NO802467L - Fremgangsmaate og middel til fremstilling av litografiske trykkeplater. - Google Patents

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører Litografiske trykkplater.

Som kjent består en litografisk trykkplate av svertemottak-ende billedflater og vannmottagende ikke-billedflater som i hovedsakelig ligger i samme plan. I vår tid dannes praktisk talt alle litografiske plater av bestrålingssensitive plater bestående av et' bestrålingssensitivt belegg på et egnet sub-' strat. Billedvis eksponering av en slik bestrålingssensitiv . plate med bestråling ved bruk av et egnet diapositiv forårsaker endring i sjiktets karakteristika i de områder som'er truffet av bestrålingen. I den vanligste form for plater, d.v.s. en subtraktiv plate, muliggjør forandringen i karakteristika at belegget kan fjernes selektivt fra substratet i ikke-billedområdene ved å anvende en passende fremkaller slik at man får et-bilde på substratet. Ved de;h såkalte positivt-arbeidende plate, fjernes de bestrålte områder av belegget,, men ved de såkalte negativt-virkende plater er det de ikke-bestrålte områder av belegget som fjernes.

Av helse- og miljømessige grunner har tendensen ved negativt-virkende plater vært vekk fra sådanne som bruker belegg hvilke krever et organisk løsningsmiddel som fremkaller for å fjerne de ikke-bestrålte områder og i retning av slike sjikt hvor de ikke-bestrålte områder kan fjernes med en hovedsakelig vandig fremkaller.

Belegg som inneholder diazoforbindelser som hovedsakelig bestrålingssensitiv bestanddel er velkjent for bruk i vandige fremkallbare plater og særlig slike basert på kondensasjons-produktene av en diazodifenylamin og en forbindelse som inneholder en reaktiv karbonylgruppe 'så som formaldehyd .■ Belegg som inneholder slike kondensasjonsprodukter er grun-dig dokumentert i patentlitteraturen.. I denne' sammenheng kan det vises til de britiske patenter nr. 950,761, nr. 1,019,919, nr. 1,023,589, nr. 1,055,079, nr. 1,302,717, nr. 1,388,038 og særlig nr. 1,312,925.

Imidlertid har bestrålingssensitive plater basert på slike belegg ikke vært■fullstendig- tilfredsstillende fordi bilde

ofte nøler med å motta sverte.

Ved bruk av slike bestrålingssensitive plater for fremstilling av litografiske trykkplater eksponeres belegget for bestråling i en slik grad at tilstrekkelige diazogrupper des- i trueres til å gi et insolubilisert produkt-i de bestrålte ' områder. Imidlertid er det funnet at under de betingelser som brukes i praksis er denne fotolyseprosessen ufullstendig og at de bestrålte områder inneholder rester av diazogrupper. Det er også funnet at under videre behandling av platen kan disse resterende diazogrupper inngå reaksjoner som er skade-, lige for platens virkning. Særlig er det funnet at de resterende diazogrupper i de bestrålte områder (hvilke er bil-ledflatene) kan reagere^med materialer så som gummi arabikum, dekstrin etc. som brukes i sluttirinnet av behandlingen for å desensitivisere og beskytte ikke-billedflåtene. Slike desensitiviserende materialer er hydrofile og deres reaksjon med diazogruppene forårsaker at hydrofilt materiale innføres eller bindes i billedflaten og gjør at de vanskelig, mottar sverte. En slik reaksjon kan finne sted bare ved å la en slik plate som er behandlet med slike materialer stå mørkt ved romtemperatur. Reaksjonen vil finne sted meget raskere ved høye temperaturer.eller hvis platen utsettes for lys..

Det er et formål ved foreliggende oppfinnelse å overvinne det foran nevnte problem.

