15 мкм. Эпоксидную смолу отверждают с помощью облучения с мощностью 6000 мДж/см2 на длине волны 350 нм (примерно 2 минуты), затем прокаливают при 80°C в течение 30 минут. Из полученной в результате панели вырезают шесть корпусов с интерферометрическими модуляторами.Six matrices of interferometric modulators with dimensions of 250 mm × 300 mm are made on a glass substrate with dimensions of 680 mm × 880 mm. The glass sheet of six recessed covers is cleaned and dried, 7 mm thick, 252 mm × 302 mm, recess 0.3 mm. A thin film with a CaO desiccant (Hi Cap 2800, Cookson, London, UK) is applied to the recesses, completely cured and prepared. A suspension of gaskets in the form of rods of polystyrene with a diameter of 10 μm (Sekisui Chemical Co., Osaka, Japan) in isopropanol with a concentration of 1% by volume is uniformly sprayed over the backing plate to provide a 2% coverage of the surface gaskets. The seal areas between the recesses are not masked. Isopropanol is removed by heating at 100 ° C for 5 seconds. A recessed UV curable epoxy resin layer (H5516, Nagase, Tokyo, Japan) is applied to the periphery of the backing plates in the form of recessed covers, and the sheet is aligned over the substrate. Pressure is applied to the sheet so as to provide an epoxy layer with an average thickness of 15 μm. The epoxy resin is cured by irradiation with a power of 6000 mJ / cm 2 at a wavelength of 350 nm (approximately 2 minutes), then calcined at 80 ° C for 30 minutes. Six cases with interferometric modulators are cut from the resulting panel.
Фиг.25A и 25B представляют собой блок-схемы системы, показывающие один вариант воплощения устройства 2040 с дисплеем. Устройство 2040 с дисплеем может быть, например, сотовым или мобильным телефоном. Однако те же детали устройства 2040 с дисплеем или их незначительные изменения также иллюстрируют различные типы устройств с дисплеем, такие как телевизоры и портативные медиаплееры.25A and 25B are system block diagrams showing one embodiment of a
Устройство 2040 с дисплеем включает в себя корпус 2041, дисплей 2030, антенну 2043, динамик 2045, устройство 2048 ввода и микрофон 2046. Корпус 2041 обычно формируют с помощью любого из многообразных процессов производства, которые хорошо известны специалистам в данной области, включая литьевое формование и вакуумное формование. В дополнение к этому, корпус 2041 может быть выполнен из любого из многообразных материалов, включая, но не ограничиваясь этим, пластик, металл, стекло, резину и керамику, или любую их комбинацию. В одном варианте воплощения корпус 2041 включает в себя съемные части (не показаны), которые могут заменяться другими съемными частями различного цвета, или содержащими различные логотипы (фирменные знаки), изображения или символы.A
Дисплей 2030 примерного устройства 2040 с дисплеем может быть любым из широкого многообразия дисплеев, включая бистабильный дисплей (т.е. дисплей с двумя устойчивыми состояниями), который описывается здесь. В других вариантах воплощения дисплей 2030 включает в себя дисплей с плоским экраном, такой как плазменный, электролюминесцентный (EL), на органических светодиодах (OLED), ЖКД на нематических сильно скрученных жидких кристаллах (STN LCD) или ЖКД на тонкопленочных транзисторах (TFT LCD), как описано выше, или дисплей с неплоским экраном, такой как электронно-лучевая трубка (ЭЛТ или CRT) или другое электровакуумное устройство, как хорошо известно специалистам в данной области. Однако для целей описания настоящего варианта воплощения дисплей 2030 включает в себя дисплей на основе интерферометрических модуляторов, который описывается здесь.The
Компоненты иллюстративного устройства 2040 с дисплеем согласно одному из вариантов воплощения схематически показаны на Фиг.25B. Показанное иллюстративное устройство 2040 с дисплеем включает в себя корпус 2041 и может включать в себя дополнительные компоненты, по меньшей мере частично заключенные в нем. Например, в одном варианте воплощения иллюстративное устройство 2040 с дисплеем включает в себя сетевой интерфейс 2027, который включает в себя антенну 2043, которая соединена с приемопередатчиком 2047. Приемопередатчик 2047 подсоединен к процессору 2021, который соединен с аппаратным средством 2052 предварительного формирования сигнала. Это аппаратное средство 2052 предварительного формирования сигнала может быть выполнено с возможностью предварительного формирования сигнала (например, фильтрации некоторого сигнала). Аппаратное средство 2052 предварительного формирования сигнала подсоединено к динамику 2045 и микрофону 2046. Процессор 2021 также подсоединен к устройству 2048 ввода и контроллеру 2029 возбуждения. Контроллер 2029 возбуждения соединен с буфером 2028 кадров и со схемой 2022 возбуждения матрицы, которая, в свою очередь, соединена с матрицей дисплея 2030. Источник 2050 питания обеспечивает электропитание всем компонентам, как это требуется конструкцией конкретного иллюстративного устройства 2040 с дисплеем.The components of an
