PL206362B1 - Układ kontroli przepływu - Google Patents
Układ kontroli przepływuInfo
- Publication number
- PL206362B1 PL206362B1 PL388178A PL38817803A PL206362B1 PL 206362 B1 PL206362 B1 PL 206362B1 PL 388178 A PL388178 A PL 388178A PL 38817803 A PL38817803 A PL 38817803A PL 206362 B1 PL206362 B1 PL 206362B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- processing fluid
- fluid
- container
- slurry
- outlet
- Prior art date
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 165
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 abstract description 42
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000006194 liquid suspension Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007494 plate polishing Methods 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
- B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0676—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on flow sources
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/206—Flow affected by fluid contact, energy field or coanda effect [e.g., pure fluid device or system]
- Y10T137/218—Means to regulate or vary operation of device
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Reciprocating Pumps (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Catching Or Destruction (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest układ kontroli przepływu zwłaszcza do użycia w ultra-czystych lub korozyjnych zastosowaniach.
Wiele dziedzin przemysłu takie jak: przemysł półprzewodników, farmaceutyczny i biotechnologiczny, doświadcza wiele, problemów związanych z dostarczaniem płynu ze względu na małe tempa przepływu, użycie chemicznych płynów ścieralnych, użycie chemicznych płynów korozyjnych i zapotrzebowanie na wolne od zanieczyszczeń, ścisłe, szczelne układy do dostarczania płynów i sporządzania mieszanki na bieżąco.
Na przykład, Chemical-Mechanical Planarization (CMP) (Planaryzacja MechanicznoChemiczna) jest procesem krytycznym w przemyśle półprzewodników, który wiąże się z procesem spłaszczania powierzchni płytki półprzewodnika. W większości zastosowań, tarcza polerska pokryta zawiesiną proszku ściernego w cieczy obraca się z kontrolowaną prędkością przy płytce półprzewodnika w celu spłaszczenia powierzchni. Zawiesina proszku ściernego w cieczy zawiera chemikalia, które zmiękczają powierzchnię chemicznie jak również materiały ścierne, które pracują z tarczą polerską w celu mechanicznego polerowania powierzchni. Według Chemical-Mechanical Planarization (Mechaniczno-Chemicznej Planaryzacji) (CMP), aby idealnie pracować, polerowanie mechaniczne i chemiczne musi pracować razem, delikatnie utrzymując równowagę a jakiekolwiek zmiany w tej równowadze mogą powodować uszkodzenie podkładki lub zmniejszyć wydajność. Jeśli nie ma zawiesiny proszku ściernego w cieczy, wtedy całe polerowanie jest mechaniczne i wygląda jak polerowanie szkła papierem ściernym. Jeśli jest za dużo zawiesiny, większość polerowania jest chemiczna i równowaga jest znikoma. Tempo polerowania płytki w znacznym stopniu zależne od tempa doprowadzenia płynu i ogólnej ilości płynu dostarczanego podczas działania polerowania.
Odnośnie procesów takich jak według (Chemical-Mechanical Planarization) ChemicznoMechanicznej Planaryzacji (CMP), układ doprowadzania zawiesiny proszku ściernego w cieczy zazwyczaj obejmuje pompę wyporową dodatnią taką jak pompa perystaltyczna, w celu wyciągnięcia zawiesiny proszku ściernego w cieczy z naczynia i zastosowaniu go do tarczy polerskiej. Pompa przesuwa płyn w bardziej lub mniej stałym tempie w zależności od prędkości pompy, chociaż działanie pompowania perystaltycznego powoduje pulsujące tempo doprowadzania płynu. Ponieważ pompa perystaltyczna jest układem objętościowym doprowadzania płynu, ilość płynu zmienia się wraz ze zmieniającymi się warunkami takimi jak rocznik rury pompy, temperatura rury pompy, skład płynu, szybkość silnika pompy, poziom płynu w naczyniu, kalibracja pompy, itd.
Ponadto, w wielu procesach według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (ChemicalMechanical Planarization) (CMP) i podobnych procesach, płyn taki jak zawiesina proszku ściernego w cieczy jest dostarczany w cyrkulującym obiegu napowietrznym. Takie obiegi zawiesiny proszku ściernego w cieczy są często napędzane przez uruchamianą powietrzem pompę membranową. Wiele przyrządów według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP) może być napędzanych przez taki sam obieg. Ciśnienie w obiegu może zmieniać się kiedy jedno narzędzie wyciąga zawiesinę proszku ściernego w cieczy. Ta zmiana ciśnienia obiegu może wpływać na tempo przepływu zawiesiny proszku ściernego w innym przyrządzie połączonym z takim samym obiegiem.
Należy sądzić, że wszystkie te wpływy na tempo przepływu procesu zmniejszają wydajność płytki w procesach według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP).
Celem wynalazku jest opracowanie układu kontroli przepływu, który zmniejsza problemy związane ze znanymi rozwiązaniami.