Ifølge et aspekt av foreliggende oppfinnelse tilveiebringes en fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykkplate fra en bestrålingssensitiv plate bestående av. et sub-strat med et bestrålingssensitivt sjikt inneholdende en diazoforbindelse hvor fremgangsmåten består i å billedvis eks-ponere den bestrålingssensitive plate, fremkalle den billedvis eksponerte plate slik at de ikke-bestrålte områder av belegget fjernes selektivt fra substratet, og behandle den fremkalte plate med en avsluttende blanding bestående av en forbindelse som kan fjerne diazogrupper. •

Det er funnet at fjerningen av diazogruppene finner sted fremfor den forannevnte reaksjonen mellom diazogruppene og det desensitiviserende materiale. Således kan to trinn for ' eliminering av de resterende diazogrupper og sensitivisering av platen utføres samtidig ved bruk av en enkel blandingi

Følgelig tilveiebringer et ytterligere aspekt av foreliggende, oppfinnelse en plateavsluttende blanding som er egnet for bruk i overfor angitte fremgangsmåte hvilken blanding består av (i) en forbindelse som kan -eliminere diazogrupper, (ii) et litografisk desensitiviserende materiale og (iii) vann.

I en foretrukken utførelsesform er forbindelsen som er i . stand til å eliminere diazogrupper en forbindelse som'kan inngå-, i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe. For-, trinnsvis inneholder denne forbindelsen en aktiv metylengruppe og kan f., eks. være acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetanilid, 4-klor-2,5-dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N1-bisacetoac-etylendiamin, 1-fenyl-3-metyl-5-pyrazolon eller N-(cyano-acetyl)morfolin. Alternative koplingsforbindelser . er 2,3-dihydroksynaftalen, 8-aminonaftalen-2-sulfonsyre, 8-amino-1-naftol-3,6-disulfonsyre, m-fenylendiamin og floroglucinol.

I en alternativ utførelsesform er forbindelsen som kan eliminere diazogrupper en forbindelse som er i stand til å ødelegge diazogruppene ved en annen reaksjon enn azo-. koplingsreaksjonen, f.eks. ved oksydasjon/reduksjonsreak-sjoner eller substitusjonsreaksjoner. Eksempler på slike forbindelser er askorbinsyre, underfosforsyrling, titansalt-er, kromsalter, tinnsalter, natriumhydrogensulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)klorid, alkalimetalljodider, kaliumxantat eller benzokinon.

Det litografisk desensitiviserende materiale er fortrinnsvis dekstrin eller gummi: arabikum.. Eksempler på andre egnede -, litografiske desensitiviserende materialer er alginater

(så som natrium-, kalium- eller ammoniumalginat), cellulose-derivater, så som metylcellulose, hydroksypropylcellulose,

hydroksyetylcellulose eller karboksymetylcelluTose), alkryl-amidhomopolymer og polymerer som inneholder strukturenheter avledet fra akrylamid og fra 1 til 2 5 vekt-% strukturenheter som inneholder karboksylgrupper.

De avsluttende blandinger er i alminnelighet vandige løs-ninger og inneholder tilstrekkelige mengder av diazoelimi-eringsforbindelsen og det desensitiviserende materiale til hovedsakelig fullstendig å ødelegge de resterendé diazogrupper og tilstrekkelig desensitivisere ikke-billedflåtene hhv. Generelt vil blandingen inneholde fra ca. 0,5 til 50 vekt-% av det desensitiviserende materiale og innholdet av denne forbindelsen som er i stand til å eliminere diazogrupper vil være fra ca. 0,25 vekt-% opp til den mengde som kreves for å gi en mettet løsning. Sistnevnte mengde vil' avhenge av

