RU2103232C1 - Индукционная печь, устройство с использованием этой печи, способ тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс и способы получения кремнийдиоксидного стекла - Google Patents
Индукционная печь, устройство с использованием этой печи, способ тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс и способы получения кремнийдиоксидного стекла Download PDFInfo
- Publication number
- RU2103232C1 RU2103232C1 RU94046037A RU94046037A RU2103232C1 RU 2103232 C1 RU2103232 C1 RU 2103232C1 RU 94046037 A RU94046037 A RU 94046037A RU 94046037 A RU94046037 A RU 94046037A RU 2103232 C1 RU2103232 C1 RU 2103232C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- silicon dioxide
- furnace
- heat treatment
- synthetic
- gas
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01202—Means for storing or carrying optical fibre preforms, e.g. containers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/07—Impurity concentration specified
- C03B2201/075—Hydroxyl ion (OH)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/22—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with deuterium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Сущность изобретения: индукционная печь, устройство с использованием этой печи и способы тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс в условиях высокой чистоты, включает трубчатый сусцептор, сориентированный так, что его ось проходит вертикально, и индукционную катушку для повышения температуры этого сусцептора. Сусцептор выполнен из графита и/или карбида кремния и заключен внутрь вакуумного кожуха, выполненного из стеклоподобной двуокиси кремния или расплавленного кварца, причем этот кожух охватывается индукционной катушкой, которая охлаждается жидкостью. Конструкция такова, что дает возможность вакуумному кожуху работать при температурах, которые ниже тех, что способны вызвать либо расстекловывание, либо прогиб кожуха даже тогда, когда трубчатый сусцептор нагревают до 1700oC. Таким образом, спекание пористой синтетической кремнийдиоксидной массы можно проводить либо под атмосферным, либо под пониженным давлением, причем печь содержит вал, приспособленный для того, чтобы служить опорой для нагреваемой массы, и способный вращаться вокруг упомянутой вертикальной оси или перемещаться вдоль этой оси трубчатого сусцептора. 4 с. и 6 з. п. ф-лы, 4 ил.
Description
Изобретение относится к индукционным печам для тепловой обработки, устройствам и способам для обработки крупногабаритных синтетических стеклоподобных кремнийдиоксидных масс, а также к способам получения стекла с помощью указанного устройства и способа.
Производство высокочистых стекловидных кремнийдиоксидных масс приобретает все более растущее промышленное значение, что обусловлено, в частности, потребностями оптиковолоконной и полупроводниковой отраслей промышленности. Первоначально потребности этих отраслей индустрии можно было удовлетворять расплавленным кварцевым стеклом, приготовленным сплавлением высокочистых кварцевых кристаллических порошков с помощью электротехники или техники плавления в пламени.
Однако по мере возрастания требований, предъявляемых к чистоте, с использованием встречающегося в природе кристаллического сырья становилось все труднее достигать заданной степени чистоты, поэтому внимание исследователей переключилось на поиски других, искусственных источников стеклоподобной двуокиси кремния. Было опубликовано множество работ, посвященных этим альтернативным путям, самыми важными из которых оказались техника осаждения из паров и золь-гелевая или родственная ей техника.
Так, например, крупногабаритные массы из пористой синтетической стеклоподобной двуокиси кремния теперь можнор
Claims (10)
1. Индукционная печь для тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс в условиях высокой чистоты, включающая в себя трубчатый сусцептор, ось которого сориентирована вертикально, и охлаждаемую водой индукционную катушку для повышения температуры сусцептора, причем этот сусцептор выполнен из графита и/или карбида кремния и заключен внутрь вакуумного кожуха, выполненного из стеклоподобной двуокиси кремния или расплавленного кварца, этот кожух охватывается индукционной катушкой, охлаждаемой жидкостью, отличающаяся тем, что ее конструкция позволяет вакуумному кожуху работать при температурах ниже тех, при которых может происходить расстекловывание или прогиб кожуха, даже когда трубчатый сусцептор нагревают до температуры 1700oС, благодаря чему тепловую обработку и/или спекание пористой синтетической кремнийдиоксидной массы можно проводить под атмосферным или пониженным давлением.
