[go: up one dir, main page]

PL59449Y1 - Antidust half-mask - Google Patents

Antidust half-mask Download PDF

Info

Publication number
PL59449Y1
PL59449Y1 PL10762098U PL10762098U PL59449Y1 PL 59449 Y1 PL59449 Y1 PL 59449Y1 PL 10762098 U PL10762098 U PL 10762098U PL 10762098 U PL10762098 U PL 10762098U PL 59449 Y1 PL59449 Y1 PL 59449Y1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
sheet
mask
lobes
nasal
background
Prior art date
Application number
PL10762098U
Other languages
Polish (pl)
Other versions
PL107620U1 (en
Inventor
Ryszard Jaszczynski
Wlodzimierz Walesinski
Original Assignee
Ryszard Jaszczynski
Wlodzimierz Walesinski
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ryszard Jaszczynski, Wlodzimierz Walesinski filed Critical Ryszard Jaszczynski
Priority to PL10762098U priority Critical patent/PL59449Y1/en
Publication of PL107620U1 publication Critical patent/PL107620U1/en
Publication of PL59449Y1 publication Critical patent/PL59449Y1/en

Links

Landscapes

  • Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)

Description

Przedmiotem wzoru uzytkowegojest pólmaska przeciwpylowa z wlókniny.Znane powszechnie pólmaski przeciwpylowe maja ksztalt czaszy i uformowane sa przestrzenie z plaskich wyrobów wlókienniczych takichjak wlóknina filtracyjna. Czasze pólmasek formowane sa przez wytlaczanie wstegi pojedynczej wlókniny lub wstegi utworzonej z kilku warstw wlókniny przy pomocy wypuklych stempli i gniazdowych matryc, a nastepnie przez wycinanie uformowanych wytloczek wykrojnikami. Czasze pólmasek moga byc formowane takze poprzez uprzednie wycinanie plata wlókniny, a dopiero nastepnie formowanie przestrzennie czaszy.Charakterystyczna cecha czasz znanych pólmasek jest to, ze zawsze, niezaleznie od sposobu wytwarzania pólmasek, czasza pólmaski jest uformowana z jednego plata wlókniny czy jednego plata utworzonego z dwóch czy trzech warstw wlókniny i nie wystepujaw niej zadne laczenia, z wyjatkiem zgrzania na obwodzie warstw wlókniny tworzacych pólmaske, wystepujacego w niektórych typach pólmasek.Czasza pólmaski wyposazona jest na zewnetrznej,wypuklej stronie w metalowy pasek, zwany noskiem, umozliwiajacy dobre przyleganie pólmaski do twarzy uzytkownika oraz wyposazona jest w tasiemki lub gumki sluzace do podtrzymywania pólmaski na twarzy uzytkownika.-2- Proces wytwarzania czasz pólmasek sklada sie z kilku operacji technologicznych, przy czym operacja wytlaczania czasz przy uzyciu grzanych stempli i matryc przysparza duzo problemów technicznych.Operacja ta wplywa w sposób zasadniczy na wlasnosci uzytkowe pólmski.Ponadto przestrzenny ksztalt pólmasek jest nieporeczny przy ich pakowaniu i dystrybucji.Pólmaska przeciwpylowa wedlug wzoru jest wyrobem plaskim.Sklada sie z trzech platów wlókniny: plata glównego, nosowego i podbrudkowego, przy czym kazdy z nich stanowi jedna, dwie czy trzech warstwy wlókniny. Owal kazdego z platów jest wrzecionowaty. Na placie glównym usytuowane sa wzdluz calej jego dlugosci platy: nosowy i podbrudkowy czesciowo zachodzace na siebie. Plat glówny polaczony jest wzdluz obwodu z platem nosowym i podbrudkowym w sposób nierozlaczny. Ponadto plat nosowy wyposazony jest po zewnetrznej stronie w metalowy pasek usytuowany w srodkowej jego czesci w poblizu swobodnej krawedzi tego plata, zas po wewnetrznej stronie w pasek z pianki poliuretanowej usytuowany w obszarze pod paskiem metalowym.Ponadto pólmaska wedlug wzoru wyposazona jest w dwie gumki sluzace do podtrzymywania jej na twarzy uzytkownika.Pólmaska wedlug wzoru, dzieki nowej konstrukcji oraz wyeliminowaniu z procesu technologicznego procesu wytlaczania przy uzyciu podgrzewanych stempli i matryc, charakteryzuje sie dobrym wskaznikiem pylochlonnsci, dobrym wskaznikiem filtracji przy jednoczesnym obnizeniu oporówfiltracji.Przedmiot wzoru uzytkowego przedstawiono na rysunku w widoku ogólnym.Pólmaska wedlug wzoru sklada sie z trzech platów wlókniny: plata glównego 1, nosowego 2 i podbrudkowego 3, przy czym kazdy z nichstanowi jedna, dwie czy trzech warstwy wlókniny filtracyjnej, przy czym owal kazdego z platówjest wrzecionowaty. Na placie glównym 1 usytuowane sa wzdluz calej jego dlugosci platy: nosowy 2 i podbrudkowy 3 czesciowo zachodzace na siebie. Plat glówny 1 polaczony jest zgrzewem 4 wzdluz obwodu z platem nosowym 2 i podbrudkowym 3 . Ponadto plat nosowy wyposazony jest po zewnetrznej stronie w metalowy pasek 5 usytuowany w srodkowej jego czesci w poblizu swobodnej krawedzi tego plata, zas po wewnetrznej stronie w pasek z pianki poliuretanowej 6 usytuowany w obszarze pod paskiem metalowym. Ponadto pólmaska wyposazona jest w dwie gumki 7 sluzace do podtrzymywaniajej na twarzy uzytkownika. {/pyi/l.107620 5 PLThe subject of the utility model is a non-woven anti-dust half mask. The commonly known anti-dust half-masks have the shape of a bowl and the spaces are made of flat textile products, such as a filter fleece. The bowls of the half-masks are formed by extruding a single non-woven fabric or a ribbon made of several layers of non-woven fabric with convex punches and nesting dies, and then by cutting the formed stamp with dies. The half-mask bowls can also be formed by first cutting a non-woven sheet, and then spatially forming the bowl. A characteristic feature of the well-known half-mask bowls is that, regardless of the method of producing half-masks, the half-mask bowl is always formed from one non-woven sheet or one sheet made of two that there are three layers of non-woven fabric and there are no joints in it, with the exception of welding around the perimeter of the non-woven layers forming a half-mask, which occur in some types of half-masks. and is equipped with ribbons or rubber bands to support the half-mask on the user's face.