Сетевой интерфейс 2027 включает в себя антенну 2043 и приемопередатчик 2047, так что иллюстративное устройство 2040 с дисплеем может осуществлять связь с одним или более устройствами через сеть. В одном варианте воплощения сетевой интерфейс 2027 также может иметь некоторые функциональные возможности обработки с тем, чтобы сделать менее жесткими требования к процессору 2021. Антенна 2043 является любой антенной, известной специалистам в данной области и предназначенной для передачи и приема сигналов. В одном варианте воплощения антенна передает и принимает ВЧ-сигналы согласно стандарту IEEE 802.11, включая IEEE 802.11(a), (b) или (g). В другом варианте воплощения антенна передает и принимает ВЧ-сигналы согласно стандарту BLUETOOTH. В случае сотового телефона антенна сконструирована для приема сигналов согласно стандартам множественного доступа с кодовым разделением каналов (CDMA), глобальной сотовой системы цифровой радиосвязи (GSM), усовершенствованной мобильной телефонной связи (AMPS) или других известных сигналов, которые используются для связи внутри беспроводной сотовой телефонной сети. Приемопередатчик 2047 предварительно обрабатывает сигналы, принятые от антенны 2043, так что они могут быть приняты и далее обработаны процессором 2021. Приемопередатчик 2047 также обрабатывает сигналы, принимаемые от процессора 2021, так что они могут быть переданы из примерного устройства 2040 с дисплеем через антенну 2043.The
В альтернативном варианте воплощения приемопередатчик 2047 может быть заменен приемником. В еще одном альтернативном варианте воплощения сетевой интерфейс 2027 может быть заменен источником изображений, который может хранить или генерировать данные изображения для отправки их процессору 2021. Например, источник изображения может быть цифровым видеодиском (DVD) или дисководом на жестких дисках, который содержит данные изображения, или модулем программного обеспечения, который генерирует данные изображения.In an alternative embodiment,
Процессор 2021 в общем управляет всей работой примерного устройства 2040 с дисплеем. Процессор 2021 принимает данные, такие как сжатые данные изображения, от сетевого интерфейса 2027 или источника изображения и обрабатывает эти данные в исходные данные изображения или в некоторый формат, который легко обрабатывается в исходные данные изображения. Процессор 2021 затем отправляет обработанные данные контроллеру 2029 возбуждения или буферу 2028 кадров для хранения. Исходными данными обычно называют информацию, которая идентифицирует характеристики изображения в каждом месте (точке) в пределах изображения. Например, такие характеристики изображения могут включать в себя цвет, насыщенность и уровень серого.The
В одном варианте воплощения процессор 2021 включает в себя микроконтроллер, центральный процессор (CPU) или логическое устройство для управления работой примерного устройства 2040 с дисплеем. Аппаратное средство 2052 предварительного формирования сигнала обычно включает в себя усилители и фильтры для передачи сигналов к динамику 2045 и для приема сигналов от микрофона 2046. Аппаратное средство 2052 предварительного формирования сигнала может быть дискретными компонентами внутри примерного устройства 2040 с дисплеем или может быть встроено внутрь процессора 2021 или других компонентов.In one embodiment, the
Контроллер 2029 возбуждения берет исходные данные изображения, сгенерированные процессором 2021, либо непосредственно от процессора 2021, либо из буфера 2028 кадров, и переформатирует эти исходные данные изображения подходящим образом для высокоскоростной передачи схеме 2022 возбуждения матрицы. В частности, контроллер 2029 возбуждения переформатирует исходные данные изображения в поток данных, имеющий формат, подобный растровому, так что он имеет временной порядок, подходящий для сканирования по матрице 2030 дисплея. Затем контроллер 2029 возбуждения отправляет отформатированную информацию схеме 2022 возбуждения матрицы. Хотя контроллер 2029 возбуждения, такой как контроллер ЖКД, часто связан с системным процессором 2021 как автономная интегральная схема (IC), такие контроллеры могут быть реализованы многими путями. Они могут быть встроены в процессор 2021 в виде аппаратного средства, встроены в процессор 2021 в виде программного обеспечения или полностью интегрированы в аппаратном средстве со схемой 2022 возбуждения матрицы.The
