RU2160915C1 - Catadioptic lens reduction optical system (modifications) - Google Patents
Catadioptic lens reduction optical system (modifications) Download PDFInfo
- Publication number
- RU2160915C1 RU2160915C1 RU2000111837A RU2000111837A RU2160915C1 RU 2160915 C1 RU2160915 C1 RU 2160915C1 RU 2000111837 A RU2000111837 A RU 2000111837A RU 2000111837 A RU2000111837 A RU 2000111837A RU 2160915 C1 RU2160915 C1 RU 2160915C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- lens
- mirror
- optical system
- components
- apochromatic
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 54
- 230000004048 modification Effects 0.000 title 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 title 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 7
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 210000004994 reproductive system Anatomy 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Lenses (AREA)
Abstract
Description
Предлагаемое изобретение относится к оптическим системам, в частности к зеркально-линзовым уменьшающим оптическим системам с апохроматической коррекцией, имеющим высокую степень пропускания в рабочем диапазоне спектра 248 нм - 546 нм при высокой выходной апертуре используемых в фотолитографическом производстве полупроводников методом последовательного переноса уменьшенного изображения промежуточного фотооригинала на модули полупроводниковой пластины. The present invention relates to optical systems, in particular to mirror-lens reducing optical systems with apochromatic correction, having a high degree of transmission in the working range of the spectrum from 248 nm to 546 nm with a high output aperture of semiconductors used in photolithographic production by sequentially transferring a reduced image of the intermediate photo original to semiconductor wafer modules.
Полупроводниковые пластины обычно производятся с использованием различных фотолитографических методов. Схемотехника, используемая в полупроводнике, воспроизводится с фотооригинала на полупроводниковый модуль (чип). Это воспроизведение часто выполняется с использованием оптических систем, конструкция которых нередко сложна и трудно добиться желательного разрешения, необходимого для репродуцирования постоянно уменьшающегося размера компонентов, размещаемых на полупроводниковом чипе. Поэтому делались многочисленные попытки разработать оптическую систему уменьшения, способную воспроизводить очень малые составляющие элементы - менее 0,35 микрона. В дополнение к потребности разрабатывать оптическую систему, способную к репродуцированию очень малых составляющих элементов, имеется также потребность повысить производительность системы, увеличивая числовую апертуру. Semiconductor wafers are usually manufactured using various photolithographic methods. The circuitry used in the semiconductor is reproduced from the photo original to the semiconductor module (chip). This reproduction is often performed using optical systems whose design is often complex and difficult to achieve the desired resolution needed to reproduce the ever-decreasing size of components placed on a semiconductor chip. Therefore, numerous attempts were made to develop an optical reduction system capable of reproducing very small constituent elements — less than 0.35 microns. In addition to the need to develop an optical system capable of reproducing very small constituent elements, there is also a need to increase system performance by increasing the numerical aperture.
Известна зеркально-линзовая уменьшающая оптическая система, состоящая из двух компонентов, один из которых выполнен в виде группы линз, образующих апохроматическую насадку, имеющую, по крайней мере, одну положительную линзу перед плоскостью предметов, а другой - в виде группы линз и вогнутого зеркала, обращенного вогнутостью к плоскости изображения, образующих зеркально-линзовый объектив, включающий две отражающие поверхности, и, по крайней мере одну положительную линзу перед плоскостью изображения, при этом одна из отражающих поверхностей выполнена в виде вогнутого зеркала, а другая размещена на плоской линзе, выполненной в виде оптического кубика, причем плоскость предметов и плоскость изображения перпендикулярны друг другу (патент US N 5537260, G 02 В 17/00, 16.07.96). В известном техническом решении представлен ряд конструктивных схем, каждая из которых функционирует в присущей ей ограниченной спектральной полосе длин волн 365 нм; 248 нм; 193 нм и числовой апертуре 0,6 - 0,7. Known mirror-lens reducing optical system consisting of two components, one of which is made in the form of a group of lenses forming an apochromatic nozzle having at least one positive lens in front of the plane of objects, and the other in the form of a group of lenses and a concave mirror, facing concavity to the image plane, forming a mirror lens, including two reflective surfaces, and at least one positive lens in front of the image plane, while one of the reflecting surface Tei is formed as a concave mirror, and the other is placed on a flat lens formed as an optical cube, and the object plane and image plane are perpendicular to each other (US N 5537260 patent, G 02 B 17/00, 07.16.96). A well-known technical solution presents a number of structural schemes, each of which operates in its inherent limited spectral band of wavelengths 365 nm; 248 nm; 193 nm and a numerical aperture of 0.6 - 0.7.
