RU2015101588A - Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью - Google Patents
Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью Download PDFInfo
- Publication number
- RU2015101588A RU2015101588A RU2015101588A RU2015101588A RU2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A RU 2015101588 A RU2015101588 A RU 2015101588A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- reaction chamber
- stacks
- installation according
- longitudinal direction
- loading devices
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
1. Установка (600) химической инфильтрации в паровой фазе пористых преформ (20) трехмерной формы, в основном вытянутых в продольном направлении, содержащая:реакционную камеру (610) параллелепипедальной формы, причем боковые стенки (611-614) реакционной камеры содержат нагревательные средства (615), несколько штабелей (50) загрузочных устройств (10), расположенных внутри реакционной камеры (610), причем каждое из загрузочных устройств (10) образовано параллелепипедальной оболочкой (11), снабженной несущими элементами (1100, 1110), предназначенными для размещения на них пористых преформ (20), предназначенных для инфильтрации.2. Установка по п. 1, в которой реакционная камера (610) имеет форму прямоугольного параллелепипеда, причем установка содержит по меньшей мере один ряд (510) из нескольких штабелей (50) загрузочных устройств (10), причем указанный ряд ориентирован в продольном направлении реакционной камеры.3. Установка по п. 2, в которой каждое загрузочное устройство (10) образовано оболочкой (11), имеющей форму прямоугольного параллелепипеда, причем штабели (50) размещены внутри указанной камеры (610) так, что продольное направление каждого загрузочного устройства (10) в реакционной камере ориентировано перпендикулярно продольному направлению камеры.4. Установка по п. 2, в которой реакционная камера (10) содержит несколько рядов (510, 520, 530) штабелей (50) загрузочных устройств (10), ориентированных в продольном направлении реакционной камеры, причем между двумя рядами штабелей загрузочных устройств расположены нагревательные средства (717).5. Установка по п. 1, в которой каждый штабель (50) содержит расположенные на его краях буферные зоны (540; 550), не предназначенные для размещения в них пористых подложек, предназначенных для уплотнения.6.
Claims (9)
1. Установка (600) химической инфильтрации в паровой фазе пористых преформ (20) трехмерной формы, в основном вытянутых в продольном направлении, содержащая:
реакционную камеру (610) параллелепипедальной формы, причем боковые стенки (611-614) реакционной камеры содержат нагревательные средства (615), несколько штабелей (50) загрузочных устройств (10), расположенных внутри реакционной камеры (610), причем каждое из загрузочных устройств (10) образовано параллелепипедальной оболочкой (11), снабженной несущими элементами (1100, 1110), предназначенными для размещения на них пористых преформ (20), предназначенных для инфильтрации.
2. Установка по п. 1, в которой реакционная камера (610) имеет форму прямоугольного параллелепипеда, причем установка содержит по меньшей мере один ряд (510) из нескольких штабелей (50) загрузочных устройств (10), причем указанный ряд ориентирован в продольном направлении реакционной камеры.
3. Установка по п. 2, в которой каждое загрузочное устройство (10) образовано оболочкой (11), имеющей форму прямоугольного параллелепипеда, причем штабели (50) размещены внутри указанной камеры (610) так, что продольное направление каждого загрузочного устройства (10) в реакционной камере ориентировано перпендикулярно продольному направлению камеры.
4. Установка по п. 2, в которой реакционная камера (10) содержит несколько рядов (510, 520, 530) штабелей (50) загрузочных устройств (10), ориентированных в продольном направлении реакционной камеры, причем между двумя рядами штабелей загрузочных устройств расположены нагревательные средства (717).
5. Установка по п. 1, в которой каждый штабель (50) содержит расположенные на его краях буферные зоны (540; 550), не предназначенные для размещения в них пористых подложек, предназначенных для уплотнения.
6. Установка по п. 5, в которой горизонтальные стенки (620, 630) реакционной камеры содержат нагревательные средства.
7. Установка по п. 6, в которой загрузочные устройства (10) каждого из штабелей (50) содержат волоконные преформы (20) лопаток авиационного двигателя.
8. Установка по п. 7, в которой волоконные преформы (20) лопаток в каждом из загрузочных устройств (10) выровнены в одну линию, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы в одном и том же направлении.