Обычно схема 2022 возбуждения матрицы принимает отформатированную информацию от контроллера 2029 возбуждения и переформатирует эти видеоданные в параллельный набор сигналов, которые много раз в секунду прикладываются к сотням, а иногда и тысячам проводников, идущих от реализованной в координатах «х-у» матрицы пикселей дисплея.Typically, the
В одном варианте воплощения контроллер 2029 возбуждения, схема 2022 возбуждения матрицы и матрица дисплея 2030 являются подходящими для любого из типов дисплеев, описанных здесь. Например, в одном варианте воплощения контроллер 2029 возбуждения является контроллером стандартного дисплея или контроллером бистабильного дисплея (например, контроллером интерферометрических модуляторов). В другом варианте воплощения схема 2022 возбуждения матрицы является стандартной схемой или схемой возбуждения бистабильного дисплея (например, дисплея на основе интерферометрических модуляторов). В одном варианте воплощения контроллер 2029 возбуждения интегрирован со схемой 2022 возбуждения матрицы. Такой вариант воплощения является обычным в системах с высокой степенью интеграции, таких как сотовые телефоны, часы и другие дисплеи малой площади. В еще другом варианте воплощения матрица 2030 дисплея является матрицей обычного дисплея или матрицей бистабильного дисплея (например, дисплея, включающего в себя матрицу интерферометрических модуляторов).In one embodiment, the
Устройство 2048 ввода позволяет пользователю управлять работой примерного устройства 2040 с дисплеем. В одном варианте воплощения устройство 2048 ввода включает в себя клавиатуру, такую как клавиатура QWERTY или телефонная клавиатура, кнопку, переключатель, сенсорный (т.е. чувствительный к прикосновениям) экран, чувствительную к давлению или теплу мембрану. В одном варианте воплощения микрофон 2046 является устройством ввода для примерного устройства 2040 с дисплеем. Когда микрофон 2046 используется для ввода данных в устройство, пользователем могут выдаваться голосовые (речевые) команды для управления операциями примерного устройства 2040 с дисплеем.An
Источник 2050 питания может включать в себя множество различных устройств хранения энергии, которые хорошо известны в данной области техники. Например, в одном варианте воплощения источник 2050 питания является перезаряжаемой (аккумуляторной) батареей, такой как никель-кадмиевая батарея или литий-ионная батарея. В другом варианте воплощения источник 2050 питания является возобновляемым источником энергии, конденсатором или солнечным элементом, включающим в себя пластмассовый солнечный элемент и краску с функцией солнечного элемента. В другом варианте воплощения источник 2050 питания выполнен с возможностью получения энергии из настенной розетки.
В некоторых вариантах воплощения функциональные возможности программируемости управления постоянно находится, как описано выше, в контроллере возбуждения, который может быть расположен в нескольких местах в системе электронного дисплея. В некоторых случаях функциональные возможности программируемости управления постоянно находится в схеме 2022 возбуждения матрицы. Специалистам в данной области должно быть понятно, что вышеописанная оптимизация может быть реализована в любом количестве аппаратных и/или программных компонентов и в различных конфигурациях.In some embodiments, the control programmability functionality is constantly located, as described above, in the drive controller, which may be located at several places in the electronic display system. In some cases, the control programmability functionality is constantly located in the
Варианты воплощения, показанные и описанные выше, приведены только в качестве примеров. Специалистами в данной области могут быть выполнены различные изменения и модификации представленных здесь вариантов воплощения без отхода от сущности и объема настоящего изобретения.The embodiments shown and described above are provided by way of example only. Various changes and modifications of the embodiments presented herein can be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention.
