NO762217L - - Google Patents

Description

Bestrålingsfolsomme plater.

Foreliggende oppfinnelse vedrorer bestrålingsfolsomme plater.

I henhold til ett trekk ved oppfinnelsen er det tilveiebragt en bestrålingsfolsom plate omfattende et metallisk substrat med en overflate belagt med et bestrålingsfolsomt lag omfattende et kvaternært ammoniumsalt av den type som vil akseptere minst ett elektron ved bestrålingseksponsering til å gi en bestanddel som er i stand til å forårsake metallavsetninger på substratet fra en elektrofri pletteringsopplosning i kontakt med denne bestanddelen og omfattende et salt av metallet og et reduseringsmiddel.

I henhold til et annet trekk ved oppfinnelsen er det tilveiebragt en fremgangsmåte for fremstilling av en litografisk trykkplate, omfattende (i) eksponere en bestrålingsfolsom plate omfattende et metallsubstrat med et overflatebelegg av et bestrålingsfolsomt lag omfattende et kvaternært ammoniumsalt av den type som vil motta minst ett elektron ved bestrålingseksponering til å gi en-bestanddel som er i stand til å forårsake metallavsetning på bestanddelen fra en elektrofri pletteringsopplosning i kontakt med bestanddelen, og som omfatter et salt av metallet og et reduseringsmiddel, og (ii) bringe den billedeksponerte plate i kontakt med den elektrofrie pletteringsopplosning omfattende et metallsalt og et reduseringsmiddel for derved å forårsake metallavsetning på de bestrålte områder av laget for å gi den onskede litografiske plate.

Det kvaternære ammoniumsalt kan være av den type som er beskre-vet i britisk patent nr. 1.310.812 og med den generelle formel