■ forbindelsen som er i stand til å eliminere diazogrupper og av nærværet til andre komponenter i blandingen.. Slike andre komponenter kan f.eks. være et overflateaktivt middel og/eller et dispersjonsmiddel for å hjelpe oppløsningen av den diazogruppeeliminerende forbindelse og det desensitiviserende materiale og/eller syre eller alkali for å gi en passende pH for den spesielle diazogruppeeliminerende forbindelse og det desensitiviserende materiale som brukes. I så måte vil den avsluttende blanding i alminnelighet være.alkalisk når den diazogruppeeliminerende forbindelse er en azokopler med en fenolisk hydroksy- eller reaktiv metylengruppe eller syre når kopleren inneholder en aminogruppe, f.eks. fenylendiamin. Eksempler på slike andre komponenter er natriumsaltet av dodecylert.oksydibenzendisulfonsyre, natriumpolyakrylat, saltsyre, kaliumhydrogenfosfat, dinat-riumhydrogenfosfat, trinatriumfosfat og natriumhydroksyd.

Blandingene ifølge foreliggende oppfinnelse fremstilles nor-malt ved å røre sammen vannet, den diazoeliminerende forbindelse, det litografisk desensitiviserende materiale' og alle andre komponenter som trengs under romtemperatur og normal-trykk.' Om.ønsket kan imidlertid blandingen utføres ved noe høyere temperatur for å hjelpe på oppløsningen. Således kan f.eks. trinatriumfosfatet eller andre pH-justerende forbind-' eiser settes til vannet ved ca. 60°C etterfulgt av tilset-ningen av natriumsaltet av dodecylert oksydibenzendisulfon-syre eller andre overflateaktive midler og deretter ved til-, setning av acetoaeetanilidet eller andre diazoeliminerende forbindelser. Deretter settes dekstrin eller andre litografisk desensitiviserende materialer til for å gi den ønskede blanding.

Gjennom foreliggende oppfinnelse er det mulig .å øke sverte-; mottakeligheten til trykkbildene for litografiske plater som dannes ved bestråling av sensitive sjikt basert på diazoforbindelser.

De følgende eksempler hvor prosentdelene er vektdeler illu-strerer oppfinnelsen:

EKSEMPEL 1

Åtte ark av granulert, anodisert og silikatisert aluminium ble belagt med de følgende bestrålingssensitive blandinger

i og tørket til åtte bestrålingssensitive plater: Plate 1: En vandig løsning av Fairmount Chemical CorporationDiazoharpiks.nr. 4 (reaksjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og sinkklorid).

Plate 2: En vandig blanding av Andrews Paper and Chemical Co.

Diazoharpiks - P1004 (et bisulfatsalt av et diazo-dif enylamin-f ormaldehydkondensat) .

Plate 3: En 2-metoksyetanol/dimetylformamidoppløsning- av reaksjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og p-toluensulfonsyre.

Plate 4: En 2-metoksyetanolløsning av reaksjonsproduktet

av et diazodifenylaminformaldehydkondensat og 2-hydroksy-4-metoksy-benzofenon-5-sulfonsyre.

Plate 5: En to.luen/isopropanolløsning av reaks jonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og natriumlaurylsulfat.

Plate 6: En toluen/isopropanolløsning av reaksjonsproduktet av et diazodifenylaminformaldehydkondensat og tri-isopropylnaftalensulfonsyre.

Plate 7: Som plate 5 men man inntar MACRYNAL SN510 i en mengde som er to ganger vekten av diazokondensatet.

(MACRYNAL SN510 er en akrylharpiks med hydroksyl-grupper fremstilt av Resinous Chemicals).-

Plate 8: En 2-metoksyetanol/butylacetatløsning av reaksjonsproduktet av et 3-metoksydifenylamin-4-diazonium- . sulfat/4,41-bis-metoksy-metyl-difenyleterkondensat og natriummesitylensulfonat.

