PL162824B1 - Urzadzenie do powlekania szkla PL PL PL PL PL PL - Google Patents

Abstract

10). 6. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, z n a m i e n n e tym, ze podstawa wlotowe co najmniej dwóch reagentów gazowych do przepuszczania ich w kierunku równoleglym do przesu- wu powlekanego szkla oraz odprowadzony kanal wylo- towy, przy czym komora powlekania Jest otwarta od strony szkla i j est usytuowana nad cala szerokoscia szkla, zas pierwszy kanal wlotowy doprowadzajacy pier- wszy reagent gazowy i umieszczony za nim, w kierunku przesuwu szkla, drugi kanal wlotowy, doprowadzajacy drugi reagent gazowy, sa usytuowane nad cala szeroko- scia komory, znamienne tym , ze sufit (9a, 9b) komory powlekania ( 1 0) ma konfiguracje schodkowa przy pola- czeniu kanalów wlotowych (14, 15) z komora powleka- n ia przy czym, patrzac w kieru nku przeplywu pierwszego reagentu gazowego, sufit (9a) komory powle- kania (10) przed drugim kanalem wlotowym j est na w y z szym poziomie niz sufit (9b) za drugim kanalem w l o towym (15) a linia sufitu (9a, 9b) komory (10) w przekroju podluznym ma zarys srodkowy, zas nad pier- wszym kanalem wlotowym (14) jest umieszczony pier- wszy rozdzielacz (19) gazu do przenoszenia pierwszego reagenta gazowego z pierwszego kanalu wlotowego (14) a nad drugim kanalem wlotowym Jest umieszczony drugi rozdzielacz (24) do przenoszenia drugiego reagen- ta gazowego z drugiego kanalu zasilajacego do drugiego kanalu wlotowego (15), natomiast kanal wylotowy (18) jest usytuowany za kanalami wlotowymi pierwszym (14) i drugim (15), wzgledem kierunku przeplywu reagentów gazowych w komorze powlekania (10). Fig . 1 PL PL PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do powlekania szkła.

Wynalazek dotyczy urządzenia do nakładania na powierzchnię przesuwającej się wstęgi gorącego szkła, powłoki wytworzonej co najmniej z dwóch reagentów gazowych, które reagują ze sobą wzajemnie, aby utworzyć powłokę na powierzchni szkła.

Wiadomo, iż powłoki o różnych własnościach dla potrzeb architektonicznych mogą być produkowane przy użyciu reagentów gazowych, które ulegają rozkładowi na ppwiirzchni gorącego szkła. I tak, powłoki krzemowe, użyteczne jokopowłlklΓeguląyrce przechodzeńeeneigii słonecznej, produkowane są przez pirolizę ggaz zckigrzkecceo siila nn ppwigrzceni gorzcceo szkła. Podano zewgi ropo^i^j i wytwarzania innych powłok regulujących pΓrceehWzcezg im^ii słonecznej i zapewniających małą emisyjność (silne odbijane promieniowania podczerwonego) z innych odpowiednich reagentów gazowych.

Okazało się jednak, iż w praktyce przemysłowej uzyskanie wystarczająco równomiernej powłoki o żądanej grubości jest trudne.

Typowy sposób i urządzenie do powlekana szkła takimi powłokami zostały przedstawione w opisie patentowym GB 1 507 996, w którym nakładana jest równa powłoka z gazu reagentowego przez spowodowanie przepływu gazu równolegle do powierzchni szkła w warunkach przepływu lam^arzego. W opisie tym brak konkretnych wskazówek co do stosowania mieszanin reagentów, które przed dotarciem do powierzchni szkła wchodzą ze sobą w reakcję.

W opisie patentowym Wielkiej Brytanii zz 1 516 032 przedstawiono urządzenie do powlekania szkła, które ma komorę powlekania i kazały wlotowe co najmniej jednego reagenta, które ustawione są względem powierzchni szkła pod kątem nie większym ziż 60°.

Rragrztw zatem kontaktują się ze sobą w sąsiedztwie szkła. Za strefą powlekana urządzenie ma kazał wylotowy do wyciągania gazu, a zad powierzchnią szkła jest umieszczony kcłiak tworzący kazał przepływu zad szkłem w kierunku od obszaru doprowadzania reagentów do powierzchni szkła, a ponadto może być zastosowany kołpak, który wraz z powierzchnią szkła tworzy kazał przepływu zad szkłem w kierunku z obszaru uderzenia strumieni płyzu w szkło.

Opis patentowy Wielkiej Brytanii nr 1 524 326 ujawnia urządzenie do powlekania, które wymusza przepływ czynnika gazowego wzdłuż powlekanego podłoża tworząc warstwę zasadniczo pozbawioną turbulencji wzdłuż kanału przepływu utworzonego częściowo przez powierzchnię szkła. Tez kanał przepływu prowadzi do kazału wylotowego, poprzez który gaz resztkowy jest wyciągany od szkła. Gazowe reagenty są wprowadzane do kanału przepływu poprzez kazały nachylone pod kątem ostrym do powierzchni szkła.

