NO862525L - Fremgangsmaate for elektrolytisk utvikling av halogener fra halogenidholdige opploesninger. - Google Patents
Fremgangsmaate for elektrolytisk utvikling av halogener fra halogenidholdige opploesninger.Info
- Publication number
- NO862525L NO862525L NO862525A NO862525A NO862525L NO 862525 L NO862525 L NO 862525L NO 862525 A NO862525 A NO 862525A NO 862525 A NO862525 A NO 862525A NO 862525 L NO862525 L NO 862525L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- amorphous
- alloys
- amorphous metal
- solutions
- electrolysis
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 title claims description 7
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 36
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 10
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N Chlorine monoxide Chemical class Cl[O] NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 229910001902 chlorine oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 28
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 26
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 13
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Chemical group 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N adiponitrile Chemical compound N#CCCCCC#N BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011262 electrochemically active material Substances 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000011043 electrofiltration Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005289 physical deposition Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Chemical group 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Chemical group 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010290 vacuum plasma spraying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/24—Halogens or compounds thereof
- C25B1/26—Chlorine; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B15/00—Operating or servicing cells
- C25B15/02—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
Det tekniske område
Den foreliggende oppfinnelse angår anvendelse av
amorfe metallegeringer som kan betraktes som metalliske og som er elektrisk ledende. Amorfe metallegeringsmaterialer er blitt av interesse i de senere år på grunn av deres særpregede kombinasjoner av mekaniske, kjemiske og elektriske egenskaper som er spesielt velegnede for nylig oppdukkede anvendelser. Amorfe metallmaterialer har sammensetningsmessig varierbare egenskaper, høy hardhet og styrke, fleksibilitet, bløte magnetiske og ferroelektroniske egenskaper, meget høy bestandighet mot korrosjon og slitasje, uvanlige legerings-sammensetninger og høy bestandighet mot beskadigelse ved be-stråling. Disse karakteristika er ønskelige for slike anvendelser som lavtemperatursveiselegeringer, magnetiske boblelagre, høyfeltssuperledende innretninger og bløte magnetiske materialer for krafttransformatorkjerner.
På grunn av deres bestandighet mot korrosjon er de
her beskrevne amorfe metallegeringer spesielt nyttige som katoder eller anoder for forskjellige elektrokjemiske prosesser, innbefattende spesielt anvendelse som elektroder ved halogenutviklingsprosesser og som oxygenanoder ved respektive to av slike prosesser. Andre anvendelser som elektroder innbefatter produksjon av fluor, klorat eller perklorat, elektrokjemisk fluorering av organiske forbindelser, elektro-filtrering og hydrodimerisering av acrylnitril til adipo-nitril. Disse legeringer kan også anvendes som hydrogen-gjennomtrengelige membraner.
Teknikkens stand
Den særpregede kombinasjon av egenskaper som oppvises
av amorfe metallegeringsmaterialer, kan tilskrives amorfe materialers uordnede atomstruktur som sikrer at materialet er kjemisk homogent og fritt for de utstrakte defekter som vites å begrense oppførselen til krystallinske materialer.
Amorfe materialer blir i alminnelighet dannet ved hurtig avkjøling av materialet fra smeltet tilstand. En slik avkjøling finner sted med hastigheter av størrelses-ordenen 10 60C/sek. Prosesser som gir slike kjølehastigheter innbefatter påsprutning, vakuumfordampning, plasmapåsprøyt-ing og direkte bråkjøling fra flytende tilstand. Direkte bråkjøling fra flytende tilstand har fått den største kom-mersielle suksess forsåvidt som en rekke legeringer er kjente som ved hjelp av denne metode kan fremstilles i forskjellige former, som tynne filmer, bånd eller tråder.
I US patent nr. 3856513 er nye metallegeringer beskrevet oppnådd ved direkte bråkjøling fra smeltet tilstand, og patentet innbefatter en generell omtale av denne prosess. I patentet er magnetiske amorfe metallegeringer beskrevet som er blitt dannet ved å utsette legeringen for hurtig av-kjøling fra en temperatur over dens smeltetemperatur. En strøm av det smeltede metall ble rettet inn i nippet til roterende dobbeltvalser som ble holdt ved værelsetemperatur. Det bråkjølte metall som ble oppnådd i form av et bånd, var i det vesentlige amorft, hvilket ble påvist ved hjelp av røntgendiffraksjonsmålinger, og det var duktilt og hadde en strekkfasthet av 2415 MPa.