-2- The process of producing the half-mask bowls consists of several technological operations, while the operation of extruding the bowls with the use of heated stamps and dies causes a lot of technical problems. In addition, the three-dimensional shape of the half-masks is inconvenient when packing and distributing them. According to the design, the dust mask is a flat product. It consists of three non-woven sheets: the main, nasal and subbubular sheets, each of them being one, two or three layers of non-woven fabric. The oval of each plate is fusiform. On the main lobe, the lobes are located along its entire length: nasal and sub-calbary lobes partially overlapping each other. The main lobe is connected along the periphery with the nasal lobe and the subcastric lobe in an inseparable manner. In addition, the nasal plate is equipped on the outside with a metal strip located in the central part near the free edge of this plate, and on the inside with a polyurethane foam strip located in the area under the metal strip. In addition, the patterned half mask is equipped with two elastic bands for The half-mask according to the design, thanks to the new design and the elimination of the extrusion process using heated stamps and dies from the technological process, is characterized by a good dust absorption index, a good filtration index with a simultaneous reduction in filtration resistance. According to the pattern, the half-mask consists of three non-woven sheets: the main sheet 1, the nasal sheet 2 and the subcapular sheet 3, each of them being one, two or three layers of filter nonwoven fabric, with the oval of each sheet being spindle-shaped. On the main lobe 1, there are lobes 2 along its entire length: nasal 2 and sub-lobe 3, partially overlapping each other. The main sheet 1 is connected by seam 4 along the perimeter with the nasal sheet 2 and the subcubular sheet 3. Moreover, the nasal plate is provided on the outside with a metal strip 5 situated in its central part near the free edge of the plate, and on the inside with a polyurethane foam strip 6 located in the area under the metal strip. Moreover, the half mask is equipped with two rubber bands 7 for supporting it on the face of the user. {/pyi/l.107620 5 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie ochronne Pólmaska przeciwpylowafz plaskich wyrobów wlókienniczych wyposazona w czesc wlókninowa oraz elementy mocujace, znamienna tym, ze jest wyrobem plaskim skladajacym sie z trzech platów wlókniny: plata glównego III, plata nosowego tli i plata podbrudkowego 131, przy czym kazdy z nich stanowi jedna dwie czy trzech warstwy wlókniny filtracyjnej, a owal kazdego z platów jest wrzecionowaty, przy czym na placie glównym III usytuowane sa wzdluz calej jego dlugosci platy: nosowy tli i podbrudkowy 131 czesciowo zachodzace na siebie i jest on polaczony jest zgrzewem 141 wzdluz obwodu z tymi platami, a ponadto plat nosowy tli wyposazony jest po zewnetrznej stronie w metalowy pasek 151 usytuowany w srodkowej jego czesci w poblizu swobodnej krawedzi tego plata, zas po wewnetrznej stronie w pasek z pianki poliuretanowej 161 usytuowany w obszarze pod paskiem metalowym.A fa 2"? i u / o 20 59*9 L / PL1.Protective disclaimer. Half mask for dusting of flat textiles with a non-woven part and fastening elements, characterized by the fact that it is a flat product consisting of three nonwoven sheets: a main sheet III, a nasal sheet of the background and a subcapular sheet 131, each of them being two or three layers of filter nonwoven fabric, and the oval of each of the lobes is spindle-shaped, while the lobes on the main lobe III are located along its entire length: nasal background and sub-lobe 131 partially overlapping each other and is connected by a weld 141 along the circumference with these lobes and furthermore, the nose plate of the background is provided on the outside with a metal strip 151 located in its central part near the free edge of the plate, and on the inside with a strip of polyurethane foam 161 located in the area under the metal strip. / o 20 59 * 9 L / PL
PL10762098U 1998-02-05 1998-02-05 Antidust half-mask PL59449Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL10762098U PL59449Y1 (en) 1998-02-05 1998-02-05 Antidust half-mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL10762098U PL59449Y1 (en) 1998-02-05 1998-02-05 Antidust half-mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL107620U1 PL107620U1 (en) 1999-08-16
PL59449Y1 true PL59449Y1 (en) 2002-12-31