Układ kontroli przepływu zawierający wyraźnie sztywne naczynie oraz wylot płynu przetwarzania określony przez sztywne naczynie, według wynalazku charakteryzuje się tym, że ma giętki pojemnik płynu przetwarzania umieszczony w sztywnym naczyniu połączonym płynowo z wylotem płynu przetwarzania i pojemnik płynu roboczego umieszczony w sztywnym naczyniu wyraźnie otaczający pojemnik płynu przetwarzania, oraz sztywne naczynie określające wlot płynu roboczego tak, że płyn roboczy przyjmowany do pojemnika płynu roboczego ściska pojemnik płynu przetwarzania wypychając z niego płyn przetwarzania poprzez wylot płynu przetwarzania.
Korzystnie, układ zawiera pompę połączoną z wlotem płynu roboczego do odmierzania płynu roboczego do pojemnika płynu roboczego.
Korzystnie, układ zawiera filtr połączony wylotem płynu przetwarzania.
Korzystnie, układ zawiera mikser do mieszania płynu przetwarzania zawartego w pojemniku płynu przetwarzania.
PL 206 362 B1
Korzystnie, mikser obejmuje mikser ultradźwiękowy.
Korzystnie, pojemnik płynu roboczego obejmuje worek jednorazowego użytku.
Układ kontroli przepływu obejmuje wyraźnie sztywne naczynie, które ma wlot i wylot. Pojemnik płynu przetwarzania jest umieszczony w sztywnym naczyniu i jest połączony płynowo z wlotem i wylotem. Ruchomy element jest umieszczony w sztywnym naczyniu, tak że ruch ruchomego elementu w pierwszym kierunku powoduje wciągnięcie płynu przetwarzania do wlotu a ruch ruchomego elementu w drugim kierunku powoduje wypchnięcie płynu przetwarzania z wylotu.
Pojemnik płynu przetwarzania może obejmować pojemnik elastyczny umieszczony w sztywnym naczyniu połączonym płynowo z wlotem i wylotem. Wlot i wylot mogą obejmować zawór zwrotny odpowiednio wlotowy i wylotowy, w celu kontroli przepływu płynu przetwarzania w i poza pojemnikiem płynu przetwarzania.
W pewnym przykładzie wykonania, działa pompa wtryskowa a sztywne naczynie obejmuje więc cylinder z nurnikiem ślizgowo umieszczonym w cylindrze. Silnik skokowy, na przykład, uruchamia nurnik. W innym przykładzie wykonania, stosowany jest układ pompy membranowej, w którym ruchomy element jest membraną, która oddziela pojemnik płynu napędzania od pojemnika płynu przetwarzania. Pompa jest połączona płynowo z pojemnikiem płynu roboczego w celu selektywnego odmierzania płynu roboczego do i poza pojemnikiem płynu roboczego.
Układ kontroli przepływu zawiera wyraźnie sztywne naczynie z wylotem płynu przetwarzania opisanym w niniejszym opisie. Giętki pojemnik płynu przetwarzania, na przykład, jednorazowego użytku jest umieszczony w sztywnym naczyniu i jest połączony płynowo z wylotem płynu przetwarzania. Pojemnik płynu roboczego jest umieszczony w sztywnym naczyniu i wyraźnie otacza pojemnik płynu przetwarzania. Sztywne naczynie określa wlot płynu roboczego tak, że płyn roboczy przyjmowany w pojemniku płynu roboczego ściska pojemnik płynu przetwarzania w celu wypchnięcia z niego płynu przetwarzania poprzez wylot płynu przetwarzania. Pompa jest połączona z wlotem płynu roboczego dla odmierzania płynu roboczego do pojemnika płynu roboczego.
Sposób kontrolowania przepływu zawiesiny proszku ściernego w cieczy przy pomocy przyrządu według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP) obejmuje dostarczenie pojemnika z zawiesiną zawierającego zawiesinę proszku ściernego w cieczy. Urządzenie według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP) jest połączone z wylotem zawiesiny a pojemnik z zawiesiną wysuwa się aby wypchnąć zawiesinę z pojemnika z zawiesiną do przyrządu według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP) w pożądanym tempie przepływu. Zawiesina może być doprowadzona w worku jednorazowego użytku. Alternatywnie, doprowadzenie zawiesiny może być połączone z wlotem zawiesiny połączonym płynowo z pojemnikiem zawiesiny. Zawór wlotowy połączony z wlotem zawiesiny jest otwarty, zawór wylotowy połączony z wylotem zawiesiny jest zamknięty a określona z góry objętość zawiesiny jest wyciągana z doprowadzenia zawiesiny do pojemnika z zawiesiną. Wysuwanie się pojemnika z zawiesiną obejmuje następnie zamykanie zaworu wlotowego i otwieranie zaworu wylotowego aby zapobiec wciąganiu zawiesiny do pojemnika i umożliwić wypchnięcie zawiesiny proszku ściernego do przyrządu według CMP.