Недостатком известной зеркально-линзовой уменьшающей оптической системы является неспособность обеспечить функционирование системы одновременно в широком диапазоне спектра длин волн при относительно высокой числовой апертуре. A disadvantage of the known mirror-lens reducing optical system is the inability to ensure the functioning of the system simultaneously in a wide range of wavelength spectrum at a relatively high numerical aperture.
В то время как предшествующая оптическая система работает удовлетворительно для ее целей, есть постоянно увеличивающаяся потребность в улучшении работы системы за счет увеличения числовой апертуры. Следовательно, имеется потребность в оптической системе, имеющей относительно высокую числовую апертуру, способную обеспечивать удовлетворительное функционирование системы одновременно в относительно большом спектральном диапазоне волн. While the previous optical system works satisfactorily for its purposes, there is an ever-increasing need to improve the system by increasing the numerical aperture. Therefore, there is a need for an optical system having a relatively high numerical aperture, capable of providing satisfactory system operation simultaneously in a relatively large spectral wavelength range.
Задачей, на решение которой направлено заявленное изобретение, является создание зеркально-линзовой уменьшающей оптической системы, позволяющей получить технический результат, связанный с расширением функциональных возможностей системы за счет обеспечения ее функционирования одновременно в широком диапазоне спектра длин волн 248 - 546 нм при высокой числовой апертуре 0,7 - 0,8. The problem to which the claimed invention is directed, is the creation of a mirror-lens reducing optical system, which allows to obtain a technical result associated with the expansion of the system’s functionality by ensuring its operation simultaneously in a wide wavelength range of 248 - 546 nm at a high numerical aperture 0 7 - 0.8.
Указанная задача в предлагаемом изобретении в первом варианте выполнения оптической системы решается за счет того, что в зеркально-линзовой уменьшающей оптической системе, состоящей из двух компонентов, один из которых выполнен в виде группы линз, образующих апохроматическую насадку, имеющую, по крайней мере, одну положительную линзу перед плоскостью предметов, а другой - в виде группы линз и вогнутого зеркала, обращенного вогнутостью к плоскости изображения, образующих зеркально-линзовый объектив, включающий две отражающие поверхности и, по крайней мере, одну положительную линзу перед плоскостью изображения, при этом одна из отражающих поверхностей выполнена в виде вогнутого зеркала, линзы в обоих компонентах установлены вдоль оптической оси системы, перпендикулярной расположенным параллельно друг к другу плоскостям предметов и изображения, с обеспечением параллельного или близкого к нему хода лучей между первым и вторым компонентами, вторая отражающая поверхность размещена на выпуклой стороне ее центральной части следующей за зеркалом линзы, обращенной вогнутостью к плоскости изображения, при этом обе отражающие поверхности выполнены сферическими и концентричными или близкими к концентричным с соотношением радиусов, равным 2 - 2,5, а вогнутое зеркало выполнено с центральным отверстием, диаметр которого равен диаметру выходного пучка лучей апохроматической насадки. The specified problem in the present invention in the first embodiment of the optical system is solved due to the fact that in a mirror-lens reducing optical system consisting of two components, one of which is made in the form of a group of lenses forming an apochromatic nozzle having at least one a positive lens in front of the plane of objects, and the other in the form of a group of lenses and a concave mirror facing concavity to the image plane, forming a mirror-lens lens, including two reflective surfaces and at least one positive lens in front of the image plane, while one of the reflecting surfaces is made in the form of a concave mirror, the lenses in both components are installed along the optical axis of the system perpendicular to the object and image planes parallel to each other, ensuring parallel or close to it the path of the rays between the first and second components, the second reflecting surface is placed on the convex side of its central part following the mirror, facing concave Strongly to the image plane, wherein the two reflecting surfaces are spherical and concentric or nearly concentric to the ratio of the radii of 2 - 2.5, and a concave mirror formed with a central opening whose diameter is equal to the diameter of the output beam apochromatic nozzle beams.