hvori R til R"*"0 er hydrogen, halogen eller;11 12 ;organiske substituenter, R og R er, hvis stede, halogen eller organiske substituenter, ;Z er 0 eller et heltall, X~ er et anion, m =;1 eller 2, og minst ett av nitrogenatomene er kvaternært. ;Det kvaternære ammoniumsalt er fortrinnsvis et dikvaternært cy-klisk ammoniumsalt, som ved addisjon av ett elektron danner Weitz-radikaler. Slike salter er dikationiske og inneholder niTtrogenatomer i molekylet og minst to av nitrogenatomene er kva-ternæriserte og utgjor en del av de sammenknyttede ringstruktu-rer som i det minste delvis er aromatiske,og hvor bindingen mellom ringstrukturene tilveiebringes av en kjede med konjugert umetning mellom nitrogenatomene. Spesielt egnete dikvaternære ammoniumsalter for platene ifolge nærværende oppfinnelse er bi-pyridyliumsaltene eksemplifisert ved: ; Forbindelsene (1) og .(2) er kommersielt tilgjengelige forbindelser som markedsfores henholdsvis under navnene "PARAQUAT" og "DIQUAT". Forbindelse (3) er N,N'-di(paracyanofenyl)-4,4'-bi-pyridylklorid og vil i det etterfølgende bli betegnet med CPP ;Fortrinnsvis er kvaternært ammoniumsalt fargelost eller bare svakt farget for eksponering,og forbindelsen dannet derav ved eksponering er farget, slik at et lett synbart bilde dannes etter eksponering. F.eks. er radikalkationet dannet ved addering av ett elektron til dikationet CPP<++>gront, og det tilsvarende noytrale molekyl dannet ved addisjon av to elektroner til dikationet CPP er rodt. ;Det kvartære ammoniumsalt kan innbefatte et enkelt kation eller det kan utgjore en del av et mere komplekst molekyl, såsom en dimer-kationisk forbindelse. Det kan være et polymert materiale, hvor en eller flere av ringstrukturene inneholdende kvaternære nitrogenatomer er i polymergrunnstrukturen, i endegrupper, i sidekjeder eller i kombinasjoner av slike posisjoner. ;Anionene i de kvaternære ammoniumsalter kan eksempelvis være ha-logenider, perklorater, tetrafluorborater, siliciumfluorider, metylsulfater, bisulfater eller polymere anioner såsom f.eks. ! polyakrylat. Nærværet av brom- og jodatomer er mindre onskelig enn tilstedeværelsen av klor- eller fluoratomer, fordi brom og jod virker som inhibitorer for den eksiterte tilstand av katio-net. Anionene bor ikke være oksydasjons- eller reduksjonsmidler eller på annen måte kjemisk reaktive med hensyn til oppiosnings-midler eller andre bestanddeler som anvendes til å danne laget på substratet. ;Det kvartære ammoniumsalt kan være tilstede i det bestrålingsfolsomme lag i blanding med et filmdannende polymert bindemiddel. Bindemidlet kan være slik at det er inert med hensyn til bestanddelen som dannes ved eksponering av det kvartære ammoniumsalt eller det kan være slik at det har en stabiliserende innvirkning på bestanddelen. På denne måte kan noen av de bestanddeler som normalt er meget aktive bli stabilisert i en tilstrekkelig tidsperiode til å tillate behandling med en elektrofri pletteringsopplosning, selv om det er en tidsforsinkelse mellom deres dannelse og en slik behandling. Egnete yannopploselige eller svellbare filmdannende polymerer som kan anvendes som bindemiddel innbefatter polyvinylalkohol, poly a mmoniummetakry-lat , gelatin, alginater og maleinsyreanhydrid-kopolymerer, eksempelvis en kppolymer av maleinsyreanhydrid med styrenvinyl-eter eller etylen. Opploselige polysakkarider så som polysukro-se kan også anvendes som bindemiddel såvel som polyvinyl-pyrro-lidon enten alene eller i blanding med polyvinyl-alkohol. Polyvinyl-alkoholér med varierende viskositeter og hydrolyserings-grader kan anvendes, men en maksimal hydrolyseringsgrad er foretrukket, da deres opploselighet i metallsaltopplosninger er lav ved romtemperatur. De relative vektmengder av det kvartære ammoniumsalt til bindemidlet i laget kan eksempelvis være fra 1:200 til 10:1. ;Den iboende spektralfolsomhet for de kvartære ammoniumsaltene;kan forlenges vel inn i det synlige område av spektret ved inn-foring av spesielle sensitiviseringsmidler i det bestrålingsfolsomme lag. Egnete spektralsensitiviseringsmidler er Riboflavin i form av fri base, 7-klor-9-(N-metyl-dietyl-amino-etyl)-isoalloksazinklorid, ( i det etterfolgende betegnet som forbindelse RD) og andre meget lignende forbindelser, samt "Arconol ., Yellow", (et fargestoff omfattende 3,6-dimetyl-2-(4-dimetyl-aminofenyl)benztiazoliumklorid). Andre sensitiviseringsmidler som kan anvendes innbefatter 3,3'-dietyltiacynidjodid, proflavin, akridin-oransj, akriflavin, N-metylfenaziniummetylsulfat, 4-cyanokinoliniummetjodid og arythrosin. ;Kjemiske sensibilisatorer som forbedrer det bestrålingsfolsomme lags strålingsfolsomhet kan også være tilstede. Disffe sensibilisatorer er forbindelser som inneholder aktivt hydrogen og innbefatter alkoholer, aminer, fenoler, karboksylsyrer og sukre. Eksempler på slike forbindelser er glukose, oksalsyre, p-klor-benzosyrer, glycerol, benzenheksakarboksylsyre, trietanolamin, tiazinfenol, etylendiamintetraeddiksyre (dinatriumsalt), pikrin-syre, glycin, (Etelanin og