RU2007111999A - Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) - Google Patents
Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) Download PDFInfo
- Publication number
- RU2007111999A RU2007111999A RU2007111999/02A RU2007111999A RU2007111999A RU 2007111999 A RU2007111999 A RU 2007111999A RU 2007111999/02 A RU2007111999/02 A RU 2007111999/02A RU 2007111999 A RU2007111999 A RU 2007111999A RU 2007111999 A RU2007111999 A RU 2007111999A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- oxide
- mol
- electrode
- coating
- specified
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 29
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 16
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 15
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 12
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 11
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims 9
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 7
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims 4
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical group [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 claims 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- -1 platinum group metal oxide Chemical class 0.000 claims 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 3
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims 2
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 2
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 claims 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YJZATOSJMRIRIW-UHFFFAOYSA-N [Ir]=O Chemical class [Ir]=O YJZATOSJMRIRIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WZOZCAZYAWIWQO-UHFFFAOYSA-N [Ni].[Ni]=O Chemical compound [Ni].[Ni]=O WZOZCAZYAWIWQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N [Ru]=O Chemical class [Ru]=O ROZSPJBPUVWBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 claims 1
- KYCIUIVANPKXLW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-(2-phenoxyethyl)-(thiophen-2-ylmethyl)azanium Chemical compound C=1C=CSC=1C[N+](C)(C)CCOC1=CC=CC=C1 KYCIUIVANPKXLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 claims 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Claims (40)
1. Способ получения электрода для электролиза галогенсодержащего раствора с уменьшенным рабочим потенциалом электролиза, в котором сначала получают основу из вентильного металла, на которую наносят промежуточный электрокаталитический покровный слой, а затем на указанную основу из вентильного металла наносят верхний покровный слой раствора смеси оксидов переходных металлов, по существу состоящей из оксидов по меньшей мере одного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в количестве от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мол.% в расчете на суммарное содержание оксидов переходных металлов в покрытии.
2. Способ по п.1, в котором указанная основа из вентильного металла выполнена в виде по меньшей мере одной формы, выбранной из группы, включающей сетку, лист, стержень, трубку, штампованную пластину и проволоку, а указанный вентильный металл представляет собой по меньшей мере одно вещество, выбранное из группы, включающей титан, тантал, аллюминий, гафний, ниобий, цирконий, молибден и вольфрам, их сплавы и интерметаллические смеси.
3. Способ по п.2, в котором поверхность указанной основы электрода из вентильного металла представляет собой шероховатую поверхность, которую получают посредством по меньшей мере одного метода, выбранного из группы, включающей межкристаллитное травление, дробеструйную обработку, насечку, шлифовку абразивом и плазменное напыление.
4. Способ по п.3, в котором на указанную шероховатую поверхность в качестве подготовительного слоя наносят оксидокерамический защитный слой.
5. Способ по п.3, в котором указанный промежуточный электрокаталитический покровный слой включает металл или оксид металла платиновой группы, магнетит, феррит, шпинель оксида кобальта, оксид олова и оксид сурьмы, и/или содержит смешанный кристаллический материал, включающий по крайней мере один оксид вентильного металла и по крайней мере один оксид металла платиновой группы, и/или содержит по меньшей мере один компонент, выбранный из группы, включающей диоксид марганца, диоксид свинца, платинаты-заместители, никель-никель оксид и смесь оксидов никеля и лантана.
6. Способ по п.5, в котором указанный оксид переходного металла в составе указанного верхнего покровного слоя представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 до приблизительно 8 мол.%.
7. Способ по п.1, в котором дополнительно осуществляют нагревание указанного покрытия, которое осуществляют прокаливанием при температуре по крайней мере от приблизительно 350 до приблизительно 550°С в течение времени по крайней мере от приблизительно 3 до приблизительно 20 мин.
8. Способ по п.1, в котором указанный электрод представляет собой анод, который используют в процессе получения по меньшей мере одного вещества, выбранного из группы, включающей хлор, хлорат и гипохлорит.
