PL193053B1 - Sposób wytwarzania pochodnej związku hydrazonowego oraz sposób wytwarzania pochodnej związku arylohydrazynowego - Google Patents
Sposób wytwarzania pochodnej związku hydrazonowego oraz sposób wytwarzania pochodnej związku arylohydrazynowegoInfo
- Publication number
- PL193053B1 PL193053B1 PL343477A PL34347799A PL193053B1 PL 193053 B1 PL193053 B1 PL 193053B1 PL 343477 A PL343477 A PL 343477A PL 34347799 A PL34347799 A PL 34347799A PL 193053 B1 PL193053 B1 PL 193053B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- formula
- compound
- compounds
- halogen
- iii
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 title description 9
- 230000000361 pesticidal effect Effects 0.000 title description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 73
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- -1 hydrazone compound Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 7
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 claims description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 26
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- JYHSJQNYYLGMEI-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethoxypropanenitrile Chemical compound COC(OC)CC#N JYHSJQNYYLGMEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CYFNZPXGBPCRMU-UHFFFAOYSA-N 3-[[2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazinylidene]propanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(NN=CCC#N)C(Cl)=C1 CYFNZPXGBPCRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 5
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 5
- IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N succinonitrile Chemical class N#CCCC#N IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 4
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPZYPAMYHBOUTC-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1-[2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]pyrazole-3-carbonitrile Chemical compound NC1=CC(C#N)=NN1C1=C(Cl)C=C(C(F)(F)F)C=C1Cl QPZYPAMYHBOUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical class CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IPCRTSDORDQHRO-DUXPYHPUSA-N (e)-3-methoxyprop-2-enenitrile Chemical compound CO\C=C\C#N IPCRTSDORDQHRO-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNLFJTOCMMLYQN-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazinyl]propanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(NNCCC#N)C(Cl)=C1 ZNLFJTOCMMLYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 4-[[(3ar,5ar,5br,7ar,9s,11ar,11br,13as)-5a,5b,8,8,11a-pentamethyl-3a-[(5-methylpyridine-3-carbonyl)amino]-2-oxo-1-propan-2-yl-4,5,6,7,7a,9,10,11,11b,12,13,13a-dodecahydro-3h-cyclopenta[a]chrysen-9-yl]oxy]-2,2-dimethyl-4-oxobutanoic acid Chemical compound N([C@@]12CC[C@@]3(C)[C@]4(C)CC[C@H]5C(C)(C)[C@@H](OC(=O)CC(C)(C)C(O)=O)CC[C@]5(C)[C@H]4CC[C@@H]3C1=C(C(C2)=O)C(C)C)C(=O)C1=CN=CC(C)=C1 QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYOWOHMZNWQLFG-UHFFFAOYSA-N [2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazine Chemical compound NNC1=C(Cl)C=C(C(F)(F)F)C=C1Cl FYOWOHMZNWQLFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGGZPEGQLMBEDD-UHFFFAOYSA-N [2,6-dichloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazine;hydrochloride Chemical compound Cl.NNC1=C(Cl)C=C(C(F)(F)F)C=C1Cl DGGZPEGQLMBEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N mercury(ii) oxide Chemical compound [Hg]=O UKWHYYKOEPRTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N tes-adt Chemical class C1=C2C(C#C[Si](CC)(CC)CC)=C(C=C3C(SC=C3)=C3)C3=C(C#C[Si](CC)(CC)CC)C2=CC2=C1SC=C2 NYBWUHOMYZZKOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl cyanide Chemical class C[Si](C)(C)C#N LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCIMZLVDRUALY-UHFFFAOYSA-N 3-[[2-chloro-4-(trifluoromethyl)phenyl]hydrazinylidene]propanenitrile Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(NN=CCC#N)C(Cl)=C1 HWCIMZLVDRUALY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 1
- IUQNBIZTUXOMKO-UHFFFAOYSA-N [Na].O=CCC#N Chemical compound [Na].O=CCC#N IUQNBIZTUXOMKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N mercury(2+) Chemical compound [Hg+2] BQPIGGFYSBELGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000008048 phenylpyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/89—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/72—Nitrogen atoms
- C07D213/76—Nitrogen atoms to which a second hetero atom is attached
- C07D213/77—Hydrazine radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
- C07C255/63—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C255/65—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with the nitrogen atoms further bound to nitrogen atoms
- C07C255/66—Carboxylic acid nitriles containing cyano groups and nitrogen atoms further bound to other hetero atoms, other than oxygen atoms of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with the nitrogen atoms further bound to nitrogen atoms having cyano groups and nitrogen atoms being part of hydrazine or hydrazone groups bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/26—Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
- C07D213/30—Oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/28—Radicals substituted by singly-bound oxygen or sulphur atoms
- C07D213/32—Sulfur atoms
- C07D213/34—Sulfur atoms to which a second hetero atom is attached
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
Abstract
1. Sposób wytwarzania pochodnej zwiazku hydrazonowego o wzorze (I): w którym W oznacza azot lub -CR 3 ; R 1 oznacza halogen, haloalkil, korzystnie trifluorometyl, haloalkoksy, korzystnie trifluorometoksy, R 4 S(O) n- lub -SF 5,- R 2 oznacza wodór lub halogen, korzystnie chlor lub brom; R 3 oznacza halogen, korzystnie chlor lub brom; R 4 oznacza alkil lub haloalkil; i n oznacza 0, 1 lub 2; znamienny tym, ze obejmuje (A) reakcje zwiazku o wzorze (II): w którym R 5 i R 6 niezaleznie oznaczaja alkil lub razem oznaczaja lancuch alkileriowy zawierajacy dwa lub trzy atomy wegla, z sola addycyjna kwasu i arylohydrazyny o wzorze (III): ……………………………………………………………………. PL PL PL PL PL PL PL
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest nowy sposób wytwarzania związków pośrednich (w szczególności związków 2-(arylohydrazyno)sukcynonitrylowych i pochodnych 3-(arylohydrazono)propionitrylowych) przydatnych do wytwarzania środków szkodnikobójczych.