nikotinamidadenosin-dinukleotidfosfat. Foretrukne kjemiske sensibilisatorer er substituerte eller usub-stituerte mono- eller di-aryl eller 1-aryl-l-alkyl-glykolsyrer eller etere, salter eller andre derivater derav. Spesielt foretrukne sensibilsatorer er mandelsyre , benzilsyre, p-brom-mandelsyre, a-metoksyfenyleddiksyre, p-klor-mandelsyre, a-naftyl-glykolsyre og ammoniummandelat. ;Andre materialer kan også være tilstede i laget om nodvendig. F.eks. kan overflateaktive midler bli tilsatt belegget for å lette dannelse av glatte, jevne lag på substratet. Andre forbindelser, eksempelvis forbindelser som kompieks-binder-jern (III) ioner,som lokalt påvirker egenskapene for den elektrofri pletteringsopplosning,kan også være tilstede i laget. Eksempler på slike forbindelser som kan betegnes som fremkallingsaksele-ratorer er etylendiamin-tetraeddiksyre (diantriumsalt)}ammo niumklorid, diammoniumhydrogenci.trat og siliciumoksyd som sel-ges under handelsnavnet "Cab-o-Sil", og de to sistnevnte er spesielt foretrukne. ;Det anvendte substrat bor i seg selv være inert med hensyn til det bestrålingsfolsomme lag eller må kunne passiveres slik at det er inert med hensyn til laget. Substratet kan være av aluminium. Det foretrukne substrat i tilfellet hvor platen skal anvendes til fremstilling av litografiske trykkplater utgjores av meget rent aluminium inneholdende ikke mindre enn 99,0 % aluminium og fordelaktig inneholder det fra 99,3 til 99,7 % aluminium. ;Fortrinnsvis bor substratoverflaten som belegges med de bestrålingsfolsomme belegg rugjores for å fremme adhesjon av laget og trykkbildet etter fremkalling. Rugjoringen av overflaten Jetter i betydelig gtad trykkerens arbeide med hensyn til å bibeholde den riktige trykkfarge-yannbalanse under trykking. ;En rugjort eller kornet overflate kan erholdes på mange måter som vil være kjent for fagmannen. Behandlingen kan være meka-nisk ved hjelp av roterende borster eller sandblåsning eller ved kulekorning. Den ru overflate kan også erholdes enkelt ved etsing med forskjellige kjemikalier som vil angripe metallet. Imidlertid er den foretrukne korningsmåte av overflaten elek-trokjemisk, hvilket oppnåes ved å neddykke metallet i arkform (satsprosess) eller i form av rull (kontinuerlig prosess) i et bad av en egnet syre eller blandinger av syrer og fore en vekselstrom mellom metallet og eksempelvis en grafittelektrode. I det tilfelle metallet er aluminium kan det anvendes saltsyre alene eller i blanding med andre kjemikalier, såsom eddiksyre, eller salpetersyre, enten alene eller i blanding med andre kjemikalier såsom eddiksyre. Fortrinnsvis gis substratet en finkornet overflate. ;Etter korning bor substratet rengjores for å fjerne biprodukter fra korningsprosessen fra overfladen, som ellers ville reagere med det bestrålingsfolsomme lag. Rensetrinnet kan utfores på kjent måte ved å fore det kornede metall gjennom ett eller flere bad inneholdende forskjellige anvendelige syrer og/eller alka-lier. ;Det er også fordelaktig for substratoverflaten at denne anodise-res. Det anodiske lag vil, når det har tilstrekkelig tykkelse, forhindre at det bestrålingsfolsomme lag reagerer kjemisk med metallet og vil også i betydelig grad oke antall kopier som kan erholdes fra den ferdige trykkplate for gitte betingelser i en trykkpresse.Anodisering kan utfores under anvendelse av et an-r tall elektrolytter som vil være kjent for en fagmann innen feltet vedrorende fremstilling av litografiske trykkplater fra aluminium. En svoveisyreelektrolytt er foretrukket. ;Den bestrålingsfolsomme plate i henhold til foreliggende oppfinnelse fremstilles ved å påfore substratet, fortrinnsvis av kornet og anodisert aluminium, en belegningsopplosning omfattende det kvaternære ammoniumsalt og eventuelt bindemidlet og andre onskede tilsetningsstoffer. Mengden av det kvaternære ammoniumsalt og bindemiddel (hvis dette er tilstede) i belegningsopplosningen er ikke kritisk, og dikteres utelukkende av den onskede folsomhet og ut fra praktiske hensyn. Tilfredsstillende resul-tater kan erholdes ved å anvende en belegningsopplosning inneholdende 0 - 20 vektsdeler av et i vann opploselig polymert bindemiddel, 0,1 - 10 vektsdeler av det kvaternære ammoniumsalt og 70 - 99,9 vektsdeler vann. Belegningsopplosningen kan påfores substratet på mange måter, men dyppe- eller valsebelegning er de foretrukne fremgangsmåter. ;Ved anvendelse av den bestrålingsfolsomme plate ifolge foreliggende oppfinnelse ved fremstilling av en litografisk trykkplate blir det bestrålingsfolsomme lag billedeksponert med aktinisk bestråling, f.eks. UV-bestråling. Det kvaternære ammoniumsalt aksepterer minst ett elektron i de områder hvorpå strå-lingen faller til å gi et bilde som er et negativ av en master. F.eks. i det tilfelle hvor det kvaternære ammoniumsalt er dikat-ionisk (den normalt stabile tilstand i vandige media) repre-sentert med Q<++>vil den fSigende reaksjon finne sted under på- virkning av bestrålingen: ; Bildetbestår av radikalkationet Q<+*>eller det noytrale molekyl