I US patent nr. 4036638 er binære amorfe legeringer av jern eller kobolt og bor beskrevet. De beskrevne amorfe legeringer ble fremstilt ved hjelp av en vakuumsmelte-støpe-prosess hvor smeltet legering ble utstøtt gjennom en åpning og mot en roterende sylinder i et delvis vakuum av ca.
100 millitorr. Slike amorfe legeringer ble oppnådd i form av kontinuerlige bånd, og alle oppviste høy mekanisk hardhet og duktilitet.
I US patent nr. 4264358 er amorfe superledende glass-aktige legeringer beskrevet som omfatter ett eller flere overgangsmetaller fra gruppene IVB, VB, VIB, VIIB eller VIII og ett eller flere metalloider, som B, P, C, N, Si, Ge eller Al. Legeringene er angitt å kunne anvendes som høyfeltssuperledende magnetmaterialer.
I US patent nr. 4498962 er en amorf metallegeringsanode for elektrolyse av vann beskrevet som omfatter et belegg av tre elektrokjemisk aktive materialer X, Y og Z på et elektrodesubstrat, hvor X betegner nikkel, kobolt og blandinger, Y betegner aluminium, sink, magnesium og silicium, og Z betegner rhenium og edelmetallene. Anodene
ble rapportert å ha lave oxygenoverspenninger.
De ovenfor beskrevne amorfe metallegeringer er ikke blitt foreslått anvendt som elektroder i elektrolyseprosesser i motsetning til legeringene som anvendes ved utførelsen av den foreliggende oppfinnelse. Hva gjelder prosesser for klorutvikling fra natriumkloridoppløsninger, er visse palladium- fosforbaserte metallegeringer blitt fremstilt og beskrevet i US patent nr. 4339270 som beskriver en rekke ternære amorfe metallegeringer som består av 10-40 atom% fosfor og/eller silicium og 90-60 atom% av to eller flere av palladium, rhodium og platina. Ytterligere elementer som kan være tilstede innbefatter titan, zirkonium, niob, tantal og/eller iridium. Legeringene kan anvendes som elektroder for elektrolyse, og det er i patentet angitt at disse har høy korrosjonsbestandighet ved elektrolyse av halogenidoppløsninger.
De anodiske karakteristika for disse legeringer er blitt undersøkt av tre av patentinnehaverne, dvs. M. Hara, K. Hashimoto og T. Masumoto, og de er blitt rapportert i forskjellige tidsskrifter. I én slik publikasjon med tittelen "The Anodic Polarization Behavior of Amorphous Pd-Ti-P Alloys in NaCl Solution" Electrochimica Acta, 25,
s. 1215-1120 (1980), beskrives reaksjonen mellom palladium-fliser og fosfor ved forhøyede temperaturer under dannelse av palladiumfosfid som derefter smeltes sammen med titan. Den erholdte legering ble derefter formet til bånd med en tykkelse av 10-30^,um ved hjelp av rotasjonshjulmetoden.
"Anodic Characteristics of Amorphous Ternary Palladium-Phosphorus Alloys Containing Ruthenium, Rhodium, Iridium, or Platinum in a Hot Concentrated Sodium Chloride Solution"', rapportert i Journal of Applied Electrochemistry 13,
s. 295-306 (1983), beskriver de i tittelen angitte legeringer som igjen ble fremstilt ved hjelp av rotasjonshjulmetoden fra smeltet tilstand.
Palladium-siliciumlegeringer ble også fremstilt og bedømt, men de viste seg å være utilfredsstillende som anoder. De rapporterte anodelegeringer viste seg å være mer korrosjonsbestandige og hadde en høyere kloraktivitet og lavere oxygenaktivitet enn DSA. Endelig blir i "Anodic Characteristics of Amorphous Palladium-Iridium-Phosphorus Alloys in a Hot Concentrated Sodium Chloride Solution" rapportert i Journal of Non-Crystalline Solids, 5_4, s. 85-100 (1983), slike legeringer beskrevet som også ble fremstilt ved anvendelse av rotasjonshjulmetoden. Igjen ble moderat korrosjonsbestandighet, høy kloraktivitet og lav oxygenaktivitet rapportert.
Forfatterne fant at den elektrokatalytiske selektivitet for disse legeringer var betydelig høyere enn for de kjente dimensjonsstabile anoder (DSA) bestående av en oxydblanding av ruthenium og titan båret av metallisk titan. En ulempe med DSA er at elektrolysen av natriumklorid ikke er full-stendig selektiv for klor og at endel oxygen produseres. De rapporterte legeringer var mindre aktive for oxygenutvikling enn DSA.