Publikacje europejskich opisów patentowych nr 0295117 oraz 0234119 przedstawiają wytwarzanie szkodnikobójczo aktywnych związków fenylopirazolowych i związków pośrednich 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych stosowanych w ich syntezie.
Znane są różne sposoby otrzymywania tych związków. Celem obecnego wynalazku jest znalezienie ulepszonych i bardziej ekonomicznych sposobów wytwarzania środków szkodnikobójczych oraz związków pośrednich przydatnych do ich wytwarzania.
Publikacja niemieckiego opisu patentowego Nr 3612940 ujawnia sposób wytwarzania pochodnych 5-amino-1-arylopirazolu o wzorze ogólnym:
w którym Ar oznacza podstawiony fenyl lub pirydyl, które można zastosować jako związki pośrednie do wytwarzania związków mających chwastobójcze lub szkodnikobójcze właściwości, przez reakcję soli chlorowodorku arylohydrazyny z solą sodową formyloacetonitrylu o wzorze:
NaOCH=CH-CN z wytworzeniem związków hydrazonowych o wzorze ogólnym :
Ar-NH-N=CH-CH2-CN w którym Ar ma znaczenie zdefiniowane wyżej; które są następnie cyklizowane w obecności zasady.
Jednakże może być pożądane otrzymywanie związków hydrazonowych w czystej postaci nadającej się do dalszego przekształcenia w środki szkodnikobójcze. Znane procedury mogą prowadzić do wytwarzania hydrazonów, które są zanieczyszczone cyklizowanym produktem 5-amino-1-arylopirazolowym.
Obecni wynalazcy nieoczekiwanie odkryli nowy sposób wytwarzania związków hydrazonowych bez zachodzenia reakcji cyklizacji. Następnie związki hydrazonowe mogą być użyte albo do przeprowadzenia nowego sposobu wytwarzania związków 5-amino-1-arylopirazolowych, albo w nowym sposobie, który wymaga dodatku cyjanidu do otrzymania pochodnych 2-(arylohydrazyno)sukcynonitrylu, które mogą być następnie przetworzone w celu wytworzenia ważnych związków 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych, które są cennymi związkami pośrednimi do wytwarzania środków szkodnikobójczych.
Opis patentowy US Nr 4824960 przedstawia wytwarzanie pochodnych 5-amino-1-arylopirazolu o wzorze ogólnym:
w którym Ar oznacza podstawiony fenyl lub pirydyl, które mogą być stosowane jako związki pośrednie do wytwarzania związków mających właściwości chwastobójcze lub szkodnikobójcze, przez reakcję arylohydrazyn o wzorze :
Ar-NH-NH2 w którym Ar ma znaczenie określone wyżej, z acetonitrylem owzorze:
NC-CH=CH2
PL 193 053 B1 w pierwszym etapie w obecności rozcieńczalnika i ewentualnie katalizatora z wytworzeniem związków 3-arylohydrazynopropionitrylowych o wzorze:
Ar-NH-NH-CH2-CH2-CN w którym Ar ma znaczenie zdefiniowane wyżej, z następującym w drugim etapie procesu utlenianiem i cyklizacją.
Jednakże inny sposób należy zastosować jeżeli pożądane jest przeprowadzenie utleniania powyższych 3-arylohydrazynopropionitryli (bez cyklizacji do 5-amino-1-arylopirazoli) w celu uzyskania 3-arylohydrazonopropionitryli, które można następnie przekształcić do wytworzenia ważnych związków 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych, które są cennymi związkami pośrednimi do wytwarzania środków szkodnikobójczych.