W opisie patentowym Wielkiej Brytanii nr 2 026 454B przedstawiono sposób tworzenia powłoki z tlenku cyny za powierzchni gorącego szkła przy użyciu atmosfery gazowej zawierającej czterochlorek cyny i parę wodną. Urządzenie realizujące tez sposób ma kazał wprowadzający strumień azotu, będący gazem nośnym zawierającym pary czterochlorku cyny, usytuowany wzdłuż powierzchni powlekanego szkła, zaś <azał wprowadzający strumień powietrza, zawierający parę wodną, usytuowany w miejscu, gdzie ^ącrpłwoa on wzcłuż wymimonej powierzchni szkła kanały mają ujście w płytkiej komorze urządzenia do powlekania, przez którą gazy przepływają stru4

162 824 mieniem zasadniczo laminarnym aż do kanału wylotowego urządzenia, którym są odprowadzane jako gazy resztkowe. Kanały wlotowe są odchylone na dole w kierunku przepływu wstęgi szkła pod kątem ostrym, około 45° do poziomu.

Inne urządzenie do oowlekania szkła , a zwłaszcza powierzchni gorącego szkła opisane jest w opisie patentowym ^Ι^Ζ^θ, Bry^nia nr 2033374B. Urządzenie jest podobne do opisanego w opisie brytyjskim nr 20264548 i zawiera dodatkową komorę powlekania przed komorą wymienioną poprzednio, do osadzania na powierzchni szkła podkładu z tlenku metalu przed nałożeniem powłoki z tlenku cyny.

Według rozwiązania opisanego w zgłoszeniu patentowym Wielkiej Brytanii nr 2 184 748A kanały do wprowadzania prekursora powłoki i gaua utlenującgoa są umieszczone w strefie mieszana znacznie powyżej szkła przy przednim końcu komory powlekana (względem kierunku przepływu) w celu ich wymieszana nad podłożem, na takiej wysokości, że powstawanie powłoki rozpoczyna się z zasadniczo jednorodnej mieszaniny par. Konstrukcja stropu komory ma smmeJszoną wysokość w kierunku zgodnym z przepływem, na skutek czego następuje dławienie przepływu pary wzdłuż komory powlekana. W pewnych korzystnych przykładach wykonania konstrukcja sufitu komory jest obniżona nad szkłem wzdłuż krzywej w kierunku do tylnej części komory. To, jak stwierdzono, wspomaga gładki przepływ zasadniczo do dołu (w kierunku przepływu) pary z prekursorem w komorze powlekania, cc jest korzystne dla jeennrodności powstającej powłoki. Korzystnie komora powlekam ma długość co najmniee 5 metrów. Zastosowanie takiej długości komory powlekam jest szczególnie korzystne dla ssiękąserna wydajności powlekana przy tworzeniu stosunkowo grubych powłok na szybko poruszającym się podłożu takim jak wstęga świeżo utworzonego płynnego szkła.

Prowadzono próby utworzenia powłoki na powierzchni szkła z reagentów gazowych reagujących ze sobą przy użyciu urządzenia, w którym każdy z reagentów wprowadzany jest do komory powlekania innym nachylonym kanałem, jak to opisano w brytyjskim rpisie patentowym nr 2026454 wymienionym poprzednio. Stwierdzono, iż w trakcie przeprowadzania procesu powlekania w dolnym końcu kanału, przez który do komory powlekania wprowadzany jest drugi reagent gazowy, odkłada się naprężony osad z materiału powlekającego. Osad ten znajdowano przeważnie na ściance bocznej początku kanału wlotowego. Osad ten odkłada się stosunkowo szybko i w krótkim czasie zaczyna negatywnie oddziaływać na jakość powłoki tworzonej na powierzchni szklanej wstęgi. Powłoka na wstędze szkła szybko ulega zniszczemu, jest niejednorodna i można zaobserwować na nej pasy.

W celu uniknięcia dalszego mszczenia powłoki proces należy przerywać, urządzenie powlekające unosić znad wstęgi szkła i usuwać osad niepotrzebnego materiału powlekającego osadzonego na urządzeniu. Taka operacja czyszczenia jest czasochłonna i marnotrawna.

Celem wynalazku jest opracowanie urządzenia, w którym problem niepożądanego osadu materiału powlekającego ograniczony byłby do minimum i które zapewniałoby dłuższe okresy ciągłej operacji w procesie prslckannl.