Claims (39)
процессор, который находится в электрической связи с упомянутыми интерферометрическими модуляторами, причем упомянутый процессор выполнен с возможностью обработки данных изображения; и запоминающее устройство в электрической связи с упомянутым процессором.11. The display device according to claim 1, additionally containing:
a processor that is in electrical communication with said interferometric modulators, said processor being configured to process image data; and a storage device in electrical communication with said processor.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US61340604P | 2004-09-27 | 2004-09-27 | |
| US61368204P | 2004-09-27 | 2004-09-27 | |
| US60/613,406 | 2004-09-27 | ||
| US60/613,682 | 2004-09-27 | ||
| US11/108,026 | 2005-04-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2005129863A RU2005129863A (en) | 2007-04-10 |
| RU2383043C2 true RU2383043C2 (en) | 2010-02-27 |
Family
ID=37999844
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2005129863/28A RU2383043C2 (en) | 2004-09-27 | 2005-09-26 | System and method of protecting microstructure of display matrix using pads in gap inside display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2383043C2 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5939785A (en) * | 1996-04-12 | 1999-08-17 | Texas Instruments Incorporated | Micromechanical device including time-release passivant |
| US5986796A (en) * | 1993-03-17 | 1999-11-16 | Etalon Inc. | Visible spectrum modulator arrays |
| US6466354B1 (en) * | 2000-09-19 | 2002-10-15 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for interferometric modulation of light |
-
2005
- 2005-09-26 RU RU2005129863/28A patent/RU2383043C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5986796A (en) * | 1993-03-17 | 1999-11-16 | Etalon Inc. | Visible spectrum modulator arrays |
| US5939785A (en) * | 1996-04-12 | 1999-08-17 | Texas Instruments Incorporated | Micromechanical device including time-release passivant |
| US6466354B1 (en) * | 2000-09-19 | 2002-10-15 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for interferometric modulation of light |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2005129863A (en) | 2007-04-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1640322B1 (en) | System and method for protecting micro-structure of display array using spacers in gap within display device | |
| JP4563892B2 (en) | System and method for protecting microelectromechanical systems using backplates with non-flat portions | |
| RU2379227C2 (en) | Method and system for erection into casing of devices on basis of mems with introduced gas absorber | |
| KR101199903B1 (en) | System and method for display device with integrated desiccant | |
| US7826127B2 (en) | MEMS device having a recessed cavity and methods therefor | |
| KR20060092877A (en) | System and Method for Protecting Microvoltaic Array Using Structurally Reinforced Backplate | |
| KR20060092919A (en) | Apparatus having a spacer for a patterned back plate and a method of manufacturing the same | |
| KR20060092916A (en) | Method and system for providing a micromechanical system device with additional sealant | |
| US7561334B2 (en) | Method and apparatus for reducing back-glass deflection in an interferometric modulator display device | |
| RU2383043C2 (en) | System and method of protecting microstructure of display matrix using pads in gap inside display device | |
| CN1762786B (en) | Systems and methods for protecting microelectromechanical system arrays using backplanes having non-planar portions | |
| CN1758128A (en) | Systems and methods for protecting microstructures of display arrays using spacers in gaps within a display device | |
| KR20070061517A (en) | Method and system for maintaining partial vacuum of display device | |
| HK1087484A (en) | System and method for protecting micro-structure of display array using spacers in gap within display device | |
| HK1087477A (en) | System and method for protecting microelectromechanical systems array using structurally reinforced back-plate | |
| HK1087786B (en) | System and method for display device with reinforcing substance | |
| HK1087786A1 (en) | System and method for display device with reinforcing substance |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC4A | Invention patent assignment |
Effective date: 20101006 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180927 |