Zatem niniejszy wynalazek dotyczy sposobu (A) wytwarzania związków o wzorze (I):
1
R1 oznacza halogen, haloalkil (korzystnie trifluorometyl), haloalkoksy (korzystnie trifluorometoksy), R4S2(O)n- lub -SF5;
R2 oznacza wodór lub halogen (na przykład chlor lub brom);
3
R3 oznacza halogen (na przykład chlor lub brom);
R4 oznacza alkil lub haloalkil; i n oznacza 0, 1 lub 2; który to proces obejmuje reakcję związku o wzorze (II):
w którym R5i R6 niezależnie oznaczają alkil lub razem oznaczają łańcuch alkilenowy zawierający dwa lub trzy atomy węgla, z kwasową solą addycyjną związku arylohydrazynowego o wzorze (III):
w którym R1, R2i W mają znaczenie określone wyżej.
Związki o wzorze (I) mogą występować jako mieszanina izomerów syn i anti lub jako pojedyncze izomery.
O ile nie określono inaczej, w niniejszym opisie „alkil” oznacza prosty- lub rozgałęziony- łańcuch alkilowy zawierający od jednego do sześciu atomów węgla (korzystnie jeden do trzech). O ile nie określono inaczej „haloalkil” i „haloalkoksy” oznaczają prosty- lub rozgałęziony- odpowiednio łańcuch alkilowy lub
PL 193 053 B1 alkoksylowy, zawierający od jednego do sześciu atomów węgla (korzystnie jeden do trzech), podstawiony jednym lub więcej atomami halogenu wybranymi spośród fluoru, chloru lub bromu.
Ogólnie R5 i R6 we wzorze (II) oznaczają taką samą grupę alkilową, korzystnie metyl lub etyl.
Kwasowe sole addycyjne związków o wzorze (III) są korzystnie solami wytworzonymi z mocnych kwasów takich jak kwasy nieorganiczne, na przykład kwas siarkowy lub korzystnie kwas solny. Ogólnie sole są wstępnie wytworzone lub mogą być ewentualnie wytworzone in situ. Reakcję można przeprowadzić w rozpuszczalniku polarnym lub niepolarnym w obecności wody. Przykłady polarnych rozpuszczalników obejmują wodę; alkohole takie jak metanol lub etanol; nitryle takie jak acetonitryl; N-metylopirolidon lub sulfotlenki takie jak dimetylosulfotlenek. Przykłady niepolarnych rozpuszczalników obejmują chlorowane węglowodory, korzystnie tetrachlorek węgla; i węglowodory takie jak cykloheksan. Ogólnie, temperatura reakcji wynosi od 20°C do 100°C, korzystnie od 50°C do 90°C. Zazwyczaj stosuje się równomolowe ilości związków o wzorze (II) i (III). Ilość wody, która może być obecna wynosi od ilości katalitycznej do dużego nadmiaru.
We wzorach (I), (III) i we wzorach przedstawionych poniżej, korzystne znaczenia symboli są następujące:
R1 oznacza haloalkil (korzystnie trifluorometyl), haloalkoksy (korzystnie trifluorometoksy) lub -SF5;
W oznacza -CR3; i R3 oznacza halogen;
Najkorzystniejszym związkiem o wzorze (I) jest 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitryl.
Następnym korzystnym związkiem o wzorze (I) jest 3-(2-chloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitryl.
Związki o wzorze (II) i (III) są ogólnie znane w literaturze.
Sposób według wynalazku charakteryzuje się wieloma korzyściami. Tak więc, sposób ten umożliwia otrzymywanie związków 3-arylohydrazono-propionitrylowych o wzorze (I) z wysoką wydajnością z łatwo dostępnych materiałów wyjściowych. Ponadto reakcję można przeprowadzić bardzo prosto i ekonomicznie i wyodrębnienie produktu jest bardzo łatwe. Ponadto związki o wzorze (I) można otrzymać zasadniczo bez występowania cyklizacji.
Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku dostarcza on sposobu (B) wytwarzania związków o wzorze (I), w którym W, R1 i R2 mają znaczenia takie jak określono wyżej, który obejmuje reakcję związku o wzorze (IV):
z0R7
Γ
NC (IV) w którym R7 oznacza alkil (korzystnie metyl lub etyl), ze związkiem o wzorze (III), w którym R1, 2
R2 i W mają znaczenia takie jak określono wyżej. Ogólnie stosowane są warunki reakcji takie same jak te stosowane do wyżej określonego wytwarzania związków o wzorze (I) z reakcji związków o wzorze (II) z kwasową solą addycyjną związków o wzorze (III).
Związki o wzorze (IV) są zasadniczo znane w literaturze.