Hver bestrålingssensitiv plate ble eksponert under et nega-tivlysbilde i en ramme for trykk nedover, og fremkalt med en ' vandig løsning av isopropanol. Separate områder fra hver plate ble så behandlet henholdsvis med.en 2% vandig løsning j av acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetanilid, 4-klor-2,5-■dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbehzylamin, N,N'-bisacetoacetyletylendiamin, N-(cyanoacetyljmorfolin og 2,3-dihydroksynaftalen som avsluttende løsning idet løsningen i hvert tilfelle er alkal- : isk og inneholder et overflateaktivt middel (Dowfax 2A1). Separate områder fra hver plate ble også behandlet, henholdsvis med en. alkalisk 2% vandig løsning av 8-aminon-af talen-2-sulfonsyre, en 2% vandig løsning av askorbinsyre og en 2%-vahdig løsning av underfosforsyrling som avsluttende løsning. Et område fra hver plate ble latt ubehandlet. Platene ble tørket og hele plateoverflåtene ble behandlet med et desen- . sitiviserende reagens (vandig gummi arabikumløsning). Platene ble oppbevart i dagslys en dag og deretter plassert på en offsetpresse. Mens områdene på platene som var blitt behandlet før desensitivisering med gummi arabikum opptok sverte i løpet av 3 eller 4 dreininger av pressen, tok om-rådet i hver plate som var. bare desensitivisert dårlig mot sverte selv etter 30 dreininger.

Forsøkene ble gjentatt, men i dette tilfellet ble platene lagret en uke i dagslys før de ble satt på pressen. De be-handlede områdene av hver plate tok igjen raskt imot sverte, mens' områdene som bare var desensitivisert ikke ville ta opp sverte selv etter flere hundre dreininger..

EKSEMPEL 2

Fremgangsmåten-.fra eksempel 1 ble gjentatt bortsett fra at den følgende avsluttende blanding- ble brukt i hvert-tilfelle: -

Dowfax 2A1 er natriumsaltet av dodecylert oksydibenzendisul-fonsyre og er et overflateaktivt middel fra Dow Chemical. \ Company.

Ved plassering på pressen tok alle- plater sverte på tilfredsstillende måte i de områder som var behandlet med den avsluttende løsning.

EKSEMPEL 3

Eksempel 2 ble gjentatt bortsett fra at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert.tilfelle: -

Man fikk lignende resultater som i eksempel 2.

EKSEMPEL 4

Eksempel 2 ble igjen gjentatt bortsett fra.at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert tilfelle: -

Liknende resultater som, i eksempel 2 ble oppnådd.

EKSEMPEL 5

To kommersielle negativt arbeidende plater, nemlig en N6-plate fremstilt av Hoechst- AG og en Target-plate fremstilt av Frys Metals (Graphics) ble eksponert billedvis og fremkalt ifølge fabrikantens instruksjoner. Halvparten av hver plate ble behandlet med den.avsluttende blanding fra eksempel 2 og den andre halvparten ble behandlet med - gummi arabikum. Ved plassering på en presse etter lagring som i eksempel 1, tok den halvpart av hver plate som var behandlet med den avsluttende blanding lett sverte mens den andre halvparten'blindet og ikke ville ta sverte.

i EKSEMPEL' 6 i ! Et folie av granulert, anodisert og silikatisert aluminium :

ble overtrukket med en bestrålingssensitiv blanding inneholdende en 2-metoksyetanol/dimetylformamidløsnirig av reak- < sjonsproduktet av et diazodifenylamin-formaldehydkondensat og fluorborsyre og tørket. Den resulterende bestrålings- : sensitive plate ble så behandlet på samme måte som de be-f-'■strålingssensitive plater fra eksempel 1 og lignende resultater ble oppnådd. EKSEMPEL 7 Fremgangsmåten fra eksempel 1 ble gjentatt med den forskjell at den følgende avsluttende blanding ble brukt i hvert tilfelle: -

Lignende,resultater ble oppnådd.