Dimensjonsstabile anoder er beskrevet i de følgende tre tidlige US patenter, dvs. US patenter nr. 3234110, 3236756 og 3771385.
I US patent nr. 3234110 er en elektrode beskrevet som omfatter titan eller en titanlegeringskjerne belagt i det minste delvis med titanoxyd, og dette belegg er på sin side forsynt med et edelmetallbelegg, som av platina, rhodium, iridium eller legeringer derav.
I US patent nr. 3236756 er en elektrode beskrevet som omfatter en titankjerne, et porøst belegg på denne bestående av platina og/eller rhodium og et lag av titanoxyd på kjernen på de steder hvor belegget er porøst.
US patent nr. 3771385 angår elektroder som omfatter en kjerne av et filmdannende metall bestående av titan,
tantal, zirkonium, niob eller wolfram som bærer et utvendig lag av et metalloxyd av minst ett platinametall fra gruppen bestående av platina, iridium, rhodium, palladium, ruthenium og osmium.
Samtlige tre av disse elektroder kan anvendes for elektrolyseprosesser selv om ingen av disse er amorfe metaller til forskjell fra legeringene ifølge oppfinnelsen. Til tross for teknikkens stand hva gjelder amorfe metall- legeringer er det således ikke tidligere blitt fremsatt noen antydning angående de her beskrevne nye amorfe metall-legeringer eller anvendelse av disse for forskjellige elektrokjemiske prosesser.
Oppsummering av oppfinnelsen
Oppfinnelsen angår en fremgangsmåte for utvikling av halogener fra halogenidholdige oppløsninger, og fremgangsmåten er særpreget ved at den omfatter det trinn at elektrolyse av oppløsningene utføres i en elektrolysecelle under anvendelse av en amorf metallegeringsanode med formelen
hvori
M"<*>" er Fe, Co, Ni, Pd eller kombinasjoner derav,
M 2 er Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta eller kombinasjoner derav, M 3 er Rh, Os, Ir, Pt eller kombinasjoner derav,
a varierer fra 0 til 60,
b varierer fra 10 til 70, og
c varierer fra 5 til 70, med den forutsetning at a + b + c = 100.
Det er typisk for disse amorfe metallegeringsanoder at de generelt er basert på Fe og de andre M -metaller og at de bare må inneholde små mengder av elektrokatalytisk aktive elementer, som Pt eller Ir, og en amorf vertsmetall-legering. De består således av forholdsvis rimelige materialer, og dette representerer en betydelig prisbe-sparelse sammenlignet med eksisterende amorfe metallegeringer som er elektrokjemisk aktive.
Foretrukken utførelsesform av oppfinnelsen
De amorfe metallegeringsanoder ifølge oppfinnelsen er anvendbare som elektroder fordi de oppviser god elektrokjemisk aktivitet og korrosjonsbestandighet. De er forskjellige fra tidlige beskrevne amorfe metallegeringsanoder basert på Pt og Ir ved at de bare behøver å inneholde små mengder av disse elektrokatalytisk aktive elementer og at de kan inneholde forholdsvis større mengder av rimelige elementer, som Fe, Co eller Ni.
For fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen anvendes som angitt ovenfor en ny amorf metallegeringsanode med formelen
M M ,M
12 3
abc
hvori M<1>er Fe, Co, Ni, Pd eller kombinasjoner derav,
M 2 er Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta eller kombinasjoner derav,
M 3 er Rh, Os, Ir, Pt eller kombinasjoner derav,
a varierer fra 0 til 60,
b varierer fra 10 til 70, og
c varierer fra 5 til 70, forutsatt at
a+b+c=100.
De ovenfor beskrevne metallegeringsanoder kan være M bi1næerle leer lM le3 r er tevrnaælrgefr, iotg t M ti2lesr teodbel. igaFtloerre isk forteitlrsutekdnee , kmomenbsin^\Za.-sjoner av elementer innbefatter Ti/Pt, Fe/Ti/Pt, Fe/Ta/Pt, Zr,Pt eller Fe/Ti/Pd/Xr. Den ovenstående liste skal ikke tolkes som begrensende, men er bare ment å angi et eksempel.