9. Установка по п. 8, в которой в каждом из штабелей (50) загрузочных устройств (10) волоконные преформы (20) лопаток в первом загрузочном устройстве выровнены в линию и расположены рядом друг с другом, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы в первом направлении, а волоконные преформы (20) лопаток во втором загрузочном устройстве, соседнем с первым загрузочным устройством, выровнены в одну линию и расположены рядом друг с другом, причем их внутренние поверхности (123) или внешние поверхности (122) ориентированы во втором направлении, противоположном первому направлению.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1257012A FR2993555B1 (fr) | 2012-07-19 | 2012-07-19 | Installation d'infiltration chimique en phase vapeur a haute capacite de chargement |
| FR1257012 | 2012-07-19 | ||
| PCT/FR2013/051674 WO2014013168A1 (fr) | 2012-07-19 | 2013-07-12 | Installation d'infiltration chimique en phase vapeur à haute capacité de chargement |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015101588A true RU2015101588A (ru) | 2016-09-10 |
| RU2635051C2 RU2635051C2 (ru) | 2017-11-08 |
Family
ID=47424987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015101588A RU2635051C2 (ru) | 2012-07-19 | 2013-07-12 | Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10392696B2 (ru) |
| EP (1) | EP2875167B1 (ru) |
| JP (1) | JP6227643B2 (ru) |
| CN (1) | CN104540980B (ru) |
| BR (1) | BR112015001190B1 (ru) |
| CA (1) | CA2879223C (ru) |
| FR (1) | FR2993555B1 (ru) |
| RU (1) | RU2635051C2 (ru) |
| WO (1) | WO2014013168A1 (ru) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2974387A1 (en) * | 2016-08-30 | 2018-02-28 | Rolls-Royce Corporation | Swirled flow chemical vapor deposition |
| FI129040B (fi) * | 2019-06-06 | 2021-05-31 | Picosun Oy | Fluidia läpäisevien materiaalien päällystäminen |
| US11624287B2 (en) | 2020-02-21 | 2023-04-11 | Raytheon Technologies Corporation | Ceramic matrix composite component having low density core and method of making |
| US12000046B1 (en) * | 2021-12-29 | 2024-06-04 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
| US12078417B1 (en) | 2021-12-29 | 2024-09-03 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
| US11932941B1 (en) | 2021-12-29 | 2024-03-19 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
| US20240110281A1 (en) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | Raytheon Technologies Corporation | Stacking tool fixture for forced flow chemical vapor infiltration |
| US20240173890A1 (en) * | 2022-11-29 | 2024-05-30 | Raytheon Technologies Corporation | Fixture with grooves for processing cmc article |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5480678A (en) | 1994-11-16 | 1996-01-02 | The B. F. Goodrich Company | Apparatus for use with CVI/CVD processes |
| FR2733254B1 (fr) | 1995-04-18 | 1997-07-18 | Europ Propulsion | Procede d'infiltration chimique en phase vapeur pour la densification de substrats poreux disposes en piles annulaires |
| EP1072693A1 (en) | 1999-07-27 | 2001-01-31 | Iljin Nanotech Co., Ltd. | Chemical vapor deposition apparatus and method of synthesizing carbon nanotubes using the apparatus |
| US6953605B2 (en) * | 2001-12-26 | 2005-10-11 | Messier-Bugatti | Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas |
| FR2834713B1 (fr) * | 2002-01-15 | 2004-04-02 | Snecma Moteurs | Procede et installation pour la densification de substrats par infiltration chimique en phase vapeur |
| ATE398193T1 (de) * | 2002-10-24 | 2008-07-15 | Goodrich Corp | Verfahren und vorrichtung zur stückweisen und zur kontinuierlichen verdichtung durch chemische dampfphaseninfitration (cvi) |
| US20050183824A1 (en) * | 2004-02-25 | 2005-08-25 | Advanced Display Process Engineering Co., Ltd. | Apparatus for manufacturing flat-panel display |
| FR2882064B1 (fr) | 2005-02-17 | 2007-05-11 | Snecma Propulsion Solide Sa | Procede de densification de substrats poreux minces par infiltration chimique en phase vapeur et dispositif de chargement de tels substrats |