9. Способ по п.1, в котором уменьшение рабочего потенциала составляет от приблизительно 10 до приблизительно 100 мВ.
10. Способ по п.1, в котором указанный промежуточный электрокаталитический покровный слой и указанный верхний покровный слой наносят на указанную основу из вентильного металла посредством одного способа, выбранного из группы, включающей центрифугирование растворов, погружение в потоке, нанесение кистью, нанесение валиком и нанесение напылением.
11. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащего раствора, содержащая электрод, полученный способом по п.1.
12. Электрод с электрокаталитическим покрытием для электролиза галогенсодержащего раствора, который включает основу электрода из вентильного металла, на которую нанесен покровный слой, включающий электрохимически активное покрытие, содержащее смесь оксидов переходных металлов, по существу состоящую из по меньшей мере одного оксида, выбранного из группы, включающей оксиды платины, родия или кобальта, в количестве от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мол.% в расчете на суммарное содержание оксидов переходных металлов в составе покрытия, а также смесь оксидов металлов платиновой группы и необязательно оксид вентильного металла в количестве не более 25 мол.%, причем указанная смесь оксидов металлов платиновой группы по существу состоит из по меньшей мере одного оксида металла, выбранного из группы, включающей оксиды рутения и иридия, в количестве от приблизительно 5 до приблизительно 50 мол.% рутения, от приблизительно 50 до приблизительно 95 мол.% иридия в расчете на 100 мол.% металлов в составе покрытия, а указанное электрохимически активное покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
13. Электрод по п.12, в котором указанная основа электрода из вентильного металла представляет собой основу, выбранную из группы, включающей сетку, лист, стержень, трубку, штампованную пластину и проволоку, а указанная основа электрода из вентильного металла представляет собой по меньшей мере одно вещество, выбранное из группы, включающей титан, тантал, алюминий, гафний, ниобий, цирконий, молибден и вольфрам, их сплавы и интерметаллические смеси.
14. Электрод по п.13, в котором поверхность указанной основы электрода из вентильного металла представляет собой шероховатую поверхность, которую получают посредством по меньшей мере одного метода, выбранного из группы, включающей межкристалитное травление, дробеструйную обработку, насечку, шлифовку абразивом и термонапыление.
15. Электрод по п.14, в котором на указанную шероховатую поверхность в качестве подготовительного слоя наносят оксидокерамический защитный слой.
16. Электрод по п.13, в котором указанное электрокаталитическое покрытие включает указанный оксид вентильного металла.
17. Электрод по п.17, в котором указанный оксид вентильного металла представляет собой по меньшей мере один оксид, выбранный из группы, включающей оксиды титана, тантала, циркония, ниобия, гафния, оксид олова, а содержание указанного оксида вентильного металла составляет от приблизительно 0,1 до приблизительно 25 мол. %.
18. Электрод по п.14, в котором молярное соотношение оксида рутения и оксида иридия составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 1:4.
19. Электрод по п.15, в котором молярное соотношение указанных оксидов металлов платиновой группы и указанного оксида вентильного металла находится в интервале от приблизительно 4:1 до приблизительно 1:4.
20. Электрод по п.19, в котором на указанное электрокаталитическое покрытие наносят по крайней мере один верхний покровный слой, включающий покрытие на основе оксида вентильного металла или на основе оксида олова или их смесей.
21. Электрод по п.12, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 до приблизительно 8 мол.%.
22. Электрод по п.12, в котором указаное покрытие дополнительно включает оксид иридия в количестве от приблизительно 1 до приблизительно 25 мол.% в расчете на 100 мол.% содержания металлов в покрытии, а отношение металлического рутения к иридию составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 99:1.