Family

ID=19945008

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL10762098U PL59449Y1 (en) 1998-02-05 1998-02-05 Antidust half-mask

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL59449Y1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
PL107620U1 (en) 1999-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3965906A (en) Absorbent article with pattern and method
KR100609497B1 (en) Mask manufacturing equipment
USD370127S (en) Diamond surface pattern for synthetic foam sheeting
CA2162745A1 (en) Perforated rolled paper or nonwoven products with variable bonded length and method of manufacturing
DE3162899D1 (en) Two-layered sieve for the sheet forming zone of a paper machine
JPS5827567A (en) Disposable respiration mask and production thereof
KR100510164B1 (en) disposable dust proof mask
US4451520A (en) Spot bonded pattern for non-woven fabrics
DE69509427D1 (en) Printer for continuous paper feed to the printing area
CN1753767A (en) Soft and resilient formed film
PL59449Y1 (en) Antidust half-mask
CN212590389U (en) Mask with hollowed pattern
USD372157S (en) Three dimensionally shaped synthetic foam sheeting
KR100510163B1 (en) disposable dustproof mask with projecting parts
CN2471351Y (en) Fully automatic disposable dust mask manufacturing device
EP0613625B1 (en) Hygienic protecting cap, provided for application to the inside of helmets in general
CN215347246U (en) Folding device for mask surface
CN215248489U (en) Feeding mechanism of mask machine
CN213166996U (en) Integrative device of plain mask banding of beating piece
CN210929744U (en) Full-automatic mask folding forming mechanism
CN212437383U (en) a mask
KR200274873Y1 (en) disposable dust proof mask
JP2021050426A (en) Face mask
KR200301993Y1 (en) disposable dustproof mask with projecting parts
FR2722784B3 (en) PROCESS FOR THE CATALYTIC HYDROGENATION OF NITRILES TO AMINES IN THE PRESENCE OF A RANEY DOPE NICKEL-TYPE CATALYST