Opis patentowy optubldikowaino: 31. 03.1982 111427 Int. CL* G03C 5/24 Twórca wynalazku: Uprawniony z patentu: Yickers Limited, Londyn (Wielka Brytania) Wywolywacz do obróbki plyt drukarskich Przedcmioteim wynalazku jest wywolywacz do obróbki plyt drukarskich, zawierajacych naswiet¬ lona obrazem swiatloczula warstwe fotopolimeru.Warstwy takie sa szeroko uzywane do tworze¬ nia obrazów na róznych podlozach i sluza do wy¬ twarzania róznych produktów, takich jak wzory trawione, obwody drukowane ii plyty lub matryce drukarskie. Szczególnie waznym jest zastosowanie wynalazku w wytwarzaniu litograficznych plyt drukarskich, chociaz moze takze znalezc zastoso¬ wanie w wytwarzaniu innych rodzajów plyt dru¬ karskich, takich jak plyt typograficznych pras drukarskich, gdzie obraz jest trawiony w postaci reliefu oraz do wytwarzania obwodów drukowa¬ nych, obwodów scalonych itp.Drukowanie wzorów, typogpnafii i ilustracji na róznych materialach, takich jak papier, karton, tworzywa sztuczne i imetal prowadzi sie czesto przy uzyciu litografii. W druku litograficznym sto¬ suje sie specjalne plyty drukarskie, które gdy sa zwilzone woda, selektywnie przyjmuja farbe ole¬ jowa z jednego lub wiecej walców pokrytych farba i przenosza ja posrednio lub bezposrednio na pa¬ pier lub inny drukowany material. Litograficzne plyty drukarskie znane sa jako plyty planograficz- ne lub plyty powierzchniowe. Drukowany obraz na litograficznej plycie drukarskiej nie wystaje ponad powierzchnia plyty i nie jest zaglebiony po¬ nizej poziomu lub plaszczyzny otaczajacej po¬ wierzchni nie zawierajacej obrazu, stad okreslenie 10 15 20 25 planografiezny. Tym rózni sie on od plyt, form i walców, stosowanych w dwóch innych glównych metodach druku, a mianowicie typografod i druku wkleslego.Drukowany obraz na przyklad do druku typo¬ graficznego jest zasadniczo wyniesiony ponad pod¬ trzymujacy go material, nie zawierajacy obrazu, a w plytach lub walcach do druku wkleslego jest obnizony ponizej otaczajacej powierzchni nie sta¬ nowiacej obrazu. W technice litograficznej plyta musi posiadac odpowiednie wlasciwosci powierzch¬ ni, umozliwiajace przyleganie farby do zadanej powierzchni obrazu i nie przyleganie jej do czy¬ stych powierzchni -nie stanowiacych obrazu. Dla¬ tego wazny jest wlasciwy dobór skladników ma¬ terialów stosowanych do sporzadzania plyt litogra¬ ficznych. Wazne jest takze aby plyta i znajdujace sie na niej materialy byly odpowiednio przygoto¬ wane, w przeciwnym bowiem razie nie mozna uzyskac istotnych odpowiednio oleofilowych i hyd- rofilowych wlasciwosci powierzchni stanowiacych i nie stanowiacych obrazu.W ostatnich latach ulegly zmianie metody foto¬ graficzne, stosowane do uzyskiwania obrazów me¬ toda litografii. Podczas gdy do wytwarzania tak zwanego obrazu powierzchniowego przez naswiet¬ lanie pod . negatywem fotograficznym stosowano zwykle koloidy naturalne (np. albumina) uczulane dwuchromianem, obecnie w procesie obróbki ne¬ gatywowej stosuje sie dwa alternatywne sposoby. 111 427111 427 3 4 W jednym z nich stosuje sie plyte swiatloczula zawierajaca powloke zywicy dwuazowej, tworzaca bardzo cienka warstwe na powierzchni metalowego podloza, wykonanego zwykle z aluminium. W dru¬ gim sposobie stosuje sie w tym samym celu plyte swiatloczula stanowiaca podloze, pokryte grubsza warstwa swiatloczulego polimeru (np. cynamoilo- wanej zywicy). Teswiatloczule polimery zachowuja sie jek materialy negatowywe, utwardzaja sie pod wplywem swiatla i mozna je okreslic jako poli¬ mery zawierajace liczne grupy o wzorze —CH= =«CH—CO—. ^topoliimery takie opisano w bry¬ tyjskich opisach patentowych nr nr 695197, 794572, 813605, 838547, 846908, 913764, 921530, 949919, 966296, 966297, 1112277, 1117197, 1311692, 1313390, 1314689, 1317818, 1338020, 1341004, 1350351, 1353501, 1363214, 1377740, 1377747, 1378535, Takie uklady polimeryczne obrabia sie w spo¬ sób, zwany subtraktywnym. Sposób wedlug wy¬ nalazku dotyczy obróbki takich wlasnie swiatlo¬ czulych plyt, zawierajacych warstwy fotopolime- rów, zachowujacych sie jak material negatywowy.Swiatloczule plyty oparte na tych ukladach foto- polimerycznych stanowia podloze o powierzchni calkowicie pokrytej warstwa swiatloczulego poli¬ meru. Podloze stanowi zwykle metal, ewentualnie szlifowany i odpowiednio anodyzowany w celu poprawienia jego wlasciwosci. Warstwe polimeru naswietla sie obrazem przy uzyciu odpowiedniego negatywu, stosujac swiatlo aktyniczne.Naswietlona czesc warstwy polimerowej utwar¬ dza sie. Plyte naswietlona obrazem poddaje sie obróbce, polegajacej na usuwaniu z powierzchni podlozy nienaswietlonych i zbednych obszarów (tzn. plyta jest „wywolywalna,,) i nadaniu pod- warstwowym obszarom powierzchni nosnka, od¬ slonietych po usunieciu obszarów nienaswietlonych, wlasciwosci odpowedniej chlonnosci wody (tzn. plyta jest „gumowana" lub „odczulana").Typowym przykladem ukladu fotopolimeryczne- go tego rodzaju, którego dotyczy sposób wedlug wynalazku jest policynamonian winylu. Ten i po¬ dobne polimery swiatloczule, które czesto miesza sie z odpowiednimi sensybilizatorami dla nadania im czulosci na swiatlo i barwniki, wywoluje sie wywolywaczem, zawierajacym jeden lub wiecej cieklych organicznych rozpuszczalników. Stosuje sie takie rozpuszczalniki, które rozpuszczaja nie- naswietlone obszary polimeru a nie rozpuszczaja jego obszarów poddanych dzialaniu swiatla. Od¬ czulanie powierzchni podloza odslanianej podczas wywolywania wykonuje sie w tradycyjny sposób, stosujac odpowiednie materialy blonotwórcze lub tworzace warstwy, i doprowadzajac do ich zetknie¬ cia i ewentualnie reakcji z powierzchnia metalu.Materialy takie sa dobrze znane i moga to byc odazulacze koloidalne, np. guma arabska lub kar- boksymetyloeeluloza sodowa badz kwasy odczula¬ jace takie jak kwas fosforowy.Opisany poprzednio sposób wytwarzania plyt litograficznych umozliwia dostarczanie uczulonych plyt uzytkownikom, a tym ostatnim tanie i szyb¬ kie sporzadzanie plyt litograficznych. Takie plyty drukarskie zdolne sa do wydrukowamia 50.000 lub wiecej zadawalajacych kopii Gdy stosuje sie od¬ powiednie podloza metalowe, wydajnosc uzyskana z jednej plyty moze siegac 400.000 kopii.Dobór rozpuszczalnika organicznego, stosowane¬ go w wywolywaczu nie jest latwy ze wzgledu na istniejace liczne ograniczenia. Jesli rozpuszczalnik jest zbyt silny; obraz utworzony przez naswietlone obszary polimeru jest oslabiony, jesli zas rozpu¬ szczalnik nie jest dostatecznie mocny, niepozadane, nienaswietlone obszary polimeru nie zostaja usu¬ niete w dostatecznym stopniu. Ponadto, jesli roz¬ puszczalnik nadmiernie odparowuje w temperatu¬ rze pokojowej, jest on niewygodny i przypuszczal¬ nie drogi w uzyciu. Nalezy takze unikac rozpu¬ szczalników w jakims stopniu toksycznych. Wresz¬ cie, zwykle konieczne jest wlaczenie w sklad wy¬ wolywacza kwasu odczulajacego i tym samym uzywany rozpuszczalnik nie .powinien ulegac latwo hydrolizie, powodowanej przez kwas.Wszystkie rozpuszczalniki organiczne, stosowane zwykle do wywolywania fotopolimerów, wykazuja jedna lub wiecej z powyzszych wad. Np. cyklo- heksanon jest toksyczny i ma nieprzyjemny za¬ pach, zwlaszcza w podwyzszonej temperaturze nie¬ których pomieszczen roboczych; alkohol czterowo- dorofurfurylowy nie jest toksyczny, ale nie jest dostatecznie mocnym rozpuszczalnikiem, butyro- lakton nie jest toksyczny, ale latwo ulega hydro¬ lizie w obecnosci kwasów; octan metoksybutylu jest toksyczny, posiada mdly zapach i ulega hyd¬ rolizie w obecnosci kwasów; octan 2-metoksyetylu jest toksyczny i latwo ulega hydrolizie w obec¬ nosci kwasów; dwumetyloformamid jest bardzo toksyczny.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera laktam o ogólnym wzorze 1, w którym n oznacza 0 lub liczbe calkowita 1—9, R oznacza atom wodoru, rodnik alkilowy, alkenylowy, aralkilowy, arylowy lub acylowy, a R' i R" sa takie same lub rózne i oznaczaja kazdy atom wodoru, rodnik alkilowy lub arylowy, a ponadto kwas, srodek zwilzajacy, obojetny rozcienczalnik i/lub dodatkowa ciecz orga¬ niczna, stanowiaca selektywny rozpuszczalnik nie¬ naswietlonych obszarów fotopolimeru naswietlone¬ go obrazem.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera 50— —99,99a/o wagowych laktamu, 0,01—5,00% wago¬ wych rozcienczalnika i 1,0—50,0% wagowych do¬ datkowej cieczy organicznej.Korzystne sa zwiazki o ogólnym wzorze 1, w którym n ma wartosc 0—3. Przykladami takich Y — laktanów sa pirolidynon-2 (temperatura top¬ nienia 25°C) i jego hydrat (temperatura topnienia 41°C), l-winylopirolidynon-2, 1-etylopirolidynon, l-izopropylopirolidynon-2, l-n-butylopirolidynon-2, l-pentylopirolidynon-2, l-fenylopirolidynon-2 (tem¬ peratura topnienia 68°C), l^CP-toluilo) pirolidynon-2 (temperatura topnienia 88,5°C), 1-acetylopirolidy- non-2. Przykladowymi o — laktamami sa pipery- don-2 (temperatura topnienia 39°C), lHnetylopipe- rydon-2, 3-metylopiperydon-2 (temperatura topnie¬ nia 53°C), 3^etylopiperydon-2 (temperatura topnie¬ nia 68°C), 3^n-propylopiperydon-2 (temperatura topnienia 59°C) i 6-n-propylopiperydon-2 (tempe¬ ratura topnienia 84°C). Przykladowym e — lakta¬ mem jest 6-heksanolaktam. W przypadku, gdy 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 605 111 427 6 laktam jest w temperaturze -pokojowej cialem sta¬ lym, trzeba go przed uzyciem przeprowadzic w stan ciekly przez ogrzanie lub rozpuszczenie.Szczególnie korzystnymi laktamami sa 1-metylo- pirolidynon-2, l-butylopirolidyinon-2, 1-cykloheksy- lopirolidynon-2, pirolidynon-2, 1-winylopirolidy- non-2 i e — kaprolaktam. Stwierdzono, ze lakta¬ my te odznaczaja sie szczególnie dobrym dziala¬ niem rozpuszczajacym wobec nienaswietlonych powierzchni fotopolimerów i tym samym moga byc stosowane w postaci rozcienczonej, natomiast nie powoduja zbednego pecznienia polimeru, utwar¬ dzonego dzialaniem swiatla. Szczególnie korzystny jest l-metylopirolidynon-2, gdyz jest on nietoksy¬ czny, ma niska preznosc par i nieznaczny zapach.Jest on równiez trwaly w warunkach kwasnych.W przypadku gdy wywolywacz dodatkowo za¬ wiera kwas, moze to byc kwas nieorganiczny, np. kwas fosforowy, kwas siarkowy lub kwas solny, badz organiczny kwas karboksylowy a zwlaszcza jednokarboksylowy taki jak kwas octowy, kwas hydroksykarboksylowy taki jak kwas mlekowy i kwas glikolowy, lub nienasycony kwas karbo¬ ksylowy taki jak kwas a-butenokarboksylowy.Ilosc kwasu w wywolywaczu wynosi 1—5°/o obje¬ tosciowych w przeliczeniu na objetosc stosowanego laktamu, a pH wywolywacza korzystnie wynosi 2—6.Dla nadania wywolywaczowi dobrej rozlewnosci i ulatwienia utrzymania w nim w stanie zawie¬ siny polimeru i pigmentu (w przypadku gdy warstwa fotopolimeru zawiera pigment) usuniety z nienaswietlonych obszarów, korzystna jest obec¬ nosc w nim jednego lub wiecej srodków zwilza¬ jacych. Przykladowymi srodkami zwilzajacymi sa Texofer FP 85 i 65A9P (kondensaty eteru polioxy- etylenowego wytwarzane przez firme Glovers Che¬ mical Ltd), Perminal BX (sól sodowa alkilowanego kwasu naftalenosulfonowego wytwarzana przez firme ICI Ltd), Aerosol OT i Tergitol MPX (pro¬ dukt kondensacji nonylofenolu z tlenkiem etylenu wytwarzany przez firme Union Carbide).W przypadku gdy wywolywacz zawiera obojet¬ ny rozcienczalnik, moze to byc np. woda, etano- loamina, eter jednoetylowy glikolu etylenowego (2-etoksyetanol), glikol etylenowy, glikol dwuety- lenowy^ eter jednoetylowy glikolu dwuetylenowego tzn. 2-(2-etoksy etoksy) etanol, dwuacetonoalkohol, izopropanol lub inna ciecz, która stosowana sama nie wykazuje znaczniejszego dzialania rozpuszcza¬ jacego na warstwe naswietlana obrazem.W przypadku gdy utrwalacz zawiera dodatkowa ciecz organiczna bedaca selektywnym rozpuszczal¬ nikiem obszarów nienaswietlonych, moze nia byc dowolny, mieszajacy sie z innymi skladnikami wy¬ wolywacz ciekly rozpuszczalnik organiczny, stoso¬ wany zwykle do wywolywania fotopolimeru. Ta¬ kimi przykladowymi dodatkowymi organicznymi cieczami rozpuszczajacymi sa octan 2-metoksyety¬ lu, y-butyrolakton, alkohol czterowodorofarfury- lowy, n-propanol i octan metoksybutylu.Stwierdzono, ze wywolywacz wedlug mynalazku nadaje sie do wywolania licznych warstw foto¬ polimeru naswietlonych obrazem, a zwlaszcza do wywolywania warstw fotopolimerów zawierajacych liczne grupy o wzorze —CH=CH—CO— jak opi¬ sano poprzednio. Przykladami takich fotopolime¬ rów sa zywice estrowe polimeryzujace pod wply¬ wem swiatla, takie jak zywice pochodne polime- 5 rów zawierajacych wolne grupy wodorotlenowe, np. alkoholu poliwinylowego lub zywic epoksy¬ dowych i nienasyconych kwasów karboksylowych takich jak kwas cynamonowy.W praktycznym zastosowaniu wywolacz wedlug wynalazku do wytwarzania plyt drukarskich, swiatloczula plyte, stanowiaca warstwe fotopoli¬ meru powleczona na powierzchni polloza naswietla sie odpowiednio obrazem przy uzyciu swiatla akty- nicznego. Nastepnie naswietlona warstwe wywolu¬ je sie, stosujac wywolywacz przez okres czasu, po¬ trzebny do usuniecia polimeru z obszarów niena¬ swietlonych. Dzialaniu rozpuszczalnika sprzyja dzialanie mechaniczne. I tak, bardzo uzytecznym sposobem nakladania wywolywacza na plycie jest pedzlowanie. Wywolywacz ma wystarczajaca aktywnosc, aby mozna go bylo stosowac w tem¬ peraturze pokojowej, w miare potrzeby mozna go jednak stosowac w temperaturze podwyzszonej do 50°C. Po poczatkowym nalozeniu wywolywacza, mozna go nakladac powtórnie, po czym dla nada¬ nia obszarom powierzchni podloza odslonietym przez usuniecie nienaswietlonych obszarów polime¬ rów wlasciwosci hydrofilowyeh naklada sie jedno¬ krotnie lub dwukrotnie material odczulajacy. Na¬ stepnie plyte suszy sie otrzymujac na niej obraz do druku, utworzony przez obszary naswietlone i obszary nie ulegajace odcisnieciu podczas dru¬ ku, utworzone przez odsloniete obszary powierz¬ chni podkladu.Wynalazek jest blizej wyjasniony w ponizszych przykladach wykonania, w niczym nie ogranicza¬ jacych jego zakresu. Wszystkie ilosci, o ile nie podano inaczej, sa wyrazone w czesciach wago¬ wych.Przyklad I. Swiatloczula plyte drukarska Super Sensalith produkcji firmy Howson-Algraphy i stanowiaca podloze z anodyzowanego aluminium z naniesiona warstwa fotopolimeru, zawierajaca cynamoilowana zywice epoksydowa styka sie z ne¬ gatywem fotograficznym i naswietla w ciagu pieciu minut swiatlem lampy z lukiem weglowym. Na¬ stepnie plyte poddaje sie recznej obróbce przez na¬ cieranie w ciagu trzydziestu sekund 1-metylopiro- lidynonem-2 i odczula roztworem, zawierajacym 46% objetosciowych wody, 50*/o objetosciowych gumy arabskiej (ciezar wlasciwy 1,17), O,90/o obje¬ tosciowych Perminal BX, 2*/o objetosciowych dwu- wodorofosforanu amonowego i l,lf/o objetoscio¬ wych kwasu fosforowego (ciezar wlasciwy 1,75).Gdy otrzymana plyte drukarska zwilza sie woda i nadaje farba olejowa, widac wyraznie nadany fairba obraz, który ma byc drukowany.Przyklad II. Postepuje sie jak w przykla- lzie I z ta róznica, ze plyte swiatloczula stanowi anodyzowane podloze aluminiowe powleczone war¬ stwa Waycoat photoresist (produkcji firmy Phillip A, Hunt Chemical Corporation).Waycoat photoresist stanowi polimer, uwazany 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60111427 8 20 za .policynamonian winylu. Widac wyrazny nadany farba obraz, który ma byc drukowany.Przyklad III. Postepuje sie jak w przykla¬ dzie I, stosujac z równie dobrym wynikiem jako wywolywacz nastepujacy roztwór. 5 l-metylopirolidynon-2 5 czesci 4-hydroksy-4-metylopentanon-2 (rozcienczalnik) 4,6 czesci ikwas fosforowy (ciezar wlasciwy 1,75) 0,4 czesci Przyklad IV. Plyte Super Sensalith produk- 10 cji firmy Howson-Algraphy poddaje sie obróbce na automatycznym 'Uirzadzenaiu do obróbki plyt ne¬ gatywnych majacym szerokosc 76,2 cm i .przy pred¬ kosci przesuwu 91,44 cm/minute po naswietleniu jej ze zródla pulsujacego swiatla ksenonawegó 15 pod negatywem fotograficznym o strukturze krop¬ kowej. Sekcja odczulajaca urzadzenia do obróbki jest wypelniona IOVo wodnym roztworem poliakry- loaanidu, a sekcja wywolujaca zawiera wywoly¬ wacz o nastepujacym skladzie: l-metylopirolidynon-2 5 czesci alkohol czterowodorofurfurylowy 3 czesci Texofor 65A9P (produkt Glovers ChemicalsLtd) 1 czesc kwas siarkowy OJ. czesci ^ Waxoline Bhie AS (produkt ICI Ltd) 0,1 czesci TexofoT 65A9P :est srodkiem zwilzajacym i sta¬ nowi kondensat eteru polioksyetylenowego o wzo¬ rze R.O.(C2H40)nH, w którym R oznacza grupe alifatyczna o dlugimlancuchu. * Nie stwierdzono trudnosci w uzyskiwaniu wy¬ raznych czarnych cdbitek kopii obrazu uzyskanego na plycie planograficznej przy sporzadzaniu ich na pras:e do druku technika litografii. Tempera¬ tura roztworu w sekcji wywolujacej urzadzenia 3B wynosi 24°C.Przyklad V. Postepujac jak w przykladzie IV osiaga sie podobne wyniki, stosujac roztwór wywolujacy o letmperaturze 40°C. W pomieszcze¬ niach roboczych nie stwierdza sie niepozadanych zapachów. Wywolywanie mozna prowadzic przy wiekszej predkosci przesuwu.Przyklad VI. Wytwarza sie plyte swiatlo¬ czula, powlekajac szlifowana i anodyzowaina blache 45 aluminiowa swiatloczula cynamoilowana zywice epoksydowa w ilosci 0,5 grama na metr kwadra¬ towy. Po starannym wysuszeniu plyte naswietla sie stykowo w ciagu 1,5 minuty polowicznie tono¬ wanym negatywem w swietle halogenowej lampy ^ rteciowej. Plyte tnie sie na cztery czesci, i kazda z nich wywoluje sie nastepujaco: A — Wywolywanie l-butylopirolidynonem-2 w temperaturze 22°C B — Wywolywanie 1-cykloheksylopirolidyno- 55 nem-2 w temperaturze 50°C C — Wywolywanie pirolidynanem-2 w tempe¬ raturze 50°C D — Wywolywanie lawinylopirolidynonem-2 w temperaturze22°C w Kazda z czesci plyty odczula sie roztworem od¬ czulajacym o skladzie podanym w przykladzie I i po zwilzeniu nadaje czarna fa*rba olejowa.W kazdym przypadku otrzymuje sie wyrazny obraz dodruku. 6S 40 Przyklad VII. W przykladzie tym przedsta¬ wiono jak znacznie mozna rozcienczac odpowiedni laktam aby uzyskac niskie koszty procesu bez obnizenia jego uzytecznosci Postepuje sie jak w przykladzie I, stosujac wy¬ wolacze o nastepujacym skladzie: A. 9 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 1 czesc wo¬ dy B.-.8 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 2 czesci eta- noloaminy C. 6,5 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 3,5 czesci etanoloaminy D. 10 czesci l-metylopirolidynonu-2 i 9 czesci etoksyetanolu , E. 6 czesci l-metylopdrolidynanu-2 i 4 czesci 2-(2-etoksy efcaksy) etanolu F. 10 czesci l-metylopi«)liid,iaioniU-2 i 9 czesci 4-hydroksy-4^me[ylopenta»nonu-2.W kazdym przypadku uzyskuje sie zadawalajace plyty dirukairskie.Postepuje sie równiez jaik w przykladzie I, sto¬ sujac mieszanine laktamów z octanem 2-metoksy- etylu i mieszanine laktamów z Y^^yrolaktonem.Równiez i w tym przypadku osiaga sie zadawala¬ jace wyniki.Przyklad VIII. Postepuje sie jak w przy¬ kladzie IV, stosujac jako wywolywacz cieply roz¬ twór czesci e-kaprolaktamu w 9 czesciach 2-etok- syeianolu. Uzyskuje sie podobne wyniki.Przyklad IX. Postepuje sie jak w przykla¬ dzie I z ta róznica, ze stosuje sie plyte litogra¬ fie :,na LNL produkcji fumy Kodak Limited. Jest to plyta do obróbki negatywowej i stanowi pod¬ klad pokryty powloka fo^opolimeru. Uzyskuje sie wyrazny obraz do druku.Przyklad X. Czolowa powierzchnie, nieuzy¬ wanej plyty cynkowej do chemigrafii produkcji fiirmy S. D. Syndicate Ud oczyszcza sie i pokrywa warstwa KPR produkcji firmy Kodak Limited.Uwaza sie, ze KPR stanowi fotopolimer policyna- rnonianiu winylu. Po wysuszeniu otrzymana swiat¬ loczula plyte naswietla sie stykowo w ciagu kilku minut kontrastowym negatywem przy uzyciu swiatla aktynicznego. Nastepnie plyte wywoluje sie przy uzyciu lHmetyloporolidynonu-2 i suszy.Obraz, pozostaly na plycie po wywolaniu stosuje sie jako warstwe ochronna podczas trawienia plyty srodkiem trawiacym zawierajacym kwas azotowy, otrzymujac plyte drukarska do druku typograficz¬ nego zawierajaca obraz do druku w postaci re¬ liefu.Przyklad XI. Gladki kawalek miedziowego laminatu z krtonu laminowanego zywica, stoso¬ wanego do wytwarzania obwodów drukowanych, powleka sie warstwa Waycoat photo-resist (pro¬ dukcji firmy Philip i A. Hunt Chemical Corpora¬ tion). Otrzymana swiatloczula plyte naswietla sie pod ugatywowa fotograficzna reprodukcje obwodu elektronicznego i wywoluje roztworem zawieraja¬ cym 10 czesci l-metylopirolidynomu-2 i 8 czesci izopropamolu (rozcienczalnik). Otrzymuje sie czysto wywolany wyraznie obraz w postaci wytrawione} powloki.111 427 9 PL