Zgodnie z następną cechą niniejszego wynalazku, dostarcza on sposobu (C) wytwarzania związków o wzorze (I), w którym W, R1 i R2 mają znaczenia określone wyżej; który to sposób obejmuje
PL 193 053 B1
Odpowiednie utleniacze dla powyższej reakcji wytwarzania związków o wzorze (I) obejmują chinony, takie jak benzochinon, nadtlenki takie jak nadtlenek wodoru, podhalogeniny (hypohalite) takie jak podchloryn sodu; lub korzystnie sól lub tlenek metalu, na przykład chlorek miedzi (II) lub tlenek rtęci (II). Utlenianie przeprowadza się zasadniczo w rozpuszczalniku. Odpowiednie do zastosowania rozpuszczalniki obejmują halogenowane lub niehalogenowane węglowodory takie jak toluen lub chlorobenzen, nitryle takie jak acetonitryl lub amidy takie jak N,N-dimetyloformamid. Temperatura reakcji wynosi zasadniczo od około 20°C do około 150°C, a korzystnie od około 50°C do około 100°C.
Stosunek molowy utleniacza do związku o wzorze (V) mieści się zasadniczo w zakresie od 0,01:1 do 5:1, korzystnie od 1:1 do 3:1.
Zgodnie z dalszą cechą obecnego wynalazku, dostarcza on sposobu (D) wytwarzania związków o wzorze (VI):
w którym R, R i W mają znaczenie zdefiniowane wyżej; który to sposób obejmuje reakcję związku o wzorze (I), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone wyżej, ze źródłem cyjanowodoru. Związki o wzorze (VI) mogą występować w postaciach R-i S-lub jako ich mieszanina.
Źródłem cyjanowodoru może być sam gaz cyjanowodoru gdy ewentualnie prowadzi się reakcję w obecności zasady, na przykład pirydyny; ale korzystnie wytwarzany jest in situ (aby uniknąć bezpośredniego stosowania cyjanowodoru) z soli cyjanidu metalu (zazwyczaj cyjanidu metalu alkalicznego, na przykład cyjanidu sodu lub cyjanidu potasu), w obecności kwasu. Odpowiednie kwasy obejmują kwasy organiczne takie jak alifatyczne kwasy karboksylowe, na przykład kwas octowy, lub halogenowane alifatyczne kwasy karboksylowe, na przykład kwas chlorooctowy lub kwas trifluorooctowy; kwasy sulfonowe takie jak kwas benzenosulfonowy, kwas 4-toluenosulfonowy lub kwas metanosulfonowy; lub kwasy nieorganiczne takie jak kwas solny lub kwas siarkowy.
Alternatywnymi źródłami cyjanowodoru (który może być wytwarzany in situ) są trimetylosililocyjanidy w wodzie, lub mieszanina trimetylosililocyjanidu i kwasu Lewisa, na przykład tetrachlorek cyny (IV), w rozpuszczalniku takim jak dichlorometan lub tetrahydrofuran, w temperaturze od 20°C do 100°C, korzystnie od 30°C do 60°C. Reakcję prowadzi się korzystnie pod podwyższonym ciśnieniem, które zwiększa szybkość reakcji.
Wytwarzanie związków o wzorze (VI) ze związków o wzorze (I) może być przeprowadzone w polarnym lub niepolarnym rozpuszczalniku. Przykłady polarnych rozpuszczalników, które można zastosować obejmują wodę; alkohole takie jak metanol lub etanol; N,N-dimetyloformamid; dimetylosulfolenek; lub kwasy alkanowe takie jak kwas octowy. Przykłady niepolarnych rozpuszczalników obejmują węglowodory takie jak heksan, lub etery takie jak tetrahydrofuran, dioksan lub etery dialkilowe takie jak eter dietylowy; lub nitryle takie jak acetonitryl. Gdy stosowana jest sól cyjanid metalu w obecności kwasu, korzystnym rozpuszczalnikiem jest woda lub mieszanina wody z mieszalnym z wodą rozpuszczalnikiem. Można stosować równomoIowe ilości lub nadmiar źródła cyjanidu, generalnie stosuje się od 1 do 4 równoważników molowych. Temperatura reakcji wynosi zazwyczaj od 0°C do 100°C, korzystnie od 20°C do 50°C.
Najkorzystniejszy związek o wzorze (VI) stanowi 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitryl.
Kolejnym korzystnym związkiem o wzorze (VI) jest 2-(2-chloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitryl.
PL 193 053 B1
Zgodnie z kolejną cechą wynalazku, sposoby (A) i (D) mogą być połączone do wytworzenia związków o wzorze (VI) ze związków o wzorze (III).
Zgodnie z kolejną cechą wynalazku, sposoby (B) i (D) mogą być połączone do wytworzenia związków o wzorze (VI) ze związków o wzorze (III).
Zgodnie z kolejną cechą wynalazku, sposoby (C) i (D) mogą być połączone do wytworzenia związków o wzorze (VI) ze związków o wzorze (V).
Zgodnie z kolejną cechą wynalazku, powyższe sposoby sposoby (C) i (D) mogą być połączone z dodatkowym etapem (E) sposobu, który obejmuje reakcję związku arylohydrazynowego o wzorze (III), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone wyżej; z akrylonitrylem o wzorze (VII):
NC-CH=CH2 (VII) z wytworzeniem związków o wzorze (V) zdefiniowanych wyżej.
Związki o wzorze (VII) są związkami znanymi.
Związki o wzorze (I) otrzymywane sposobem (A) lub (B) lub (C) według wynalazku, mogą być stosowane do wytwarzania pochodnych szkodnikobójczo aktywnych 5-amino-1-arylopirazoli o wzorze (VIII) według następującego schematu reakcji:
gdzie R1, R2 i W mają znaczenie zdefiniowane wyżej.
Związki o wzorze (VI) otrzymywane sposobem (D) według wynalazku są szczególnie użyteczne do wytwarzania szkodnikobójczo aktywnych pochodnych 5-amino-1-arylo-3-cyjanopirazolowych o wzorze (IX) otrzymanych ze związków pośrednich o wzorze (X) i (XI) według następującego schematu reakcji:
gdzie R1, R2 i W są zdefiniowane wyżej.
PL 193 053 B1
Związki o wzorze (X) mogą być wytworzone przez utlenianie związków o wzorze (VI). Odpowiednimi utleniaczami dla tej reakcji są chinony takie jak benzochinon, nadtlenki takie jak nadtlenek wodoru, podhalogeniny takie jak podchloryn sodowy, lub wodorotlenki metali alkalicznych takie jak wodorotlenek sodu w obecności powietrza, lub korzystnie sól lub tlenek metalu na przykład chlorek miedzi (II) lub tlenek rtęci (II). Zazwyczaj reakcja prowadzona jest w rozpuszczalniku. Odpowiednie do zastosowania rozpuszczalniki obejmują halogenowane lub niehalogenowane węglowodory aromatyczne takie jak toluen lub chlorobenzen, nitryle takie jak acetonitryl lub amidy takie jak N,N-dimetyloformamid. Temperatura reakcji wynosi generalnie od około 20°C do około 150°C, korzystnie od około 50°C do około 100°C. Stosunek molowy utleniacza do związku o wzorze (VI) wynosi zasadniczo od 0,01:1 do 5:1, korzystnie od 1:1 do 3:1.
Związki o wzorze (XI) można wytworzyć ze związków o wzorze (X) zgodnie ze znanymi sposobami.
Następujące, nieograniczające przykłady ilustrują wynalazek. Widma NMR zarejestrowano stosując jako rozpuszczalnik deuterochloroform.
Przykład 1
Wytwarzanie 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitrylu z 3,3-dimetoksypropionitrylu
Chlorowodorek 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyny wytworzono przez wprowadzenie pęcherzyków gazowego chlorowodoru do roztworu eterowego 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyny i odsączenie chlorowodorkowej soli otrzymanej z wydajnością ilościową. Sukcesywnie dodano tetrachlorek węgla (5 ml) i 3,3-dimetoksypropionitryl (141 mikrolitrów) do roztworu chlorowodorku 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyny (0,349 g) w wodzie (5 ml) i ogrzewano w temperaturze 75°C przez 10 godzin. Ochłodzoną mieszaninę ekstrahowano (dichlorometan), przemyto (woda), osuszono (siarczan magnezu) i odparowano z wytworzeniem tytułowego związku (0,358 g).
NMR 3,37 (d, 2H), 7,03 (t, 1H), 7,5 (s, 2H), 7,75 (s, 1H).
Wydajność wynosiła 98%.
Przykład 2
Wytwarzanie 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitrylu z 3,3-dimetoksypropionitrylu
Mieszaninę 2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyny (1,8 g) i kwasu solnego (4 ml kwasu 2N, 1 równoważnik) ogrzewano do temperatury 80°C, w obojętnej atmosferze. Dodano w jednej porcji 3,3-dimetoksypropionitryl (912 mikrolitrów, 1 równoważnik) i mieszaninę ogrzewano w temperaturze 80°C przez 2 godziny, ochłodzono, ekstrahowano (dichlorometan), przemyto (woda), osuszono (siarczan magnezu) i odparowano. Pozostałość oczyszczono poprzez chromatografię na żelu krzemionkowym z wymywaniem chlorometanem wytwarzając tytułowy związek (1,4 g), NMR 3,37 (d, 2H), 7,03 (t, 1H), 7,5 (s, 1H), 7,75 (s, 1H).
Wydajność wynosiła 59%.
Przykład 3
Wytwarzanie 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitrylu z 3-metoksy-akrylonitrylu
Postępując zgodnie z przykładem 1, lecz zastępując 3,3-dimetoksypropionitryl przez 3-metoksyakrylonitryl otrzymano, po oczyszczeniu poprzez chromatografię na żelu krzemionkowym i wymywaniu dichlorometanem, tytułowy związek, NMR 3,37 (d, 2H), 7,03 (t, 1H), 7,5 (s, 2H), 7,75 (s, 1H).
Wydajność wynosiła 63%.
P r zykład 4
Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitrylu
2-(2,6-Dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitryl (0,296 g, 1 mmol), cyjanid sodu (0,196 g, 4 równoważniki), wodę (1 ml) i kwas octowy (5ml) dodano sukcesywnie do zamkniętego (zatopionego) naczynia rurowego. Po reakcji przez 40 godzin w temperaturze 20°C mieszaninę dodano do roztworu nasyconego wodorowęglanu sodu, ekstrahowano (dichlorometan), przemyto (woda), osuszono (siarczan magnezu) i odparowano z wytworzeniem mieszaniny zawierającej 40% pożądanego tytułowego związku, NMR 3,1 (m, 2H), 4,5 (m, 1H), 5,89 (m, 1H), 6,94 (d, 1H), 7,71 (s, 2H) razem z 60% niezmienionego wyjściowego hydrazonu.
PL 193 053 B1
Przykład 5
Wytwarzanie 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitrylu z 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno) propionitrylu
Chlorek miedzi (0,673 g, 2,5 równoważników) dodano w jednej porcji do roztworu 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)propionitrylu (0,591 g, 2 mmole) w chlorobenzenie i mieszaninę ogrzewano w temperaturze 65°C przez 50 minut. Po zakończeniu reakcji produkt ochłodzono, przemyto (woda), osuszono (siarczan magnezu), odparowano i oddzielono poprzez chromatografię na żelu krzemionkowym z wytworzeniem 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)propionitrylu, NMR 3,37 (d, 2H), 7,03 (t, 1H), 7,5 (s, 2H), 7,75 (s, 1H) (wydajność 35%) i 3-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylazo)propionitryl, NMR 3,0 (t, 2H), 4,6 (t, 2H), 7,6 (s, 2H) (wydajność 60%).
Przykład 6
Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitrylu
2-(2,6-Dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitryl (0,296 g, 1 mmol), cyjanid sodu (0,196 g, 4 równoważniki), wodę (1 ml) i kwas octowy (5 ml) dodano sukcesywnie do zamkniętego (zatopionego) naczynia rurowego i prowadzono reakcję w temperaturze 20°C przez 40 godzin. Mieszaninę następnie dodano do roztworu nasyconego wodorowęglanu sodu, ekstrahowano (dichlorometan), przemyto (woda), osuszono (siarczan magnezu) i odparowano z wytworzeniem mieszaniny, która zawierała 40% pożądanego tytułowego związku, NMR 3,1 (m, 2H), 4,5 (m, 1H), 5,89 (m, 1H), 6,94 (d, 1H), 7,71 (s, 2H) razem z 60% niezmienionego wyjściowego hydrazonu.
Przykład odni esi enia
i) Wytwarzanie 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu
Mieszaninę 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazyno)sukcynonitrylu (0,323 g) i chlorku miedzi (0,175 g) ogrzewano w chlorobenzenie w temperaturze 60°C przez 6 godzin. Po odsączeniu i odparowaniu otrzymano tytułowy związek i 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazol jako mieszaninę 7:1. Chromatografia kolumnowa na żelu krzemionkowym z wymywaniem dichlorometanem dała czysty tytułowy związek, uzyskany jako mieszanina izomerów syn i anti, NMR (izomer anti) 3,6 (s, 2H),7,57 (s, 2H), 8,82 (s, 1H, wymienialny z D2O), NMR (izomer syn) 3,56 (s, 2H), 7,59 (s, 2H), 8,27 (s, 1H, wymienialny z D2O).
ii) Wytwarzanie 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazolu
Amoniak (20 mikrolitrów 8% roztworu amoniaku w wodzie) dodano do mieszaniny wyżej wymienionego 2-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylohydrazono)sukcynonitrylu (0,077 g) w etanolu (1 ml) i wodzie (0,2 ml) w temperaturze 0°C. Po 10 minutach mieszaninę ekstrahowano (dichlorometan) i odparowano z wytworzeniem 5-amino-3-cyjano-1-(2,6-dichloro-4-trifluorometylofenylo)pirazolu (0,076 g, wydajność 97%). Czystość 98% (z zastosowaniem hplc).
Claims (19)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania pochodnej związku hydrazonowego o wzorze (I):1R oznacza halogen, haloalkil, korzystnie trifluorometyl, haloalkoksy, korzystnie trifluorometoksy,R4S(O)n- lub -SF5,PL 193 053 B1 2R2 oznacza wodór lub halogen, korzystnie chlor lub brom;3R3 oznacza halogen, korzystnie chlor lub brom;R4 oznacza alkil lub haloalkil; i n oznacza 0, 1lub 2; znamienny tym, że obejmuje (A) reakcję związku o wzorze (II):w którym R5 i R6 niezależnie oznaczają alkil lub razem oznaczają łańcuch alkilenowy zawierający dwa lub trzy atomy węgla, zsolą addycyjną kwasu i arylohydrazyny o wzorze (III):w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone wyżej; lub (B) reakcję związku o wzorze (IV):w którym R7 oznacza alkil, korzystnie metyl lub etyl, z solą addycyjną kwasu arylohydrazyny o wzorze (III), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone wyżej; lub (C) utlenianie związków o wzorze (V):którym R1, R2 i W mają znaczenia określone wyżej.