W pewnym przykł adowym przykł adzie wykonania, pojemnik z zawiesiną i ruchomy element są umieszczone w sztywnym naczyniu. Opadanie pojemnika zawiesiny proszku ściernego może być zrealizowane poprzez przesunięcie ruchomego elementu w pierwszym kierunku. Określona z góry objętość zawiesiny jest wyciągana z doprowadzenia zawiesiny do pojemnika z zawiesiną poprzez przesunięcie ruchomego elementu w drugim kierunku. W innym przykładowym przykładzie wykonania, pojemnik zawiesiny jest umieszczony w sztywnym naczyniu a płyn roboczy jest pompowany do sztywnego naczynia, w celu wysunięcia pojemnika z zawiesiną.
Przedmiot wynalazku w przykładzie wykonania jest przedstawiony na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat blokowy układu kontroli przepływu według niniejszego wynalazku, fig. 2 ogólnie przedstawia układ kontroli przepływu według przykładowego przykładu wykonania niniejszego wynalazku, fig. 3 ogólnie przedstawia układ kontroli przepływu według innego przykładowego przykładu wykonania niniejszego wynalazku, fig. 4 ogólnie przedstawia układ kontroli przepływu według następnego przykładowego przykładu wykonania niniejszego wynalazku.
Ilustrujące przykłady wykonania wynalazku są opisane poniżej. Ze względu na jasność, nie wszystkie cechy rzeczywistego wykonania są przedstawione w tym opisie.
Fig. 1 przedstawia schemat blokowy ilustrujący w sposób wyobrażalny części układu 100 kontroli przepływu. Przykładowy układ 100 pompy przedstawiony na fig. 1 obejmuje wyraźnie sztywne naczynie 110, które obejmuje wlot 114 i wylot 116 umieszczony na ogół po jednej stronie sztywnego
PL 206 362 B1 naczynia 110. Pojemnik 112 płynu przetwarzania jest umieszczony w sztywnym naczyniu 110 połączonym płynowo z wlotem 114 i wylotem 116. W celu wypchnięcia płynu przetwarzania z pojemnika 110 płynu przetwarzania, pojemnik płynu przetwarzania opada jak przedstawiono poniżej w następnej części opisu. W pewnych przykładach wykonania, pojemnik płynu przetwarzania 112 jest wcześniej napełniony płynem przetwarzania a więc wlot 114 nie jest doprowadzony.
W pewnych przykładach wykonania, ruchomy element 120 jest umieszczony w sztywnym naczyniu 110 tak, że ruch ruchomego elementu 120 w pierwszym kierunku (na lewo jak przedstawiono na fig. 1) powoduje wciągnięcie płynu przetwarzania 122 (na przykład zawiesina do użycia w procesie według Chemiczno-Mechanicznej Planaryzacji (CMP) do wlotu 114 poprzez przewód doprowadzający 123. Ruch ruchomego elementu 120 w drugim kierunku (na prawo jak przedstawiono na fig. 1) wysuwa pojemnik 112 i powoduje wypchnięcie płynu przetwarzania z wylotu 116 do narzędzia do przetwarzania 124 poprzez przewód przetwarzania 125. Urządzenie uruchamiające 125 selektywnie kontroluje ruch ruchomego elementu 120.
Zawory zwrotne 115, 117 wlotowy i wylotowy są doprowadzone przy wlocie 114 i wylocie 116. Kiedy ruchomy element 120 przesuwa się na lewo jak przedstawiono na fig. 1, zawór zwrotny 117 wylotowy zamyka się a zawór zwrotny 115 wlotowy otwiera się, umożliwiając wejście płynu przetwarzania 122 do pojemnika 112 płynu przetwarzania. Ciśnienie zasilające może być łagodne (na przykład, jeśli płyn przetwarzania 122 jest doprowadzony z tłoka zaworowego). Obciążający płyn przetwarzania jest niezależny od zmiany przeciętnego ciśnienia lub pulsacji ciśnieniowej w doprowadzaniu płynu przetwarzania.
Zbieranie powietrza i oczyszczanie może być dokonane kilkoma sposobami. Na przykład, przy użyciu akumulatora lub przechylnego zbiornika, przed zaworem wlotowym w celu zgromadzenia płynu i umożliwienia pęcherzykom powietrza uniesienie się do góry, podczas gdy płyn przetwarzania opada do dołu. Płyn przetwarzania „bezpęcherzykowy jest następnie wciągany do wlotu 114 od dołu zbiornika. W innych wykonaniach stosuje się wiadome oczyszczanie w celu uwolnienia pęcherzyków powietrza - pewna wstępnie określona objętość płynu przetwarzania zostaje wciągnięta do pojemnika 112 a inna wstępnie określona objętość zostaje usunięta z górnej części (możliwie z powrotem do zbiornika zasilającego. Następnie dozowany jest pozostały płyn przetwarzania.