Указанная задача во втором варианте выполнения зеркально-линзовой уменьшающей оптической системы решается за счет того, что вторая отражающая поверхность размещена на вогнутой стороне ее центральной части следующей за зеркалом линзы, обращенной вогнутостью к плоскости изображения, при этом обе отражающие поверхности выполнены сферическими и концентричными или близкими к концентричным с соотношением радиусов, равным 2 - 2,5, а вогнутое зеркало выполнено с центральным отверстием, диаметр которого равен диаметру выходного пучка лучей апохроматической насадки. The specified problem in the second embodiment of the mirror-lens reducing optical system is solved due to the fact that the second reflecting surface is placed on the concave side of its central part of the next lens, facing concavity to the image plane, while both reflecting surfaces are made spherical and concentric or close concentric with a radius ratio of 2 - 2.5, and a concave mirror is made with a Central hole, the diameter of which is equal to the diameter of the output beam of apo chromatic nozzles.
Кроме того, в частных случаях выполнения оптической системы в каждом из вариантов линзы в обоих компонентах выполнены, по крайней мере, из двух материалов - кварца и флюорита, прозрачных в ультрафиолетовом спектральном диапазоне длин волн 248,0 - 365,0 нм. In addition, in particular cases, the optical system in each of the lenses in both components is made of at least two materials - quartz and fluorite, transparent in the ultraviolet spectral range of wavelengths of 248.0 - 365.0 nm.
Сущность изобретения поясняется чертежами, где:
на фиг. 1 представлена общая схема оптической системы с телецентрическим прохождением лучей (I вариант);
на фиг. 2 - общий вид конструктивной схемы выполнения оптической системы (I вариант);
на фиг. 3 - общая схема оптической системы с телецентрическим прохождением лучей (II вариант);
на фиг. 4 - общий вид конструктивной схемы выполнения оптической системы (II вариант).The invention is illustrated by drawings, where:
in FIG. 1 shows a general diagram of an optical system with telecentric transmission of rays (option I);
in FIG. 2 is a general view of a structural diagram of an optical system (I embodiment);
in FIG. 3 is a general diagram of an optical system with telecentric transmission of rays (II variant);
in FIG. 4 - a General view of the structural scheme of the optical system (II option).
Зеркально-линзовая уменьшающая оптическая система в первом варианте ее выполнения (фиг. 1, фиг. 2) состоит из двух компонентов I и II. Группа линз 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 образует апохроматическую насадку, а зеркало 8 и группа линз 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 - зеркально-линзовый объектив. Апохроматическая насадка I имеет, по крайней мере, одну положительную линзу, например линзу 1, перед плоскостью предметов, которая отображает входной зрачок в бесконечность по отношению к диафрагме. Зеркало 8 выполнено вогнутым с вогнутостью, обращенной к плоскости изображения. По крайней мере одна из линз зеркально-линзового объектива, например линза 15, выполнена положительной, что позволяет отобразить положение выходного зрачка в бесконечность по отношению к диафрагме. The mirror-lens reducing optical system in the first embodiment of its implementation (Fig. 1, Fig. 2) consists of two components I and II. A group of
Зеркально-линзовый объектив II включает две отражающие зеркальные поверхности, одна из которых выполнена в виде вогнутого зеркала 8, а другая размещена на выпуклой стороне ее центральной части линзы 9, расположенной за зеркалом 8. Mirror-lens II includes two reflective mirror surfaces, one of which is made in the form of a
Все линзы зеркально-линзовой уменьшающей оптической системы расположены вдоль оптической оси O-O, а плоскости предметов и изображения расположены перпендикулярно оптической оси системы. All lenses of the mirror-lens reducing optical system are located along the optical axis O-O, and the plane of objects and images are perpendicular to the optical axis of the system.