23. Электрод, включающий основу из вентильного металла, используемый в электрокаталитических процессах для электролиза галогенсодержащего раствора, в котором на указанную основу из вентильного металла нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом титана и одним или более оксидами, выбранными из группы, включающей оксид олова и оксид сурьмы, в количестве по крайней мере от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мол.% указаного оксида переходного металла, по крайней мере от 10 до приблизительно 30 мол.% рутения и по крайней мере от приблизительно 50 до приблизительно 85 мол.% титана в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металлов в покрытии, причем указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
24. Электрод по п.23, в котором содержание указанного оксида рутения составляет от приблизительно 10 до приблизительно 25 мол.%, а содержание указанного титана составляет от приблизительно 60 до приблизительно 75 мол.% в расчете на 100 мол. % суммарного содержания металла в покрытии.
25. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 5 до приблизительно 20 мол.% оксида сурьмы в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
26. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 2 до приблизительно 20 мол.% оксида олова в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
27. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие содержит от приблизительно 10 до приблизительно 15 мол.% оксида сурьмы и от приблизительно 2 до приблизительно 15 мол.% оксида олова в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии.
28. Электрод по п.23, в котором отношение металлического рутения к сурьме или олову составляет от приблизительно 2:1 до приблизительно 0,1:1, а отношение титана к сурьме или олову составляет от приблизительно 19:1 до приблизительно 1:1.
29. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие представляет собой покрытие на водной основе.
30. Электрод по п.23, в котором указанное покрытие дополнительно включает оксид иридия в количестве от приблизительно 1 до приблизительно 25 мол.% в расчете на 100 мол.% суммарного содержания металла в покрытии, а отношение металлического рутения к иридию составляет от приблизительно 1:1 до приблизительно 99:1.
31. Электрод по п.23, который обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза на величину от приблизительно 10 до приблизительно 100 мВ.
32. Электролитическая ячейка для электролиза хлорщелочного раствора, включающая электрод по п.23.
33. Электрод для электролиза галогенсодержащего раствора, который включает основу из вентильного металла, на которую нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом иридия и оксидом титана в количествах по крайней мере от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мол.% указанного оксида переходного металла, по крайней мере от приблизительно 15, но не более чем приблизительно 25 мол.% оксида иридия, от приблизительно 35 до приблизительно 50 мол.% оксида рутения и по крайней мере от приблизительно 30, но не более чем 45 мол.% оксида титана в расчете на 100 мол.% суммарного содержания оксидов в покрытии, причем молярное соотношение оксида титана и общего количества оксидов иридия и рутения составляет менее чем 1:1, а молярное соотношение оксида рутения и оксида иридия составляет от более 1,5:1 вплоть до 3:1, и указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
34. Электрод по п.33, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 до приблизительно 8 мол.%.
35. Электрод по п.33, в котором указанный рабочий потенциал уменьшается на величину от приблизительно 10 до приблизительно 100 мВ.
36. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащих растворов по п.33.
37. Электрод для электролиза галогенсодержащего раствора, который включает основу из вентильного металла, на которую нанесено электрокаталитическое поверхностное покрытие, по существу состоящее из смеси оксидов по меньшей мере одного переходного металла, выбранного из группы, включающей палладий, родий и кобальт, в комбинации с оксидом рутения, оксидом иридия и оксидом титана, в количествах по крайней мере от приблизительно 0,01 до приблизительно 10 мол.% указанных оксидов переходных металлов, от приблизительно 10 до приблизительно 30 мол.% рутения, от приблизительно 2 до приблизительно 20 мол.% иридия и от приблизительно 50 до приблизительно 85 мол.% титана, причем указанное электрокаталитическое покрытие обеспечивает уменьшение рабочего потенциала во время указанного электролиза.
38. Электрод по п.37, в котором указанный оксид переходного металла представляет собой оксид палладия, присутствующий в количестве от приблизительно 0,1 до приблизительно 8 мол.%.
39. Электрод по п.37, в котором указанный рабочий потенциал уменьшается на величину от приблизительно 10 до приблизительно 100 мВ.