| FR2900226B1 (fr) * | 2006-04-25 | 2017-09-29 | Messier Bugatti | Four de traitement ou analogue |
| US8282334B2 (en) * | 2008-08-01 | 2012-10-09 | Picosun Oy | Atomic layer deposition apparatus and loading methods |
| FR2980486B1 (fr) * | 2011-09-28 | 2013-10-11 | Snecma Propulsion Solide | Dispositif de chargement pour la densification par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirige de substrats poreux de forme tridimensionnelle |
-
2012
- 2012-07-19 FR FR1257012A patent/FR2993555B1/fr active Active
-
2013
- 2013-07-12 US US14/415,042 patent/US10392696B2/en active Active
- 2013-07-12 WO PCT/FR2013/051674 patent/WO2014013168A1/fr active Application Filing
- 2013-07-12 CN CN201380042644.0A patent/CN104540980B/zh active Active
- 2013-07-12 EP EP13744739.7A patent/EP2875167B1/fr active Active
- 2013-07-12 CA CA2879223A patent/CA2879223C/en active Active
- 2013-07-12 JP JP2015522145A patent/JP6227643B2/ja active Active
- 2013-07-12 BR BR112015001190-0A patent/BR112015001190B1/pt active IP Right Grant
- 2013-07-12 RU RU2015101588A patent/RU2635051C2/ru active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2879223C (en) | 2020-08-18 |
| BR112015001190B1 (pt) | 2021-06-08 |
| FR2993555B1 (fr) | 2015-02-20 |
| BR112015001190A2 (pt) | 2017-07-04 |
| CA2879223A1 (en) | 2014-01-23 |
| US20150218693A1 (en) | 2015-08-06 |
| WO2014013168A1 (fr) | 2014-01-23 |
| JP6227643B2 (ja) | 2017-11-08 |
| CN104540980A (zh) | 2015-04-22 |
| RU2635051C2 (ru) | 2017-11-08 |
| CN104540980B (zh) | 2018-02-02 |
| EP2875167A1 (fr) | 2015-05-27 |
| EP2875167B1 (fr) | 2017-09-06 |
| FR2993555A1 (fr) | 2014-01-24 |
| US10392696B2 (en) | 2019-08-27 |
| JP2015524514A (ja) | 2015-08-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2015101588A (ru) | Устройство химической инфильтрации в паровой фазе с высокой загрузочной способностью | |
| RU2016110139A (ru) | Аккумуляторная батарея | |
| BR112014004393B8 (pt) | Método para proporcionar unidades de transporte | |
| NZ600464A (en) | Accumulator tank for handling a heat transfer medium comprising partition walls and spaces | |
| UA104989C2 (ru) | Канистра и контейнер для транспортировки, хранения и/или содержания отходов ядерного топлива | |
| WO2015130377A3 (en) | Structural honeycomb panel | |
| NZ755559A (en) | Apparatus for retrieving units from a storage system | |
| CY1117653T1 (el) | Μεθοδος και συστημα για την κατασκευη ενος κτιριου | |
| WO2012007344A3 (en) | Heat exchange device with improved system for distributing coolant fluid | |
| ES2525197R1 (es) | Caldera solar | |
| RU2016107386A (ru) | Различные матрицы полых ячеек для подошвы | |
| FR2986315B1 (fr) | Echangeur de chaleur | |
| RU2015155449A (ru) | Пакет твердооксидных топливных элементов электрогенератора | |
| MY182705A (en) | Sealed and thermally insulating tank wall comprising spaced-apart support elements | |
| RU2013141911A (ru) | Устройство для пиролиза углеродосодержащего сырья | |
| AR093157A1 (es) | Tostador desolventizador mejorado | |
| ES2399583R1 (es) | Caldera para un receptor solar | |
| SA516371354B1 (ar) | مبادل حراري ذو غلاف وأنابيب له غلاف ذو قطاع عديد الأضلاع | |
| RU2010129645A (ru) | Сборная биологическая защита ядерно- и (или) радиационно-опасного объекта | |
| PL3078924T3 (pl) | Uchwyt i modułowy system układania w stos do bezpiecznego mocowania, składowania, i/lub transportowania modułów fotowoltaicznych, termicznych modułów kolektorowych lub innych płaskich przedmiotów prostopadłościennych | |
| WO2011147485A8 (en) | Apparatus for digital printing on articles constituted by containers made of sintered expanded polystyrene | |
| RU2016110709A (ru) | Упаковочная и/или транспортная единица | |
| CN203895420U (zh) | 容置单元和容置架 | |
| JP2016225304A5 (ru) | ||
| CN204473407U (zh) | 机油滤清器连接管的包装箱 |