Urządzenie do powlekania szkła, według wynalazku, zawierające komorę powlekam, do której są doprowadzone kanały wlotowe co naemniee dwóch reagentów gazowych do przepuszczania ich w kierunku równoległym do przesuwu powlekanego szkła oraz odprowadzony kanał wywrtrsy, przy czym komora orslckam jest otwarta od strony szkła i jest usytuowana nad całą szerokością szkła, zaś pierwszy kanał wlotowy doprowadzający pierwszy reagent gazowy i umieszczony za nim, w kierunku przesuwu szkła, drugi kanał wlotowy, doprowadzający drugi reagent gazowy, są usytuowane nad całą szerokością komory, charakteryzuje się tym, że sufit komory powlekania ma konfigurację schodkową przy połączeniu kanałów wlotowych z komorą powlekana, przy czym, patrząc w Kierunku przepływu pierwszego reagentu gazowego, sufit komary

162 824 powlekania przed drugim kanałem wlotowym jest na wyższym poziomie niż sufit za drugim kanałem wlotowym a linia sufitu komory w przekroju podłużnym ma zarys schodkowy, zaś nad pierwszym kanałem wlotowym jest umieszczony pierwszy rozdzielacz gazu do przenoszenia pierwszego reagenta gazowego z pierwszego kanału zasilającego do pierwszego kanału wlotowego a nad drugim kanałem wlotowym jest umieszczony drugi rozdzielacz do przenoszenia drugiego reagenta gazowego z drugiego kanału zasilającego do drugiego kanału wlotowego, natomiast kanał wylotowy jest usytuowany za kanałem wlotowym pierwszym i drugim, względem kierunku przepływu reagentów gazowych w komorze powlekania.

Korzystnie sufit komory powlekania przed drugim kanałem wlotowym jest usytuowany o co najmniej 5 mm wyżej niż sufit komory za drugim kanałem wlotowym. Korzystnie sufit komory przed drugim kanałem wlotowym jest usytuowany co najwyżej 75 mm wyżej niż sufit komory za drugim kanałem wlotowym. Korzystnie sufit komory powlekania przed drugim kanałem wlotowym jest usytuowany 10 mm wyżej niż sufit komory za drugim kanałem wlotowym. Korzystnie drugi kanał wlotowy umieszczony jest zasadniczo pod kątem prostym w kierunku przepływu reagentów gazowych przez komorę powlekania. Korzystnie podstawa tylnej ściany bocznej drugiego kanału wlotowego ukształtowana jest w miejscu złączenia tylnej ściany bocznej z sufitem komory powlekania jako wypukła, zakrzywiona powierzchnia. Korzystnie każdy z obu rozdzielaczy gazów utworzony jest między wahadłowo ukształtowanymi ścianami przednimi i tylnymi zbieżnymi ku dołowi od centralnego wlotu i zakończonymi szczeliną, usytuowaną w poprzek szerokości komory powlekania. Korzystnie ściany przednie i tylne w kształcie odwróconego wachlarza są zwężone ku dołowi i ku sobie i są zakończone szczeliną. Korzystnie między pierwszym rozdzielaczem gazu a pierwszym kanałem wlotowym jest umieszczony ogranicznik przepływu gazu zapewniający równomierne rozprowadzanie pierwszego reagenta gazowego wzdłuż szerokości powlekanej wstęgi szkła. Korzystnie między drugim rozdzielaczem gazu, a drugimi kanałami wlotowymi jest umieszczony ogranicznik przepływu gazu zapewniający równomierne rozprowadzanie drugiego reagenta gazowego wzdłuż szerokości powlekanej wstęgi szkła.

Urządzenie według wynalazku zapewnia znaczną redukcję ilości niepożądanego materiału powlekającego osadzającego się na ścianach drugiego kanału wlotowego, w wyniku czego urządzenie powlekające według obecnego wynalazku może być używane dłużej niż znane urządzenia do powlekania bez konieczności zatrzymywania procesu powlekania, w celu oczyszczenia urządzenia i usunięcia z niego niepotrzebnych osadów.

Oba reagenty gazowe dostarczane są do urządzenia z odpowiednich przewodów doprowadzających i rozprowadzane są w poprzek powierzchni szkła przez przepuszczanie strumieni gazu przez odpowiednio pierwszy i drugi dystrybutor gazu, przy czym dystrybutory te mogą się znajdować między przednimi i tylnymi ścianami w kształcie odwróconego wachlarza, rozchylającymi się ku dołowi od centralnego wlotu i kończącymi w szczelinie biegnącej w poprzek szerokości powierzchni szkła, które ma być powleczone. W wybranym przykładzie wykonania przednie i tylne ściany w kształcie odwróconego wachlarza zwężają się ku dołowi i ku sobie, kończąc się w szczelinie.

Urządzenie korzystnie posiada też ogranicznik przepływu gazu, umieszczony między pierwszym dystrybutorem gazu a pierwszymi środkami wlotowymi w celu zapewnienia równomiernego rozprowadzania pierwszego reagenta gazowego w poprzek szerokości powierzchni szkła, które ma być powleczone. Podobne równomierne rozprowadzanie drugiego reagentu gazowego można także osiągnąć przez zastosowanie drugiego ogranicznika przepływu gazu, między drugim dystrybutorem gazu oraz drugimi środkami złotawymi, przy czym drugi ogranicznik przepływu gazu ma zwykle taką samą budowę jak pierwszy ogranicznik przepływu gazu. Zwykle ogranicznik taki obejmuje komorę dostosowaną do przyjęcia pewnej ilości reagentu gazowego i spowodowania

162 824 przepływu reagentu gazowego nad płaskim powlekanym szkłem oraz szereg z co najmniej dwóch przewężeń, z których każde zawiera płytkę umieszczoną w poprzek komory i posiadającą wiele o tworów.