Отражающие поверхности зеркально-линзового объектива выполнены в виде сферических зеркал и расположены концентрично или близко к концентричности, при этом отношение радиуса R1 отражающей поверхности, выполненной в виде вогнутого зеркала 8, к радиусу R2 отражающей поверхности, расположенной на выпуклой стороне линзы 9, равно 2 - 2,5. The reflecting surfaces of the mirror lens are made in the form of spherical mirrors and are concentric or close to concentricity, while the ratio of the radius R1 of the reflecting surface made in the form of a
Оптическая система рассчитана таким образом, что между апохроматической насадкой и зеркально-линзовым объективом проходят параллельные или близкие к ним лучи как для осевого, так и для наклонных пучков. The optical system is designed in such a way that parallel or close to them rays for both axial and inclined beams pass between the apochromatic nozzle and the mirror-lens lens.
Вогнутое зеркало 8 выполнено с центральным отверстием, диаметр D3 которого равен диаметру D^ выходного пучка лучей апохроматической насадки.The
Зеркально-линзовая уменьшающая оптическая система во втором варианте ее выполнения (фиг. 3, фиг. 4) включает все перечисленные выше элементы с присущим им конструктивным выполнением и дополнительную линзу 16. The mirror-lens reducing optical system in the second embodiment of its implementation (Fig. 3, Fig. 4) includes all of the above elements with their inherent structural design and an
При этом одна из отражающих поверхностей также выполнена в виде вогнутого зеркала 8, а другая размещена на вогнутой стороне ее центральной части линзы 9, обращенной вогнутостью к плоскости изображения. Отношение R1/R2 также равно 2 - 2,5. Moreover, one of the reflective surfaces is also made in the form of a
В обоих вариантах выполнения оптической системы линзы в обоих компонентах выполнены, по крайней мере, из двух материалов кварца и флюорита (CaF2), например линза 6 в апохроматической насадке I и линза 13 в зеркально-линзовом объективе II выполнены из флюорита, а все другие линзы из кварца.In both versions of the optical system, the lenses in both components are made of at least two materials of quartz and fluorite (CaF 2 ), for example,
Оптическая система функционирует следующим образом. The optical system operates as follows.
Из плоскости предметов (плоскость фотооригинала) первая группа линз 1 - 7 (апохроматическая насадка) передает через зеркально-линзовый объектив в плоскость изображения элементы интегральных схем с уменьшением в 5 раз. Главные лучи внеосевых пучков выходящих из плоскости предметов имеют параллельный ход относительно оптической оси до преломления от первой поверхности оптической системы, далее между 6 и 7 линзами оптические лучи осевого и наклонных пучков имеют также параллельный ход и на выходе из оптической системы до плоскости изображения главные лучи также параллельны относительно оптической оси. From the plane of objects (the plane of the photo-original), the first group of
Такие оптические системы называются - оптические репродуктивные системы с телецентрическим ходом лучей. Это решение оптических систем достигается расположением вблизи плоскости предметов и изображения положительных линз, например 1 и 15 (1 вариант) и 1 и 15, 16 (II вариант), имеющих фокусное расстояние, равное положению от плоскости изображения до выходного зрачка. Such optical systems are called optical reproductive systems with a telecentric ray path. This solution of optical systems is achieved by the location near the plane of objects and the image of positive lenses, for example 1 and 15 (option 1) and 1 and 15, 16 (option II), having a focal length equal to the position from the image plane to the exit pupil.
Линза 1 выполняет условие телецентрического хода лучей, линзы 2, 4 выполняют роль телесокращения апохроматической насадки 1 (данное условие необходимо для сокращения линейных размеров оптической системы), линза 3 исправляет хроматические аберрации главных лучей и дисторсию, линзы 5, 6 вместе с линзой 4 направляют остальные аберрации осевого и наклонных пучков в апохроматической насадке I.