Disse legeringer kan fremstilles ved hjelp av hvilken som helst av standardmetodene for fremstilling av amorfe metallegeringer. Således kan enhver mekanisk eller kjemisk metode, som elektronstrålefordampning, kjemisk og/eller fysikalsk avsetning, ioneknippe, ioneplettering, væskebrå-kjøling eller R.F- eller D.C.-påsprutning anvendes. Den amorfe legering kan være massiv, pulverformig eller i form av en tynn film og kan være selvbærende eller festet til et substrat. Sporforurensninger, som S, Se, Te eller Ar, for-ventes ikke å utøve noen alvorlig skadelig virkning på frem-stillingen av og oppførselen til materialene. Den eneste begrensning som settes til den omgivelse hvori materialene skal fremstilles eller anvendes, er at temperaturen under begge trinn er lavere enn den amorfe metallegerings krystal-lisasjons temper a tur .
De her beskrevne amorfe metallegeringer er spesielt egnede som belegg på substratmetaller som derefter anvendes som anoder for forskjellige elektrokjemiske prosesser. Minst ett foretrukket substratmetall for anvendelse som anode er titan selv om andre metaller og forskjellige ikke-metaller 5- 10.
også er egnede. Substratet skal primært anvendes for å støt-te de amorfe metallegeringer og kan derfor også være et ikke-ledende eller halvledende materiale. Belegget blir lett av-satt på substratet ved påsprutning, hvilket ble utført i forbindelse med de nedenfor angitte eksempler. Beleggtykk-elsene er ikke av kritisk betydning og kan variere sterkt, for eksempel opp til lOO^um, selv om andre tykkelser ikke nødvendigvis er utelukket så lenge disse er praktiske for den beregnede anvendelse. En anvendbar tykkelse som er eksemplifisert nedenfor, er 3000 Å.
Det vil forstås at den ønskede tykkelse i noen grad er avhengig av fremstillingsprosessen for anoden og i noen grad av den beregnede anvendelse. En frittstående eller ikke-understøttet anode, f.eks. fremstilt ved væskebråkjøling,
kan således ha en tykkelse av ca. 100^,um. En amorf legeringsanode kan også fremstilles ved å presse den amorfe legering i pulverform til en på forhånd bestemt form og kan også være tilstrekkelig tykk til å være frittstående. Dersom en påsprutningsprosess anvendes, kan forholdsvis tynne lag avsettes, og disse vil fortrinnsvis være båret av et egnet substrat, som angitt ovenfor. Det vil således forstås at selve anoden som anvendes i henhold til den foreliggende oppfinnelse er den amorfe metallegering uavhengig av om denne er båret eller ubåret. Dersom et meget tynt lag anvendes, kan en understøttelse være bekvem eller endog nødvendig for å oppnå sammensetningsmessig helhet.
Uaktet anvendelsen av de amorfe metallegeringer enten
i form av et belegg eller i form av et massivt produkt er legeringene i det vesentlige amorfe. Betegnelsen "i det vesentlige" som her anvendt for å angi den amorfe metall-legering skal betegne at metallegeringene er minst 50% amorfe. Metallegeringen er fortrinnsvis minst 80% amorf, helst
100% amorf, som påvist ved røntgendiffraksjonsanalyse.
Som angitt ovenfor har de amorfe metallegeringer ifølge oppfinnelsen en rekke anvendelser, innbefattende for eksempel som anoder i elektrolyseceller for utvikling av halogener og beslektede halogenprodukter.
Hva gjelder utvikling av halogen kan en rekke for skjellige halogenidholdige oppløsninger anvendes, for eksempel natriumklorid, kaliumklorid, lithiumklorid, cesium-klorid, hydrogenklorid, jernklorid, sinkklorid ellr kobber-klorid etc. Produkter foruten klor kan også for eksempel innbefatte klorater, perklorater eller andre kloroxyder.
På lignende måte kan andre halogenider være tilstede istedenfor klorider og således andre produkter bli utviklet. Den foreliggende oppfinnelse er derfor ikke begrenset for anvendelse i noen spesiell halogenidholdig oppløsning.
De ovenfor beskrevne elektrolyseprosesser kan utføres under standard betingelser som er kjente for fagfolk. Disse innbefatter spenninger innen området 1,10-2,5 V (SCE) og strømtettheter innen området 10-2000 raA/cm 2. Elektrolytt-oppløsninger (vandige) har i alminnelighet en pH av 1-6 og molare konsentrasjoner fra 0,5 til 4 M. Temperaturen kan variere mellom 0 og 100°C, og et område av 60-90°C er foretrukket. Cellekonstruksjonen er ikke av avgjørende betydning for utførelsen av den foreliggende fremgangsmåte og utgjør derfor ingen begrensning av den foreliggende oppfinnelse.