2. Печь по п. 1, отличающаяся тем, что дополнительно включает вал, обладающий возможностью вращения вокруг упомянутой вертикальной оси трубчатого сусцептора и перемещения вдоль нее, причем указанный вал приспособлен для того, чтобы служить опорой для нагреваемой массы.
3. Печь по пп. 1 и 2, отличающаяся тем, что индукционная катушка существенно короче трубчатого сусцептора и смонтирована с возможностью перемещения над кожухом, благодаря чему создается горячая зона, подвижная в осевом направлении вдоль упомянутого сусцептора, обеспечивающая постепенную тепловую обработку или зонное спекание содержащейся в нем пористой синтетической кремнийдиоксидной массы.
4. Печь по пп. 1 3, отличающаяся тем, что вакуумный кожух заканчивается внизу закрывающими средствами и опирается вверху на каретку или аналогичную подвижную опору, которая дает печи возможность равномерного горизонтального перемещения от одного участка обработки к другому, благодаря приведению в действие закрывающих средств этот вакуумный кожух сочленяется с последующей соосной камерой для тепловой обработки.
5. Устройство для тепловой обработки и/или спекания пористых синтетических кремнийдиоксидных масс, отличающееся тем, что оно включает в себя по меньшей мере две печные камеры, причем верхняя из них представляет собой печь по п. 1, которая способна перемещаться над приспособлением, используемым для осаждения кремнийдиоксидной наслаивающейся массы, благодаря чему обеспечивается возможность загрузки наслоившейся массы снизу в эту печную камеру и ее транспортировки в условиях регулируемых газовой атмосферы и температуры к участку над второй печной камерой, в которой можно проводить зонное спекание также в регулируемой газовой атмосфере и в регулируемых условиях температуры и давления.
6. Способ дегидратации пористых синтетических кремнийдиоксидных масс, отличающийся тем, что он включает в себя тепловую обработку в печи по любому из пп. 1 4 или в устройстве по п. 5 в одной или нескольких нижеследующих средах: вакуум, нереакционноспособный, свободный от хлора газ, водород, водородсодержащий, свободный от хлора газ, дейтерийсодержащий газ и хлор- или фторсодержащий газ.
7. Способ изготовления синтетического кварцевого стекла, отличающийся тем, что включает стадию термообработки и/или спекания в печи по любому из пп. 1 4 или устройстве по п. 5.
8. Способ по п. 7, отличающийся тем, что термообработку и/или спекание проводят в газовой атмосфере фторсодержащего газа для получения композиции синтетического кварцевого стекла, легированного фтором.
9. Способ по п. 7, отличающийся тем, что для получения синтетического кварцевого стекла, содержащего гидроксильные группы ОН в количестве менее 10 ч. на 1 млн, используют пористую композицию синтетического диоксида кремния, имеющую более высокий уровень содержания ОН, путем проведения стадии термообработки в атмосфере, содержащей водород или водородсодержащий, но не содержащий хлор, раскисляющий газ, выбранный из группы, состоящей из аммиака, метана или иного углеводорода, моносилана или полисилана, или смесей этих соединений, с последующим синтезом в вакууме или в атмосфере, по существу не включающей никакой водородсодержащий газ.