Из апохроматической насадки I через центральное отверстие вогнутого зеркала 8 лучи проходят через слабо отрицательную линзу 7 и падают на зеркальную отражающую поверхность линзы 9, отражаясь от нее лучи попадают на зеркало 8 и отражаясь от него падают на преломляющую часть линзы 9, а далее лучи проходят через 10, 11, 12, 13, 14, 15 (I вариант) и 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16 (II вариант) преломляющие линзы зеркально-линзового объектива II. From the apochromatic nozzle I, through the central hole of the
Отрицательные линзы 7, 11, 13 решают задачу исправления остаточной кривизны изображения концентрических зеркальных отражающих поверхностей. Положительные линзы 14, 15 (I вариант) и 15, 16 (II вариант) выполняют условие телецентрического хода лучей зеркально-линзового объектива. Положительные линзы 10, 12 совместно с остальными линзами способствуют исправлению всех аберраций зеркально-линзового объектива II.
Параллельный ход лучей между апохроматической насадкой и зеркально-линзовым объективом позволяет перефокусировать плоскость предмета относительно плоскости изображения перемещения апохроматической насадки или зеркально-линзовым объективом вдоль оптической оси, не изменяя масштаба изображения, что является определяющим при совмещении реперных знаков фотооригинала и чипов на полупроводниковой пластине при экспонировании фотооригинала на поверхность пластины с учетом технологических искажений ее форм. The parallel path of rays between the apochromatic nozzle and the mirror-lens lens allows you to refocus the plane of the object relative to the image plane of the displacement of the apochromatic nozzle or the mirror-lens lens along the optical axis, without changing the image scale, which is crucial when combining the reference signs of the photo original and chips on a semiconductor plate during exposure photo original on the surface of the plate, taking into account technological distortions of its forms.
Применение двух концентрических сферических зеркал (отражающих поверхностей) позволяет исправить аберрации при очень высокой светосиле и большом поле зрения, а также позволяет достаточно простым способом осуществлять юстировку этих зеркал, компенсировать ошибки изготовления и влияния температурных искажений. The use of two concentric spherical mirrors (reflective surfaces) makes it possible to correct aberrations at a very high aperture ratio and a large field of view, and also allows a simple enough way to align these mirrors, to compensate for manufacturing errors and the influence of temperature distortions.
Расположение двух концентрических сферических отражающих поверхностей согласно второму варианту выполнения оптической системы позволяет повысить выходную апертуру до 0,8 с полным исправлением аберраций. The location of the two concentric spherical reflective surfaces according to the second embodiment of the optical system allows to increase the output aperture to 0.8 with full correction of aberrations.
Оптическая система расчитана таким образом, что между апохроматической насадкой и зеркально-линзовым объективом проходят параллельные или близкие к ним лучи как для осевого, так и для наклонных пучков, а оптические элементы выполнены из кристалла флюорита и кварца, которые прозрачны в ультрафиолетовом диапазоне спектра. The optical system is designed in such a way that parallel or close to them rays for both axial and inclined beams pass between the apochromatic nozzle and the mirror lens, and the optical elements are made of a fluorite and quartz crystal, which are transparent in the ultraviolet range of the spectrum.