W poniższym opisie, a także w dołączonych zastrzeżeniach, określenia początkowy odcinek lub przednia ścianka oraz tylna ścianka stosuje się w odniesieniu do kierunku przepływu reagentów gazowych przez komorę powlekania. Korzystnie, jak to ma miejsce w przypadku konkretnego przykładu wykonania opisanego poniżej, ten kierunek jest zbieżny z kierunkiem przesuwania się szkła, lecz to nie zawsze ma miejsce i zastosowanie wynalazku może także być korzystne wtedy, gdy kierunek przepływu reagentów gazowych jest przeciwny do kierunku przesuwania się szkła.

Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urządzenie do powlekania szkła; fig. 2 - tylną ścianę urządzenia widzianą w kierunku strzałki II-II z fig. 1, fig. 3 - ogranicznik przepływu gazu w przekroju poprzecz nym zastosowany w urządzeniu z fig. 1 oraz fig. 4 - dolną część kanału wylotowego dla drugiego reagenta w przekroju poprzecznym.

Na rysunkach takie same części oznaczone są tymi samymi oznacznikami. Jak pokazano na fig. 1 i 2 urządzenie 1 do powlekania zawieszone jest nad wstęgą szkła 12, przemieszaną na rolkach (nie pokazano) od strony lewej ku prawej. Urządzenie 1 do powlekania jest zawieszone na wózku 2, zawierającym płytę poziomą 3, której górna powierzchnia jest przyspawana do tylnych wsporników montażowych 4 i przednich wsporników montażowych 5 (patrząc w kierunku przesuwu wstęgi szkła 12). Przeważnie stosuje się trzy przednie wsporniki montażowe 5 i trzy tylne wsporniki montażowe 4 umieszczone na całej szerokości urządzenia 1 do powlekania.

W każdym przypadku jeden wspornik jest zamontowany pośrodku, a pozostałe dwa wsporniki są zamontowane w pobliżu boków urządzenia. Każdy ze wsporników montażowych 4, 5 jest zawieszony pod odpowiednią chłodzoną wodą belką (nie pokazano), która przebiega w poprzek powlekanej wstęgi szkła 12.

Oolna część urządzenia 1 zawiera pewną liczbę ukształtowanych korpusów węglowych 32, 34, 36, 38, 40 i 42, które przebiegają poprzecznie do długości, a zgodnie z szerokością, powierzchni powlekanego szkła 12.

Korpusy węglowe 32, 34, 36, 38, 40, 42 tworzą wraz z powierzchnią szkła 12 komorę powlekania 10, która posiada sufit 9a, 9b w układzie schodkowym, przy czym sufit 9a komory powlekania 10 przed drugim kanałem wlotowym 15 jest usytuowany wyżej niż sufit 9b komory powlekania 10 za drugim kanałem wlotowym 15. Korpusy węglowe 32, 34, 36, 40, 42 tworzą również pierwszy pionowy kanał wlotowy 14 służący do wprowadzania do komory powlekania 10 pierwszego gazu biorącego udział w reakcji, drugi pionowy kanał wlotowy 15 do prowadzenia do komory powlekania 10 drugiego gazu biorącego udział w reakcji, drogą przepływu 16 w komorze powlekania 10 pomiędzy pierwszym kanałem wlotowym 14 a drugim kanałem wlotowym 15, kanał wylotowy 18 służący do usuwania zużytych gazów 2 komory powlekania 10 oraz strefę powlekania 17 utworzoną przez drogę przepływu w komorze powlekania 10 pomiędzy drugim kanałem wlotowym 15, a kanałem wylotowym 18.

Każdy z różnych korpusów węglowych 32, 34, 36, 40, 42 jest zawieszony pod poziomą płytą 44. Korpusy 32, 34, 36, 40, 42 zawierają kanały (nie pokazano) na przenoszący ciepło płyn, taki jak woda chłodząca, a podczas pracy urządzenia temperatura korpusów węglowych 32, 34, 36, 40, 42 jest regulowana przez przepuszczanie wody chłodzącej przez te kanały.

Komora powlekania 10 jest otwarta od strony powlekanej wstęgi szkła 12. Przy przednim końcu komory powlekania 10 (w stosunku do kierunku przepływu) korpusy węglowe 32 i 34 tworzą

162 824 pierwszy kanał wlotowy 14, poprzez który pierwszy gazowy reagent jest wprowadzany do komory 10. Za ttrn pieewszym <annłem wlotowym 14 ppmięddy kkrpusami węglowymi 34 i 36 utwwrroon jeeS drugi pionowy kanał wlotowy 15 służący do wprowadzania drugiego gazowego reagenta do komory powlekania 10.