Kiedy ruchomy element 120 jest przesuwany na prawo jak przedstawiono na fig. 1 w celu dostarczenia płynu przetwarzania do narzędzia do przetwarzania 124, zawór zwrotny wlotowy 115 zamyka się a zawór zwrotny wylotowy 117 otwiera się. Izoluje to w sposób efektywny układ pompy 100 od doprowadzenia płynu przetwarzania 122 podczas jego dostarczania. Tak więc, jakiekolwiek oddziaływania przeciwprądowe wynikające z wahań ciśnienia lub zatykanie filtrów nie wpływa na tempo przepływu płynu przetwarzania podczas dostarczania. Na ogół, urządzenie uruchamiające 130 może pokonać każde oddziaływania przeciwprądowe (w ramach jego ograniczeń konstrukcyjnych) aby utrzymać zadane tempo przepływu.
Fig. 2 ogólnie przedstawia układ kontroli przepływu 200. Układ kontroli przepływu 200 obejmuje pompę wtryskową 201. W układzie pompy 200, sztywne naczynie jest cylindrem 210 mającym na ogół jednolity przekrój poprzeczny. Cylinder 210 ma jeden koniec, który obejmuje wlot 114 i wylot 116, które są połączone z rurą zasilającą 123 i rurą przetwarzania 125 poprzez zawory zwrotne odpowiednio, wlotowy 115 i wylotowy 117. Nurnik 220 jest umieszczony na ogół po przeciwnej stronie końca wlotowego/wylotowego cylindra 210. Nurnik 220 porusza się ślizgowo w cylindrze 210 tak, że ruch nurnika 220 na prawo jak przedstawiono na fig. 2 powoduje wypchnięcie płynu przetwarzania z cylindra 210 poprzez wylot 116 do rury przetwarzania 125. Jak opisano powyżej, cylinder 210 ma na ogół jednolity przekrój poprzeczny, tak więc tempo przepływu objętościowego jest wprost proporcjonalne do prędkości nurnika.
W przykładowym przykładzie wykonania liniowy silnik napędowy skokowy 230 jest połączony z nurnikiem 220 poprzez tłok 232 w celu uruchomienia nurnika 220. Silnik skokowy 230 przesuwa nurnik 220 w zadanym tempie (na przykład, impulsy przez jednostkę czasu) nawet jeśli ciśnienie wyższe zmienia się. Urządzeniem Uruchamiającym Liniowym Hybrydowym, (A Hybrid Linear Actuator, Size 23 Captive 57000 Series). Wielkość 23 Produkcja 57000 Serii dostępne na przykład w Haydon Switch and Instrument Company jest odpowiedni silnik skokowy dla uruchamiania nurnika 220. Układ pompy 200 może w istocie odpowiadać na oddziaływania w procesie natychmiastowo, ponieważ siła nurnika jest dostosowana do poziomu wymaganego do utrzymania nurnika 220 w ruchu w zadanym tempie. W pewnych wykonaniach, prąd silnikowy jest monitorowany i użyty, jako wskaźnik problemów występujących w procesie, takich jak uszczelnianie filtracyjne od dołu. Jeśli prąd
PL 206 362 B1 jest nadmierny układ zamyka się zanim nastąpi rozerwanie mechaniczne. Szczególne użyte urządzenie uruchamiające jest oparte na kilku czynnikach, obejmujących wielkość serii, okres czasu, ciśnienie wlotowe, ciśnienie wylotowe, lepkość płynu, gęstość płynu, itd.
Zbiornik elastyczny 212 jest umieszczony w cylindrze 210 tak, że jest połączona płynowo z wlotem 114 i wylotem 116, w celu utworzenia pojemnika płynu przetwarzania 112. W przedstawionym przykładzie wykonania zbiornik elastyczny 212 jest umocowany do końca wlotowego/wylotowego cylindra 210 tak, że płyn przetwarzania, taki jak zawiesina jest odizolowany od wnętrza cylindra 210 i nurnika 220. Tak więc, ruch nurnika w jednym kierunku (na lewo jak przedstawiono na fig. 2) powoduje wciągnięcie płynu do zbiornika elastycznego 212 a ruch nurnika w przeciwnym kierunku (na prawo jak przedstawiono na fig. 2) powoduje wypchnięcie płynu ze zbiornika elastycznego 212. Rura doprowadzająca płyn 123 jest połączona do wlotu 114 poprzez zawór zwrotny wylotowy 246.