10. Способ по п. 7, отличающийся тем, что для получения синтетического кварцевого стекла, содержащего ОН в количестве менее 10 ч. на 1 млн, используют пористую композицию синтетического диоксида кремния, имеющую более высокий уровень содержания ОН, путем проведения стадии термообработки в атмосфере, содержащей дейтерий или дейтерийсодержащий, но не содержащий хлор, раскисляющий газ, с последующим синтезом в вакууме или в атмосфере, по существу не включающей водородсодержащие или дейтерийсодержащие газы.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9210327.4 | 1992-05-14 | ||
GB929210327A GB9210327D0 (en) | 1992-05-14 | 1992-05-14 | Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies |
PCT/GB1993/000983 WO1993023341A1 (en) | 1992-05-14 | 1993-05-13 | Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU94046037A RU94046037A (ru) | 1996-10-10 |
RU2103232C1 true RU2103232C1 (ru) | 1998-01-27 |
Family
ID=10715477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU94046037A RU2103232C1 (ru) | 1992-05-14 | 1993-05-13 | Индукционная печь, устройство с использованием этой печи, способ тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс и способы получения кремнийдиоксидного стекла |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5713979A (ru) |
EP (1) | EP0640060B1 (ru) |
JP (1) | JP3388742B2 (ru) |
KR (1) | KR100261872B1 (ru) |
AU (1) | AU670084B2 (ru) |
CA (1) | CA2135673A1 (ru) |
DE (1) | DE69304693T2 (ru) |
GB (1) | GB9210327D0 (ru) |
RU (1) | RU2103232C1 (ru) |
SG (1) | SG49292A1 (ru) |
WO (1) | WO1993023341A1 (ru) |
Families Citing this family (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2917729B2 (ja) * | 1993-03-03 | 1999-07-12 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP3060782B2 (ja) * | 1993-06-08 | 2000-07-10 | 住友電気工業株式会社 | 高純度透明ガラスの製造方法 |
DE4442593A1 (de) * | 1994-11-30 | 1996-06-05 | Didier Werke Ag | Ofen zum Brennen von keramischen Formteilen |
DE69800554T2 (de) * | 1997-03-27 | 2001-10-25 | Alcatel, Paris | Thermische Isolierung eines Ofens zum Ziehen von optischen Fasern |
WO1999003790A1 (en) * | 1997-07-15 | 1999-01-28 | Corning Incorporated | Decreased h2 sensitivity in optical fiber |
JPH1179773A (ja) * | 1997-09-08 | 1999-03-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の製造方法及びその装置 |
GB2339888B (en) * | 1998-06-17 | 2002-07-10 | Rustec Ltd | Induction furnace |
FR2781475B1 (fr) * | 1998-07-23 | 2000-09-08 | Alsthom Cge Alcatel | Utilisation d'un creuset en graphite poreux pour traiter des granules de silice |
US6543257B1 (en) * | 1999-05-28 | 2003-04-08 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Dehydration and sintering apparatus for porous optical fiber preform |
KR100346112B1 (ko) * | 1999-12-22 | 2002-08-01 | 삼성전자 주식회사 | 솔-젤 공법을 채용한 광섬유 모재 제조공정의 소결공정에서 오버 자켓팅 튜브 소결장치 및 그 방법 |
FR2802916B1 (fr) * | 1999-12-27 | 2002-03-15 | Cit Alcatel | Agencement d'entree de preforme pour four de tirage de fibre optique, four dote d'un tel agencement et preforme equipee pour cooperer avec cet agencement |
JP2001247318A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-09-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 合成石英ガラス光学部材及びその製造方法 |
DE10020033C2 (de) | 2000-04-22 | 2003-04-03 | Heraeus Quarzglas | Vorrichtung zum Sintern eines Formkörpers |
JP2001342026A (ja) † | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Tosoh Quartz Corp | 石英ガラスの製造方法及び製造装置 |
US6732549B1 (en) * | 2000-08-01 | 2004-05-11 | Lucent Technologies Inc. | Multi-pass sintering of a sol-gel body through a hot zone |
US6709629B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-03-23 | Dowa Mining Co., Ltd. | Vacuum heat treatment furnace |
CN100345782C (zh) * | 2001-06-28 | 2007-10-31 | 古河电气工业株式会社 | 光纤预制体的制造方法以及烧结装置 |
JP2003114347A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-04-18 | Furukawa Electric Co Ltd:The | シングルモード光ファイバ、その製造方法および製造装置 |
US8037717B2 (en) * | 2001-10-26 | 2011-10-18 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for pulsed doping or drying a soot preform |