Przy tylnym końcu komory powlekania 10 (w kierunku przepływu pomiędzy korpusami węglowymi 40 i 42 jest utworzony kanał wylotowy 18 służący do usuwania zużytych gazów z komory powlekania 10.

Pierwszy gaz biorący udział w reakcji jest doprowadzany do pierwszego kanału wlotowego 14 z kanału zasilania gazem (nie pokazano) poprzez rozdzielacz 19 i ogranicznik 22 przepływu gazu. Rozdzielacz 19 utworzony jest pomiędzy ściankami przednią 20 i tylną 21 w kształcie odwróconych wachlarzy, przy czym te ścianki przednia 20 i tylna 21 są zbieżne w kierunku do dołu i tworzą u dołu rozdzielacza 19 wąską szczelinę 48 przebiegającą wzdłuż szerokości powlekanej wstęgi szkła 12.

Pierwszy gaz biorący udział w reakcji, wypływający ze szczeliny 48 u dołu rozdzielacza 19 przechodzi przez ogranicznik przepływu gazu 22, który jest zamontowany poniżej rozdzielacza 19.

Ogranicznik 22 przepływu gazu przedstawiono dokładniej na fig. 4. Zawiera on pary przeciwległych podłużnych ścianek 120, 122 i 321, ^1γρ 3 woną podrek nt korno rp 124. komorę we ścianki 120, 122 i 121, L24 pr^^z^^^t^aj^ kuoΓzecznle względem wstęgi sszła 12, przy czym ścianki 120 i 121 są to ścianki przednie, a ścianki 122 i 124 są to ścianki tylne względem kierunku przepływu wstęgi szkła 12. Przy każdym końcu podłużnej komory 124 znajdują się przeciwległe ścianki końcowe 126, przy czym każda z tych ścianek końcowych 126 jest usytuowana równolegle do kierunku ruchu wstęgi szkła.

Przy wlotowym końcu ogranicznika 22 przepływu gazu znajduje się przewężenie ylwtwwe 127, które zawiera podłużną płytę wlαtową 128 rozciągającą się w poprzek komory 124, Ta płyta wlotowa 128 jest szczelnie zamocowana pomiędzy przeciwległe położonymi parami poziomych płyt 140, 142, przy czym każda para płyt 140, 142 jest upymmwcwynnn, na przykład przez spawanie, do odpowiedniej wzdłużnej ściany przedniej i tylnej 120, 122 oraz do rozdzielacza 19. Płyty każdej pary 140, 142 są połączone ze sobą szczelnie za pomocą'połączeń gwintowanych 144.

Pomiędzy każdą parą płyt 140, 142 a płytą wlotową 128 umlesycywne są uszczelki (nie pokazane).

Wzdłuż płyty wlotowej 128 usytuowany jest rząd otworów 146, które łączą wlotowy koniec ogranicznika 42 przepływu gazu z resztą komory 124. Otwory 146 są otworami kołowymi, korzystnie o średnicy 2-10 mm. w szczególnie korzystnym przykładzie wykonania otwory 146 mają średnicę 4 mm, a ich środki są usytuowane w odstępie 20 mm od siebie. Rząd otworów 146 usytuowany jest w przedniej części podłużnej komory 124 (względem kierunku przepływu), to znaczy rząd otworów 146 znajduje się bliżej górnej ściany 120 niż tylnej ściany 122 komory 124.

Przy wylocie 110 ogranicznika 22 przepływu gazu usytuowane jest wylotowe przewężenie 144. To przewężenie 148 ma zasadniczo taką samą konstrukcję jak przewężenie wlw0wse 127, to znaczy zawiera ono podłużną płytę wylotową 140, która jest szczelnie zamocowana pomiędzy dwiema przeciwległe pokazanymi uapaml płyt 142, 144, przy czym górna płyta każdej z tych par płyt 142, 144 jest połączona, na przykład przez spawanie, z odpowiednią podłużną ścianą 121, 124. Płyty 142, 144 są oddzielone od płyty wylotowej 140 uszczelkami (nie pokazano).

Płyty 142, 144 są szczelnie połączone ze sobą za pomocą połączeń gwintowych 146, które mocują również sztywno płyty 142, 144, a więc i ogranicznik przepływu gazu 22 do płyty 44, pod którą zawieszone są korpusy grafitowe 42, 44. Płyta wylotowa 140 ma rząd otworów 152, które korzystnie mają średnicę 2-10 mm, a w szczególnie korzystnym przykładzie wykonania mają średnicę 4 mm i odległość pomiędzy swym środkami 10 mm. Ten rząd otworów 152 usytuowany jest w przedniej części komory wzdłużnej 124 (względem kierunku przepływu).

a

162 824

Przy wylocie 110 ogranicznika przepływu gazu 22, poniżej płyty wylotowej 140 zamontowany jest odchylacz 154 przepływu gazu Gdchylacz 154 zawiera podłużny człon 156 w kształcie litery L, który jest integralnie dołączony z jednym z kołnierzy 142 i jest usytuowany przy otworach 152.