Wiele zastosowań, takie jak zastosowania połączone z wieloma procesami półprzewodnikowymi, wymagają aby ścieżka przepływu (wszystkie powierzchnie zwilżone przez płyn przetwarzania) układów dostarczania płynu była skonstruowana z tworzyw o wysokiej czystości, chemicznie obojętnych/odpornych. W zastosowaniach zawiesiny proszku ściernego w cieczy, takich jak według Mechaniczno-Chemicznej Planaryzacji (CMP), ścieralne cząsteczki mogłyby rozwijać się w rurach tworząc twardy „kamień z tworzywa ścieralnego. Jeśli ten kamień uwolniłby się z rury i wszedł na płytkę, wtedy płytka byłaby zarysowana i mogłaby być uszkodzona. Tak więc, zazwyczaj używane są filtry w celu usunięcia dużych cząsteczek.
Zwilżone części składowe układu pompy 200, takie jak zbiornik elastyczny 212, wlot 114, wylot 116, zwory zwrotne 244, 246 i zasilanie i rury przetwarzania 123, 125 są wykonane tworzywa plastycznego o wysokiej czystości chemicznej. Odpowiednim tworzywem o wysokiej czystości jest PFA (perfluoroalkoksy kopolimer), który jest udoskonalonym fluoropolimerem o wyższej wytrzymałości chemicznej i właściwościach mechanicznych. Odpowiednie są także różnorodne polimery fluorowe takie jak PVDF (polifluorek winylidenu) i PTFE (politetrafluoroetylen). Ponadto, materiały te są nielepkie a więc nie mają tendencji do zbierania cząsteczek.
Zapobiega to nawarstwianiu się cząsteczek i zatykania filtrów ze względu na takie nawarstwianie się.
Fig. 3 przedstawia inny przykładowy układ kontroli przepływu 300. Układ 300 stosuje pompę membranową 301 i używa pompę 330 jako urządzenia uruchamiającego. Membrana 320 jest umieszczona wewnątrz sztywnej powłoki 310 w celu umieszczenia pojemnika płynu przetwarzania 112, który jest połączony płynowo z wlotem 114 i wylotem 116 i zaworami zwrotnymi wlotu i wylotu 115, 117. W zastosowaniach o wysokiej czystości chemicznej, zwilżone części składowe są wykonane z tworzywa plastycznego o wysokiej czystości chemicznej, takiego jak PFA (żywica perfluoroalkoksylowa).
Pojemnik płynu roboczego 340 jest wyznaczony po przeciwnej stronie membrany 320. Pompa 330, taka jak pompa wyporowa, selektywnie odmierza płyn roboczy do i poza pojemnikiem płynu roboczego 340. Na ogół, nie ściśliwy płyn, taki jak woda lub olej jest pożądany dla płynu roboczego. Tak więc, odmierzanie płynu roboczego poza pojemnikiem płynu roboczego 340 przesuwa membranę 320 w pierwszym kierunku (na prawo jak przedstawiono na fig. 3) w celu wciągnięcia płynu przetwarzania do wlotu 114. Odmierzanie płynu roboczego do pojemnika płynu roboczego 340 przesuwa membranę 320 w przeciwnym kierunku w celu wypchnięcia płynu przetwarzania z wylotu 116.
Fig. 4 przedstawia układ kontroli płynu 400 według wynalazku. Układ 400 obejmuje wyraźnie sztywne naczynie 410, które wyznacza w nim wylot płynu przetwarzania 116.
Giętki pojemnik płynu przetwarzania 412 jest przyjmowany w sztywnym naczyniu 410 i jest połączony płynowo z wylotem płynu przetwarzania 116. Zamiast użycia ruchomego elementu w celu wysuwania pojemnika płynu przetwarzania 412, płyn roboczy jest pompowany do sztywnego naczynia 410 aby wysunąć pojemnik płynu przetwarzania. Pojemnik płynu roboczego 440 jest wyznaczony w sztywnym naczyniu 410, które wyraźnie otacza pojemnik płynu przetwarzania 412. Sztywne naczynie 410 także wyznacza wlot płynu roboczego 442. Płyn roboczy przyjmowany do pojemnika płynu roboczego 440 ściska pojemnik płynu przetwarzania 412 w celu wypchnięcia z niego płynu przetwarzania poprzez wylot płynu przetwarzania 116. Pompa 430, taka jak pompa odmierzająca lub pompa wtryskowa, jest połączona z wlotem płynu roboczego 442 w celu odmierzania płynu roboczego do pojemnika płynu roboczego 440. Płyn roboczy 122 jest więc wypchnięty z pojemnika płynu przetwarzania 412 w wyraźnie takim samym tempie jak płyn roboczy wchodzący do pojemnika płynu roboczego 440.