JP3753975B2 (ja) * | 2001-11-29 | 2006-03-08 | 株式会社フジクラ | シングルモード光ファイバの製造方法及びシングルモード光ファイバ |
JP2003183042A (ja) | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法及びその製造方法で製造した光ファイバ用母材 |
JP2003227959A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 波長多重伝送用単一モード光ファイバ |
DE10218864C1 (de) * | 2002-04-26 | 2003-10-23 | Heraeus Tenevo Ag | Verfahren zur Herstellung eines zylinderförmigen Quarzglaskörpers mit geringem OH-Gehalt |
US6861629B2 (en) | 2002-05-09 | 2005-03-01 | Ameritherm, Inc. | Induction furnace for heating a workpiece in an inert atmosphere or vacuum |
US20030221459A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-04 | Walczak Wanda J. | Method for forming an optical waveguide fiber preform |
JP2004002106A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 低損失光ファイバ母材とその製造方法 |
JP3970692B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2007-09-05 | 信越化学工業株式会社 | プリフォーム製造方法 |
JP2004053351A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Fujitsu Ten Ltd | ナビゲーション装置 |
US20040060327A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Berkey George E | Method for treating an optical fiber preform with deuterium |
KR100507627B1 (ko) * | 2002-11-30 | 2005-08-10 | 엘에스전선 주식회사 | 입구와 출구의 내경이 상이한 광섬유 제조용 로 |
US7866189B2 (en) * | 2003-12-08 | 2011-01-11 | Fujikura Ltd. | Dehydration-sintering furnace, a manufacturing method of an optical fiber preform utilizing the furnace and an optical fiber preform manufactured by the method |
JP2005263557A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質ガラス母材の焼結方法及び焼結装置 |
DE102004035086B4 (de) * | 2004-07-20 | 2008-07-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines Hohlzylinders aus Quarzglas mit kleinem Innendurchmesser sowie zur Durchführung des Verfahrens geeignete Vorrichtung |
JP4712359B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2011-06-29 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
CN102583997B (zh) * | 2004-11-29 | 2015-03-11 | 古河电气工业株式会社 | 光纤母材、光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法 |
US20060281623A1 (en) * | 2005-06-10 | 2006-12-14 | General Electric Company | Free-formed quartz glass ingots and method for making the same |
US7635658B2 (en) * | 2005-11-07 | 2009-12-22 | Corning Inc | Deuteroxyl-doped silica glass, optical member and lithographic system comprising same and method of making same |
JP2013075827A (ja) * | 2005-11-07 | 2013-04-25 | Corning Inc | デューテロキシルドープ石英ガラス、このガラスを有する光学部材及びリソグラフィシステム並びにこのガラスの作成方法 |
KR100762611B1 (ko) * | 2006-01-10 | 2007-10-01 | 삼성전자주식회사 | 광섬유 모재의 제조 방법 및 이를 이용한 광섬유의 제조방법 |
GB0605461D0 (en) * | 2006-03-17 | 2006-04-26 | Saint Gobain Quartz Plc | Manufacture of large articles in synthetic vitreous silica |
JP4789689B2 (ja) * | 2006-04-18 | 2011-10-12 | 信越化学工業株式会社 | 低損失光ファイバ母材の製造方法 |
US10843954B2 (en) * | 2006-12-05 | 2020-11-24 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Synthetic opaque quartz glass and method for producing the same |
FR2914298B1 (fr) * | 2007-03-27 | 2010-03-12 | Draka Comteq France | Procede et equipement de fabrication d'une preforme de fibre optique. |
CN101730667B (zh) * | 2007-05-09 | 2013-03-27 | 康宁股份有限公司 | Oh、od含量低的玻璃 |
JP5270862B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-08-21 | 信越石英株式会社 | 銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプ |
US20110114022A1 (en) * | 2007-12-12 | 2011-05-19 | Veeco Instruments Inc. | Wafer carrier with hub |
US8021487B2 (en) * | 2007-12-12 | 2011-09-20 | Veeco Instruments Inc. | Wafer carrier with hub |
JP5345352B2 (ja) * | 2008-08-04 | 2013-11-20 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ用母材の製造方法 |
US20100122558A1 (en) * | 2008-11-19 | 2010-05-20 | John Michael Jewell | Apparatus and Method of Sintering an Optical Fiber Preform |
CN102348654B (zh) * | 2009-03-12 | 2014-09-17 | 株式会社藤仓 | 光纤母材的制造方法 |
JP5541775B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2014-07-09 | 信越化学工業株式会社 | ガラス母材延伸装置 |
GB2478307A (en) | 2010-03-02 | 2011-09-07 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Manufacture of silica glass |
US8789390B2 (en) * | 2010-04-15 | 2014-07-29 | Corning Incorporated | Near net fused silica articles and method of making |
JP6024653B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2016-11-16 | 株式会社ニコン | 合成石英ガラスの熱処理装置、合成石英ガラスの熱処理方法、光学系の製造方法および露光装置の製造方法 |
GB201106015D0 (en) | 2011-04-08 | 2011-05-25 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Production of silica soot bodies |
JP2013230961A (ja) * | 2012-05-02 | 2013-11-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 光ファイバプリフォームの製造方法 |
WO2014035480A1 (en) | 2012-08-30 | 2014-03-06 | General Electric Company | Induction furnace with uniform cooling capability |
GB201320280D0 (en) | 2013-11-18 | 2014-01-01 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Furnace for sintering silica soot bodies |
JP5995923B2 (ja) * | 2014-08-06 | 2016-09-21 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 |
FR3034093B1 (fr) * | 2015-03-24 | 2021-01-29 | Roctool | Dispositif et procede pour le formage du verre |
JP6881777B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-06-02 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 合成石英ガラス粒の調製 |
US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
CN108698885A (zh) | 2015-12-18 | 2018-10-23 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 石英玻璃制备中硅含量的提升 |
JP7044454B2 (ja) | 2015-12-18 | 2022-03-30 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス調製時の中間体としての炭素ドープ二酸化ケイ素造粒体の調製 |
JP6940235B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-09-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 高融点金属の溶融坩堝内での石英ガラス体の調製 |
TWI788278B (zh) * | 2015-12-18 | 2023-01-01 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 由均質石英玻璃製得之玻璃纖維及預成型品 |
KR20180094087A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-22 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 | 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조 |
TW201731782A (zh) | 2015-12-18 | 2017-09-16 | 何瑞斯廓格拉斯公司 | 在多腔式爐中製備石英玻璃體 |
US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
JP6940236B2 (ja) | 2015-12-18 | 2021-09-22 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 溶融炉内での露点監視による石英ガラス体の調製 |
CN105776842A (zh) * | 2016-05-06 | 2016-07-20 | 藤仓烽火光电材料科技有限公司 | 用于制备低损耗光纤预制棒的烧结装置及换热方法 |
CN106116122B (zh) * | 2016-08-31 | 2018-12-25 | 中国建筑材料科学研究总院 | 制备石英玻璃的烧结装置及系统 |
CN106430912A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-22 | 中国建筑材料科学研究总院 | 低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃 |
CN106396350A (zh) * | 2016-08-31 | 2017-02-15 | 中国建筑材料科学研究总院 | 制备石英玻璃的烧结方法及石英玻璃 |
JP7070561B2 (ja) * | 2017-05-15 | 2022-05-18 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバ母材 |
NL2019876B1 (en) * | 2017-10-20 | 2019-04-29 | Corning Inc | Optical fiber preforms with halogen doping |
CA3162026A1 (en) | 2020-01-09 | 2021-07-15 | Kurt E. Heikkila | Apparatus and methods for sintering |
US12129198B2 (en) * | 2020-06-16 | 2024-10-29 | Sterlite Technologies Limited | Method of sintering glass preform with reduced helium consumption |
DE112020007706T5 (de) * | 2020-10-19 | 2023-08-03 | HengTong Optic-Electric Co., Ltd. | Vorrichtung und verfahren zur herstellung einer glasfaservorform |
CN118598501B (zh) * | 2024-08-08 | 2024-11-15 | 江苏亨通光导新材料有限公司 | 一种低水峰光纤预制棒无氦烧结装置及其使用方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3972704A (en) * | 1971-04-19 | 1976-08-03 | Sherwood Refractories, Inc. | Apparatus for making vitreous silica receptacles |
GB1384319A (en) * | 1971-04-19 | 1975-02-19 | Sherwood Refractories | Vitreous silica and process and apparatus for making same |
US4450333A (en) * | 1982-05-28 | 1984-05-22 | At&T Technologies, Inc. | Zirconia induction furnace |
US4608473A (en) * | 1982-05-28 | 1986-08-26 | At&T Technologies, Inc. | Modified zirconia induction furnace |
US4547644A (en) * | 1984-02-24 | 1985-10-15 | At&T Technologies, Inc. | Apparatus for heating a preform from which lightguide fiber is drawn |
DE3432427A1 (de) * | 1984-09-04 | 1986-03-13 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung einer vorform |
EP0542724B1 (en) * | 1987-02-16 | 1996-06-12 | Sumitomo Electric Industries Limited | Furnace for heating glass preform for optical fiber and method for producing glass preform |
AU593724B2 (en) * | 1987-02-16 | 1990-02-15 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Furnace for heating glass preform for optical fiber and method for producing glass preform |
DE3711281C1 (de) * | 1987-04-03 | 1988-06-16 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Verfahren zum Verglasen eines poroesen,aus Glasruss bestehenden Koerpers und Ofen zu dessen Durchfuehrung |
AU626362B2 (en) * | 1988-12-29 | 1992-07-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Furnace for producing high purity quartz glass preform |
US5185020A (en) * | 1990-08-27 | 1993-02-09 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing a silica-base material for optical fiber |
-
1992
- 1992-05-14 GB GB929210327A patent/GB9210327D0/en active Pending
-
1993
- 1993-05-13 US US08/335,789 patent/US5713979A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-13 DE DE69304693T patent/DE69304693T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-13 JP JP51999893A patent/JP3388742B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-13 AU AU40797/93A patent/AU670084B2/en not_active Ceased
- 1993-05-13 WO PCT/GB1993/000983 patent/WO1993023341A1/en not_active Application Discontinuation
- 1993-05-13 RU RU94046037A patent/RU2103232C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1993-05-13 EP EP93910192A patent/EP0640060B1/en not_active Revoked
- 1993-05-13 KR KR1019940704011A patent/KR100261872B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-05-13 SG SG1996008847A patent/SG49292A1/en unknown
- 1993-05-13 CA CA002135673A patent/CA2135673A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1993023341A1 (en) | 1993-11-25 |
GB9210327D0 (en) | 1992-07-01 |
AU670084B2 (en) | 1996-07-04 |
EP0640060B1 (en) | 1996-09-11 |
AU4079793A (en) | 1993-12-13 |
DE69304693D1 (de) | 1996-10-17 |
EP0640060A1 (en) | 1995-03-01 |
KR950701604A (ko) | 1995-04-28 |
SG49292A1 (en) | 1998-05-18 |
US5713979A (en) | 1998-02-03 |
DE69304693T2 (de) | 1997-02-20 |
JPH07507034A (ja) | 1995-08-03 |
KR100261872B1 (ko) | 2000-07-15 |
JP3388742B2 (ja) | 2003-03-24 |
CA2135673A1 (en) | 1993-11-25 |
RU94046037A (ru) | 1996-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2103232C1 (ru) | Индукционная печь, устройство с использованием этой печи, способ тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс и способы получения кремнийдиоксидного стекла | |
KR0130007B1 (ko) | 유리질실리카제품 및 그 제조방법 | |
JP2004203736A (ja) | 高純度溶融シリカの製造方法 | |
UA64008C2 (en) | A furnace for the manufacture of ingots of synthetic transparent quartz glass and a method for preparing the shaped article from the synthetic transparent quartz glass | |
US6799441B2 (en) | Furnaces for fused silica production | |
US5766291A (en) | Method for producing heat-resistant synthetic quartz glass | |
JPH111331A (ja) | 石英ガラス光学部材の製造方法 | |
JP3092675B2 (ja) | オキシナイトライドガラス及びその製造方法 | |
US6915664B2 (en) | Method of manufacturing a fluorine-doped silica powder | |
JPH03109223A (ja) | 石英ガラスおよびその製造方法 | |
JPS6143290B2 (ru) | ||
KR20220162969A (ko) | 내플라즈마성 석영유리 및 그 제조방법 | |
GB1559768A (en) | Optical fibre preform manufacture | |
JPS59162143A (ja) | 合成石英の製造方法 | |
KR102539330B1 (ko) | 플라즈마내식성이 우수한 석영유리 및 그 제조방법 | |
KR102539319B1 (ko) | 내플라즈마 특성이 우수한 석영유리 및 그 제조방법 | |
JP3114936B2 (ja) | 高耐熱性合成石英ガラス | |
JPH03109224A (ja) | 石英ガラスおよびその製造法 | |
JPH0692648A (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法 | |
JP2002249342A (ja) | ガラス体およびその製造方法 | |
CN119461799A (zh) | 一种准分子激光器用合成石英玻璃制备装置及其应用 | |
Quarzglas | Base materials | |
JPH02180729A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
KR20220162977A (ko) | 플라즈마내식성 석영유리 및 그 제조방법 | |
AU638702C (en) | Vitreous silica products |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20060514 |