I de nedenstående eksempler ble fire amorfe metall-legeringer fremstilt ved hjelp av radiofrekvenspåsprutning i argongass. En 5,1 cm "Research-S-gun" fremstilt av Sputtered Films, Inc., ble anvendt. Som kjent kan også DC-påsprutning anvendes. For hvert av eksemplene ble et titan-substrat bragt i stilling for å motta avsetningen av den påsprutede amorfe legering. Hver legerings sammensetning ble bekreftet ved hjelp av røntgenanalyse og var amorf ved denne. Avstanden mellom målet og substratet var i hvert tilfelle ca. 10 cm.
De fire legeringer som er rapportert i Tabell I, ble hver separat anvendt i en 4 M NaCl-oppløsning for utvikling av klor da en anodisk forspenning ble påført på oppløsningen. Elektrolysebetingelsene innbefattet en pH av 2,0, en temperatur av 80°C og en strømtetthet av 10 m A/cm^. Spenninger ble notert for hver legeringsanode og er gjengitt i Tabell II.
De lave spenninger som er angitt i Tabell II viser
den tilfredsstillende anvendelse av anodene av amorfe metallegeringer ifølge oppfinnelsen som elektroder ved prosesser for fremstilling av klor. Selv om disse amorfe metallegeringsanoder er blitt anvendt i forbindelse med én elektrolyttoppløsning som eksempel, vil det lett forstås av fagfolk at andre elektrolyttoppløsninger vil kunne anvendes istedenfor denne og at en rekke forskjellige produkter vil kunne oppnås.
Det vil forstås at de ovenstående eksempler er blitt fremsatt for å gi fagfolk representative eksempler ved hjelp av hvilke de kan bedømme og praktisere fremgangsmåten og at disse eksempler ikke skal tolkes som noen begrensning av oppfinnelsens omfang. Da sammensetningen av de amorfe metallegeringer anvendt ved utførelsen av fremgangsmåten kan varieres innen omfanget av den her gitte samlede be-skrivelse, skal hverken de spesielle komponenter M1, eller M 3 eller de relative mengder av komponentene i de her eksemplifiserte binære og ternære legeringer tolkes som begrensninger av oppfinnelsen.
Claims (10)
1. Fremgangsmåte for dannelse av halogener fra halogenidholdige oppløsninger,
karakterisert ved at oppløsningene elektro-lyseres i en elektrolysecelle med en amorf metallegerings-12 3
anode med formelen M M , M chvori
.. abc
M er Fe, Co, Ni, Pd eller kombinasjoner derav,
M 2er Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta eller kombinasjoner derav,
3
M er Rh, Os, Ir, Pt eller kombinasjoner derav,
a varierer fra 0 til 60,
b varierer fra 10 til 70, og
c varierer fra 5 til 70, under den forutsetning at a + b + c = 100.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det anvendes en amorf metallegeringsanode som er minst 80% amorf.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det anvendes en amorf metallegeringsanode som er j-minotl 100% amorf.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 1-3, karakterisert ved at halogenidet som dannes, er klorid.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 4, karakterisert ved at det fremstilles produkter fra gruppen bestående av klor, klorater, perklorater og andre kloroxyder ved elektrolyse av de klorholdige opp-løsninger .
6. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det anvendes en halogenidholdig oppløsning som omfatter natriumkloridopp-løsninger.
7. Fremgangsmåte ifølge krav 6, karakterisert ved at klor utvikles på anoden i det vesentlige fritt for oxygen.
8. Fremgangsmåte ifølge krav 1-7, karakterisert ved at det anvendes en amorf metallegeringsanode med en tykkelse av opp til 100^,um.
9. Fremgangsmåte ifølge krav 1-8, karakterisert ved at elektrolysen utføres innen et spenningsområde av 1,10-2,50 V (SCE) og ved strøm-tettheter av 10-2000 M A/cm <2> .