Wolne ramię 158 członu 156 w kształcie litery L rozciąga się do góry w kierunku płyty wylotowej 140, tworząc pomiędzy nimi szczelinę 160, poprzez którą gaz biorący udział w reakcji płynącej otworami 152 musi przechodzić po odchyleniu przez ramiona poziomo 162 członu 156 w kształcie litery L.

Zadaniem odchylacza 154 jest zniesienie pewnych lokalnych wzrostów natężenia przepływu gazu, które mogą wystąpić w bezpośrednim pobliżu każdego z otworów 152 w płycie wylotowej 140 poniżej tej płyty 140. Obecność odchylacza 154 wyrównuje te lokalne zwiększenie natężenia przepływu. W pewnych przypadkach możliwe jest oddzielenie odchylacza 154 od ogranicznika 22 przepływu gazu według wynalazku.

Pomiędzy przewężeniem wlotowym 127 a przewężeniem wylotowym 138 usytuowane jest przewężenie pośrednie 164. Przewężenie pośrednie 164 ma taką samą konstrukcję jak przewężenie wlotowe 127 i zawiera pośrednią płytę wzdłużną 166 z rzędem otworów 168. Płyta pośrednia 166 jest szczelnie zamocowana pomiędzy przeciwległe położonymi parami poziomych płyt 170, 172, które są przymocowane:, na przykład przez spawanie, do podłużnych ścian 120, 121 i 122, 123. Pomiędzy płytami 170, 172 a płytą pośrednią 165 umieszczone są uszczelki (nie pokazano). Płyty 170, 172 są szczelnie połączone ze sobą za pomocą połączeń gwintowanych 174. Rząd otworów 168 płyty pośredniej 166 jest w przeciwieństwie do płyt wlotowej 128 i wylotowej 140 umieszczony w tylnej części wzdłużnej komory 124 (w kierunku przepływu), to znaczy rząd otworów 168 jest usytuowany bliżej tylnych ścianek 122, 123 niż przednich ścianek 120, 121 komory 124, Dzięki takiemu rozwiązaniu rzędy otworów w sąsiednich płytach wzdłużnych nie są ustawione zgodnie ze sobą.

Drugi gaz biorący udział w reakcji jest doprowadzany do drugiego kanału wlotowego 15 z drugiego kanału zasilania gazem (nie pokazano) poprzez drugi rozdzielacz 24, który ma taką samą konstrukcję jak rozdzielacz 19, a następnie poprzez ogranicznik 25 przepływu gazu, który ma taką samą konstrukcję jak ogranicznik 22.

Gazy wylotowe wypływające z kanału wylotowego 18 przechodzą poprzez kanał 50 w zespole dystansowym 52 i następnie do wachlarzowego wylotu 26, który ma przednią ściankę 27 i tylną ściankę 28 usytuowane na kształt odwróconego wachlarza. Wachlarzowy wylot 26 odprowadza zużyte gazy, nieprzereagowane gazy biorące udział w reakcji i gazy nośne do kanału wylotowego (nie pokazano).

Odpowiednie wysokości korpusów węglowych 32, 34 i 36, które tworzą pierwszy kanał wlotowy 14 i drugi kanał wlotowy 15 są dobrane tak, że sufit 9a, 9b komory powlekania 10 ma układ schodkowy w miejscu połączenia drugiego kanału wlotowego 15 i komory powlekania 10, przy czym sufit 9a komory 10 w przedniej części drugiego kanału wlotowego 15 pod względem kierunku przepływu, ma poziom niższy niż sufit 9b komory powlekania 10 w tylnej części drugiego Kanału wlotowego 15 i to widać na fig. 1; linia, jaką tworzy wzdłużny przekrój sufitu jest nieciągła i ma kształt schodkowy.

Spód korpusu 36 może znajdować się 10 mm poniżej spodu korpusu 34. Na skutek tego podstawa ścianki przedniej 54 drugiego kanału wlotowego 15 może znajdować się 10 mm wyżej niz podstawa ścianki tylnej 56 drugiego kanału wlotowego 15, przez co powstaje szczelina wlotowa 58 o kształcie schodkowym. Taka schodkowa szczelina wlotowa 58 zmniejsza do minimum, jak stwierdzono, ilość stałego materiału powlekającego osadzającego się na bocznych ścianach drugiego kanału wlotowego 15 w pobliżu szczeliny wlotowej 58. Uważa się, że schodek działa tu w ten sposób, iż kieruje przepływ pierwszego reagen162 824 ta gazowego ku powierzchni wstęgi szkła 12 i zapobiega wpłynięciu pierwszego reagenta gazowego do ujścia drugiego kanału wlotowego 15, co stwarzałoby ryzyko natychmiastowego zajścia reakcji i osadzenia materiału powlekającego na 0iOlowych powierzchniach ujścia kanału wlotowego 15.