Q, som begge er i stand til å forårsake metallavsetning fra

en elektrofri pletteringsopplosning.

Den billed-eksponerte plate behover ikke å fremkalles umiddel-bart. Selv om bildet nedbrytes i nærvær av fuktighet og oksygen, så er den eksponerte plate tilstrekkelig stabil for håndtering under normale betingelser, for eksempelvis "step and repeat work". Hvis imidlertid det er onsket å lagre en billedeksponert plate

i et lengere tidsrom bor denne lagres under torre og/eller oksy-genfrie betingelser.

Den billedeksponerte plate fremkalles ved å bringe den i kontakt med en elektrofri pletteringsopplosning, eksempelvis en opplosning inneholdende et solvsalt og et reduseringsmiddel. Slike opplosninger er tidligere kjent og er i stand til å avsette metall uten en ytre påforing av et elektrisk felt.

Et vedheftende metallisk bilde avsettes så på de arealer som

er bestrålt. Straks et spor av metall er avsatt er dette i stand til å katalysere ytterligere avsetning av det samme eller et annet metall fra en passende opplosning. på denne måte kan et metallisk lag bygges opp i billedområdene. Mengden av avsatt metall er avhengig av mange variabler såsom sammensetningen av det bestrålingsfolsomme lag, eksponeringstid, kontakttiden med den elektrofrie pletteringsopplosning og sammensetningen av denne. For solvbilder kan b.illedvekter på opp til 25 g/m eller hoyere oppnåes. Ytterligere behandling kan utfores om nodvendig for å gjore det metallisk bilde mere oleofilt og ikke-billed-arealene mere hydrofile. Platen kan innsvertes og deretter behandles på vanlig måte med en gummiopplosning for montering i trykkpressen. Den erholdte plate kan anvendes i en arktilfor-selspresse til å trykke lange serier av beste kvalitet, og den kan også anvendes for å trykke lange serier på bane-offset-trykkpresse. Trykkplaten er også egnet for direkte lito-anven-delser.

Det er mulig å fremstille bestrålingsfolsomme plater i henhold til foreliggende oppfinnelse som har egenskaper som hdy opplosning og skarphet, og som er egnet for anvendelse ved fremstilling av litografiske trykkplater med evne til å motstå de mest krevende trykkbetingelser på samme måte som bimetall-litografiske trykkplater.

De etterfølgende eksempler illustrerer oppfinnelsen. I alle tilfeller er mengde angivelsen angitt i vektdeler, hvis intet annet er angitt. Mengden av bestrålingsfolsomt belegningsmate-. riale påfort.i henhold til eksemplene var i storrelsesordenen 0,2 g/m . Den solvinneholdende elektrofri pletteringsopplosning anvendt i eksemplene ble fremstilt ved å blande 100 ml av opplosning I, 25 ml av opplosning II og 25 ml av opplosning III, hvor de nevnte opplosninger hadde folgende sammensetning:

Opplosning I

Opplosning II Opplosning III

"Synthrapol N" er et ikke-ionisk fuktemiddel, og er et etylen-oksydkondensat med en alifatisk alkohol.

EKSEMPEL 1

Den folgende belegningsopplosning ble fremstilt og valsebelagt på et aluminiumsark som var kornet i salpetersyre, renset i fosforsyre og til slutt anodisert i svovelsyre.

Den erholdte bestrålingsfolsomme plate ble eksponert gjennom en negativ transparent i en kopieringsforeramme i 1,5 min. under anvendelse av fire "Philips 300w MLU" lamper oppbåret 600 mm over rammen. Et gront kopibilde ble erholdt. Den eksponerte plate ble deretter neddykket i solvpletteringsopplosningen i 3 min. ved romtemperatur. Det gronne bilde ble erstattet av et blakt bilde av metallisk solv, som kunne poleres til glansfullt solv som var i ledende kontakt med aluminiumsubstra-tet.

EKSEMPEL 2

Den folgende belegningsopplosning ble fremstilt og anvendt til å fremstille en bestrålingsfolsom plate på samme måte som i eksempel 1, bortsett fra at eksponeringstiden var 4 min.

Platen ble eksponert og fremkalt som angitt i eksempel 1 bortsett fra at eksponeringstiden var 4 min., og kopibildet var grbnt på

sammertåte som angitt i eksempel 1.

EKSEMPEL 3

Den folgende belegningsopplosning ble fremstilt og anvendt til

å gi en bestrålingsfolsom plate på samme måte som i eksempel 1:

Platen ble eksponert som angitt i eksempel 1 bortsett fra at eksponeringstiden var ett minutt.

Det gronne kopibilde på den eksponerte plate ble erstattet . med et sort bilde av metallisk solv etter at platen var neddykket i solvpletteringsopplosningen i 3 min. ved romtemperatur. Platens overflate ble deretter bestroket med en bomullsdott dyppet i en dispersjon av en organisk merkapto-forbindelse og et fuktemiddel i vann for å foroke bildets initiale trykksverte-mottagelighet. Etter sverting og gummiering på normal måte ble platen montert i en ark-matet, offset, trykkpresse og flere hundrede gode, rene kopier ble trykket.

EKSEMPEL 4

Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 4 min.:

EKSEMPEL 5

Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 10 min.:

/

"Cyanamer P26" er en kopolymer av akrylamid, akrylsyre og na-triumakrylat erholdt fra Cyanamid of Great Britain Limited.

EKSEMPEL 6

Den folgende belegningsopplosning ble fremstilt og valsebelagt på et finkornet og anodisert aluminiumsark:

"Benzyl Viologen" ligner "Raraquat", men hvor metylgruppene er erstattet med benzylgrupper.

Den erholdte plate ble billedeksponert som angitt i eksempel 1

i 2 min.. Et blekt purpur kopibilde ble erholdt. Ved behandling med solvpletteringsopplasningen kunne ikke tilstrekkelig solv avsettes til å gi et polerbart solvbilde.

EKSEMPEL 7

Den folgende belegningsopplosning ble fremstilt og belagt på

et finkornet anodisert aluminiumsubstrat:

"BRU 35" er et ikke-ionisk fuktemiddel og er et etylenoksyd-kondensat av en alifatisk alkohol.

Den erholdte bestrålingsfolsomme plate ble billedeksponert som angitt i eksempel 1 i 3 min.. Et purpur kopibilde ble erholdt.

EKSEMPEL 8

Eksempel 7 ble gjentatt under anvendelse av "Diquat" i stedet for "Paraquat". Et lyseblått avtrykk ble erholdt.

EKSEMPEL 9

Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 2 min.:

Et gront avtrykk ble erholdt.

EKSEMPEL 10.

Eksempel 3 ble gjentatt under anvendelse av folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 2 min.:

Gode, rene avtrykk av hoy kvalitet ble erholdt.

EKSEMPEL 11

Eksempel 3 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 30 sek.:

Gode, rene avtrykk av hoy kvalitet ble erholdt.

EKSEMPEL 12

Eksempel 3 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 15 sek.:

EKSEMPEL 13

Til 152 g (1,0 mol) mandelsyre og 200 ml metanol i rundbunnet flaske forsynt med tilbakelopskjoler ble tilsatt .100 ml metanol inneholdende ca.lOg vanhfritthydrogenklorid. Oppløsningen ble oppvarmet under tilbakelopskjbling på et dampbad i 5 timer og deretter helt i isvann i et beger. En mettet vandig opplosning av natriumbikarbonat ble tilsatt inntil oppløsningen var svakt alkalisk. Den ble deretter ekstrahert med 300 ml porsjo-

ner eter i en skylletrakt. Eterekstraktene ble vasket med 200 ml's

porsjon vann og torket over 50 g vannfri natriumsulfat. Den torkede eteropplosning ble konsentrert ved destillasjon fra en Claisen-flaske, og resten ble destillert under redusert trykk.

Det ble fremstilt blandinger inneholdende således erholdt . me-tylmandelat og fotoreduserbare kvaternære ammoniumsalter såsom "Paraquat", "Diquat" og CPP<++>. Metylmandelatet ble funnet å være en sensibilisator for fotoreduksjon av saltene.

EKSEMPEL 14

Blandinger ble fremstilt inneholdende en kommersiell tilgjenge-lig mandelsyremetyleter og fotoreduserbare salter såsom ."Paraquat", "Diquat" og CPP+,+ . Eteren ble funnet å være en ef-fektiv sensibilisator for fotoreduksjon av saltene.

EKSEMPEL 15

Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 2 min.:

Gode, rene avtrykk av hoy kvalitet ble erholdt.

EKSEMPEL 16

Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 2 min.:

Gode, rene avtrykk av hoy kvalitet ble erholdt.

EKSEMPEL 17

Eksempel 7 ble gjentatt under anvendelse av den folgende belegningsopplosning og med en eksponeringstid på 2 min.:

EKSEMPEL 18

Eksempel 17 ble gjentatt under anvendelse av 2,0 a-naftyl-glykolsyre i stedet for p-klormandelsyre. Et purpur avtrykk ble erholdt.

Claims (14)

1. Bestrålingsfolsom plate omfattende en bærer med en overflate belagt med et bestrålingsfolsom lag omfattende et kvaternært ammoniumsalt av den type som vil akseptere minst ett elektron ved bestrålingseksponering til å gi en bestanddel som er i stand til å forårsake metallavsetning på bestanddelen fra en elektrofri pletteringsopplosning i kontakt med bestanddelen, pg hvor opplosningen omfatter et salt av metallet og et reduseringsmiddel, karakterisert ved at substratet er et metallisk substrat.

2. Plate ifolge krav 1, karakterisert ved at det kvaternære ammoniumsalt har den generelle formel

hvori R til R er hydrogen eller halogenatomer 11 12 eller organiske substituenter, R og R , hvis de er tilstede, er halogenatomer eller organiske substituenter, Z er null eller et heltall, X~ er et anion, m=l eller 2, og minst ett av nitrogenatomene er kvaternære.3. Plate ifolge krav 1, karakterisert ved at det kvaternære ammoniumsalt er

4. Plate ifolge kravene 1-3, karakterisert ved at det kvaternære ammoniumsalt er blandet med et polymert bindemiddel, såsom polyvinylalkohol, poly-ammoniummetakrylat, gelatin, et alginat, en maleinsyreanhydrid- kopolymer, et polysakkarid eller polyvinylpyrrolidinon.

5. Plate ifolge krav 4, karakterisert ved at vektsforholdet mellom salt og bindemiddel er fra 1:200 10:1.

6. Plate ifolge kravene 1-5, karakterisert ved at det bestrålingsfolsomme lag innbefatter en spektralsensibilisator såsom riboflavin, 7-klor-9-(N-metyl-dietylaminoetyl)isoalloksazinklorid, 3,6-dimetyl-2-(4-dimetyl— aminofenyl)benztiazoliumklorid, 3,3'-dietyltiacyanidjodid, proflavin, akridin-oransj, akriflavin, N-metylfenaziniummetylsulfat, 4-cyanokinoliummetjodid eller erythrosin.

7. Plate ifolge kravene 1-6, karakterisert ved at det bestrålingsfolsomme lag innbefatter en kjemisk sensibilisator.

8. Plate ifolge krav 7, karakterisert ved at den kjemiske sensibilisator er en substituert eller usubsti-tuert mono- eller diaryl- eller 1-aryl- eller 1-alkylglykolsyre eller et salt eller en eter av mandelsyre, benzilsyre, ammoniummandelat, a-nietoksyfenyleddiksyre, p-klormandelsyre, p-brom-mandelsyre eller oc-naftyl-glykolsyre.

9. Plate ifolge krav 1-8, karakterisert ved at det bestrålingsfolsomme lag innbefatter (i) et over-flateaktivt middel eller (ii) en fremkallingsakselerator såsom ammoniumklorid eller "roket" siliciumoksyd eller et jern(III)-ionkompleksbindende middel såsom etylendiamin-tetraeddiksyre (dinatriumsalt), eller diammoniumhydrogencitrat.

10. Plate ifolge krav 1-9, karakterisert ved at substratet er kornet og anodisert aluminium.

11. Plate ifolge krav 10, karakterisert ved at substratet er salpetersyre-kornet, svovelsyre-anodisert aluminium.

12. Plate ifolge krav 10, karakterisert ved at substratet er gitt en kornet struktur i en blanding av saltsyre og eddiksyre eller i en blanding av salpetersyre og eddiksyre.

13. Fremgangsmåte ved fremstilling av en litografisk plate i henhold til kravene 1-12, karakterisert ved at man (i) billedeksponerer en bestrålingsfolsom plate i henhold til kravene 1 - 12 og (ii) bringer den eksponerte plate i kontakt med en elektrofri pletteringsopplosning omfattende et metallsalt og et reduseringsmiddel for å forårsake metall- , avsetning på de bestrålte områder av laget til å gi billedområ-der på den litografiske trykkplate.

14. Fremgangsmåte ifolge krav 13, karakterisert ved at den omfatter det ytterligere trinn at bil-ledarealene behandles for å gjore dem mere oleofile og/eller behandle de ikke-billedbærende arealer for å gjore dem mere hydrofile.