10. Fremgangsmåte ifølge krav 1-9, karakterisert ved at elektrolysen utføres ved en temperatur av 0-100°C.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/748,023 US4609442A (en) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | Electrolysis of halide-containing solutions with amorphous metal alloys |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO862525D0 NO862525D0 (no) | 1986-06-23 |
| NO862525L true NO862525L (no) | 1986-12-29 |
Family
ID=25007653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO862525A NO862525L (no) | 1985-06-24 | 1986-06-23 | Fremgangsmaate for elektrolytisk utvikling av halogener fra halogenidholdige opploesninger. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4609442A (no) |
| EP (1) | EP0208451A1 (no) |
| JP (1) | JPS6250491A (no) |
| KR (1) | KR870000452A (no) |
| CN (1) | CN86105605A (no) |
| AU (1) | AU583392B2 (no) |
| BR (1) | BR8602909A (no) |
| ES (1) | ES8706851A1 (no) |
| IN (1) | IN171871B (no) |
| NO (1) | NO862525L (no) |
| ZA (1) | ZA864668B (no) |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4746584A (en) * | 1985-06-24 | 1988-05-24 | The Standard Oil Company | Novel amorphous metal alloys as electrodes for hydrogen formation and oxidation |
| DE3689059T2 (de) * | 1985-08-02 | 1994-04-21 | Daiki Engineering Co | Oberflächenaktivierte amorphe Legierungen und übersättigte Legierungen für Elektroden, verwendbar zur Elektrolyse von Lösungen und Verfahren zur Aktivierung der Oberflächen. |
| JPS63153290A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-06-25 | Daiki Rubber Kogyo Kk | 表面活性化表面合金電極およびその作製法 |
| US4696731A (en) * | 1986-12-16 | 1987-09-29 | The Standard Oil Company | Amorphous metal-based composite oxygen anodes |
| US4702813A (en) * | 1986-12-16 | 1987-10-27 | The Standard Oil Company | Multi-layered amorphous metal-based oxygen anodes |
| US5662725A (en) * | 1995-05-12 | 1997-09-02 | Cooper; Paul V. | System and device for removing impurities from molten metal |
| JPH09279380A (ja) * | 1996-04-10 | 1997-10-28 | Hiranuma Sangyo Kk | 塑性加工性に優れ，大型部材に適用可能な貴金属基非晶質合金を用いた陽極電解電極材料 |
| US5944496A (en) * | 1996-12-03 | 1999-08-31 | Cooper; Paul V. | Molten metal pump with a flexible coupling and cement-free metal-transfer conduit connection |
| US5951243A (en) * | 1997-07-03 | 1999-09-14 | Cooper; Paul V. | Rotor bearing system for molten metal pumps |
| US6027685A (en) * | 1997-10-15 | 2000-02-22 | Cooper; Paul V. | Flow-directing device for molten metal pump |
| US6093000A (en) | 1998-08-11 | 2000-07-25 | Cooper; Paul V | Molten metal pump with monolithic rotor |
| US6303074B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-10-16 | Paul V. Cooper | Mixed flow rotor for molten metal pumping device |
| CA2287648C (en) * | 1999-10-26 | 2007-06-19 | Donald W. Kirk | Amorphous metal/metallic glass electrodes for electrochemical processes |
| US6689310B1 (en) | 2000-05-12 | 2004-02-10 | Paul V. Cooper | Molten metal degassing device and impellers therefor |
| US6723276B1 (en) | 2000-08-28 | 2004-04-20 | Paul V. Cooper | Scrap melter and impeller |
| US20070253807A1 (en) | 2006-04-28 | 2007-11-01 | Cooper Paul V | Gas-transfer foot |
| US20050013715A1 (en) | 2003-07-14 | 2005-01-20 | Cooper Paul V. | System for releasing gas into molten metal |
| US7731891B2 (en) | 2002-07-12 | 2010-06-08 | Cooper Paul V | Couplings for molten metal devices |
| US7402276B2 (en) | 2003-07-14 | 2008-07-22 | Cooper Paul V | Pump with rotating inlet |
| US7470392B2 (en) | 2003-07-14 | 2008-12-30 | Cooper Paul V | Molten metal pump components |
| US7906068B2 (en) | 2003-07-14 | 2011-03-15 | Cooper Paul V | Support post system for molten metal pump |
| US7589266B2 (en) * | 2006-08-21 | 2009-09-15 | Zuli Holdings, Ltd. | Musical instrument string |
| US20080283762A1 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | General Electric Company | Radiation detector employing amorphous material |
| US9643247B2 (en) | 2007-06-21 | 2017-05-09 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal transfer and degassing system |
| US8366993B2 (en) | 2007-06-21 | 2013-02-05 | Cooper Paul V | System and method for degassing molten metal |
| US9410744B2 (en) | 2010-05-12 | 2016-08-09 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Vessel transfer insert and system |
| US8613884B2 (en) | 2007-06-21 | 2013-12-24 | Paul V. Cooper | Launder transfer insert and system |
| US8337746B2 (en) | 2007-06-21 | 2012-12-25 | Cooper Paul V | Transferring molten metal from one structure to another |
| US9409232B2 (en) | 2007-06-21 | 2016-08-09 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal transfer vessel and method of construction |
| US9156087B2 (en) | 2007-06-21 | 2015-10-13 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal transfer system and rotor |
| US9205490B2 (en) | 2007-06-21 | 2015-12-08 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Transfer well system and method for making same |
| US8444911B2 (en) | 2009-08-07 | 2013-05-21 | Paul V. Cooper | Shaft and post tensioning device |
| US8524146B2 (en) | 2009-08-07 | 2013-09-03 | Paul V. Cooper | Rotary degassers and components therefor |
| US8449814B2 (en) | 2009-08-07 | 2013-05-28 | Paul V. Cooper | Systems and methods for melting scrap metal |
| US10428821B2 (en) | 2009-08-07 | 2019-10-01 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Quick submergence molten metal pump |
| US8535603B2 (en) | 2009-08-07 | 2013-09-17 | Paul V. Cooper | Rotary degasser and rotor therefor |
| US8714914B2 (en) | 2009-09-08 | 2014-05-06 | Paul V. Cooper | Molten metal pump filter |
| US9108244B2 (en) | 2009-09-09 | 2015-08-18 | Paul V. Cooper | Immersion heater for molten metal |
| GB201012982D0 (en) * | 2010-08-03 | 2010-09-15 | Johnson Matthey Plc | Catalyst |
| JP5908372B2 (ja) * | 2012-08-21 | 2016-04-26 | 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社 | 電気分解用電極 |
| US9903383B2 (en) | 2013-03-13 | 2018-02-27 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal rotor with hardened top |
| US9011761B2 (en) | 2013-03-14 | 2015-04-21 | Paul V. Cooper | Ladle with transfer conduit |
| US10052688B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-08-21 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Transfer pump launder system |
| US10138892B2 (en) | 2014-07-02 | 2018-11-27 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Rotor and rotor shaft for molten metal |
| US10947980B2 (en) | 2015-02-02 | 2021-03-16 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal rotor with hardened blade tips |
| US10267314B2 (en) | 2016-01-13 | 2019-04-23 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Tensioned support shaft and other molten metal devices |
| EP3480342A4 (en) * | 2016-06-29 | 2020-02-19 | Institute Of Metal Research Chinese Academy Of Sciences | IRON-BASED AMORPHOUS ELECTRODE MATERIAL FOR WASTEWATER TREATMENT AND USE |
| US11149747B2 (en) | 2017-11-17 | 2021-10-19 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Tensioned support post and other molten metal devices |
| KR102355824B1 (ko) * | 2018-12-27 | 2022-01-26 | 코웨이 주식회사 | 팔라듐, 이리듐 및 탄탈럼으로 구성된 전극용 촉매층 및 상기 전극용 촉매가 코팅된 살균수 생성 모듈 |
| US11858036B2 (en) | 2019-05-17 | 2024-01-02 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | System and method to feed mold with molten metal |
| CN110791771B (zh) * | 2019-11-15 | 2021-07-02 | 北京航空航天大学 | 一体化过渡金属系析氧催化材料及制备方法 |
| US11873845B2 (en) | 2021-05-28 | 2024-01-16 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Molten metal transfer device |
| US12146508B2 (en) | 2022-05-26 | 2024-11-19 | Molten Metal Equipment Innovations, Llc | Axial pump and riser |
| CN116079166A (zh) * | 2023-02-20 | 2023-05-09 | 西北工业大学 | 一种用于非晶合金材料电化学成形的电解液及制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3856513A (en) * | 1972-12-26 | 1974-12-24 | Allied Chem | Novel amorphous metals and amorphous metal articles |
| US4036638A (en) * | 1975-11-13 | 1977-07-19 | Allied Chemical Corporation | Binary amorphous alloys of iron or cobalt and boron |
| GB2023177B (en) * | 1978-06-13 | 1982-09-22 | Engelhard Min & Chem | Electrode for use in an electrolytic process |
| JPS55105453A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-13 | Nec Corp | Optical wavelength multiple repeating system |
| JPS55105454A (en) * | 1979-02-08 | 1980-08-13 | Nec Corp | End office repeater for optical fiber data way |
| JPS55150148A (en) * | 1979-05-09 | 1980-11-21 | Olympus Optical Co Ltd | Cue signal generating circuit |
| JPS55152143A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-27 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | Amorphous alloy electrode material for electrolysis |