40. Электролитическая ячейка для электролиза галогенсодержащого раствора, содержащая электрод по п.37.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2007111999A true RU2007111999A (ru) | 2008-10-10 |
| RU2425176C2 RU2425176C2 (ru) | 2011-07-27 |
Family
ID=39927365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007111999/02A RU2425176C2 (ru) | 2004-09-01 | 2004-09-01 | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2425176C2 (ru) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2409705C1 (ru) * | 2009-08-13 | 2011-01-20 | Жанна Ивановна Беспалова | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
| RU2468126C1 (ru) * | 2011-11-11 | 2012-11-27 | ООО "Компания МеталлРесурс" | Способ изготовления нерастворимого анода на титановой основе |
| RU2480855C1 (ru) * | 2011-09-15 | 2013-04-27 | Открытое акционерное общество "Элеконд" | Способ получения катодной обкладки оксидно-полупроводникового конденсатора |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2478142C1 (ru) * | 2011-09-13 | 2013-03-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" | Способ получения композиций карбида вольфрама с платиной |
| RU2757638C1 (ru) * | 2021-02-25 | 2021-10-19 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина Российской академии наук (ИФХЭ РАН) | Электрод многофункционального назначения на титане с надежным электрическим контактом и способ его получения |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4003817A (en) * | 1967-12-14 | 1977-01-18 | Diamond Shamrock Technologies, S.A. | Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductive coating having a chlorine discharge in said coating |
| JPS51144381A (en) * | 1975-06-09 | 1976-12-11 | Tdk Corp | An electrode |
| JPS5477286A (en) * | 1977-12-02 | 1979-06-20 | Tdk Corp | Manufacture of insoluble electrode |
| US4517068A (en) * | 1981-12-28 | 1985-05-14 | Eltech Systems Corporation | Electrocatalytic electrode |
| US4530742A (en) * | 1983-01-26 | 1985-07-23 | Ppg Industries, Inc. | Electrode and method of preparing same |
| RU2069239C1 (ru) * | 1994-02-08 | 1996-11-20 | Научно-исследовательский физико-технический институт при Дальневосточном государственном университете | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
-
2004
- 2004-09-01 RU RU2007111999/02A patent/RU2425176C2/ru active IP Right Revival
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2409705C1 (ru) * | 2009-08-13 | 2011-01-20 | Жанна Ивановна Беспалова | Способ изготовления электрода для электрохимических процессов |
| RU2480855C1 (ru) * | 2011-09-15 | 2013-04-27 | Открытое акционерное общество "Элеконд" | Способ получения катодной обкладки оксидно-полупроводникового конденсатора |
| RU2468126C1 (ru) * | 2011-11-11 | 2012-11-27 | ООО "Компания МеталлРесурс" | Способ изготовления нерастворимого анода на титановой основе |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2425176C2 (ru) | 2011-07-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU2004323018B2 (en) | Pd-containing coating for low chlorine overvoltage | |
| TWI247052B (en) | Electrocatalytic coating with lower platinum group metals and electrode made therefrom | |
| AU2005325733B2 (en) | High efficiency hypochlorite anode coating | |
| US8142898B2 (en) | Smooth surface morphology chlorate anode coating | |
| JP2006515389A5 (ru) | ||
| US20070261968A1 (en) | High efficiency hypochlorite anode coating | |
| JP5582762B2 (ja) | ハロゲン含有溶液の電気分解において用いるための電極 | |
| CA1129811A (en) | Electrode with coating of manganese dioxide and platinum for electrowinning | |
| JP2020193371A (ja) | オゾン生成用電極 | |
| RU2007111999A (ru) | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) | |
| RU2379380C2 (ru) | Высокоэффективное анодное покрытие для получения гипохлорита | |
| EP4183903A1 (en) | Oxygen-generating electrode | |
| JPH0987896A (ja) | 電解用電極の製造方法 | |
| JP2012067390A (ja) | 低い塩素過電圧のためのＰｄ含有コーティング | |
| AU2011221387B2 (en) | Pd-containing coating for low chlorine overvoltage | |
| JP2023150386A (ja) | 次亜塩素酸生成電極 | |
| CS222661B2 (cs) | Elektroda s jádrem z kovu odolného vůči chloru |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20090917 |
|
| FZ9A | Application not withdrawn (correction of the notice of withdrawal) |
Effective date: 20100916 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110902 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20130110 |