Примеры выполнения зеркально-линзовой уменьшающей оптической системы с конструктивными данными в первом и втором вариантах ее исполнения приведены в табл. 1 (первый вариант) и табл. 2 (второй вариант), где f - фокусное расстояние оптической системы; S' - задний отрезок оптической системы; S - передний отрезок оптической системы; β - увеличение оптической системы; Sвх.зр. - положение входного зрачка оптической системы; S'вых.зр. - положение выходного зрачка оптической системы.Examples of performing a mirror-lens reducing optical system with structural data in the first and second variants of its execution are given in table. 1 (first option) and tab. 2 (second option), where f is the focal length of the optical system; S 'is the rear segment of the optical system; S is the front segment of the optical system; β is the increase in the optical system; S int. - the position of the entrance pupil of the optical system; S ' outlook - the position of the exit pupil of the optical system.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000111837A RU2160915C1 (en) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | Catadioptic lens reduction optical system (modifications) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000111837A RU2160915C1 (en) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | Catadioptic lens reduction optical system (modifications) |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2160915C1 true RU2160915C1 (en) | 2000-12-20 |
Family
ID=20234527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2000111837A RU2160915C1 (en) | 2000-05-15 | 2000-05-15 | Catadioptic lens reduction optical system (modifications) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2160915C1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2213429C1 (en) * | 2002-02-14 | 2003-09-27 | Московское конструкторское бюро "Электрон" | Method for producing unscanned variable-field-of-vision-angle thermal imager and unscanned thermal imager implementing this method |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3707325A (en) * | 1969-08-16 | 1972-12-26 | George Eduard Gerard Hardeman | Optical imaging system |
| US4953960A (en) * | 1988-07-15 | 1990-09-04 | Williamson David M | Optical reduction system |
| US5031976A (en) * | 1990-09-24 | 1991-07-16 | Kla Instruments, Corporation | Catadioptric imaging system |
| RU2047202C1 (en) * | 1993-01-15 | 1995-10-27 | Специальное конструкторское бюро техники ночного видения Научно-производственного объединения "Орион" | Optical mirror-lens system for image transfer |
| US5537260A (en) * | 1993-01-26 | 1996-07-16 | Svg Lithography Systems, Inc. | Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture |
-
2000
- 2000-05-15 RU RU2000111837A patent/RU2160915C1/en active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3707325A (en) * | 1969-08-16 | 1972-12-26 | George Eduard Gerard Hardeman | Optical imaging system |
| US4953960A (en) * | 1988-07-15 | 1990-09-04 | Williamson David M | Optical reduction system |
| US5031976A (en) * | 1990-09-24 | 1991-07-16 | Kla Instruments, Corporation | Catadioptric imaging system |
| RU2047202C1 (en) * | 1993-01-15 | 1995-10-27 | Специальное конструкторское бюро техники ночного видения Научно-производственного объединения "Орион" | Optical mirror-lens system for image transfer |
| US5537260A (en) * | 1993-01-26 | 1996-07-16 | Svg Lithography Systems, Inc. | Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2213429C1 (en) * | 2002-02-14 | 2003-09-27 | Московское конструкторское бюро "Электрон" | Method for producing unscanned variable-field-of-vision-angle thermal imager and unscanned thermal imager implementing this method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5241423A (en) | High resolution reduction catadioptric relay lens | |
| US5089913A (en) | High resolution reduction catadioptric relay lens | |
| US6717746B2 (en) | Catadioptric reduction lens | |
| US7092168B2 (en) | Projection optical system and projection exposure apparatus | |
| EP0095622B1 (en) | Optical system | |
| JP3747958B2 (en) | Catadioptric optics | |
| US5052763A (en) | Optical system with two subsystems separately correcting odd aberrations and together correcting even aberrations | |
| JP3085481B2 (en) | Catadioptric reduction projection optical system, and exposure apparatus having the optical system | |
| EP1291695A2 (en) | Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture | |
| JPH075365A (en) | Off-axis reflection refraction type projection optical system | |
| EP0267766A2 (en) | Catoptric reduction imaging systems | |
| JP5047544B2 (en) | Lithographic projection objective correction method and lithographic projection objective | |
| US5844728A (en) | Catadioptric reduction projection optical system | |
| US6844915B2 (en) | Optical system and exposure apparatus provided with the optical system | |
| JPH0533368B2 (en) | ||
| TW200401336A (en) | Optical integrator, optical illumination device, exposure device and exposure method | |
| US20040075894A1 (en) | Catadioptric reduction objective | |
| US7317583B2 (en) | High numerical aperture projection system and method for microlithography | |
| JPH0130125B2 (en) | ||
| US6208473B1 (en) | Catadioptric projection lens | |
| WO2005015316A2 (en) | Projection objective for microlithography | |
| RU2160915C1 (en) | Catadioptic lens reduction optical system (modifications) | |
| US7283294B2 (en) | Catadioptric projection optical system, exposure apparatus having the same, device fabrication method | |
| JPS62210415A (en) | Optical projection system for precise copying | |
| US7046459B1 (en) | Catadioptric reductions lens |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TK4A | Correction to the publication in the bulletin (patent) |
Free format text: AMENDMENT TO CHAPTER -MM4A- IN JOURNAL: 35-2003 |