W szczególnie korzystnym układzie, dolny przedni róg bloku węglowego 36 ukształtowany jest jako wypukło zakrzywiona oowledąchlla 57, jak pokazano na fig. 4, z typowym orooinlgem krzywizny równym 10 mm dla schodkowej szczeliny lOmtolej 58 o lyuokmścg 10 oo. Promień krzywizny ^ι^ι być na tyle mały, aby zachować efekt działania schodka, w celu uniknięcia kłopotliwego osadzania substancji w ujściu drugiego kanału llotolngm 15.

Podczas działania urządzenie powlekające 10 według wynalazku, jest zawieszone nad wstęgą szkła 12, która przemieszczana jest na rolkach (nie pokazano) od lewej strony do prawej.

Urządzenie do powlekania 1 jest zawieszone nad wstęgą szkła 12 na takiej wysokości, że korpus węglowy 42 przy tylnym końcu urządzenia (względem kierunku przepływu) jest utrzymywany na wysokości rzędu 10 mm nad oowgedąchlid wstęgi szkła 12, które ma być powlekane. Pierwszy gaz biorący udział w reakcji, zwykle dozcgnńcąmny w gazie nośnym, jest doodOlaZąłly do rozdzielacza wachlarzowego 19 i ogranicznika gazu 22, który zapewnia równomgednn rozłożenie gazu na całej szerokości powlekanego szkła 12. Gaz wypływający z ogranicznika 22 przechodzi przez pierwszy kanał llot-wy 14 do wnętrza komory powlekana 10, gdzie przepływa w pierwszym kierunku, zasadniczo równolegle do szkła 12 wzdłuż drogi przepływu 16 w koymdze 10 w kierunku podstawy drugiego kanału llotowegm 15.

Drugi gaz biorący udział w reakcji, zwykle rozcieńczony w gazie nośnym, jest Zmodmwadzaiy do rozdzielacza wachlarzowego 24 i do ogranicznika 25, tak aby zapewnić dólnmmiednn doąłoennin drugiego ggazoweg rregema rn ołaj j euzedmkol i euąa a

Gaz uchodzący z pomzttłl og-adłlgcąlg 25 prodąełd-z prprz drdru kanał wlotowy 15 i wchodzi w strumień pogndluąeo reageta, gazowego w komorze powlekania 10 celem wytwarzania połączonngo przepływu reagentów gazowych nad powierzchnią szkła 12 wzdłuż ścieżki przepływu 17, gdzie gazy reagują ze sobą osadzając powłokę na oowgerzchlg gorącego szkła 12.

W jednym ze sposobów działania, jak opisano bardziej szczegółowo w naszym bliźniaczym zgłoszeniu z tą samą datą, które jest w obecnym opism pdąytocąone jako odlmślgk, można sterować warunkami przepływu szkła w celu wytwarzania turbulenCjo przepływu drugiego gazu, brnącego udział w reakcji, poprzez drugi kanał llmtmwy 15 i obu połączonych gazów wzdłuż ścieżki przepływu 17, a jndlOłześlLn umiknięcia przepływu drugiego reagenta gazowego przeciwbieżnie do przepływu pierwszego gazu wzdłuż ścieżki przepływu 16.

Zużyte gazy (κ^ιιΟι, gazy ιlLepdąednagmwane i odpadowe) wyciągane są ze strefy powlekania 10 poprzez kanał wylotowy 18 przy ąasaosowallu podciśnienia np. przez zasysanie za pomocą wentylatora wyciągowego (nie pokazany), wywieranego przez odciąg wachlarzy 26, zawierający rozchylone ku górze, przednie i tylne ściany 27, 28 o kształcie odwróconego wachlarza. Podciśnienie lie tylio wyciąga gaz ze strefy powlekania 10 lecz także wywołuje przepi.'·.· powietrza z zewnątrz pomiędzy skrajnymi końcami - przednim 29 i tylnym 30 urządzenia 1.

Urządzenie opisane powyżej .yoee być wykorzystywane przez dłuższy czas bez występowania llnpoeądalego Ulokowalla drugiego kanału llotowngo 10, wynikającego z osadzania się materiału powlekającego w kanale llot-wyo, przez co umożliwia wytwarzanie dóllooinrlych powłok ia wstędze szkła przy lysokgen lydajlośłL.

Urządzenie według obecnego wynalazku jest szczególnie przydatne do ododukcji omlłmk z tlenku cyny odbijających pdomienle podcąndl^r^^, przy użyciu, na przykład, chlorku cynowego jako pierwszego reagenta gazowego i pary loZlnj jako drugiego reagenta. Ola podwyższenia współczynnika odbicia promgenlolallł omZłąnrlOlngo do gazów wchodzących w reakcje można

162 824 dodać domieszkę w postaci substancji zawierającej antymon lub fluor. Inne powłoki, jak na przykład z tlenku tytanu lub azotku tytanu mogą także być wytwarzane przy użyciu urządzenia według wynalazku. Dla wytworzenia powłoki z tlenku tytanu, trójchlorek tytanu może być użyty jako pierwszy reagent gazowy, zaś para wodna jako drugi reagent. Dla uzyskania powłoki i azotku tytanu, można użyć odpowiednio trójchlorku tytanu oraz amoniaku.