W pewnych przykładach wykonania, pojemnik 412 płynu przetwarzania jest workiem jednorazowego użytku, który w zastosowaniach o dużej czystości chemicznej, jest wykonany z tworzywa pla6
PL 206 362 B1 stycznego o dużej czystości chemicznej takiego jak PFA. Worek może być obciążony wstępnie płynem przetwarzania, takim jak zawiesina proszku ściernego w cieczy i może być hermetyczny w celu zagwarantowania braku pęcherzyków powietrza kiedy płyn przetwarzania jest doprowadzony do procesu. Następnie, worek może być jednorazowego użytku, gwarantując czysty układ i świeży płyn przetwarzania. Użycie worka jednorazowego użytku drastycznie zmniejsza ilość powierzchni, które stykają się przez płyn przetwarzania pomiędzy czasem kiedy płyn przetwarzania jest wytwarzany i czasem kiedy jest wprowadzony do urządzenia przetwarzania.
Wylot płynu przetwarzania 116 może mieć połączony z nim filtr 446. W układach stosujących pojemnik płynu przetwarzania jednorazowego użytku, filtr 446 może być integralny z workiem płynu przetwarzania tak, że filtr jest automatycznie wymieniany wraz z każdym nowym doprowadzeniem płynu przetwarzania. Niektóre wykonania stosują mikser 448, taki jak mikser ultradźwiękowy, w celu zmieszania płynu przetwarzania w pojemniku 312 płynu przetwarzania.
Claims (6)
- Zastrzeżenia patentowe1. Układ kontroli przepływu zawierający wyraźnie sztywne naczynie oraz wylot płynu przetwarzania określony przez sztywne naczynie, znamienny tym, że ma giętki pojemnik płynu przetwarzania (412) umieszczony w sztywnym naczyniu (410) połączonym płynowo z wylotem płynu przetwarzania (116) i pojemnik płynu roboczego (440) umieszczony w sztywnym naczyniu (410) wyraźnie otaczający pojemnik płynu przetwarzania (412), oraz sztywne naczynie (410) określające wlot płynu roboczego (442) tak, że płyn roboczy przyjmowany do pojemnika płynu roboczego (440) ściska pojemnik płynu przetwarzania (412) wypychając z niego płyn przetwarzania poprzez wylot płynu przetwarzania (116).
- 2. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera pompę (430) połączoną z wlotem płynu roboczego (442) do odmierzania płynu roboczego do pojemnika płynu roboczego (440).
- 3. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera filtr (446) połączony wylotem płynu przetwarzania (116).
- 4. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera mikser (448) do mieszania płynu przetwarzania zawartego w pojemniku płynu przetwarzania (412).
- 5. Układ według zastrz. 4, znamienny tym, że mikser (448) obejmuje mikser ultradźwiękowy.
- 6. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że pojemnik płynu roboczego (412) obejmuje worek jednorazowego użytku.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/065,275 US7204679B2 (en) | 2002-09-30 | 2002-09-30 | Flow control system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL206362B1 true PL206362B1 (pl) | 2010-07-30 |
Family
ID=32028515
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL375436A PL206360B1 (pl) | 2002-09-30 | 2003-09-10 | Układ kontroli przepływu |
| PL388177A PL206361B1 (pl) | 2002-09-30 | 2003-09-10 | Sposób kontrolowania przepływu płynu, zwłaszcza zawiesiny proszka ściernego |
| PL388178A PL206362B1 (pl) | 2002-09-30 | 2003-09-10 | Układ kontroli przepływu |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL375436A PL206360B1 (pl) | 2002-09-30 | 2003-09-10 | Układ kontroli przepływu |
| PL388177A PL206361B1 (pl) | 2002-09-30 | 2003-09-10 | Sposób kontrolowania przepływu płynu, zwłaszcza zawiesiny proszka ściernego |
Country Status (17)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7204679B2 (pl) |
| EP (4) | EP2343156B1 (pl) |
| JP (1) | JP4372010B2 (pl) |
| KR (1) | KR100649468B1 (pl) |
| CN (2) | CN101491889B (pl) |
| AR (2) | AR041382A1 (pl) |
| AT (1) | ATE485919T1 (pl) |
| AU (1) | AU2003266022B2 (pl) |
| BR (1) | BR0314955A (pl) |
| CA (1) | CA2500543C (pl) |
| DE (1) | DE60334712D1 (pl) |
| DK (2) | DK2343156T3 (pl) |
| MX (1) | MXPA05003444A (pl) |
| MY (1) | MY135346A (pl) |
| PL (3) | PL206360B1 (pl) |
| RU (1) | RU2313004C2 (pl) |
| WO (1) | WO2004030860A2 (pl) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EA011058B1 (ru) * | 2005-01-18 | 2008-12-30 | Чженгсаи Чжоу | Устройство для выброса струи предварительно приготовленной абразивной суспензии |