- 2. Sposób według zastrz. 1 (A), znamienny tym, że R5 i R6 każdy niezależnie oznacza metyl lub etyl.PL 193 053 B1
- 3. Sposób według zastrz. 1 (A) albo 1 (B), znamienny tym, że sole addycyjne kwasów związków o wzorze (III) są solami utworzonymi z mocnych kwasów.
- 4. Sposób według zastrz. 1 (A), 1 (B), 2 albo 3, znamienny tym, że woda jest obecna w procesie.
- 5. Sposób według zastrz. 1 (C), znamienny tym, że utleniaczem jest sól lub tlenek metalu.
- 6. Sposób według zastrz. 1 (C) albo 5, znamienny tym, że jest prowadzony w rozpuszczalniku.
- 7. Sposób według zastrz. 1 (C) albo 5, znamienny tym, że stosunek molowy utleniacza do związku o wzorze (V) wynosi od 0,01:1 do 5:1, korzystnie od 1:1 do 3:1.
- 8. Sposób według zastrz. 1 (C), znamienny tym, że związek o wzorze (I) poddaje się dalszej reakcji ze źródłem cyjanowodoru z wytworzeniem związku o wzorze (VI), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone w zastrzeżeniu 1.
- 9. Sposób według zastrz. 1 (C), 5 albo 8, znamienny tym, że związek o wzorze (V) jest wytworzony przez reakcję związku o wzorze (III), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone w zastrzeżeniu 1, z acetonitrylem o wzorze (VII)NC-CH=CH2 (VII) 1
- 10. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że R1 oznacza haloalkil, korzystnie trifluorometyl, haloalkoksy, korzystnie trifluorometoksy lub -SF5, W oznacza -CR3; a R3 oznacza halogen. 13
- 11. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że R1 oznacza trifluorometyl, W oznacza -CR3; 23 a R2 i R3 oznaczają chlor.
- 12. Sposób wytwarzania pochodnej związku arylohydrazynowego o wzorze (VI):w którym R1, R2 i W mają znaczenie zdefiniowane w zastrzeżeniu 1; który to sposób obejmuje reakcję związku o wzorze (I), w którym R1, R2 i W mają znaczenie określone w zastrzeżeniu 1, ze źródłem cyjanowodoru.
- 13. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że cyjanowodór wytwarza się z soli cyjanidowej metalu w obecności kwasu.
- 14. Sposób według zastrz. 12 albo 13, znamienny tym, że prowadzi się go pod podwyższonym ciśnieniem.
- 15. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że związek o wzorze (I) wytwarza się sposobem według zastrzeżenia 1 (A).
- 16. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że związek o wzorze (I) wytwarza się sposobem według zastrzeżenia 1 (B).
- 17. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że związek o wzorze (VI) utlenia się i ewentualnie poddaje reakcji z zasadą z wytworzeniem związku o wzorze (X) lub (XI):PL 193 053 B1 w których W, R1 i R2 mają znaczenia określone w zastrzeżeniu 1.
- 18. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że R1 oznacza haloalkil, korzystnie trifluorometyl, haloalkoksy korzystnie trifluorometoksy lub -SF5; Woznacza -CR3; a R3oznacza halogen.
- 19. Sposób według zastrz. 12, znamienny tym, że R1 oznacza trifluorometyl, W oznacza -CR3; a R2 i R3 oznaczają chlor.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP98420070A EP0952145B1 (en) | 1998-04-20 | 1998-04-20 | Process for preparing pesticidal intermediates |
EP19980420069 EP0952144B1 (en) | 1998-04-20 | 1998-04-20 | Processes for preparing pesticidal intermediates |
PCT/EP1999/002834 WO1999054288A1 (en) | 1998-04-20 | 1999-04-14 | Processes for preparing pesticidal intermediates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL343477A1 PL343477A1 (en) | 2001-08-27 |
PL193053B1 true PL193053B1 (pl) | 2007-01-31 |
Family
ID=26151777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL343477A PL193053B1 (pl) | 1998-04-20 | 1999-04-14 | Sposób wytwarzania pochodnej związku hydrazonowego oraz sposób wytwarzania pochodnej związku arylohydrazynowego |
Country Status (25)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6392081B1 (pl) |
EP (1) | EP1073627B1 (pl) |
JP (1) | JP2002512218A (pl) |
KR (1) | KR100576585B1 (pl) |
CN (1) | CN1158249C (pl) |
AR (1) | AR018189A1 (pl) |
AT (1) | ATE283839T1 (pl) |
AU (1) | AU756218B2 (pl) |
BR (1) | BR9909756B1 (pl) |
CA (1) | CA2328832C (pl) |
DE (1) | DE69922363T2 (pl) |
DK (1) | DK1073627T3 (pl) |
EG (1) | EG22148A (pl) |
ES (1) | ES2234258T3 (pl) |
HU (1) | HU228991B1 (pl) |
ID (1) | ID27569A (pl) |
IL (3) | IL139009A0 (pl) |
MA (1) | MA24904A1 (pl) |
MX (1) | MXPA00010156A (pl) |
MY (1) | MY121449A (pl) |
PL (1) | PL193053B1 (pl) |
PT (1) | PT1073627E (pl) |
RU (1) | RU2223950C2 (pl) |
TW (1) | TW519534B (pl) |
WO (1) | WO1999054288A1 (pl) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2443093B8 (en) | 2009-03-16 | 2013-10-09 | Basf Se | Process for the preparation of pyrazole derivatives |
WO2014163932A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-10-09 | Dow Agrosciences Llc | Preparation of haloalkoxyarylhydrazines and intermediates therefrom |
WO2014163933A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-10-09 | Dow Agrosciences Llc | Process for preparation of triaryl pesticide intermediate |
WO2015058024A1 (en) | 2013-10-17 | 2015-04-23 | Dow Agrosciences Llc | Processes for the preparation of pesticidal compounds |
CN110325036B (zh) | 2016-12-29 | 2021-10-26 | 美国陶氏益农公司 | 用于制备杀虫化合物的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5232940A (en) | 1985-12-20 | 1993-08-03 | Hatton Leslie R | Derivatives of N-phenylpyrazoles |
GB8713768D0 (en) | 1987-06-12 | 1987-07-15 | May & Baker Ltd | Compositions of matter |
GB8531485D0 (en) | 1985-12-20 | 1986-02-05 | May & Baker Ltd | Compositions of matter |
DE3612939A1 (de) | 1986-04-17 | 1987-10-22 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 1-aryl-5-amino-pyrazolen |
DE3612940A1 (de) * | 1986-04-17 | 1987-10-22 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 1-aryl-5-aminopyrazolen |
GB9604691D0 (en) | 1996-03-05 | 1996-05-01 | Rhone Poulenc Agriculture | New processes for preparing pesticidal intermediates |
PT966445E (pt) * | 1997-03-03 | 2001-11-30 | Aventis Cropscience Sa | Processos para a preparacao de intermediarios pesticidas |
-
1999
- 1999-04-14 RU RU2000129143/04A patent/RU2223950C2/ru active
- 1999-04-14 HU HU0101609A patent/HU228991B1/hu unknown
- 1999-04-14 CA CA002328832A patent/CA2328832C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-14 KR KR1020007011590A patent/KR100576585B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-04-14 EP EP99923471A patent/EP1073627B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-14 ID IDW20002373A patent/ID27569A/id unknown
- 1999-04-14 TW TW088105957A patent/TW519534B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-04-14 IL IL13900999A patent/IL139009A0/xx active IP Right Grant
- 1999-04-14 PL PL343477A patent/PL193053B1/pl unknown
- 1999-04-14 BR BRPI9909756-7A patent/BR9909756B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-04-14 MX MXPA00010156A patent/MXPA00010156A/es active IP Right Grant
- 1999-04-14 ES ES99923471T patent/ES2234258T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-14 US US09/673,801 patent/US6392081B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-14 DK DK99923471T patent/DK1073627T3/da active
- 1999-04-14 AT AT99923471T patent/ATE283839T1/de active
- 1999-04-14 AU AU40339/99A patent/AU756218B2/en not_active Expired
- 1999-04-14 WO PCT/EP1999/002834 patent/WO1999054288A1/en active Application Filing
- 1999-04-14 JP JP2000544629A patent/JP2002512218A/ja active Pending
- 1999-04-14 PT PT99923471T patent/PT1073627E/pt unknown
- 1999-04-14 DE DE69922363T patent/DE69922363T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-14 CN CNB998052264A patent/CN1158249C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-19 AR ARP990101797A patent/AR018189A1/es active IP Right Grant
- 1999-04-19 MY MYPI99001504A patent/MY121449A/en unknown
- 1999-04-20 EG EG41999A patent/EG22148A/xx active
- 1999-04-20 MA MA25544A patent/MA24904A1/fr unknown
-
2000
- 2000-10-12 IL IL139009A patent/IL139009A/en not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-04-12 US US10/120,479 patent/US6673956B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-11-10 US US10/703,417 patent/US7094906B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-06-26 IL IL176563A patent/IL176563A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7323574B2 (en) | Process for the preparation of phenyl pyrazole compounds | |
US6620944B1 (en) | Process for preparing pesticidal intermediates | |
IL176563A (en) | Processes for the preparation of pesticides | |
EA001777B1 (ru) | Способ получения производных 5-амино-1-арил-3-цианопиразола и промежуточные продукты, используемые при его осуществлении | |
EP0952144B1 (en) | Processes for preparing pesticidal intermediates | |
EP0952145B1 (en) | Process for preparing pesticidal intermediates |