Claims (14)

1. I 1. Fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk trykk-! plate fra en bestrålingssen.sitiv plate omfattende et sub-strat med et bestrålingssensitivt belegg som inneholder en diazoforbindelse, f.eks. et kondensasjonsprodukt av et diazo-

   . dif.enylamin og formaldehyd ved billedvis eksponering av den :

   bestrålingssensitive plate og fremkalling av den billedvis

   eksponerte plate slik at de ikke-bestrålte områder av belegg-

   i et fjernes fra substratet, karakterisert ved at den fremkalte plate behandles med en avsluttende blanding som inneholder en forbindelse hvilken kan eliminere diazogrupper.
2. 2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at man som forbindelse som kan eliminere diazogrupper anvender en azokoplende forbindelse som kan inn-' gå en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe.
3. 3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at man som azokoplingsforbindelse anvender en forbindelse som inneholder en aktiv metylengruppe så som acetoacetanilid, 3-hydroksy-acetoacetanilid, 4-klor-2,5-dimetoksyacetoacetanilid, 4-morfolinoacetoacetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N <1-> bisacetoacetyletylendiamin, N-(cyanoacetyl) morfolin, eller 1-fenyl-3-metyl-5-pyrazolon.
4. 4. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at man som azokoplingsforbindelse anvender 2 ,-3-dihydroksynaftalen; 0-aminonaf talen-2-sulfonsyre; 8-amino-l-naftol-3,6-disulfonsyre; m-fenylendiamin og floroglucinol.
5. 5. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at man som forbindelse som.kan eliminere diazogrupper anvender ascorbinsyre, underfosforsyrling, et titansalt, et kromsalt eller et tinnsalt, natriumhydrogensulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)-klorid, et alkalimetalljodid, kaliumxantat eller benzokinon.
6. i 6. Fremgangsmåte ifølge kravene 1 til 5, k a r. a k - i i terisert ved at man anvender en avsluttende løsning som inneholder et litografisk desensitiviserende materiale slik som dekstrin. eller gummi.arabikum.
7. 7. Litografisk plate, karakterisert ved' at den er fremstilt ved fremgangsmåten ifølge kravene l.til 6.
8. 8.. Plateavsluttende blanding for behandling av en eksponert og fremkalt bestrålingssensitiv plate i litografisk,

   trykkplateproduksjon og inneholdende et litografisk desensitiviserende materiale og vann, karakterisert ved at blandingen i tillegg inneholder en forbindelse som kan eliminere diazogrupper.
9. 9. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er en forbindelse som kan inngå i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe under alkaliske betingelser.slik som acetoacetanilid, 3-hydroksyacetoacetani-

   . lid, 4-klor-2 , 5-^dimetoksyacetoacetanilid, 4-morf olinoaceto-acetanilid, N-acetoacetylbenzylamin, N,N'-bisacetoacetyl-etylendiamin, N-(cyanoacetyl) morfolin, eller 1-fenyl-3-m.et-yl-5-pyrazolon og at blandingen er alkalisk.
10. 10. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er en forbindelse som kan inngå i en azokoplingsreaksjon med en diazogruppe under sure betingelser så som m-fenylendiamin, og at blandingen er sur.
11. 11., Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er 2,3-dihydroksynaftalen, 8-amino-naftalen-2-sulfonsyre, 8-amino-l-naftol-3,6-disulfonsyre eller floroglucinol.
12. 12. Blanding ifølge krav 8, karakterisert ved at forbindelsen er ascorbinsyre, underfosforsyrling, et titansalt, et kromsalt, et tinnsalt, natriumhydrosulfitt, natriumstannitt, hydrokinon, natriumhypokloritt, kopper(I)-klorid, ét alkalimetalljodid, kaliumxantat eller benzokinon.,
13. 13. Blanding ifølge kravene 8-12," karakterisert ved at den ytterligere inneholder et overflateaktivt .middel slik som natriumsaltet- av dodecylert oksydiben-zendisulfonsyre og/eller et dispergeringsmiddel så som natriumpolyakrylat.
14. 14. Anvendelse av en blanding inneholdende en forbindelse som kan eliminere diazogrupper for å forbedre svertemottak-ningsevnen til en litografisk trykkplate som erholdes ved eksponering og fremkalling av et bestrålingssensitivt belegg inneholdende en diazoforbindelse.