162 824

Fig. J

162 824

Departament Wydawnictw UP RP Nakład 90 egz. Cena 10 000 zł

Claims (10)

1. Zastrzeżenia patentowe

   1. Urządzenie do powlekania szkła, zawierające komorę powlekania, do której są doprowadzone kanały wlotowe co najmniej dwóch reagentów gazowych do przepuszczania ich w kierunku równoległym do przesuwu powlekanego szkła oraz odprowadzony kanał wylotowy, przy czym komora powlekania jest otwarta od strony szkła i jest usytuowana nad całą szerokością szkła, zaś pierwszy kanał wlotowy doprowadzający pierwszy reagent gazowy i umieszczony za nim, w kierunku przesuwu szkła, drugi kanał wlotowy, doprowadzający drugi reagent gazowy, są usytuowane nad całą szerokością komory, znamienne tym, że sufit (9a, 9b) komory powlekania (10) ma konfigurację schodkową przy połączeniu kanałów wlotowych (14, 15) z komorą powlekania, przy czym, patrząc w kierunku przepływu pierwszego reagentu gazowego, sufit (9a) komory powlekania (10) przed drugim kanałem wlotowym jest na wyższym poziomie niż sufit (9b) za drugim kanałem wlotowym (15) a linia sufitu (9a, 9b) komory (10) w przekroju podłużnym ma zarys schodkowy, zaś nad pierwszym kanałem wlotowym (14) jest umieszczony pierwszy rozdzielacz (19) gazu do przenoszenia pierwszego reagenta gazowego z pierwszego kanału wlotowego (14) a nad drugim kanałem wlotowym jest umieszczony drugi rozdzielacz (24) do przenoszenia drugiego reagenta gazowego z drugiego kanału zasilającego do drugiego kanału wlotowego (15), natomiast kanał wylotowy (18) jest usytuowany za kanałami wlotowymi pierwszym (14) i drugim (15), względem kierunku przepływu reagentów gazowych w komorze powlekania (10).
2. 2. Urrądzenie według zastzz. 1, znamienne tym , ze sufit (99) komory powlekania (10) przed drugim kanałem wlotowym (15) jest usytuowany o co najmniej 5 mm wyżej niż sufit (9b) komory (10) za drugim kanałem wlotowym (15).
3. 3. Urrządzme według zastrz. 2, znamienne tym, żż ss! ((9) kkomo^ ((0) przed drugim kanałem wlotowym (15) jest usytuowany co najwyżej 75 mm wyżej niż sufit (9b) komory (10) za drugim kanałem wlotowym (15).
4. 4. Urrądząele według zastzz. 3. znamienne tym . żż ss! ((s) kko^o^^ powlekania (10) przed drugim kanałem wlotowym (15) jest usytuowany 10 mm wyżej niż sufit (9b) komory (10) za drugim kanałem wlotowym (15).
5. 5. Ur^ądzem według zastrz. 1, znamienne tym , e e dugg ( kamł wlotowy (d) umieszczony jest zasadniczo pod kątem prostym do kierunku przepływu reagentów gazowych przez kmmmrę powlekania (10).
6. 6. Urdądząnlg według zastrz. 1, znamiene, tym , żepodalae a 7)0 l^nej ściany bocznej (56) drugiego kanału llmtmwegm (15) ukształtowana jest w miejscu złączenia tylnej ściany bocznej (56) z sufitem (9b) kmomdy powlekania (10) jako wypukła, zakrzywiona omwlnrzchnia.
7. 7. U^ządzem deług zastc, 1, znamienn, t y rn, Zż kaaży z otou Γd-ązągnoa czy (19, 24) gazów utworzony jest między lachlarzmwatm ukształtowanymi ścianami przednimi (20) i tylnymi (21) zbieżnymi ku Zmłmwl od centralnego wlotu i zakończonymi szczeliną (48) usytuowaną w poprzek szerokości komory powlekania (10).
8. 8. Urrądząelg według z^istrz. 7, znamienn, t o m, że ściany porąezlg ((20 i tylne (21) w kształcie odwróconego wachlarza są zwężone ku Zołoli i ku sobie i są zakończone szczeliną (48).
9. 9. Urrądząelg mdług zaBiza, 1, znamienn, tym , żż mygęzy plgndluąm rr^ dzie^czem gazu (19) a pierwszym kanałem wlotowym (14) jest umieszczony ogranicznik przepływu gazu (22) zapewniający dóllomlndln rozprowadzanie pierwszego reagenta gazowego wzdłuż szerokości powlekanej wstęgi szkła (12).

   162 824
10. 10. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że między rozdzielaczem gazu (24), a drugimi kanałami wlotowymi (15) jest umieszczony ogranicznik przepływu gazu (25) zapewniający równomierne rozprowadzanie drugiego reagenta gazowego wzdłuż szerokości powlekanej wstęgi szkła (12).