RU2010149024A - Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры - Google Patents
Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010149024A RU2010149024A RU2010149024/28A RU2010149024A RU2010149024A RU 2010149024 A RU2010149024 A RU 2010149024A RU 2010149024/28 A RU2010149024/28 A RU 2010149024/28A RU 2010149024 A RU2010149024 A RU 2010149024A RU 2010149024 A RU2010149024 A RU 2010149024A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- chamber
- lid
- cavity
- heat insulating
- wall
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
1. Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры, содержащее подложкодержатель и расположенный в камере нагреватель, подключенный к источнику питания токовводами, отличающееся тем, что подложкодержатель установлен в камере, которая снабжена съемной крышкой, при этом подложкодержатель установлен между съемной крышкой и нагревателем. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что камера выполнена теплоизолированной. ! 3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что в камере установлен, по меньшей мере, один теплоотражающий экран. ! 4. Устройство по п.2, отличающееся тем, что внутренняя поверхность, по меньшей мере, одной стенки камеры выполнена отражающей. ! 5. Устройство по п.2, отличающееся тем, что, по меньшей мере, одна стенка камеры выполнена полой. ! 6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что полость в стенке камеры заполнена теплоизолирующей средой. ! 7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что в качестве теплоизолирующей среды использован воздух. ! 8. Устройство по п.7, отличающееся тем, что давление в полости стенки камеры ниже атмосферного. ! 9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что крышка выполнена теплоизолированной. ! 10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что внутренняя поверхность крышки выполнена отражающей тепловое излучение. !11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что крышка выполнена полой. ! 12. Устройство по п.1, отличающееся тем, что полость в крышке заполнена теплоизолирующей средой. !13. Устройство по п.12, отличающееся тем, что в качестве теплоизолирующей среды использован воздух. ! 14. Устройство по п.13, отличающееся тем, что давление в полости крышки ниже атмосферного. ! 15. Уст
Claims (15)
1. Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры, содержащее подложкодержатель и расположенный в камере нагреватель, подключенный к источнику питания токовводами, отличающееся тем, что подложкодержатель установлен в камере, которая снабжена съемной крышкой, при этом подложкодержатель установлен между съемной крышкой и нагревателем.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что камера выполнена теплоизолированной.
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что в камере установлен, по меньшей мере, один теплоотражающий экран.
4. Устройство по п.2, отличающееся тем, что внутренняя поверхность, по меньшей мере, одной стенки камеры выполнена отражающей.
5. Устройство по п.2, отличающееся тем, что, по меньшей мере, одна стенка камеры выполнена полой.
6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что полость в стенке камеры заполнена теплоизолирующей средой.
7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что в качестве теплоизолирующей среды использован воздух.
8. Устройство по п.7, отличающееся тем, что давление в полости стенки камеры ниже атмосферного.
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что крышка выполнена теплоизолированной.
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что внутренняя поверхность крышки выполнена отражающей тепловое излучение.
11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что крышка выполнена полой.
12. Устройство по п.1, отличающееся тем, что полость в крышке заполнена теплоизолирующей средой.
13. Устройство по п.12, отличающееся тем, что в качестве теплоизолирующей среды использован воздух.
14. Устройство по п.13, отличающееся тем, что давление в полости крышки ниже атмосферного.
15. Устройство по п.1, отличающееся тем, что нагреватель выполнен в виде набора электрически изолированных друг от друга лент из тугоплавкого материала, расположенных одна подле другой и последовательно соединенных друг с другом, при этом крайние ленты соединены с токовводами.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010149024/28A RU2468468C2 (ru) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2010149024/28A RU2468468C2 (ru) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010149024A true RU2010149024A (ru) | 2012-06-10 |
RU2468468C2 RU2468468C2 (ru) | 2012-11-27 |
Family
ID=46679525
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010149024/28A RU2468468C2 (ru) | 2010-11-30 | 2010-11-30 | Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2468468C2 (ru) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2723477C1 (ru) * | 2019-04-26 | 2020-06-11 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" | Узел фиксации нагреваемой подложки в вакуумной камере (варианты) |
RU2755405C1 (ru) * | 2020-12-22 | 2021-09-15 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук | Установка для высокотемпературного вакуумного отжига тонких плёнок с возможностью in situ оптического наблюдения с высоким разрешением |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4492852A (en) * | 1983-02-11 | 1985-01-08 | At&T Bell Laboratories | Growth substrate heating arrangement for UHV silicon MBE |
SU1321136A1 (ru) * | 1985-05-28 | 1994-02-28 | Н.А. Брюхно | Реактор для осаждения слоев |
RU1768675C (ru) * | 1990-12-25 | 1992-10-15 | Научно-исследовательский институт точного машиностроения | Устройство дл эпитаксиального выращивани полупроводниковых материалов |
RU2021556C1 (ru) * | 1991-08-20 | 1994-10-15 | Валентин Ильич Свиридов | Сосуд для хранения криогенных жидкостей |
RU2020654C1 (ru) * | 1991-11-27 | 1994-09-30 | Нургельды Розыев | Устройство для термической обработки подложек |
RU2394117C2 (ru) * | 2008-03-24 | 2010-07-10 | Общество с ограниченной ответственностью научно-производственная фирма "Эпикрист" | Cvd-реактор и способ синтеза гетероэпитаксиальных пленок карбида кремния на кремнии |
-
2010
- 2010-11-30 RU RU2010149024/28A patent/RU2468468C2/ru active IP Right Revival
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2468468C2 (ru) | 2012-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2020121397A (ru) | Картридж, имеющий внутреннюю поверхность из материала, представляющего собой токоприемник | |
CN103184514B (zh) | 晶体生长炉 | |
TWI567355B (zh) | heating equipment | |
RU2010149024A (ru) | Устройство нагрева подложки для установки изготовления полупроводниковой структуры | |
TW201831055A (zh) | Icp蝕刻機台及其絕緣窗口薄膜加熱器裝置和溫度控制方法 | |
CN210532328U (zh) | 一种防水汽的路灯灯头 | |
CN202652559U (zh) | Ptc陶瓷加热器 | |
CN204478180U (zh) | 一种线盘独立风道散热的商用电磁炉 | |
CN206136337U (zh) | 一种管状厚膜供暖元件 | |
CN106108685B (zh) | 一种内置电池式保温容器 | |
CN205641119U (zh) | 一种基于新型纳米发热体的电热采暖器 | |
CN204410592U (zh) | 电加热盘及电饭煲 | |
CN103660263A (zh) | 一种可控温光能电热砖 | |
CN105296957B (zh) | 一种反应腔 | |
CN203074253U (zh) | 玻璃陶瓷真空内胆电饭煲 | |
KR20130077365A (ko) | 냉,온풍 기능이 구비된 도자기 | |
KR102063211B1 (ko) | 열전발전장치가 구비된 튀김조 | |
RU153065U1 (ru) | Многофункциональный осветительный прибор | |
KR101410227B1 (ko) | 개선된 튜브 히터 배치구조를 갖는 전기로 | |
RU2011108530A (ru) | Термомагнитное устройство | |
CN203611457U (zh) | 一种可控温光能电热砖 | |
CN221483862U (zh) | 一种节能高温长寿命风道加热器 | |
CN204214022U (zh) | 采用纳米远红外加热的电暖炉 | |
CN209184843U (zh) | 一种电磁加热装置及电水壶 | |
CN209181045U (zh) | 一种踢脚线对流式室内加热器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20201201 |
|
NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20220204 |