| US7735563B2 (en) * | 2005-03-10 | 2010-06-15 | Hydril Usa Manufacturing Llc | Pressure driven pumping system |
| JP2008539146A (ja) * | 2005-04-25 | 2008-11-13 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ，インコーポレイテッド | 化学試薬及び組成を保存・分配する装置及びプロセス |
| KR100806841B1 (ko) * | 2006-09-11 | 2008-02-22 | 세메스 주식회사 | 슬러리 공급장치에서의 버블 댐퍼 |
| EP2155373A4 (en) * | 2007-05-09 | 2014-10-22 | Foresight Proc Llc | SYSTEMS AND METHOD FOR THE MIXTURE AND DISTRIBUTION OF MATERIALS |
| WO2009076276A2 (en) * | 2007-12-06 | 2009-06-18 | Advanced Technology Materials, Inc. | Systems and methods for delivery of fluid-containing process material combinations |
| US20100243087A1 (en) * | 2009-03-03 | 2010-09-30 | Millipore Corporation | System and pump apparatus for processing fluid samples |
| EP3133636B1 (en) * | 2009-06-10 | 2019-01-02 | Entegris, Inc. | Fluid processing systems and method |
| US8308854B2 (en) * | 2009-12-15 | 2012-11-13 | Thermo Finnigan Llc | Helium reclamation systems and methods for a gas chromatograph |
| RU2459978C1 (ru) * | 2011-07-26 | 2012-08-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Купер" | Насосная установка регулируемая, диафрагменная |
| KR20130090209A (ko) * | 2012-02-03 | 2013-08-13 | 삼성전자주식회사 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
| US9921193B2 (en) * | 2013-03-14 | 2018-03-20 | Bio-Rad Laboratories, Inc. | Bottle pressurization delivery system |
| US9770804B2 (en) | 2013-03-18 | 2017-09-26 | Versum Materials Us, Llc | Slurry supply and/or chemical blend supply apparatuses, processes, methods of use and methods of manufacture |
| US9695674B2 (en) * | 2014-04-04 | 2017-07-04 | Onesubsea Ip Uk Limited | Subsea dosing pump |
| WO2015172081A1 (en) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | Baker Hughes Incorporated | Oil injection unit |
| JP6622578B2 (ja) * | 2015-12-08 | 2019-12-18 | 不二越機械工業株式会社 | ワーク加工装置およびこれに用いる薬液収納バッグ |
| CN107096901A (zh) * | 2017-05-02 | 2017-08-29 | 重庆天运汽车配件有限公司 | 一种离心浇铸均匀进液装置 |
| US11251047B2 (en) * | 2017-11-13 | 2022-02-15 | Applied Materials, Inc. | Clog detection in a multi-port fluid delivery system |
| JP7194996B2 (ja) * | 2019-03-13 | 2022-12-23 | 株式会社松井製作所 | 流体研磨装置 |
| JP7407439B2 (ja) * | 2019-10-24 | 2024-01-04 | 兵神装備株式会社 | 流体圧送装置 |
| TWI742924B (zh) * | 2020-11-13 | 2021-10-11 | 國立勤益科技大學 | 自動擠膏拋光刀把 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR945469A (fr) | 1946-03-22 | 1949-05-05 | Passch & Larsen Petersen | Procédé pour prélever une quantité déterminée de beurre ou autre matière plastique aspirées dans une cuve et appareil pour la mise en oeuvre de ce procédé |
| SU97285A1 (ru) | 1952-09-26 | 1953-11-30 | В.В. Залесский | Насос дл перекачки жидкостей с плохими смазывающими свойствами |
| SU125162A1 (ru) | 1959-06-15 | 1959-11-30 | В.М. Данич | Устройство дл подачи абразивных паст в рабочую зону полировального станка |
| US3635607A (en) * | 1970-04-20 | 1972-01-18 | Novelty Tool Co Inc | Vacuum pump |
| US3756456A (en) * | 1972-05-22 | 1973-09-04 | Graco Inc | Apparatus and method for a metering system |
| SU591609A1 (ru) | 1976-04-26 | 1978-02-05 | Московское Научно-Производственное Объединение По Механизированному Строительному Инструменту И Отделочным Машинам (Объединение "Вниисми") | Поршневой растворонасос |
| SU723215A2 (ru) | 1978-04-04 | 1980-03-25 | Предприятие П/Я В-8662 | Гидро - или пневмоприводной насос |
| SU767528A1 (ru) | 1978-07-06 | 1980-09-30 | Предприятие П/Я В-8644 | Способ непрерывного дозировани жидкости |
| US4488853A (en) * | 1980-08-28 | 1984-12-18 | New Process Industries, Inc. | Fluid pressure ratio transformer system |
| US4863066A (en) * | 1986-06-02 | 1989-09-05 | Technicon Instruments Corporation | System for dispensing precisely metered quantities of a fluid and method of utilizing the system |
| FR2608225B1 (fr) | 1986-12-10 | 1989-02-17 | Imaje Sa | Cellule a multiples fonctions comportant une chambre a volume variable, et circuit d'alimentation fluide d'une tete d'impression a jet d'encre qui en est equipe |
| US4950134A (en) * | 1988-12-27 | 1990-08-21 | Cybor Corporation | Precision liquid dispenser |
| US5056036A (en) * | 1989-10-20 | 1991-10-08 | Pulsafeeder, Inc. | Computer controlled metering pump |