| JPS56107439A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-26 | Matsushita Electric Works Ltd | Multipolar reed relay |
| US4544473A (en) * | 1980-05-12 | 1985-10-01 | Energy Conversion Devices, Inc. | Catalytic electrolytic electrode |
| US4498962A (en) * | 1982-07-10 | 1985-02-12 | Agency Of Industrial Science And Technology | Anode for the electrolysis of water |
| US4560454A (en) * | 1984-05-01 | 1985-12-24 | The Standard Oil Company (Ohio) | Electrolysis of halide-containing solutions with platinum based amorphous metal alloy anodes |
| EP0164200A1 (en) * | 1984-05-02 | 1985-12-11 | The Standard Oil Company | Improved electrolytic processes employing platinum based amorphouse metal alloy oxygen anodes |
-
1985
- 1985-06-24 US US06/748,023 patent/US4609442A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-06-23 EP EP86304801A patent/EP0208451A1/en not_active Withdrawn
- 1986-06-23 ES ES556439A patent/ES8706851A1/es not_active Expired
- 1986-06-23 AU AU59198/86A patent/AU583392B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-06-23 CN CN198686105605A patent/CN86105605A/zh active Pending
- 1986-06-23 ZA ZA864668A patent/ZA864668B/xx unknown
- 1986-06-23 NO NO862525A patent/NO862525L/no unknown
- 1986-06-24 BR BR8602909A patent/BR8602909A/pt unknown
- 1986-06-24 JP JP61147997A patent/JPS6250491A/ja active Pending
- 1986-06-24 KR KR1019860005045A patent/KR870000452A/ko not_active Application Discontinuation
- 1986-06-24 IN IN548/DEL/86A patent/IN171871B/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU5919886A (en) | 1987-01-08 |
| CN86105605A (zh) | 1987-02-25 |
| ES556439A0 (es) | 1987-07-01 |
| KR870000452A (ko) | 1987-02-18 |
| JPS6250491A (ja) | 1987-03-05 |
| EP0208451A1 (en) | 1987-01-14 |
| US4609442A (en) | 1986-09-02 |
| ZA864668B (en) | 1987-02-25 |
| AU583392B2 (en) | 1989-04-27 |
| ES8706851A1 (es) | 1987-07-01 |
| IN171871B (no) | 1993-01-30 |
| BR8602909A (pt) | 1987-02-17 |
| NO862525D0 (no) | 1986-06-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO862525L (no) | Fremgangsmaate for elektrolytisk utvikling av halogener fra halogenidholdige opploesninger. | |
| US4781803A (en) | Electrolytic processes employing platinum based amorphous metal alloy oxygen anodes | |
| US4560454A (en) | Electrolysis of halide-containing solutions with platinum based amorphous metal alloy anodes | |
| US4705610A (en) | Anodes containing iridium based amorphous metal alloys and use thereof as halogen electrodes | |
| US7001494B2 (en) | Electrolytic cell and electrodes for use in electrochemical processes | |
| US4696731A (en) | Amorphous metal-based composite oxygen anodes | |
| NO322413B1 (no) | Katode til bruk ved elektrolyse av vandige opplosninger, anvendelse av denne samt fremgangsmate for fremstilling av klor og alkalimetallhydroksid. | |
| US3974058A (en) | Ruthenium coated cathodes | |
| US3986942A (en) | Electrolytic process and apparatus | |
| EP0164200A1 (en) | Improved electrolytic processes employing platinum based amorphouse metal alloy oxygen anodes | |
| US4007107A (en) | Electrolytic anode | |
| Hara et al. | Anodic characteristics of amorphous ternary palladium-phosphorus alloys containing ruthenium, rhodium, iridium, or platinum in a hot concentrated sodium chloride solution | |
| US4746584A (en) | Novel amorphous metal alloys as electrodes for hydrogen formation and oxidation | |
| EP2179077B1 (en) | Electrode materials | |
| NO341164B1 (no) | Kloratanodebelegg med jevn overflatemorfologi | |
| US4702813A (en) | Multi-layered amorphous metal-based oxygen anodes | |
| CA1062202A (en) | Rhenium coated cathodes | |
| US4055477A (en) | Electrolyzing brine using an anode coated with an intermetallic compound | |
| NO862524L (no) | Anode som omfatter et substrat med et metallegeringsbelegg, og anvendelse av anoden. | |
| JPS62243790A (ja) | 塩化アルカリ電解用陽極 | |
| NO171566B (no) | Anode for anvendelse i en elektrolysecelle og fremgangsmaate for fremstilling av anoden | |
| NO148751B (no) | Fremgangsmaate ved fremstilling av belagte elektroder for elektrolyse. | |
| RU2775044C1 (ru) | Электролитический способ получения покрытий и изделий из ниобия, легированного танталом | |
| WO2024008895A2 (en) | Electrode for electrolytic evolution of gas | |
| JPS6134193A (ja) | 白金ベ−スの無定形金属合金酸素アノ−ドを使う改良電解法 |