| FR2706857B1 (pl) * | 1993-06-25 | 1995-10-27 | Dussau Distribution Sarl | |
| US5753515A (en) * | 1996-07-02 | 1998-05-19 | Eastman Kodak Company | Syringe pump apparatus for remote delivery of reactants |
| NL1004637C2 (nl) | 1996-11-28 | 1998-05-29 | Daniel Van Beek | Doseerinrichting. |
| US5971722A (en) * | 1997-09-05 | 1999-10-26 | Baxter International Inc | Electrochemical syringe pump having a sealed storage reservoir for a charge transfer medium |
| DE69830121T2 (de) * | 1997-10-31 | 2006-02-23 | Ebara Corp. | Polierschlamm Spendevorrichtung |
| US5945346A (en) * | 1997-11-03 | 1999-08-31 | Motorola, Inc. | Chemical mechanical planarization system and method therefor |
| US6107203A (en) * | 1997-11-03 | 2000-08-22 | Motorola, Inc. | Chemical mechanical polishing system and method therefor |
| US6109881A (en) * | 1998-01-09 | 2000-08-29 | Snodgrass; Ocie T. | Gas driven pump for the dispensing and filtering of process fluid |
| US6254453B1 (en) * | 1999-09-30 | 2001-07-03 | International Business Machines Corporation | Optimization of chemical mechanical process by detection of oxide/nitride interface using CLD system |
| US6544109B1 (en) * | 2000-08-31 | 2003-04-08 | Micron Technology, Inc. | Slurry delivery and planarization systems |
-
2002
- 2002-09-30 US US10/065,275 patent/US7204679B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-10 BR BR0314955A patent/BR0314955A/pt not_active Application Discontinuation
- 2003-09-10 WO PCT/US2003/028397 patent/WO2004030860A2/en active Search and Examination
- 2003-09-10 EP EP20100012713 patent/EP2343156B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 DK DK10012713.3T patent/DK2343156T3/en active
- 2003-09-10 AT AT03799281T patent/ATE485919T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-09-10 EP EP20030799281 patent/EP1545835B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 EP EP20100012714 patent/EP2347858A3/en not_active Withdrawn
- 2003-09-10 JP JP2004541523A patent/JP4372010B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 DK DK03799281.5T patent/DK1545835T3/da active
- 2003-09-10 CN CN2009100045957A patent/CN101491889B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 RU RU2005113299A patent/RU2313004C2/ru active
- 2003-09-10 PL PL375436A patent/PL206360B1/pl unknown
- 2003-09-10 PL PL388177A patent/PL206361B1/pl unknown
- 2003-09-10 AU AU2003266022A patent/AU2003266022B2/en not_active Expired
- 2003-09-10 DE DE60334712T patent/DE60334712D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 PL PL388178A patent/PL206362B1/pl unknown
- 2003-09-10 CN CNB038254808A patent/CN100528485C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 MX MXPA05003444A patent/MXPA05003444A/es active IP Right Grant
- 2003-09-10 KR KR1020057005550A patent/KR100649468B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2003-09-10 CA CA002500543A patent/CA2500543C/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-09-10 EP EP20080170886 patent/EP2108482A1/en not_active Withdrawn
- 2003-09-24 AR ARP030103480 patent/AR041382A1/es active IP Right Grant
- 2003-09-26 MY MYPI20033686A patent/MY135346A/en unknown
-
2009
- 2009-04-24 AR ARP090101466 patent/AR071409A2/es active IP Right Grant
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL206362B1 (pl) | Układ kontroli przepływu | |
| US6554579B2 (en) | Liquid dispensing system with enhanced filter | |
| CN1665718A (zh) | 化学品混合与输送系统及其方法 | |
| JP2003509627A (ja) | 精密供出ポンプ及び供出方法 | |
| KR101222899B1 (ko) | 복수의 헤드들이 달린 정밀펌프 | |
| WO2017022412A1 (ja) | 分注装置 | |
| HK1129628B (en) | A method of controlling the flow of slurry to a cmp tool | |
| HK1086523B (en) | Flow control system | |
| US20060074529A1 (en) | Apparatus for dispensing precise volumes of fluid | |
| US6702655B2 (en) | Slurry delivery system for chemical mechanical polisher | |
| US11878370B2 (en) | Method of and apparatus for supplying cooling water to laser processing head and method of producing cooling water | |
| JP7194996B2 (ja) | 流体研磨装置 | |
| JPH0868378A (ja) | 液体定量供給装置 | |
| WO2018079180A1 (ja) | レーザ加工ヘッドに対する冷却水の供給方法及び装置並びに冷却水の製造方法 | |
| JP2004027905A (ja) | 流体供給システム | |
| JPH059635U (ja) | 流体滴下供給装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |